KR20110027636A - 광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성 필름, 광학층이 달린 편광자와 표시 장치 - Google Patents

광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성 필름, 광학층이 달린 편광자와 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20110027636A
KR20110027636A KR1020107002927A KR20107002927A KR20110027636A KR 20110027636 A KR20110027636 A KR 20110027636A KR 1020107002927 A KR1020107002927 A KR 1020107002927A KR 20107002927 A KR20107002927 A KR 20107002927A KR 20110027636 A KR20110027636 A KR 20110027636A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
micrometers
less
weight
microparticles
coating material
Prior art date
Application number
KR1020107002927A
Other languages
English (en)
Inventor
유미 하가
츠토무 나가하마
신이치 마츠무라
Original Assignee
소니 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 소니 주식회사 filed Critical 소니 주식회사
Publication of KR20110027636A publication Critical patent/KR20110027636A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0278Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in transmission
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0221Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0226Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures having particles on the surface
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502Antiglare, refractive index matching layers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00Materials and properties
    • G02F2202/36Micro- or nanomaterials
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • Y10T428/24372Particulate matter
    • Y10T428/24405Polymer or resin [e.g., natural or synthetic rubber, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24893Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including particulate material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

방현성{防眩性; antiglare} 필름은, 기재{基材}와, 기재 위에 형성된 광학층을 구비하고, 광학층은 표면에 요철 형상을 가진다. 요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 기재 위에 도포하고, 도료의 대류에 의해 미립자를 조밀하게 분포시키고, 도료를 경화하는 것에 의해 얻어진다. 수지가, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고, 미립자의 평균 입경이 2㎛ 이상 8㎛ 이하이며, 광학층의 평균 막두께가 8㎛ 이상 18㎛ 이하이다.

Description

광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성 필름, 광학층이 달린 편광자와 표시 장치{OPTICAL FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, ANTI-GLARE FILM, POLARIZING ELEMENT WITH OPTICAL LAYER, AND DISPLAY DEVICE}
본 발명은, 광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성{防眩性; antiglare} 필름, 광학층이 달린{付} 편광자와 표시 장치에 관한 것이다. 자세하게는, 액정 표시 장치 등의 표시 장치의 표시면에 이용되는 방현성 필름에 관한 것이다.
액정 표시 장치 등의 표시 장치(디스플레이)에서는, 표시면측에 방현성 필름을 설치하고, 이 필름에 의해 광을 확산하는 것에 의해, 방현성을 부여하거나, 표면 반사에 의한 비쳐들어옴{映入; reflect}을 저감하거나 하는 기술이 채용되고 있다. 종래의 방현성 필름은, 표면에 설치된 요철 형상으로부터, 방현성을 부여하는 것이다.
도 1에, 종래의 방현성 필름(101)의 구성을 도시한다. 이 방현성 필름(101)은, 도 1에 도시하는 바와 같이, 기재{基材; base material, substrate}(111)와, 이 기재(111) 위에 설치된 방현층{防眩層; antiglare layer}(112)을 가진다. 방현층(112)은, 미립자(113)를 포함하고, 이 미립자(113)가 방현층(112)의 표면으로부터 돌출하는 것에 의해, 표면에 요철 형상이 형성되어 있다. 이 방현성 필름(101)은, 부정형 실리카 미립자나 미세 유기 입자 등의 미립자(113)를 함유하는 도료를 기재(111) 위에 도공{塗工}하고, 이 도료를 건조시키는 것에 의해 형성된다. 상술한 구성을 가지는 방현성 필름에서는, 방현층(112)에 입사하는 광이 방현층(112)으로부터 돌출한 미립자(113)에 의해 산란되므로, 표면 반사에 의한 비쳐들어옴이 저감된다.
종래, 방현성 필름에 대해서 방현성을 효과적으로 부여하기 위한 요철 형상이 검토되어 있다. 예를 들면, 일본특허 제3, 821, 956호 공보에서는, 번쩍거림{glare}을 방지하기 위해서, 요철 형상의 중심선 평균 거칠음{roughness}을 0.08∼0.5㎛, 평균 산곡{山谷; peak-valley} 간격을 20∼80㎛로 선택하는 것이 제안되어 있다. 또, 일본특허 제3, 374, 299호 공보에서는, 양호한 방현성을 실현하기 위해서, 거친{rough} 요철과 세밀한{fine} 요철을 설치하고, 이들 요철이 설치된 표면의 중심선 평균 거칠음 Ra를 0.1∼1.0㎛, 평균 간격 Sm을 20∼120㎛로 하며, 또 거친 요철의 중심선 평균 거칠음 Ra를 0.5∼1.5㎛, 평균 간격 Sm을 100∼300㎛로 함과 동시에, 세밀한 요철의 중심선 평균 거칠음 Ra를 0.05∼0.5㎛, 평균 간격 Sm을 20∼70㎛로 하는 것이 제안되어 있다.
그렇지만, 상술한 어느 제안이나, 넓은 각도로 광을 산란시키는 것을 목적으로 한 것이며, 표면의 요철 형상이 미세한 주기를 가지며, 또한 표면의 형상이 가파른{急峻; steep} 각도 성분을 가진다. 이 때문에, 표시 장치의 화면 전체가 햐얗게 되어 버린다, 즉, 콘트라스트가 저하해 버린다고 하는 문제가 있다.
이 문제를 해결하려면, 표면의 요철 형상의 주기를 길게 하는 것이 생각되지만, 이와 같이 주기를 길게 하면, 비쳐들어옴을 방지할 수 없게 되어 버린다. 즉, 콘트라스트와 방현성과는 상반되는 특성이며, 양자의 특성을 동시에 만족시키는 것은 곤란하다.
또, 예를 들면 액정 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 그 밖의 표시 장치의 전면{前面}(관찰자측)에 기계적, 열적, 내후적{耐候的; weathering} 보호나 의장성을 목적으로 한 전면판이 배치되는 일이 있다. 그 경우, 전면판의 이면(표시 장치측)이 평평한 형상이면, 전면판이 휘는 등 해서 표시 장치에 접근한 경우, 뉴턴링이 발생한다고 하는 문제가 있다.
또, 표시 장치의 이면측에 별개의 이면 부재가 배치되는 경우, 표시 장치의 박형화에 수반해서 표시 장치와 이면측{裏側} 부재와의 간극이 좁게 되어 있으며, 그것에 더하여 표시 장치의 대형화가 진행되고 있기 때문에, 부재의 휨{deflection}의 문제가 현저하게 되고 있으며, 뉴턴링이 발생한다고 하는 문제가 일어나고 있다. 예를 들면, 액정 디스플레이를 예로서 설명하면, 액정 디스플레이에서는, 광원 조도를 면내에서 균일화하는 확산판, 시야각을 제어하기 위한 렌즈 필름, 광을 편광 분리해서 재이용하기 위해 편광 분리 반사 필름 등을 이면 부재로서 배치하고 있다. 그러나, 그 전면에 배치되는 액정 패널의 이면측의 편광판은, 통상 플랫한 표면 형상(중심선 평균 거칠음 Ra=0.03㎛ 미만, 2승 평균 제곱근 경사{二乘平均平方根傾斜; root-mean-square slope} RΔq=0.01 미만)를 가지기 때문에, 박형의 액정 디스플레이에서는 뉴턴링의 발생이 문제로 되고 있다.
그래서, 이와 같은 뉴턴링의 발생을 억제할 수 있는 광학 필름이 요망되게 되었다.
따라서, 본 발명의 목적은, 콘트라스트와 방현성을 양립할 수 있는 광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성 필름, 광학층이 달린 편광자와 표시 장치를 제공하는데 있다.
또, 본 발명의 다른 목적은, 방현성과 사상 선명성을 양립할 수 있으며, 또한 뉴턴링의 발생도 억제할 수 있는 광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성 필름, 광학층이 달린 편광자와 표시 장치를 제공하는데 있다.
본 발명자들은, 예의 연구의 결과, 표면으로부터 돌출한 개개의 입자에 의한 표면 산란이 아니라, 주기가 길고 가파르지 않음{완만함}과 동시에, 각도 성분이 조제된 요철 형상에 의한 표면 산란에 의해, 방현성 및 콘트라스트를 양립할 수 있다는 것을 발견하기에 이르렀다.
상술한 과제를 해결하기 위해서, 제1 발명은,
기재와,
기재 위에 형성된 광학층을 구비하고,
광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 기재 위에 도포하고, 도료의 대류에 의해 미립자를 조밀하게{densely} 분포시키고, 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 방현성 필름이다.
제2 발명은,
미립자 및 수지를 포함하는 도료를 기재 위에 도포하는 공정과,
도료를 건조시키는 것에 의해, 도료에 대류를 발생시키고, 그 대류에 의해 미립자를 조밀하게 분포시키는 공정과,
미립자가 조밀하게 분포된 도료를 경화시키는 것에 의해, 광학층을 형성하는 공정
을 구비하고,
수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 방현성 필름의 제조 방법이다.
제3 발명은,
기재와,
기재 위에 형성된 방현층을 구비하고,
방현층은 표면에 요철 형상을 가지고,
요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 기재 위에 도포하고, 도료의 대류에 의해 미립자를 조밀하게 분포시키고, 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
방현층의 평균 막두께가, 8㎛ 이상 18㎛ 이하인 방현성 필름이다.
제4 발명은,
편광자와,
편광자 위에 설치된 광학층
을 구비하고,
광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 도포하고, 도료의 대류에 의해 미립자를 조밀하게 분포시키고, 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 광학층이 달린 편광자이다.
제5 발명은,
화상을 표시하는 표시부와,
표시부의 표시면측에 설치된 광학층
을 구비하고,
광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 도포하고, 도료의 대류에 의해 미립자를 조밀하게 분포시키고, 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 표시 장치이다.
제6 발명은,
화상을 표시하는 표시부와,
표시부의 전면측에 설치된 전면 부재와,
표시부의 전면측, 및 전면 부재의 이면측의 적어도 한쪽에 설치된 광학층
을 구비하고,
광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 도포하고, 도료의 대류에 의해 미립자를 조밀하게 분포시키고, 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 표시 장치이다.
제7 발명은,
화상을 표시하는 표시부와,
표시부의 이면측에 설치된 이면 부재와,
표시부의 이면측, 및 이면 부재의 전면측의 적어도 한쪽에 설치된 광학층
을 구비하고,
광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 도포하고, 도료의 대류에 의해 미립자를 조밀하게 분포시키고, 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 표시 장치이다.
본 발명에서는, 표면 형상은, 건조에 의해 형성된 입자 분포와, 건조후의 전리 방사선 조사 또는 가열에 의한 경화에 의해 형성된다. 즉, 미립자의 분포(입자의 소밀{sparseness and denseness})와, 수지의 경화 수축율을 제어하는 것에 의해, 원하는 표면 거칠음을 얻을 수가 있다.
미립자의 분포에 의해서, 미립자가 빽빽하게{densely} 존재하는 부분에서는, 수지의 비율이 작아지고, 이들 미립자는 경화 저해로 되기 때문에, 경화 수축이 작아지는데 대해서, 미립자가 엉성하게{sparsely} 존재하는 부분에서는, 수지의 비율이 커지기 때문에, 수지의 경화 수축이 커진다. 이 전자와 후자와의 경화 수축율의 상위{相違}에 의해서, 완만한 요철이 도료 표면에 발생하고, 광학층 표면 또는 방현층 표면에 방현성이 발현한다.
특히 중요한 것이 경화 수축율의 제어이며, 본 발명자들이 실험에 의해 얻은 지견{知見}에 의하면, 폴리머를 수지 전량에 대해서 3∼20중량%, 바람직하게는 5∼15중량% 배합하는 것에 의해, 적당한 경화 수축에 의해, 원하는 요철을 표면에 형성할 수가 있다. 폴리머가 3중량% 미만이며, 경화 수축이 크기 때문에, 표면이 거칠게 되며, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq 및 산술 평균 거칠음 Ra가 증대하고, 백탁도{白濁度; opacity}가 늘어난다. 또, 본 발명에서는, 상술한 바와 같이, 경화 수축을 조제할 목적으로 폴리머를 첨가하지만, 폴리머를 20중량%를 넘어 과잉으로 첨가하면, 즉 수지중의 경화 저해물의 비율이 증대하면, 도료의 점도가 증대한다. 이것에 의해, 미립자의 분산성이 나빠지고, 미립자의 소밀이 필요 이상으로 확실하기 때문에, 경화 수축의 차가 소밀 부분 사이에서 현저하게 나타나며, 백탁도가 늘어난다. 또, 폴리머를 20중량%를 넘어 과잉으로 첨가하면, 도막{塗膜}의 경도가 두드러지게 저하해 버린다.
본 발명의 광학 필름은, 표면에 요철 형상을 가지고 있으면서 높은 투과 선명성을 아울러 가지기 때문에, 표시 장치 전면에 배치되고 방현층이나 방현성 필름으로서 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 안티 뉴턴링층이나 안티 뉴턴링 필름으로서도 사용할 수가 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 콘트라스트와 방현성이라고 하는 상반되는 특성을 양립할 수가 있다.
도 1은, 종래의 방현성 필름의 구성을 도시하는 확대 단면도,
도 2는, 본 발명의 제1 실시형태에 의한 액정 표시 장치의 구성의 1예를 도시하는 개략 단면도,
도 3은, 본 발명의 제1 실시형태에 의한 방현성 필름의 구성의 1예를 도시하는 확대 단면도,
도 4는, 산술 평균 거칠음 Ra를 설명하기 위한 개략도,
도 5는, 2승 평균 제곱근 경사를 설명하기 위한 개략도,
도 6은, 본 발명의 제2 실시형태에 의한 방현성 필름의 구성의 1예를 도시하는 확대 단면도,
도 7은, 도 6에 도시한 저굴절률 층(14)을 확대해서 도시하는 단면도,
도 8은, 본 발명의 제3 실시형태에 의한 방현성 필름의 구성의 1예를 도시하는 개략 단면도,
도 9는, 본 발명의 제4 실시형태에 의한 표시 장치의 구성예를 도시하는 개략 단면도,
도 10은, 본 발명의 제4 실시형태에 의한 표시 장치의 구성예를 도시하는 개략 단면도,
도 11은, 본 발명의 제4 실시형태에 의한 ANR 필름의 구성의 1예를 도시하는 개략 단면도,
도 12는, 본 발명의 제5 실시형태에 의한 표시 장치의 구성예를 도시하는 개략 단면도,
도 13은, 본 발명의 제5 실시형태에 의한 표시 장치의 구성예를 도시하는 개략 단면도,
도 14는, 본 발명의 제6 실시형태에 의한 표시 장치의 구성의 1예를 도시하는 개략 단면도,
도 15는, 실시예 1의 방현성 필름의 투과 미분 간섭 사진,
도 16은, 비교예 5의 방현성 필름의 투과 미분 간섭 사진,
도 17은, 실시예 1 및 비교예 6의 거칠음 곡선의 단면 프로파일을 비교한 도면,
도 18은, 실시예 1의 단면 곡선으로부터 얻어진 측정값으로부터 0.5㎛마다의 경사(미분값)를 구하고, 빈도를 그래프화한 도면,
도 19는, 비교예 6의 단면 곡선으로부터 얻어진 측정값으로부터 0.5㎛마다의 경사(미분값)를 구하고, 빈도를 그래프화한 도면.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 이하의 실시형태의 모든 도면{全圖}에서는, 동일 또는 대응하는 부분에는 동일한 부호를 붙인다.
(1) 제1 실시형태
(1-1) 액정 표시 장치의 구성
도 2는, 본 발명의 제1 실시형태에 의한 액정 표시 장치의 구성의 1예를 도시한다. 이 액정 표시 장치는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 광을 출사{出射; emit}하는 백라이트(3)와, 백라이트(3)로부터 출사된 광을 시간적 공간적으로 변조해서 화상을 표시하는 액정 패널(2)을 구비한다. 액정 패널(2)의 양면에는 각각, 편광자(2a, 2b)가 설치되어 있다. 액정 패널(2)의 표시면측에 설치된 편광자(2b)에는, 방현성 필름(1)이 설치되어 있다. 본 발명에서는, 방현성 필름(1) 또는 방현층이 1주면에 형성된 편광자(2b)를 방현성 편광자(4)라고 칭한다.
백라이트(3)로서는, 예를 들면 직하형{直下型; direct-type} 백라이트, 에지형 백라이트, 평면 광원형 백라이트를 이용할 수가 있다. 백라이트(3)는, 예를 들면 광원, 반사판, 광학 필름 등을 구비한다. 광원으로서는, 예를 들면 냉음극 형광관(Cold Cathode Fluorescent Lamp: CCFL), 열음극 형광관(Hot Cathode Fluorescent Lamp: HCFL), 유기 일렉트로루미네센스(Organic ElectroLuminescence: OEL), 무기 일렉트로루미네센스(IEL: Inorganic ElectroLuminescence) 및 발광 다이오드(Light Emitting Diode: LED) 등이 이용된다.
액정 패널(2)로서는, 예를 들면 트위스티드 네마틱(Twisted Nematic: TN) 모드, 수퍼 트위스티드 네마틱(Super Twisted Nematic: STN) 모드, 수직 배향(Vertically Aligned: VA) 모드, 수평 배열(In-Plane Switching: IPS) 모드, 광학 보상 벤드 배향(Optically Compensated Birefringence: OCB) 모드, 강유전성(Ferroelectric Liquid Crystal: FLC) 모드, 고분자 분산형 액정(Polymer Dispersed Liquid Crystal: PDLC) 모드, 상 전이형 게스트·호스트(Phase Change Guest Host: PCGH) 모드 등의 표시 모드의 것을 이용할 수가 있다.
액정 패널(2)의 양면에는, 예를 들면 편광자(2a, 2b)가 그의 투과축이 서로 직교하도록 해서 설치된다. 편광자(2a, 2b)는, 입사하는 광중 직교하는 편광 성분의 한쪽만을 통과시키고, 다른쪽을 흡수에 의해 차폐하는 것이다. 편광자(2a, 2b)로서는, 예를 들면 폴리비닐 알콜계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐 알콜계 필름, 에틸렌·초산 비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드{沃素}나 2색성 염료 등의 2색성 물질을 흡착시켜 1축 연신시킨 것을 이용할 수가 있다.
(1-2) 방현성 필름의 구성
도 3은, 본 발명의 제1 실시형태에 의한 방현성 필름(1)의 구성의 1예를 도시한다. 이 방현성 필름(1)은, 도 3에 도시하는 바와 같이, 기재(11)와, 이 기재(11) 위에 설치된 방현층(12)을 구비한다. 방현층(12)은 미립자(13)를 포함하고, 그 표면에는 미세 요철이 형성되어 있다.
표면 헤이즈는, 바람직하게는 0∼5%, 보다 바람직하게는 0∼1%이다. 표면 헤이즈가 5% 이하이면 백탁감{白濁感}이 감소하고, 1% 이하이면 백탁감은 거의 느껴지지 않게 된다. 또한, 표면 헤이즈는 표면 산란을 검출했을 때의 값이며, 표면 헤이즈가 높으면 높을수록 백탁이 늘어난다. 한편, 내부 헤이즈는 특히 한정되는 것은 아니며, 방현층(12)에 포함되는 미립자(13) 등에 의해 결정되는 것이다.
전체 헤이즈는, 바람직하게는 3∼45%, 보다 바람직하게는 3∼40%, 가장 바람직하게는 3∼30%이다. 3∼45%의 범위내로 하는 것에 의해, 사상 선명성을 저하시키지 않고 적당한 방현성을 얻을 수가 있다. 즉, 전체 헤이즈가 3% 미만이면 충분한 방현성을 얻는 것이 곤란해지고, 45%를 넘으면 사상 선명성이 저하해 버린다. 또한, 전체 헤이즈는, 표면 헤이즈와 내부 헤이즈를 가산한 값이다.
또, 흑색 아크릴판을 방현성 필름(1)의 이면에 접합{貼合; bond}해서 측정되는 백탁도는, 바람직하게는 1.1이하, 보다 바람직하게는 0.9이하이다. 백탁도가 1.1이하이면 콘트라스트의 저하를 억제할 수 있고, 0.9이하이면 뛰어난 콘트라스트를 실현할 수 있다.
(기재)
기재(11)의 재료로서는, 예를 들면 투명성을 가지는 플라스틱 필름을 이용할 수가 있다. 투명 플라스틱 필름의 재료로서는, 예를 들면 공지의 고분자 필름을 이용할 수가 있다. 공지의 고분자 필름으로서는, 구체적으로는 예를 들면 트리아세틸 셀룰로스(TAC), 폴리에스테르(TPEE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리이미드(PI), 폴리아미드(PA), 아라미드, 폴리에틸렌(PE), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌(PP), 디아세틸 셀룰로스, 폴리염화 비닐, 아크릴 수지(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 에폭시 수지, 요소 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 기재(11)의 두께는, 생산성의 관점에서 38㎛∼100㎛인 것이 바람직하지만, 이 범위에 특히 한정되는 것은 아니다.
(방현층)
방현층(12)은, 미립자(13) 및 수지를 포함하고 있다. 미립자(13)는, 방현층(12)내에서 조밀하게 분포되어 있다. 또, 방현층(12)은, 필요에 따라, 첨가제로서, 광안정제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 난연제, 산화 방지제 등을 포함하고 있어도 좋다.
방현층(12)의 표면에서, 미립자(13)가 수지에 의해 덮여 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 미립자(13)를 덮는 것에 의해, 미립자(13)가 방현층(12)으로부터 돌출하고, 미립자 자체의 곡률로 이루어지는 고{高}각도 성분이 표면에 형성되어, 백탁도가 증대하는 것을 억제할 수 있다.
방현층(12)의 평균 막두께를 T, 미립자(13)의 평균 입경을 D로 했을 때, 비율 R(=D/T×100)이, 바람직하게는 30% 이상 70% 이하, 보다 바람직하게는 30% 이상 60% 이하이다. 비율 R이 30% 미만이면, 방현성이 저하해 버린다. 70%를 넘으면 표면 근방에 존재하는 미립자(13)가 많아지기 때문에, 백탁도가 상승하고, 콘트라스트가 저하해 버린다.
방현층의 평균 막두께는, 8㎛ 이상 18㎛ 이하, 바람직하게는 9㎛ 이상 16㎛ 이하, 보다 바람직하게는 11㎛ 이상 13㎛ 이하이다. 평균 막두께가 8㎛ 미만이면 충분한 경도가 얻어지지 않고, 평균 막두께가 18㎛를 넘으면 제조시에 수지를 경화시키는 과정에서 컬{curling}이 현저하게 생기기 때문이다. 또한, 평균 막두께가 8㎛ 미만이며, 충분한 경도가 얻어지지 않으면, 방현층(12)을 표시 장치의 최표면{最表面}에 설치하는 것이 곤란하게 된다.
단, 방현성 필름(1)을 표시 장치의 최표면에 이용하지 않는 경우에는, 표면 경도의 허용값을 넓히는 것이 가능하기 때문에, 방현층의 평균 막두께는 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하로 하는 것이 가능하다. 또한, 평균 막두께가 6.4㎛ 미만이면, 경도가 더욱더 저하함과 동시에, 건조 응집이 두드러지고, 표면이 유자껍질모양{orange peel-like}으로 되고, 번쩍거림이 생겨 버린다.
미립자(13)로서는, 예를 들면 구형{球形} 또는 편평 유기 미립자 등이 이용된다. 미립자(13)의 평균 입경은, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하, 4㎛ 이상 6㎛ 이하이다. 미립자(13)의 평균 입경이 작아지면, 표면 근방에 존재하는 미립자 수가 늘어나기 때문에, 표면 산란에 의해 백탁도가 증대하지만, 2.4㎛ 미만이면 백탁도의 증대가 현저하게 된다. 8㎛를 넘으면, 고정밀 디스플레이에 적용한 경우에 번쩍거림이 억눌러진다. 또한, 본 발명에서는, 미립자(13)의 평균 입경은, 세공{細孔} 전기 저항법에 의해 측정한 것이다.
평균 막두께가 6㎛ 미만이면 폴리머의 함유량을 3중량% 이상 20중량% 이하로 해도, 미립자가 방현층으로부터 돌출하는 빈도가 높아지기 때문에, 콘트라스트가 저하해 버린다.
미립자의 입경, 평균 막두께, 폴리머 첨가량의 3자{者}의 밸런스로 방현성과 콘트라스트를 양립가능한 표면 형상을 형성하는 것이 가능하다.
미립자의 입경과 막두께는 방현층 중의 입자의 피복 상태를 나타내고, 미립자의 입경을 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하, 4㎛ 이상 6㎛ 이하이며, 막두께를 8㎛ 이상 18㎛ 이하, 바람직하게는 9㎛ 이상 16㎛ 이하, 보다 바람직하게는 11㎛ 이상 13㎛ 이하로 함으로써 입자의 표면으로부터의 돌출을 억제하고, 원하는 표면 형상 즉 RΔq가 0.01이상, 0.03이하를 얻는 것이 가능하다. 또, 폴리머는, 경화 수축을 조제할 목적으로 첨가되고, 폴리머의 함유량이 3중량% 미만이면, 경화 수축이 크고, 표면이 거칠어진다. 즉, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq 및 산술 평균 거칠음 Ra가 증대하는 원하는 표면 형상을 얻는 것이 곤란하게 된다. 폴리머를 20중량%를 넘어 과잉으로 첨가하면, 수지중의 경화 저해물의 비율이 증대하고, 도료의 점도가 증대한다. 이것에 의해, 미립자(13)의 분산성이 나빠지고, 미립자(13)의 소밀이 필요 이상으로 확실하기 때문에, 경화 수축의 차가 소밀 부분 사이에서 현저하게 나타나며, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq 및 산술 평균 거칠음 Ra가 증대한다.
미립자의 입경, 평균 막두께, 폴리머 첨가량의 3자가 본 발명의 청구의 범위이면, 원하는 표면 형상을 얻을 수 있으며, 방현성과 콘트라스트의 양립이 가능하다.
미립자(13)의 첨가량은, 수지 100중량부에 대해서, 바람직하게는 8중량부 이상 50중량부 이하, 보다 바람직하게는 10중량부 이상 30중량부 이하, 더욱더 바람직하게는 10중량부 이상 20중량부 이하이다. 미립자 13의 첨가량이 8중량부 미만이면, 면내 방향에서의 미립자(13)의 소밀이 확실해져 버리기 때문에, 거칠음이 증대하고, 선명한 영상을 얻을 수가 없다. 한편, 미립자(13)의 첨가량이 50중량부를 넘으면, 헤이즈가 증대해 버리기 때문에, 사상 선명도의 값이 저하하며, 결과로서 표시 장치의 영상 콘트라스트도 저하한다. 단, 미립자(13)의 굴절률과 매트릭스의 굴절률의 차를 저감함으로써, 광의 산란을 억제할 수 있기 때문에, 요구되는 영상 콘트라스트에 따라, 미립자(13)의 첨가량이나 매트릭스 수지와의 굴절률 차를 조정하는 것이 바람직하다. 미립자(13)의 굴절률과 매트릭스의 굴절률과의 굴절률 차는, 바람직하게는 0.03이하, 보다 바람직하게는 0.02이하이다.
유기 미립자로서는, 예를 들면 아크릴 입자, 아크릴·스틸렌 공중합체를 주성분으로 하는 미립자, 스틸렌 입자를 이용할 수가 있지만, 아크릴·스틸렌 공중합체를 주성분으로 하는 미립자가 바람직하며, 굴절률 1.50∼1.56을 가지는 아크릴·스틸렌 공중합체를 주성분으로 하는 미립자가 특히 바람직하다. 미립자(13)를 조밀하게 분포시킬 수 있기 때문이다.
미립자(13)로서 예를 들면 아크릴 수지 등의 약간 극성이 있는 미립자를 이용한 경우, 건조시에 생기는 도료내의 대류가 작아지기 때문에, 분산해서, 원하는 입자 분포를 형성하기 어렵다. 그것을 개선하기 위해서는, 표면 장력이 높은 용제를 쓰지 않으면 안 되지만, 그러한 용제는 끓는점{沸点}이 높아 도막이 건조하기 어렵게 되기 때문에 제조상 취급하기 힘들다. 그 때문에, 예를 들면 스틸렌 등의 비극성의 수지가 배합된 미립자를 이용하는 것이 바람직하다. 아크릴·스틸렌 공중합체를 주성분으로 하는 미립자는, 합성할 때의 아크릴, 스틸렌의 조성 비율을 바꾸는 것에 의해서 표면 에너지를 바꿀 수가 있다. 아크릴·스틸렌 공중합체를 주성분으로 하는 미립자 중에서도, 굴절률 1.50∼1.56을 나타내는 바와 같은 배합비를 가지는 것이 특히 바람직하다. 원하는 입자 분포를 얻을 수 있으며, 경화 수축의 제어 공정을 더하여, 원하는 표면 형상을 얻을 수 있기 때문이다.
스틸렌을 배합하지 않고, 구조 또는 관능기 수가 다른 아크릴계 수지의 배합 비율로 조정된 아크릴계 입자를 이용한 경우에서도, 미립자 표면을 침수화{浸水化} 처리나 소수화{疏水化} 처리함으로써, 건조시에 형성되는 입자 분포를 제어하는 것이 가능하다.
방현층(12)의 표면에서의 거칠음 곡선의 산술 평균 거칠음 Ra는 0.03㎛ 이상 0.15㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.05㎛ 이상 0.12㎛ 이하이다. 거칠음 곡선의 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛ 미만이면, 방현성이 저하해 버리고, 0.15㎛를 넘으면, 콘트라스트가 저하해 버린다.
도 4는, 산술 평균 거칠음 Ra를 설명하기 위한 것이다. 산술 평균 거칠음 Ra는 이하의 식(1)로 표현하는 바와 같이, 기준 길이에 있어서의 Z(x)의 절대값의 평균값이며, 보다 값이 작아질수록 평활한 것을 나타낸다. 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛ 미만이면, 방현층 표면은 경면{鏡面}에 가까워지며, 입사한 광에 대해서 정반사하는 성분이 늘어나기 때문에, 방현성이 저하한다. 산술 평균 거칠음 Ra의 상한값은, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01이상 0.03이하의 범위내에 있으면 특히 제한되는 것은 아니지만, 실험에 의하면 산술 평균 거칠음 Ra의 증대와 함께, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq도 동시에 증가해 버린다. 이 때문에, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.15㎛를 넘으면, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.03㎛를 넘어 버리고, 콘트라스트가 저하해 버린다.
(수학식 1)
Figure pct00001
또, 표면의 각도 성분을 평균화한 값은, 상술한 바와 같이 RΔq(θa)로 표현되지만, 그것만으로는 불충분하며, 균일하게 가파르지 않은{완만한} 표면을 얻음으로써, 더 높은 고콘트라스트를 실현할 수가 있다. 그 지표로서, Ra를 이용하는 것이 가능하며, RΔq=0.01∼0.03 또한 Ra=0.15이하로 함으로써, 균일하게 가파르지 않은 표면을 가지는 필름을 얻을 수가 있다.
도 5는, 2승 평균 제곱근 경사를 설명하기 위한 개략도이다. 거칠음 곡선의 2승 평균 제곱근 거칠음 RΔq는, 미소 범위에서의 경사를 평균화해서 구해지는 파라미터이며, 이하의 식(2)에 의해 표현된다.
RΔq(또는 Rdq): 거칠음 곡선의 2승 평균 제곱근 경사
PΔq(또는 Pdq): 단면 곡선의 2승 평균 제곱근 경사
WΔq(또는 Wdq): 기복{waviness} 곡선의 2승 평균 제곱근 경사
기준 길이에서의 국부 경사 dz/dx의 2승 평균 제곱근
(수학식 2)
Figure pct00002
2승 평균 제곱근 경사 RΔq와 광학 특성(콘트라스트(백탁감) 및 방현성)과는 상관되어 있다. 즉, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq를 제어함으로써, 콘트라스트와 방현성을 제어하는 것이 가능하다. 구체적으로는, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01 이상 0.03이하일 때에, 콘트라스트와 방현성을 양립할 수가 있다.
2승 평균 제곱근 경사 RΔq는 백탁감과 상관되어 있다. 2승 평균 제곱근 경사 RΔq는 미소 영역에서의 경사의 평균값이기 때문에, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.03을 넘으면, 즉 표면을 구성하는 성분에 가파른 경사가 포함되면 표면 산란이 커지기 때문에, 백탁감이 늘어난다. 즉, 명소{明所} 콘트라스트가 저하한다. RΔq가 0.01㎛ 미만이면, 표면이 경면에 가까워지고, 정반사 성분이 늘어나 방현성이 현저하게 저하한다. 2승 평균 제곱근 경사 RΔq와 유사한 표면 형상 파라미터로서 평균 경사각 θa(JIS B 0601-1994)가 있다. 평균 경사각 θa도 경사를 표현하는 의미에서는 유사하지만, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq를 구하는 상기 식에서는, 미소 영역의 미분값을 2승 평균하고 있기 때문에, 보다 큰 각도 성분(백탁감이 든다{效; affect})이 강조된다. 따라서, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq는, 백탁도에 대해서 평균 경사각 θa보다도 감도가 높다.
거칠음 곡선의 평균 길이 RSm은, 방현성의 발현 방법과 상관되어 있다. 거칠음 곡선의 평균 길이는, 기준 길이에서의 윤곽 곡선 요소의 길이 Xs의 평균이며, 구체적으로는 하기의 식(3)에 의해 표현된다.
(수학식 3)
Figure pct00003
거칠음 곡선의 평균 길이 RSm은, 바람직하게는 0.05㎜ 이상 0.2㎜ 이하, 보다 바람직하게는 0.08㎜ 이상 0.15㎜이하이다. RSm이 0.05㎜ 미만이면, 방현성을 발현하지 않는 경향이 있고, RSm이 0.2㎜를 넘으면, 목시로 확인가능할 정도로 표면이 거칠어지는 경향이 있다. 0.08㎜ 이상 0.15㎜ 이하의 범위로 함으로써, 강한 광이 수직으로 액정 표시 장치에 입사하는 환경하에서도 뛰어난 방현성을 발현할 수가 있기 때문이다.
이 제1 실시형태에 의한 방현성 필름(1)의 2승 평균 제곱근 경사 RΔq는, 종래의 방현성 필름보다 작은 것으로 된다. 이것은, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq는 미소 범위에서의 경사를 평균화해서 구해지는 파라미터라는 것을 고려하면, 구체적으로는 이하의 것을 나타내고 있다는 것을 알 수 있다. 즉, 이 제1 실시형태에 의한 방현성 필름(1)은, 도 3에 도시하는 바와 같이, 연속적이고 가파르지 않은{완만한} 요철 형상을 가지는데 대해서, 종래의 방현성 필름은, 도 1에 도시하는 바와 같이, 가파른 각도 성분을 포함하는 요철 형상을 가지고 있다. 따라서, 이 제1 실시형태에 의한 방현성 필름(1)에서는, 광이 광각에 걸쳐서 확산하는 것을 억제하여, 표시 화면의 백탁화를 저감할 수 있는데 대해서, 종래의 방현성 필름에서는, 광이 광각에 걸쳐서 확산하기 때문에, 표시 화면이 백탁화해 버린다. 또한, 도 1에 도시하는 종래의 방현성 필름에서는, 입자 사이즈와 미립자의 돌출량에 의해 요철 형상이 결정된다.
대전 방지제로서는, 예를 들면 도전성 카본, 무기 미립자, 무기 미분말{微粉末}, 계면 활성제, 이온성 액체 등을 이용할 수가 있다. 이들 대전 방지제는 단독, 또는 2종 이상 병용해도 좋다. 무기 미립자 및 무기 미분말의 재료로서는, 예를 들면 도전성 금속 산화물을 주성분으로 하는 재료를 들 수 있다. 도전성 금속 산화물로서는, 예를 들면 산화 주석, 산화 인듐, ATO(안티몬도프 산화 주석), ITO(인듐도프 산화 주석), 안티몬 산화 아연 등을 이용할 수가 있다. 또, 대전 방지제로서 무기 미립자를 이용하는 경우에는, 상술한 응집체를 형성하는 미립자(13)중의 적어도 일부의 미립자가, 대전 방지제로서의 무기 미립자인 것이 바람직하다.
계면 활성제로서는, 예를 들면 카르본산계 화합물 및 포스페이트계 염과 같은 아니온계 또는 양성계{兩性系}의 화합물, 아민계 화합물이나 제4급 암모늄염과 같은 캐티온계 화합물, 지방산 다가 알콜 에스테르계 화합물이나 폴리옥시 에틸렌 부가물과 같은 비이온계 화합물, 폴리아크릴산 유도체와 같은 고분자계 화합물을 들 수 있다. 이온성 액체는, 실온에서 액상을 나타내는 용융염이다. 이온성 액체로서는, 용제 및 수지와 상용성{相溶性}을 가지고, 후술하는 건조 공정에서 용제를 휘발시킨 후에도 수지에 상용된 상태로 존재하는 것이 바람직하다. 또, 이온성 액체로서는, 계면 활성 효과가 작고, 도료에 첨가해도 미립자(13)의 대류 및 응집에 영향을 주지 않는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 이온쌍의 캐티온종으로서는, 예를 들면 질소함유{含窒素} 오늄으로 이루어지는 지방족의 4급 암모늄 캐티온, 질소함유 복소환 구조의 4급 암모늄 캐티온, 인함유{含燐} 오늄염으로 이루어지는 포스포늄 캐티온, 황함유{含硫黃} 오늄으로 이루어지는 술포늄 캐티온 등을 들 수 있다. 이온쌍의 아니온종으로서는, 예를 들면 할로겐 음이온, 유기 카르복실기 음이온, 유기 불소계 음이온 등을 들 수 있다. 특히, 아니온이 트리스(트리플로로메틸술포닐) 질산과 같은 유기 불소계 음이온이면, 상온에서 액체의 이온쌍으로 되기 쉬우므로 바람직하다. 또, 이온성 액체가 이온쌍 중에 장쇄{長鎖}의 알킬기를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 이온쌍 중에 장쇄의 알킬기가 포함되어 있으면, 계면 활성 효과가 높아지고, 미립자(13)의 응집에 영향을 주기 때문이다. 또, 이온성 액체는 수종류 병용해도 좋다.
(1-3) 방현성 필름의 제조 방법
다음에, 상술한 구성을 가지는 방현성 필름(1)의 제조 방법의 1예에 대해서 설명한다. 이 방현성 필름(1)의 제조 방법은, 기재(11) 위에, 미립자(13)와 수지와 용제를 포함하는 도료를 도공하고, 용제를 건조시킨 후 수지를 경화시키는 것이다.
(도료 조제)
우선, 예를 들면 수지와 미립자(13)와 용제를 디스퍼 등의 교반기나 비즈밀 등의 분산기로 혼합하고, 미립자(13)가 분산된 도료를 얻는다. 이 때, 필요에 따라 광안정제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 난연제, 산화 방지제 등을 더 첨가하도록 해도 좋다. 또, 점도 조정제로서, 실리카 미립자 등을 더 첨가하도록 해도 좋다.
용제로서는, 예를 들면 사용하는 수지 원료를 용해하고, 미립자(13)와의 젖음성{濡性: wettability}이 양호하며, 기재(11)를 백화시키지 않는 유기 용제 등을 사용할 수 있다. 유기 용제로서는, 예를 들면 제3급 부탄올, 초산 이소프로필 등을 들 수 있다.
수지는, 수지 전량에 대해서 바람직하게는 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머와, 80중량% 이상 97중량% 이하의 올리고머 및/또는 모노머, 보다 바람직하게는 5중량% 이상 15중량% 이하의 폴리머와, 85중량% 이상 95중량% 이하의 올리고머 및/또는 모노머를 포함하고 있다. 폴리머는, 경화 수축을 조제할 목적으로 첨가된다. 폴리머의 함유량이 3중량% 미만이면, 경화 수축이 크고, 표면이 거칠게 되며, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq 및 산술 평균 거칠음 Ra가 증대하고, 백탁도가 늘어난다. 한편, 폴리머를 20중량%를 넘어 과잉으로 첨가하면, 수지중의 경화 저해물의 비율이 증대하여, 도료의 점도가 증대한다. 이것에 의해, 미립자(13)의 분산성이 나빠지고, 미립자(13)의 소밀이 필요 이상으로 확실하기 때문에, 경화 수축의 차가 소밀 부분 사이에서 현저하게 나타나며, 백탁도가 늘어난다. 또, 폴리머를 20중량%를 넘어 과잉으로 첨가하면, 방현층(12)의 경도 저하도 두드러지게 된다.
방현층(12)의 마르텐스 경도는, 220N/㎟ 이상인 것이 바람직하지만, 폴리머를 20중량부를 넘어 첨가한 경우, 마르텐스 경도는 220N/㎟ 이상을 얻는 것이 곤란해진다.
본 발명에서는, 마르텐스 경도는 이하의 평가 방법에 의해 구해진 것이다.
기재(11) 위에 방현층(12)을 형성하고, 미립자(13)가 존재하지 않는 부분을 선택하고, 하기의 조건에서 압입{押入: indentation method}에 의한 표면 경도를 측정한다.
측정 장치: 피코덴터 HM-500(피셔·인스트루먼츠사{Fischer Instruments K.K})
압자{壓子: indenter): 비커스{Vickers} 압자
최대 압입 깊이: AG층 평균 두께의 10% 이하
수지로서는, 제조 용이성의 점에서, 예를 들면 자외선, 혹은 전자선에 의해 경화하는 전리 방사선 경화형 수지, 또는 열에 의해 경화하는 열 경화형 수지가 바람직하고, 자외선으로 경화할 수 있는 감광성 수지가 가장 바람직하다. 이와 같은 감광성 수지로서, 예를 들면 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 폴리올 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트, 멜라민 아크릴레이트 등의 아크릴레이트계 수지를 이용할 수가 있다. 경화후의 특성으로서, 화상 투과성의 점에서 투광성이 뛰어난 것, 또 내상성{耐傷性: scratch resistance}의 점에서 고경도를 가지는 것이 특히 바람직하며, 적당히 선택하는 것이 가능하다. 또한, 전리 방사선 경화형 수지는 자외선 경화형 수지에 특히 한정되는 것은 아니고, 투광성을 가지는 것이면 이용할 수 있지만, 착색, 헤이즈에 의해 투과광의 색상, 투과 광량이 현저하게 변화하지 않는 것이 바람직하다.
이와 같은 감광성 수지는, 수지를 형성할 수 있는 모노머, 올리고머, 폴리머 등의 유기 재료에 광 중합 개시제를 배합해서 얻어진다. 예를 들면, 우레탄 아크릴레이트 수지는, 폴리에스테르 폴리올에 이소시아네이트 모노머, 혹은 프리폴리머를 반응시키고, 얻어진 생성물에, 수산기를 가지는 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트계의 모노머를 반응시키는 것에 의해서 얻어진다.
감광성 수지에 포함되는 광 중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조페논 유도체, 아세토페논 유도체, 안트라퀴논 유도체 등을 단독으로, 혹은 병용해서 이용할 수가 있다. 이 감광성 수지에는, 피막 형성을 보다 좋게 시키는 성분 예를 들면 아크릴계 수지 등을 더 적당히 선택 배합해도 좋다.
또, 상기 감광성 수지에, 적어도 건조에 의해서 정착{定着}하는, 우레탄 수지, 아크릴 수지, 메타크릴 수지, 스틸렌 수지, 멜라민 수지, 셀룰로스계 수지, 또 전리 방사선 경화형 올리고머, 열 경화형 올리고머를 적당히 혼합해서 사용하는 것이 가능하다. 상기 수지를 적당히 혼합하는 것에 의해서, 방현층(12)의 딱딱함이나 컬을 조정하는 것이 가능하다. 상기에 한정되는 것은 아니고, 바람직하게는 폴리머는 아크릴 이중 결합과 같은 전리 방사선 감응기, -OH기 등의 열 경화성 기를 갖는 것을 사용하는 것이 가능하다.
이와 같이 조정되는 도료에 있어서, 도공전에, 도료에 포함되는 미립자(13)와 액체 성분과의 비중차를 조정하여, 미립자(13)의 적당한 침강 및/또는 응집을 일으키게 하는 것이 바람직하다. 도포후, 도공막 표면에, 비교적 경사각이 낮은 저각{低角} 반사부와 기울기를 갖는 광각 반사부가 혼재한 원하는 미세 요철을 형성할 수 있기 때문이다. 또, 미립자(13)와 수지와의 표면 장력 차를 조정하는 것이 바람직하다. 수지의 건조·경화시에, 미립자(13)와 미립자(13) 사이를 연결하는 수지의 경화 형상을 제어할 수가 있기 때문이다.
(도공)
다음에, 상술한 바와 같이 해서 얻어진 도료를, 기재(11) 위에 도공한다. 도료는, 건조후의 평균 막두께가, 바람직하게는 8㎛ 이상 18㎛ 이하, 보다 바람직하게는 9㎛ 이상 16㎛ 이하, 더욱더 바람직하게는 11㎛ 이상 13㎛ 이하로 되도록 도공된다. 평균 막두께가 얇으면 충분한 경도를 취할 수 없고, 두꺼우면 제조시에 수지를 경화시키는 과정에서 컬이 생기기 때문이다.
도공 방법은, 특히 한정되는 것은 아니고, 공지의 도공 방법을 이용할 수가 있다. 공지의 도공 방법으로서는, 예를 들면 마이크로 그라비어 코트법, 와이어 바 코트법, 다이렉트 그라비어 코트법, 다이 코트법, 딥법, 스프레이 코트법, 리버스 롤 코트법, 커튼 코트법, 콤마 코트법, 나이프 코트법, 스핀 코트법 등을 들 수 있다.
(건조·경화)
도료의 도공후, 건조 및 경화함으로써, 방현층(12)을 얻는다. 이 때, 종래와 비교해서 주기가 넓고, 가파르지 않은(즉, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 적당히 작은) 요철 형상을 방현층(12)의 표면에 형성한다. 이 때, 개개의 미립자(13)를 균일하게 분산하는 것이 아니라, 건조시의 대류에 의해서, 미립자(13)를 의도적으로 조밀하게 분포시키고, 미립자(13)가 빽빽하게 모인 부분을 하나의 산으로 해서, 매끄러운 기복을 가지는 표면 형상을 형성하는 것이다. 또, 건조 온도 및 건조 시간은 도료중에 포함되는 용제의 끓는점에 의해서 적당히 결정하는 것이 가능하다. 그 경우, 건조 온도 및 건조 시간은, 기재(11)의 내열성을 배려하여, 열수축에 의해 기재(11)의 변형이 일어나지 않는 범위에서 선정하는 것이 바람직하다.
이하에, 건조 공정 및 경화 공정에 대해서 구체적으로 설명한다.
우선, 기재(11) 위에 도공된 도료를 소정의 온도로 건조시키는 것에 의해, 도료에 대류를 발생시키고, 그 대류에 의해 미립자(13)를 조밀하게 분포시킨다.
미립자(13)의 소밀 분포의 정도는, 예를 들면 용제의 표면 장력과 미립자(13)의 표면 에너지를 적당히 조정하는 것에 의해 선택할 수가 있다. 또, 건조 온도 및 건조 시간은, 도료중에 포함되는 용제의 끓는점에 의해서 적당히 선정하는 것이 가능하다. 그 경우, 건조 온도 및 건조 시간은, 기재(11)의 내열성을 배려하여, 열수축에 의해 기재(11)의 변형이 일어나지 않는 범위에서 선정하는 것이 바람직하다.
건조 조건은 특히 한정되는 것은 아니며, 자연 건조이더라도, 건조 온도나 건조 시간 등을 조정하는 인공적 건조이더라도 좋다. 단, 건조시에 도료 표면에 바람을 쐬는 경우, 도막 표면에 풍문{風紋}이 생기지 않도록 하는 것이 바람직하다. 풍문이 생기면 방현층 표면에 원하는 가파르지 않은{완만한} 기복의 요철 형상이 형성되기 어렵게 되는 경향이 있으며, 방현성과 콘트라스트를 양립하는 것이 곤란하게 되기 때문이다.
다음에, 예를 들면 전리 방사선 조사 또는 가열에 의해, 기재(11) 위에서 건조된 수지를 경화시킨다. 이것에 의해, 미립자(13)가 빽빽한 부분과, 미립자(13)가 엉성한 부분에서의 경화 수축율의 상위{相違}에 의해서, 완만한 요철이 도료 표면에 발생한다. 즉, 미립자(13)가 빽빽한 부분을 하나의 산으로 해서, 주기가 큰 기복이 형성된다. 즉, 종래와 비교해서 주기가 넓고, 또한 가파르지 않은 요철 형상이 방현층(12)의 표면에 형성된다.
전리 방사선으로서는, 예를 들면 전자선, 자외선, 가시광선, 감마선, 전자선 등을 이용할 수가 있으며, 생산 설비의 관점에서, 자외선이 바람직하다. 자외선원으로서는, 예를 들면 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본 아크, 크세논 아크, 메탈할라이드 램프 등을 이용할 수가 있다. 적산 조사량은, 수지의 경화 특성, 수지나 기재(11)의 황변 억제 등을 고려해서 적당히 선택하는 것이 바람직하다. 또, 조사의 분위기는, 예를 들면 공기, 질소, 아르곤 등의 불활성 가스의 분위기를 들 수 있다.
이상에 의해, 목적으로 하는 방현성 필름이 얻어진다.
상술한 바와 같이, 이 제1 실시형태에 의하면, 미립자(13) 및 수지를 포함하는 도료를 기재(11) 위에 도포하고, 도료를 건조시키는 것에 의해, 도료에 대류를 발생시키고, 그 대류에 의해 미립자(13)를 조밀하게 분포시키고, 미립자(13)가 조밀하게 분포된 도료를 경화시킨다. 수지는, 수지 전{全}중량에 대해서 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고, 미립자(13)의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며, 방현층(12)의 평균 막두께가, 8㎛ 이상 18㎛ 이하이다. 따라서, 고콘트라스트이고 또한 뛰어난 방현성을 가지는 방현성 필름을 실현할 수 있다.
(2) 제2 실시형태
(2-1) 방현성 필름의 구성
도 6은, 본 발명의 제2 실시형태에 의한 방현성 필름의 구성의 1예를 도시한다. 도 6에 도시하는 바와 같이, 이 제2 실시형태에 의한 방현성 필름(1)은, 방현층(12) 위에 저굴절률 층(14)을 더 구비하는 점에서, 상술한 제1 실시형태와 다르다. 기재(11) 및 방현층(12)은, 상술한 제1 실시형태와 마찬가지이므로, 동일한 부호를 붙여서 그 설명을 생략한다.
도 6에 도시하는 바와 같이, 저굴절률 층(14)은, 방현층 표면의 기복을 모방하도록{따르도록} 설치되어 있는 것이 바람직하고, 거의 한결같은 두께를 가짐과 동시에, 반사 방지층 표면의 기복이 방현층 표면과 거의 동등하게 가파르지 않은 기복을 가지고 있는 것이 보다 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 저굴절률 층(14)을 설치한 경우에도 콘트라스트와 방현성을 양립할 수 있다. 또한, 상술한 바와 같이 저굴절률 층(14)이 거의 한결같은 두께인 것이 이상적이지만, 저굴절률 층(14)은 방현층(12) 위의 모든 영역에 설치되어 있을 필요는 없고, 방현층(12)의 돌기부{突部}를 제외한 대부분, 즉 비교적 평활하고 반사가 큰 부분에 저굴절률 층이 거의 균일하게 형성되어 있으면, 충분한 콘트라스트를 얻을 수가 있다.
도 7은, 도 6에 도시한 저굴절률 층(14)을 확대해서 도시하는 단면도이다. 도 7에 도시하는 바와 같이, 저굴절률 층(14)은, 예를 들면 수지와, 중공 미립자(15)를 포함하고 있다. 중공 미립자(15)는, 방현층(12)의 표면 전체에 분산되어 있는 것이 바람직하다. 또, 중공 미립자(15)는, 저굴절률 층(14)에 매설{埋設}되며, 매설된 중공 미립자(15)는, 저굴절률 층(14)의 두께 방향으로 2∼3개 정도 겹쳐서 중공 미립자(15)의 층이 형성되어 있는 것이 바람직하다.
(2-2) 방현성 필름의 제조 방법
다음에, 제2 실시형태에 의한 방현성 필름의 제조 방법의 1예에 대해서 설명한다. 이 제2 실시형태에 의한 방현성 필름의 제조 방법은, 방현층의 형성 공정후에 저굴절률 층의 형성 공정을 더 구비하는 점에서, 상술한 제1 실시형태와 다르다. 따라서, 이하에서는, 저굴절률 층의 형성 공정에 대해서만 설명한다.
(도료 조제)
우선, 예를 들면 디스퍼 등의 교반기나 비즈밀 등의 분산기에 의해, 중공 미립자(15), 수지 및 용제를 혼합해서, 도료를 조제한다. 또, 필요에 따라, 광안정제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 난연제, 산화 방지제 등의 첨가제를 첨가하도록 해도 좋다.
수지로서는, 광 또는 전자선 등에 의해 경화하는 전리 방사선 경화형 수지, 또는 열에 의해 경화하는 열 경화형 수지를 단독으로, 또는 혼합한 것을 이용할 수가 있으며, 제조 용이성의 관점에서 보면, 자외선에 의해 경화하는 감광성 수지가 가장 바람직하다. 전리 방사선 경화형 수지는, 다관능 모노머를 90% 이상 포함하고 있는 것이 바람직하다. 다관능 모노머로서는, 예를 들면 다가 알콜과 (메타)아크릴산과의 에스테르, 구체적으로는 예를 들면 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1, 4-디시클로헥산 디아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리메치롤에탄 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 1, 2, 3-시클로헥산 테트라메타크릴레이트, 폴리우레탄 폴리아크릴레이트, 폴리에스테르 폴리아크릴레이트 등을 들 수 있다.
중공 미립자(15)로서는, 실리카, 알루미나 등의 무기 미립자, 스틸렌, 아크릴 등의 유기 미립자를 들 수 있지만, 실리카 미립자가 특히 바람직하다. 이 중공 미립자(15)는 내부에 공기를 함유하고 있기 때문에, 그것 자신의 굴절률은, 통상의 미립자와 비교해서 낮아진다. 예를 들면, 실리카 미립자의 굴절률은 1.46인데 대해서, 중공 실리카 미립자의 굴절률은 1.45이하이다.
중공 미립자(15)의 평균 입경은, 10∼200㎚인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 30∼60㎚이다. 평균 입경이 200㎚를 넘으면, 가시광선 파장에 비해서 무시할 수 없는 사이즈로 되기 때문에, 저굴절률 층(14)의 표면에서 광이 산란된다. 따라서, 투명성이 저하하고, 표시면 등이 햐얗게 보여 버린다. 또, 평균 입경이 10㎚ 미만이면, 중공 미립자(15)가 응집하기 쉽게 되어 버린다. 또, 중공 실리카 미립자 등의 중공 미립자(15)는, 수지와의 친화성을 향상하는 관점에서, 전리 방사선으로 중합하는 (메타)아크릴로일기를 표면에 가지는 것이 바람직하다.
첨가제로서는, 예를 들면 변성 실리콘 아크릴레이트 화합물 등을 이용해도 좋고, 구체적으로는 디메틸 실리콘 분자내에 적어도 1개 이상의 유기기를 가지는 것을 들 수 있다. 디메틸 실리콘에 결합되어 있는 유기기 당량은, 1630g/㏖ 이상인 것이 바람직하다. 유기기 당량의 측정 방법으로서는, 핵 자기 공명 측정법(NMR)을 이용해서 디메틸 실리콘 분자내의 메틸기의 ¹H와 유기기의 ¹H와의 피크 강도비로부터 산출하는 방법을 이용할 수가 있다. 유기기로서는, 예를 들면 메타크릴기, 아크릴기, 메르캅토기 등을 들 수 있다.
용제로서는, 사용하는 수지를 용해하고, 또한 하지{下地; underlayer}로 되는 방현층(12)을 용해하지 않는 것이 바람직하다. 이와 같은 용제로서, 예를 들면 제3급 부탄올, 톨루엔, 메틸 에틸 케톤(MEK), 이소프로필 알콜(IPA), 메틸 이소부틸 케톤(MIBK) 등의 유기 용제를 들 수 있다.
(도공)
다음에, 상술한 바와 같이 조제한 도료를, 방현층(12) 위에 도공한다. 도료의 도공 방법으로서는, 예를 들면 그라비어 코터, 바 코터, 다이 코터, 나이프 코터, 콤마 코터, 스프레이 코터, 커튼 코터 등을 들 수 있다. 또한, 도공 방법은, 상기 방법에 한정되는 것은 아니며, 소정량의 두께를 균일하게 도포할 수 있으면 어떠한 것이라도 좋다.
(건조·경화)
다음에, 방현층(12) 위에 도공된 도료를 건조, 경화시킨다. 이것에 의해, 가파르지 않은 요철 형상을 가지는 저굴절률 층(14)이 방현층(12) 위에 형성된다. 건조, 경화의 방법으로서는, 상술한 제1 실시형태에서의 방현층의 제작 공정과 마찬가지 것을 이용할 수가 있다.
이상에 의해, 목적으로 하는 방현성 필름(1)이 얻어진다.
이 제2 실시형태에 의하면, 방현층(12) 위에는 저굴절률 층(14)을 더 설치하고 있으므로, 상술한 제1 실시형태에 비해서 반사율을 보다 저감할 수가 있다.
(3) 제3 실시형태
도 8은, 본 발명의 제3 실시형태에 의한 방현성 필름의 구성의 1예를 도시한다. 도 8에 도시하는 바와 같이, 이 방현성 필름(1)은, 방현층(12) 위에 다층 반사 방지층을 구비하는 점에서, 상술한 제1 실시형태와 다르다. 기재(11) 및 방현층(12)은, 상술한 제1 실시형태와 마찬가지이므로, 동일한 부호를 붙여서 그 설명을 생략한다.
다층 반사 방지층(16)은, 저굴절률 층(16L) 및 고굴절률 층(16H)을 아울러 가지는 적층막이며, 저굴절률 층(16L) 및 고굴절률 층(16H)의 적층수는 원하는 특성에 따라 적당히 선택하는 것이 바람직하다. 저굴절률 층(16L)의 재료로서는, 예를 들면
Figure pct00004
, SiO₂, Al₂O₃ 및 이들의 혼합물 등을 이용할 수가 있지만, 특히 이들 재료에 한정되는 것은 아니고, 종래 공지의 저굴절률 재료로부터 저굴절률 층(16L)으로서 요구되는 특성에 따라 임의로 선택해서 사용할 수가 있다. 고굴절률 층(16H)의 재료로서는, 예를 들면 TiO₂,
Figure pct00005
,
Figure pct00006
, WO₃ 및 이들의 혼합물 등을 이용할 수가 있지만, 특히 이들 재료에 한정되는 것은 아니고, 종래 공지의 고굴절률 재료로부터 고굴절률 층(16H)으로서 요구되는 특성에 따라 임의로 선택해서 사용할 수가 있다. 저굴절률 층(16L) 및 고굴절률 층(16H)의 성막 방법으로서는, 매우 적합하게는 스퍼터링법이 이용되지만, 이 방법에 한정되는 것은 아니다.
또, 도 8에 도시하는 바와 같이, 필요에 따라, 방현성 필름(1)의 표면에 대한 더러움 부착의 억제 등의 관점에서, 다층 반사 방지층(16) 위에 방오층{防汚層; antifouling layer}(17)을 더 구비하도록 해도 좋다. 방오층(17)으로서는, 매우 적합하게는, 불소계 화합물이 이용되지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.
이 제3 실시형태에 의하면, 방현층(12) 위에는 다층 반사 방지층(16)을 더 설치하고 있으므로, 상술한 제1 실시형태에 비해서 반사율을 보다 저감할 수가 있다.
(4) 제4 실시형태
이 제4 실시형태는, 상술한 제1 실시형태에서 방현성 필름으로서 이용한 광학 필름을, 안티 뉴턴링(Anti Newton-Ring: ANR) 필름(이하, ANR 필름이라고 칭한다.)으로서 이용하는 것이다.
도 9, 도 10은, 본 발명의 제4 실시형태에 의한 표시 장치의 구성예를 도시한다. 이 표시 장치는, 표시부(21)와, 이 표시부(21)의 전면측에 설치된 전면 부재(22)를 구비한다. 표시부(21)와 전면 부재(22) 사이에는, 예를 들면 공기층이 형성되어 있다. 표시부(21)의 전면측, 및 전면 부재(22)의 이면측의 적어도 한쪽에, ANR 필름(23)이 구비되어 있다. 구체적으로는, 도 9에서는, 전면 부재(22)의 이면측에 ANR 필름(23)을 구비하는 표시 장치의 예가 도시되어 있다. 또, 도 10에서는, 표시부(21)의 전면측, 및 전면 부재(22)의 이면측의 양쪽에 ANR 필름(23)을 구비하는 표시 장치의 예가 도시되어 있다. 뉴턴링 발생의 억제의 관점에서 보면, 표시부(21)의 표시면측, 및 전면 부재(22)의 이면측의 양쪽에 ANR 필름(23)을 구비하는 것이 바람직하다. ANR 필름(23)과, 전면 부재(22) 또는 표시부(21)는, 접착제 등을 거쳐서 접합되어 있다. 또한, 본 발명에 있어서, 전면{前面}이란 표시면으로 되는 측의 면, 즉 관찰자측으로 되는 면을 나타내며, 이면이란 표시면과는 반대로 되는 측의 면을 나타낸다.
표시부(21)로서는, 예를 들면 액정 디스플레이, CRT(Cathode Ray Tube) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이(Plasma Display Panel: PDP), 유기 EL(Electro Luminescence) 디스플레이, 무기 EL 디스플레이, 표면 전도형 전자 방출 소자 디스플레이(Surface-conduction Electron-emitter Display: SED), 전계 방출형 디스플레이(Field Emission Display: FED) 등을 이용할 수가 있다.
전면 부재(22)는, 표시부(21)의 전면(관찰자측)에 기계적, 열적 및 내후적 보호나, 의장성을 목적으로 해서 이용하는 것이다. 전면 부재(22)는, 예를 들면 시트모양, 필름모양 또는 판모양을 가진다. 전면 부재(22)의 재료로서는, 예를 들면 유리, 트리아세틸 셀룰로스(TAC), 폴리에스테르(TPEE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리이미드(PI), 폴리아미드(PA), 아라미드, 폴리에틸렌(PE), 폴리아크릴레이트, 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌(PP), 디아세틸 셀룰로스, 폴리염화 비닐, 아크릴 수지(PMMA), 폴리카보네이트(PC) 등을 이용할 수가 있지만, 특히 이들의 재료에 한정되는 것은 아니며, 투명성을 가지는 재료이면 이용할 수가 있다.
도 11은, ANR 필름의 구성의 1예를 도시한다. ANR 필름(23)은, 표시 장치에서의 뉴턴링의 발생을 억제하기 위한 것이다. 도 11에 도시하는 바와 같이, ANR 필름(23)은, 기재(24)와, 이 기재(24) 위에 설치된 ANR 층(25)을 가진다. ANR 필름(23)은, 접착층(26)을 거쳐서 전면 부재(22) 등의 피착체에 대해서 접합되어 있다. 접착층(26)은, 접착제를 주성분으로 한다. 이 접착제로서는, 예를 들면 광학 필름의 기술분야에서 공지의 것을 이용할 수가 있다. 또한, 본 명세서에서는, 감압성 점착제(PSA: Pressure Sensitive Adhesive) 등의 점착제도 접착제의 일종으로 간주한다.
ANR 필름(23)으로서는, 제1 실시형태에서의 방현성 필름(1)과 마찬가지 것을 이용할 수가 있다. 구체적으로는, 기재(24), ANR 층(25)으로서는 각각, 제1 실시형태에서의 기재(11), 방현층(12)과 마찬가지 것을 이용할 수가 있다.
또한, 이 제4 실시형태에서는, 제1 실시형태와는 달리, 광학 필름인 ANR 필름(23)을, 표시 장치의 최표면에 이용하지 않으므로, 표면 경도의 허용값을 넓히는 것이 가능하다. 따라서, ANR 층(12)의 평균 막두께는, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하, 바람직하게는 8㎛ 이상 18㎛ 이하, 보다 바람직하게는 9㎛ 이상 16㎛ 이하, 가장 바람직하게는 11㎛ 이상 13㎛ 이하이다. 평균 막두께가 6.4㎛ 미만이면 경도가 저하하고, ANR 층(12)으로서 표시 장치에 설치하는 것이 곤란하게 됨과 동시에, 건조 응집이 두드러지고, 표면이 유자껍질모양으로 되며, 번쩍거림이 생겨 버린다. 평균 막두께가 18㎛를 넘으면 제조시에 수지를 경화시키는 과정에서 컬이 현저하게 생긴다.
또, 도 11에 도시하는 바와 같이, 반사광의 저감의 관점에서, AR(Anti-Reflection) 층(27)을 ANR 층(25) 위에 더 형성하는 것이 바람직하다. AR 층(27)으로서는, 드라이 방식 및 웨트 방식의 어느 것도 이용할 수가 있지만, 웨트 방식의 것이 바람직하다. 웨트 방식의 AR 층(27)으로서는, 예를 들면 불소계 수지를 포함하는 것, 혹은 실리카 등의 중공 미립자를 포함하는 것을 이용할 수가 있다.
본 발명의 제4 실시형태에 의하면, 표시부(21)의 전면측, 및 전면 부재(22)의 이면측의 적어도 한쪽에, ANR 필름(23)을 배치함으로써, 뉴턴링의 발생을 억제하거나, 혹은 신경이 쓰이지 않을 정도까지 뉴턴링의 발생을 저감하는 것이 가능하다.
(5) 제5 실시형태
도 12, 도 13은, 본 발명의 제5 실시형태에 의한 표시 장치의 구성예를 도시한다. 이 제5 실시형태는, 표시부(21)와, 이 표시부(21)의 이면측에 설치된 이면 부재(26)를 구비하고, 표시부(21)의 이면측, 및 이면 부재(26)의 전면측의 적어도 한쪽에, ANR 필름(23)을 구비하는 점에서, 제4 실시형태와는 다르다.
구체적으로는, 도 12에서는, 표시부(21)의 이면측에 ANR 필름(23)을 구비하는 표시 장치의 예가 도시되어 있다. 또, 도 13에서는, 표시부(21)의 이면측, 및 이면 부재(26)의 전면측의 양쪽에 ANR 필름(23)을 구비하는 표시 장치의 예가 도시되어 있다. 또한, 상술한 제4 실시형태와 마찬가지 부분에는 동일한 부호를 붙여서 설명을 생략한다.
이면 부재(26)는, 예를 들면 시트모양, 필름모양, 또는 판모양을 가진다. 표시부가 액정 디스플레이인 경우, 이면 부재(26)는, 예를 들면 광원 조도를 면내에서 균일화하기 위한 확산판 또는 확산 시트, 시야각을 제어하기 위한 렌즈 필름, 광원으로부터의 광을 편광 분리해서 재이용하기 위한 편광 분리 반사 필름 등이다.
이 제5 실시형태에 의하면, 표시부(21)의 이면측, 및 이면 부재(26)의 전면측의 적어도 한쪽에, ANR 필름(23)을 배치함으로써, 뉴턴링의 발생을 억제하거나, 혹은 신경이 쓰이지 않을 정도까지 뉴턴링의 발생을 저감하는 것이 가능하다.
(6) 제6 실시형태
도 14는, 본 발명의 제6 실시형태에 의한 표시 장치의 구성의 1예를 도시한다. 이 제6 실시형태는, 표시부(21)의 전면측, 및 전면 부재(22)의 이면측의 적어도 한쪽에, 접착제 등을 거치지 않고 ANR 층(25)을 직접 형성하고 있는 점에서, 제4 실시형태와는 다르다. 도 14에서는, 전면 부재(22)의 이면측에, ANR 층(25)을 직접 형성하고 있는 예가 도시되어 있다. 상술한 제4 실시형태와 마찬가지 부분에는 동일한 부호를 붙여서 설명을 생략한다.
또한, 제5 실시형태에서도 마찬가지로, 표시부(21)의 이면측, 및 이면 부재(26)의 전면측의 적어도 한쪽에, ANR 층(25)을 직접 형성하도록 해도 좋다.
이 제6 실시형태에 의하면, 표시부(21)의 전면측, 및 전면 부재(22)의 이면측의 적어도 한쪽에, ANR 층(25)을 직접 형성하고 있으므로, 표시 장치의 구성 및 제조 공정을 제4 실시형태에 비해서 간략화할 수 있다.
[실시예]
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하겠지만, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되는 것은 아니다.
이 실시예에서, 미립자의 평균 입경 및 방현층의 건조 막두께는 이하와 같이 해서 측정한 것이다.
(미립자의 평균 입경)
미립자의 평균 입경은, 콜터 멀티사이저{Coulter Multisizer}에 의해 입자 지름을 측정하고, 얻어진 데이터를 평균해서 구했다.
(방현층의 건조 막두께)
방현층의 건조 막두께(평균 막두께)는, 접촉식 두께 측정기(TESA 주식회사제)를 이용해서 이하와 같이 해서 구했다. 우선, 접촉 단자는 6㎜φ의 원통형 형상을 이용해서 방현층이 찌그러지지 않을 정도의 저하중으로, 원통 단자를 방현층에 접촉시켰다. 그리고, 임의의 점을 5군데 측정하고, 방현성 필름 총두께의 평균값
Figure pct00007
를 구했다. 또, 동일 기재의 미{未}도포부의 두께를 측정하고, 기재의 두께
Figure pct00008
를 구했다. 평균값
Figure pct00009
로부터 기재의 두께
Figure pct00010
를 차감한 값을 방현층 두께로 했다. 미도포부가 얻어지지 않는 경우에는, 방현성 필름의 절단면을 마이크로톰{microtome}법 등에 의해 제작하며, 기재의 두께를 측정하는 것이 가능하다. 그러나, 미시적인 막두께로 되기 때문에, 전자와 같이 평균 막두께로서 구하는 것이 바람직하다.
(실시예 1)
하기의 도료 조성에 나타내는 원료를 배합하고, 마그네틱 스터러로 1시간 교반해서 도료를 얻었다. 다음에, 얻어진 도료를 바코터로 두께 80㎛의 TAC 필름(후지필름사{Fujifilm Corporation}제) 위에 도공하고, 80℃의 건조로에서 2분간 건조후, 자외선을 1J/㎠ 조사하고, 건조 막두께 13.2㎛의 방현층을 형성했다. 이상에 의해, 목적으로 하는 광학 필름을 얻었다.
<도료 조성>
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 90중량부
아크릴계 폴리머 10중량부
개시제 이르가큐어184 5중량부
용제 초산 부틸 65중량부
탄산 디메틸 53중량부
실리콘계 레벨링제 0.05중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사{積水化成品工業株式會社; Sekisui Plastics Co.,Ltd}제 테크폴리머, 굴절률 1.515, 평균 입경 5.5㎛, 변동 계수 8) 10중량부
(실시예 2)
하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 16.3㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.510, 평균 입경 5.5㎛, 변동 계수 8) 10중량부
(실시예 3)
하기 이외는, 동일 재료, 동일 공정.
즉, 하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 9.4㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.525, 평균 입경 5.5㎛, 변동 계수 8) 10중량부
(실시예 4)
하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 8.8㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.500, 평균 입경 5.5㎛, 변동 계수 8) 10중량부
(실시예 5)
하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 8.1㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.545, 평균 입경 2.5㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(실시예 6)
하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 17.3㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.515, 평균 입경 8㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(실시예 7)
하기의 수지 및 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 11㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 97중량부
아크릴계 폴리머 3중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.510, 평균 입경 4.5㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(실시예 8)
하기의 수지 및 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 11㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 95중량부
아크릴계 폴리머 5중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.510, 평균 입경 4.5㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(실시예 9)
하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 11㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 85중량부
아크릴계 폴리머 15중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.510, 평균 입경 4.5㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(실시예 10)
하기의 수지 및 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 11㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 80중량부
아크릴계 폴리머 20중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.510, 평균 입경 4.5㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(실시예 11)
우선, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 13.2㎛의 방현층을 가지는 방현성 필름을 얻었다. 다음에, 얻어진 방현성 필름 위에, 중공 실리카로 이루어지는 저굴절률 도료를 바코터로 120㎚ 도공후, 경화시켰다. 이것에 의해, 저굴절률 층(반사 방지 코트)이 방현층 위에 형성되었다. 이상에 의해, 목적으로 하는 방현성 필름을 얻었다.
(실시예 12)
우선, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 13.2㎛의 방현층을 가지는 방현 필름을 얻었다. 다음에, 막두께 5㎚의
Figure pct00011
막, 막두께 10㎚의
Figure pct00012
막, 막두께 30㎚의 SiO₂막, 막두께 100㎚의
Figure pct00013
막, 막두께 90㎚의 SiO₂막을, 이 순서로 스퍼터링법에 의해 방현층 위에 적층했다. 이것에 의해, 다층 반사 방지층이 방현층 위에 형성되었다. 이상에 의해, 목적으로 하는 방현성 필름을 얻었다.
(실시예 13)
하기의 도료 조성에 나타내는 원료를 배합하고, 마그네틱 스터러로 1시간 교반해서 도료를 얻었다. 다음에, 얻어진 도료를 바코터로 두께 80㎛의 TAC 필름(후지필름사제) 위에 도포하고, 80℃의 건조로에서 2분간 건조후, 자외선을 500mJ/㎠ 조사하고, 건조 막두께 8㎛의 방현층을 형성했다. 이상에 의해 실시예 13의 광학 필름을 얻었다.
<도료 조성>
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 90중량부
아크릴계 폴리머 10중량부
개시제 이르가큐어184 5중량부
용제 초산 부틸 65중량부
탄산 디메틸 53중량부
실리콘계 레벨링제 0.05중량부
가교성 아크릴 비즈(소켄 화학 주식회사{綜硏化學株式會社; Soken Chemical & Engineering Co.,Ltd.})제, 굴절률 1.525, 평균 입경 5.0㎛, 변동 계수 7) 9중량부
(실시예 14)
하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 8㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회제 테크폴리머, 굴절률 1.525, 평균 입경 5.0㎛, 변동 계수 8) 9중량부
(실시예 15)
우선, 실시예 14와 마찬가지로 해서, 평균 막두께 8㎛의 방현층을 가지는 방현성 필름을 얻었다. 다음에, 얻어진 방현성 필름 위에, 중공 실리카로 이루어지는 저굴절률 도료를 바코터로 120㎚ 도공후, 경화시켰다. 이것에 의해, 저굴절률 층(반사 방지 코트)이 방현층 위에 형성되었다. 이상에 의해, 목적으로 하는 광학 필름을 얻었다.
(실시예 16)
하기의 수지 및 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 6.4㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 95중량부
아크릴계 폴리머 5중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.525, 평균 입경 4.0㎛, 변동 계수 8) 9중량부
(실시예 17)
미립자로서 하기의 굴절률을 가지는 것을 이용하는 것 이외는, 실시예 13과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 8㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴 비즈(소켄 화학 주식회사제, 굴절률 1.560, 평균 입경 5.0㎛, 변동 계수 7) 9중량부
(비교예 1)
건조 막두께를 7.3㎛로 하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 7.3㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
(비교예 2)
하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 8㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.515, 평균 입경 1.8㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(비교예 3)
하기의 수지 및 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 11㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 100중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.510, 평균 입경 4.5㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(비교예 4)
하기의 수지 및 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 11㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 75중량부
아크릴계 폴리머 25중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.510, 평균 입경 4.5㎛, 변동 계수 8) 15중량부
(비교예 5)
하기의 수지 및 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 18㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 95중량부
아크릴계 폴리머 5중량부
아크릴 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.495, 평균 입경 8㎛, 변동 계수 8) 10중량부
(비교예 6)
하기의 수지 및 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 8㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 90중량부
아크릴계 폴리머 10중량부
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.560, 평균 입경 6㎛, 변동 계수 30) 6중량부
(비교예 7)
하기의 미립자를 배합하는 것 이외는, 실시예 13과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 10㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.49, 평균 입경 5.0㎛, 변동 계수 8) 10중량부
(비교예 8)
하기의 수지 및 미립자를 배합하는 것 이외는, 실시예 13과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 11㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
6관능 우레탄 아크릴 올리고머 88중량부
아크릴계 폴리머 22중량부
가교성 아크릴 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.57, 평균 입경 5.0㎛, 변동 계수 8) 10중량부
(비교예 9)
하기의 미립자를 하기의 첨가량 배합하는 것 이외는, 실시예 16과 마찬가지로 해서, 평균 막두께 5㎛의 방현층을 가지는 광학 필름을 얻었다.
가교성 아크릴-스틸렌 공중합 미립자(세키스이 화성품 공업 주식회사제 테크폴리머, 굴절률 1.525, 평균 입경 4.0㎛, 변동 계수 8) 9중량부
(비교예 10)
방현층의 평균 막두께를 19㎛로 하는 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 해서 방현성 필름을 얻었다.
실시예 및 비교예의 방현성 필름의 거칠음, 백탁도, 방현성, 마르텐스 경도, 및 미립자의 상태를 이하와 같이 해서 평가했다.
(거칠음 평가)
실시예 및 비교예의 방현성 필름에 대해서, 표면 거칠음을 측정하고, 2차원 단면 곡선으로부터 거칠음 곡선을 취득하며, 거칠음 파라미터로서 산술 평균 거칠음 Ra, 거칠음 곡선의 2승 평균 제곱근 거칠음 RΔq, 윤곽 곡선 요소의 평균 길이 RSm을 산출했다. 그 결과를 표 1∼표 5에 나타낸다. 또한, 측정 조건은 JIS B0601:2001에 준거했다. 이하에 측정 장치 및 측정 조건을 나타낸다.
측정 장치: 전자동 미세 형상 측정기 서프코더{Surfcorder} ET4000A(주식회사 고사카 연구소{株式會社小坂硏究所; Kosaka Laboratory,Ltd.})
λc=0.8㎜, 평가 길이 4㎜, 컷오프×5배
데이터 샘플링 간격 0.5㎛
(백탁도)
실시예 및 비교예의 방현성 필름에 대해서, 백탁도의 측정을 행했다. 그 결과를 표 1∼표 5에 나타낸다. 백탁감은, 방현층 표면에서 확산된 반사광을 검출하는 것에 의해 느낀다. 여기에서는, 시판{市販}의 분광 측색계{測色計}를 사용하고, 상기 현상을 모의적으로 재현하고, 정량화한 값을 백탁도로 했다. 또한, 본 측정의 백탁도는, 시각적으로 느끼는 백탁감과 상관이 있다는 것을 실험에 의해 확인하고 있다.
백탁도의 구체적인 측정법을 이하에 나타낸다. 우선, 이면 반사의 영향을 억누르고 방현성 필름 자체의 확산 반사를 평가하기 위해서, 얻어진 방현성 필름의 이면에 점착제를 거쳐서 흑색{黑色} 아크릴판(미츠비시 레이욘 주식회사{Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.}제 아크릴레이트L 502)을 접합했다. 다음에, X라이트사{X-Rite Inc.}제의 적분 구형{球型} 분광 측색계 SP64를 이용하고, D65 광원을 사용하며, 확산광을 시료 표면에 조사해서 시료 법선 방향으로부터 8° 방향으로 기울어진 위치에 존재하는 검출기로 반사광을 측정하는 d/8° 광학계로 측정을 행했다. 측정값은 정반사 성분을 제외하고 확산 반사 성분만 검출하는 SPEX 모드를 채용하며, 검출 시야각 2°로 행했다. 이것에 의해서, 광원 강도에 대한 확산 반사 강도의 비율을 구할 수가 있다.
(방현성의 평가 1)
실시예 및 비교예의 방현성 필름에 대해서, 방현성을 이하와 같이 해서 평가했다. 우선, 흑색 아크릴판(A4 사이즈)에 방현성 필름을 점착층을 거쳐서 접합하여, 평가 샘플을 제작했다. 다음에, 밝기 200룩스의 실내에서, 방현 필름(판)을 눈 높이에 수직으로 배치하고, 자신의 얼굴을 비쳐넣게 했다. 이 때, 방현성 필름으로부터 관찰자의 얼굴까지의 거리를 50㎝로 했다. 이 반사상의 비쳐넣음{映入; reflection} 정도를 하기의 기준으로 평가했다. 그 결과를 표 1∼표 5에 나타낸다.
A: 반사상의 눈을 인식할 수 없다.
B: 눈은 어느 정도 인식할 수 있지만, 윤곽이 희미해져 있다.
C: 눈이 그대로 비쳐넣어진다.
(방현성의 평가 2)
실시예 및 비교예의 방현성 필름에 대해서, 방현성을 이하와 같이 해서 평가했다.
방현성 필름을 흑색 아크릴판에 점착제를 거쳐서 접합하고, 2m 떨어진 형광등(300룩스)을 수직으로 비쳐넣게 하고, 형광관의 에지의 비쳐넣음 정도를 비교했다. 이 비쳐들어옴을 하기의 기준으로 평가했다. 그 결과를 표 1∼표 5에 나타낸다.
a: 형광관의 에지를 인식할 수 없다
b: 형광관의 에지를 인식하기 어렵다
c: 형광관이 그대로 비쳐넣어진다
(마르텐스 경도)
실시예 및 비교예의 방현성 필름에 대해서, 미립자가 존재하지 않는 부분을 선택하고, 하기의 조건에서 압입에 의한 표면 경도를 측정했다. 그 결과를 표 1∼표 5에 나타낸다.
측정 장치: 피코덴터 HM-500(피셔·인스트루먼츠사)
압자: 비커스 압자
최대 압입 깊이: 도막 두께(AG층의 두께)의 10% 이하
(미립자의 상태)
실시예 및 비교예의 방현성 필름에 대해서, 광학 현미경의 관찰에 의해서, 유기 미립자의 분포 상태를 관찰했다. 그 결과를 표 1∼표 3에 나타낸다. 또한, 유기 미립자에 소밀이 있는 경우를 「○」, 유기 미립자에 소밀이 없고, 균일하게 분포되어 있는 경우를 「×」로 했다.
또, 실시예 1∼10, 비교예 1∼5 중, 실시예 1, 비교예 5의 방현성 필름의 투과 미분 간섭 사진을 대표해서 도 15, 도 16에 도시한다.
이하에 관찰 조건을 나타낸다.
관찰 조건 : 올림퍼스사{Olympus Corporation}제 광학 현미경 BX51 배율 20배 투과상
(뉴턴링)
다음에, 흑색 아크릴판에 방현층 면을 접하도록 방현 필름을 재치{載置; place}했다. 다음에, 방현층과 반대면으로부터 300g/㎠의 하중을 가하고, 목시{目視}에 의해 뉴턴링의 유무를 평가했다. 그 결과를 표 1∼표 5에 나타낸다.
(번쩍거림)
13인치의 액정 디스플레이를 가지는 노트북형 PC(퍼스널 컴퓨터)의 전면{前面}에 공기층을 거쳐서 아크릴판을 배치하고, 그 아크릴판의 액정 디스플레이 측에 각 광학 필름을 점착제를 거쳐서 접합했다. 다음에, 액정 디스플레이에 백색의 단색을 표시시키고, 번쩍거림의 유무를 평가했다. 그 결과를 표 1∼표 5에 나타낸다.
(표 1)
Figure pct00014
(표 2)
Figure pct00015
(표 3)
Figure pct00016
(표 4)
Figure pct00017
(표 5)
Figure pct00018
표 1∼표 5로부터 이하를 알 수 있다.
실시예 1∼17에서는, 수지에 대한 폴리머의 함유량을 3중량% 이상 20중량% 이하, 미립자의 평균 입경을 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하, 방현층의 평균 막두께를 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하로 하고 있으므로, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛의 범위내이며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03의 범위내로 되어 있다. 따라서, 콘트라스트와 방현성을 양립할 수가 있다.
또, 실시예 10, 12에서는, 방현층 위에 저반사층, 반사 방지층을 형성하고 있으므로, 실시예 1에 비해서 백탁도를 저감할 수 있다.
비교예 1에서는, 방현층의 건조 막두께가 8∼18㎛의 범위에서 벗어나며, 또한 비율 R이 30%∼70%의 범위에서 벗어나 있으므로, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛에서 벗어나며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03에서 벗어나 있다. 따라서, 뛰어난 방현성이 얻어지지만, 백탁도가 증대해 버리고 있다.
비교예 2에서는, 입자 지름 및 비율 R이 30%∼70%의 범위에서 벗어나 있으므로, 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03에서 벗어나 있다. 따라서, 뛰어난 방현성이 얻어지지만, 백탁도가 증대해 버리고 있다.
비교예 3에서는, 폴리머의 함유량이 3중량%∼20중량%의 범위에서 벗어나 있으므로, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛에서 벗어나며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03에서 벗어나 있다. 따라서, 뛰어난 방현성이 얻어지지만, 백탁도가 증대해 버리고 있다.
비교예 4에서는, 폴리머의 함유량이 3중량%∼20중량%의 범위에서 벗어나 있으므로, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛에서 벗어나며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03에서 벗어나 있다. 따라서, 뛰어난 방현성이 얻어지지만, 백탁도가 증대해 버리고 있다. 또, 폴리머의 함유량이 과잉이기 때문에, 마르텐스 경도가 실시예 7∼10에 비해서 저하하고 있다.
비교예 5에서는, 유기 미립자로서 아크릴 입자를 이용하고 있으므로, 미립자가 조밀하게 분포하지 않고, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛에서 벗어나며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03에서 벗어나 있다. 따라서, 백탁도는 저하하고 있지만, 방현성이 결핍{poor}되어 버린다.
비교예 6에서는, 폴리머를 함유하고 있지 않기 때문에, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛에서 벗어나 있다. 따라서, 백탁이 증대하고 있다.
비교예 7에서는, 유기 미립자로서 아크릴 입자를 이용하고 있으므로, 미립자가 조밀하게 분포하지 않고, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛에서 벗어나며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03에서 벗어나 있다. 따라서, 안티 뉴턴링이 발생하고 있다.
비교예 8에서는, 폴리머의 첨가량이 3중량부에 미치지 못하기 때문에, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛에서 벗어나며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03에서 벗어나 있다. 따라서, 번쩍거림이 발생하고 있다.
비교예 9에서는, 평균 막두께가 6.5㎛ 미만이며, 비율 R(입경/막두께)이 70%를 넘고 있다. 따라서, 산술 평균 거칠음 Ra가 0.03㎛∼0.15㎛에서 벗어나며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq가 0.01∼0.03에서 벗어나 있다. 따라서, 번쩍거림이 발생하고, 마르텐스 경도가 저하하고 있다.
비교예 10에서는, 컬이 크고, 정치{靜置; static} 상태에서 통모양으로 되며 아크릴판에 접합할 때에 기포가 혼입되었기 때문에, 평가하기까지에 이르지 못했다.
도 17은, 실시예 1 및 비교예 6의 거칠음 곡선의 단면 프로파일을 비교한 것이다. 또한, 도 17에서, 곡선 l₁이 실시예 1의 거칠음 곡선의 단면 프로파일을 나타내며, 곡선 l₂가 비교예 6의 거칠음 곡선의 단면 프로파일을 나타낸다. 각각의 프로파일로부터 구해진 Ra 및 RΔq는 표에 기재된 바와 같이 하기의 값이다.
실시예 1: Ra=0.073(㎛), RΔq=0.017
비교예 6: Ra=0.192(㎛), RΔq=0.017
도 18, 도 19는 단면 곡선으로부터 얻어진 측정값으로부터 0.5㎛마다의 경사(미분값)를 구하고, 빈도를 그래프화한 것이다. 실시예 1은 비교예 5와 비교해서, 미분값 0.01이하의 빈도가 낮고, 즉 정반사 강도가 낮고, RΔq가 동일값이라도 방현성이 높은 필름이 얻어지고 있다. 또, 실시예 1에서는, 0.01∼0.03에 분포가 집중되어 있으며, 비교예 6과 비교해서 균일한 저각도의 경사에 의해 구성되어 있다. 경사의 분포(히스토그램)는 거칠음 파라미터의 Ra로 개략{槪略} 대용하는 것이 가능하고, RΔq=0.01∼0.03 또한 Ra=0.015(㎛)이하로 함으로써, 도 18로 대표되는 표면성을 얻는 것이 가능하다.
이상, 본 발명의 실시형태 및 실시예에 대해서 구체적으로 설명했지만, 본 발명은, 상술한 실시형태 및 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상에 의거하는 각종 변형이 가능하다.
예를 들면, 상술한 실시형태 및 실시예에서 든 수치, 형상, 재료 및 구성 등은 어디까지나 예에 불과하며, 필요에 따라 이것과 다른 수치, 형상, 재료 및 구성 등을 이용해도 좋다.
또, 상술한 실시형태에서는, 액정 디스플레이의 표시면에 구비되는 광학 필름 및 그 제조 방법에 본 발명을 적용하는 경우를 예로서 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니며, CRT(Cathode Ray Tube) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이(Plasma Display Panel: PDP), 일렉트로 루미네센스(Electro Luminescence: EL) 디스플레이, 표면 전도형 전자 방출 소자 디스플레이(Surface-conduction Electron-emitter Display: SED) 등의 각종 표시 장치의 표시면에 이용되는 광학 필름 및 그 제조 방법에 적용가능하다.
1: 방현성 필름, 2: 액정 패널, 2a, 2b: 편광자, 3: 백라이트, 4: 방현성 편광자, 11: 기재, 12: 방현층, 13: 미립자, 14: 저굴절률 층, 15: 중공 미립자, 16: 다층 반사 방지층, 16L: 저굴절률 층, 16H: 고굴절률 층.

Claims (13)

  1. 기재{基材}와,
    상기 기재 위에 형성된 광학층을 구비하고,
    상기 광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
    상기 요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 상기 기재 위에 도포하고, 상기 도료의 대류에 의해 상기 미립자를 조밀하게 분포시키고, 상기 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
    상기 미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
    상기 광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 광학 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광학층의 평균 막두께를 T, 상기 미립자의 평균 입경을 D로 했을 때, 비율 R(=D/T×100)이 30% 이상 70% 이하인 광학 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 미립자가, 아크릴·스틸렌 공중합체를 주성분으로 하는 광학 필름.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 미립자의 굴절률이, 1.50이상 1.56이하인 광학 필름.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 광학층의 표면에서의 거칠음 곡선의 산술 평균 거칠음 Ra는 0.03㎛ 이상 0.15㎛ 이하이며, 또한 2승 평균 제곱근 경사 RΔq는 0.01이상 0.03이하인 광학 필름.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머와, 80중량% 이상 97중량% 이하의 올리고머 및/또는 모노머를 포함하는 광학 필름.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머와, 80중량% 이상 97중량% 이하의 올리고머를 포함하는 광학 필름.
  8. 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 기재 위에 도포하는 공정과,
    상기 도료를 건조시키는 것에 의해, 상기 도료에 대류를 발생시키고, 그 대류에 의해 상기 미립자를 조밀하게 분포시키는 공정과,
    상기 미립자가 조밀하게 분포된 도료를 경화시키는 것에 의해, 광학층을 형성하는 공정
    을 구비하고,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
    상기 미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
    상기 광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 광학 필름의 제조 방법.
  9. 기재와,
    상기 기재 위에 형성된 방현층{防眩層; antiglare layer}을 구비하고,
    상기 방현층은 표면에 요철 형상을 가지고,
    상기 요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 상기 기재 위에 도포하고, 상기 도료의 대류에 의해 상기 미립자를 조밀하게 분포시키고, 상기 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
    상기 미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
    상기 방현층의 평균 막두께가, 8㎛ 이상 18㎛ 이하인 방현성 필름.
  10. 편광자와,
    상기 편광자 위에 설치된 광학층
    을 구비하고,
    상기 광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
    상기 요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 도포하고, 상기 도료의 대류에 의해 상기 미립자를 조밀하게 분포시키고, 상기 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
    상기 미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
    상기 광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 광학층이 달린{付} 편광자.
  11. 화상을 표시하는 표시부와,
    상기 표시부의 표시면측에 설치된 광학층
    을 구비하고,
    상기 광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
    상기 요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 도포하고, 상기 도료의 대류에 의해 상기 미립자를 조밀하게 분포시키고, 상기 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
    상기 미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
    상기 광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 표시 장치.
  12. 화상을 표시하는 표시부와,
    상기 표시부의 전면{前面}측에 설치된 전면 부재와,
    상기 표시부의 전면측, 및 상기 전면 부재의 이면측의 적어도 한쪽에 설치된 광학층
    을 구비하고,
    상기 광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
    상기 요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 도포하고, 상기 도료의 대류에 의해 상기 미립자를 조밀하게 분포시키고, 상기 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
    상기 미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
    상기 광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 표시 장치.
  13. 화상을 표시하는 표시부와,
    상기 표시부의 이면측에 설치된 이면 부재와,
    상기 표시부의 이면측, 및 상기 이면 부재의 전면측의 적어도 한쪽에 설치된 광학층
    을 구비하고,
    상기 광학층은 표면에 요철 형상을 가지고,
    상기 요철 형상은, 미립자 및 수지를 포함하는 도료를 도포하고, 상기 도료의 대류에 의해 상기 미립자를 조밀하게 분포시키고, 상기 도료를 경화하는 것에 의해 얻어지며,
    상기 수지는, 3중량% 이상 20중량% 이하의 폴리머를 포함하고,
    상기 미립자의 평균 입경이, 2.4㎛ 이상 8㎛ 이하이며,
    상기 광학층의 평균 막두께가, 6.4㎛ 이상 18㎛ 이하인 표시 장치.
KR1020107002927A 2008-06-09 2009-06-03 광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성 필름, 광학층이 달린 편광자와 표시 장치 KR20110027636A (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008151140 2008-06-09
JPJP-P-2008-151140 2008-06-09
JP2008208796A JP2010020268A (ja) 2008-06-09 2008-08-13 光学フィルムおよびその製造方法、防眩性フィルム、光学層付偏光子、ならびに表示装置
JPJP-P-2008-208796 2008-08-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110027636A true KR20110027636A (ko) 2011-03-16

Family

ID=41416773

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020107002927A KR20110027636A (ko) 2008-06-09 2009-06-03 광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성 필름, 광학층이 달린 편광자와 표시 장치

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8582204B2 (ko)
EP (1) EP2284579A1 (ko)
JP (1) JP2010020268A (ko)
KR (1) KR20110027636A (ko)
CN (1) CN101815958B (ko)
BR (1) BRPI0903915A2 (ko)
RU (1) RU2010104445A (ko)
TW (1) TW201002523A (ko)
WO (1) WO2009151067A1 (ko)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090080081A1 (en) * 2007-09-20 2009-03-26 Katsumi Inoeu Optical film, polarizing plate and image display device
JP5501800B2 (ja) * 2010-02-25 2014-05-28 株式会社ダイセル 透明導電性膜及びタッチパネル
JP5801062B2 (ja) * 2010-03-11 2015-10-28 住友化学株式会社 防眩フィルムおよび防眩性偏光板
KR101304658B1 (ko) * 2010-03-31 2013-09-05 미츠비시 레이온 가부시키가이샤 적층체 및 그 제조 방법
CN102343698B (zh) * 2010-07-26 2015-01-14 比亚迪股份有限公司 一种硬质薄膜及其制备方法
JP5520752B2 (ja) * 2010-09-01 2014-06-11 株式会社日立製作所 粘着シート,粘着シートを用いた光学部材,有機発光素子および照明装置並びにそれらの製造方法
KR20120123963A (ko) 2011-05-02 2012-11-12 엘지전자 주식회사 디스플레이 모듈 및 이를 구비한 이동 단말기
KR101887728B1 (ko) * 2011-07-26 2018-08-10 키모토 컴파니 리미티드 정전용량식 터치 패널 및 방현성 필름
KR101950542B1 (ko) 2011-10-24 2019-02-20 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 광확산 필름, 광확산 필름의 표면 형상을 규정하는 방법, 및 표면 형상 규정 프로그램을 기록한 기록 매체
US9568646B2 (en) * 2011-11-04 2017-02-14 Cam Holding Corporation Methods for reducing diffuse reflection of nanostructure-based transparent conductive films and touch panels made of the same
JP6078938B2 (ja) * 2012-03-15 2017-02-15 大日本印刷株式会社 光学フィルム、偏光板、液晶パネルおよび画像表示装置
JP5850165B2 (ja) * 2012-08-31 2016-02-03 王子ホールディングス株式会社 印刷用シート、加飾シート、および粘着性加飾シート
JP2015231667A (ja) * 2012-09-27 2015-12-24 富士フイルム株式会社 機能性フィルム
WO2014165076A1 (en) * 2013-03-13 2014-10-09 Celanese Acetate Llc Cellulose diester films for playing cards
KR101784227B1 (ko) * 2013-03-15 2017-10-11 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 정전 척의 수리 및 복원을 위한 방법 및 장치
JP6526380B2 (ja) * 2013-12-03 2019-06-05 大日本印刷株式会社 タッチパネル付き表示装置
WO2015081531A1 (zh) * 2013-12-05 2015-06-11 华为技术有限公司 异构网络节能方法及装置
JP6826803B2 (ja) * 2014-08-26 2021-02-10 中国塗料株式会社 光硬化性樹脂組成物、該組成物から形成される硬化被膜および防眩フィルム、画像表示装置、並びに硬化被膜および防眩フィルムの製造方法
WO2016047059A1 (ja) * 2014-09-22 2016-03-31 パナソニックIpマネジメント株式会社 反射防止部材
KR20160040922A (ko) * 2014-10-06 2016-04-15 삼성전자주식회사 방현 필름을 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
AU2016388514A1 (en) * 2016-01-20 2018-08-09 AGC Inc. Transparent substrate with non-transparent film
EP3309508B1 (en) * 2016-05-23 2019-08-28 Nippon Steel Corporation Shape measurement device and shape measurement method
JPWO2018105213A1 (ja) 2016-12-06 2019-10-24 凸版印刷株式会社 光学フィルム、並びに、それを用いた光学バリアフィルム、色変換フィルム及びバックライトユニット
JP6881172B2 (ja) * 2017-09-13 2021-06-02 Agc株式会社 反射防止膜付透明基体、およびそれを用いた表示装置
JP7298071B2 (ja) * 2018-02-08 2023-06-27 Agc株式会社 防眩膜付き透明基体
JPWO2021246499A1 (ko) * 2020-06-04 2021-12-09
CN115236778A (zh) * 2021-04-23 2022-10-25 合肥京东方显示技术有限公司 散射膜、显示模组和显示装置
TWI789017B (zh) * 2021-09-17 2023-01-01 明基材料股份有限公司 高霧度防眩膜以及高霧度防眩抗反射膜

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04175727A (ja) 1990-11-09 1992-06-23 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP3374299B2 (ja) 1994-04-20 2003-02-04 大日本印刷株式会社 防眩フィルム
JP3674146B2 (ja) 1996-05-07 2005-07-20 株式会社富士通ゼネラル 光学フィルタ装置
JP3821956B2 (ja) 1998-07-28 2006-09-13 日東電工株式会社 光拡散層、光学素子及び液晶表示装置
CN100337134C (zh) * 2001-10-03 2007-09-12 日东电工株式会社 偏振片的制造方法和具有偏振片的液晶显示器
JP4425920B2 (ja) 2004-07-22 2010-03-03 三菱電機株式会社 基地局および移動機
CN101163993B (zh) * 2005-02-21 2011-07-13 大日本印刷株式会社 防眩性光学层合体
TWI406770B (zh) * 2005-02-21 2013-09-01 Dainippon Printing Co Ltd Anti-glare optical laminate
CN101067667A (zh) 2006-05-03 2007-11-07 三星康宁株式会社 显示滤光器和具有该显示滤光器的显示装置
JP5252811B2 (ja) * 2006-05-16 2013-07-31 日東電工株式会社 防眩性ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置
US8163372B2 (en) * 2006-08-14 2012-04-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Anti-dazzling optical laminate
KR101476462B1 (ko) * 2006-08-18 2014-12-24 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 광학 적층체의 제조 방법, 광학 적층체, 편광판 및 화상 표시 장치

Also Published As

Publication number Publication date
CN101815958A (zh) 2010-08-25
RU2010104445A (ru) 2011-08-20
US20120008206A1 (en) 2012-01-12
CN101815958B (zh) 2012-11-21
WO2009151067A1 (ja) 2009-12-17
US8582204B2 (en) 2013-11-12
BRPI0903915A2 (pt) 2015-06-30
EP2284579A1 (en) 2011-02-16
JP2010020268A (ja) 2010-01-28
TW201002523A (en) 2010-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20110027636A (ko) 광학 필름 및 그 제조 방법, 방현성 필름, 광학층이 달린 편광자와 표시 장치
KR101711011B1 (ko) 광학 필름 및 그 제조 방법
JP4155337B1 (ja) 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに表示装置
US8672492B2 (en) Optical film and method for manufacturing the same, antiglare film, polarizer with optical layer, and display apparatus
US8081385B2 (en) Antiglare film, method for manufacturing antiglare film, polarizer, and display device
RU2466437C2 (ru) Оптическая пленка и способ ее изготовления, противобликовый поляризатор и устройство отображения
CN107718800B (zh) 防眩性膜、偏振片和图像显示装置
JP6167480B2 (ja) 光学フィルム、偏光板、液晶パネルおよび画像表示装置
JP4187186B2 (ja) 防眩フィルム
KR101471692B1 (ko) 방현성 하드 코트 필름, 그것을 사용한 편광판 및 화상 표시 장치, 그리고 방현성 하드 코트 필름의 제조 방법
EP1962111A1 (en) Anti-glare film, method of manufacturing the same, and display device
JP2009098657A (ja) 液晶表示装置
JP6048010B2 (ja) 積層体、偏光板、液晶パネル、タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および画像表示装置
JP2013238867A (ja) 光学フィルムおよびその製造方法、防眩性フィルム、光学層付偏光子、ならびに表示装置
TWI265307B (en) Antiglare optical film, polarizing plate and display unit using the same

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid