JP7298071B2 - 防眩膜付き透明基体 - Google Patents

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Description

本発明は、防眩膜付き透明基体に関する。
各種機器（例えば、テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、携帯電話、車両等）に備えられた画像表示装置（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等）においては、蛍光灯などの室内照明や太陽光等の外光が表示面に映り込むと、反射像によって視認性が低下する。
外光の映り込みを抑制する方法として、防眩膜を画像表示装置の表示面側に配置する方法がある。防眩膜は、表面に凹凸を有し、外光を拡散反射させることで、反射像を不鮮明にするものである。「拡散反射」とは、反射において、表面に対する入射角度と異なる角度で反射（散乱）された反射を意味する。このような防眩膜は、例えば、シリカ前駆体として、アルコキシシランの加水分解縮合物などの加水分解性有機ケイ素化合物を含む塗布液を、スプレー法にて透光性基材表面に塗布し、その後、焼成して形成される（例えば、特許文献１参照。）。
また、画像表示装置の表示面に低反射膜を配置し、透明基材への入射光の反射自体を抑えて、反射像を不鮮明にする方法もある。低反射膜としては、低屈折率材料からなる単層膜、低屈折率材料からなる層と高屈折率材料からなる層とを組み合わせた多層膜が知られている。また、低反射膜として、含フッ素加水分解性有機ケイ素化合物から形成される膜も知られている（例えば、特許文献２～５参照。）。
さらに、高い解像度を得るための表面形状パラメーターの一つとして、（Ｈ１－Ｈ２）／Ｒａ≧０．２５という条件で、平坦部分が少ないことを表す方法がある。ここでＨ１は凹凸面の粗さ曲面のベアリングカーブにおいて、面積率が７０％である時の高さ、Ｈ２は凹凸面の粗さ曲面のベアリングカーブにおいて、面積率が９９％である時の高さである（特許文献６参照）。
国際公開第２０１６／０２１５６０号 日本国特開昭６４－１５２７号公報 日本国特開２００３－３４４６０８号公報 日本国特開２００２－７９６１６号公報 国際公開第２００５／１２１２６５号 国際公開第２０１５／１３７１９６号
画像表示装置の表示面に防眩膜を配置することで、外光が表示面に映り込むことによる画像の視認性の低下を抑制できる。しかし同時に、防眩膜は、防眩性が高いほど、防眩膜表面にぎらつきが生じて視認性が低下する。
また、特許文献６に記載の条件は、凹凸の谷底の平坦部分が少ないことを表しているが、平坦部分が高さ方向の高い部分にある平坦部分については、何も規定出来ていない。ところが、高さ方向の高い部分にある平坦部分も正反射を生じるため、この規定では、全ての部分について、傾斜を求めて、平坦部比率を評価するには不十分である。
このように従来の技術では、高防眩性、高視認性、および低ぎらつきを同時達成できなかった。
本発明は、高防眩性、高視認性、および低ぎらつきを同時達成できる防眩膜付き透明基体を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明は、第１主面と第２主面とを備える透明基体と、第１主面上に形成された防眩膜と、を有する防眩膜付き透明基体であって、
前記防眩膜が、前記透明基体の第１主面上に形成された低屈折率層と、前記低屈折率層中に形成された前記低屈折率層とは屈折率が異なる高屈折率層と、で構成されており、
前記低屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｌｏｗとすると、ｎｌｏｗが１．４～１．８であり、
前記高屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｈｉｇｈとすると、ｎｈｉｇｈが前記ｎｌｏｗよりも０．１以上高く、
前記高屈折率層は、前記透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比が１５％以下であり、
前記防眩膜付き透明基体の第１主面側最表面の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍが５０μｍ以下である、防眩膜付き透明基体（１）を提供する。
本発明の防眩膜付き透明基体（１）において、前記高屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｈｉｇｈが１．８以上であることが好ましい。
本発明の防眩膜付き透明基体（１）において、前記高屈折率層は、２層以上の層からなることが好ましい。
本発明の防眩膜付き透明基体（１）において、前記透明基体の第２主面を黒く塗りつぶし、第１主面側から測定した可視光反射率が０．２～８％であることが好ましい。
本発明の防眩膜付き透明基体（１）において、第１主面側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）から、第２主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）と、第１主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）との合計を差し引いた値が０．２～４％であることが好ましい。ここで、第１主面側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）の値は、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定した実測値であり、第２主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）と、第１主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）は、理想的に平坦な面に同じ膜厚、同じ屈折率と減衰係数との積ｎｋの値で積層した構成における光学計算値である。
また、本発明は、第１主面と第２主面とを備える透明基体と、第１主面上に形成された防眩膜と、を有する防眩膜付き透明基体であって、
前記防眩膜が、前記透明基体の第１主面上に形成された高屈折率層と、前記高屈折率層中に形成された前記高屈折率層とは屈折率が異なる低屈折率層と、で構成されており、
前記高屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｈｉｇｈとすると、ｎｈｉｇｈが１．４～１．８であり、
前記低屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｌｏｗとすると、ｎｌｏｗが前記ｎｈｉｇｈよりも０．１以上低く、
前記低屈折率層は、前記透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比が１５％以下であり、
前記防眩膜付き透明基体の第１主面側最表面の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍが５０μｍ以下である、防眩膜付き透明基体（２）を提供する。
本発明の防眩膜付き透明基体（２）において、前記低屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｌｏｗが１．４以下であることが好ましい。
本発明の防眩膜付き透明基体（２）において、前記低屈折率層の主成分がシリカであることが好ましい。
本発明の防眩膜付き透明基体（２）において、前記低屈折率層は、２層以上の層からなることが好ましい。
本発明の防眩膜付き透明基体（２）において、前記透明基体の第２主面を黒く塗りつぶし、第１主面から測定した可視光反射率が０．２～８％であることが好ましい。
本発明の防眩膜付き透明基体（２）において、第１主面側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）から、第２主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）と、第１主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）との合計を差し引いた値が０．２～４％であることが好ましい。ここで、第１主面側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）の値は、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定した実測値であり、第２主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）と、第１主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）は、理想的に平坦な面に同じ膜厚、同じ屈折率と減衰係数との積ｎｋの値で積層した構成における光学計算値である。
本発明の防眩膜付き透明基体（１）および（２）を、カバー部材とし、前記透明基体の第２主面と表示パネルとを接着剤層を介して貼り付けた構造を有する表示装置であることが好ましい。
さらに、本発明は、第１主面と第２主面とを備える透明基体と、第１主面上に形成された防眩膜と、を有する防眩膜付き透明基体であって、
前記防眩膜が、前記透明基体の第１主面上に形成された低屈折率層と、前記低屈折率層中に形成された前記低屈折率層とは屈折率が異なる高屈折率層と、で構成されており、
前記低屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｌｏｗとすると、ｎｌｏｗが１．４～１．８であり、
前記高屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｈｉｇｈとすると、ｎｈｉｇｈが前記ｎｌｏｗよりも０．１以上高く、
断面ＳＥＭ像において、前記高屈折率層が、主面に対して０．５度以下の傾きである部分を透明基体主面に平行な線に投影した長さを測定し、これらを合計したとき、幅４００μｍに対する長さの合計の割合が１５％以下であり、かつ、高屈折率層の２次元プロファイルから求めた算術平均粗さＲａが０．０１μｍ以上０．４μｍ以下であり、かつ、第１主面側最表面の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍは０．８μｍ以上５０μｍ以下である、防眩膜付き透明基体（３）を提供する。
本発明の防眩膜付き透明基体によれば、高防眩性、高視認性、および低ぎらつきを同時達成できる。
図１は、本発明の防眩膜付き透明基体の第１実施形態を示した断面図である。 図２は、本発明の防眩膜付き透明基体の第２実施形態を示した断面図である。 図３は、本発明の防眩膜付き透明基体の第３実施形態を示した断面図である。 図４は、本発明の防眩膜付き透明基体の第４実施形態を示した断面図である。 図５は、反射像拡散性指標の測定手法を示した図である。 図６は、反射像拡散性指標の測定手法を示した図である。 図７は、正方形状データの反転・回転したデータの並べ方を説明する模式図である。 図８は、本発明の防眩膜付き透明基体を用いた表示装置の断面図である。 図９は、透明基体のぎらつき指標値Ｓの測定方法を示した図である。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について詳しく説明する。
＜第１実施形態＞
図１は本発明の防眩膜付き透明基体の第１実施形態を模式的に示した断面図である。図１に示す防眩膜付き透明基体１０は、第１主面１１ａと第２主面１１ｂとを備える透明基体１１と、第１主面１１ａ上に形成された防眩膜１４が形成されている。
［透明基体１１］
透明基体１１の材料としては、ガラス、樹脂等が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。中でも安全性や強度の観点から透明板はガラスが好ましい。さらに車載用表示部材へのガラスの使用は、高い耐熱性、高い耐候性の観点からも好ましい。
透明基体１１がガラスである場合、例えば車載用表示部材の防眩膜付き透明基体１０として必要な機械的強度および耐擦傷性を確保するため、強化処理された強化ガラスが好ましい。強化処理としては物理強化処理、化学強化処理ともに使用できるが、比較的に薄いガラスでも強化処理できる点から、化学強化処理による化学強化ガラスが好ましい。
透明基体１１に使用できるガラスは、化学強化処理を実施しない場合には無アルカリガラス、ソーダライムガラスが挙げられる。また、化学強化処理を行う場合には、例えば、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、ホウ珪酸ガラスが挙げられる。厚さが薄くても強化処理によって大きな応力が入りやすく薄くても高強度なガラスが得られ、画像表示装置の視認側に配置される物品として好適である点から、アルミノシリケートガラスが好ましい。
透明基体１１は、表面圧縮応力（ＣＳ）の最大値が４００ＭＰａ以上が好ましく、５００ＭＰａ以上がより好ましく、６００ＭＰａ以上がさらに好ましい。また圧縮応力層深さ（ＤＯＬ）は１０μｍ以上が好ましい。表面圧縮応力および圧縮応力層深さを当該範囲とすることにより、透明板の主面に優れた強度と耐擦傷性を付与できる。
透明基体１１の厚さは、０．３ｍｍ以上が好ましく、０．５ｍｍ以上がより好ましい。また、透明基体１１の厚さは、５ｍｍ以下が好ましく、３ｍｍ以下がより好ましく、２ｍｍ以下がさらに好ましい。かかる厚さがこの範囲であれば、最終製品を割れにくくすることができる。
透明基体１１は少なくとも１つ以上の屈曲部を備えてもよい。屈曲部と平坦部を組み合わせた形状、全体が屈曲部となる形状などが挙げられるが、屈曲部を有すれば特に形状は限定されない。最近では、屈曲部を有する防眩膜付き透明基体１０を表示装置に使用する場合、各種機器（テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、カーナビゲーション等）において、表示パネルの表示面が曲面となったものが登場している。屈曲部は、表示パネルの形状や表示パネルの筐体の形状などに合わせて作製できる。なお、「平坦部」とは、平均曲率半径が１０００ｍｍ超である部分を意味し、「屈曲部」とは、平均曲率半径が１０００ｍｍ以下である部分を意味する。
透明基体１１の波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｓｕｂとすると、ｎｓｕｂは１．４５～１．６２が好ましく、１．４５～１．５５がさらに好ましい。この屈折率の範囲であれば量産されているガラス板や樹脂板として入手しやすいためである。また、透明基体１１の屈折率ｎｓｕｂは後述の低屈折率層１２と近いことが好ましい。これは透明基体１１と低屈折率層１２の屈折率差が小さいほど、透明基体１１と低屈折率層１２との界面での正反射が低減されるためである。透明基体１１がガラスの場合、屈折率ｎｓｕｂが下限値以上であると、高密度なシリカガラスのように優れた強度、耐久性、耐候性を備えるようになる。
なお、可視光波長領域のうち波長５５０ｎｍで最も視感度が高いため、屈折率は波長５５０ｎｍでの値とした。
［防眩膜１４］
図１に示す防眩膜付き透明基体１０において、防眩膜１４は、透明基体１１の第１主面１１ａ上に形成された低屈折率層１２と、低屈折率層１２中に形成された高屈折率層１３と、で構成される。高屈折率層１３は連続層である。
本明細書において、連続層とは、下地層表面が完全に被われており、層を被覆した後に下地が露出していない状態である層を指す。全く下地が露出していない状態が好ましいが、膜のクラック、ピンホール等で、わずかに下地が露出している場合も同様の効果が得られ、連続層とみなす。
なお、図１に示す防眩膜付き透明基体１０では、低屈折率層１２中に連続層の高屈折率層１３は１層形成されているが、高屈折率層１３は２層以上形成されていてもよい。高屈折率層１３を屈折率の異なる２層以上の構成とすることで、膜構成により反射率を任意に設計しやすくなる。さらに高屈折率層１３を多層構成とすることで、反射率の波長依存性を抑えて、反射色をニュートラル色に設計できる。ここで、ニュートラル色とは、無彩色ともいい、Ｄ６５光源で観測した場合の反射色の色座標をＣＩＥ１９７６（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）色空間で表記するとａ＊，ｂ＊の値が±５以下のことをいう。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０における低屈折率層１２は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｌｏｗとすると、ｎｌｏｗが１．４～１．８である。低屈折率層１２の屈折率ｎｌｏｗが上記範囲であれば、低屈折率層１２が形成される透明基体１１の波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｓｕｂとの差が小さく、透明基体１１の第１主面１１ａと低屈折率層１２との界面で発生する反射率が増大する等の問題が生じることがない。また、低屈折率層１２が空気との界面を形成するため、低屈折率層１２の屈折率は上記範囲のように小さいことが好ましい。これは空気界面での反射が低減するためである。
波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｌｏｗが上記範囲を満たす低屈折率層１２の構成材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化スズ（ＳｎＯ２）およびこれらの混合物を好ましく利用できる。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０における高屈折率層１３は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｈｉｇｈとすると、屈折率ｎｈｉｇｈは屈折率ｎｌｏｗよりも０．１以上高い。これは低屈折率層１２と高屈折率層１３との界面での屈折率差があることによって、界面で反射が生じるため、内部反射散乱が増大する。一方、低屈折率層１２（屈折率ｎｌｏｗ）／高屈折率層１３（屈折率ｎｈｉｇｈ）／低屈折率層１２（屈折率ｎｌｏｗ）という積層構成であり、低屈折率層１２から入射した入射光は高屈折率層１３で一度屈折されるが、高屈折率層１３から低屈折率層１２へ入射する際、一度目の屈折と逆方向に屈折するため、結果として入射光はほとんど屈折しない（進行方向が変わらない）。このため、内部透過散乱はほとんど増大しない。すなわち、屈折率ｎｈｉｇｈが屈折率ｎｌｏｗよりも０．１以上高いことにより、表面散乱のみの場合に比べて、内部透過散乱の増大を抑えつつ、内部反射散乱の増加により反射散乱を増大させられるという効果が得られる。このような効果は、後述する反射像拡散性指標値Ｒ（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ｉｍａｇｅ ｄｉｆｆｕｓｉｖｅｎｅｓｓ ｉｎｄｅｘ）で評価できる。
ここで、光散乱は大きく「表面散乱」と「内部散乱」に分けられる。
「内部散乱」とは、空気との界面ではなく、透明基体１１、防眩膜１４など画像表示素子表面に付加された一連の防眩膜付き透明基体１０の内部に屈折率差がある界面を持つ構造の場合、その界面において、その界面形状に応じ発生する散乱を意味する。内部散乱は「内部透過散乱」と「内部反射散乱」に分けられる。「内部透過散乱」は、透過光が、屈折率の異なる含有粒子や層との界面を通過する際に発生する散乱を意味し、内部透過散乱が大きくなると視認性が悪化する。「内部反射散乱」は、入射光が、屈折率の異なる含有粒子や層との界面で反射する際に発生する散乱を意味し、内部反射散乱が大きくなると防眩性が増大する。
屈折率ｎｈｉｇｈと屈折率ｎｌｏｗの差は０．２以上が好ましく、０．５以上がより好ましい。これは、屈折率ｎｈｉｇｈと屈折率ｎｌｏｗとの屈折率差が大きい方が、任意の界面反射率を設計しやすいためである。
また、屈折率ｎｈｉｇｈと屈折率ｎｌｏｗとの差は、１以下が好ましい。これは低屈折率層１２と高屈折率層１３との界面での反射率が高すぎるのを防ぐためである。屈折率ｎｈｉｇｈと屈折率ｎｌｏｗとの差は、０．５以下がより好ましく、０．３以下がさらに好ましい。
波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｈｉｇｈが上記範囲を満たす高屈折率層１３の構成材料としては、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化スズ（ＳｎＯ２）およびこれらの混合物が挙げられる。また、屈折率ｎｈｉｇｈが上記範囲を満たす範囲であれば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）などの低屈折率材料を含んでもよい。
屈折率ｎｈｉｇｈは１．８以上が好ましい。屈折率ｎｈｉｇｈは１．９以上がより好ましく、２．０以上がさらに好ましい。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０における高屈折率層１３は、平坦な領域（高屈折率層１３がなす面が透明基体１１の第１主面１１ａと平行となる領域）、より具体的には、透明基体１１の第１主面１１ａに対する面傾きが０．５°以下となる部位が少ない。このような構成とすることにより、高防眩性および高視認性を達成できることを本願発明者は見出した。ここで、防眩性とは、主に反射光を散乱させることで、光源の映り込みによる反射光の眩しさを低減する性能を意味し、高防眩性であるほど眩しさを低減できる。視認性とは、表示装置用カバー部材の場合、表示された文字や図形等が明瞭に見える性能を意味し、透過光が散乱される割合が少ないほど明瞭に見える。すなわち、高視認性であるほど明瞭に視認できる。
本願明細書では、高屈折率層１３に平坦な領域が少ないことの指標として、透明基体１１の第１主面１１ａに対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比を用いる。なお、上記の面積比は、高屈折率層１３を透明基体１１の第１主面１１ａに投影した二次元投影形状における面積比である。上記の面積比を用いることで、高防眩性および高視認性を達成できる表面凹凸の形状を明確に定義することが可能になる。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０は、高屈折率層１３において、透明基体１１の第１主面１１ａに対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比が１５％以下であることにより、高防眩性および高視認性を達成できる。
（透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比：算出方法１）
なお、高屈折率層１３において、透明基体１１の第１主面１１ａに対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比は、以下の手順で求められる。
透明基体１１の防眩膜１４を形成した第１主面１１ａについて、レーザー顕微鏡（株式会社キーエンス社製、型番：ＶＫ―Ｘ２１０）を使用し、対物レンズ１００倍にて、（１１１～１４８）μｍ×（１０１～１３５）μｍの観察領域について、ＸＹＺの測定を行う。サンプリングデータ数は横２，０４８×縦１，５３６の合計３，１４５，７２８点である。観察領域は条件によって上記の通り異なる場合があるが、ここでは１４５．０μｍ×１０８．８μｍの場合について説明する。
上述のように得られたサンプリングデータ横２，０４８×縦１，５３６のデータを用意し、横（１，５３７～２，０４８）×縦１，５３６のデータを削除し、正方形状データを得る。得られた正方形状データについて最小二乗法により近似平面を求める。元のデータから近似平面を差し引くことで傾斜補正し、傾斜補正正方形状データＸ０を得る。得られた傾斜補正正方形状データを図７のように、反転・回転させたデータＸ１，Ｘ２，Ｘ３を配置し、横３，０７２×縦３，０７２の合成正方形状データαを得る。
次に得られた合成正方形状データαに移動平均フィルタを適用する。２５×２５の正方行列で全要素が１／５であるフィルタ行列を用意する。合成正方形状データαとフィルタ行列に対して２次元巡回畳み込み処理を行い。フィルタ処理後合成正方形状データ３，０７２×３，０７２を得る。このフィルタ処理後合成正方形状データについて、横３，０７２×縦３，０７２のそれぞれのデータ点間を１／４間隔で二次元に線形補間し、横１２，２８５×縦１２，２８５の補間後データを得る。補間は、ＭａｔｈＷｏｒｋｓ社製ソフトウエア、ＭＡＴＬＡＢ Ｒ２００８ｂのｉｎｔｅｒｐ２関数を用いる。ｉｎｔｅｒｐ２関数には、補間方法を指定するｍｅｔｈｏｄがあるが、「ｌｉｎｅａｒ」を指定する。
続いて、補間後データを、ＬＣＤ画素サイズに切り出す。ＬＣＤの画素は２６４ｐｐｉを想定し、９６．２μｍ×９６．２μｍのサイズとし、補間後データから、横１０，８５６×縦１０，８５６を切り出す（一辺は９６．２／１０８．８×１２，２８５により算出。）。この切り出したデータを、横１，０２４×縦１，０２４に線形補間し、再度図７のように並べ、反転・回転させたデータを配置し、横２，０４８×縦２，０４８の、大きさとして３８４．８μｍ×３８４．８μｍの合成正方形状データβを得る。線形補間は前述と同様にｉｎｔｅｒｐ２関数を用い、ｍｅｔｈｏｄには「ｌｉｎｅａｒ」を指定する。
得られた横２，０４８×縦２，０４８の大きさとして３８４．８μｍ×３８４．８μｍの合成正方形状データβは、高さに関するデータを含む。またそれぞれのメッシュの間隔は、３８４．８μｍ／２，０４７＝１８８ｎｍである。
得られた横２，０４８×縦２，０４８の、大きさとして３８４．８μｍ×３８４．８μｍの合成正方形状データβの面傾斜を計算する。ＭＡＴＬＡＢ Ｒ２００８ｂのｓｕｒｆｎｏｒｍ関数を用い、合成正方形状データβの法線ベクトルを計算する。具体的には合成正方形状データβの２，０４８×２，０４８点の各点のＸ座標、Ｙ座標、Ｚ座標それぞれの行列をＸａ、Ｙａ、Ｚａとすると、ｓｕｒｆｎｏｒｍ（Ｘａ，Ｙａ，Ｚａ）とすることで、各点の法線ベクトルが求まる。各点の法線ベクトルとガラス垂直面と法線ベクトルのなす角を求め、０．１度刻みでヒストグラム化を行い、ヒストグラム化した総数に対する角度が０～０．５°の総数の割合を計算し、０．５°以下となる部位の面積比が求められる。
（透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比：算出方法２）
上記面傾きが０．５°以下となる部位の比の求め方の他の例を以下に記す。
日立ハイテクノロジー社製超高分解能電界放出型走査型電子顕微鏡ＳＵＳ８２３０を用いて、断面ＳＥＭ像を１万倍にて撮影する。このときの撮影条件は加速電圧：２ｋＶ、プローブ電流：Ｎｏｒｍａｌ、エミッション電流：１０μＡ、検出器条件：ＬＡ１００（Ｕ）とする。得られた断面ＳＥＭ像において、透明基体主面に平行に長さ１０μｍの幅を観察し、観察領域を連続して横にずらしたＳＥＭ像を撮影し、これを４０枚以上並べてサンプリング長さを４００μｍとする。次にこれらの断面ＳＥＭ像を、二値化ソフトウエアを用いて二値化する。二値化ソフトウエアとしてはＷｉｎＲＯＯＦ２０１５（三谷商事株式会社製）を用いた。次に、二値化された高屈折率層のコントラスト形状が透明基体主面に平行、すなわち、主面に対して０．５度以下の傾きである部分を透明基体主面に平行な線に投影した長さを測定する。次に、前記主面に対して０．５度以下の傾きである部分を透明基体主面に平行な線に投影した長さを合計し、幅４００μｍに対する長さの割合を求めることで、０．５°以下となる部位の比が得られる。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０は、高屈折率層１３において、透明基体１１の第１主面１１ａに対する面傾きが０．５°以下となる部位の比は１５％以下が好ましく、１２％以下がより好ましく、８％以下がさらに好ましい。
本願では、高屈折率層１３に平坦な領域が少ないことの指標として、防眩膜付き透明基体１０の断面ＳＥＭ像から得られた高屈折率層１３の２次元プロファイルから得られた算術平均粗さ：Ｒａ、要素の平均長さ：ＲＳｍの値も使用できる。
日立ハイテクノロジー社製超高分解能電界放出型走査型電子顕微鏡ＳＵＳ８２３０を用いて、断面ＳＥＭ像を１万倍にて撮影する。このときの撮影条件は加速電圧：２ｋＶ、プローブ電流：Ｎｏｒｍａｌ、エミッション電流：１０μＡ、検出器条件：ＬＡ１００（Ｕ）とする。得られた断面ＳＥＭ像において、透明基体表面に平行に長さ１０μｍの幅を観察し、観察領域を連続して横にずらしたＳＥＭ像を撮影し、これを横に連続で４０枚以上並べてサンプリング長さを４００μｍとし、得られた断面ＳＥＭ像を二値化ソフトを用いて二値化する。二値化ソフトウエアとしてはＷｉｎＲＯＯＦ２０１５（三谷商事株式会社製）を用いた。次に、二値化した断面ＳＥＭ画像から、同時に表示される長さスケールを基に、高屈折率層１３の２次元プロファイルを数値化し、Ｒａ、ＲＳｍを求める。上記Ｒａ、ＲＳｍは基準長さを８０μｍ、評価長さを４００μｍとして測定する。
高屈折率層１３の２次元プロファイルから求めたＲａは０．０１μｍ以上０．４μｍ以下が好ましく、０．０２μｍ以上０．２μｍ以下がさらに好ましく、０．０２μｍ以上０．１μｍ以下がより好ましい。Ｒａが下限値以上であると、正反射が減少するために、高屈折率層のない同じ表面凹凸構造を有する防眩膜付き透明基体に比べて、防眩性が向上する。Ｒａが上限値以下であると、この上に低屈折率層を積層したときに、最表面の凹凸が大きくなりすぎず耐擦傷性が向上する。
高屈折率層１３の２次元プロファイルから求めたＲＳｍは０．８μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、５μｍ以上２５μｍ以下がより好ましく、８μｍ以上２０μｍ以下がさらに好ましい。ＲＳｍが０．８μｍ未満であると可視光波長端以下となるために防眩性が発現しなくなる。ＲＳｍが上限値超だと高屈折率層１３表面の角度が透明基体１１の第１主面１１ａと平行に近くなるため、正反射が増える結果、高屈折率層が入っていない、同じ表面凹凸構造を有する防眩膜付き透明基体に比べて、防眩性が向上しない。
低屈折率層１２中に平坦な領域が少ない高屈折率層１３を形成する方法としては、以下の手順が挙げられる。
まず初めに、図１中、高屈折率層１３よりも下側に位置する低屈折率層を透明基体１１の第１主面１１ａ上に形成する。低屈折率層の形成には、スピンコート法、静電塗装法、スプレー法等の湿式成膜法、真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法等の乾式成膜法を使用できる。この中で特に静電塗装法を好適に使用できる。これは微粒子およびバインダーを含む塗布液を使用し、表面凹凸形状を容易に制御でき、平坦な領域が少ない凹凸表面を作り易いためである。
次に、形成された低屈折率層表面に、いわゆるアンチグレア処理を施して、低屈折率層表面に微細な凹凸を形成する。この目的で使用するアンチグレア処理は特に限定されず、いわゆるフロスト処理のような、エッチング処理を伴う化学的処理方法を用いてもよく、サンドブラスト処理のような物理的処理方法を用いてもよい。
次に、表面に微細な凹凸が形成された低屈折率層上に高屈折率層１３を形成する。高屈折率層１３の形成には、スピンコート法、静電塗装法等の湿式成膜法も使用できるが、真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法等の乾式成膜法を用いることが以下の理由から好ましい。
高屈折率層１３は、低屈折率層の凹凸形状上に均一な膜厚で成膜されていることが求められ、乾式成膜法では原料粒子が飛来して付着するため、凹凸形状に追随して均一な膜厚に成膜されやすく好ましく使用できる。
次に、高屈折率層１３上に低屈折率層を形成する。高屈折率層１３上に低屈折率層の形成する手順は、透明基体１１の第１主面１１ａ上に低屈折率層を形成する手順と同じく各種成膜法を使用できるが、低屈折率層の材料や成膜方法を変更してもよい。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０において、高屈折率層１３の厚さは特に制限はないが、例えば、５～８０ｎｍである。
上述したように、低屈折率層１２中に連続層の高屈折率層１３は２層以上形成されていてもよい。低屈折率層１２中に連続層の高屈折率層１３は２層形成した構成としては、低屈折率層１２中に、ＴｉＯ２層（厚さ１１ｎｍ）、ＳｉＯ２層（厚さ２８ｎｍ）、ＴｉＯ２層（厚さ１１ｎｍ）の順に積層させた構成が挙げられる。
図１に示すように、高屈折率層１３上に形成される低屈折率層１２もその表面に微細な凹凸を有し、防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側最表面、すなわち、防眩膜１４の最表面１４ａは、微細な凹凸を有する形状となる。本願明細書では、防眩膜１４の表面形状の指標として、粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍを用いる。上述したように、高屈折率層１３に平坦な領域が少なく、かつ、防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側最表面のＲＳｍが小さければ、このような構成とすることにより、高防眩性および低ぎらつきを達成できることを本願発明者は見出した。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側最表面（すなわち防眩膜１４の最表面１４ａ）のＲＳｍが５０μｍ以下である。これにより高防眩性および低ぎらつきを達成できる。ここでぎらつき（Ｓｐａｒｋｌｅ）とは、防眩膜付き透明基体をピクセルマトリックスタイプの表示装置用カバー部材に用いる場合、カバー部材表面に、ピクセルマトリックスよりも大きな周期を持つ多くの光の粒が観察され、これにより視認性が阻害される度合いを意味する。低ぎらつきであるほど光の粒が観察されにくく、視認性が向上する。
なお、防眩膜１４最表面１４ａの粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に規定されている方法に従って測定できる。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側最表面のＲＳｍは３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。また、図１に示す防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側最表面のＲＳｍは０．８μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がより好ましい。可視光波長端である０．８μｍ未満であると可視光領域での散乱が発現しにくく、防眩性が発現しにくくなるためである。
図１に示す防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側最表面（すなわち防眩膜１４の最表面１４ａ）の算術表面粗さＲａは、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下が好ましく、０．０２μｍ以上０．０８μｍ以下がより好ましく、０．０２μｍ以上０．０６μｍ以下がさらに好ましい。Ｒａが下限値以上であると、防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側最表面での正反射が増えすぎず、ぎらつきを抑制しつつ防眩性が得られる。Ｒａが上限値以下であると、防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側最表面の、防眩膜由来の凹凸構造が耐摩耗性を確保できる。
すなわち、図１に示す防眩膜付き透明基体１０は、高屈折率層１３において、透明基体１１の第１主面１１ａに対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比が１５％以下であり、かつ防眩膜１４表面のＲＳｍが５０μｍ以下であることにより、高防眩性、高視認性および低ぎらつきを達成できる。
高屈折率層１３を設けることで高防眩性は得られるが、高屈折率層１３を設けたことにより反射率が高くなりすぎると、防眩膜付き透明基体１０の透明性が損なわれるため、可視光反射率が一定値以下であることが好ましい。防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率Ｉ）から、防眩膜付き透明基体１０の、または、透明基体１１の第２主面１１ｂと空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率ＩＩ）と、防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１側と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率ＩＩＩ）との合計を差し引いた値が０．２～４％であることが好ましい。ここで、第１主面１１ａ側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率Ｉ）の値は、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定した実測値であり、第２主面１１ｂと空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率ＩＩ）と、第１主面１１ａ側と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率ＩＩＩ）は、理想的に平坦な透明基体１１の面に低屈折率層１２と同じ膜厚、同じ屈折率と減衰係数との積ｎｋを仮定した平坦層、加えて高屈折率層１３と同じ膜厚、同じｎｋを仮定した平坦層、さらに低屈折率層１２と同じ膜厚、同じｎｋを仮定した平坦層を積層した４層構成における光学計算値である。
また、透明基体１１の第２主面１１ｂと空気界面での反射を消すために、透明基体１１の第２主面１１ｂを充分に黒く塗りつぶした後、第１主面１１ａ側（視認側）から積分球を備えた分光光度計を用いて測定した可視光反射率が０．２～８％であることが好ましい。
＜第２実施形態＞
図２は本発明の防眩膜付き透明基体の第２実施形態を模式的に示した断面図である。図２に示す防眩膜付き透明基体２０は、第１主面２１ａと第２主面２１ｂとを備える透明基体２１と、第１主面２１ａ上に形成された防眩膜２４が形成されている。第１実施形態と共通の構成については説明を省略する。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０は、防眩膜２４は、透明基体２１の第１主面２１ａ上に形成された低屈折率層２２と、低屈折率層２２中に形成された高屈折率層２３と、で構成されている。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０における高屈折率層２３は不連続層である。
本明細書において、不連続層とは、下地層表面が完全に被われておらず、層を被覆した後に下地の一部が露出している状態である層を指す。
なお、図２に示す防眩膜付き透明基体２０では、低屈折率層２２中に平板状の高屈折率粒子が複数層状に分散することにより、不連続層の高屈折率層２３をなしている。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０における低屈折率層２２は、第１実施形態の低屈折率層１２と同じく、波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｌｏｗが１．４～１．８である。屈折率ｎｌｏｗが上記範囲を満たす低屈折率層２２の構成材料は、低屈折率層１２と同様である。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０において、不連続層の高屈折率層２３をなす平板状の高屈折率粒子は、第１実施形態の高屈折率層１３と同じく、波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｈｉｇｈが低屈折率層２２の屈折率ｎｌｏｗよりも０．１以上高い。屈折率ｎｈｉｇｈが上記範囲を満たす平板状の高屈折率粒子の構成材料は、高屈折率層１３と同様である。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０では、不連続層の高屈折率層２３をなす高屈折率粒子として、平板状の高屈折率粒子を用いるのは、高屈折率粒子が主面を有する構成とし、該主面が透明基体２１の第１主面２１ａに対し傾斜した状態で低屈折率層２２中に分布させることにより、透明基体２１の第１主面２１ａに対する面傾きが０．５°以下となる高屈折率粒子を少なくするためである。したがって、高屈折率粒子は偏平な形状であればよく、文言通りの平板状の粒子以外に、いわゆる鱗片状の粒子を含む。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０は、高屈折率層２３をなす高屈折率粒子のうち、透明基体２１の第１主面２１ａに対する面傾きが０．５°以下となる高屈折率粒子の面積比が１５％以下であることにより、高防眩性および高視認性を達成できる。
なお、上記の面積比は、高屈折率層２３をなす高屈折率粒子を透明基体２１の第１主面２１ａに投影した二次元投影形状における面積比である。
高屈折率層２３が不連続層である場合は、上記の面積比は、以下の手順で求められる。
防眩膜付き透明基体２０について、厚さ方向断面を観察できるようにサンプルを作製する。このサンプルについて、走査型電子顕微鏡ＳＥＭを使用し、合計１００μｍ以上の幅について粒子の断面を観察する。サンプル表面に、チャージアップ防止のために白金コート５ｎｍ行った後、ＳＥＭを用いて観察する。ＳＥＭとしては、例えば、日立製作所製ＦＥ－ＳＥＭ（型番Ｓ４３００）を使用でき、加速電圧５ｋＶ、倍率５万倍の条件でサンプルを観察する。ＳＥＭにより得られた観察像から、観察できる全粒子の透明基体２０の第１主面２１ａに対する傾斜角度を測定し、ヒストグラム化することで傾斜角度が０．５°以下の存在比率を求める。この存在比率は、面積比率と等価と考えられるため、この存在比率を、面傾きが０．５°以下となる部位の面積比とする。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０は、高屈折率層２３をなす高屈折率粒子のうち、透明基体２１の第１主面２１ａに対する面傾きが０．５°以下となる高屈折率粒子の面積比は１５％以下が好ましく、１２％以下がより好ましく、８％以下がさらに好ましい。
以下、平板状の高屈折率粒子の一例として、薄片状のアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）と鱗片状アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）とが挙げられる、薄片状のアルミナとしては１次粒子、または複数枚の薄片状のアルミナ１次粒子が、互いに面間が平行的に配向し重なって形成されるアルミナ２次粒子が挙げられる。鱗片状アルミナとしては、アルミナ１次粒子およびアルミナ２次粒子が挙げられる。
アルミナ１次粒子の厚さは、０．００１～０．１μｍが好ましい。アルミナ１次粒子の厚さが前記範囲内であれば、互いに面間が平行的に配向して１枚または複数枚重なった鱗片状のアルミナ２次粒子を形成できる。アルミナ１次粒子の厚さに対する最小長さの比は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。
アルミナ２次粒子の厚さは、０．００１～３μｍが好ましく、０．００５～２μｍがより好ましい。アルミナ２次粒子の厚さに対する最小長さの比は、２以上が好ましく、５以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。アルミナ２次粒子は、融着することなく互いに独立に存在していることが好ましい。
鱗片状アルミナ粒子の平均アスペクト比は、３０～２００が好ましく、４０～１６０がより好ましく、５０～１２０がさらに好ましい。鱗片状アルミナ粒子の平均アスペクト比が上記範囲の下限値以上であれば、膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。鱗片状アルミナ粒子の平均アスペクト比が上記範囲の上限値以下であれば、後述する手順で低屈折率層２１中に高屈折率粒子を分散させる際に、塗料組成物中における分散安定性が良好である。
「アスペクト比」は、粒子の厚さに対する最長長さの比（最長長さ／厚さ）を意味し、「平均アスペクト比」は、無作為に選択された５０個の粒子のアスペクト比の平均値である。粒子の厚さは原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定され、最長長さは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）によって測定される。
鱗片状アルミナ粒子の平均粒子径は、５０～５００ｎｍが好ましく、１００～３００ｎｍがより好ましい。鱗片状アルミナ粒子の平均粒子径が上記範囲の下限値以上であれば優れた低ぎらつき性が得られる。また膜厚が厚くても防眩膜のクラックや膜剥がれが充分に抑えられる。鱗片状アルミナ粒子の平均粒子径が上記範囲の上限値以下であればヘイズ率がより低くなる。また、後述する手順で低屈折率層中に高屈折率粒子を分散させる際に、塗料組成物中における分散安定性が良好である。
鱗片状アルミナ粒子の平均粒子径は、球状アルミナ粒子の平均粒子径と同様に測定される。
粉体または分散体には、鱗片状アルミナ粒子だけでなく、鱗片状アルミナ粒子の製造時に発生する不定形アルミナ粒子が含まれることがある。鱗片状アルミナ粒子は、例えば鱗片状アルミナ粒子が凝集して不規則に重なり合って形成される間隙を有する凝集体形状のアルミナ３次粒子（以下、アルミナ凝集体とも記す。）を解砕、分散して得られる。不定形アルミナ粒子は、アルミナ凝集体がある程度微粒化された状態であるが、個々の鱗片状アルミナ粒子まで微粒化されていない状態のものであり、複数の鱗片状アルミナ粒子が塊を形成する形状である。不定形アルミナ粒子を含むと、形成される防眩膜の緻密性が低下してクラックや膜剥がれが発生しやすくなるおそれがある。そのため、粉体または分散体における不定形アルミナ粒子の含有量は、少ないほど好ましい。
不定形アルミナ粒子およびアルミナ凝集体は、いずれも、ＴＥＭ観察で黒色状に観察され、薄片状のアルミナ１次粒子またはアルミナ２次粒子は、ＴＥＭ観察でうすい黒色または半透明状に観察される。
鱗片状アルミナ粒子は、市販のものでも製造したものを用いてもよい。
鱗片状アルミナ粒子の市販品としては、たとえば日産化学工業社製ＡＳ－５２０－Ａ、日揮触媒化成株式会社製Ｃａｔａｌｏｉｄ－ＡＳなどが挙げられる。
図２に示すように、不連続層の高屈折率層２３上に形成される低屈折率層もその表面に微細な凹凸を有し、防眩膜付き透明基体２０の第１主面２１ａ側最表面、すなわち、防眩膜２４の最表面２４ａは、微細な凹凸を有する形状となる。上述のように、平板状の高屈折率粒子の主面が透明基体２０の第１主面２１ａに対し傾斜した状態で低屈折率層２２中に分布し、かつ、防眩膜付き透明基体２０の第１主面２１ａ側最表面のＲＳｍが小さければ、このような構成とすることで、高防眩性および低ぎらつきを達成できることを本願発明者は見出した。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０の第１主面２１ａ側最表面（すなわち防眩膜２４の最表面２４ａ）のＲＳｍは５０μｍ以下である。これにより高防眩性および低ぎらつきを達成できる。防眩膜付き透明基体２０の第１主面２１ａ側最表面のＲＳｍは３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。これは防眩膜付き透明基体２０の第１主面２１ａ側最表面のＲＳｍが小さいほど表面形状起因のぎらつきが抑制されるためである。
また、防眩膜付き透明基体２０の第１主面２１ａ側最表面のＲＳｍは０．８μｍ以上が好ましく、５μｍ以上がさらに好ましい。これは可視光波長端である０．８μｍ未満であると可視光が回折されにくく、防眩性が発現しにくくなるためである。
なお、防眩膜２４表面の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍは、ＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に規定されている方法に従って測定できる。
すなわち、図２に示す防眩膜付き透明基体２０は、高屈折率層２３をなす高屈折率粒子のうち、透明基体２１の第１主面２１ａに対する面傾きが０．５°以下となる高屈折率粒子の面積比が１５％以下であり、かつ防眩膜２４表面のＲＳｍが５０μｍ以下であることにより、高防眩性、高視認性および低ぎらつきを達成できる。
図２に示す防眩膜付き透明基体２０の防眩膜２４は、例えば以下の手順で形成できる。
平板状の高屈折率粒子（例えば、鱗片状アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）粒子）と低屈折率材料（例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２））の中実粒子とを、低屈折率材料（例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２））のマトリックス剤とともに混合した塗布液を静電塗装法により透明基体２１の第１主面２１ａに塗布した後、所定の温度条件で焼成する。ここで、平板状の高屈折率粒子と低屈折率材料の中実粒子との質量比、低屈折率材料の中実粒子の直径および低屈折率材料のマトリックス剤に対する、平板状の高屈折率粒子および低屈折率材料の中実粒子の質量比を適宜選択することにより、平板状の高屈折率粒子が低屈折率材料のマトリックス中で傾斜する角度の分布中心を制御できる。
なお、上記塗布液中、平板状の高屈折率粒子の含有量は、５～５０体積％が好ましい。
第２の実施形態は、高屈折率層２３が不連続層である。不連続な高屈折率層２３を構成する材料が平板状であり、透明基体２１の第１主面２１ａと並行とならないように配置することが好ましい。高屈折率層が連続層である場合、連続層を形成する凹凸部のうち、凸部の頂部および凹部の底部の一部が透明基体の主面と平行な部分ができてしまうことが避けられない。このため、第２の実施形態は優れた光学特性がえられる。平板状の高屈折率材料を透明基体２１の第１主面２１ａと平行とならないようにするためには、低屈折率層２２と同じ屈折率を持ち、平板状の高屈折率材料の平均直径（真円換算）よりも平均直径の小さな微小粒子を塗布液に含有させることで作製できる。
＜第３実施形態＞
図３は本発明の防眩膜付き透明基体の第３実施形態を模式的に示した断面図である。図３に示す防眩膜付き透明基体３０は、第１主面３１ａと第２主面３１ｂとを備える透明基体３１と、第１主面３１ａ上に形成された防眩膜３４が形成され、防眩膜３４は、透明基体３１の第１主面３１ａ上に形成された高屈折率層３３と、高屈折率層３３中に形成された低屈折率層３２と、で構成されている。
図３に示す防眩膜付き透明基体３０における低屈折率層３２は連続層である。
すなわち、第１実施形態における防眩膜１４の低屈折率層１２と高屈折率層１３とを置き換えた構成であり、第１実施形態と同様の効果を奏する。
したがって、各層の屈折率、相互の屈折率差、および各層の構成材料に関する記載以外は、第１実施形態における低屈折率層１２および高屈折率層１３に関する記載を、それぞれ高屈折率層３３および低屈折率層３２に関する記載に読み替えればよい。各層の屈折率、相互の屈折率差、および各層の構成材料に関する記載は、第１実施形態における低屈折率層１２および高屈折率層１３に関する記載を、それぞれ低屈折率層３２および高屈折率層３３に関する記載に読み替えればよい。
この場合、波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｈｉｇｈは１．８以下である。これは高屈折率層３３の屈折率ｎｈｉｇｈが上限値以下であると、可視光透過率が高くなるためである。波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｈｉｇｈは１．６以下が好ましく、１．５以下がより好ましい。
波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｈｉｇｈは１．４以上である。これは低屈折率層３２の屈折率ｎｌｏｗとの差が大きいほど任意の反射率設計がしやすいためである。また高屈折率層３３が１．４未満の場合、低屈折率層３２として使用できる材料がＭｇＦ２（屈折率１．３８）等極めて限られることも理由として挙げられる。波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｈｉｇｈは１．４５以上がより好ましい。
波長５５０ｎｍでの屈折率ｎｌｏｗは低いほどよく、１．４以下が好ましい。
第３実施形態においても、第１実施形態と同様な効果を発現する。第３実施形態は、第１実施形態に比べ、高屈折率層３３と空気界面との屈折率差が大きくなり、空気と防眩膜付き透明基体３０の第１主面３１ａ側最表面での入射光の散乱である表面反射散乱の絶対値が大きくなる。表面反射散乱を抑制したい場合には第１実施形態が好ましい。
＜第４実施形態＞
図４は本発明の防眩膜付き透明基体の第４実施形態を模式的に示した断面図である。図４に示す防眩膜付き透明基体４０は、第１主面４１ａと第２主面４１ｂとを備える透明基体４１と、透明基体４１の第１主面４１ａ上に形成された防眩膜４４が形成され、防眩膜４４は、透明基体４１の第１主面４１ａ上に形成された高屈折率層４３と、高屈折率層４３中に形成された低屈折率層４２と、で構成されている。
図４に示す防眩膜付き透明基体４０における低屈折率層４２は不連続層である。
すなわち、第２実施形態における防眩膜２４の低屈折率層２２と高屈折率層２３とを置き換えた構成である。したがって、各層の屈折率、相互の屈折率差、および各層の構成材料に関する記載以外は、第２実施形態における低屈折率層２２および高屈折率層２３に関する記載を、それぞれ高屈折率層４３および低屈折率層４２に関する記載に読み替えればよい。各層の屈折率、相互の屈折率差、および各層の構成材料に関する記載は、図２に示す防眩膜付き透明基体２０における低屈折率層２２および高屈折率層２３に関する記載を、それぞれ低屈折率層４２および高屈折率層４３に関する記載に読み替えればよい。
第４実施形態においても、第２実施形態と同様な効果を発現する。第４実施形態は、第２実施形態に比べ、高屈折率層４３と空気界面との屈折率差が大きくなり、表面反射散乱の絶対値が大きくなる。表面反射散乱を抑制したい場合には第４実施形態が好ましい。
第４の実施形態は、低屈折率層４２が不連続層である。不連続な低屈折率層４２を構成する材料が平板状であり、透明基体４１の第１主面４１ａと並行とならないように配置することが好ましい。低屈折率層が連続層である場合、連続層を形成する凹凸部のうち、凸部の頂部および凹部の底部の一部が透明基体の主面と平行な部分ができてしまうことが避けられない。このため、第４の実施形態は優れた光学特性がえられる。平板状の低屈折率材料を透明基体４１の第１主面４１ａと平行とならないようにするためには、低屈折率層と同じ屈折率を有し、平板状の高屈折率材料の平均直径（真円換算）よりも平均直径の小さな微小粒子を塗布液に含有させることで作製できる。
＜表示装置＞
図８は、上述した第１実施形態の防眩膜付き透明基体１０をカバー部材１６０として使用した表示装置１００の断面図である。図８に示すように、表示装置１００は、凹部１３０を有する筐体１２０を有し、この凹部１３０に液晶パネルなどの表示パネル１４０やバックライト１５０などが配置されている。防眩膜付き透明基体１０は、透明基体１１の第２主面１１ｂ側が、表示パネル１４０および筐体１２０に接着剤層１７０を介して貼合されている。透明基体１１の第２主面１１ｂの外周部には遮光インクが印刷された印刷層１８０が形成されている。なお、表示装置１００は、偏向基板、ピクセル基板、カラーフィルタなどを備えていてもよい。
また、第２実施形態の防眩膜付き透明基体２０、第３実施形態の防眩膜付き透明基体３０、第４実施形態の防眩膜付き透明基体４０をカバー部材１６０として使用してもよい。
上述したように、図１，２，３，４に示す防眩膜付き透明基体１０，２０，３０，４０によれば、高防眩性、高視認性および低ぎらつきを達成できる。
（防眩性）
防眩性は、反射像拡散性指標値Ｒ（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ Ｉｍａｇｅ Ｄｉｆｆｕｓｉｖｅｎｅｓｓ ｉｎｄｅｘ ｖａｌｕｅ）を用いて評価した。
（反射像拡散性指標値Ｒ）
以下、図５および図６を参照して、反射像拡散性指標値Ｒの測定方法について説明する。
図５には、カバー部材の反射像拡散性指標値Ｒを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示す。
図５に示すように、測定装置５０１は、線状光源装置５０７および面輝度測定器５１５を有する。
線状光源装置５０７は、光源５１１と、その周囲の黒色平板５１２とを有する。光源５１１は、図５において、紙面に垂直な方向に延伸する線状光源であり、黒色平板５１２の中央に設けられたスリット状の開口部に設置される。
面輝度測定器５１５は、光源５１１の長手軸と直交する平面であって、光源５１１のほぼ中央を通る平面上に配置される。従って、面輝度測定器５１５は、長手軸に沿った光源５１１ほぼ中央の位置で、光源５１１と対向するように配置される。面輝度測定器５１５と光源５１１との間の距離は、約６０ｍｍである。
また、面輝度測定器５１５の焦点は、防眩膜付き透明基材５２０の外表面５２２で反射した線状光源装置５０７の像に合わせられる。
測定対象となる防眩膜付き透明基材５２０は、防眩膜の付いた外表面５２２が線状光源装置５０７および面輝度測定器５１５の側となるようにして、測定装置５０１内に配置される。実施例１，２および比較例１，２に係る防眩膜付き透明基材の場合、外表面５２２は、防眩膜の付いた外表面である。また、防眩膜の付いた面に対向する反対側の面は、三菱ペイントマーカーＰＸ－３０（三菱鉛筆製）を用いて充分黒く塗りつぶす。これは、測定時に、防眩膜付き透明基材の裏面／空気界面からの反射を無くすためである。
測定装置５０１を用いて、カバー部材５２０の反射像拡散性指標値Ｒを測定する際には、線状光源装置５０７の光源５１１から、防眩膜付き透明基材５２０の外表面５２２に向かって光が照射される。
線状光源装置５０７から照射された光は、入射角θｉで防眩膜付き透明基材５２０の外表面５２２に入射される。また、この光は、反射角θｒで防眩膜付き透明基材５２０の外表面５２２で反射および／または散乱され、面輝度測定器５１５に入射される。
例えば、図５には、線状光源装置５０７からの第１の入射光５３１が外表面５２２で正反射され、第１の反射光５３２となり、面輝度測定器５１５に入射される様子が示されている。
この場合、第１の入射光５３１の入射角θｉと、第１の反射光５３２の反射角θｒとの間には、θｒ－θｉ＝０°が成立する。
このような正反射の場合において、特に、入射角θｉ＝反射角θｒ＝５．７°の場合に、面輝度測定器５１５において測定される第１の反射光５３２の輝度をＲ１とする。ただし、実際には誤差が含まれるので、輝度Ｒ１は、θｒ－θｉ＝５．７°±０．１°において測定される第１の反射光５３２の輝度である。
一方、図６には、線状光源装置５０７からの第２の入射光５３３が外表面５２２で散乱、反射され、第２の反射光５３４となり、面輝度測定器５１５に入射される様子が示されている。
ここで、特に、第２の入射光５３３の入射角θｉと、第２の反射光５３４の反射角θｒとの間で、θｒ－θｉ＝０．５°±０．１°が成立する場合の、面輝度測定器５１５において測定される、第２の反射光５３４の輝度をＲ２とする。
また、第２の入射光５３３の入射角θｉと、第２の反射光５３４の反射角θｒとの間で、θｒ－θｉ＝－０．５°±０．１°が成立する場合の、面輝度測定器５１５において測定される、第２の反射光５３４の輝度をＲ３とする。
このようにして得られた各輝度Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３を用いて、以下の（１）式により、カバー部材５２０の反射像拡散性指標値Ｒが算出される：
反射像拡散性指標値Ｒ＝（Ｒ２＋Ｒ３）／（２×Ｒ１） （１）式
このような反射像拡散性指標値Ｒは、観察者の目視による防眩性の判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、反射像拡散性指標値Ｒが小さな（０に近い）値を示す防眩膜付き透明基材５２０は防眩性が劣り、逆に反射像拡散性指標値Ｒが大きな値（１に近いほど大きい）を示す防眩膜付き透明基材５２０は、良好な防眩性を有する。
なお、このような測定は、例えば、ＤＭ＆Ｓ社製の装置ＳＭＳ－１０００を使用することにより実施できる。この装置を使用する場合、カメラレンズの焦点距離が１６ｍｍのＣ１６１４Ａレンズを絞り５．６で使用する。また、外表面５２２からカメラレンズまでの距離は、約３００ｍｍであり、Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃａｌｅは、０．０２７６～０．０２７８の範囲に設定される。
また、この装置では、線状光源装置５０７の黒色平板５１２に形成されるスリットの開口部の寸法は、１０１ｍｍ×１ｍｍである。
図１，２，３，４に示す防眩膜付き透明基体１０，２０，３０，４０は、反射像拡散性指標値Ｒが、０．１以上であることが好ましく、０．２以上がより好ましい。防眩膜付き透明基体１０，２０の反射像拡散性指標値Ｒは、０．１以上であることで、画像表示装置に用いた場合に、優れた防眩性を発揮する。
また、反射像拡散性指標値Ｒは、１．０に近い方が防眩性増大の観点から好ましい。
本願明細書では、ぎらつきの指標として、以下の手順で測定されるぎらつき指標値（Ａｎｔｉ－Ｓｐａｒｋｌｅ）：Ｓを用いる。
ぎらつき指標値（Ａｎｔｉ－Ｓｐａｒｋｌｅ）とは、表示画像からの光（像）がガラス板を透過する際にガラス板表面によって散乱され、散乱された光が相互に干渉することによって生じる輝点のムラが、どの程度検出されるかを表すものであり、観察者の目視によるぎらつきの判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、ぎらつき指標値Ｓが小さなガラス板は、ぎらつきが顕著であり、逆にぎらつき指標値Ｓが大きなガラス板は、ぎらつきが抑制される傾向にある。
（ぎらつき指標値Ｓ）
次に、透明基体のぎらつき指標値（Ａｎｔｉ－Ｓｐａｒｋｌｅ）：Ｓの測定方法について図９を用いて説明する。
ぎらつき指標値Ｓを測定する際には、まず、表示装置８０６（ｉＰａｄ 第３世代（登録商標）；解像度２６４ｐｐｉ）を準備する。表示装置の表示面側には、破損防止目的等のカバーを備えてもよい。
次に、表示装置の表示面側に、被測定試料、すなわち防眩膜付き透明基体８０３（または防眩加工が施された防眩機能を有する透明基体）が配置される。なお、防眩膜付き透明基体８０３の一方の主面である第１主面８０４に防眩膜が形成されている場合、防眩膜付き透明基体８０３は、この第１の主面８０４が表示装置８０６の反対側（検出器８０２側）になるようにして、表示装置の表示面側に配置される。すなわち他方の主面である、第２の主面８０５を表示装置８０６上に配置する。
次に、表示装置をＯＮにして画像を表示させた状態で、解析装置（ＳＭＳ－１０００；Ｄｉｓｐｌａｙ－Ｍｅｓｓｔｅｃｈｎｉｋ＆Ｓｙｓｔｅｍｅ［ＤＭ＆Ｓ］社製）を使用して、防眩膜付き透明基体８０３のぎらつき度合いを画像解析する。これにより、Ｓｐａｒｋｌｅ値として表されるぎらつきＳａが求められる。
なお、測定に際して、ＲＧＢ（０，２５５，０）で構成される緑単色の像が、表示装置８０６の表示画面全体に表示されることが好ましい。表示色の違いによる見え方の違い等の影響を極力小さくするためである。固定撮像素子と防眩機能を有する透明基体との間の距離ｄは５４０ｍｍとした。この距離ｄは、距離指数ｒで表すとｒ＝１０．８に相当する。
ここで、距離指数ｒは、固体撮像素子の焦点距離ｆおよび固体撮像素子と透明基体の間の距離ｄを用いて、以下の式で表される：
距離指数ｒ＝（固体撮像素子と防眩膜付き透明基体の間の距離ｄ）／（固体撮像素子の焦点距離ｆ）
次に、参照試料において、同様の測定を実施する。参照試料は、防眩膜付き透明基体８０３と同じ厚さのガラス基板（ＶＲＤ１４０ガラス；ＡＧＣ Ｇｌａｓｓ Ｅｕｒｏｐｅ社製）である。
得られたＳｐａｒｋｌｅ値をぎらつきＳｓとする。
得られたＳａおよびＳｓから、以下の式（２）により、防眩膜付き透明基体８０３のぎらつき指標値Ｓが算出される。
ぎらつき指標値Ｓ＝１－（Ｓａ／Ｓｓ） 式（２）
このぎらつき指標値（Ａｎｔｉ－Ｓｐａｒｋｌｅ）Ｓは、観察者の目視によるぎらつきの判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、ぎらつき指標値Ｓが小さな透明基体は、ぎらつきが顕著であり、逆にぎらつき指標値Ｓが大きな透明基体は、ぎらつきが抑制される傾向にある。
なお、この測定では、カメラレンズとしては、焦点距離が５０ｍｍの２３ＦＭ５０ＳＰレンズが絞り５．６で使用されることが好ましい。
（視認性指標値Ｔ）
本願明細書では、視認性の指標として、以下の手順で測定される視認性指標値（Ｃｌａｒｉｔｙ）：Ｔを用いる。
視認性（Ｃｌａｒｉｔｙ）とは、ガラス板を通して表示画を視認した際に、表示画とどの程度一致した像が得られるかを表すものであり、観察者の目視による視認性（解像性）の判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、視認性指標値Ｔが小さな（０に近い）値を示すガラス板は視認性が劣り、逆に視認性指標値Ｔが大きな値を示すガラス板は、良好な視認性を有する。従って、この視認性指標値Ｔは、ガラス板の視認性を判断する際の定量的指標として使用できる。
視認性指標値Ｔの測定は、日本電色工業株式会社製変角光度計、ＧＣ５０００Ｌを用いて、以下の手順で行った。まず、防眩膜付き透明基体の防眩膜が形成されている主面とは反対側から、防眩膜付き透明基体の厚さ方向と平行な方向を角度θ＝０゜としたときに、角度θ＝０゜±０．５゜の方向（以下、「角度０°の方向」ともいう）に、第１の光を照射した。第１の光は、防眩膜付き透明基体を透過し、防眩膜が形成されている主面からの透過光を受光し、その輝度を測定して、「０゜透過光の輝度」とした。
次に、防眩膜が形成されている主面から出射された光を受光する角度θを、－３０゜～３０゜の範囲で変化させ、同様の操作を実施した。これにより、防眩膜付き透明基体を透過して、防眩膜が形成されている主面から出射される光の輝度分布を測定して合計し、「全透過光の輝度」とした。
次に、以下の式（３）から、視認性指標値（Ｃｌａｒｉｔｙ）：Ｔを算定した。
視認性指標値（Ｃｌａｒｉｔｙ）：Ｔ＝０゜透過光の輝度／全透過光の輝度・・・式（３）
この視認性指標値（Ｃｌａｒｉｔｙ）：Ｔは、観察者の目視による解像性の判断結果と相関し、人の視感に近い挙動を示すことが確認されている。例えば、視認性指標値Ｔが小さな（０に近い）値を示す防眩膜付き透明基体は解像性が劣り、逆に視認性指標値Ｔが大きな値を示す防眩膜付き透明基体は、良好な解像性を有する。従って、この視認性指標値Ｔは、防眩膜付き透明基体の解像性を判断する際の定量的指標として使用できる。
以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限りこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
実施例１では、以下の手順で図１に示す防眩膜付き透明基体１０を作製した。低屈折率層１２の構成材料は二酸化ケイ素（ＳｉＯ２、ｎｌｏｗ＝１．４６）、連続層の高屈折率層１３の構成材料は二酸化チタン（ＴｉＯ２、ｎｈｉｇｈ＝２．４７）とした。
透明基体１１として、化学強化用ガラス（未強化の旭硝子社製ドラゴントレイル（登録商標）、屈折率：１．５１、サイズ：縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、厚さ：１．１ｍｍのガラス基板。）を用意した。該ガラスの表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。
低屈折率層１２としての二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層は静電塗装法により形成した。
二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層形成用の塗布液は以下の手順で調製した。
テトラエトキシシラン、およびビストリメトキシシリルエタン、ＡＧＣエスアイテック社製サンラブリーを、ＳｉＯ２換算固形分比で８７．６：６．４：６となり、かつ、ＳｉＯ２換算固形分濃度が３．１１質量％となるように、マグネチックスターラーを用いて撹拌しているソルミックス（登録商標）ＡＰ－１１（日本アルコール販売社製）に添加した。続いて、純水を１０．８６％となるように添加した後、２５℃にて３０分間混合した。その後、前記のテトラエトキシシラン、ビストリメトキシシリルエタン、及び液状媒体（ＡＰ－１１及び純水）の混合液の量に対して、濃度６０質量％の硝酸水溶液を０．５４質量％滴下し、さらに、６０℃で６０分間混合して、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層形成用の塗布液の前駆体液を得た。この前駆体液を、０．２５質量％となるように、ＡＰ－１１で希釈することで酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層形成用の塗布液を得た。
静電塗装装置のコーティングブース内の温度を２５±３℃の範囲内、湿度を５０％±５％の範囲内に調節した。静電塗装装置のチェーンコンベア上に、あらかじめ２５℃±３℃に加熱しておいた洗浄済みの透明基体１１を、ステンレス板を介して置いた。チェーンコンベアで３．０ｍ／分で等速搬送しながら、透明基体１１のトップ面（フロート法による製造時に溶融スズに接した面の反対側の面）に、静電塗装法によって、２５±３℃の範囲内の温度の塗布液を、カップ回転数３５ｋｒｐｍ、印加電圧６０ｋＶ、吐出液量１９ｇ／分、シェーブエア圧０．７ＭＰａで塗布した後、大気中、３００℃で６０分間焼成して二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を主成分とする層を形成した。ここでいう主成分とは、層中でその成分を５０％以上含むことを言う。形成後の表面形状を東京精密社製サーフコムで測定した結果、算術平均粗さＲａは０．０４μｍであった。また、最大高さ粗さＲｚは０．３２μｍであり、二乗平均平方根粗さＲｑは０．０６μｍ、ＲＳｍは１８μｍであった。
次に、表面に微細な凹凸が形成された二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層上に連続層の高屈折率層１３として、二酸化チタン（ＴｉＯ２）層（厚さ１５ｎｍ）をスパッタリング法により形成した。ここで言う二酸化チタン（ＴｉＯ２）層の厚さは、同時に製膜した平坦なガラス上に製膜した平坦膜の膜厚を、アルバック社製表面形状測定装置 Ｄｅｋｔａｋ ６Ｍ で測定した。また、連続膜であることは、製膜後サンプルを，日立製作所製ＦＥ－ＳＥＭ（型番Ｓ４３００）を用いて断面ＳＥＭ観察することにより確認した。
次に、上記と同様の手順で、静電塗装法により、二酸化チタン（ＴｉＯ２）層上に二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成して、図１に示す防眩膜付き透明基体１０を作製した。作製後の表面の算術平均粗さＲａおよびＲＳｍを東京精密社製ＳＵＲＦＣＯＭ１５００ＳＤ３－１２によりＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に規定の方法に従って測定したところ、Ｒａは０．０７μｍ、ＲＳｍは１８μｍであった。
前述の（透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比：算出方法１）の項に記載の手順で測定したところ、高屈折率層１２としての二酸化チタン（ＴｉＯ２）層は、透明基体１１の第１主面１１ａに対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比は２．９％であった。
透明基体１１の防眩膜１４の形成されていない第２主面１１ｂを、第２主面１１ｂと空気界面での反射を消すために、三菱鉛筆製ペイントマーカーＰＸ－３０で充分に黒く塗りつぶした後、防眩膜付き透明基体１０の第１主面１１ａ側から可視光反射率を測定した。測定した可視光反射率は６．６％であった。
また、前述の（反射像拡散性指標値Ｒ）の項に記載の手順で測定した、防眩膜付き透明基体１０の反射像拡散性指標値Ｒは０．２６であった。
また、前述の（ぎらつき指標値Ｓ）の項に記載の手順で測定した、防眩膜付き透明基体１０のぎらつき指標値Ｓは０．８４であった。
また、前述の（視認性指標値Ｔ）の項に記載の手順で測定した、防眩膜付き透明基体１０の視認性指標値Ｔは０．９７であった。
また、前述の（透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比：算出方法２）の項に記載の手順で断面ＳＥＭより測定した０．５°以下となる部位の比は２．８％であった。
また、前述の（透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比：算出方法２）の項に記載の手順で断面ＳＥＭより測定したＲａ，Ｒｓｍはそれぞれ０．０４μｍ、１８μｍであった。
（比較例１）
透明基体１１上に二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を静電塗装法により形成した後、高屈折率層１３としての二酸化チタン（ＴｉＯ２）層を形成しなかった以外は実施例と同様の手順を実施した。
また、ＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に規定されている方法に従って測定した防眩膜１４表面のＲＳｍは実施例と同じ１８μｍであった。
また、防眩膜付き透明基体１０の反射像拡散性指標値Ｒは０．０９７であった。
また、防眩膜付き透明基体１０のぎらつき指標値Ｓは０．９２であった。
また、防眩膜付き透明基体１０の視認性指標値Ｔは０．９８であった。
また、防眩膜付き透明基体１０の断面ＳＥＭより測定したＲａ，ＲＳｍはそれぞれ０．０４μｍ、１８μｍであった。
（実施例２）
実施例２では、以下の手順で図１に示す防眩膜付き透明基体１０を作製した。低屈折率層１２の構成材料は二酸化ケイ素（ＳｉＯ２、ｎｌｏｗ＝１．４６）、連続層の高屈折率層１３の構成材料は二酸化チタン（ＴｉＯ２、ｎｈｉｇｈ＝２．４７）とした。
透明基体１１として、化学強化用ガラス（未強化の旭硝子社製ドラゴントレイル（登録商標）、屈折率：１．５１、サイズ：縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、厚さ：１．１ｍｍのガラス基板。）を用意した。該ガラスの表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。
次に、ガラス片面をエッチング法によりガラス表面に微細な凹凸を形成した。具体的には、ガラス基板裏面に保護フィルムを貼った後、ガラス基板を、２ｗｔ％フッ化水素および３ｗｔ％フッ化カリウムを含むフロスト処理液に３分間浸漬した後、ガラス基板を洗浄し、７．５ｗｔ％フッ化水素および７．５ｗｔ％塩化水素を含む水溶液中に７分間浸漬することにより、ガラス表面に微細な凹凸を形成した。形成した表面の算術平均粗さＲａおよびＲＳｍを東京精密社製ＳＵＲＦＣＯＭ１５００ＳＤ３－１２によりＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に規定されている方法に従って測定したところ、Ｒａは０．０６４μｍ、ＲＳｍは１４μｍであった。
次に、表面に微細な凹凸が形成されたガラス基板上に連続層の高屈折率層１３として、二酸化チタン（ＴｉＯ２）層（厚さ１５ｎｍ）をスパッタリング法により形成した。
次に、実施例１と同様の手順で、静電塗装法により、二酸化チタン（ＴｉＯ２）層上に酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を形成して、図１に示す防眩膜付き透明基体１０を作製した。作製後の表面の算術平均粗さＲａおよびＲＳｍを東京精密社製ＳＵＲＦＣＯＭ１５００ＳＤ３－１２によりＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に規定されている方法に従って測定したところＲａは０．１０μｍ、ＲＳｍは１５μｍであった。
前述の（透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比：算出方法１）の項に記載の手順で測定したところ、高屈折率層１２としての二酸化チタン（ＴｉＯ２）層は、透明基体１１の第１主面１１ａに対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比は２．９％であった。
透明基体１１の防眩膜１４の形成されていない第２主面１１ｂを、第２主面１１ｂと空気界面での反射を消すために、三菱鉛筆製ペイントマーカーＰＸ－３０で充分に黒く塗りつぶした後、可視光透過率を測定した。測定した可視光反射率は６．１％であった。
前述の（反射像拡散性指標値Ｒ）の項に記載の手順で測定した防眩膜付き透明基体１０の反射像拡散性指標値Ｒは０．４２であった。
前述の（ぎらつき指標値Ｓ）の項に記載の手順で測定した防眩膜付き透明基体１０のぎらつき指標値Ｓは０．８７であった。
前述の（視認性指標値Ｔ）の項に記載の手順で測定した防眩膜付き透明基体１０の視認性指標値Ｔは０．９８であった。
また、前述の（透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比：算出方法２）の項に記載の手順で断面ＳＥＭより測定した０．５°以下となる部位の比は２．９％であった。
また、前述の（透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比：算出方法２）の項に記載の手順で断面ＳＥＭより測定したＲａ，ＲＳｍはそれぞれ０．０６μｍ、１４μｍであった。
（比較例２）
ガラス片面を実施例２と同条件でエッチング法によりエッチングすることにより表面に微細な凹凸を形成した後、ＴｉＯ２層を形成しなかった以外は実施例２と同様の手順を実施した。
作製後の表面の算術平均粗さＲａおよびＲＳｍを東京精密社製ＳＵＲＦＣＯＭ１５００ＳＤ３－１２によりＪＩＳ Ｂ０６０１－２００１に規定されている方法に従って測定したところ、Ｒａは０．１０１μｍ、ＲＳｍは１５μｍであった。
防眩膜付き透明基体１０の反射像拡散性指標値Ｒは０．１９であった。
防眩膜付き透明基体１０のぎらつき指標値Ｓは０．９１であった。
防眩膜付き透明基体１０の視認性指標値Ｔは０．９７であった。
また、防眩膜付き透明基体１０の断面ＳＥＭより測定したＲａ，ＲＳｍはそれぞれ０．１０μｍ、１５μｍであった。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２０１８年２月８日出願の日本特許出願（特願２０１８－０２０７３３）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
１０，２０，３０，４０ 防眩膜付き透明基体
１１，２１，３１，４１ 透明基体
１１ａ，２１ａ，３１ａ，４１ａ 第１主面
１１ｂ，２１ｂ，３１ｂ，４１ｂ 第２主面
１２，２２，３２，４２ 低屈折率層
１３，２３，３３，４３ 高屈折率層
１４，２４，３４，４４ 防眩膜
１４ａ，２４ａ，３４ａ，４４ａ 防眩膜最表面
１００ 表示装置
１２０ 筐体
１３０ 凹部
１４０ 表示パネル
１５０ バックライト
１６０ カバー部材
１７０ 接着剤層
１８０ 印刷層
Ｘ０ 正方形状データ
Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３ 反転・回転データ
５０１ 測定装置
５０７ 線状光源装置
５１１ 光源
５１２ 黒色平板
５１５ 面輝度測定器
５２０ 防眩膜付き透明基材
５２２ 外表面
５３１ 第１の入射光
５３２ 第１の反射光
５３３ 第２の入射光
５３４ 第２の反射光
８０３ 防眩膜付き透明基体
８０４ 第１の主面
８０５ 第２の主面
８０６ 表示装置

Claims (11)

  1. 第１主面と第２主面とを備える透明基体と、第１主面上に形成された防眩膜と、を有する防眩膜付き透明基体であって、
    前記防眩膜が、前記透明基体の第１主面上に形成された低屈折率層と、前記低屈折率層中に形成され、前記低屈折率層とは屈折率が異なる高屈折率層と、で構成されており、
    前記低屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｌｏｗとすると、ｎｌｏｗが１．４～１．８であり、
    前記高屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｈｉｇｈとすると、ｎｈｉｇｈが前記ｎｌｏｗよりも０．５以上高く、
    前記高屈折率層は、前記透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比が１５％以下であり、
    前記防眩膜付き透明基体の第１主面側最表面の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍが５０μｍ以下である、防眩膜付き透明基体。
  2. 前記高屈折率層は、２層以上の層からなる、請求項１に記載の防眩膜付き透明基体。
  3. 前記透明基体の第２主面を黒く塗りつぶし、第１主面側から測定した可視光反射率が０．２～８％である、請求項１または２に記載の防眩膜付き透明基体。
  4. 第１主面側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）から、第２主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）と、第１主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）との合計を差し引いた値が０．２～４％である、請求項１～３のいずれか一項に記載の防眩膜付き透明基体。
    ここで、第１主面側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）の値は、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定した実測値であり、第２主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）と、第１主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）は、理想的に平坦な面に同じ膜厚、同じ屈折率と減衰係数との積ｎｋの値で積層した構成における光学計算値である。
  5. 第１主面と第２主面とを備える透明基体と、第１主面上に形成された防眩膜と、を有する防眩膜付き透明基体であって、
    前記防眩膜が、前記透明基体の第１主面上に形成された高屈折率層と、前記高屈折率層中に形成された前記高屈折率層とは屈折率が異なる低屈折率層と、で構成されており、
    前記高屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｈｉｇｈとすると、ｎｈｉｇｈが１．４～１．８であり、
    前記低屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｌｏｗとすると、ｎｌｏｗが前記ｎｈｉｇｈよりも０．５以上低く、
    前記低屈折率層は、前記透明基体の第１主面に対する面傾きが０．５°以下となる部位の面積比が１５％以下であり、
    前記防眩膜付き透明基体の第１主面側最表面の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍが５０μｍ以下である、防眩膜付き透明基体。
  6. 前記低屈折率層の主成分がシリカである、請求項５に記載の防眩膜付き透明基体。
  7. 前記低屈折率層は、２層以上の層からなる、請求項５または６に記載の防眩膜付き透明基体。
  8. 前記透明基体の第２主面を黒く塗りつぶし、第１主面から測定した可視光反射率が０．２～８％である、請求項５～７のいずれか一項に記載の防眩膜付き透明基体。
  9. 第１主面側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）から、第２主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）と、第１主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）との合計を差し引いた値が０．２～４％である、請求項５～８のいずれか一項に記載の防眩膜付き透明基体。
    ここで、第１主面側から測定した波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）の値は、ＪＩＳ Ｒ３１０６に準拠して測定した実測値であり、第２主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）と、第１主面と空気界面での波長３８０～７８０ｎｍにおける反射率の平均値（可視光反射率）は、理想的に平坦な面に同じ膜厚、同じ屈折率と減衰係数との積ｎｋの値で積層した構成における光学計算値である。
  10. 請求項１～９のいずれか一項に記載の防眩膜付き透明基体をカバー部材とし、前記透明基体の第２主面と表示パネルとを接着剤層を介して貼りつけた構造を有する表示装置。
  11. 第１主面と第２主面とを備える透明基体と、第１主面上に形成された防眩膜と、を有する防眩膜付き透明基体であって、
    前記防眩膜が、前記透明基体の第１主面上に形成された低屈折率層と、前記低屈折率層中に形成された前記低屈折率層とは屈折率が異なる高屈折率層と、で構成されており、
    前記低屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｌｏｗとすると、ｎｌｏｗが１．４～１．８であり、
    前記高屈折率層は、波長５５０ｎｍでの屈折率をｎｈｉｇｈとすると、ｎｈｉｇｈが前記ｎｌｏｗよりも０．５以上高く、
    断面ＳＥＭ像において、前記高屈折率層が、主面に対して０．５度以下の傾きである部分を透明基体主面に平行な線に投影した長さを測定し、これらを合計したとき、幅４００μｍに対する長さの合計の割合が１５％以下であり、かつ、高屈折率層の２次元プロファイルから求めた算術平均粗さＲａが０．０１μｍ以上０．４μｍ以下であり、かつ、第１主面側最表面の粗さ曲線の要素の平均長さＲＳｍは０．８μｍ以上５０μｍ以下である、防眩膜付き透明基体。
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