KR20110078570A - 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 공정을 단순화시키고 대면적에 적용 가능한 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법에 관한 것으로, 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법은 기판에 자기 조립 단분자막을 형성하는 단계와, 상기 자기 조립 단분자막 상에 나노구와 첨가제를 포함하는 분산액을 떨어뜨리는 단계와, 상기 자기 조립 단분자막 상에 균일한 2차원 상의 나노구 단층을 형성하는 단계와, 상기 나노구의 크기를 줄여 나노구 패턴을 형성하는 제 1 식각 공정을 수행하는 단계와, 상기 나노구 패턴이 형성된 상기 기판 상에 금속 박막을 증착하는 단계 및 상기 나노구 패턴을 제거하여 금속 패턴 및 홀을 형성하는 제 2 식각 공정을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

표면 플라즈몬, 컬러 필터, SAM, 나노구, 대면적

Description

표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법{METHOD OF FABRICATION OF SURFACE PLASMON COLOR FILTER}

본 발명은 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 공정을 단순화시키고 대면적에 적용 가능한 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법에 관한 것이다.

근래 정보화 사회의 발전과 더불어 표시 장치에 대한 다양한 형태의 요구가 증대되면서 LCD(Liquid Crystalline Display), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display)등 평판 표시 장치에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.

그 중 고화질의 구현, 양산성, 구동수단의 용이성, 경량, 박형, 저소비 전력 등의 이유로 액정 표시 장치(LCD)가 각광을 받고 있다. 액정 표시 장치는 매트릭스(matrix) 형태로 배열된 화소들에 화상 정보에 따른 데이터 신호를 개별적으로 공급하고, 액정에 전압을 인가 및 구동하여 화소별로 광 투과율을 조절함으로써 원하는 화상을 표시할 수 있도록 한 표시 장치이다.

이러한 액정 표시 장치는 도 1에 도시된 바와 같이 단위셀(C)로 구성되며, 크게 어레이 기판(5)과, 컬러필터 기판(6)과, 어레이 기판(5)과 컬러필터 기판(6) 사이에 형성된 액정층(미도시) 및 백라이트 유닛(8)을 포함한다. 컬러필터 기판(6)은 다수의 서브 화소(7)에 형성된 R, G 및 B 컬러필터층과, 컬러필터층 사이를 구분하고 광을 차단하는 블랙 매트릭스(미도시)를 포함한다.

종래에 사용되었던 컬러필터층은 염료 또는 안료를 이용하여 불필요한 색의 광은 흡수하여 소멸시키고 구현하고자 하는 색의 광만 투과시켜 컬러를 구현하는 것으로, 하나의 서브 화소(7)를 기준으로 입사된 백색광에서 RGB 삼원색 중 한가지색만 투과시킴으로써 투과율이 30% 이상 되기 어렵다. 이러한 이유로 광 투과 효율이 매우 낮아 백라이트 유닛(8)에 의한 전력 소비가 증가하게 된다.

이러한 컬러필터층 형성방법으로 나노 패터닝 방법에 대한 관심이 높아지고 있으며 나노 패터닝 방법으로는 광 또는 입자 빔을 이용하는 포토리소그래피(Photolithography), 전자빔 리소그래피(electron beam lithography) 및 X선 리소그래피(X ray lithography) 등이 있다.

그런데, 이러한 리소그래피 공정은 장치나 공정에서 기술 비용이 크고 복잡한 공정 기술로 공정 소요 시간이 증대된다. 또한, UV 파장 대에서 포토 레지스트로 이용되는 고분자 소재 및 장비 개발이 한계에 도달했다. 이를 해결하기 위해 최근에는 빛이나 큰 에너지의 입자를 사용하지 않는 유연한 고분자 몰드를 이용하여 패턴이나 구조물을 제조하는 나노 임프린트(nano-imprint) 기술이 개발되었다.

나노 임프린트 기술은 도 2a 내지 도 2f에 도시된 바와 같이 기판(10) 상에 패터닝하고자 하는 물질(12) 및 레지스트(14)를 순차로 적층한 다음 나노 스케일의 패터닝된 몰드(20)를 이용하여 레지스트(14) 상에 나노 스케일의 구조를 전사한다.

이어서, 레지스트(14) 상에 전사된 나노 스케일 구조를 제외하고 잔류하는 레지스트(14)를 제외하여 나노 스케일 구조의 레지스트 패턴(14a)을 형성한다. 다음으로, 나노 스케일 구조의 레지스트 패턴(14a)을 마스크로 이용하여 패터닝하고자 하는 물질(12)을 식각한 후 나노 패턴(12a)을 형성한 후 나노 스케일 구조의 레지스트 패턴(14a)을 제거한다.

이러한 나노 임프린트 기술은 패턴을 전사하기 위한 가압식 인쇄 공정으로 인하여 압력의 불균일이 발생할 수 있기 때문에 대면적에서 나노 임프린팅이 이루어질 때 인쇄 패턴의 밀림 현상이나 패턴 불량이 발생할 수 있다. 더욱이, 나노 임프린트 기술로 대면적의 웨이퍼에서 패턴을 구현할 경우 제작된 몰드(20)를 웨이퍼의 일부분에 나노 임프린트 공정을 수행한 후, 동일한 몰드(20)의 위치를 이동시켜서 반복 작업을 수행하여야하므로 생산량이 감소한다.

또한, 반복 작업이 진행됨에 따라 몰드(20)가 소실되어 패턴이 제대로 전사되지 않는다. 생산량 증가를 위해 대면적 크기의 웨이퍼에 맞추어 나노 패턴을 갖는 몰드(20)를 제작할 경우 고비용이 발생될 뿐만 아니라 그 제작에 한계가 있다.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 공정을 단순화시키고 대면적에 적용 가능한 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법을 제공하는 것이다.

본 발명에 따른 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법은 기판에 자기 조립 단분자막을 형성하는 단계와, 상기 자기 조립 단분자막 상에 나노구와 첨가제를 포함하는 분산액을 떨어뜨리는 단계와, 상기 자기 조립 단분자막 상에 균일한 2차원 상의 나노구 단층을 형성하는 단계와, 상기 나노구의 크기를 줄여 나노구 패턴을 형성하는 제 1 식각 공정을 수행하는 단계와, 상기 나노구 패턴이 형성된 상기 기판 상에 금속 박막을 증착하는 단계 및 상기 나노구 패턴을 제거하여 금속 패턴 및 홀을 형성하는 제 2 식각 공정을 수행하는 단계를 포함한다.

상기 컬러필터는 상기 금속 패턴 및 상기 홀로 이루어진다.

상기 홀의 크기는 나노구 패턴의 크기와 동일하다.

상기 나노구는 폴리스티렌, PMMA와 같은 고분자 재질의 콜로이드 입자 또는 실리카 입자로 이루어진다.

상기 제 2 식각 공정시 상기 나노구 패턴과 함께 상기 나노구 패턴 상에 형성된 상기 금속 박막 및 상기 나노구 패턴 하부에 형성된 상기 자기 조립 단분자막도 함께 제거된다.

상기 자기 조립 단분자막은 서브 화소 단위로 형성되거나, 3개의 서브 화소 로 이루어지는 화소 단위로 형성되거나, 다수의 화소로 이루어지는 셀 단위로 형성된다.

상기 제 1 식각 공정은 반응성 이온 에칭법 또는 산소 플라즈마 에칭법으로 수행된다.

상기 금속 박막을 증착하는 단계는 알루미늄, 금, 백금, 은, 구리, 크롬, 팔라듐, 몰리브덴, 코발트, ITO 중에서 하나 또는 적어도 하나를 포함하는 복합 물질을 증착하여 수행되고, 상기 금속 박막은 상기 나노구 패턴 및 상기 나노구 패턴 사이의 노출된 기판 상에 형성된다.

본 발명에 따른 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조방법은 상기 나노구 단층을 형성하는 단계 이후에 상기 자기 조립 단분자막 이외에 잔류하는 상기 분산액을 제거하는 단계 및 상기 제 1 식각 공정 단계와 상기 금속 박막을 증착하는 단계 사이에 아르곤 이온 밀링 방법으로 상기 나노구 패턴에 의해 노출된 기판을 식각하여 단차를 형성하는 단계를 더 포함한다.

상기 나노구 단층은 상기 기판을 스핀 코팅 또는 분산 용매의 기화 과정에서 발생하는 모세관력 이용법으로 형성되고, 상기 나노구 단층은 2차원 육방 밀집 결정으로 형성되고, 상기 나노구의 최초 크기가 격자의 주기를 결정하며, 6개의 최인접 나노구는 삼각형 격자 구조를 갖는다.

본 발명은 표면 플라즈몬 현상을 이용한 컬러필터를 제조함에 있어 표면 플라즈몬 현상을 이용하여 리소그래피 공정을 거치지 않고 별도의 특정 파장디역에서 감응하는 포토 레지스트를 이용할 필요가 없으므로 컬러필터 제조장치나 공정 비용을 감소시킬 수 있고 공정 기술을 단순화하여 공정 소요 시간을 감소시킬 수 있다.

또한, 본 발명은 나노 임프린트 방식과 같은 가압식 인쇄공정을 이용하지 않으므로 압력의 불균일에 따른 패턴의 밀림 현상이나 패턴 불량을 방지할 수 있다.

더욱이, 본 발명은 대면적 구현이 가능한 컬러필터를 한번에 형성하므로 동일한 몰드를 여러 번 반복하여 사용할 필요가 없어 생산량을 증가시킬 수 있고 몰드의 소실에 따른 패턴 불량을 방지할 수 있다.

이하, 첨부된 도면 및 실시 예를 통해 본 발명에 따른 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법을 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.

기존의 어레이 기판의 개구율 개선을 통한 투과율 향상은 물리적 한계에 직면하고 있으며, 이에 따라 개구율 개선보다는 컬러필터의 제거를 통한 투과율 향상으로 패러다임의 이동이 필요하다.

이를 위해, 본 발명은 소정의 금속 박막에 특정 파장의 빛만이 선택적으로 투과되도록 홀을 형성하여 빛을 필터링하는 표면 플라즈몬(surface plasmon) 현상을 이용한 컬러필터의 제조 방법에 관한 것이다. 도 3 내지 도 10b는 본 발명에 따른 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.

도 3을 참조하면, 기판(110) 상에 자기 조립 단분자막(Self Assembled Monolayer: SAM, A)을 국부적으로 형성한다. 자기 조립 단분자막(A)은 서브 화소 단위로 형성되거나, 3개의 서브 화소로 이루어지는 화소 단위로 형성되거나, 다수의 화소로 이루어지는 셀 단위로 형성될 수 있다.

자기 조립 단분자막(A)은 나노구와의 부착력을 높이기 위한 화학적 기능성을 가진 물질로 형성된다. 도면에서 자기 조립 단분자막(A)이 형성되는 영역이 2개로 분리되어 형성되어 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.

도 4 및 도 6b를 참조하면, 자기 조립 단분자막(A)이 형성된 기판(110) 상에 노즐(140)을 이용하여 분산액(130)을 떨어뜨린다. 자기 조립 단분자막(A)이 형성된 영역이 다수 개인 경우 동일한 수의 노즐들을 적용하여 동시에 분산액(130)을 떨어뜨릴 수 있다. 이때, 공정 시간을 감소시킬 수 있다.

분산액(130)은 도 5에 도시된 바와 같이 나노구(132) 및 첨가제(134)를 포함하며, 나노구(132)는 나노미터 크기의 구형 고분자 물질로 이루어질 수 있고 첨가제(134)는 Na-dodecylsulfate solution으로 이루어질 수 있다. 나노구(132)는 폴리스티렌(Polystyrene)이나 PMMA(Polymethyl methacrylate)와 같은 고분자 재질의 콜로이드 입자 또는 실리카 입자로 이루어질 수 있다.

이후, 기판(110)을 스핀 코팅(Spin coating) 방법 또는 침적법과 같은 분산 용매의 기화 과정에서 발생하는 모세관력 유발 방법 등을 통하여 균일한 2차원 상의 나노구 콜로이드 단층을 자기 조립 단분자막(A) 상에 형성한다.

이때, 나노구 콜로이드 단층은 자기 조립 단분자막(A) 상에서 대류 및 모세관력에 의하여 2차원 육방 밀집 결정(hexagonally closed-packed 2D colloidal crystal)을 이루게 된다. 나노구의 최초 크기가 격자의 주기를 결정하며, 6개의 최인접 나노구는 삼각형 격자 구조를 갖는다.

자기 조립 단분자막(A) 이외의 기판(110) 상에 잔류하는 분산액(130)은 도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이 세정하여 제거할 수 있다.

도 7a 및 도 7b를 참조하면, 제 1 식각 공정을 수행하여 나노구 패턴(132a)을 형성한다. 제 1 식각 공정으로 반응성 이온 에칭법(Reactive Ion Etching; RIE) 또는 산소 플라즈마 에칭이 적용될 수 있다.

제 1 식각 공정으로 반응성 이온 에칭법(Reactive Ion Etching; RIE) 또는 산소 플라즈마 에칭법 적용하여 나노구 간의 간격을 일정하게 유지하면서 나노구 자체의 크기를 조절하여 나노구 패턴(132a)을 형성할 수 있다. 나노구 패턴(132a)의 크기는 구현하고자 하는 적색, 녹색 또는 청색의 컬러에 따라 다를 수 있다.

도 8a 및 도 8b를 참조하면, 아르곤 이온 밀링(Ar ion milling) 공정으로 나노구 패턴(132a)을 마스크로 하여 기판(110)의 상부 및 자기 조립 단분자막(A)을 식각할 수 있다. 이때, 나노구 패턴(132a) 하부의 그림자 영역 내부의 기판(110) 또는 자기 조립 단분자막 패턴(A')과 나노구 패턴(132a)이 형성되지 않아 노출되는 그림자 영역 외부의 기판(110) 사이에 단차가 발생한다.

단차를 이용하여 추후 증착될 금속 박막의 두께를 조절할 수 있다. 단차 형성 공정은 추후 증착될 금속 박막 두께에 따라 생략 가능하다.

도 9a 및 도 9b를 참조하면, 나노구 패턴(132a)이 형성된 기판(110) 상에 금속 박막(120)을 증착한다. 금속 박막(120)으로 알루미늄, 금, 백금, 은, 구리, 크롬, 팔라듐, 몰리브덴, 코발트, ITO 중에서 하나 또는 적어도 하나를 포함하는 복 합 물질이 적용될 수 있다.

금속 박막(120)은 기판(110) 상에 형성된 나노구 패턴(132a)에 의한 단차에 의하여 나노구 패턴(132a) 상부 및 나노구 패턴(132a)에 의해 노출되는 기판(110) 상에 형성된다. 금속 박막(120)의 두께는 추후 형성될 홀(미도시)의 직경과 주기에 따라 설계 변경이 가능하다.

금속 박막(120)의 두께가 얇을 경우 나노구 패턴(132a) 상부에 형성되는 금속 박막(120)과 나노구 패턴(132a)에 의해 노출되는 기판(110) 상에 형성되는 금속 박막(120)은 이격될 수 있다. 금속 박막(120)의 두께가 나노구 패턴(132a)의 직경과 동일하거나 그 이상일 경우 도면의 도시와 달리 나노구 패턴(132a) 상부에 형성되는 금속 박막(120)과 나노구 패턴(132a)에 의해 노출되는 기판(110) 상에 형성되는 금속 박막(120)은 연결될 수 있다.

도 10a 및 도 10b를 참조하면, 제 2 식각 공정을 수행하여 나노구 패턴(132a)을 제거함으로써 컬러필터(100)를 완성한다. 제 2 식각 공정은 용매(solvent)를 사용하여 수행된다. 제 2 식각 공정에 의해 나노구 패턴(132a), 나노구 패턴(132a) 상부에 형성된 금속 박막(120) 및 잔류하는 자기 조립 단분자막 패턴(A')이 제거된다. 이때, 기판(110)의 돌출된 상부면도 함께 제거될 수 있다.

즉, 제 2 식각 공정 시 나노구 패턴(132a), 나노구 패턴(132a) 상부에 형성된 금속 박막(120) 및 잔류하는 자기 조립 단분자막 패턴(A')이 완전히 제거되면서 나노구 패턴(132a)들이 만든 나노 크기의 홀(122)과 잔류하는 금속 패턴(120a)이 기판(110) 상에 형성되어 대면적의 컬러필터(100)를 제조할 수 있게 된다.

이와 같이 제작된 컬러필터(100)는 금속 패턴(120a) 내에 일정한 주기를 갖는 파장 이하의 다수개의 홀(122)들로 이루어져 표면 플라즈몬 현상을 이용하여 컬러를 구현한다. 홀(122)의 크기는 나노구 패턴(132a)의 크기와 동일할 수 있다.

한편, 플라즈몬(plasmon)이란 입사된 빛의 전기장에 의해 금속 박막 표면에 유도된 자유 전자가 집단적으로 진동하는 유사 입자를 말하는 것이다. 표면 플라즈몬(surface plasmon)은 플라즈몬이 금속 박막 표면에 국부적으로 존재하는 것으로, 금속 박막과 유전체의 경계면을 따라 진행하는 전자기파에 해당된다.

표면 플라즈몬 현상이란 나노 수준의 주기적인 홀 패턴을 갖는 금속 박막 표면에 빛이 입사할 경우 특정 파장의 빛과 금속 박막 표면의 자유전자가 공명을 일으켜 특정 파장의 빛을 형성하는 현상을 말한다. 입사된 빛에 의해 표면 플라즈몬을 형성할 수 있는 특정 파장의 빛만이 홀을 투과할 수 있으며 나머지 빛은 모두 금속 박막 표면에 의해 반사가 이루어진다.

두꺼운 금속막은 입사광에 대해 비투과 성질을 가지며, 금속막에 형성된 홀의 크기가 입사광 파장보다 매우 작으면 투과광의 세기는 현저히 작게 된다. 그러나 파장 이하의 작은 홀이라도 금속막에 주기적으로 배열되면 표면 플라즈몬의 여기로 인해 광의 투과도가 크게 증폭된다.

따라서, 적색, 녹색 또는 청색의 컬러는 홀(122)의 직경과 주기에 따라 가시광선에서 근적외선 대역을 가진 입사광의 전기장과 플라즈몬이 커플링되면서 선택된 적색, 녹색 또는 청색의 특정 파장의 빛만이 투과되고 나머지 파장은 모두 반사됨으로써 구현될 수 있다. 이때, 홀(122) 주변의 빛을 끌어들임에 따라 홀(122) 면적보다 많은 양의 빛이 투과될 수 있다.

이렇듯, 본 발명은 별도의 몰드를 이용한 공정을 수행하지 않고 나노구 패턴(132a)의 크기와 금속 박막(120)의 두께 등을 조절함으로써 홀(122) 및 금속 패턴(120a)을 형성하여 원하는 파장의 빛을 투과시키는 표면 플라즈몬 컬러필터의 구현이 가능하게 된다.

본 발명의 표면 플라즈몬 컬러필터를 제조방법은 리소그래피 공정을 거치지 않고 별도의 특정 파장 대역에서 감응하는 레지스트를 이용할 필요가 없어 컬러필터 제조장치나 공정 비용을 감소시킬 수 있고 공정 기술을 단순화하여 공정 소요 시간을 감소시킬 수 있다.

또한, 본 발명은 컬러필터를 제조함에 있어 나노 임프린트 방식과 같은 가압식 인쇄공정과 달리 나노구 마스크를 통해 기판 상에 직접 패턴을 형성하므로 종래의 압력의 불균일에 따른 패턴의 밀림 현상이나 패턴 불량을 방지할 수 있다. 더욱이, 본 발명은 대면적 구현이 가능한 컬러필터를 한번에 형성하므로 동일한 몰드를 여러번 반복하여 사용할 필요가 없어 생산량을 증가시킬 수 있고 몰드의 소실에 따른 패턴 불량을 방지할 수 있다.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.

도 1은 종래 기술에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 나타내는 사시도이다.

도 2a 내지 도 2f는 도 1에 도시된 컬러필터 기판의 컬러필터층을 형성하는 방법을 단계적으로 나타내는 단면도들이다.

도 3 내지 도 10b는 본 발명에 따른 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.

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110: 기판 120: 금속 박막

120a: 금속 패턴 122: 홀

130: 분산액 132: 나노구

132a: 나노구 패턴

Claims (10)

1. 기판에 자기 조립 단분자막을 형성하는 단계;

   상기 자기 조립 단분자막 상에 나노구와 첨가제를 포함하는 분산액을 떨어뜨리는 단계;

   상기 자기 조립 단분자막 상에 균일한 2차원 상의 나노구 단층을 형성하는 단계;

   상기 나노구의 크기를 줄여 나노구 패턴을 형성하는 제 1 식각 공정을 수행하는 단계;

   상기 나노구 패턴이 형성된 상기 기판 상에 금속 박막을 증착하는 단계; 및

   상기 나노구 패턴을 제거하여 금속 패턴 및 홀을 형성하는 제 2 식각 공정을 수행하는 단계를 포함하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 컬러필터는 상기 금속 패턴 및 상기 홀로 이루어지는 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 홀의 크기는 나노구 패턴의 크기와 동일한 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
4. 제 1 항에 있어서, 상기 나노구는 폴리스티렌, PMMA와 같은 고분자 재질의 콜로이드 입자 또는 실리카 입자로 이루어지는 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 식각 공정시 상기 나노구 패턴과 함께 상기 나노구 패턴 상에 형성된 상기 금속 박막 및 상기 나노구 패턴 하부에 형성된 상기 자기 조립 단분자막도 함께 제거되는 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 자기 조립 단분자막은 서브 화소 단위로 형성되거나, 3개의 서브 화소로 이루어지는 화소 단위로 형성되거나, 다수의 화소로 이루어지는 셀 단위로 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
7. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 식각 공정은 반응성 이온 에칭법 또는 산소 플라즈마 에칭법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
8. 제 1 항에 있어서, 상기 금속 박막을 증착하는 단계는 알루미늄, 금, 백금, 은, 구리, 크롬, 팔라듐, 몰리브덴, 코발트, ITO 중에서 하나 또는 적어도 하나를 포함하는 복합 물질을 증착하여 수행되고,

   상기 금속 박막은 상기 나노구 패턴 및 상기 나노구 패턴 사이의 노출된 기판 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
9. 제 1 항에 있어서, 상기 나노구 단층을 형성하는 단계 이후에 상기 자기 조립 단분자막 이외에 잔류하는 상기 분산액을 제거하는 단계 및

   상기 제 1 식각 공정 단계와 상기 금속 박막을 증착하는 단계 사이에 상기 나노구 패턴에 의해 노출된 기판을 식각하여 단차를 형성하는 단계를 더 포함하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.
10. 제 1 항에 있어서, 상기 나노구 단층은 상기 기판을 스핀 코팅 또는 분산 용매의 기화 과정에서 발생하는 모세관력 이용법으로 형성되고,

    상기 나노구 단층은 2차원 육방 밀집 결정으로 형성되고,

    상기 나노구의 최초 크기가 격자의 주기를 결정하며,

    6개의 최인접 나노구는 삼각형 격자 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 컬러필터의 제조 방법.

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