KR20120065073A - Cleaning solution composition for offset-printing cliche - Google Patents
Cleaning solution composition for offset-printing cliche Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120065073A KR20120065073A KR1020100126398A KR20100126398A KR20120065073A KR 20120065073 A KR20120065073 A KR 20120065073A KR 1020100126398 A KR1020100126398 A KR 1020100126398A KR 20100126398 A KR20100126398 A KR 20100126398A KR 20120065073 A KR20120065073 A KR 20120065073A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- compound
- hydroxide
- intaglio
- weight
- cleaning liquid
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/20—Organic compounds containing oxygen
- C11D3/22—Carbohydrates or derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D9/00—Chemical paint or ink removers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 오프셋 인쇄 후 요판에 잔류하는 고형화된 잉크를 빠른 속도로 제거할 수 있는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 관한 것이다.
The present invention relates to an intaglio cleaning liquid composition for offset printing that can rapidly remove solidified ink remaining in an intaglio after offset printing.
오프셋 인쇄법(offset-printing)은 인쇄하고자 하는 패턴이 형성된 요판에 잉크를 충진하고, 이 충진된 잉크를 패턴 모양대로 원통 모양의 블랭킷(blanket)으로 전사한 후 피인쇄체 위에서 상기 블랭킷을 회전시켜 전사된 패턴이 인쇄되도록 하는 인쇄 방법이다.Offset-printing fills ink into the intaglio on which the pattern to be printed is formed, transfers the filled ink to a cylindrical blanket in a pattern shape, and then rotates the blanket on the printed object to transfer the ink. It is a printing method for printing a printed pattern.
이러한 오프셋 인쇄법은 유해한 폐액이 발생되지 않고 저비용으로 수십-수백 ㎛ 크기의 미세 패턴을 정밀하게 인쇄할 수 있다는 장점이 있어, 포토리소그래피 공정을 대체할 수 있는 기술로 부각되고 있다.This offset printing method has the advantage that it can accurately print fine patterns of several tens to hundreds of micrometers size at low cost without harmful waste liquid generated, it is emerging as a technology that can replace the photolithography process.
오프셋 인쇄법 중에서도 요판 오프셋 인쇄법은 선 폭이 200㎛ 이하로 얇고 높이도 비교적 높은 미세 패턴의 형성에 용이하여 높은 전기전도성이 요구되는 배선용 미세 패턴의 형성에 적합한 기술로서 검토되고 있다.Among the offset printing methods, the intaglio offset printing method has been studied as a technique suitable for the formation of a fine pattern for wiring in which the line width is as thin as 200 μm or less and is easy to form a fine pattern with a relatively high height and requires high electrical conductivity.
요판 오프셋 인쇄법은 평탄한 기재의 일면에 인쇄하고자 하는 패턴이 음각으로 새겨진 요판의 음각 부분에 잉크를 충진하고, 이 충진된 잉크를 블랭킷에 전사한 후 이를 다시 피인쇄체에 재전사하는 방법으로 수행된다. 이와 같은 요판 오프셋 인쇄법에 의해 형성된 미세 패턴의 형상은 잉크의 유동성, 요판에 가해지는 압력 등에 의해 영향 받기 쉬우며, 요판에 충진된 잉크의 일부가 블랭킷에 전사되지 않고 잔류하게 되면 변형되기도 한다. 이로 인하여 미세 패턴의 재현성을 확보하기 어렵다는 단점이 있다.Intaglio offset printing is performed by filling ink in the intaglio portion of the intaglio in which a pattern to be printed on one surface of a flat substrate is engraved in an engraved manner, transferring the filled ink to a blanket, and then retransferring it onto the printed object. . The shape of the fine pattern formed by the intaglio offset printing method is easily influenced by the fluidity of the ink, the pressure applied to the intaglio, and may be deformed when a part of the ink filled in the intaglio remains without being transferred to the blanket. As a result, it is difficult to secure reproducibility of the fine pattern.
이를 해결하기 위하여, 요판 오프셋 인쇄 후 1회 내지 수회 요판을 정기적으로 세정하여 잔류하는 잉크를 제거하는 방법이 제안되었다. 그러나, 고형화된 잉크는 빠른 시간 내에 제거하기 어렵고 요판 오프셋 인쇄 속도보다 잉크의 제거 속도가 늦어 생산성의 저하를 야기할 수 있다.In order to solve this problem, there has been proposed a method of periodically cleaning the intaglio after the intaglio offset printing to remove the remaining ink. However, the solidified ink is difficult to remove in a short time and the removal speed of the ink is slower than the intaglio offset printing speed, which may cause a decrease in productivity.
또한, 블랙매트릭스(BM)와 알지비(RGB)용 잉크의 제거 속도가 상이할 뿐만 아니라 요판으로부터 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 잉크가 제거되는 속도도 각각 다르다. 따라서, 요판을 세정하기 위하여 통상의 레지스트 박리액 또는 세정액을 적용하는 경우에는 잉크의 각 색상을 동시에 제거하기 어렵고, 세정에 의해 용해된 잉크가 세정이 완료된 후에도 요판 표면에 잔류하여 재흡착되는 문제가 발생할 수 있다.
In addition, the removal speeds of the inks for the black matrix BM and the RGB are different, as well as the removal speeds of the red (R), green (G), and blue (B) inks from the intaglio. Therefore, when a conventional resist stripping liquid or cleaning liquid is applied to clean the intaglio, it is difficult to remove each color of the ink at the same time, and the ink dissolved by the cleaning remains on the surface of the intaglio even after the cleaning is completed. May occur.
본 발명은 미세 패턴이 형성된 요판에 잔류하는 BM뿐만 아니라 RGB용 고형화된 잉크 모두를 빠른 속도로 제거할 수 있는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
An object of the present invention is to provide an intaglio cleaning liquid composition for offset printing that can remove not only BM remaining on the intaglio on which a fine pattern is formed but also solidified ink for RGB at a high speed.
1. 알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 20중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 10중량%; 수용성 극성 용매 0.5 내지 30중량%; 및 잔량의 물을 포함하는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.1. 1-20% by weight of alkali metal hydroxide; 0.1-10% by weight of quaternary ammonium compound; 0.5-30 wt% of a water-soluble polar solvent; And Intaglio cleaning liquid composition for offset printing comprising a residual amount of water.
2. 위 1에 있어서, 알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 10중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 5중량%; 수용성 극성 용매 1 내지 20중량%; 및 잔량의 물을 포함하는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.2. according to the above 1, 1 to 10% by weight of alkali metal hydroxide; 0.1 to 5% by weight of quaternary ammonium compound; 1 to 20% by weight of a water-soluble polar solvent; And Intaglio cleaning liquid composition for offset printing comprising a residual amount of water.
3. 위 1에 있어서, 알칼리금속 하이드록사이드는 리튬하이드록사이드, 나트륨하이드록사이드 및 칼륨하이드록사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.3. In the above 1, wherein the alkali metal hydroxide is at least one selected from the group consisting of lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide offset printing cleaning composition for intaglio.
4. 위 1에 있어서, 4급 암모늄 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물:4. In the above 1, the quaternary ammonium compound is an intaglio cleaning liquid composition for offset printing is a compound represented by the following formula (1):
(식 중, R1 내지 R4는 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1-6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 하이드록시알킬기임).(Wherein R 1 to R 4 are independently a hydrogen atom, a straight or branched chain alkyl group or a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms).
5. 위 4에 있어서, 화학식 1로 표시되는 화합물은 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 모노메틸트리프로필암모늄하이드록사이드, 트리메틸에틸암모늄하이드록사이드, (2-하이드록시에틸)트리프로필암모늄하이드록사이드 및 (1-하이드록시프로필)트리메틸암모늄하이드록사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.5. In the above 4, the compound represented by Formula 1 is tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, monomethyltripropylammonium hydroxide Intaglio cleaning liquid composition for offset printing, which is at least one selected from the group consisting of trimethylethylammonium hydroxide, (2-hydroxyethyl) tripropylammonium hydroxide, and (1-hydroxypropyl) trimethylammonium hydroxide.
6. 위 1에 있어서, 수용성 극성 용매는 에테르계 화합물, 알코올계 화합물, 피롤리돈계 화합물, 아미드계 화합물, 이미다졸리디논계 화합물, 락톤계 화합물, 술폭사이드계 화합물, 포스페이트계 화합물, 카보네이트계 화합물 및 크레졸계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물.
6. In the above 1, the water-soluble polar solvent is an ether compound, alcohol compound, pyrrolidone compound, amide compound, imidazolidinone compound, lactone compound, sulfoxide compound, phosphate compound, carbonate type Intaglio cleaning liquid composition for offset printing, which is at least one selected from the group consisting of a compound and a cresol-based compound.
본 발명에 따른 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물은 미세 패턴이 형성된 요판에 손상을 가하지 않으면서 인쇄 후 요판에 잔류하는 고형화된 잉크를 빠른 속도로 제거할 수 있어 인쇄 패턴의 재현성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라 공정 수율과 생산성을 향상시킬 수 있다.The intaglio cleaning liquid composition for offset printing according to the present invention can quickly remove the solidified ink remaining on the intaglio after printing without damaging the intaglio on which the fine pattern is formed, thereby ensuring the reproducibility of the printing pattern as well as the process Yield and productivity can be improved.
또한, 본 발명의 세정액 조성물은 BM뿐만 아니라 RGB용 잉크 모두를 균일하고 빠른 속도로 동시에 제거할 수 있고, 용해가 아닌 탈착(lift-off)으로 잉크를 제거함으로써 세정에 의해 제거된 잉크가 요판 표면에 재흡착되어 요판을 재오염시키는 것을 방지할 수 있다.
In addition, the cleaning liquid composition of the present invention can remove both BM and RGB ink at the same time at a uniform and high speed, and the ink removed by cleaning by removing the ink by lift-off rather than dissolving the intaglio surface Can be prevented from recontaminating the intaglio.
도 1은 미세 패턴이 형성된 오프셋 인쇄용 요판의 광학 현미경 사진이고,
도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 세정액 조성물을 이용하여 60초 동안 세정된 시편(BM)의 광학 현미경 사진이며,
도 3은 비교예 3에 따른 세정액 조성물을 이용하여 60초 동안 세정된 시편(BM)의 광학 현미경 사진이다.1 is an optical micrograph of an intaglio printing plate having fine patterns formed thereon;
FIG. 2 is an optical micrograph of a specimen (BM) cleaned for 60 seconds using the cleaning liquid composition according to Example 1 of the present invention.
3 is an optical micrograph of a specimen (BM) washed for 60 seconds using the cleaning liquid composition according to Comparative Example 3.
본 발명은 오프셋 인쇄 후 요판에 잔류하는 고형화된 잉크를 빠른 속도로 제거할 수 있는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 관한 것이다.
The present invention relates to an intaglio cleaning liquid composition for offset printing that can rapidly remove solidified ink remaining in an intaglio after offset printing.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.
본 발명의 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물은 알칼리금속 하이드록사이드 1 내지 20중량%; 4급 암모늄 화합물 0.1 내지 10중량%; 수용성 극성 용매 0.5 내지 30중량%; 및 잔량의 물을 포함하는 것을 특징으로 한다.Intaglio cleaning liquid composition for offset printing of the present invention is 1 to 20% by weight of alkali metal hydroxide; 0.1-10% by weight of quaternary ammonium compound; 0.5-30 wt% of a water-soluble polar solvent; And a residual amount of water.
알칼리금속 하이드록사이드는 미세 패턴이 형성된 요판과 상기 요판에 잔류하는 잉크의 계면에 침투하여 잔류 잉크를 요판의 표면으로부터 탈착시키기 위한 성분이다.Alkali metal hydroxide is a component for penetrating into the interface between the intaglio on which the fine pattern is formed and the ink remaining on the intaglio and desorbing the residual ink from the surface of the intaglio.
알칼리금속 하이드록사이드로는 리튬하이드록사이드, 나트륨하이드록사이드, 칼륨하이드록사이드 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the alkali metal hydroxides include lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.
알칼리금속 하이드록사이드는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 총 함량 100중량%에 대하여 1 내지 20중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 10중량%인 것이 좋다. 함량이 1중량% 미만인 경우 요판과 잔류 잉크 사이로 침투하는 능력이 저하되어 잉크 제거력이 떨어질 수 있고, 20중량% 초과인 경우 세정 공정 중 알칼리금속이 석출되어 2차 오염을 유발시킬 수 있으며 세정액 조성물의 장기 보관 시 층분리 현상이 발생할 수 있다.The alkali metal hydroxide is preferably included in an amount of 1 to 20% by weight, more preferably 1 to 10% by weight, based on 100% by weight of the total content of the intaglio cleaning liquid composition for offset printing. If the content is less than 1% by weight, the ability to penetrate between the intaglio and the remaining ink may be reduced, and the ink removal ability may be reduced. If the content is more than 20% by weight, alkali metal may precipitate during the cleaning process, causing secondary contamination. Long term storage may cause delamination.
4급 암모늄 화합물은 상기 알칼리금속 하이드록사이드와 함께 요판과 잔류하는 잉크의 계면에 침투하여 상기 요판과 잉크 간의 점착력 약화를 촉진시켜 서로 다른 수지를 사용하는 BM뿐만 아니라 RGB용 잉크 모두를 요판으로부터 탈착시키는 성분이다.The quaternary ammonium compound penetrates the interface between the intaglio and the remaining ink together with the alkali metal hydroxide to promote the weakening of adhesion between the intaglio and the ink, thereby desorbing both the BM and RGB inks from the intaglio from the intaglio. Ingredient.
4급 암모늄 화합물로는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 들 수 있다:Examples of quaternary ammonium compounds include compounds represented by the following general formula (1):
[화학식 1][Formula 1]
(식 중, R1 내지 R4는 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1-6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 하이드록시알킬기임).(Wherein R 1 to R 4 are independently a hydrogen atom, a straight or branched chain alkyl group or a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms).
화학식 1로 표시되는 화합물은 염의 형태로 수용성 용매에 대한 용해도가 좋아 본 발명의 효과 달성에 더 유리하다. 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라부틸암모늄하이드록사이드, 모노메틸트리프로필암모늄하이드록사이드, 트리메틸에틸암모늄하이드록사이드, (2-하이드록시에틸)트리프로필암모늄하이드록사이드, (1-하이드록시프로필)트리메틸암모늄하이드록사이드 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이 중에서 테트라메틸암모늄하이드록사이드가 보다 바람직하다.The compound represented by the formula (1) has a good solubility in water-soluble solvent in the form of a salt is more advantageous for achieving the effect of the present invention. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, monomethyltripropylammonium hydroxide, trimethylethylammonium hydroxide, (2 -Hydroxyethyl) tripropylammonium hydroxide, (1-hydroxypropyl) trimethylammonium hydroxide, etc. can be mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types. Among these, tetramethylammonium hydroxide is more preferable.
4급 암모늄 화합물은 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 총 함량 100중량%에 대하여 0.1 내지 10중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5중량%인 것이 좋다. 함량이 0.1중량% 미만인 경우 요판과 잔류 잉크 사이로 침투하는 능력이 저하되어 잉크 제거력이 떨어질 수 있고, 10중량% 초과인 경우 더 이상의 향상 효과가 없어 공정 및 비용 면에서 경제적이지 못하다.The quaternary ammonium compound is preferably included in an amount of 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight based on 100% by weight of the total content of the intaglio cleaning liquid composition for offset printing. If the content is less than 0.1% by weight, the ability to penetrate between the intaglio and the residual ink may be lowered, and ink removal power may be lowered. If the content is more than 10% by weight, it is not economical in terms of process and cost because there is no further improvement effect.
수용성 극성 용매는 요판에 잔류하는 잉크의 탈리에 도움을 주는 성분으로서 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 포함되는 다른 성분들 및 물과 혼화성이 있는 화합물이라면 그 종류가 특별히 한정되지 않으며, 양자성 또는 비양자성 극성 용매를 모두 사용할 수 있다.The water-soluble polar solvent is a component that assists the desorption of the ink remaining on the intaglio, and is not particularly limited as long as it is a compound that is miscible with water and other components included in the intaglio cleaning liquid composition for offset printing. Both polar solvents can be used.
양자성 극성 용매로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르계 화합물; 프로판올, 부탄올, 이소프로판올, 테트라하이드로퍼푸릴알코올 등의 알코올계 화합물 등을 들 수 있으며, 비양자성 극성 용매로는 N-메틸피롤리돈, N-에틸피롤리돈 등의 피롤리돈계 화합물; N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 화합물; 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 1,3-디프로필-2-이미다졸리디논 등의 이미다졸리디논계 화합물; γ-부티로락톤 등의 락톤계 화합물; 디메틸술폭사이드, 술폴란 등의 술폭사이드계 화합물; 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트 등의 포스페이트계 화합물; 디메틸카보네이트, 에틸렌카보네이트 등의 카보네이트계 화합물; ο-크레졸, m-크레졸, ρ-크레졸 등의 크레졸계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As a proton polar solvent, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether Ether compounds such as diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether and dipropylene glycol monomethyl ether; Alcohol compounds such as propanol, butanol, isopropanol, tetrahydroperfuryl alcohol, and the like, and the like. Examples of aprotic polar solvents include pyrrolidone compounds such as N-methylpyrrolidone and N-ethylpyrrolidone; Amide compounds such as N-methylformamide and N, N-dimethylformamide; Imidazolidinone-based compounds such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and 1,3-dipropyl-2-imidazolidinone; lactone compounds such as γ-butyrolactone; Sulfoxide compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Phosphate compounds such as triethyl phosphate and tributyl phosphate; Carbonate compounds such as dimethyl carbonate and ethylene carbonate; cresol compounds such as? -cresol, m-cresol, and? -cresol; and the like. These can be used individually or in mixture of 2 or more types.
수용성 극성 용매는 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물 총 함량 100중량%에 대하여 0.5 내지 30중량%로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 20중량%인 것이 좋다. 함량이 0.5중량% 미만인 경우 요판에 잔류하는 잉크뿐만 아니라 공정 중에 발생된 요판 표면의 유기물에 대한 제거 능력이 저하될 수 있고, 30중량% 초과인 경우 잔류 잉크에 함유된 수지 성분을 부분적으로 용해시킬 수 있으며 용해된 수지가 요판 표면에 재흡착하여 세정이 완료된 후에도 완전 제거되지 않고 남아 요판을 재오염시킬 수 있다.The water-soluble polar solvent is preferably contained in 0.5 to 30% by weight, more preferably 1 to 20% by weight relative to 100% by weight of the total content of the intaglio cleaning liquid composition for offset printing. If the content is less than 0.5% by weight, the removal ability of not only the ink remaining in the intaglio but also the organic matter on the surface of the intaglio generated during the process may be reduced, and in the case of more than 30% by weight, the resin component contained in the residual ink may be partially dissolved. The dissolved resin may be resorbed to the intaglio surface to remain contaminated with the intaglio remaining even after the cleaning is complete.
물의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 탈이온 증류수인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 반도체 공정용 탈이온 증류수로서 비저항값이 18㏁/㎝ 이상인 것이 좋다.Although the kind of water is not specifically limited, It is preferable that it is deionized distilled water, More preferably, it is preferable that the specific resistance value is 18 kW / cm or more as deionized distilled water for a semiconductor process.
물은 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물에 포함되는 다른 성분들의 함량을 제외한 잔량으로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 수용성 극성 용매에 의한 잉크의 재흡착을 고려하여 65중량% 이상, 보다 바람직하게는 65 내지 95중량%인 것이 좋다.Water may be included in the remaining amount excluding the content of the other ingredients included in the intaglio cleaning liquid composition for offset printing, preferably 65% by weight or more, more preferably 65 to 95% by weight in consideration of resorption of the ink by the water-soluble polar solvent It is good to be%.
이와 같은 성분을 포함하는 본 발명의 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물은 요판에 잔류하는 잉크, 즉 BM뿐만 아니라 RGB용 잉크 모두를 균일하고 빠른 속도로 동시에 제거할 수 있다. 특히, 잉크를 용해하는 것이 아닌 탈착시켜 제거함으로써 요판에 어떠한 손상도 가하지 않으면서 고형화된 잉크를 빠른 속도로 제거할 수 있으며, 잉크를 용해시키지 않아 용해된 잉크가 요판에 재흡착되어 요판을 오염시키는 것도 방지할 수 있다. 이를 통하여 인쇄 패턴의 재현성을 확보할 수 있고 공정 수율과 생산성을 향상시킬 수 있다.The intaglio cleaning liquid composition for offset printing of the present invention comprising such a component can simultaneously remove both the ink remaining on the intaglio, that is, the BM as well as the ink for RGB, at a uniform and high speed. In particular, it is possible to remove solidified ink at high speed without any damage to the intaglio by removing and removing the ink rather than dissolving the ink, and do not dissolve the ink so that the dissolved ink is reabsorbed on the intaglio to contaminate the intaglio. It can also prevent. Through this, it is possible to secure the reproducibility of the printed pattern and to improve the process yield and productivity.
상기한 본 발명의 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물은 통상의 방법으로 제조될 수 있으며, 본 발명의 세정액 조성물을 이용하는 방법 또한 한정되지 않는다.The intaglio cleaning liquid composition for offset printing of the present invention described above can be prepared by a conventional method, and the method of using the cleaning liquid composition of the present invention is not limited.
본 발명의 세정액 조성물을 이용하여 오프셋 인쇄용 요판을 세정하는 방법으로는, 예컨대 형성된 미세 패턴에 잔류하는 잉크가 포함된 요판을 세정액 조성물에 직접 침지시키는 방법, 요판에 세정액 조성물을 스프레이하는 방법, 요판에 세정액 조성물을 도포한 후 브러싱하는 방법 등을 들 수 있으며, 이들 방법을 조합하여 사용할 수도 있다. 또한, 세정 효과를 높이기 위하여 버블 또는 초음파를 가할 수도 있다.As a method for cleaning the intaglio printing for offset printing using the cleaning liquid composition of the present invention, for example, a method of directly immersing the intaglio containing ink remaining in the formed fine pattern in the cleaning liquid composition, a method of spraying the cleaning liquid composition on the intaglio, The method of brushing after apply | coating a washing | cleaning liquid composition is mentioned, These methods can also be used in combination. In addition, bubbles or ultrasonic waves may be added to enhance the cleaning effect.
또한, 세정액 조성물의 사용 조건(온도, 시간 등)은 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로, 요판에 잔류하는 잉크의 함량 및 농도 등에 따라 적절히 선택될 수 있으며 요판에 잔류하는 잉크에 함유된 수지가 용해되지 않고 쉽게 탈리될 수 있는 정도의 온도 및 시간 범위 내에서 수행되는 것이 바람직하다. 예컨대, 20 내지 45℃에서 15초 내지 3분 동안 수행될 수 있다.In addition, the use conditions (temperature, time, etc.) of a washing | cleaning liquid composition are not specifically limited. Specifically, it may be appropriately selected depending on the content and concentration of the ink remaining on the intaglio and is preferably performed within a temperature and time range such that the resin contained in the ink remaining on the intaglio is easily dissolved without dissolving. . for example, It may be carried out at 20 to 45 ℃ for 15 seconds to 3 minutes.
본 발명의 세정액 조성물로 요판을 처리한 후에는 필요에 따라 물 또는 알코올계 용매로 린스하는 공정이 더 수행될 수 있다.After treating the intaglio with the cleaning liquid composition of the present invention, a process of rinsing with water or an alcohol solvent may be further performed as necessary.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
Hereinafter, preferred examples are provided to aid the understanding of the present invention, but these examples are merely illustrative of the present invention and are not intended to limit the scope of the appended claims. It is apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made to the present invention, and such modifications and changes belong to the appended claims.
실시예Example
실시예 1Example 1
칼륨하이드록사이드 5중량%, 테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 2중량%, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(BDG) 15중량% 및 반도체 공정용 탈이온 증류수 78중량%를 혼합 및 교반하여 오프셋 인쇄용 요판 세정액 조성물을 제조하였다.
For offset printing by mixing and stirring 5% by weight of potassium hydroxide, 2% by weight of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), 15% by weight of diethylene glycol monobutyl ether (BDG) and 78% by weight of deionized distilled water for semiconductor processing An intaglio cleaning liquid composition was prepared.
실시예 2-11, 비교예 1-4Example 2-11, Comparative Example 1-4
상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 하기 표 1에서와 같은 성분 및 함량을 사용하여 세정액 조성물을 제조하였다. 이때, 함량은 중량%를 나타낸다.
To carry out the same as in Example 1, to prepare a cleaning liquid composition using the components and contents as shown in Table 1. At this time, the content represents weight%.
화합물Quaternary Ammonium
compound
NaOH: 나트륨하이드록사이드
TMAH: 테트라메틸암모늄하이드록사이드
TEAH: 테트라에틸암모늄하이드록사이드
BDG: 디에틸렌글리콜모노부틸에테르
THFA: 테트라하이드로퍼푸릴알코올
NMP: N-메틸피롤리돈KOH: Potassium Hydroxide
NaOH: Sodium Hydroxide
TMAH: tetramethylammonium hydroxide
TEAH: tetraethylammonium hydroxide
BDG: diethylene glycol monobutyl ether
THFA: tetrahydrofurfuryl alcohol
NMP: N-methylpyrrolidone
시험예Test Example
1. 세정능력1. Cleaning ability
오프셋 인쇄에 사용되는 RGB용 적색, 녹색 및 청색 잉크와 BM용 흑색잉크의 세정능력을 평가하기 위해, 도 1에 나타낸 바와 같이 장변이 130㎛, 단변 30㎛, 높이 20-30㎛의 컬러필터의 픽셀 모양의 미세 패턴을 유리 기판 상에 형성시켜 요판 오프셋 인쇄용 요판에서와 유사한 시험 평가용 요판을 제작하였다. 제작된 요판에 닥터 블레이드법을 이용하여 적색 잉크(PCF-R-001, 동우화인켐㈜), 녹색 잉크(PCF-G-001, 동우화인켐㈜), 청색 잉크(PCF-B-001, 동우화인켐㈜) 및 흑색 잉크(PCF-BM-001, 동우화인켐㈜)를 각각 미세 패턴 안에 충진되도록 코팅시킨 후 100℃에서 3분 동안 건조하여 시편을 제작하였다.In order to evaluate the cleaning ability of the red, green and blue inks for RGB and the black ink for BM used in offset printing, as shown in FIG. 1, a color filter having a long side of 130 μm, a short side of 30 μm, and a height of 20-30 μm is shown. A pixel-shaped fine pattern was formed on the glass substrate to produce a test evaluation intaglio similar to that in intaglio offset printing. Red inks (PCF-R-001, Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.), green inks (PCF-G-001, Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.), and blue inks (PCF-B-001, DONGWOO) Fine Chem Co., Ltd.) and black ink (PCF-BM-001, Dongwoo Fine Chem Co., Ltd.) were coated to fill in a fine pattern, and then dried at 100 ° C. for 3 minutes to prepare a specimen.
제작된 시편을 상온의 세정액 조성물에 일정 시간(30초, 60초) 동안 침지시킨 후 시편을 꺼내어 탈이온 증류수로 20초 동안 린스하였다. 린스가 완료된 후에는 질소를 이용하여 시편을 완전히 건조시켰다.The prepared specimen was immersed in the cleaning liquid composition at room temperature for a predetermined time (30 seconds, 60 seconds) and then the specimen was taken out and rinsed with deionized distilled water for 20 seconds. After the rinse was completed, the specimen was completely dried using nitrogen.
건조된 시편의 광학 현미경 사진을 촬영하고, 이를 이용하여 하기 기준에 의거하여 세정능력을 평가하였다.Optical micrographs of the dried specimens were taken, and the cleaning ability was evaluated based on the following criteria.
<평가기준><Evaluation Criteria>
◎: 잉크가 완전히 제거됨.◎: Ink is completely removed.
○: 잉크가 우수하게 제거됨.(Circle): Ink removes well.
△: 잉크가 미량 잔존함.(Triangle | delta): A trace amount of ink remains.
×: 잉크가 다량 잔존함.X: A large amount of ink remains.
2. 요판 손상2. Intaglio damage
위 1에서 제작된 시편을 상온의 세정액 조성물에 일정 시간(1시간, 6시간) 동안 침지시킨 후 시편을 꺼내어 탈이온 증류수로 20초 동안 린스하였다. 린스가 완료된 후에는 질소를 이용하여 시편을 완전히 건조시켰다.The specimen prepared in 1 above was immersed in the cleaning liquid composition at room temperature for a predetermined time (1 hour, 6 hours) and then taken out of the specimen and rinsed with deionized distilled water for 20 seconds. After the rinse was completed, the specimen was completely dried using nitrogen.
건조된 시편의 주사전자현미경(SEM, Hitach S-4700) 사진을 촬영하고, 이를 이용하여 하기 기준에 의거하여 요판의 손상 여부를 평가하였다.Scanning electron microscope (SEM, Hitach S-4700) pictures of the dried specimens were taken and evaluated for damage to the intaglio based on the following criteria.
<평가기준><Evaluation Criteria>
◎: 요판 손상 전혀 없음.(Double-circle): No indentation damage at all.
○: 요판 손상 거의 없음.○: Almost no damage to the intaglio.
△: 요판 손상 일부 있음.(Triangle | delta): Some intaglio damage exists.
×: 요판 손상 다량 있음.
X: There is a large amount of intaglio damage.
위 표 2와 같이, 본 발명에 따라 알칼리금속 하이드록사이드, 4급 암모늄 화합물, 수용성 극성 용매 및 물이 일정 함량으로 포함된 실시예 1 내지 11의 세정액 조성물은 비교예 1 내지 4의 세정액 조성물에 비해 장시간 침지 시에도 요판에 손상을 가하지 않으면서도 요판에 잔존하는 잉크에 대하여 전반적으로 우수한 제거력을 나타내었다.As shown in Table 2 above, the cleaning liquid compositions of Examples 1 to 11 containing alkali metal hydroxide, a quaternary ammonium compound, a water-soluble polar solvent, and water according to the present invention are contained in the cleaning liquid compositions of Comparative Examples 1 to 4. Compared to the ink remaining on the intaglio without any damage to the intaglio even after immersion for a long time showed excellent overall removal ability.
실시예들 중에서 특히, 알칼리금속 하이드록사이드 1-10중량%, 4급 암모늄 화합물 0.1-5중량%, 수용성 극성 용매 1-20중량% 및 잔량의 물을 포함하여 구성된 세정액 조성물이 적색, 녹색, 청색 및 흑색 잉크에 대하여 전반적으로 균일하고 빠른 세정능력을 나타내어 보다 바람직하였다.Among the embodiments, in particular, the cleaning liquid composition comprising 1-10% by weight of the alkali metal hydroxide, 0.1-5% by weight of the quaternary ammonium compound, 1-20% by weight of a water-soluble polar solvent and the balance of water is red, green, Overall uniform and fast cleaning ability was shown for blue and black inks, which was more preferable.
도 2에 본 발명의 실시예 1의 세정액 조성물을 이용하여 60초 동안 세정된 시편의 광학 현미경 사진을 나타내었다. 이를 통하여, 본 발명에 따른 세정액 조성물을 이용하는 경우 시편에 존재, 특히 미세 패턴 안에 존재하는 BM용 흑색 잉크가 제거되어 도 1에서와 같은 시편의 형상이 명확하게 확인되었다.2 shows an optical micrograph of a specimen washed for 60 seconds using the cleaning liquid composition of Example 1 of the present invention. Through this, in the case of using the cleaning liquid composition according to the present invention, the black ink for BM present in the specimen, in particular, in the fine pattern was removed to clearly identify the shape of the specimen as shown in FIG. 1.
또한, 도 3에 비교예 3의 세정액 조성물을 이용하여 60초 동안 세정된 시편의 광학 현미경 사진을 나타내었다. 비교예 3의 세정액 조성물을 이용하는 경우 시편의 미세 패턴 내부뿐만 아니라 외부에 존재하는 BM용 흑색 잉크가 제거되지 않은 것을 알 수 있었다.In addition, FIG. 3 shows an optical micrograph of a specimen washed for 60 seconds using the cleaning liquid composition of Comparative Example 3. In the case of using the cleaning liquid composition of Comparative Example 3, it was found that the black ink for BM existing not only inside the fine pattern of the specimen but also outside was not removed.
Claims (6)
1-20% by weight of alkali metal hydroxide; 0.1-10% by weight of quaternary ammonium compound; 0.5-30 wt% of a water-soluble polar solvent; And Intaglio cleaning liquid composition for offset printing comprising a residual amount of water.
The method of claim 1, wherein the alkali metal hydroxide 1 to 10% by weight; 0.1 to 5% by weight of quaternary ammonium compound; 1 to 20% by weight of a water-soluble polar solvent; And Intaglio cleaning liquid composition for offset printing comprising a residual amount of water.
The intaglio cleaning liquid composition for offset printing according to claim 1, wherein the alkali metal hydroxide is at least one selected from the group consisting of lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide.
[화학식 1]
(식 중, R1 내지 R4는 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1-6인 직쇄 또는 분지쇄의 알킬기 또는 하이드록시알킬기임).
The intaglio cleaning liquid composition for offset printing according to claim 1, wherein the quaternary ammonium compound is a compound represented by the following Chemical Formula 1:
[Formula 1]
(Wherein R 1 to R 4 are independently a hydrogen atom, a straight or branched chain alkyl group or a hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms).
The compound represented by the formula (1) is tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, monomethyltripropylammonium hydroxide, trimethyl Intaglio cleaning liquid composition for offset printing, which is at least one selected from the group consisting of ethyl ammonium hydroxide, (2-hydroxyethyl) tripropylammonium hydroxide, and (1-hydroxypropyl) trimethylammonium hydroxide.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100126398A KR101766210B1 (en) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | Cleaning solution composition for offset-printing cliche |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100126398A KR101766210B1 (en) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | Cleaning solution composition for offset-printing cliche |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120065073A true KR20120065073A (en) | 2012-06-20 |
KR101766210B1 KR101766210B1 (en) | 2017-08-08 |
Family
ID=46684970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100126398A KR101766210B1 (en) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | Cleaning solution composition for offset-printing cliche |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101766210B1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160034600A (en) * | 2014-09-22 | 2016-03-30 | 동우 화인켐 주식회사 | Cleansing composition for metal film |
WO2022234296A1 (en) * | 2021-05-07 | 2022-11-10 | Sortology Ltd | Recycling plastics |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20100082012A (en) | 2007-11-16 | 2010-07-15 | 이케이씨 테크놀로지, 인코포레이티드 | Compositions for removal of metal hard mask etching residues from a semiconductor substrate |
US8309502B2 (en) | 2009-03-27 | 2012-11-13 | Eastman Chemical Company | Compositions and methods for removing organic substances |
-
2010
- 2010-12-10 KR KR1020100126398A patent/KR101766210B1/en active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160034600A (en) * | 2014-09-22 | 2016-03-30 | 동우 화인켐 주식회사 | Cleansing composition for metal film |
WO2022234296A1 (en) * | 2021-05-07 | 2022-11-10 | Sortology Ltd | Recycling plastics |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101766210B1 (en) | 2017-08-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5937854B2 (en) | Intaglio plate cleaning liquid composition for offset printing and cleaning method using the same | |
KR101880308B1 (en) | A photoresist stripper composition for manufacturing of thin film transistor and method for manufacturing of thin film transistor using the same | |
KR102032321B1 (en) | A resist stripper composition for preventing unevenness | |
US20010039251A1 (en) | Removal of screening paste residue with quaternary ammonium hydroxide-based aqueous cleaning compositions | |
CN104281017A (en) | Dry film resist remover composition and method for removing dry film resist using the same | |
KR101936938B1 (en) | Cleaning solution composition for offset-printing cliche and cleaning method using the same | |
KR101880303B1 (en) | Photoresist stripper composition | |
CN101676806A (en) | Release agent composition of thermosetting resin for thin film transistor liquid crystal display | |
CN105425554A (en) | Corrosion inhibitor stripping agent composition, method for manufacturing flat-panel display, and flat-panel display | |
KR101766210B1 (en) | Cleaning solution composition for offset-printing cliche | |
CN104216242A (en) | Stripping composition used for color photoresist and organic insulating film | |
KR101766209B1 (en) | Cleaning solution composition for offset-printing cliche and cleaning method using the same | |
KR101319217B1 (en) | Photoresist stripper composition, and a exfoliation method of photoresist using the same | |
KR20080054714A (en) | Alkali compositions for stripping of resist | |
KR101924212B1 (en) | Cleaning solution composition for offset-printing cliche and cleaning method using the same | |
KR20130139482A (en) | A resist stripper composition | |
JP4165209B2 (en) | Resist stripper | |
KR20130128952A (en) | A resist stripper composition for flat panel display | |
CN106997158A (en) | Photoresist removal remover composition | |
KR102009533B1 (en) | Resist stripper composition and method of manufacturing flat panel display devices using the same | |
JP4165208B2 (en) | Resist stripping method | |
CN108535971B (en) | Stripping liquid composition for removing photoresist | |
KR20110049066A (en) | A color resist stripper composition | |
KR20160033023A (en) | A resist stripper composition, a method of manufacturing flat panel displays, and flat panel displays manufactured by the same | |
CN108267939A (en) | Anticorrosive additive stripping liquid controlling composition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
GRNT | Written decision to grant |