KR20120021807A - 표면 처리된 탄소나노튜브를 사용한 고농도 탄소나노튜브 분산액의 제조 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 분산성이 향상된 표면 처리된 탄소나노튜브를 사용하여 물 뿐만 아니라 유기 용제에 탄소나노튜브를 분산시켜 분산 안정성이 증대된 고농도 탄소나노튜브 분산액에 관한 것으로 표면 처리된 탄소나노튜브, 분산제 및 분산매를 포함하되 표면 처리된 탄소나노튜브는 표면 처리된 탄소나노튜브 전체중량에 대하여 산소, 질소 및 황 또는 이들의 혼합물을 포함하는 작용기가 포함되는데 특징이 있다. 본 발명에 따른 탄소나노튜브 분산액은 종래에 비하여 분산성이 향상될 뿐 아니라 구체적으로 CNT의 균일한 분포도 확보, 우수한 장기 분산 안정성, 응용분야의 확대 및 CNT 표면 처리 중 발생되는 CNT의 손상을 최소화하여 전기 전도성? 열 전도성? 기계적 특성 등이 매우 향상되는 장점이 있다.

Description

표면 처리된 탄소나노튜브를 사용한 고농도 탄소나노튜브 분산액의 제조 {Preparation of Concentrated CNT Dispersion Solution Using the Treated CNT}
본 발명은 표면 처리된 탄소나노튜브를 사용한 고농도 탄소나노튜브 분산액에 관한 것이다.
탄소나노튜브(Carbon nanotube; 이하 CNT)는 1991년 그 구조가 처음 발견되었으며, 이에 관한 합성과 물성, 그리고 응용에 관한 연구가 활발히 수행되고 있다. 또한, CNT는 전기 방전시 Fe, Ni, Co 등과 같은 전이금속을 첨가하면 생성되는 것이 확인되었으며, 본격적인 연구는 1996년 레이저 증발법에 의해 상당량의 시료를 만들어 내면서부터 시작되었다. 이러한 CNT는 그래파이트(Graphite)면이 나노크기의 직경으로 둥글게 말린 속이 빈 튜브 형태이며, 이때 그래파이트 면이 말리는 각도 및 구조에 따라서 전기적 특성이 도체 또는 반도체 등이 된다. 또한, CNT는 그래파이트 벽의 수에 따라서 단일벽 탄소 나노튜브(Single-walled carbon nanotube; SWCNT), 이중벽 탄소 나노튜브(Double-walled carbon nanotube; DWCNT), 얇은벽 탄소 나노튜브(Thin multi-walled carbon nanotube), 다중벽 탄소 나노튜브(Multi-walled carbon nanotube;MWCNT), 다발형 탄소 나노튜브(Roped carbon nanotube)로 구분한다.
특히, CNT는 기계적 강도 및 탄성도가 뛰어나며, 화학적으로 안정하고, 환경 친화성을 가지고 있으며, 전기적으로 도체 및 반도체성을 가지고 있을 뿐만 아니라 직경이 1nm에서 수십 nm이고 길이가 수 ㎛에서 수십 ㎛로 종횡비가 약 1,000에 이르는 기존의 어떠한 물질보다도 크다. 또한, 비표면적이 매우 커, 향후 차세대 정보전자소재, 고효율 에너지 소재, 고기능성 복합소재, 친환경 소재 등의 분야에서 21세기를 이끌어갈 첨단 신소재로 각광을 받고 있다.
그러나, CNT가 가지고 있는 다양한 장점에도 불구하고 응집현상이 크고, 표면의 소수성(hydrophobic)이 크기 때문에 다른 매질과의 혼합 특성이 매우 열악할 뿐 아니라 물을 비롯한 유기 용제류에 대한 용해성도 없다. 따라서 CNT의 장점을 살리면서 다양한 용도로 활용폭을 넓히기 위해서는 다양한 매질과의 상용성을 증대시켜 분산 효율을 양호하게 할 수 있는 방법이 필요하다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 분산성이 향상된 표면 처리된 탄소나노튜브를 사용하여 물 뿐만 아니라 유기 용제에 탄소나노튜브를 분산시켜 분산 안정성이 증대된 고농도 탄소나노튜브 분산액을 제공하는데 목적이 있다.
본 발명은 표면 처리된 탄소나노튜브, 분산제 및 분산매를 포함하되 표면 처리된 탄소나노튜브는 표면 처리된 탄소나노튜브 전체중량에 대하여 산소, 질소 및 황 또는 이들의 혼합물을 포함하는 작용기가 0.1~10중량%를 포함되는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액에 관한 것이다.
본 발명의 탄소나노튜브는 단일벽(Single-walled), 이중벽(Double walled), 얇은 다중벽(Thin multi-walled), 다중벽(Multi-walled), 다발형(Roped) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 어떤 형태이든 가능하다.
상기 분산매는 물, 알코올, 케톤, 아민, 에스테르, 아미드, 알킬 할로겐, 에테르, 퓨란, 황으로 이루어진 군에서 하나이상 선택된 용제이며, 보다 바람직하게는 물을 사용하는 것이 좋다.
본 발명은 상기 표면 처리된 탄소나노튜브는 표면 처리에 의해 형성된 작용기에 산소가 1~5중량%가 포함되도록 표면 처리된 것을 특징으로 한다
상기 표면처리된 탄소나노튜브는 산소, 공기, 오존, 과산화수소수, 질산, 니트로화합물 및 이들의 혼합물에서 선택되는 산화제를 사용하여 50 내지 400atm의 아임계 또는 초임계 조건에서 탄소나노튜브를 표면 처리하여 생성될 수 있다.
상기 표면처리된 탄소나노튜브는 산소, 공기, 오존, 과산화수소수, 질산, 니트로화합물 및 이들의 혼합물에서 선택되는 산화제를 사용하여 50 내지 400atm의 압력과 100 내지 600℃온도의 아임계 또는 초임계 조건에서 탄소나노튜브 표면을 산화처리하고, 이어서 카르복실산, 카르복실염, 아민, 아민염, 4가-아민, 인산기, 인산염, 황산기, 황산염, 알코올, 티올, 에스테르, 아미드, 에폭사이드, 알데하이드, 케톤 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기를 지닌 기능성화합물을 50 내지 400atm의 압력과 100내지 600℃ 온도로 표면처리반응조에 주입하여 표면 처리되어 얻어질 수 있다.
CNT의 표면처리 중 발생되는 CNT의 손상을 최소화하기 위해 반응온도, 체류시간, 산화제양을 최적화해야 한다. 표면처리된 CNT의 산화정도는 CNT 표면에 생성된 산소함량으로 확인한다. 반응온도는 150~250℃, 체류시간은 5~15분, 산화제 양은 CNT의 탄소 당량 대비 0.1~3.0당량으로 주입하는 것이 바람직하다.
또 다른 예로는 상기 표면처리된 탄소나노튜브는 탄소나노튜브에 카르복실산, 질산, 인산 또는 황산등을 첨가하여 탄소나노튜브 표면의 산화작용으로 얻어질 수 있는데, 산의 도입으로 간단하게 표면처리의 산화가 제공될 수 있다. 보다 구체적으로는 상기 표면 처리된 탄소나노튜브는 탄소나노튜브돠 카르복실산, 질산, 인산, 황산, 불산, 염산, 과산화수소수 또는 이들의 혼합물을 혼합하여 탄소나노튜브 표면을 산화시켜 얻어진 것을 특징으로 한다.
본 발명에서는 상기 분산제는 보다 상세하게 폴리아세탈, 아크릴계화합물, 아크릴산, 메틸메타아클릴레이트, 알킬(C1~C10)아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 폴리카보네이트, 스티렌, 알파메틸스티렌, 비닐 아크릴레이트, 폴리에스테르, 비닐계 화합물, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리올레핀, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체, 폴리아릴레이트, 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리아릴설폰, 폴리에테르이미드, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌 설피드, 불소계 화합물, 폴리이미드, 폴리에테르케톤, 폴리벤족사졸, 폴리옥사디아졸, 폴리벤조티아졸, 폴리벤지미다졸, 폴리피리딘, 폴리트리아졸, 폴리피롤리딘, 폴리디벤조퓨란, 폴리설폰, 폴리우레아, 폴리우레탄, 폴리포스파젠, 액정중합체 및 이들의 공중합체 군에서 하나 이상 선택된 것을 특징으로 한다.
분산제의 보다 바람직한 예로써 스티렌계 모노머와 아크릴계 모노머를 중합한 스티렌/아크릴계 수용성 수지를 들 수 있다. 스티렌/아크릴계 수용성수지의 제조방법에 대하여 본 출원인이 기 출원한 우리나라 공개특허 제10-2001-0088773, 10-2001-0084640, 10-2000-040715 등에 기재된 방법에 의해 제조가 가능하다.
본 발명에 따른 분산제는 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 또는 디프로필렌글리콜메틸에테르와 물을 혼합시킨 혼합용매 하에서, 스티렌, 스티렌 및 알파메틸 스티렌의 혼합물,에서 선택되는 스티렌계 모노머와 아크릴계 모노머를 100 ~ 200℃의 반응온도에서 연속벌크중합시킨 중합체를 사용할 수 있다. 이때 상기 스티렌계 모노머 및 아크릴계 모노머를 60?80:20?40의 중량비로 혼합하여 이루어지며, 상기 스티렌계 모노머는 스티렌 단독 또는 혼합 중량비 50?90:10?50의 스티렌 및 알파메틸스티렌 모노머를 포함하고, 상기 아크릴계 모노머는 아크릴산 단독 또는 혼합 중량비 80?90:10?20의 아크릴산 및 알킬아크릴레이트 모노머를 포함할 수 있다.
그리고 상기 분산제는 디프로필렌글리콜메틸에테르와 물을 혼합한 혼합용매 존재 하에서, 중합체 전체중량에 대하여 스티렌은 25 ~ 45 중량%, 알파메틸스티렌은 25 ~ 45 중량% 아크릴산 25 ~ 35 중량%를 중합반응시켜 제조되며, 상기 제조된 중합체는 중량평균 분자량이 1,000~100,000인 중합체를 사용할 수 있다.
본 발명에서 상기 표면처리된 탄소나노튜브는 탄소나노튜브 분산액 전체 중량에 대하여 0.0001~10중량% 포함된 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 0.01~6중량%를 포함하는 것이 좋다.
상기 분산제는 표면처리된 탄소나노튜브 100중량부에 대하여 10~500중량부를 포함된 것이 바람직하다.
분산제의 함량을 줄임으로 표면저항을 줄일 수 있으나, 상기 함량에 크게 미달하는 경우 분산되지 않는 탄소나노튜브 덩어리가 과량 존재할 수 있어 분산제의 함량을 감소시키는 것 만으로는 분산액의 제조가 곤란하다. 또한 본 발명에서 상기 탄소나노튜브 분산액은 분산안정제를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 분산안정제는 음이온성?양이온성?비이온성 계면활성제, 습윤제, 젖음성 향상제 등의 첨가제로 이루어진 군으로부터 하나이상 선택된 것을 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 비이온성 불소계 첨가제를 사용하는 것이 좋다. 상기 분산안정제는 표면처리된 탄소나노튜브 100중량부에 대하여 5~15중량부를 포함하는 것이 분산성 및 분산 안정성이 우수하다.
본 발명은 탄소나노튜브 100중량부에 대해 아민계 화합물 또는 무기 알칼리 수용액을 1~150 중량부를 더 포함할 수 있다.
상기 아민계 화합물로는 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 프로판올아민, 디프로판올아민 및 트리프로판올아민로부터 선택되어 사용하고, 상기 무기 알칼리용액은 KOH, NaOH, LiOH, K2CO3, Na2CO3 및 LiCO3 로부터 선택되어 사용하는 것이 좋다.
상기 본 발명에 따른 탄소나노튜브 분산액은 대전방지 소재, 정전분산소재, 전도성 소재, 전자파 차폐재료, 전자파 흡수재, RF(Radio Frequency) 흡수재, 태양전지용 재료, 연료감응용전지(DSSC)용 전극재료, 전기소자 재료, 전자소자 재료, 반도체소자 재료, 광전소자재료, 노트북 부품 재료, 컴퓨터 부품 재료, 핸드폰 부품 재료, PDA 부품 재료, PSP 부품 재료, 게임기용 부품 재료, 하우징 재료, 투명전극 재료, 불투명 전극 재료, 전계방출디스플레이 (FED;field emission display)재료, BLU(back light unit)재료, 액정표시장치(LCD;liquid crystal display) 재료, 플라즈마표시패널(PDP;plasma display panel ) 재료, 발광다이오드(LED;luminescent diode) 재료, 터치패널 재료, 전광판 재료, 광고판 재료, 디스플레이 소재, 발열체, 방열체, 도금 재료, 촉매, 조촉매, 산화제, 환원제, 자동차 부품 재료, 선박 부품 재료, 항공기기 부품 재료, 보호테이프 재료, 접착제 재료, 트레이 재료, 클린룸 재료, 운송 기기 부품 재료, 난연 소재, 항균 소재, 금속 복합 재료, 비철 금속 복합재료, 의료 기기용 재료, 건축 재료, 바닥재 재료, 벽지 재료, 광원 부품 재료, 램프 재료, 광학기기 부품 재료, 섬유제조용 재료, 의류제조용 재료, 전기제품용 재료, 전자제품제조용 재료, 이차전지용 양극활물질, 이차전지용 음극활물질, 이차전지재료, 연료전지재료, 태양전지재료, 메모리 소자 및 캐패시터(P-ED<C) 재료로 이루어진 군에서 하나이상 선택된 재료에 사용되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 탄소나노튜브 분산액은 종래에 비하여 분산성이 향상될 뿐 아니라 구체적으로 CNT의 균일한 입도 분포도 확보가 가능하며 장기 분산 안정성이 우수하다. 상기 분산액에 사용되는 CNT는 분산성을 향상시키기 위하여 표면 처리하는 것이 가능한데 CNT의 표면 처리 중 발생되는 CNT의 손상을 최소화하여 전기 전도성? 열 전도성? 기계적 특성 등이 매우 향상된 CNT 분산액을 이용한 다양한 응용이 가능하다.
도1은 실시예1, 실시예2 및 비교예2의 입도분석결과를 나타낸 것이다.
도2는 비교예1과 실시예1의 코팅막 표면을 나타낸 그림을 나타낸 것이다.
하기의 실시예를 통하여 본 발명에 대해 보다 상세하게 설명하고자 한다
[제조예 1]
탄소나노튜브(CNT) 15g을 증류수 985g과 순환펌프로 혼합하여 전처리조에서 CNT용액을 준비하였다. 상기 CNT용액을 고압주입펌프를 통해 11g/min유속으로 예열조에 투입되기 전, 이와 함께 245atm 내지 252atm으로 압축된 기상상태의 산소는 열교환기의 전단에서 0.4g/min의 유속으로 CNT용액과 혼합되어 상기 혼합액은 열교환기를 통해 150 내지 200℃로 예열된 예열조에 투입하였다. 상기 예열된 혼합액은 210℃ 및 230atm 내지 250atm의 아임계수 상태의 표면처리반응기에 주입되어 표면 처리되고, 상기 생성물은 다시 열교환기로 이송되어 100℃로 1차 냉각 후, 다시 냉각장치를 통해 약 25℃의 온도로 냉각한 후 연속적으로 14.3g의 탄소나노튜브를 얻었다. 이때 탄소나노튜브 표면에 존재하는 산소 함량은 2.2wt%이다.
[제조예 2]
산화제로 산소대신 공기 2g/min을 사용하는 것을 제외하고, 제조예 1과 동일하게 제조하였다.
[제조예 3]
산화제로 산소대신 오존 0.27g/min을 사용하는 것을 제외하고, 제조예 1과 동일하게 제조하였다.
[제조예 4]
산화제로 산소대신 50% 과산화수소 수용액 3.4g을 첨가하는 것을 제외하고, 제조예 1과 동일하게 제조하였다.
[제조예 5]
CNT의 표면을 개질하기 위하여 염산, 황산, 질산, 불산, 초산, 인산, 과산화수소수와 같은 유기산 혹은 무기산을 1종 혹은 그 이상을 혼합하여 12시간 이상 끓이고 나서 여과장치를 통해 고형분을 여과하고 순수물로 충분히 세척하여 표면개질된 CNT를 얻었다.
[제조예6] 분산제 제조
스티렌계 모노머(스티렌 35% 및 알파메틸스티렌 32%)과 아크릴계 모노머(아크릴산 33%)를 사용하여 스티렌/아크릴계 수용성 수지 제조하였으며,용매로 디프로필렌글리콜메틸에테르/물 혼합물을 모노머 혼합물 100 중량부 대비 15 중량부를 사용하여 제조하였다.
[실시예1]
상기 제조예1에 의해 제조된 표면 처리된 CNT 30g, 상기 제조예6에서 제조된 분산제 30g, 증류수 935.5g, 모노에탄올아민 4.5g을 혼합하고 분산 장비를 사용하여 완전 분산시켰다.
[실시예2]
상기 실시예1과 동일하게 실시하되, 분산안정제로써 비이온성불소계첨가제인 2,5,8,11-테트라메틸-6-도데신-5,8-디올이토실레이트(2,5,8,11-Tetramethyl-6-dodecyn-5,8-Diol Ethoxylate) 4g을 추가한 것에 차이가 있으며 나머지는 상기 실시예1과 동일하게 실시하였다.
[실시예3]
상기 실시예2와 동일하게 실시하되 CNT의 표면에 결합된 산소함량이 6.0wt%인 CNT를 사용하는 것에 차이가 있으며 나머지는 상기 실시예1과 동일하게 실시하였다.
[비교예1]
표면처리되지 않은 CNT를 사용한 것에 차이가 있으며 나머지는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
[비교예2]
상기 제조예1에 의해 제조된 표면처리된 CNT 30g, 증류수970g을 혼합하고 분산장비를 활용하여 분산시켜 분산액을 제조한 후 입도분석기(Particle Size Analyzer), 점도계(Viscometer) 등을 측정하였다.
[시험예]
상기 실시예1 내지 3 및 비교예1 내지 2에 의해 제조된 분산액의 물성을 각각 측정하여 하기 표1에 그 결과를 나타내었다.
1. 입도 분석
입도분석기(Particle Size Analyzer)를 Malvern사의 모델 2000를 사용하여 측정하였다.
상기 실시예1, 실시예2 및 비교예2의 입도분석결과를 하기 도1에 나타내었다. 도1을 참조하면 입도 분석에서 완전 분산이 이루어질 경우 1개의 Peak(Mono-Modal)가 보이며, 완전 분산이 이루어지지 않을 경우 large particle (10㎛ 이상)에서 입도 분포를 나타내는데 비교예2는 완전분산이 이루어지지 않음을 알 수 있었다.
2. 점도 측정
점도계(Viscometer)를 Brookfield사의 모델 Viscometer DV-II PRO 로 측정하였고 조건은 Spindle 18 / 100rpm / 25℃의 조건에서 측정하였다.
3. CNT 표면의 산소함량 측정
원소분석기(Elemental Analyzer)와 X-선 광전자분광법을 이용하여 측정하였다.
4. 표면저항 측정
1) 코팅막 제조
상기 실시예1 내지 3 및 비교예1 내지 2에 의해 제조된 분산액을 각각 기재의 표면에 10㎛ 두께로 코팅하였다. 코팅에 사용하는 기재는 유리를 사용하여 실시할 수 있었다. 코팅된 표면을 뜨거운 공기 혹은 자외선을 조사하여 표면 매질을 제거와 고화 또는 경화과정을 거쳐 제조하였다.
비교예1과 실시예1의 코팅막 표면을 나타낸 그림을 하기 도2에 나타내었다. 하기 도2에 의해 비교예1은 분산제를 사용했음에도 불구하고 분산이 원활히 이루어지지 않아 코팅막이 불량한 것을 관찰 할 수 있었다.
2) 미쯔비시社의 Loresta GP(MCP-T600)를 사용하여 JISK 7194/ASTM D991에 따라 상기 제조된 코팅막 표면저항을 측정하였다.
표1
Figure pat00001
× : 도막질 불량, ◎ : 도막질 우수
(참고) 입도 분석에서 완전 분산이 이루어질 경우 1개의 Peak(Mono-Modal)가 보이며, 완전 분산이 이루어지지 않을 경우 large particle (10㎛ 이상)에서 입도 분포를 나타냄

Claims (17)

  1. 표면 처리된 탄소나노튜브, 분산제 및 분산매를 포함하되
    표면 처리된 탄소나노튜브는 표면 처리된 탄소나노튜브 전체중량에 대하여 산소, 질소 및 황 또는 이들의 혼합물을 포함하는 작용기가 0.1~10중량%를 포함되는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 표면 처리된 탄소나노튜브는 표면처리에 의해 형성된 작용기에 산소가 1~5중량%가 포함되도록 표면처리된 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 탄소나노튜브는 단일벽탄소나노튜브, 이중벽탄소나노튜브, 얇은 다중벽탄소나노튜브, 다중벽탄소나노튜브, 다발형탄소나노튜브 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 표면 처리된 탄소나노튜브는 산소, 공기, 오존, 과산화수소수, 니트로화합물 및 이들의 혼합물에서 선택되는 산화제를 사용하여 50 내지 400atm의 아임계 또는 초임계 조건에서 탄소나노튜브를 표면 처리하여 생성된 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 표면 처리된 탄소나노튜브는 산소, 공기, 오존, 과산화수소수, 니트로화합물 및 이들의 혼합물에서 선택되는 산화제를 사용하여 50 내지 400atm의 압력과 100 내지 600℃온도의 아임계 또는 초임계 조건에서 탄소나노튜브 표면을 산화처리하고, 이어서 카르복실산, 카르복실염, 아민, 아민염, 4가-아민, 인산기, 인산염, 황산기, 황산염, 알코올, 티올, 에스테르, 아미드, 에폭사이드, 알데하이드, 케톤 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기를 지닌 기능성화합물을 50 내지 400atm의 압력과 100내지 600℃ 온도로 표면처리반응조에 주입하여 표면 처리되어 얻어진 탄소나노튜브 분산액.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 표면 처리된 탄소나노튜브는 탄소나노튜브와 카르복실산, 질산, 인산, 황산, 불산, 염산, 과산화수소수 또는 이들의 혼합물을 혼합하여 탄소나노튜브 표면을 산화시켜 얻어진 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 분산제는 폴리아세탈, 아크릴계 화합물, 메틸메타아클릴레이트, 알킬(C1~C10)아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 폴리카보네이트, 스티렌, 알파메틸스티렌, 비닐 아크릴레이트, 폴리에스테르, 비닐, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리올레핀, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체, 폴리아릴레이트, 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리아릴설폰, 폴리에테르이미드, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌설피드, 불소계 화합물, 폴리이미드, 폴리에테르케톤, 폴리벤족사졸, 폴리옥사디아졸, 폴리벤조티아졸, 폴리벤지미다졸, 폴리피리딘, 폴리트리아졸, 폴리피롤리딘, 폴리디벤조퓨란, 폴리설폰, 폴리우레아, 폴리우레탄, 폴리포스파젠, 액정중합체 및 이들의 공중합체 군에서 하나 이상 선택된 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 분산제는 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 또는 디프로필렌글리콜메틸에테르와 물을 혼합시킨 혼합용매 하에서, 스티렌, 스티렌 및 알파메틸 스티렌의 혼합물,에서 선택되는 스티렌계 모노머와 아크릴계 모노머를 100 ~ 200℃의 반응온도에서 연속벌크 중합시킨 중합체를 사용하는 탄소나노튜브 분산액.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 분산제는 디프로필렌글리콜메틸에테르와 물을 혼합한 혼합용매 존재 하에서, 중합체 전체중량에 대하여 스티렌은 25 ~ 45 중량%, 알파메틸스티렌은 25 ~ 45 중량% 아크릴산 25 ~ 35 중량%를 중합반응시켜 제조되며, 상기 제조된 중합체는 중량평균 분자량이 1,000~100,000인 탄소나노튜브 분산액.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 표면처리된 탄소나노튜브는 탄소나노튜브 분산액 전체 중량에 대하여 0.0001~10중량%이 포함된 탄소나노튜브 분산액.
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 분산제는 표면 처리된 탄소나노튜브 100중량부에 대하여 10~500중량부가 포함된 탄소나노튜브 분산액.
  12. 제 1항에 있어서,
    상기 탄소나노튜브 분산액은 탄소나노튜브 100중량부에 대하여 5~15 중량부의 분산안정제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 분산안정제는 음이온성?양이온성?비이온성 계면활성제, 습윤제, 젖음성 향상제로 이루어진 군으로부터 하나이상 선택되는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 탄소나노튜브 분산액은 탄소나노튜브 100중량부에 대해 아민계 화합물 또는 무기 알칼리 수용액을 1~150 중량부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 아민계 화합물로는 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 프로판올아민, 디프로판올아민 및 트리프로판올아민로부터 선택되어 사용하고, 상기 무기 알칼리용액은 KOH, NaOH, LiOH, K2CO3, Na2CO3 및 LiCO3로부터 선택되어 사용하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  16. 제 1항에 있어서,
    상기 분산매는 물, 알코올, 케톤, 아민, 에스테르, 아미드, 알킬 할로겐, 에테르, 퓨란 및 황으로 이루어진 군에서 하나 이상 선택된 용제인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
  17. 제 1항 내지 제16항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
    상기 탄소나노튜브 분산액은 대전방지 소재, 정전분산소재, 전도성 소재, 전자파 차폐재료, 전자파 흡수재, RF(Radio Frequency) 흡수재, 태양전지용 재료, 연료감응용전지(DSSC)용 전극재료, 전기소자 재료, 전자소자 재료, 반도체소자 재료, 광전소자재료, 노트북 부품 재료, 컴퓨터 부품 재료, 핸드폰 부품 재료, PDA 부품 재료, PSP 부품 재료, 게임기용 부품 재료, 하우징 재료, 투명전극 재료, 불투명 전극 재료, 전계방출디스플레이 (FED;field emission display)재료, BLU(back light unit)재료, 액정표시장치(LCD;liquid crystal display) 재료, 플라즈마표시패널(PDP;plasma display panel ) 재료, 발광다이오드(LED;luminescent diode) 재료, 터치패널 재료, 전광판 재료, 광고판 재료, 디스플레이 소재, 발열체, 방열체, 도금 재료, 촉매, 조촉매, 산화제, 환원제, 자동차 부품 재료, 선박 부품 재료, 항공기기 부품 재료, 보호테이프 재료, 접착제 재료, 트레이 재료, 클린룸 재료, 운송 기기 부품 재료, 난연 소재, 항균 소재, 금속 복합 재료, 비철 금속 복합재료, 의료 기기용 재료, 건축 재료, 바닥재 재료, 벽지 재료, 광원 부품 재료, 램프 재료, 광학기기 부품 재료, 섬유제조용 재료, 의류제조용 재료, 전기제품용 재료, 전자제품제조용 재료, 이차전지용 양극활물질, 이차전지용 음극활물질, 이차전지재료, 연료전지재료, 태양전지재료, 메모리 소자 및 캐패시터(P-ED<C) 재료로 이루어진 군에서 하나이상 선택된 재료에 사용되는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브 분산액.
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