KR20100017098A - 자동 분석 장치 - Google Patents

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KR20100017098A
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베크만 컬터, 인코포레이티드
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Abstract

본원 발명은, 광원으로서 LED를 사용하고 있어도 원하는 파장의 광을 얻는 것이 가능한 광원 장치를 구비한 자동 분석 장치를 제공하는 것이다. 용기에 유지된 액체의 광학적 특성을 측정하는 자동 분석 장치는, 피크 파장이 서로 다른 광을 개개로 출사하고, 출사하는 광의 파장 영역에 다른 광원이 출사하는 광의 피크 파장이 존재하는 복수의 광원(12a, 12b)과, 복수의 광원이 개개로 출사하는 복수의 광을 혼합하는 렌즈(12c) 또는 하프 미러를 갖고, 각 피크 파장과는 상이한 원하는 혼합 피크 파장을 갖는 광을 출사하는 광원 장치(12)를 구비하고 있다.
피크 파장, 광원, 렌즈, 혼합 피크 파장, 광원 장치, 하프 미러, LED

Description

자동 분석 장치{AUTOMATED ANALYZER}
본 발명은, 자동 분석 장치에 관한 것이다.
종래, 자동 분석 장치는, 파장이 서로 다른 복수의 광에 의해 검체와 시약이 반응한 반응액의 흡광도를 측정함으로써 검체의 성분 농도 등을 분석하고 있다. 이와 같은 흡광도를 측정하는 수단으로서 자동 분석 장치는, LED를 광원으로서 사용한 것이 제안되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).
특허 문헌 1 : 일본 특개평8-122247호 공보
<발명의 개시>
<발명이 해결하고자 하는 과제>
그런데,LED가 출사하는 광은, 특정 파장에 피크 파장이 존재하는 발광 스펙트럼을 갖고 있어, 피크 파장은 이산적이다. 이 때문에, LED는, 사용 가능한 피크 파장의 광이 한정되어 있어, 원하는 파장에 피크 파장을 갖는 광을 얻는 것이 어렵다고 하는 문제가 있었다.
본 발명은, 상기를 감안하여 이루어진 것으로, 피크 파장이 서로 다른 복수의 광을 출사하는 광원을 사용하고 있어도 원하는 피크 파장의 광을 출사하는 것이 가능한 광원 장치를 구비한 자동 분석 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
<과제를 해결하기 위한 수단>
전술한 과제를 해결하고, 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 자동 분석 장치는, 용기에 유지된 액체의 광학적 특성을 측정하는 자동 분석 장치로서, 피크 파장이 서로 다른 광을 개개로 출사하고, 출사하는 광의 파장 영역에 다른 광원이 출사하는 광의 피크 파장이 존재하는 복수의 광원과, 상기 복수의 광원이 개개로 출사하는 복수의 광을 혼합하는 혼합 수단을 갖고, 상기 각 피크 파장과는 상이한 원하는 혼합 피크 파장을 갖는 광을 출사하는 광원 장치를 구비한 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 자동 분석 장치는, 상기의 발명에서, 상기 혼합 수단은, 렌즈 또는 하프 미러인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 자동 분석 장치는, 상기의 발명에서, 상기 하프 미러는, 광축을 일치시켜 상기 복수의 광원이 출사하는 광을 혼합하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 자동 분석 장치는, 상기의 발명에서, 상기 광원 장치는, 상기 복수의 광원 중 적어도 하나가 출사하는 광의 방사 강도를 조정하는 조정 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 자동 분석 장치는, 상기의 발명에서, 상기 광원 장치는, 상기 혼합 피크 파장과 방사 강도를 모니터하는 모니터 수단을 갖고, 상기 조정 수단은, 상기 모니터 수단이 모니터한 상기 혼합 피크 파장과 방사 강도에 기초하여 상기 복수의 광원 중 적어도 하나가 출사하는 광의 방사 강도를 조정하는 것을 특징으로 한다.
<발명의 효과>
본 발명의 자동 분석 장치는, 피크 파장이 서로 다른 광을 개개로 출사하고, 출사하는 광의 파장 영역에 다른 광원이 출사하는 광의 피크 파장이 존재하는 복수의 광원과, 복수의 광원이 개개로 출사하는 복수의 광을 혼합하는 혼합 수단을 갖고, 각 피크 파장과는 상이한 원하는 혼합 피크 파장을 갖는 광을 출사하는 광원 장치를 구비하고 있으므로, 피크 파장이 서로 다른 복수의 광을 출사하는 광원을 사용하고 있어도 서로 다른 피크 파장 사이에 원하는 혼합 피크 파장을 갖는 광을 출사할 수 있다고 하는 효과를 발휘한다.
도 1은 실시 형태 1의 자동 분석 장치의 개략 구성도.
도 2는 실시 형태 1의 자동 분석 장치가 구비하는 광원 장치의 구성과, 제1 피크 파장을 갖는 광과 제2 피크 파장을 갖는 광의 혼합을 설명하는 모식도.
도 3은 제1 피크 파장을 갖는 광, 제2 피크 파장을 갖는 광 및 혼합되는 광의 스펙트럼 분포를 도시하는 도면.
도 4는 실시 형태 2의 자동 분석 장치가 구비하는 광원 장치의 구성과, 제1 피크 파장을 갖는 광과 제2 피크 파장을 갖는 광의 혼합을 설명하는 모식도.
도 5는 제1 피크 파장을 갖는 광, 제2 피크 파장을 갖는 광 및 혼합되는 광의 스펙트럼 분포를 도시하는 도면.
도 6은, 도 5에서, 제1 피크 파장을 갖는 광의 방사 강도에 비해 제2 피크 파장을 갖는 광의 방사 강도가 큰 경우에 혼합되는 광의 스펙트럼 분포를 도시하는 도면.
도 7은 실시 형태 3의 자동 분석 장치가 구비하는 광원 장치의 구성과, 제1 피크 파장을 갖는 광과 제2 피크 파장을 갖는 광의 혼합을 설명하는 모식도.
<부호의 설명>
1 : 자동 분석 장치
2, 3 : 시약 테이블
4 : 큐벳 휠
5 : 반응 용기
6, 7 : 시약 분주 기구
8 : 검체 용기 이송 기구
9 : 피더
10 : 래크
11 : 검체 분주 기구
12 : 광원 장치
12a, 12b : LED
12c : 렌즈
13 : 수광 소자
14 : 세정 기구
15 : 교반 장치
17 : 제어부
18 : 입력부
19 : 표시부
22 : 광원 장치
22a, 22c : LED
22b, 22d : 가변 저항
23 : 하프 미러
24 : 강도 제어부
32 : 광원 장치
32a, 32c : LED
32b, 32d : 렌즈
33 : 하프 미러
34 : 강도 제어부
35 : 마이크로컴퓨터
36 : D/A 변환 회로
37 : 하프 미러
38 : 측광 소자
<발명을 실시하기 위한 최량의 형태>
이하, 본 발명의 자동 분석 장치에 관련되는 실시 형태 1에 대하여, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 도 1은 실시 형태 1의 자동 분석 장치의 개략 구성도이다. 도 2는 실시 형태 1의 자동 분석 장치가 구비하는 광원 장치의 구성과, 제1 피크 파장을 갖는 광과 제2 피크 파장을 갖는 광의 혼합을 설명하는 모식도이다.
자동 분석 장치(1)는, 도 1에 도시한 바와 같이, 시약 테이블(2, 3), 큐벳 휠(4), 검체 용기 이송 기구(8), 광원 장치(12), 세정 기구(14), 교반 장치(15) 및 제어부(17)를 구비하고 있다.
시약 테이블(2, 3)은, 도 1에 도시한 바와 같이, 각각 제1 시약의 시약 용기(2a)와 제2 시약의 시약 용기(3a)가 둘레 방향으로 복수 배치되고, 구동 수단에 의해 회전되어 시약 용기(2a, 3a)를 둘레 방향으로 반송한다. 복수의 시약 용기(2a, 3a)는, 각각 검사 항목에 따른 소정의 시약이 채워지고, 겉면에는 수용한 시약의 종류, 로트 및 유효 기한 등의 정보를 표시하는 식별 코드 라벨(도시 생략)이 부착되어 있다. 여기서, 시약 테이블(2, 3)의 외주에는, 시약 용기(2a, 3a)에 부착한 식별 코드 라벨에 기록된 시약 정보를 판독하여, 제어부(17)에 출력하는 판독 장치가 설치되어 있다.
큐벳 휠(4)은, 반응 용기(5)를 유지하는 유지부와, 광원 장치(12)가 출사한 광을 수광 소자(13)로 유도하는 원형의 개구로 이루어지는 광로를 갖고 있다. 큐벳 휠(4)은, 도 1에 도시한 바와 같이, 복수의 반응 용기(5)가 둘레 방향을 따라서 배열되고, 화살표로 나타내는 방향으로 간헐 회전되어 반응 용기(5)를 둘레 방향으로 이동시킨다. 큐벳 휠(4)은, 4회 간헐 회전함으로써 1회전±1용기분 회전한다.
반응 용기(5)는, 광원 장치(12)로부터 출사된 분석광(340∼800㎚)에 포함되는 광의 80% 이상을 투과하는 광학적으로 투명한 소재, 예를 들면, 내열 글래스를 함유하는 글래스, 고리 형상 올레핀이나 폴리스틸렌 등에 의해 4각 통 형상으로 성형된 큐벳이라고 불리는 용기이다. 반응 용기(5)는, 근방에 설치한 시약 분주 기구(6, 7)에 의해 시약 테이블(2, 3)의 시약 용기(2a, 3a)로부터 시약이 분주된다. 여기서, 시약 분주 기구(6, 7)는, 각각 수평면 내를 화살표 방향으로 회동하는 아암(6a, 7a)에 시약을 분주하는 프로브(6b, 7b)가 설치되고, 세정수에 의해 프로브(6b, 7b)를 세정하는 세정 수단을 갖고 있다.
검체 용기 이송 기구(8)는, 도 1에 도시한 바와 같이, 피더(9)에 배열된 복수의 래크(10)를 화살표 방향을 따라서 1개씩 보진시키면서 이송한다. 래크(10)는, 검체를 수용한 복수의 검체 용기(10a)를 유지하고 있다. 여기서, 검체 용기(10a)는, 검체 용기 이송 기구(8)에 의해 이송되는 래크(10)의 보진이 정지할 때마다, 수평 방향으로 회동하는 아암(11a)과 프로브(11b)를 갖는 검체 분주 기구(11)에 의해 검체가 각 반응 용기(5)에 분주된다. 이 때문에, 검체 분주 기구(11)는, 세정수에 의해 프로브(11b)를 세정하는 세정 수단을 갖고 있다.
광원 장치(12)는, 시약과 검체가 반응한 반응 용기(5) 내의 액체 시료에 분석광(340∼800㎚)를 조사하는 장치로서, 도 2에 도시한 바와 같이, LED(12a, 12b)와 렌즈(12c)를 갖고 있다. LED(12a)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 파장 λ1에 피크 파장이 존재하는 발광 스펙트럼을 갖고 있고, LED(12b)는, LED(12a)가 출사하는 광의 파장 영역 내의 파장 λ2(>λ1)에 피크 파장이 존재하는 발광 스펙트럼을 갖고 있다. 렌즈(12c)는, LED(12a)가 출사하는 광과 LED(12b)가 출사하는 광을 혼합하여, 도 3에 도시한 바와 같이, 파장 λ1 및 파장 λ2와는 상이한 혼합 피크 파장 λp(λ1<λp<λ2)를 갖는 광을 출사한다. 렌즈(12c)로부터 출사되는 혼합 피크 파장 λp의 광은, 큐벳 휠(4)의 반응 용기(5)에 유지된 검체나 시약 등의 액체 시료를 투과하여 수광 소자(13)에 수광된다.
수광 소자(13)는, 큐벳 휠(4)에 배열된 반응 용기(5)를 사이에 두고 광원 장치(12)와 대향 배치되고, 반응 용기(5) 내의 액체 시료를 투과한 혼합 피크 파장 λp의 광을 수광한다. 수광 소자(13)는, 수광량에 대응한 광 신호를 제어부(17)에 출력한다. 여기서, 수광 소자(13)로서는, 예를 들면, 포토다이오드가 사용된다.
세정 기구(14)는, 노즐(14a)에 의해 반응 용기(5) 내의 액체 시료를 흡인하여 배출한 후, 노즐(14a)에 의해 세제나 세정수 등의 세정액 등을 반복하여 주입하고, 흡인함으로써, 광원 장치(12)와 수광 소자(13)에 의한 측광이 종료된 반응 용기(5)를 세정한다.
교반 장치(15)는, 큐벳 휠(4)의 직경 방향으로 서로 마주보는 외주부에 2개 배치되고, 분주된 검체와 시약을 교반봉(15a)에 의해 교반하여, 반응시킨다.
제어부(17)는, 연산 기능, 기억 기능, 제어 기능 및 계시 기능 등을 구비한 마이크로컴퓨터(이하, 「마이크로컴퓨터」라 함) 등이 사용되고, 시약 테이블(2, 3), 큐벳 휠(4), 시약 분주 기구(6, 7), 검체 용기 이송 기구(8), 검체 분주 기구(11), 광원 장치(12), 세정 기구(14), 교반 장치(15), 입력부(18) 및 표시부(19) 등과 접속되어 있다. 제어부(17)는, 상기 각 부의 작동을 제어함과 함께, LED(12a, 12b)의 발광량과 수광 소자(13)로부터 입력되는 수광량의 광 신호로부터 파장 λp의 광의 흡광도를 구하여, 검체의 성분 농도 등을 분석한다. 또한, 제어 부(17)는, 시약 용기(2a, 3a)에 부착한 식별 코드 라벨의 기록으로부터 판독한 정보에 기초하여, 시약의 로트가 상이한 경우나 유효 기한 밖 등의 경우에 분석 작업을 정지하도록 자동 분석 장치(1)를 제어하거나, 혹은 오퍼레이터에게 경보를 발한다.
입력부(18)는, 검사 항목이나 검체의 측정 항목 등을 제어부(17)에 입력하는 조작을 행하는 부분으로, 예를 들면, 키보드나 마우스 등이 사용된다. 표시부(19)는, 분석 내용, 분석 결과 혹은 경보 등을 표시하는 것으로, 디스플레이 패널 등이 사용된다.
이상과 같이 구성되는 자동 분석 장치(1)는, 간헐 회전하는 큐벳 휠(4)에 의해 둘레 방향을 따라서 반송되어 오는 복수의 반응 용기(5)에 시약 분주 기구(6)가 시약 용기(2a)로부터 제1 시약을 순차적으로 분주한다. 제1 시약이 분주된 반응 용기(5)는, 검체 분주 기구(11)에 의해 래크(10)에 유지된 복수의 검체 용기(10a)로부터 검체가 순차적으로 분주된다. 검체가 분주된 반응 용기(5)는, 큐벳 휠(4)의 간헐 회전이 정지할 때마다, 제1 교반 장치(15)에 의해 교반되어 제1 시약과 검체가 반응한다. 제1 시약과 검체가 교반된 반응 용기(5)는, 시약 분주 기구(7)에 의해 시약 용기(3a)로부터 제2 시약이 순차적으로 분주된 후, 큐벳 휠(4)의 간헐 회전 정지 시에 교반 장치(15)에 의해 교반되어, 더욱 반응이 촉진된다.
이 때, 광원 장치(12)는, 렌즈(12c)에 의해 LED(12a)가 출사하는 광과 LED(12b)가 출사하는 광을 혼합하여, 피크 파장 λ1, λ2와는 상이한 혼합 피크 파장 λp를 갖는 광을 출사한다. 이 때문에, 광원 장치(12)는, 광원으로서 피크 파 장 λ1의 LED(12a)와 피크 파장 λ2의 LED(12b)를 사용하고 있어도, 피크 파장 λ1, λ2와는 상이한 원하는 혼합 피크 파장 λp를 갖는 광을 출사할 수 있다. 따라서, 자동 분석 장치(1)는, 광원 장치(12)를 구비함으로써, 원하는 혼합 피크 파장 λp를 갖는 광에 의해 검체나 시약 등의 액체 시료의 광학적 특성을 측정할 수 있다.
여기서, 광학 필터, 예를 들면, 간섭 필터를 이용하여 피크 파장 λ1 또는 피크 파장 λ2와는 상이한 원하는 혼합 피크 파장 λp를 갖는 광을 출사하는 것도 가능하다. 그러나, 이와 같이 하여 얻어지는 광은, 원래의 피크 파장 λ1을 갖는 광이나 피크 파장 λ2를 갖는 광에 비해 방사 강도가 저하되게 된다. 이에 대하여, 광원 장치(12)는, LED(12a)가 출사하는 피크 파장 λ1의 광과 LED(12b)가 출사하는 피크 파장 λ2의 광을 혼합하므로, LED(12a)나 LED(12b)가 출사한 광의 파장 λp의 성분에 비해 혼합 피크 파장 λp의 방사 강도가 저하되지 않으므로, 에너지 효율이 좋다고 하는 이점을 갖고 있다.
<실시 형태 2>
다음으로, 본 발명의 자동 분석 장치에 관련되는 실시 형태 2에 대하여, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 실시 형태 1의 자동 분석 장치는, 광원 장치의 2개의 LED가 출사하는 광을 혼합한 것에 대하여, 실시 형태 2의 자동 분석 장치는, 광원 장치의 2개의 LED가 출사하는 광의 방사 강도를 조정함으로써 원하는 혼합 피크 파장을 갖는 광을 출사한다. 도 4는 실시 형태 2의 자동 분석 장치가 구비하는 광원 장치의 구성과, 제1 피크 파장을 갖는 광과 제2 피크 파장을 갖는 광의 혼합 을 설명하는 모식도이다. 여기서, 실시 형태 2 이후에서 설명하는 자동 분석 장치는, 실시 형태 1의 자동 분석 장치와 구성이 동일하므로, 동일한 구성 부분에 동일한 부호를 붙여 설명하고 있다.
실시 형태 2의 자동 분석 장치(1)가 구비하는 광원 장치(22)는, 도 4에 도시한 바와 같이, LED(22a, 22c), 가변 저항(22b, 22d), 하프 미러(23) 및 강도 제어부(24)를 갖고 있다. LED(22a)는, 도 5에 도시한 바와 같이, 파장 λ1에 피크 파장이 존재하는 발광 스펙트럼을 갖고 있고, LED(22c)는, LED(22a)가 출사하는 광의 파장 영역 내의 파장 λ2(>λ1)에 피크 파장이 존재하는 발광 스펙트럼을 갖고 있다. 가변 저항(22b, 22d)은, LED(22a, 22c)의 각각이 출사하는 광의 방사 강도를 조정하는 조정 수단이다.
하프 미러(23)는, 도 4에 도시한 바와 같이, LED(22a)가 출사한 광과 LED(22c)가 출사한 광을 혼합하여, 파장 λ1 및 파장 λ2와는 상이한 혼합 피크 파장 λp(λ1<λp<λ2)를 갖는 광(도 5 참조)을 반응 용기(5)에 유지된 액체 시료 Ls에 출사한다. 액체 시료 Ls를 투과한 광은, 수광 소자(13)에 수광된다. 강도 제어부(24)는, 가변 저항(22b, 22d)의 저항값을 변화시킴으로써 LED(22a, 22c)가 출사하는 광의 방사 강도를 개개로 제어하는 것으로, 마이크로컴퓨터 등이 사용된다.
광원 장치(22)는, 이상과 같이 가변 저항(22b, 22d)을 통하여 강도 제어부(24)에 의해 LED(22a, 22c)가 출사하는 광의 방사 강도를 제어한다. 이 때문에, 광원 장치(22)는, 도 5에 도시한 바와 같이, LED(22a)가 출사하는 광의 방사 강도를 LED(22c)가 출사하는 광의 방사 강도에 대하여 상대적으로 증가시키면, 혼합 피 크 파장 λp가 LED(22a)의 피크 파장 λ1에 근접한다. 한편, 광원 장치(22)는, 도 6에 도시한 바와 같이, LED(22c)가 출사하는 광의 방사 강도를 LED(22a)가 출사하는 광의 방사 강도에 대하여 상대적으로 증가시키면, 혼합되는 피크 파장 λp는 LED(22c)의 피크 파장 λ2에 근접한다. 또한, 광원 장치(22)는, 광의 방사 강도를 제어하지 않고 LED(22a)가 출사하는 광과 LED(22c)가 출사하는 광을 하프 미러(23)에 의해 혼합하여도 되고, LED(22a, 22c) 중 한쪽이 출사하는 광의 방사 강도를 제어하여도 된다.
따라서, 실시 형태 2의 자동 분석 장치는, 광원 장치(22)가 광원으로서 LED(22a, 22c)를 사용하고 있어도 피크 파장 λ1과 피크 파장 λ2 사이에 원하는 피크 파장을 갖는 광을 얻을 수 있다. 게다가, 광원 장치(22)는, 피크 파장 λ1과 피크 파장 λ2 사이이면, 원하는 피크 파장을 갖는 광을 혼합할 수 있으므로, 혼합되는 광의 파장 범위가 광원 장치(12)보다도 넓어져, 사용 편의성이 향상된다.
이 경우, 광학 필터, 예를 들면, 간섭 필터를 이용하여 파장 λ1의 광 또는 파장 λ2의 광과는 상이한 혼합 피크 파장 λp를 갖는 광을 출사하는 것도 가능하다. 그러나, 원하는 혼합 피크 파장 λp와 완전하게 일치하지 않고, 얻어지는 광의 피크 파장이 변동되게 된다. 이에 대하여, 광원 장치(22)는, 가변 저항(22b, 22d)을 통하여 강도 제어부(24)에 의해 LED(22a, 22c)가 출사하는 광의 방사 강도를 제어함으로써, 파장 λ1과 파장 λ2 사이이면, 정확하게 혼합 피크 파장 λp로 혼합할 수 있다.
<실시 형태 3>
다음으로, 본 발명의 자동 분석 장치에 관련되는 실시 형태 3에 대하여, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 실시 형태 1의 자동 분석 장치는, 광원 장치의 2개의 LED가 출사하는 광을 혼합한 것에 대하여, 실시 형태 3의 자동 분석 장치는, D/A 변환 회로의 출력을 전원 전압으로 하여 광원 장치의 2개의 LED가 출사하는 광의 방사 강도를 제어하고 있다. 도 7은 실시 형태 3의 자동 분석 장치가 구비하는 광원 장치의 구성과, 제1 피크 파장을 갖는 광과 제2 피크 파장을 갖는 광의 혼합을 설명하는 모식도이다.
실시 형태 3의 자동 분석 장치(1)가 구비하는 광원 장치(32)는, 도 7에 도시한 바와 같이, LED(32a, 32c), 렌즈(32b, 32d), 하프 미러(33), 강도 제어부(34), 하프 미러(37) 및 측광 소자(38)를 갖고 있다. LED(32a)는, 파장 λ1에 피크 파장이 존재하는 발광 스펙트럼을 갖고 있고, LED(32c)는, LED(32a)가 출사하는 광의 파장 영역 내의 파장 λ2(>λ1)에 피크 파장이 존재하는 발광 스펙트럼을 갖고 있다. 렌즈(32b, 32d)는, LED(32a, 32c)의 각각이 출사하는 광을 집광한다.
하프 미러(33)는, 도 7에 도시한 바와 같이, LED(32a)가 출사한 광과 LED(32c)가 출사한 광을 혼합하여, 파장 λ1 및 파장 λ2와는 상이한 혼합 피크 파장 λp(λ1<λp<λ2)를 갖는 광을 출사한다. 강도 제어부(34)는, 마이크로컴퓨터(35)와 D/A 변환 회로(36)를 갖고 있다. 마이크로컴퓨터(35)는, 측광 소자(38)로부터 입력되는 계측 신호에 기초하여 D/A 변환 회로(36)를 통하여 LED(32a, 32c)가 출사하는 광의 방사 강도를 개개로 제어한다. D/A 변환 회로(36)는, 마이크로컴퓨터(35)의 제어 하에 LED(32a, 32c)에 출력하는 전압에 의해 LED(32a, 32c)가 출사하는 광의 방사 강도를 제어한다.
하프 미러(37) 및 측광 소자(38)는, 하프 미러(33)가 혼합한 피크 파장 λp의 광을 모니터하는 모니터 수단이다. 하프 미러(37)는, 혼합 피크 파장 λp의 광의 절반을 반응 용기(5)가 유지한 액체 시료에 입사시키고, 남은 절반을 반사시켜 측광 소자(38)에 입사시킨다. 측광 소자(38)는, 입사한 광의 스펙트럼 성분으로부터 혼합 피크 파장을 계측함과 함께, 혼합 피크 파장의 광의 방사 강도를 계측하고, 계측 신호를 마이크로컴퓨터(35)에 출력한다.
전술한 바와 같이 실시 형태 3의 자동 분석 장치는, 광원 장치(32)가 광원으로서 LED(32a, 32c)를 사용하고 있어도 원하는 파장에 혼합 피크 파장의 광을 얻을 수 있고, 광원 장치(32)는, 피크 파장 λ1과 피크 파장 λ2 사이이면, 원하는 혼합 피크 파장을 갖는 광을 출사할 수 있으므로, 출사하는 광의 파장 범위가 광원 장치(12)보다도 넓어져, 사용 편의성이 향상된다.
또한, 전술한 각 실시 형태는, 2개의 광원으로부터 출사되는 피크 파장이 서로 다른 2개의 광을 혼합함으로써, 각 피크 파장과는 서로 다른 혼합 피크 파장을 갖는 광을 출사하는 광원 장치에 대하여 설명하였지만, 상이한 피크 파장의 광을 출사하는 광원은 3 이상이어도 된다. 또한, 혼합 수단은, 렌즈나 하프 미러 외에, 빔 스플리터를 이용하여 피크 파장이 서로 다른 2개의 광을 혼합하여도 된다.
또한, 자동 분석 장치(1)는, 2개의 시약 테이블을 구비하고,2종류의 시약을 이용하는 경우에 대하여 설명하였지만, 시약 테이블은 1개이어도 되고, 1개의 시약 테이블에 제1 시약의 시약 용기와 제2 시약의 시약 용기를 싣거나, 또는 1개의 시 약 테이블에 1종류의 시약 용기를 싣도록 하여도 된다.
이상과 같이, 본 발명에 따른 자동 분석 장치는, 피크 파장이 서로 다른 복수의 광을 출사하는 광원을 사용하고 있어도 원하는 피크 파장의 광을 출사하는 것이 가능한 광원 장치를 구비하고 있다. 이 때문에, 측정 항목에 따른 최적의 피크 파장의 광을 출사할 수 있어, 올바른 측정을 행할 수 있다.

Claims (5)

  1. 용기에 유지된 액체의 광학적 특성을 측정하는 자동 분석 장치로서,
    피크 파장이 서로 다른 광을 개개로 출사하고, 출사하는 광의 파장 영역에 다른 광원이 출사하는 광의 피크 파장이 존재하는 복수의 광원과, 상기 복수의 광원이 개개로 출사하는 복수의 광을 혼합하는 혼합 수단을 갖고, 상기 각 피크 파장과는 상이한 원하는 혼합 피크 파장을 갖는 광을 출사하는 광원 장치를 구비한 것을 특징으로 하는 자동 분석 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 혼합 수단은, 렌즈 또는 하프 미러인 것을 특징으로 하는 자동 분석 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 하프 미러는, 광축을 일치시켜 상기 복수의 광원이 출사하는 광을 혼합하는 것을 특징으로 하는 자동 분석 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 광원 장치는, 상기 복수의 광원 중 적어도 하나가 출사하는 광의 방사 강도를 조정하는 조정 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 자동 분석 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 광원 장치는, 상기 혼합 피크 파장과 방사 강도를 모니터하는 모니터 수단을 갖고,
    상기 조정 수단은, 상기 모니터 수단이 모니터한 상기 혼합 피크 파장과 방사 강도에 기초하여 상기 복수의 광원 중 적어도 하나가 출사하는 광의 방사 강도를 조정하는 것을 특징으로 하는 자동 분석 장치.
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