KR20100110696A - Structure of coating body of vacuum deposition coating device - Google Patents
Structure of coating body of vacuum deposition coating device Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100110696A KR20100110696A KR1020090029689A KR20090029689A KR20100110696A KR 20100110696 A KR20100110696 A KR 20100110696A KR 1020090029689 A KR1020090029689 A KR 1020090029689A KR 20090029689 A KR20090029689 A KR 20090029689A KR 20100110696 A KR20100110696 A KR 20100110696A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- gear
- carrier
- coated
- fixed
- vacuum deposition
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/221—Ion beam deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
Abstract
Description
본 발명은 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조에 관한 것으로, 진공증착장치 내부의 베이스위에 안치되는 육면체의 제품을 코팅함에 있어서, 그 배치구조에 대한 것이다The present invention relates to a to-be-coated body arrangement of a vacuum deposition coating apparatus, and in the coating of a hexahedron product placed on a base inside a vacuum deposition apparatus, the arrangement structure thereof.
상기 진공증착 코팅장치의 챔버의 외통(10)과 내통(20)에 걸쳐서 글로우 방전 또는 플라즈마 방전을 발생시키는 방전수단(24,24')이 대향하여 설치되어 있어 전원공급장치(13)로부터 전원이 공급받아 방전대를 형성하고, 상기한 플라즈마 방전 또는 글로우 방전에 필요한 불활성 주입가스(Ar, N2, He)를 공급하는 가스 입력구(11)를 구비하고, 외통의 타측에는 진공 배기하기 위한 진공배기 수단(12)을 구비하고 있다.Discharge means (24, 24 ') for generating a glow discharge or a plasma discharge across the outer cylinder (10) and the inner cylinder (20) of the chamber of the vacuum deposition coating apparatus is provided opposite to the power supply from the power supply device (13) A
또한 기성 사출품(피코팅체)이 내주면의 치구(21)에 장착된 상태에서 코팅물질을 용융시켜 코팅하는 이베퍼레이터(23 ; Evaporator)와 스퍼터링 타겟(22)이 구비되어 있다.In addition, an evaporator 23 and a sputtering target 22 for melting and coating a coating material in a state where a ready-made injection molded product (coated body) is mounted on the
그리고 상기 스퍼터링 타겟 (22)은 고정 수단(26)에 장착되어 있다.The sputtering target 22 is attached to the fixing means 26.
여기서 상기 이베퍼레이터(23)는 저항가열식 또는 전자빔 방식으로 코팅물질 을 용융증발시켜 코팅하고, 상기 스퍼터링 타겟은 코팅물질을 스퍼터하여 분산시켜 피코팅체를 코팅하게 된다.Here, the evaporator 23 is coated by melting and evaporating the coating material by resistance heating or electron beam method, and the sputtering target is sputtered and dispersed to coat the coating material.
상기 저항 가열방식은 저항체에 전류를 흘려 주울열을 발생하는것을 이용한 가열방식을 사용한다. 여기서는 물체에 직접 전류를 흘려서 가열하는 직접식과 발열체의 열을 복사 대류 전도등으로 피가열물에 전달하는 간접식의 양자 방식을 모두 채택할 수 있다.The resistance heating method uses a heating method using a current to flow through the resistor to generate Joule heat. In this case, both a direct method of heating a current directly through an object and an indirect method of transferring heat from a heating element to a heated object by radiant convection conduction can be adopted.
플라즈마 또는 글로우 방전은 상기한 방전 수단(24, 24') 사이에서 상기한 불활성 주입가스와 전원 공급장치(13)으로부터 공급된 고압 전압의 스파크에 의해서 플라즈마 또는 글로우 방전대(25)가 형성된다. 이러한 상태에서 상기 내통(20)이 회전하면서 치구(21)에 안착되어 있는 피코팅체의 코팅부위에 상기한 방전대를 거치면서 에칭이 이루어지고, 이와 동시에 스퍼터링 타겟(22) 및/또는 이베퍼레이터(23)에 의해서 용융된 코팅물질이 비산 또는 스퍼터되어 상기한 피코팅체에 다층의 전도성 실드막이 형성되게 된다.In the plasma or glow discharge, the plasma or
이상과 같이 피코팅체의 코팅 공정을 요약하면, 코팅하고자 하는 기판(피코팅체)을 내통(20)의 치구(21)에 장착한 후, 진공배기 장치(12)를 통하여 진공증착 챔버(1)를 진공배기하고, 챔버내가 일정한 진공상태에 도달하면 치구(21)가 장착된 내통(20)을 회전시켜 피코팅체의 코팅할 부분이 상기 플라즈마 또는 글로우 방전대에서 에칭이 이루어지는 동시에, 상기 스퍼터링 타겟(22) 또는 이배퍼레이터(23)로부터 용융 비산 또는 스퍼터되는 코팅물질이 피코팅체로 균일하게 코팅이 이루어지는 것이다.Summarizing the coating process of the to-be-coated body as described above, after mounting the substrate (to-be-coated body) to be coated on the
이상 기술한 바와 같은 진공 증착 코팅 방법으로 피코팅체(사출품)인 폴리카보네이트 또는 플라스틱재로된 기판, 수지 또는 도료의 중간 밀착막층, 구리 또는 은으로 된 주전도성 박막층, SUS 또는 Ni로 된 막보호 박막층이 적층된 도전성 필름실드막이 형성된 코팅 적층체를 얻을 수 있다.The above-described vacuum vapor deposition coating method is a substrate made of a polycarbonate or plastic material to be coated (injected product), an intermediate adhesion film layer of resin or paint, a main conductive thin film layer made of copper or silver, a film made of SUS or Ni. The coating laminated body in which the electroconductive film shield film in which the protective thin film layer was laminated | stacked was formed can be obtained.
고진공 펌프와 확산펌프는 진공 코팅장치에서 통상적으로 사용되는 장치이다.High vacuum pumps and diffusion pumps are devices commonly used in vacuum coating equipment.
종래 기술에서 치구에 걸친 피코팅체는 3면만 코팅이 가능하다. 그러나 주로 육면체의 피코팅체중 5면을 코팅할 경우에는 상기 피코팅체를 코팅한 후 다시 방향을 돌려 치구에 장착한 후 코팅하여야 하는 번거러움이 있었고, 당연히 작업효율이 떨어진다는 단점이 있었다.In the prior art, the coated body over the jig can be coated on only three sides. However, in the case of coating five surfaces of the coated body of the hexahedron, there is a hassle that has to be coated after mounting the jig to be mounted on the jig again after the coating the coated body, there was a disadvantage of poor work efficiency.
따라서 본 발명에서는 치구에 고정되는 피코팅체에서 5면을 한 번에 코팅할 수 있게 피코팅체 걸이구조를 제공하는 것이다Therefore, the present invention is to provide a coated body hanger structure so that five surfaces can be coated at a time from the coated body fixed to the jig.
위 과제를 해결하기 위한 본발명의 구성은, 베이스(101)위에 고리 형상의 캐리어(102)가 설치되고, 상기 캐리어(102)는 모터(103)에 의해 회전되되, 캐리어(102) 위에 다시 고정기어(104)를 설치하며, 상기 고정기어(104)는 캐리어(102)가 아닌 베이스(101)에 고정되는 것으로, 캐리어(102)의 중공부분을 통해 고정기어(104)의 하부가 베이스상부에 결합되는 것이며, 또한, 다수 개의 이동기어(105)가 캐리어(102) 위에 설치되되, 이동기어(105)들은 각각 고정기어(104)와 기어접촉함으로써, 상기 캐리어(102)가 자전함에 따라 각각의 이동기어(105)들은 공전과 자전운동을 동시에 하게 되며, 상기 각각의 이동기어(105)위에 원통(106)을 고정설치하고, 원통(106)의 외주면에 다수 개의 제품걸이(107)를 설치하여 상기 제품걸이(107)에는 피코팅체(108)를 안치시키며, 이동기어의 상부에 이격되며 원통 내부에 설치되는 제1베벨기어(109)를 형성하되, 이동기어 중심축에 관통홀이 형성되어, 상기 관통홀을 통해 제1베벨기어의 수직축이 캐리어 상면에 고정되어 있으며, 상기 제1베벨기어와 1쌍이 되게 제2베벨기어(110)가 설치되고 제2베벨기어의 수평축은 원통의 외부로 관통되며, 수평축의 타단에 피코팅체(108)를 안치시키는 제품걸이(107)가 설치되는 것을 특징으로 하는 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조이다.The present invention for solving the above problems, the
따라서 본발명은 육면체의 제품을 코팅함에 있어서 5면을 한 번에 코팅하게 됨으로 작업이 간단하고 작업효율이 향상되는 현저한 효과가 있는 것이다.Therefore, the present invention has a remarkable effect that the work is simple and the work efficiency is improved by coating five surfaces at a time in coating a hexahedral product.
본발명은 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구에 관한 것으로, 그 구성은 베이스(101)위에 고리 형상의 캐리어(102)가 설치되고, 상기 캐리어(102)는 모터(103)에 의해 회전되되, 캐리어(102) 위에 다시 고정기어(104)를 설치하며, 상기 고정기어(104)는 캐리어(102)가 아닌 베이스(101)에 고정되는 것으로, 캐리어(102)의 중공부분을 통해 고정기어(104)의 하부가 베이스상부에 결합되는 것이며, 또한, 다수 개의 이동기어(105)가 캐리어(102) 위에 설치되되, 이동기어(105)들은 각각 고정기어(104)와 기어접촉함으로써, 상기 캐리어(102)가 자전함에 따라 각각의 이동기어(105)들은 공전과 자전운동을 동시에 하게 되며, 상기 각각의 이동기어(105)위에 원통(106)을 고정설치하고, 원통(106)의 외주면에 다수 개의 제품걸이(107)를 설치하여 상기 제품걸이(107)에는 피코팅체(108)를 안치시키는 것을 특징으로 하는 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조이다.The present invention relates to the arrangement of the coating body of the vacuum deposition coating apparatus, the configuration of which is provided with an
또한, 본발명은 상기 모터와 캐리어 사이에는 다수 개의 중간기어들이 연결되어 있어서 모터의 힘을 캐리어에 전달하는 것을 특징으로 하는 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조이다.In addition, the present invention is a structure of the coated body of the vacuum deposition coating apparatus, characterized in that a plurality of intermediate gears are connected between the motor and the carrier to transfer the power of the motor to the carrier.
또한, 본발명은, 상기 캐리어의 표면에는 축홈이 형성되어 있어 이동기어의 중심축이 상기 축홈에 결합되되, 축홈이 중심축을 지지하기만 할 뿐 움직이지 않게 고정하는 것은 아닌 것을 특징으로 하는 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조이다.In addition, the present invention, the surface of the carrier is formed with a shaft groove is a vacuum deposition, characterized in that the central shaft of the mobile gear is coupled to the shaft groove, the shaft groove only supports the central axis, but not fixedly fixed It is a structure of the coated body of the coating apparatus.
또한, 본발명은, 상기 이동기어의 상부에 이격되며 원통 내부에 설치되는 제1베벨기어(109)를 형성하되, 이동기어 중심축에 관통홀이 형성되어, 상기 관통홀을 통해 제1베벨기어의 수직축이 캐리어 상면에 고정되어 있으며, 상기 제1베벨기어와 1쌍이 되게 제2베벨기어(110)가 설치되고 제2베벨기어의 수평축은 원통의 외부로 관통되며, 수평축의 타단에 피코팅체(108)를 안치시키는 제품걸이(107)가 설치되는 것을 특징으로 하는 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조이다.In addition, the present invention, while forming a
또한, 본발명은, 상기 제1베벨기어와 제2베벨기어는 여러 개 설치되며 적층 식으로 수직으로 일정거리를 이격하고 설치되는 것을 특징으로 하는 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조이다.In addition, the present invention, the plurality of the first bevel gear and the second bevel gear is a coating structure arrangement structure of the vacuum deposition coating apparatus, characterized in that installed a predetermined distance apart vertically in a stacked manner.
이하 본발명에 대해 도면을 참고로 하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 종래 진공 증착 코팅 장치의 내부 평면도이고, 도 2는 본발명 진공 증착 커팅 장치의 전체 정면도이고, 도 3은 본발명 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조의 단면도이고, 도 4는 본발명의 실시예 요부 사진이다.1 is an internal plan view of a conventional vacuum deposition coating apparatus, FIG. 2 is an overall front view of a vacuum deposition cutting apparatus of the present invention, FIG. 3 is a cross-sectional view of a structure of a coated body of the vacuum deposition coating apparatus of the present invention, and FIG. The main part of the invention is a photograph.
본발명은 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구에 관한 것으로, 그 구성은 베이스(101)위에 고리 형상의 캐리어(102)가 설치되고, 상기 캐리어(102)는 모터(103)에 의해 회전된다. 모터의 축에는 다수 개의 중간기어들을 연결하여 회전토오크가 증대하게 한다. 캐리어는 중심이 비어 있음으로 이 위에 고정기어가 안치될 수 있다.The present invention relates to a coated body arrangement of the vacuum deposition coating apparatus, the configuration of which is provided with an
곧 캐리어(102) 위에는 원형의 고정기어(104)를 설치하며, 상기 고정기어(104)는 캐리어(102)가 아닌 베이스(101)에 고정되는 것으로, 캐리어(102)의 중공부분을 통해 고정기어(104)의 하부가 베이스 상부에 결합되는 것이다. 곧 캐리어가 모터에 의해 자전운동을 하더라도 고정기어는 모터나 캐리어의 동력이 전달되지 않아 베이스 상부에 고정되어 있는 것이다.In other words, a circular
또한, 다수 개의 이동기어(105)가 캐리어(102) 위에 설치되되, 이동기어(105)들은 각각 고정기어(104)와 긴밀하게 기어접촉함으로써, 상기 캐리어(102)가 자전함에 따라 각각의 이동기어(105)들은 공전과 자전운동을 동시에 하게 된다. 한편, 상기 캐리어의 표면에는 축홈이 형성되어 있어 이동기어의 중심축이 상기 축홈 에 결합되되, 축홈이 중심축을 지지하기만 할 뿐 움직이지 않게 고정하는 것은 아니다. 그러므로 상기 캐리어(102)가 자전함에 따라 각각의 이동기어(105)들은 공전과 자전운동을 동시에 하게 된다. 이는 본 발명 도면에 의해서도 알 수 있는 바이다.In addition, a plurality of
그리고 상기 각각의 이동기어(105)위에는 원통(106)을 고정설치한다. 원통(106)의 외주면에는 다수 개의 제품걸이(107)를 설치하여 상기 제품걸이(107)에는 피코팅체(108)를 안치시킨다. 이렇게 구성함으로써 제품걸이에 걸린 피코팅체는 육면체일 경우 3면에 코팅이 가능하다.And a
한편, 상기 이동기어의 상부에 이격되며 원통 내부에 설치되는 제1베벨기어(109)를 형성한다. 그리고 이동기어 중심축에는 관통홀이 별도로 형성되어, 상기 관통홀을 통해 제1베벨기어의 수직축이 캐리어 상면에 고정되어 있게 되며, 상기 제1베벨기어와 1쌍이 되게 제2베벨기어(110)가 설치되고, 제2베벨기어의 수평축은 원통의 외부로 관통되며, 수평축의 타단에 피코팅체(108)를 안치시키는 제품걸이(107)가 설치된다. 이러한 구성에 의해 제품걸이가 회전하게 됨으로써, 제품걸이에 안치된 피코팅체(108)는 육면체의 경우 5개면이 한 번에 코팅이 되는 것이다.Meanwhile, a
그리고 필요에 따라 상기 제1베벨기어와 제2베벨기어는 여러 개 설치되며 적층식으로 수직으로 일정거리를 이격하고 설치할 수 있다. 따라서 본발명은 육면체의 제품을 코팅함에 있어서 5면을 한 번에 코팅하게 됨으로 작업이 간단하고 작업효율이 향상되는 현저한 효과가 있는 것이다.If necessary, the first bevel gear and the second bevel gear may be provided in plural and stacked and vertically spaced apart from each other by a predetermined distance. Therefore, the present invention has a remarkable effect that the work is simple and the work efficiency is improved by coating five surfaces at a time in coating a hexahedral product.
미설명 도면부호 41은 고진공 밸브, 42는 오일 확산 고진공 펌프, 43은 저진 공 펌프이다.
도 1은 종래 진공 증착 코팅 장치의 내부 평면도1 is a plan view of the inside of a conventional vacuum deposition coating apparatus
도 2는 본발명 진공 증착 커팅 장치의 전체 정면도2 is an overall front view of the present invention vacuum deposition cutting device
도 3은 본발명 진공 증착 코팅 장치의 피코팅체 배치구조의 단면도Figure 3 is a cross-sectional view of the coated body arrangement of the present invention vacuum deposition coating apparatus
도 4는 본발명의 실시예 요부 사진Figure 4 is a main picture of an embodiment of the present invention
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>Description of the Related Art
101 : 베이스 102 : 캐리어101: base 102: carrier
103 : 모터 104 : 고정기어103: motor 104: fixed gear
105 : 이동기어 106 : 원통105: shifting gear 106: cylinder
107 : 제품걸이 108 : 피코팅체107: product hanger 108: coated body
109 : 제1베벨기어 110 : 제2베벨기어109: first bevel gear 110: second bevel gear
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090029689A KR20100110696A (en) | 2009-04-03 | 2009-04-03 | Structure of coating body of vacuum deposition coating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020090029689A KR20100110696A (en) | 2009-04-03 | 2009-04-03 | Structure of coating body of vacuum deposition coating device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100110696A true KR20100110696A (en) | 2010-10-13 |
Family
ID=43131258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090029689A KR20100110696A (en) | 2009-04-03 | 2009-04-03 | Structure of coating body of vacuum deposition coating device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20100110696A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109046868A (en) * | 2018-08-28 | 2018-12-21 | 芜湖聚鑫涂装有限公司 | A kind of the dacroment process dipping system |
KR102225986B1 (en) * | 2019-09-16 | 2021-03-10 | 주식회사 테토스 | Apparatus for depositing both side portions of the substrate |
-
2009
- 2009-04-03 KR KR1020090029689A patent/KR20100110696A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109046868A (en) * | 2018-08-28 | 2018-12-21 | 芜湖聚鑫涂装有限公司 | A kind of the dacroment process dipping system |
KR102225986B1 (en) * | 2019-09-16 | 2021-03-10 | 주식회사 테토스 | Apparatus for depositing both side portions of the substrate |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20130100325A (en) | Systems and methods for forming a layer of sputtered material | |
WO2017173875A1 (en) | Linear evaporation source, evaporation source system and vapour deposition device | |
US10784139B2 (en) | Rotatable electrostatic chuck having backside gas supply | |
US8673123B2 (en) | Magnetron sputtering device having rotatable substrate holder | |
TWI576456B (en) | Deposition apparatus and method for manufacturing organic light emitting diode display using the same | |
TWI654699B (en) | Composite device with cylindrical anisotropic thermal conductivity | |
KR20100110696A (en) | Structure of coating body of vacuum deposition coating device | |
KR20210089787A (en) | Electrostatic chuck with improved thermal coupling for temperature sensitive processes | |
KR20150113742A (en) | Evaporation source and deposition apparatus including the same | |
WO2015180210A1 (en) | Evaporation source heating device | |
TW201805462A (en) | Methods for coating a substrate and coater | |
KR101956722B1 (en) | Radio frequency (RF) -sputter deposition sources, deposition apparatus, and method of operation thereof | |
KR101087685B1 (en) | Vacuum evaporation device | |
KR20120139523A (en) | Rotation system for thin film formation and method thereof | |
JP7326036B2 (en) | Cathode unit for magnetron sputtering equipment | |
TWI705151B (en) | Physical vapor deposition in-chamber electro-magnet | |
JP2016501314A (en) | Evaporation source moving type evaporation system | |
KR100325410B1 (en) | A vacuum evaporation coating apparatus and coating method, and coating laminates | |
CN113463034B (en) | Evaporation device and evaporation method | |
KR200185068Y1 (en) | A vacuum evaporation coating apparatus | |
KR100537014B1 (en) | Coating System for Preventable EMI and Color Metal of Poly Carbonate of Plain Acrylic Glass using Ion Plating Method | |
KR101103369B1 (en) | Vacuum evaporation method | |
KR20140083260A (en) | complex vacuum evaporation method | |
JP2022514421A (en) | Vacuum system and method for depositing compound layers | |
KR20150030970A (en) | Evaporation unit and Apparatus for deposition including the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |