KR20110067520A - Resin composition for black matrix - Google Patents

Resin composition for black matrix Download PDF

Info

Publication number
KR20110067520A
KR20110067520A KR1020090124135A KR20090124135A KR20110067520A KR 20110067520 A KR20110067520 A KR 20110067520A KR 1020090124135 A KR1020090124135 A KR 1020090124135A KR 20090124135 A KR20090124135 A KR 20090124135A KR 20110067520 A KR20110067520 A KR 20110067520A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
black matrix
carbon nanotubes
resin composition
silane compound
group
Prior art date
Application number
KR1020090124135A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김훈식
김주호
윤현진
권영수
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020090124135A priority Critical patent/KR20110067520A/en
Publication of KR20110067520A publication Critical patent/KR20110067520A/en

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02—Elements
    • C08K3/04—Carbon
    • C08K3/041—Carbon nanotubes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/40—Glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C08K5/5406—Silicon-containing compounds containing elements other than oxygen or nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227—Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/011—Nanostructured additives

Abstract

PURPOSE: A resin composition for a black matrix is provided to improve adhesive force to a substrate and to increase electric resistance since electric conductivity can be controlled. CONSTITUTION: A resin composition for a black matrix comprises carbon nanotubes to which a silane compound is introduced as a functional group. The silane compound is represented by chemical formula 1: R-(CH2)n-Si-(X)3. In chemical formula 1, R is selected from a halogen atom, cyano group, primary, secondary, and tertiary C1-3 alkyl group or C1-5 alkyl group; n is an integer of 1-6; and X is selected from hydrogen, halogen atom, C1-5 alkyl group, C1-5 alkoxy group, or O^-Na^+.

Description

블랙 매트릭스용 수지 조성물{Resin composition for black matrix}Resin composition for black matrix

본 발명은 블랙 매트릭스용 수지 조성물에 관한 것으로, 구체적으로 기판과의 접착력이 향상되고 전기전도도의 조절이 가능하여 전기 저항을 증가시킬 수 있으며, 현상력이 우수하여 미세 패턴을 형성할 수 있는 블랙 매트릭스용 수지 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to a resin composition for a black matrix, specifically, the adhesion to the substrate is improved and the electrical conductivity can be adjusted to increase the electrical resistance, and the development is excellent black matrix which can form a fine pattern It relates to the resin composition for resin.

액정 표시 장치는 컬러화를 위해 R(red), G(green) 및 B(blue)의 삼원색으로 구성된 컬러 필터를 필요로 하는데, 컬러 필터의 컬러 픽셀사이에는 콘트라스트를 향상시킬 목적으로 블랙 매트릭스라고 불리는 격자상의 흑색 패턴을 배치하는 것이 일반적이다. 종래 블랙 매트릭스는 크롬을 사용하였는데, 크롬을 사용하는 공정은 크롬을 유리기판 전체에 증착시키고 에칭처리에 의해 패턴을 형성하는 방식으로 공정상 고비용이 요구되고 크롬의 고반사율 문제, 크롬 폐액에 의한 환경오염 등의 문제가 발생한다는 문제점이 있었다. 이와 같은 이유로 미세가공이 가능한 안료분산법을 이용할 수 있는 블랙 매트릭스 감광성 수지 조성물의 연구가 활발히 이루어 지고 있다. The liquid crystal display requires a color filter composed of three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) for colorization, and a lattice called a black matrix for improving contrast between color pixels of the color filter. It is common to arrange the black pattern of the image. In the conventional black matrix, chromium is used. The process using chromium requires a high cost in the process of depositing chromium on the entire glass substrate and forming a pattern by etching, and has a high reflectance problem of chromium and an environment caused by chromium waste. There was a problem that problems such as contamination occur. For this reason, the research of the black matrix photosensitive resin composition which can use the pigment dispersion method which can be microprocessed is actively performed.

블랙 매트릭스 감광성 수지 조성물은 수 종의 안료를 혼합하여 흑색으로 만든 조성물로, 차광을 목적으로 현상액에 녹지 않는 안료를 다량으로 함유하고 있기 때문에 현상성이 좋지 않고 장시간의 현상이 필요하거나 필요로 하는 해상력을 얻지 못한다는 문제점이 있다. 일본공개특허공보 평10-10311호는 특정한 오일 흡착량을 갖는 카본 블랙을 함유한 컬러필터용 조성물에 대하여 개시하고 있으며, 일본공개특허공보 제2000-147240호는 수지로 피복된 카본 블랙 및 금속 산화물을 포함한 적어도 2 종의 혼합물을 안료로 포함한 칼라 액정 표시 장치용 블랙 매트릭스 조성물에 대하여 개시하고 있다. 카본 블랙 이외의 착색 안료로 흑색 조성물을 제조하는 연구도 진행되고 있으나, 카본 블랙 이외의 착색 안료는 차광성이 약하기 때문에 그 배합량을 극히 많이 해야 하고 그 결과 조성물의 점도가 증가하여 취급이 곤란해지거나 형성된 피막의 강도 또는 기판에 대한 밀착성이 현저하게 저하된다는 문제점이 있다. The black matrix photosensitive resin composition is a composition made of black by mixing several pigments. Since the black matrix photosensitive resin composition contains a large amount of pigment which is insoluble in a developer for shading purposes, it is poor in developability and requires or requires long-term development. There is a problem that you do not get. Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-10311 discloses a composition for color filters containing carbon black having a specific oil adsorption amount, and Japanese Patent Laid-Open No. 2000-147240 discloses carbon black and metal oxides coated with a resin. The black matrix composition for color liquid crystal display devices which contains the mixture of at least 2 types including these as a pigment is disclosed. Research into the production of black compositions with colored pigments other than carbon black has also been conducted. However, since colored pigments other than carbon black have poor light shielding properties, the blending amount must be extremely high, and as a result, the viscosity of the composition increases, making handling difficult. There is a problem that the strength of the formed film or the adhesion to the substrate is significantly reduced.

또한, 블랙 매트릭스 공정에 있어서 중요한 문제가 되는 것은 기판과의 밀착성이다. 이는 높은 차광성을 얻기 위해 고농도의 카본을 사용하기 때문에 발생하는 현상이다. 카본 블랙은 가시광선뿐만 아니라 자외선을 효과적으로 흡수하기 때문에 패턴 형성을 위한 자외선 조사시 레지스트 필름 하단까지 광 투과가 어렵고 이로 인해 하단 경화가 잘되지 않으며, 밀착성이 저하되고 현상시 박리되거나 아랫부분이 들어간 T-top형의 패턴이 형성된다는 문제점이 있다. 또한, 카본 블랙의 경우 전기전도도가 우수하므로 고저항의 블랙 매트릭스를 얻기 위해서는 표면 처리를 해 야만 한다는 문제점이 있다. In addition, an important problem in the black matrix process is adhesion with the substrate. This is a phenomenon that occurs because high concentration of carbon is used to obtain high light shielding properties. Since carbon black absorbs not only visible light but also ultraviolet light, it is difficult to transmit light to the bottom of the resist film when irradiating UV light for pattern formation. There is a problem that a -top pattern is formed. In addition, in the case of carbon black, since the electrical conductivity is excellent, there is a problem that a surface treatment must be performed in order to obtain a high resistance black matrix.

상기의 문제점을 해결하고자 본 발명의 목적은 기판과의 접착력이 향상되고 전기전도도의 조절이 가능하여 전기 저항을 증가시킬 수 있으며, 현상력이 우수하여 미세 패턴을 형성할 수 있는 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 제공하는 것이다. An object of the present invention to solve the above problems is to improve the adhesive strength with the substrate and to control the electrical conductivity can increase the electrical resistance, excellent development power for the black matrix resin composition can form a fine pattern To provide.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,According to an aspect of the present invention,

실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 제공한다.Provided is a resin composition for a black matrix comprising a carbon nanotube in which a silane compound is introduced into a functional group.

상기 실란 화합물은 하기 화학식 1 로 표현될 수 있다:The silane compound may be represented by the following Chemical Formula 1:

[화학식 1][Formula 1]

R-(CH2)n-Si-(X)3 R- (CH 2 ) n -Si- (X) 3

(상기 화학식 1 에서,(In Chemical Formula 1,

R 은 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기로 치환된 1차, 2차, 3차 아민 또는 탄소수 1 내지 5 의 알킬기로부터 선택되며, R is selected from a halogen atom, a cyano group, a primary, secondary, tertiary amine substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms,

n 은 1 내지 6 의 정수이며,n is an integer from 1 to 6,

X 는 수소, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5 의 알킬기, 탄소수 1 내지 5 의 알콕시 또는 O-Na+ 로부터 선택된다.)X is selected from hydrogen, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, alkoxy having 1 to 5 carbon atoms, or O - Na + .)

상기 실란 화합물은 하기 화학식 2 로 표현되는 메톡시실란, 하기 화학식 3 으로 표현되는 에톡시실란 또는 이들의 혼합물일 수 있다:The silane compound may be a methoxysilane represented by the following Chemical Formula 2, an ethoxysilane represented by the following Chemical Formula 3, or a mixture thereof:

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112009077161555-PAT00001
Figure 112009077161555-PAT00001

[화학식 3](3)

Figure 112009077161555-PAT00002
Figure 112009077161555-PAT00002

(상기 화학식 2 및 3 에서,(In the formula 2 and 3,

R 은 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기로 치환된 1차, 2차, 3차 아민 또는 탄소수 1 내지 5 의 알킬기로부터 선택된다.) R is selected from a halogen atom, a cyano group, a primary, secondary, tertiary amine substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)

상기 화학식 1 로 표현되는 실란 화합물은 탄소 나노 튜브에 대하여 0.05 내지 50 중량부로 도입될 수 있다. The silane compound represented by Chemical Formula 1 may be introduced at 0.05 to 50 parts by weight based on the carbon nanotubes.

상기 탄소 나노 튜브는 길이가 0.5 내지 30 ㎛일 수 있다.The carbon nanotubes may have a length of 0.5 to 30 μm.

상기 탄소 나노 튜브는 외경이 1 내지 100 nm 일 수 있다. The carbon nanotubes may have an outer diameter of 1 to 100 nm.

상기 탄소 나노 튜브는 수지 조성물의 고형분에 대하여 0.1 내지 20 중량부로 포함될 수 있다. The carbon nanotubes may be included in an amount of 0.1 to 20 parts by weight based on the solids content of the resin composition.

상기 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 바인더 수지, 중합성 단량체, 중합 개시제 및 용제로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 더 포함할 수 있다. The black matrix resin composition may further include a single resin or a mixture thereof selected from the group consisting of a binder resin, a polymerizable monomer, a polymerization initiator, and a solvent.

본 발명의 수지 조성물은 전기전도성이 낮아 전기저항이 향상되므로 고 고저항의 블랙 매트릭스를 제조할 수 있다. Since the resin composition of the present invention has low electrical conductivity and improves electrical resistance, it is possible to produce a black matrix having high high resistance.

본 발명의 수지 조성물은 기판과의 밀착성이 향상되고, 현상성이 우수하여 미세 패턴의 형성이 가능한 블랙 매트릭스를 제공할 수 있다. The resin composition of the present invention can provide a black matrix in which adhesion with a substrate is improved and excellent in developability and in which a fine pattern can be formed.

이하, 당업자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명을 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily practice.

본 발명의 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물은 실란(silane)화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브(carbon nano tube)를 포함한다.The photosensitive resin composition for black matrices of the present invention includes a carbon nanotube in which a silane compound is introduced into a functional group.

상기 실란 화합물이 도입된 탄소 나노 튜브는 착색제로 본 발명의 수지 조성물에 포함된다. 탄소 나노 튜브의 표면에 실란 작용기를 도입함으로 전기전도도를 조절할 수 있으며, 이로 인해 전기 저항을 낮출 수 있을 뿐만 아니라 기판과의 접착력도 향상된다. 또한, 탄소 나노 튜브는 종래 착색제로 사용하는 카본 블랙보다 입자 크기가 작아 미세한 패턴의 형성에 유리하다. The carbon nanotubes into which the silane compound is introduced are included in the resin composition of the present invention as a colorant. By introducing silane functional groups on the surface of the carbon nanotubes, the electrical conductivity can be controlled, thereby lowering the electrical resistance and improving adhesion to the substrate. In addition, the carbon nanotubes are smaller in particle size than carbon black used as a conventional colorant, and are advantageous for the formation of fine patterns.

상기 탄소 나노 튜브에 도입되는 실란 화합물은 바람직하게는 하기 화학식 1 로 표현될 수 있다: The silane compound introduced into the carbon nanotube may be preferably represented by the following Chemical Formula 1:

[화학식 1][Formula 1]

R-(CH2)n-Si-(X)3 R- (CH 2 ) n -Si- (X) 3

상기 화학식 1 에서, R 은 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기로 치환된 1차, 2차, 3차 아민 또는 탄소수 1 내지 5 의 알킬기로부터 선택될 수 있으며, 바람직하게는 Cl, Br, I, CN, NH2, N(CH3)2, NH, CH3 또는 CH2CH 으로부터 선택될 수 있다. 상기 n은 1 내지 6의 정수이다. 상기 X 는 가수분해 가능한 그룹으로 구체적으로, 수소, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5 의 알킬기, 탄소수 1 내지 5 의 알콕시기 또는 O-Na+ 로부터 선택될 수 있으며, 바람직하게는, Cl, O-Na+, H, CH3 , OCH3 또는 0C2H5 로부터 선택될 수 있다. In Formula 1, R may be selected from a halogen atom, a cyano group, a primary, secondary, tertiary amine substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably Cl, Br , I, CN, NH 2 , N (CH 3 ) 2 , NH, CH 3 or CH 2 CH. N is an integer of 1-6. X is a hydrolyzable group, and specifically, may be selected from hydrogen, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or O - Na + , and preferably, Cl, O - Na + , H, CH 3 , OCH 3 or 0C 2 H 5 Can be selected from.

상기 실란 화합물은 하기 화학식 2 로 표현되는 메톡시실란(methoxysilane), 하기 화학식 3 으로 표현되는 에톡시실란(ethoxysilane) 또는 이들의 혼합물일 수 있다:The silane compound may be methoxysilane represented by the following Chemical Formula 2, ethoxysilane represented by the following Chemical Formula 3, or a mixture thereof:

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112009077161555-PAT00003
Figure 112009077161555-PAT00003

[화학식 3](3)

Figure 112009077161555-PAT00004
Figure 112009077161555-PAT00004

상기 화학식 2 및 3 에서, R 은 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기로 치환된 1차, 2차, 3차 아민 또는 탄소수 1 내지 5 의 알킬기로부터 선택될 수 있으며, 바람직하게는 Cl, Br, I, CN, NH2, N(CH3)2, NH, CH3 또는 CH2CH 으로부터 선택될 수 있다.In Chemical Formulas 2 and 3, R may be selected from a halogen atom, a cyano group, a primary, secondary, tertiary amine substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably Cl , Br, I, CN, NH 2 , N (CH 3 ) 2 , NH, CH 3 or CH 2 CH.

상기 실란 화합물은 탄소 나노 튜브에 대하여 0.05 내지 50 중량부로 도입될 수 있다. 상기 실란 화합물이 탄소 나노 튜브에 대하여 0.05 중량부 미만으로 도입 되는 경우 탄소 나노 튜브의 표면에 실란이 균일하게 도입되지 않아 전기 저항 및 기판과의 접착력 향상이 미미할 수 있으며, 실란 화합물이 50 중량부를 초과하여 도입되는 경우, 도입된 실란에 의하여 콘트라스트가 감소될 수 있다. The silane compound may be introduced at 0.05 to 50 parts by weight based on the carbon nanotubes. When the silane compound is introduced at less than 0.05 parts by weight with respect to the carbon nanotubes, silane is not uniformly introduced on the surface of the carbon nanotubes, so that an improvement in electrical resistance and adhesion with the substrate may be insignificant, and the silane compound exceeds 50 parts by weight. When introduced, the contrast can be reduced by the introduced silane.

상기 탄소 나노 튜브는 탄소 6 개로 이루어진 육각형 고리가 서로 연결되어 이루어진 흑연판상을 둥글게 말아서 생긴 튜브 형태의 분자이다. 상기 탄소 나노 튜브는 강성 및 전기전도성이 우수하므로 블랙 매트릭스 형성시 막 강도를 상승시킬 수 있으며, 본 발명에서는 실란 화합물을 작용기로 도입하여 전기전도성을 낮춰 전기 저항을 상승시켰다. The carbon nanotube is a tube-shaped molecule formed by roundly rolling a graphite plate formed by connecting hexagonal rings composed of six carbons to each other. Since the carbon nanotubes have excellent rigidity and electrical conductivity, the film strength may be increased when forming the black matrix. In the present invention, the silane compound is introduced into a functional group to lower the electrical conductivity, thereby increasing the electrical resistance.

상기 탄소 나노 튜브는 단일벽 구조를 갖는 단일벽 탄소 나노 튜브(single-walled carbon nanotube; SWCNT) 또는 다중벽 구조를 갖는 다중벽 탄소 나노 튜브(multi-walled carbon nanotube; MWCNT)가 사용될 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다. 또한, 상기 탄소 나노 튜브는 화학 증착법, 아크 방전법, 플라즈마 토치법 및 이온 충격법등 당업계에 공지된 방법으로 제조될 수 있으며, 당업계에 공지된 통상의 방법으로 전처리 단계를 거칠 수 있으나, 전처리 단계를 거치지 않아도 무방하다. The carbon nanotube may be a single-walled carbon nanotube (SWCNT) having a single-wall structure or a multi-walled carbon nanotube (MWCNT) having a multi-walled structure. It is not limited. In addition, the carbon nanotubes may be prepared by methods known in the art such as chemical vapor deposition, arc discharge, plasma torch and ion bombardment, and may be subjected to pretreatment by conventional methods known in the art. It does not have to go through the pretreatment step.

상기 탄소 나노 튜브는 바람직하게는 길이가 0.5 내지 30 ㎛인 것을 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는, 0.5 내지 15 ㎛인 것을 사용할 수 있다. 탄소 나노 튜브의 길이가 상기 범위 내에 있는 경우 분산성과 분산 안정성이 우수하다. 탄소 나노 튜브의 길이가 30 ㎛를 초과하는 경우 탄소 나노 튜브끼리 엉켜있기 때문에 탄소 나노 튜브의 분산이 어렵고, 분산 후에도 탄소 나노 튜브끼리 다시 뭉치는 현상이 관찰되어 분산 안정성이 감소할 수 있다. 탄소 나노 튜브의 길이가 0.5 ㎛미만인 경우, 탄소 나노 튜브의 표면적이 증가하기 때문에 도입되는 실란 화합물의 양이 증가할 뿐만 아니라 그로 인하여 콘트라스트에 악영향을 미칠 수 있다. Preferably, the carbon nanotubes may have a length of 0.5 to 30 μm, and more preferably, 0.5 to 15 μm. When the length of the carbon nanotubes is in the above range, the dispersibility and dispersion stability is excellent. When the length of the carbon nanotubes exceeds 30 μm, the carbon nanotubes are difficult to disperse because the carbon nanotubes are entangled with each other, and after the dispersion, the carbon nanotubes are again agglomerated, and dispersion stability may be reduced. If the length of the carbon nanotubes is less than 0.5 μm, the surface area of the carbon nanotubes increases, so that not only the amount of the silane compound introduced increases, but also may adversely affect the contrast.

상기 탄소 나노 튜브는 바람직하게는 외경이 1 내지 100 nm인 것을 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 5 내지 40 nm인 것을 사용할 수 있다. 상기 범위 내에서 분산성과 분산 안정성이 우수하다. Preferably, the carbon nanotubes may have an outer diameter of 1 to 100 nm, and more preferably, 5 to 40 nm. It is excellent in dispersibility and dispersion stability within the above range.

상기 탄소 나노 튜브는 탄소 나노 튜브 전체 함량에 대하여 외경이 5 내지 40 nm 이고 길이가 0.5 내지 15 ㎛인 탄소 나노 튜브를 50 내지 100 중량부로 포함할 수 있다. 상기 범위의 직경과 길이를 가진 탄소 나노 튜브를 사용하는 경우 분산성이 우수하고 이를 탄소 나노 튜브 총 함량에 대하여 상기 범위로 포함하는 경우 분산성 향상 효과가 증대한다.The carbon nanotubes may include 50 to 100 parts by weight of carbon nanotubes having an outer diameter of 5 to 40 nm and a length of 0.5 to 15 μm with respect to the total content of carbon nanotubes. When using a carbon nanotube having a diameter and the length of the above range is excellent in dispersibility, and when it is included in the above range with respect to the total content of carbon nanotubes, the effect of improving dispersibility is increased.

상기 실란 화합물을 탄소 나노 튜브에 작용기로 도입하는 과정을 설명한다. 도 1 은 탄소 나노 튜브에 실란 화합물을 작용기로 도입하는 과정을 화학 반응식으로 나타낸 모식도이다. 도 1 을 참조하면, 탄소 나노 튜브에 실란 화합물을 작용기로 도입하는 과정은 산처리 단계; 아실기 도입 단계; 및 작용기 도입 단계를 포함한다. The process of introducing the silane compound into the functional group in the carbon nanotube will be described. 1 is a schematic diagram showing a chemical reaction scheme of introducing a silane compound into a functional group into a carbon nanotube. Referring to FIG. 1, the process of introducing a silane compound into a functional group into a carbon nanotube includes an acid treatment step; Acyl group introduction step; And introducing a functional group.

상기 산처리 단계는 탄소 나노 튜브를 산(acid)과 반응시켜 카르복실 그룹이 도입된 탄소 나노 튜브를 얻는 단계이다. 이는 탄소 나노 튜브 합성시 사용된 금속 촉매 혹은 미반응 생성물인 무정형의 카본을 제거하여 탄소 나노 튜브의 순도를 향상시키는 정제 과정인 동시에 표면에 카르복실 그룹을 도입하는 과정이다. The acid treatment step is a step of obtaining a carbon nanotube to which a carboxyl group is introduced by reacting the carbon nanotube with an acid. This is a process of removing crystalline carbon, which is a metal catalyst or an unreacted product used in synthesizing carbon nanotubes, to improve the purity of the carbon nanotubes, and at the same time introducing carboxyl groups to the surface.

상기 산처리에 사용되는 산은 당업계에 알려진 것을 제한없이 사용할 수 있으나, 바람직하게는 염산, 질산 또는 황산 등의 강산을 사용할 수 있다. The acid used for the acid treatment can be used without limitation what is known in the art, preferably a strong acid such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid can be used.

구체적으로, 단일벽 또는 다중벽의 탄소 나노 튜브를 100 내지 150 ℃의 염산으로 5 내지 10 시간 동안 반응시킨 후, 산 용액에 대하여 탄소 나노 튜브가 0.05 중량부 이하로 되도록 50 내지 70 ℃의 질산/황산 혼합 용액(7:3)을 사용하여 10 내지 15 시간 동안 반응시켜 카르복실 그룹이 도입된 탄소 나노 튜브를 얻을 수 있다.Specifically, after reacting single-walled or multi-walled carbon nanotubes with hydrochloric acid at 100 to 150 ° C. for 5 to 10 hours, nitric acid at 50 to 70 ° C. to make the carbon nanotubes 0.05 parts by weight or less with respect to the acid solution. Reaction with a sulfuric acid mixed solution (7: 3) for 10 to 15 hours to obtain a carbon nanotube introduced with a carboxyl group.

상기 아실기 도입 단계는 상기 카르복실 그룹이 도입된 탄소 나노 튜브에 아실기를 도입하는 단계이다. The acyl group introduction step is to introduce an acyl group into the carbon nanotubes to which the carboxyl group is introduced.

구체적으로, 상기 카르복실 그룹이 도입된 탄소 나노 튜브를 과량의 티오닐 클로라이드(thionyl chloride, SOCl2)와 50 내지 100 ℃에서 10 내지 30 시간 동안 반응시켜 아실기가 도입된 탄소 나노 튜브를 얻을 수 있다. Specifically, the carbon nanotube to which the carboxyl group is introduced may be reacted with an excessive thionyl chloride (SOCl 2 ) at 50 to 100 ° C. for 10 to 30 hours to obtain a carbon nanotube to which the acyl group is introduced. .

상기 작용기 도입 단계는 상기 아실기가 도입된 탄소 나노 튜브를 실란 화합물과 반응시켜 실란 화합물을 작용기로 도입하는 단계이다. The functional group introduction step is a step of introducing the silane compound into the functional group by reacting the carbon nanotubes in which the acyl group is introduced with the silane compound.

구체적으로는, 아실기를 함유한 탄소 나노 튜브(CNT-COCl)를 과량의 실란 화합물과 100 내지 150 ℃에서 5 내지 30 시간 동안 반응시킨 다음, 유기 용매로 세척 및 정제 과정을 거친 후, 진공 상태에서 10 내지 30 시간 동안 상온에서 건조시 켜 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 얻을 수 있다. Specifically, the carbon nanotube (CNT-COCl) containing the acyl group is reacted with the excess silane compound at 100 to 150 ° C. for 5 to 30 hours, and then washed and purified with an organic solvent, followed by vacuum. Drying at room temperature for 10 to 30 hours to obtain a carbon nanotube in which the silane compound is introduced into the functional group.

상기 실란 화합물은 상기 화학식 1 로 표현되는 것을 사용할 수 있으며, 바람직하게는, 상기 화학식 2 로 표현되는 메톡시실란 또는 상기 화학식 3 으로 표현되는 에톡시실란을 사용할 수 있다. As the silane compound, one represented by Chemical Formula 1 may be used, and preferably, a methoxysilane represented by Chemical Formula 2 or an ethoxysilane represented by Chemical Formula 3 may be used.

상기 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브는 수지 조성물의 고형분에 대하여 0.1 내지 20 중량부로 포함될 수 있으며, 보다 바람직하게는 0.5 중량부 내지 5 중량부로 포함될 수 있다. 상기 상기 탄소 나노 튜브는 차광 기능 수행을 위해 첨가되는 흑색 안료의 일종으로 0.1 중량부 미만으로 첨가되는 경우 차광 기능을 제대로 수행하지 못할 수 있으며 차광기능을 향상시키기 위하여 블랙 매트릭스의 두께가 상승하는 문제를 가진다. 20 중량부를 초과하여 포함되는 경우, 탄소 나노 튜브를 균일하게 분산하는 것이 어렵고 조성물의 점도가 상승되어 취급이 곤란하며 패턴성이 감소할 수 있다.The carbon nanotubes into which the silane compound is introduced as a functional group may be included in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, and more preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on the solid content of the resin composition. The carbon nanotube is a kind of black pigment added to perform the light shielding function, and when added to less than 0.1 part by weight, the carbon nanotube may not properly perform the light shielding function, and may increase the thickness of the black matrix to improve the light shielding function. Have When included in an amount exceeding 20 parts by weight, it is difficult to uniformly disperse the carbon nanotubes and the viscosity of the composition may be increased, making it difficult to handle and reducing the patternability.

본 발명의 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 착색제로 상기 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하는 것 외에, 바인더 수지, 중합성 단량체, 중합 개시제 및 용제를 포함한다. The resin composition for black matrices of the present invention contains, as a colorant, carbon nanotubes into which the silane compound is introduced as a functional group, and includes a binder resin, a polymerizable monomer, a polymerization initiator, and a solvent.

상기 착색제는 차광 기능 수행을 위해 주로 흑색 안료를 사용하며 상기 흑색 안료로 본 발명의 탄소 나노 튜브와 당업계에서 통상적으로 사용되는 다른 착색 안료를 혼합하여 사용할 수도 있다. The colorant mainly uses a black pigment to perform a light shielding function, and the black pigment may be used by mixing the carbon nanotubes of the present invention with other color pigments commonly used in the art.

상기 바인더 수지는 현상과정에서 현상액과 반응하므로 바인더 수지를 포함하는 비노광 영역은 현상되어 화소공간을 형성하게 된다. 상기 바인더 수지는 당업계에 공지된 것을 제한없이 사용할 수 있으며, 바람직하게는 아크릴계 바인더 수지를 사용할 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지는 구체적으로, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레인산, 푸마르산, 2-아크릴로옥시에틸히드로겐프탈레이트, 2-아크릴로옥시프로필히드로겐프탈레이트, 2-아크릴로옥시프로필헥사히드로겐프탈레이트, 이소부틸아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 글리시딜아크릴레이트, 알킬아크릴레이트, 스테아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-히드록시아크릴레이트, 트리메톡시부틸아크릴레이트, 에틸카르비톨아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트 및 이들의 메타크릴레이트; 3-플루오로에틸아크릴레이트, 4-플루오로프로필아크릴레이트와 같은 할로겐 화합물을 포함하는 아크릴레이트 및 이들의 메타크릴레이트; 및 트리에틸실록실에틸아크릴레이트와 같은 실록산기를 포함하는 아크릴레이트 및 이들의 메타크릴레이트로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1종 이상을 중합하여 형성된 것일 수 있다.Since the binder resin reacts with the developing solution during development, the non-exposed areas including the binder resin are developed to form pixel spaces. The binder resin may be used without limitation those known in the art, preferably acrylic binder resin may be used. Specifically, the acrylic binder resin may include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, 2-acryloxyethyl hydrogen phthalate, 2-acryloxypropyl hydrogen phthalate, and 2-acryloxypropyl hexahydrogen. Phthalate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, lauryl acrylate, glycidyl acrylate, alkyl acrylate, steacrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, benzyl acrylate, 2-hydroxy Acrylate, trimethoxybutyl acrylate, ethylcarbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl Acrylates, 2-hydroxy-3-phenoxypropylacrylates and their methacrylates; Acrylates including halogen compounds such as 3-fluoroethyl acrylate and 4-fluoropropyl acrylate and methacrylates thereof; And it may be formed by polymerizing at least one selected from the group consisting of acrylates and methacrylates thereof including siloxane groups such as triethylsiloxane ethyl acrylate.

상기 중합성 단량체는 광중합 개시제 또는 열중합 개시제에 의하여 중합 반응이 이루어져 중합체를 형성할 수 있는 화합물로, 광중합성 단량체 및 열중합성 단량체를 모두 포함한다. 상기 중합성 단량체는 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 이들을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는, 2 개 이상의 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 단량체를 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는, 5 개 이상의 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 단량체를 사용할 수 있다. 상기 5 개 이상의 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 단량체는 열경화후 가교밀도가 높아서 고열 및 각종 용제로부터 안정한 박막을 형성할 수 있다. 상기 중합성 단량체는 구체적으로, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,3-부탄디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 트리에틸롤프로판트리아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 디트리메틸롤프로판테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥실아크릴레이트 및 이들의 메타크릴레이트 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. The polymerizable monomer is a compound capable of forming a polymer by a polymerization reaction by a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator, and includes both a photopolymerizable monomer and a thermopolymerizable monomer. As said polymerizable monomer, a monofunctional monomer, a bifunctional monomer, or a polyfunctional monomer can be used, These can be used individually or in mixture of 2 or more types. Preferably, the (meth) acrylate monomer which has two or more functional groups can be used, More preferably, the (meth) acrylate monomer which has five or more functional groups can be used. The (meth) acrylate monomer having five or more functional groups has a high crosslinking density after thermosetting, thereby forming a stable thin film from high heat and various solvents. Specific examples of the polymerizable monomer include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and triethylol. Propanetriacrylate, trimethylolpropanetriacrylate, pentaerythritol triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexyl acrylate, and their meta It is possible to use alone or mixtures thereof selected from the group consisting of acrylate monomers.

상기 중합 개시제는 광중합 개시제 또는 열중합 개시제, 모두를 사용할 수 있다. 상기 광중합 개시제는 포토 마스크를 이용한 노광 공정시 노광 영역에서 광에 반응하여 라디칼을 형성한다. 상기 라디칼은 상기 광중합 단량체의 중합을 위한 중합 개시제로 작용하여 상기 광중합 단량체가 중합 반응을 수행하도록 한다.As said polymerization initiator, both a photoinitiator and a thermal polymerization initiator can be used. The photopolymerization initiator forms radicals in response to light in an exposure area during an exposure process using a photo mask. The radical acts as a polymerization initiator for the polymerization of the photopolymerization monomer so that the photopolymerization monomer performs a polymerization reaction.

상기 중합 개시제는 당업계에 공지된 것이 제한없이 사용될 수 있으며, 구체적으로는 아세토페논계 화합물, 크산톤계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물 또는 트리아진계 화합물 등이 사 용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 중합 개시제는 단독 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The polymerization initiator may be used without limitation, those known in the art, specifically, acetophenone compounds, xanthone compounds, imidazole compounds, biimidazole compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds or triazines Compounds and the like may be used, but are not limited thereto. In addition, the said polymerization initiator can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 중합 개시제의 구체적인 예로는, 2,4-비스트리클로로메틸-6-p- 메톡시스티릴-s-트리아진, 2-p-메톡시스티릴-4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-4-메틸나프틸-6-트리아진, 벤조페논, p-(디에틸아미노)벤조페논, 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로리오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, 2-메틸티오크산톤, 2-이소부틸티오크산톤, 2-도데실티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,2-비스-2-클로로페닐-4,5,4,5-테트라페닐-2-1,2-비이미다졸, 2,2′-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4′,5,5′-테트라페닐비이미다졸, 2,2′-비스(2-클로로페닐)-4,4′,5,5′-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2′-비스(2-클로로페닐)-4,4′,5,5′-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4′,5,5′ 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등이 있으며, 바람직하게는 2,2′-비스(2-클로로페닐)-4,4′,5,5′-테트라페닐비이미다졸 또는 2,2′- 비스(2,3-디클로로페닐)-4,4′,5,5′-테트라페닐비이미다졸, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등이 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 열중합 개시제는 아조계 화합물로 와코사(Wako Pure chemical Industris. Ltd.)의 아조 니트릴계인 V-60, V-65, V-59, V-70, V-40과 아조 에스터계인 V-601, 아조 아미드계인 VA-086, VA-085, VA-080, Vam-110, Vam-111, VF-096, 아조 아미딘계인 V-50, VA-044, VA-046B, Aam-027, VA-060, VA-057, VA-061, 매크로아조계 개시제인 VPS-0501, VPS-1001, VPE-0201, VPE-0401, VPE-0601, VPTG-0301 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the polymerization initiator include 2,4-bistrichloromethyl-6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2-p-methoxystyryl-4,6-bistrichloromethyl-s -Triazine, 2,4-trichloromethyl-6-triazine, 2,4-trichloromethyl-4-methylnaphthyl-6-triazine, benzophenone, p- (diethylamino) benzophenone, 2 , 2-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylproriophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, 2-methyl thioxanthone, 2-isobutyl thioxanthone, 2-dodecyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,2-bis-2-chloro Phenyl-4,5,4,5-tetraphenyl-2-1,2-biimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl Biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4 , 4 ', 5,5'-tetra (tree Coxiphenyl) biimidazole, the imidazole compound by which the phenyl group in 4,4 ', 5, 5' position is substituted by the carboalkoxy group, etc., Preferably 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole or 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, benzoin , Benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof. The thermal polymerization initiator is an azo compound, V-60, V-65, V-59, V-70, V-40, which are azo nitrile, and Wako Pure Chemical Industris. Ltd., and V-601, which are azo esters. , VA-086, VA-085, VA-080, Vam-110, Vam-111, VF-096, azo amide-based V-50, VA-044, VA-046B, Aam-027, VA- 060, VA-057, VA-061, VPS-0501, VPS-1001, VPE-0201, VPE-0401, VPE-0601, VPTG-0301, which are macroazo initiators, may be used, but are not limited thereto.

상기 용제는 본 발명의 기술분야에서 통상적으로 사용하는 것이라면 어떠한 것이라도 제한 없이 사용할 수 있으며, 각종 유기 용제를 사용할 수 있다.The solvent may be used without any limitation as long as it is commonly used in the technical field of the present invention, and various organic solvents may be used.

상기 유기 용제의 구체적인 예로는 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 디프로필렌글리콜 n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 n-부틸에테르, 프로필렌글리콜페닐에테르 등의 알킬렌글리콜알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 아세테이트류; 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트,프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥사놀, 에틸렌글리콜, 1,3-부틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로 피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등이 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the organic solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether Diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol n-butyl ether, tripropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol n-butyl ether, propylene glycol phenyl ether, and the like. Alkylene glycol alkyl ethers; Acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, 1,3-butylene glycol diacetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; Alkylene glycol alkyl ethers such as diethylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ethyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monopropyl ether acetate Acetates; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, 1,3-butylene glycol, glycerin; Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; Cyclic esters, such as (gamma) -butyrolactone, etc., These can be used individually or in combination of 2 or more types.

또한, 본 발명의 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 상기 성분 외에 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위내에서 당업계에 공지된 첨가제를 포함할 수 있다. 예를 들어, 당업자의 필요에 따라 충진제, 계면 활성제, 고분자 화합물, 밀착 촉진제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.In addition, the resin composition for black matrices of the present invention may include additives known in the art within the range not impairing the object of the present invention in addition to the above components. For example, additives such as fillers, surfactants, polymer compounds, adhesion promoters, etc. may be further included as required by those skilled in the art.

상기 충진제의 구체적인 예로는, 유리, 실리카, 알루미나 등을 들 수 있다.Specific examples of the filler include glass, silica, alumina and the like.

상기 계면 활성제로는 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. 상기 계면 활성제로는, 예를 들면 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜 디에스테르류, 소르비탄 지방상 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW, 교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP, 토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC, 다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad, 스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플론(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE, 제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다.As said surfactant, surfactant, such as silicone type, a fluorine type, ester type, cationic type, anionic type, nonionic type, and amphoteric, etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. As said surfactant, For example, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyethylene glycol diester, sorbitan fatty ester, fatty acid modified polyester, tertiary amine modified polyurethane , Polyethyleneimine, etc., and KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyflow (POLYFLOW, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-Top (EFTOP, Tochem Products), Mega Pack (MEGAFAC, manufactured by Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.), Florad (Flourad, manufactured by Sumitomo 3M Corporation), Asahi guard, Suflon (manufactured by Asahi Glass, Ltd.), Solsper And Geneva Co., Ltd., EFKA (manufactured by EFKA Chemicals Co., Ltd.), PB 821 (manufactured by Ajinomoto Co., Ltd.), and the like.

상기 고분자 화합물의 구체적인 예로는, 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지; 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of the polymer compound include curable resins such as epoxy resins and maleimide resins; Thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyurethane, and the like.

상기 밀착 촉진제의 구체적인 예로는, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.Specific examples of the adhesion promoter include vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2 -(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyl Trimethoxysilane etc. are mentioned.

이하, 본 발명의 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 이용한 블랙 매트릭스 제조 방법에 대해 설명한다. Hereinafter, the black matrix manufacturing method using the resin composition for black matrices of this invention is demonstrated.

본 발명의 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 이용한 블랙 매트릭스는 포토리소그래피, 인쇄법 또는 잉크젯 방식 등 당업계에 공지된 방법에 의해 제조될 수 있으며, 구체적으로 상기 블랙 매트릭스 제조 방법은 블랙 매트릭스층 형성 단계; 및 경화 단계를 포함한다. 또한, 상기 경화 단계 후에 현상 단계를 더 포함할 수 있다. The black matrix using the resin composition for black matrix of the present invention may be prepared by a method known in the art, such as photolithography, printing method or inkjet method, and specifically, the black matrix manufacturing method comprises the steps of forming a black matrix layer; And a curing step. In addition, the curing step may further include a developing step.

상기 블랙 매트릭스층 형성 단계는 기판 상에 상기 본 발명의 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 도포하여 블랙 매트릭스층을 형성하는 단계이다. The forming of the black matrix layer is a step of forming a black matrix layer by applying a resin composition for a black matrix including carbon nanotubes into which the silane compound of the present invention is introduced as a functional group on a substrate.

상기 기판은 당업계에 공지된 것이 제한없이 사용될 수 있으나, 구체적으로 유리, 트리아세틸셀룰로오스(triacetylcellulose;TAC), 폴리카보네이트(polycarbonate;PC), 폴리에테르설폰(polyethersulfone;PES), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethyleneterephthalate;PET),폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate;PEN), 폴리비닐알코올(polyvinylalcohol;PVA), 폴리메틸메타아크릴레이트(polymethylmethacrylate;PMMA) 또는 시클로올레핀 폴리머(cyclo-olefin polymer;COP)일 수 있다. 본 발명의 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하여 기판과의 접착력이 향상된다. 탄소 나노 튜브의 작용기와 기판과의 반응은 도 2 에 나타내었다. 도 2 에 의하면, 탄소 나노 튜브 표면의 실란 작용기와 기판의 히드록시기 등이 반응하여 접착력이 향상될 수 있다. The substrate may be used without limitation as is known in the art, specifically, glass, triacetylcellulose (TAC), polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), polyethylene terephthalate (polyethyleneterephthalate ; PET, polyethylenenaphthalate (PEN), polyvinylalcohol (PVA), polymethylmethacrylate (PMMA) or cyclo-olefin polymer (COP). The resin composition for black matrices of the present invention includes carbon nanotubes into which a silane compound is introduced as a functional group, thereby improving adhesion to the substrate. The reaction between the functional group of the carbon nanotubes and the substrate is shown in FIG. 2. Referring to FIG. 2, the adhesion between the silane functional groups on the surface of the carbon nanotubes and the hydroxyl group of the substrate may be improved.

상기 본 발명의 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 침지, 분무, 슬릿, 회전, 스핀, 잉크젯 방식 또는 인쇄법 등 당업계에 공지된 방법에 의해 기판 위에 도포될 수 있다. 상기 잉크젯 방식은 상기 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 잉크젯 분사기에 주입하여 기판의 소정 영역에 프린팅하는 방식으로, 구체적으로는 잉크젯 분사기의 일례인 피에조 잉크젯 헤드로부터 본 발명의 블랙 매트릭스용 수지 조성물이 분사되어 기판 위에 적절한 상(phase)을 형성할 수 있다. 상기 인쇄법은 오프셋 인쇄법 등에 의해 본 발명의 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 기판 상에 인쇄하는 방법이다. 상기 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 도포 후, 건조할 수 있으며, 건조는 50 내지 150 ℃의 온도로 가열 처리하여 용제를 휘발시키거나 상온에서 방치하여 용제가 휘발되도록 하는 방법으로 수행할 수 있다. The resin composition for a black matrix of the present invention may be applied onto a substrate by a method known in the art, such as dipping, spraying, slit, rotation, spin, inkjet printing or printing. The inkjet method is a method in which the resin composition for black matrix is injected into an inkjet injector and printed on a predetermined area of the substrate. Specifically, the resin composition for black matrix of the present invention is sprayed from a piezo inkjet head which is an example of an inkjet injector. A suitable phase can be formed on the stomach. The said printing method is the method of printing the resin composition for black matrices of this invention on a board | substrate by the offset printing method etc .. After applying the resin composition for the black matrix, it may be dried, drying may be carried out by heating to a temperature of 50 to 150 ℃ to volatilize the solvent or to stand at room temperature to volatilize the solvent.

상기 경화 단계는 상기 블랙 매트릭스층에 광 또는 열을 가하여 경화시키는 단계이다. 포토리소그래피법을 사용하는 경우 상기 경화 단계에서 상기 블랙 매트릭스층에 포토마스크를 개재하고 광을 조사하여 경화할 수 있다. 이 때 상기 블랙 매트릭스층은 광에 노출된 노광 영역과 광에 노출되지 않은 비노광 영역을 포함하며, 노광 영역에서는 광중합 개시제가 광을 공급받아 라디칼을 형성하며 광중합 단량체가 중합되면서 경화된다. 상기 조사되는 광은 바람직하게는 UV가 사용될 수 있다. 잉크젯 방식 또는 인쇄법을 사용하는 경우, 150 내지 250 ℃의 온도로 가열하거나 광을 조사하여 경화시켜 블랙 매트릭스를 형성할 수 있다. The curing step is a step of curing by applying light or heat to the black matrix layer. When the photolithography method is used, the black matrix layer may be cured by irradiating light with a photomask interposed therebetween in the curing step. In this case, the black matrix layer includes an exposed area exposed to light and a non-exposed area not exposed to light. In the exposed area, the photopolymerization initiator receives light to form radicals, and the photopolymerization monomer is polymerized and cured. The irradiated light may preferably be UV. When using an inkjet method or a printing method, it is possible to form a black matrix by heating to a temperature of 150 to 250 ℃ or by irradiation with light.

상기 현상 단계는 상기 광을 조사하여 경화시킨 블랙 매트릭스층에 현상액을 공급하여 현상하고 수세하는 단계이다. 현상되는 부분은 상기 광경화 단계에서 비노광된 부분이다. 현상은 바람직하게는 30 내지 100 초 동안 수행될 수 있으며, 현상 후 약 10 내지 20 초 동안 수세하여 블랙 매트릭스를 형성할 수 있다. 잉크젯 방식 또는 인쇄법을 사용하는 경우 상기 현상 단계가 불필요하다. 상기 잉크젯 방식과 인쇄법은 원하는 부분에만 수지 조성물을 분사하여 건조하는 과정을 거쳐, 광경화 또는 열경화하여 블랙 매트릭스를 구현하는 기술로 비교적 단순한 과정을 거쳐 원하는 형태의 구조를 제조할 수 있어서 제조 공정, 시간 및 비용이 크게 절감될 수 있을 뿐만 아니라 특정량의 잉크를 분사하여 원하는 막두께를 만족시킬 수 있다.The developing step is a step of developing and washing by supplying a developing solution to the black matrix layer cured by irradiating the light. The developed part is an unexposed part in the photocuring step. The development may preferably be performed for 30 to 100 seconds, and may be washed with water for about 10 to 20 seconds after development to form a black matrix. The above development step is unnecessary when using the inkjet method or the printing method. The inkjet method and the printing method are a process of spraying a resin composition only on a desired portion to dry it, and a technique of implementing a black matrix by photocuring or thermosetting. In addition, the time and cost can be greatly reduced, and a desired amount of ink can be sprayed to satisfy the desired film thickness.

이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 이는 본 발명의 설명을 위한 것일 뿐, 이로 인해 본 발명의 범위가 제한되지 않는다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. This is for the purpose of illustrating the invention only, and thus the scope of the invention is not limited.

<< 제조예Manufacturing example 1>  1> 실란Silane 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브의 제조 ( Preparation of carbon nanotubes in which a compound is introduced into a functional group ( SiSi -- MWCNTMWCNT 6h) 6h)

다중벽 탄소 나노 튜브(길이 7 ㎛, 외경 20 nm)를 120 ℃의 염산으로 5 내지 7시간 동안 반응시킨 후, 60 ℃의 질산/황산 혼합 용액(7:3)으로 12시간 동안 반응시켜 카르복실 그룹이 도입된 탄소 나노 튜브를 얻었다. 이를 과량의 SOCl2 와 70 ℃에서 24시간 동안 반응시켜 아실기를 함유한 다중벽 탄소 나노 튜브(MWCNT-COCl)를 얻었다. 이어서, 상기 아실기를 함유한 MWCNT-COCl를 과량의 3-아미노프로필트리메톡시실란과 120 ℃에서 6 시간 동안 반응시킨 다음 유기용제로 세척과정과 정제과정을 거쳤다. 이와 같이 하여 얻어진 탄소 나노 튜브를 진공상태에서 24시간 동안 상온에서 건조 시켜 실란 작용기가 탄소 나노 튜브에 대하여 10 중량부로 도입된 탄소 나노 튜브를 얻었다.The multi-walled carbon nanotubes (length 7 μm, outer diameter 20 nm) were reacted with hydrochloric acid at 120 ° C. for 5 to 7 hours, and then reacted with a nitric acid / sulfuric acid mixed solution (7: 3) at 60 ° C. for 12 hours to be carboxyl. Carbon nanotubes into which groups were introduced were obtained. This was reacted with an excess of SOCl 2 for 24 hours at 70 ℃ to obtain a multi-walled carbon nanotube (MWCNT-COCl) containing an acyl group. Subsequently, the acyl group-containing MWCNT-COCl was reacted with an excess of 3-aminopropyltrimethoxysilane at 120 ° C. for 6 hours, followed by washing and purification with an organic solvent. The carbon nanotubes thus obtained were dried at room temperature in a vacuum for 24 hours to obtain carbon nanotubes in which silane functional groups were introduced at 10 parts by weight relative to the carbon nanotubes.

<< 제조예Manufacturing example 2>  2> 실란Silane 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브의 제조 ( Preparation of carbon nanotubes in which a compound is introduced into a functional group ( SiSi -- MWCNTMWCNT 12h)  12h)

상기 제조예 1 에서 아실기를 함유한 MWCNT-COCl를 과량의 3-아미노프로필 트리메톡시실란과 120 ℃에서 12 시간 동안 반응시켜 실란 작용기가 탄소 나노 튜브에 대하여 20 중량부로 도입된 탄소 나노 튜브를 얻는 것을 제외하고 상기 제조예 1 과 동일한 방법으로 탄소 나노 튜브를 제조하였다. MWCNT-COCl containing an acyl group in Preparation Example 1 was reacted with an excess of 3-aminopropyl trimethoxysilane at 120 ° C. for 12 hours to obtain a carbon nanotube having 20 parts by weight of the silane functional group introduced thereto. Carbon nanotubes were prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that.

<< 제조예Manufacturing example 3>  3> 실란Silane 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브의 제조 ( Preparation of carbon nanotubes in which a compound is introduced into a functional group ( SiSi -- MWCNTMWCNT 24h) 24h)

상기 제조예 1 에서 아실기를 함유한 MWCNT-COCl를 과량의 3-아미노프로필 트리메톡시실란과 120 ℃에서 24 시간 동안 반응시켜 실란 작용기가 탄소 나노 튜브에 대하여 30 중량부로 도입된 탄소 나노 튜브를 얻는 것을 제외하고 상기 제조예 1 과 동일한 방법으로 탄소 나노 튜브를 제조하였다.In Example 1, MWCNT-COCl containing an acyl group was reacted with an excess of 3-aminopropyl trimethoxysilane at 120 ° C. for 24 hours to obtain a carbon nanotube in which a silane functional group was introduced at 30 parts by weight relative to the carbon nanotube. Carbon nanotubes were prepared in the same manner as in Preparation Example 1, except that.

<< 실시예Example 1 내지 15> 블랙 매트릭스용 수지 조성물의 제조 1 to 15> Preparation of Resin Composition for Black Matrix

하기 표 1 및 2 의 조성으로 당업계에 공지된 통상의 방법으로 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 제조하였다. 상기 제조예 1 내지 3 에서 제조한 실란 함량이 각기 다른 실란 도입 탄소 나노 튜브를 전체 조성물에 대해 0.205 중량부, 0.41 중량부 및 0.82 중량부로 첨가하였으며 이는 고형분에 대하여 0.5 중량부, 1 중량부 및 2.0 중량부이다. 분산제(Disperbyk-9077, BYK chemi사)는 전체 조성물에 대하여 1 중량부 첨가하였다. 조성물을 적절하게 분산하기 위하여 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)에 넣고 초음파로 분산시켜 제조하였다. 실시예 10 내지 실시예 11 는 탄소 나노 튜브의 함량을 고형분에 대하여 0.05 중량부, 5 중량부로 첨가하는 것을 제외하고 상기 실시예 1 내지 실시예 9 와 동일한 방법으로 조성물을 제조하였다. 실시예 12 의 경우 탄소 나노 튜브의 함량이 증가됨에 따라 분산제의 함량을 조성물 대비 3 중량부로 증가하는 것을 제외하고 실시예 10 내지 실시예 11과 동일한 방법으로 조성물을 제조하였다. 실시예 13 내지 실시예 15에서 탄소 나노 튜브의 길이와 외경을 각각 다른 탄소 나노 튜브를 사용하는 것을 제외하고 상기 실시예와 동일한 방법으로 조성물을 제조하였다. 하기 표 1 및 2 의 단위는 중량부이며, 탄소 나노 튜브의 함량은 고형분 대비 함량을 병기하였다. The resin compositions for black matrices were prepared by conventional methods known in the art in the compositions of Tables 1 and 2 below. The silane-introduced carbon nanotubes having different silane contents prepared in Preparation Examples 1 to 3 were added in an amount of 0.205 parts by weight, 0.41 parts by weight and 0.82 parts by weight based on the total composition, which were 0.5 parts by weight, 1 parts by weight and 2.0 parts by weight. Parts by weight. Dispersant (Disperbyk-9077, BYK chemi) was added 1 part by weight based on the total composition. In order to properly disperse the composition, it was prepared by dispersing in propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) ultrasonically. Examples 10 to 11 were prepared in the same manner as in Examples 1 to 9, except that the carbon nanotubes were added in an amount of 0.05 parts by weight and 5 parts by weight with respect to the solids. For Example 12, the composition was prepared in the same manner as in Examples 10 to 11 except that the content of the dispersant was increased to 3 parts by weight with respect to the composition as the carbon nanotube content was increased. In Example 13 to Example 15, the composition was prepared in the same manner as in Example, except that carbon nanotubes having different lengths and outer diameters of carbon nanotubes were used. The units of Tables 1 and 2 are parts by weight, and the content of the carbon nanotubes was written together with respect to the solid content.

Figure 112009077161555-PAT00005
Figure 112009077161555-PAT00005

Figure 112009077161555-PAT00006
Figure 112009077161555-PAT00006

1) 바인더 수지: (S-69, 애경) 고형분 35 중량부(wt%)/PGMEA 65 중량부(wt%)1) Binder Resin: (S-69, Aekyung) Solids 35 parts by weight (wt%) / PGMEA 65 parts by weight (wt%)

2) 카도계 수지 ((WR-101, 아데카사)2) Cardo resin ((WR-101, Adeca)

3) 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심) (Irgacure OXE02; 시바사)3) ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) (Irgacure OXE02; Sivasa)

4) 분산제: Disperbyk-9077, BYK chemi사4) Dispersant: Disperbyk-9077, BYK chemi

<< 비교예Comparative example 1 내지 3> 블랙 매트릭스용 수지 조성물의 제조 1 to 3> Preparation of Resin Composition for Black Matrix

상기 실시예와 동일한 방법으로 하기 표 3 의 조성으로 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 제조하였다. 하기 탄소 나노 튜브 분산 용액은 실란 작용기가 도입된 탄소 나노 튜브가 아닌 다중벽 탄소 나노 튜브를 사용하는 점을 제외하고는 상기 실시예와 동일한 방법으로 제조한 것이며, 탄소 나노 튜브의 함량은 전체 조성물에 대한 중량부로 탄소 나노 튜브 분산 용액의 제조시 조절하였다. 하기 표 3 의 단위는 중량부이며, 탄소 나노 튜브의 함량은 고형분 대비 함량을 병기하였다.In the same manner as in the above Example, a resin composition for a black matrix was prepared using the composition shown in Table 3 below. The following carbon nanotube dispersion solution was prepared in the same manner as in the above example, except that the multi-walled carbon nanotubes were used instead of the carbon nanotubes to which the silane functional groups were introduced. It was adjusted in the preparation of the carbon nanotube dispersion solution in parts by weight. In Table 3, the unit is parts by weight, and the content of the carbon nanotubes is written together with respect to the solid content.

Figure 112009077161555-PAT00007
Figure 112009077161555-PAT00007

1) 바인더 수지: (S-69, 애경) 고형분 35 중량부(wt%)/PGMEA 65 중량부(wt%)1) Binder Resin: (S-69, Aekyung) Solids 35 parts by weight (wt%) / PGMEA 65 parts by weight (wt%)

2) 에타논-1-[9-에틸-6-(2-메틸-4테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9H-카바졸-3-일]-1-(O-아세틸옥심) (Irgacure OXE02; 시바사)2) ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) (Irgacure OXE02; Sivasa)

3) 분산제: Disperbyk-9077, BYK chemi사3) Dispersant: Disperbyk-9077, BYK chemi

<< 실험예Experimental Example 1> 탄소 나노 튜브의 관찰 1> Observation of Carbon Nanotubes

상기 제조예 1 에서 제조된 탄소 나노 튜브를 투과전자현미경(TEM)으로 관찰하였다. 투과전자현미경은 JEOL사의 JEM-2100F 모델을 사용하여 100kV의 가속전압에서 관찰 하였다. 그 결과는 도 3 과 같다. The carbon nanotubes prepared in Preparation Example 1 were observed with a transmission electron microscope (TEM). Transmission electron microscope was observed at 100kV acceleration voltage using JEOL JEM-2100F model. The result is shown in FIG. 3.

도 3 에 의하면, 순수한 탄소 나노 튜브의 표면은 매끈한 반면, 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브의 경우 표면이 코팅되어 있는 것을 확인할 수 있다. According to FIG. 3, the surface of the pure carbon nanotubes is smooth, whereas the surface of the carbon nanotubes into which the silane compound is introduced as a functional group is coated.

<< 실험예Experimental Example 2>  2> 실란Silane 작용기 도입의 확인 Confirmation of functional group introduction

상기 제조예 1 에서 제조된 탄소 나노 튜브에 실란 작용기 도입 여부를 주사전자현미경 에너지분산형분석기(FESEM, S-4300SE, Hitachi, Japan)를 사용하여 분석하였다. 가속전압은 15kV의 조건에서 분석하였으며 시편은 원통형에 알루미늄 holder에 카본테이프를 사용하여 고정하였으며 증착 장비(Ion sputter, E-1030, Hitachi, Japan)를 사용하여 백금(Pt)로 120초간 코팅 후 시편을 준비하였다. 그 결과는 도 4 와 같다. The introduction of silane functional groups into the carbon nanotubes prepared in Preparation Example 1 was analyzed using a scanning electron microscope energy dispersive analyzer (FESEM, S-4300SE, Hitachi, Japan). Acceleration voltage was analyzed under the condition of 15kV. The specimens were fixed in a cylindrical shape using carbon tape on an aluminum holder, and then coated with platinum (Pt) for 120 seconds using deposition equipment (Ion sputter, E-1030, Hitachi, Japan). Was prepared. The result is shown in FIG.

도 4 에 의하면, Si 원소 피크가 관찰되어 탄소 나노 튜브의 표면에 실란 작용기가 도입되었음을 알 수 있다. According to FIG. 4, it can be seen that an elemental peak of Si was observed to introduce a silane functional group to the surface of the carbon nanotube.

<< 실험예Experimental Example 3> 도입된  3> introduced 실란Silane 작용기의 함량 분석 Content Analysis of Functional Groups

상기 제조예 1 내지 3 에서 제조한 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브에서 도입된 실란 화합물의 함량을 열중량 분석기(TGA, TA instrument, Q50, UK)를 사용하여 확인하였다. 상온에서 900 ℃까지 분석하였으며 질소기류하에서 알킬그룹의 함량을 확인한 뒤, 공기기류하에 탄소나노튜브를 제거하고 SiO2의 함량을 통해서 계산하였다. 그 결과는 도 5 에 나타내었다. The content of the silane compound introduced in the carbon nanotubes in which the silane compounds prepared in Preparation Examples 1 to 3 were introduced into the functional group was confirmed using a thermogravimetric analyzer (TGA, TA instrument, Q50, UK). After analysis at room temperature up to 900 ℃ and after confirming the content of the alkyl group in the nitrogen stream, the carbon nanotubes were removed under the air stream and calculated through the content of SiO 2 . The results are shown in FIG.

도 5 에 의하면, 제조예 1 내지 3 에서 제조된 탄소 나노 튜브는 각각 10 중량부, 20 중량부 및 30 중량부의 중량 감소가 확인 되었으며 이는 각각 실란 화합물이 탄소 나노 튜브에 대하여 각각 13 중량부, 26 중량부 및 39 중량부로 도입되었음을 알 수 있다.According to FIG. 5, the carbon nanotubes prepared in Preparation Examples 1 to 3 were found to have a weight reduction of 10 parts by weight, 20 parts by weight, and 30 parts by weight, respectively. It can be seen that it is introduced in parts by weight and 39 parts by weight.

<< 실험예Experimental Example 4>  4> 현상성Developability 및 기판과의 밀착성 평가  And evaluation of adhesion with the substrate

유리 기판에 상기 실시예 1 및 비교예 1 에서 제조된 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 도포하여 1.5 ㎛의 두께로 코팅하였다. 이때 도포된 코팅의 두께는 코팅기의 속도를 조절하여 일정하게 유지시켰다. 그 후, 이를 상온에서 5분간 방치하여 용제를 제거하였다. 용제가 제거된 블랙 매트릭스용 조성물이 코팅된 유리 기판을 40 mJ/cm2 로 UV를 조사하여 경화시켜 고정층과 비고정층을 형성하고 현상과정과 수세과정을 거쳐 블랙 매트릭스를 제조하였다. 이 때, 현상시간은 80초, 수세시간 10초의 조건으로 다음의 기준으로 현상성을 평가하여 그 결과는 하기 표 4 에 나타내었다.The resin composition for the black matrix prepared in Example 1 and Comparative Example 1 was applied to a glass substrate and coated with a thickness of 1.5 μm. At this time, the thickness of the applied coating was kept constant by adjusting the speed of the coating machine. After that, at room temperature The solvent was removed by leaving for 5 minutes. The glass substrate coated with the composition for removing the solvent-free black matrix was cured by UV irradiation at 40 mJ / cm 2 to form a fixed layer and a non-fixed layer, and a black matrix was manufactured by developing and washing with water. At this time, the developing time is 80 seconds, the washing time 10 seconds under the conditions of the following evaluation of the developability and the results are shown in Table 4 below.

Figure 112009077161555-PAT00008
Figure 112009077161555-PAT00008

×: 불량, △: 보통(양호), ○:양호, ◎:매우 좋음×: Poor, △: Normal (good), ○: Good, ◎: Very good

상기 표 4 에 의하면, 본 발명의 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하는 실시예의 경우 선 뜯김 현상이 나타나지 않아 현상성이 우수함을 알 수 있다. According to Table 4, in the case of the embodiment including the carbon nanotubes in which the silane compound of the present invention is introduced into the functional group, it is understood that the wire tearing phenomenon does not appear and developability is excellent.

또한, Keyence사의 Surface shape measurement microscope VF-7500 모델을 사용하여 1250배율에서 확인하여 도 6 및 도 7 에 나타내었다. 도 6 은 비교예 1 의 조성물을 사용하여 제조한 블랙 매트릭스의 현상 후의 모습이며, 도 7 은 실시예 1 의 조성물을 사용하여 제조된 블랙 매트릭스의 현상 후의 모습니다. In addition, it was confirmed at 1250 magnification using a Surface shape measurement microscope VF-7500 model of Keyence is shown in Figures 6 and 7. FIG. 6 is a state after development of a black matrix prepared using the composition of Comparative Example 1, and FIG. 7 is a state after development of a black matrix produced using the composition of Example 1. FIG.

도 6 및 도 7 에 의하면, 실란 작용기가 도입되지 않은 다중벽 탄소 나노 튜브를 포함하는 조성물의 경우 기판과의 접착력이 나빠 노광부의 고정층까지 제거되어 균일한 패턴이 형성되지 못하였으며 현상성이 좋지 못하였다. 반면에, 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하는 조성물을 사용한 경우 기판과의 접착력 및 현상성이 우수하여 균일하고 미세한 패턴을 얻을 수 있었다. 6 and 7, in the case of the composition including the multi-walled carbon nanotubes into which the silane functional groups are not introduced, the adhesion to the substrate is poor, and thus, even the fixed layer of the exposed part is removed, thereby preventing the formation of a uniform pattern and poor developability. It was. On the other hand, in the case of using the composition including the carbon nanotubes in which the silane compound is introduced as a functional group, the adhesion and developability with the substrate were excellent, thereby obtaining a uniform and fine pattern.

실시예 10 내지 실시예 12에서 탄소 나노 튜브의 함량이 고형분에 대하여 0.05 중량부이거나 5.0 중량부인 경우에 현상성이 보통으로 측정되었다. 또한 탄소 나노 튜브의 외경이 적거나(실시예 13: 길이 7㎛, 외경 5 nm) 혹은 클 경우(실시예 14: 길이 7 ㎛, 외경 100 nm) 혹은 길이가 긴 경우(실시예 15: 길이 30 ㎛, 외경 20 nm) 실시예 9(Si-MWCNT 24h: 길이 7um, 외경 20 nm)와 비교하여 현상 성능이 떨어지는 것을 알 수 있다. In Examples 10 to 12, developability was usually measured when the content of the carbon nanotubes was 0.05 parts by weight or 5.0 parts by weight relative to the solids. In addition, when the outer diameter of the carbon nanotube is small (Example 13: length 7 mu m, outer diameter 5 nm) or large (Example 14: length 7 mu m, outer diameter 100 nm) or when the length is long (Example 15: length 30 Μm, outer diameter 20 nm) It is understood that the developing performance is inferior to Example 9 (Si-MWCNT 24h: length 7um, outer diameter 20 nm).

<< 실험예Experimental Example 5> 전기전도도의 측정 5> Measurement of electrical conductivity

상기 실시예 1 내지 9 및 비교예 1 내지 3 의 조성물로 상기 실험예 4 의 현상성 평가와 동일한 방법으로 블랙 매트릭스를 제조하여 이의 전기전도도를 측정하였다. 전기전도도의 측정은 Hiresta-UP MCP-HT450, Mitsubishi Chemical, Japan의 제품을 사용하여 4 지침법 (4 probe method)를 사용하여 측정하였다. 그 결과는 도 8 에 나타내었다. Black matrices were prepared in the same manner as in the evaluation of developability of Experimental Example 4 using the compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3, and their electrical conductivity was measured. The electrical conductivity was measured using a four probe method using a product of Hiresta-UP MCP-HT450, Mitsubishi Chemical, Japan. The results are shown in FIG.

도 8 에 의하면, 다중벽 탄소 나노 튜브의 함량이 0 에서 2 중량부(wt%)로 증가함에 따라 블랙 매트릭스의 전기 저항이 2.5×1016 에서 2.8×108 Ω/cm2으로 떨어져 전기전도성이 크게 증가하는 것을 확인할 수 있다. 그러나, 실란 작용기가 도입된 제조예 1 내지 3 의 탄소 나노 튜브를 포함하는 블랙 매트릭스용 조성물로 형성된 블랙 매트릭스의 경우 탄소 나노 튜브의 함량이 0 에서 2 중량부로 증가함에 따라 전기 저항이 완만하게 감소하는 거동을 보였으며, 도입된 실란 화합물의 함량이 증가함에 따라 전기 저항이 감소 비율이 작았다. Referring to FIG. 8, as the content of the multi-walled carbon nanotubes increased from 0 to 2 parts by weight (wt%), the electrical resistance of the black matrix dropped from 2.5 × 10 16 to 2.8 × 10 8 Ω / cm 2, resulting in electrical conductivity. It can be seen that the increase significantly. However, in the case of the black matrix formed of the composition for the black matrix including the carbon nanotubes of Preparation Examples 1 to 3 into which the silane functional groups were introduced, the electrical resistance gradually decreased as the content of the carbon nanotubes increased from 0 to 2 parts by weight. It exhibited behavior, and the rate of decrease in electrical resistance was small as the amount of silane compound introduced increased.

위 결과에서와 같이 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하는 블랙 매트릭스의 전기전도성이 낮은 것은 전기전도성에 중요한 역할을 하는 탄소 나노 튜브의 표면에 화학적인 결합으로 실란 화합물이 위치하기 때문에 탄소 나노 튜브의 전기 저항이 높아질 뿐만 아니라 표면에 위치한 실란으로 인하여 탄소 나노 튜브의 직접적인 접촉이 방해 받기 때문인 것으로 판단된다.As shown in the above results, the low electrical conductivity of the black matrix including the carbon nanotubes into which the silane compound is introduced as a functional group is because the silane compound is positioned as a chemical bond on the surface of the carbon nanotubes, which plays an important role in the electrical conductivity. It is believed that not only is the electrical resistance of the nanotubes higher, but the silanes located on the surface interfere with the direct contact of the carbon nanotubes.

상기에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 실란을 통하여 탄소 나노 튜브의 전기전도도를 조절하여 블랙 매트릭스의 전기저항을 향상시킬 수 있다. As described above, the resin composition for the black matrix including the carbon nanotubes into which the silane compound of the present invention is introduced as a functional group may improve the electrical resistance of the black matrix by controlling the electrical conductivity of the carbon nanotubes through the silane. .

또한, 실란 화합물을 작용기의 도입하여 기판과의 밀착성이 향상되며, 종래 착색제로 사용되던 카본 블랙 등보다 입자 크기가 작아 미세 패턴의 형성에도 유리하다. In addition, the adhesion of the silane compound with the functional group is improved, and the adhesion to the substrate is improved, and the particle size is smaller than that of carbon black, which is conventionally used as a colorant, which is advantageous in forming a fine pattern.

도 1 은 본 발명의 실란 작용기가 도입된 탄소 나노 튜브의 제조 방법을 나타낸 모식도이다. 1 is a schematic diagram showing a method for producing a carbon nanotube in which a silane functional group of the present invention is introduced.

도 2 는 본 발명의 실란 작용기와 유리 기판 사이에서 일어날 수 있는 반응을 나타낸 모식도이다. 2 is a schematic diagram showing a reaction that may occur between the silane functional group and the glass substrate of the present invention.

도 3 은 탄소 나노 튜브 및 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 TEM 으로 관찰한 결과이다. 3 is a result of observing carbon nanotubes into which a carbon nanotube and a silane compound are introduced as a functional group by TEM.

도 4 는 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브의 TGA 분석 결과이다. 4 is a result of TGA analysis of carbon nanotubes into which a silane compound is introduced.

도 5 는 실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브의 FESEM 측정 결과이다. 5 is a result of FESEM measurement of carbon nanotubes into which a silane compound is introduced.

도 6 은 다중벽 탄소 나노 튜브를 포함하는 비교예 1 의 조성물로 블랙 매트릭스를 제조하여 현상한 결과를 나타낸다. 6 shows the results of developing and developing a black matrix from the composition of Comparative Example 1 including multi-walled carbon nanotubes.

도 7 은 실란 화합물을 작용기로 도입한 탄소 나노 튜브를 포함하는 실시예 1 의 조성물로 블랙 매트릭스를 제조하여 현상한 결과를 나타낸다. FIG. 7 shows the results of developing and developing a black matrix from the composition of Example 1 including carbon nanotubes into which a silane compound was introduced as a functional group.

도 8 은 실시예 및 비교예의 조성물을 이용하여 제조된 블랙 매트릭스의 전기 저항을 측정한 결과이다. 8 is a result of measuring the electrical resistance of the black matrix prepared using the compositions of Examples and Comparative Examples.

Claims (8)

실란 화합물이 작용기로 도입된 탄소 나노 튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물. A resin composition for a black matrix, wherein the silane compound comprises carbon nanotubes introduced with a functional group. 청구항 1 에 있어서,The method according to claim 1, 상기 실란 화합물이 하기 화학식 1 로 표현되는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물:Resin composition for a black matrix, wherein the silane compound is represented by the following formula (1): [화학식 1][Formula 1] R-(CH2)n-Si-(X)3 R- (CH 2 ) n -Si- (X) 3 (상기 화학식 1 에서,(In Chemical Formula 1, R 은 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기로 치환된 1차, 2차, 3차 아민 또는 탄소수 1 내지 5 의 알킬기로부터 선택되며, R is selected from a halogen atom, a cyano group, a primary, secondary, tertiary amine substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, n 은 1 내지 6 의 정수이며,n is an integer from 1 to 6, X 는 수소, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 5 의 알킬기, 탄소수 1 내지 5 의 알콕시기 또는 O-Na+ 로부터 선택된다.) X is selected from hydrogen, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or O - Na + . 청구항 1 에 있어서,The method according to claim 1, 상기 실란 화합물이 하기 화학식 2 로 표현되는 메톡시실란, 하기 화학식 3 으로 표현되는 에톡시실란 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물:Resin composition for a black matrix, characterized in that the silane compound is methoxysilane represented by the following formula (2), ethoxysilane represented by the following formula (3) or a mixture thereof: [화학식 2][Formula 2]
Figure 112009077161555-PAT00009
Figure 112009077161555-PAT00009
 [화학식 3](3)
Figure 112009077161555-PAT00010
Figure 112009077161555-PAT00010
 (상기 화학식 2 및 3 에서,(In the formula 2 and 3, R 은 할로겐 원자, 시아노기, 탄소수 1 내지 3 의 알킬기로 치환된 1차, 2차, 3차 아민 또는 탄소수 1 내지 5 의 알킬기로부터 선택된다.) R is selected from a halogen atom, a cyano group, a primary, secondary, tertiary amine substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.) 청구항 1 에 있어서,The method according to claim 1, 상기 실란 화합물이 탄소나노튜브에 대하여 0.05 내지 50 중량부로 도입되는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.The resin composition for a black matrix, wherein the silane compound is introduced at 0.05 to 50 parts by weight based on carbon nanotubes. 청구항 1 에 있어서,The method according to claim 1, 상기 탄소 나노 튜브가 외경이 1 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 블랙 매 트릭스용 수지 조성물.The carbon nanotubes have an outer diameter of 1 to 100 nm, the resin composition for black matrices. 청구항 1 에 있어서,The method according to claim 1, 상기 탄소 나노 튜브가 길이가 0.5 내지 30 ㎛인 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.Resin composition for a black matrix, characterized in that the carbon nanotubes are 0.5 to 30 ㎛ in length. 청구항 1 에 있어서,The method according to claim 1, 상기 탄소 나노 튜브가 조성물의 고형분에 대하여 0.1 내지 20 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.Resin composition for a black matrix, characterized in that the carbon nanotubes are contained in 0.1 to 20 parts by weight based on the solids of the composition. 청구항 1 에 있어서,The method according to claim 1, 상기 조성물이 바인더 수지, 중합성 단량체, 중합 개시제 및 용제로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.The resin composition for a black matrix, wherein the composition further comprises a single or a mixture thereof selected from the group consisting of a binder resin, a polymerizable monomer, a polymerization initiator and a solvent.
KR1020090124135A 2009-12-14 2009-12-14 Resin composition for black matrix KR20110067520A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090124135A KR20110067520A (en) 2009-12-14 2009-12-14 Resin composition for black matrix

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090124135A KR20110067520A (en) 2009-12-14 2009-12-14 Resin composition for black matrix

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110067520A true KR20110067520A (en) 2011-06-22

Family

ID=44399949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090124135A KR20110067520A (en) 2009-12-14 2009-12-14 Resin composition for black matrix

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20110067520A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112445019A (en) * 2019-09-05 2021-03-05 咸阳彩虹光电科技有限公司 Functional substrate, liquid crystal display panel and display
US11703728B2 (en) 2020-01-09 2023-07-18 Samsung Display Co., Ltd. Black matrix composition and display device comprising the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112445019A (en) * 2019-09-05 2021-03-05 咸阳彩虹光电科技有限公司 Functional substrate, liquid crystal display panel and display
US11703728B2 (en) 2020-01-09 2023-07-18 Samsung Display Co., Ltd. Black matrix composition and display device comprising the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101518774B1 (en) Novel fluorene oxime ester compounds, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
JP2018124553A (en) Self-luminous photosensitive resin composition, and color filter and image display device that comprise color conversion layer using that composition
KR101037782B1 (en) Method of manufacturing color filters and color filters manufactured by the same
JP2017173828A (en) Red photosensitive resin composition, color filter manufactured by using the same, and display element including the color filter
KR102408921B1 (en) Photoresist composition and method of forming a black matrix using the same
KR102572680B1 (en) Red colored photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR102131169B1 (en) Black photosensitive resin composition, Black matrix and Image display device having the same
KR20130056598A (en) Heat-curable black ink composition, pattern formed by the same and electronic device comprising the same
KR20110067520A (en) Resin composition for black matrix
JP5047057B2 (en) Photosensitive coloring composition for color filter and color filter
JP6177204B2 (en) Photosensitive resin composition, color filter using the same, and liquid crystal display device
JP5124341B2 (en) Photosensitive coloring composition for color filter and color filter
CN113214692B (en) High-refraction resin composition and preparation method thereof
JP2010152224A (en) Photosensitive black composition and color filter
KR20130000803A (en) Conducting ink composition for printing and manufacturing method of the same
KR20140146940A (en) Photosensitive resin composition and liquid crystal display device with cot type comprising the same
JP2008242190A (en) Color filter substrate and method of manufacturing the same
KR20110105989A (en) A black photosensitive resin composition and display device having the same
KR20160063836A (en) Photosensitive resin layer, black column spacer using the same and color filter
KR101187881B1 (en) Photosensitive resin composition for column spacer and display device having the same
KR102288575B1 (en) A binder resin, a colored photo resist composition, a display partition wall structure comprising the same and a self-luminous display device comprising the same
KR101238673B1 (en) Photosensitive resin composition for column spacer having enhanced storage stability, paten stiffness and strength of stability
KR20080057951A (en) Printing ink composition for color filter
KR102131170B1 (en) Black photosensitive resin composition, Black matrix and Image display device having the same
KR101943708B1 (en) Photosensitive conductive paste composition and touch screen panel prepared by using the same

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination