KR20090099831A - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

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KR20090099831A
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이명원
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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 내부에 근적외선 차폐 기능을 구비함으로써, 전면 필터에서 근적외선 차폐층을 구비하지 않아도 되고, 이로 인해 제조 단가가 절약되는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법{Plasma display panel and Method for fabricating in thereof}
본 발명은 영상 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.
멀티 미디어 시대의 도래와 함께 더 세밀하고, 더 크고, 더욱 자연색에 가까운 색을 표현해줄 수 있는 디스플레이 장치의 등장이 요구되고 있다.
그런데, 40인치 이상의 큰 화면을 구성하기에는 현재의 CRT(Cathode Ray Tube)는 한계가 있어서, LCD(Liquid Crystal Display)나 PDP(Plasma Display Panel) 및 프로젝션 TV(Television) 등이 고화질 영상의 분야로 용도확대를 위해 급속도로 발전하고 있다.
상술한 PDP 등의 디스플레이 장치의 최대 특징은 자체 발광형인 CRT와 비교하여 얇은 두께로 제작될 수 있고, 평면의 대화면(60~80inch)제작이 손쉬울 뿐 아니라 style이나 design 면에서 종래 CRT와는 명확히 구별이 된다.
PDP는 어드레스 전극을 구비한 하판과, 서스테인 전극쌍을 구비한 상판과 격벽으로 정의되는 방전셀을 가지며, 방전셀 내에는 형광체가 도포되어 화면을 표시 한다.
구체적으로, 상기 상판과 하판 사이의 방전 공간 내에서 방전이 일어나면 이 때 발생된 자외선이 형광체에 입사되어 가시광선이 발생하고, 상기 가시광선에 의하여 화면이 표시된다.
그러나, 상술한 PDP 등은 구동 과정에서 근적외선이 발생하므로, 이를 차단하기 위하여 화상이 표시되는 패널의 전면에 전면 필터가 구비된다.
상술한 전면 필터는 전자파(EMI, Electro Magnetic Interference; 이하 'EMI'로 약칭함)와, 근적외선(Near Infrared Rays; 이하 'NIR'로 약칭함)을 차폐하고 색보정 및 외부에서 입사되는 빛의 반사를 방지하는 역할 등을 한다.
상기와 같은, NIR 차단용 전면 필터에는 NIR 흡수 염료가 포함되어 있어, 상기 NIR 흡수 염료가 상기 PDP 패널에서 방출되는 근적외선을 차단하여 준다.
본 발명의 목적은, 스캔 및 서스테인 전극이 형성된 전면 패널 내부에 근적외선 차폐 기능을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 적어도 하나의 전극과, 상기 전극의 배면에 형성되고 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 첨가된 제1 유전체 층과, 상기 제1 유전체 층의 배면에 형성되는 보호막을 구비한 제1 기판과; 격벽을 사이에 두어 상기 제1 기판과 합착되고, 적어도 하나의 어드레스 전극과, 상기 어드레스 전극 상에 형성된 제2 유전체 층 및 형광체 층을 구비한 제2 기판;을 포함하여 이루어진다.
이때, 상기 LaB6 나노입자는 상기 제1 유전체 층에 0.001 내지 1.0 중량%으로 첨가될 수 있다.
또한, 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 모상 유리와, 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자 및 비히클(Vehicle)을 혼합한 유전체 층 재료를 준비하는 단계와; 상기 준비된 유전체 층 재료를 스캔 및 서스테인 전극이 형성된 기판에 도포하는 단계와; 상기 유전체 층 재료가 도포된 기판을 소성하는 단계를 포함하여 이루어진다.
또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 글라스의 전면에 형성되고 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막과, 상기 글라스의 배면에 형성되는 적어도 하나의 전극과, 상기 전극의 배면에 형성되는 제1 유전체 층과, 상기 제1 유전체 층의 배면에 형성되는 보호막을 구비한 제1 기판과; 격벽을 사이에 두어 상기 제1 기판과 합착되고, 적어도 하나의 어드레스 전극과, 상기 어드레스 전극 상에 형성된 제2 유전체 층 및 형광체 층을 구비한 제2 기판;을 포함하여 이루어진다.
이때, 상기 박막은 상기 제1 기판의 글라스 상에 1 내지 20㎛의 두께로 형성될 수 있다.
또한, 상기 LaB6 나노입자는 상기 박막의 총량 대비 10 내지 20 중량%을 가질 수 있다.
또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 제1 기판의 글라스 전면에 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막을 형성하는 단계와; 상기 제1 기판의 글라스 배면에 투명 전극과 상부 유전체 층 및 산화마그네슘(MgO)이 포함된 보호막을 순차적으로 형성하는 단계와; 어드레스 전극이 형성된 제2 기판과 상기 제1 기판을 합착하는 단계;를 포함하여 이루어진다.
이때, 상기 박막 형성 단계는 10 내지 20 중량%의 LaB6 나노입자 및 80 내지 90 중량%의 비히클(Vehicle)을 혼합하고, 상기 혼합된 물질을 상기 제1 기판의 글 라스 전면에 도포하여 형성할 수 있다.
또한, 상기 박막 형성 단계는 10 내지 20 중량%의 LaB6 나노입자 및 80 내지 90 중량%의 분산제를 혼합하고, 상기 혼합된 물질을 상기 제1 기판의 글라스 전면에 스프레이 방식으로 산포하여 형성할 수도 있다.
또한, 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 글라스의 배면에 형성되고 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막과, 상기 박막의 배면에 형성되는 적어도 하나의 전극과, 상기 전극의 배면에 형성되는 제1 유전체 층과, 상기 제1 유전체 층의 배면에 형성되는 보호막을 구비한 제1 기판과; 격벽을 사이에 두어 상기 제1 기판과 합착되고, 적어도 하나의 어드레스 전극과, 상기 어드레스 전극 상에 형성된 제2 유전체 층 및 형광체 층을 구비한 제2 기판;을 포함하여 이루어진다.
또한, 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 제1 기판의 글라스 배면에 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막을 형성하는 단계와; 상기 박막의 배면에 투명 전극과 상부 유전체 및 산화마그네슘(MgO)이 포함된 보호막을 순차적으로 형성하는 단계와; 어드레스 전극이 형성된 제2 기판과 상기 제1 기판을 합착하는 단계;를 포함하여 이루어진다.
또한, 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 글라스의 배면에 형성되는 적어도 하나의 전극과, 상기 전극의 배면에 형성되는 제1 유전체 층과, 상기 제1 유전체 층의 배면에 형성되고 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막과, 상기 박막의 배면에 형성되는 보호막을 구비한 제1 기판과; 격벽을 사이에 두어 상기 제1 기판과 합착되고, 적어도 하나의 어드레스 전극과, 상기 어드레스 전극 상에 형성된 제2 유전체 층 및 형광체 층을 구비한 제2 기판;을 포함하여 이루어진다.
또한, 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 제1 기판의 글라스 배면에 투명 전극과 상부 유전체 층을 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 상부 유전체 층의 배면에 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막을 형성하는 단계와; 상기 박막의 배면에 산화마그네슘(MgO)이 포함된 보호막을 형성하는 단계와; 어드레스 전극이 형성된 제2 기판과 상기 제1 기판을 합착하는 단계;를 포함하여 이루어진다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법은, 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 내부에 근적외선 차폐 기능을 구비함으로써, 전면 필터에서 근적외선 차폐층을 구비하지 않아도 되고, 이로 인해 제조 단가가 절약되는 효과가 있다.
본 발명의 다른 목적, 특성 및 이점들은 첨부한 도면을 참조한 실시예들의 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다.
이하, 상기 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예가 첨부된 도면을 참조하여 설명된다.
첨부된 도면에서는 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타냈으며, 도면에 나타난 각 층간의 두께 비가 실제 두께 비를 나타내는 것은 아니다.
한편, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 형성 또는 위치한다고 할 때, 이는 다른 부분의 바로 위에 형성되어 직접 접촉하는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 존재하는 경우도 포함하는 것을 이해하여야 한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 각 실시예별로 상세히 설명한다.
<제1 실시예>
도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀 구조를 나타낸 제1 실시예 도면이다.
도 1에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 기판(170)의 배면에 일방향으로 통상 ITO(Indium Tin Oxide)로 이루어진 스캔 전극과 서스테인 전극(180a, 180b)과 통상 금속 재료로 이루어지는 버스 전극(180a', 180b')이 형성된다. 그리고, 스캔 전극과 서스테인 전극(180a, 180b) 및 버스 전극(180a', 180b')을 덮으면서 전면 기판(170)의 배면 상판 유전체 층(190)과, 보호막(195)이 순차적으로 형성되어 이루어진다.
전면 기판(170)은 디스플레이 기판용 글라스의 밀링(milling) 및 클리 닝(cleaning) 등의 가공을 통하여 형성된다.
여기서, 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)은 ITO(Indium-Tin-Oxide) 또는 SnO2 등을, 스퍼터링(sputtering)에 의한 포토에칭(photoetching)법 또는 CVD에 의한 리프트 오프(lift-off)법 등으로 형성된 것이다.
그리고, 버스 전극(180a', 180b')은 은(Ag) 등을 포함하여 이루어진다. 또한, 스캔 전극과 서스테인 전극에는 블랙 매트릭스가 형성될 수 있는데, 저융점 유리와 흑색 안료 등을 포함하여 이루어진다.
그리고, 스캔 전극과 서스테인 전극 및 버스전극이 형성된 전면 기판(170)의 배면에 상판 유전체 층(190)이 형성된다. 여기서, 상판 유전체 층(190) 내에는 본 발명의 제1 실시예에 따라 전면 필터[도 1에 도시되지는 않았으나, 전면 기판(170)의 전면에 형성됨]의 근적외선 차폐 기능을 대신할 LaB(Lanthanum Boride; 이하 'LaB'라 약칭함)6 나노입자(191)가 첨가된다.
현재, 근적외선 차폐를 위해 안트라퀴논(anthraquinone)계, 디티올-금속 착체계(Dithiol-metal comples), 시아닌(cyanine)계, 프탈로시아닌(phthalocyanine)계, 디임모늄(diimmonium)계 등의 염료가 많이 사용되고 있다.
그러나, 상기와 같은 종래의 근적외선 흡수 염료들은 유기염료로서, 120℃ 이상의 온도에서 특성 열화가 발생한다.
즉, 상기와 같은 근적외선 흡수 염료를 전면 기판(170)내에 첨가하여 PDP 내부에 근적외선 차폐 기능을 구비할 경우, PDP의 제조 공정인 고온의 소성 과정(대 략 560 내지 580℃)을 거치게 되면, 고온 때문에 특성에 열화가 발생하여 사용할 수 없는 문제점이 발생한다.
이에 반해, 본 발명에 따른 LaB6 나노입자(191)는 PDP의 소성 과정의 온도를 견딜 수 있을 뿐만 아니라, 상기 LaB6 나노입자(191)의 흡수 파장 영역대가 근적외선 영역대에 존재하고 있어서 본 발명에 따른 근적외선 차폐 재료로 사용된다.
즉, 전도성 나노 입자들은 표면 플라즈몬 여기(Surface Plasmon Excitation)에 의한 빛 흡수 현상을 보이는데, 상기 LaB6 나노입자(191)는 표면 플라즈몬 여기에 의한 빛 흡수 파장 영역대가 근적외선 영역대에 존재하고 있어서, 상기 LaB6 나노입자(191)를 이용하여 PDP의 근적외선을 차폐할 수 있는 것이다.
상기와 같은 본 발명의 LaB6 나노입자(191)는 상기 상판 유전체 층(190) 내에 0.001 중량% 미만으로 첨가될 경우 본 발명에 따른 근적외선 차폐 기능이 잘 수행되지 않고, 1.0 중량%을 초과할 경우 상판 유전체 층(190)의 특성에 영향을 줄 수 있는 문제점이 발생될 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 LaB6 나노입자(191)는 상기 상판 유전체 층(190) 내부에 0.001 내지 1.0 중량%으로 첨가되는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 제1 실시예에 따른 상판 유전체 층(190)의 제조 과정에 대한 설명은 이하 상세히 후술한다.
그리고, 상판 유전체 층(190)의 배면에는 보호막(195)이 형성되어, 방전시 (+) 이온의 충격으로부터 유전체를 보호하고, 2차 전자 방출을 증가시키기도 한다.
상기 보호막(195)은 전자빔(Electron Beam) 증착법, 스퍼터링법, 이온 도금법(Ion Plating), 스크린 인쇄법 등을 이용하여 형성할 수 있다.
한편, 배면 기판(110)의 일면에는 상기 스캔 전극과 서스테인 전극(180a, 180b)과 교차하는 방향을 따라 어드레스 전극(120)이 형성되고, 상기 어드레스 전극(120)을 덮으면서 배면 기판(110)의 전면에 백색의 하판 유전체 층(130)이 형성된다.
하판 유전체 층(130)은 인쇄법 또는 필름 라미네이팅(laminating) 방법에 의하여 도포된 후, 소성 공정을 통하여 완성된다.
그리고, 하판 유전체 층(130) 위로 각 어드레스 전극(120) 사이에 배치되도록 격벽(140)이 형성된다. 이때, 격벽(140)은 스트라이프형(stripe-type), 웰형(well-type), 또는 델타형(delta-type)일 수 있다.
그리고, 각각의 격벽(140) 사이에 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 형광체 층(150a, 150b, 150c)이 형성된다. 배면 기판(110) 상의 어드레스 전극(120)과 전면기판(110) 상의 서스테인 전극쌍이 교차하는 지점이 각각 방전셀을 구성하는 부분이 된다.
그리고, 상기 전면 기판(170)과 배면 기판(110)이 격벽(140)을 사이에 두고 접합되는데, 기판의 외곽에 구비된 실링재를 통하여 접합된다.
그리고, 전면 기판(170)과 배면 기판(110)은 구동 장치와 연결되어 있다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 장치와 연결부를 나타낸 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 전체 플라즈마 디스플레이 장치(210)는, 패널(220)과, 상기 패널(220)에 구동 전압을 공급하는 구동 기판(230)과, 상기 패널(220)의 각각의 셀에 대한 전극들과 상기 구동 기판(230)을 연결하는 연성 기판의 일종인 테이프 캐리어 패키지(Tape carrier package, 이하 TCP라 함)(240)로 이루어진다. 여기서, 패널(220)은 상술한 바와 같이 전면 기판(170)과 배면 기판(110) 및 격벽(140)을 포함하여 이루어진다.
그리고, 상기 패널(220)과 상기 TCP(240)의 전기적, 물리적 연결 및 상기 TCP(240)와 구동 기판(230)의 전기적, 물리적 연결은 이방성 전도 필름(Anisotropic conductive film, 이하 ACF라 함)을 사용한다. ACF는 금(Au)을 코팅한 니켈(Ni)의 볼(ball)을 이용하여 만든 전도성 수지 필름이다.
도 3은 일반적인 테이프 캐리어 패키지의 기판 배선 구조를 나타낸 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이, TCP(240)는 패널(220)과 구동 기판(230) 사이의 결선을 담당하면서, 구동 드라이버 칩이 탑재되어 있다.
TCP(240)는 연성 기판(242) 상에 밀집 배치된 배선(243)과, 상기 배선(243)과 연결되면서 상기 구동 기판(230)으로부터 전력을 제공받아 패널(220)의 특정 전극에 제공하는 구동 드라이버 칩(241)로 이루어져 있다.
여기서, 구동 드라이버 칩(241)은 작은 수의 전압과 구동 제어 신호들을 인가받아 높은 전력의 많은 신호들을 교번하면서 출력하는 구조를 가지므로, 상기 구 동 기판(230) 측과 연결되는 배선은 수가 작고, 상기 패널(220)측과 연결되는 배선은 수가 많다.
따라서, 상기 구동 기판(230) 측 공간을 활용하여 상기 구동 드라이버 칩(241)의 배선을 연결하는 경우도 있으므로, 상기 배선(243)은 상기 구동 드라이버 칩(341)의 중심을 경계로 구분되지 않을 수도 있다.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 또 다른 실시예를 모식적으로 나타낸 도면이다.
본 실시예에서, 패널(220)은 구동 장치와 FPC(Flexible printed circuit, 이하 FPC라 함)(250)를 통하여 연결된다. 여기서, FPC(250)는 polymide를 이용하여 내부에 패턴을 형성한 필름이다. 그리고, 본 실시예에서도 FPC(250)와 패널(220)은 ACF를 통하여 연결된다. 또한, 본 실시예에서 구동 기판(230)은 PCB 회로인 것은 당연하다.
여기서, 구동 장치는 데이타 드라이터와 스캔 드라이버와 서스테인 드라이버 등으로 이루어진다. 여기서, 데이타 드라이버는 어드레스 전극에 연결되어 데이터 펄스를 인가한다. 그리고, 스캔 드라이버는 스캔 전극에 연결되어 상승 램프 파형(Ramp-up), 하강 램프 파형(Ramp-down), 스캔 펄스(scan) 및 서스테인 펄스를 공급한다. 또한, 서스테인 드라이버는 공통 서스테인 전극에 서스테인 펄스와 DC 전압을 인가한다.
그리고, 플라즈마 디스플레이 패널은 리셋 기간, 어드레스 기간 및 서스테인 기간으로 나뉘어 구동된다. 리셋 기간에는 스캔 전극들에 상승 램프 파형(Ramp-up) 이 동시에 인가된다. 그리고, 어드레스 기간에는 부극성 스캔 펄스(scan)가 스캔 전극들에 순차적으로 인가되며, 동시에 스캔 펄스와 동기되어 어드레스 전극들에 정극성의 데이터펄스가 인가된다. 또한, 서스테인 기간에는 스캔 전극들과 서스테인 전극들에 교번적으로 서스테인 펄스(sus)가 인가된다.
이하, 도 5 및 도 6를 참조하여, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 대해 상세히 설명한다.
도 5a 내지 5c는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판 제조 방법을 나타낸 제1 실시예 공정 순서도이다.
도 5a 내지 5c를 참조하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판 제조 방법을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 5a에 도시된 바와 같이 전면 기판(170) 상에 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)과 버스 전극(180a', 180b')을 형성한다.
여기서, 전면 기판(170)은 디스플레이 기판용 글래스 또는 소다라임 유리를 밀링(milling) 및 클리닝(cleaning)하여 제조된다.
그리고, 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)은 ITO(Indium Tin Oxide)를 스퍼터링(sputtering)에 의한 포토에칭(photoetching)법과, 이온 도금법(Ion Plating) 및 진공 증착법등을 이용하여 형성하거나 또는 SnO2를 CVD에 의한 리프트 오프(lift-off)법으로 형성할 수 있다.
상기 ITO(Indium Tin Oxide)를 포토에칭법을 이용하여 상기 스캔 전극(180a) 과 서스테인 전극(180b)을 형성할 경우 ITO를 전면기판(170) 상에 증착하고, 상기 증착된 ITO 상에 포토레지스트를 도포 및 건조한다. 이후, 상기 포토레지스트 상에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 에칭하여 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)을 형성한다.
또한, 상기 SnO2를 리프트 오프법을 이용하여 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)을 형성할 경우 전면기판(170) 상에 포토레지스트를 도포한 후, 상기 도포된 포토레지스트 상에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한다. 이후 상기 현상 공정을 거친 후에 SnO2를 증착한 후 상기 포토레지스트를 박리하여 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)을 형성한다.
또한, 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)에는 블랙 매트릭스가 형성될 수 있는데, 저융점 유리와 흑색 안료 등을 포함하여 이루어진다.
상기 버스 전극(180a', 180b')은 은(Ag)을 스크린 인쇄법 또는 감광성 페이스트법등을 이용하여 형성하거나 또는 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr을 스퍼터링에 의한 포토에칭법을 이용하여 형성할 수 있다.
상기 스크린 인쇄법을 이용하여 상기 버스 전극버스 전극(180a', 180b')을 형성할 경우 스크린 마스크를 통해 은(Ag)등의 도전성 물질 페이스트를 전면기판(170) 상에 인쇄한 후, 건조 및 소성하여 형성한다.
또한, 감광성 페이스트법을 이용하여 상기 버스 전극(180a', 180b')을 형성할 경우 감광성 은(Ag)을 전면기판(170) 상에 인쇄 및 코팅한 후 건조한다. 이후, 상기 코팅된 은(Ag) 위에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 다시 건조 및 소성하여 상기 버스 전극(180a', 180b')을 형성한다.
상기 포토에칭법을 이용하여 상기 버스 전극(180a', 180b')을 형성할 경우 상기 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr을 전면기판(170) 상에 증착하고, 상기 증착된 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr 상에 포토레지스트를 도포 및 건조한다. 이후, 상기 포토레지스트 상에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 에칭하여 상기 버스 전극(180a', 180b')을 형성한다.
이어서, 도 5b에 도시된 바와 같이 투명 전극(180a)과 버스 전극(180b)이 형성된 전면 기판(170) 상에 본 발명의 제1 실시예에 따라 LaB6 나노입자(191)가 0.001 내지 1.0 중량%으로 첨가된 상판 유전체 층(190)이 형성된다.
이하, 본 발명에 따른 상판 유전체 층(190)의 제조 과정에 대해 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 상판 유전체 층(190)은 무연계 모상 유리 재료와 LaB6 나노입자(191) 및 비히클을 포함하여 형성된다.
상기 무연계 모상 유리 재료는 PbO와, ZnO와, B2O3와, SiO2를 포함하여 형성 된다.
상기 PbO는 환경 오염에 유해한 물질이므로 상기 무연계 모상 유리 재료에 첨가되지 않을 수도 있다. 즉, 상기 PbO가 첨가되지 않을 경우 B와, ZnO와, B2O3와, SiO2를 주 조성으로 하여 상기 무연계 모상 유리를 제조할 수 있다.
또한, 상기 B가 고가의 물질이기 때문에, ZnO와, B2O3와, SiO2를 주 조성으로 하여 무연계 모상 유리를 제조할 수도 있다.
상기 ZnO는 유리의 열 팽창성을 억제 및 융점을 낮추고, 상기 B2O3는 유리 형성 능력을 향상시키고, 상기 SiO2는 유리 형성 성분 및 유전체 조성물의 결정화 방지를 위한 첨가제이다.
또한, 본 발명에 따른 무연계 모상 유리는 상판 유전체 층(190)의 소성 온도를 낮추기 위한 K2O가 더 첨가될 수 있고, 망목 수식의 역할을 하면서 비가교 산소를 증가시켜 유리화 온도를 낮추는 기능을 하는 Na2O 또는 Li2O가 더 첨가될 수 있고, 상기 상판 유전체 층(190)의 결정화 방지를 위해 Al2O3가 더 첨가될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 무연계 모상 유리는 유리화 온도 및 열팽창 계수를 미세하게 조정하기 위한 TiO2, MgO, SrO, CaO, 또는 P2O5등이 더 첨가될 수 있고, 상기 상판 유전체 층(190) 재료상에 착색과 전극 반응성을 억제하기 위한 CoO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 전이원소 산화물과 CoO, Cr2O3, MnO, FeO, NiO 전이원소 산화물 및 CeO2, Er2O3, Nd2O3, Pr2O3 희토류 원소 산화물이 더 첨가될 수 있다.
상기와 같은 무연계 모상 유리의 재료를 도가니에서 용융시키고, 상기 용융된 상판 유전체 층(190)의 조성물의 유리를 냉각시켜 얇은 플레이트 형상으로 형성시키고, 상기 형성된 플레이트 형상을 분쇄하여 유리 분말을 얻는다.
상기와 같이 얻어진 유리 분말과, 본 발명에 따른 LaB6 나노입자(191) 및 비히클을 혼합하여 페이스트를 만들고, 상기 페이스트를 통상의 인쇄법에 의해 전면 기판(170) 상에 상판 유전체 층(190)을 형성한다.
상기 비히클을 에틸셀룰로오즈등과 같은 통상의 바인더와, α-테르피네올(terpineol) 및 BCA 등의 통상의 용제로 구성될 수 있다.
상기와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 상판 유전체 층(190)은 70 내지 80 중량%의 유리 분말과, 20 내지 30 중량%의 비히클 및 0.001 내지 1.0 중량%의 LaB6 나노입자(191)를 혼합하여 형성된다.
한편, 상기 페이스트를 기초로 하여 필름(dry film)을 제조하고 이를 라미네이팅(laminating)함으로써 상기 전면 기판(170) 상에 상판 유전체 층(190)을 형성할 수도 있다.
이렇게 상판 유전체 층(190)이 형성되면 540 내지 580℃에서 소성 공정을 거침으로써 본 발명의 제1 실시예에 따른 상판 유전체 층(190)이 완성된다.
이어서, 도 5c에 도시된 바와 같이 상판 유전체(190) 상에 보호막(195)을 증착한다. 보호막(195)은 산화 마그네슘 등으로 이루어지고, 실리콘 등을 도펀트로 포함할 수 있다. 여기서, 보호막(195)은 화학적 기상 증착(CVD)법, 전자빔(E-beam)법, 이온 도금(Ion-plating)법, 졸겔법 및 스퍼터링법 등으로 형성될 수 있다.
이하, 도 6을 참조하여, 본 발명에 따른 LaB6 나노입자(191)의 첨가량에 따른 상판 유전체 층(190)의 근적외선 차폐 능력에 대해 상세히 설명한다.
도 6은 본 발명에 따른 LaB6 나노입자가 첨가된 상판 유전체 층들 별 투과 스펙트럼을 나타낸 그래프이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 제1 곡선(A)은 본 발명에 따른 LaB6 나노입자(191)가 첨가되지 않은 종래의 상판 유전체 층의 투과 스펙트럼이고, 제2 곡선(B)은 LaB6 나노입자(191)가 0.01 중량%으로 첨가된 본 발명의 제1 실시예에 따른 상판 유전체 층(190)의 투과 스펙트럼이고, 제3 곡선(C)은 LaB6 나노입자(191)가 0.02 중량%으로 첨가된 본 발명의 제1 실시예에 따른 상판 유전체 층(190)의 투과 스펙트럼이고, 제4 곡선(D)은 LaB6 나노입자(191)가 0.03 중량%으로 첨가된 본 발명의 제1 실시예에 따른 상판 유전체 층(190)의 투과 스펙트럼이다.
현재, 가시광의 대역은 300 내지 750nm 대역이고, 근적외선 대역은 750 내지 1000nm 대역이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 종래 상판 유전체 층의 투과 스펙트럼인 제1 곡선(A)에는 750 내지 1000nm의 근적외선 대역에서 근적외선 흡수가 발생되지 않는다.
그러나, 본 발명에 따른 상판 유전체 층(190)의 제2 내지 제4 곡선(B, C, D)에는 750 내지 1000nm의 근적외선 대역에서 근적외선 흡수가 발생되는 것을 알 수 있다.
도 7a 내지 7f는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 배면 기판 제조 방법을 나타낸 제1 실시예 공정 순서도이다.
먼저, 도 7a에 도시된 바와 같이, 배면 기판(110) 상에 어드레스 전극(120)을 형성한다. 여기서, 배면 기판(110)은 디스플레이 기판용 글래스 또는 소다리임 유리를 밀링(milling) 또는 클리닝(cleaning) 등의 가공을 통하여 형성한다.
상기 어드레스 전극(120)은 은(Ag)을 스크린 인쇄법 또는 감광성 페이스트법등을 이용하여 형성하거나 또는 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr을 스퍼터링에 의한 포토에칭법을 이용하여 형성할 수 있다.
즉, 상기 스크린 인쇄법을 이용하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성할 경우 스크린 마스크를 통해 은(Ag)등의 도전성 물질 페이스트를 상기 배면기판(110) 상에 인쇄한 후, 건조 및 소성하여 형성한다.
또한, 감광성 페이스트법을 이용하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성할 경우 감광성 은(Ag)을 배면 기판(110) 상에 인쇄 및 코팅한 후 건조한다. 이후, 상기 코팅된 은(Ag) 위에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 다시 건조 및 소성하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성한다.
또한, 상기 포토에칭법을 이용하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성할 경우 상기 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr을 상기 배면 기판(110) 상에 증착하고, 상기 증착된 Cr/Cu/Cr 또는 Cr/Al/Cr 상에 포토레지스트를 도포 및 건조한다. 이후, 상기 포토레지스트 상에 소정 패턴이 형성된 포토 마스크를 올려놓고 빛을 조사하여 노광한다. 상기 노광 공정을 거친 이후, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 에칭하여 상기 어드레스 전극(120)을 형성한다.
그리고, 도 7b에 도시된 바와 같이, 어드레스 전극(120)이 형성된 배면 기판(110) 상에 백색의 하판 유전체 층(130)을 형성한다.
이어서, 도 7c 내지 7e에 도시된 바와 각각의 방전 셀을 구분하기 위한 격벽을 형성한다.
이때, 상기 격벽의 재료(140a)는 모상 유리와 충진재(filler)를 포함하여 이루어진다.
상기와 같은, 격벽 재료(140a)에 비히클(바인더 및/또는 솔벤트 포함)를 혼합하여 본 발명에 따른 격벽 제조용 페이스트를 만든 후, 상기 격벽 제조용 페이스트를 상기 하판 유전체층(130) 상에 도포한 후, 일정 시간 동안 건조시킨다.
이후, 상기 도포 및 건조 과정을 반복적으로 수행하여 일정한 두께(예를 들면, 150-200㎛)로 만들다. 이어서, 격벽 재료(140a)를 패터닝하여, 격벽(140)을 형성한다.
이때, 상기 패터닝 공정은 마스크(155)를 씌우고 노광한 후, 현상하여 수행된다. 즉, 어드레스 전극과 대응되는 부분에 마스크(155)를 위치시키고 노광하면, 현상 및 소성 공정 후에는 빛을 조사받은 부분만이 남아서 상기 격벽(140)을 형성 한다.
그 다음으로, 도 7f에 도시된 바와 같이, 상기 하판 유전체 층(130) 중 방전 공간에 접하는 면과, 상기 격벽(140)의 측면에 형광체(150a, 150b, 150c)를 도포하여 형광체 층(150)을 형성한다. 즉, 상기 형광체층(250)은 각각의 방전 셀에 따라 R,G,B의 형광체가 차례로 도포되는데, 스크린 인쇄법이나 감광성 페이스트법으로 도포된다.
이때, 상기 적색(R) 형광 물질로 (Y, Gd)BO3:Eu3+ 을 사용하고, 녹색(G) 형광 물질로는 Zn2SiO4:Mn2+ 을 사용하고, 청색(B) 형광 물질로는 BaMgAl10O17:Eu2+ 를 많이 사용한다.
그 다음으로, 도 5의 과정에 의해 완성한 전면 기판(170)을 상기 격벽(140)을 사이에 두고 상기 배면 기판(110)과 접합하고 실링하고, 내부의 불순물 등을 배기한 후, 상기 격벽(140)내의 방전 셀에 Xe+Ne 또는 Xe+He 또는 Xe+Ne+He의 방전 가스(160)를 주입한 후 봉입하면, 도 1과 같은 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널이 완성된다.
이하에서, 전면 기판(170)과 배면 기판(110)의 실링 공정을 상세히 설명한다.
상기 실링 공정은 통상적으로 스크린 인쇄법, 디스펜싱법 등으로 수행된다.
상기 스크린 인쇄법은 패터닝된 스크린을 소정 간격 유지하여 기판 위에 놓고, 실링재 형성에 필요한 페이스트를 압착, 전사시켜서 원하는 형상의 실링재를 인쇄하는 방법이다. 스크린 인쇄법은 생산 설비가 간단하고, 재료의 이용 효율이 높은 장점이 있다.
그리고, 상기 디스펜싱법은 스크린 마스크 제작에 사용되는 CAD 배선 데이터를 이용하여, 후막 페이스트를 공기 압력을 이용하여 기판상에 직접 토출하여 실링재를 형성하는 방법이다. 디스펜싱법은 마스크의 제작비용이 절감되고, 후막의 형상에 큰 자유도를 가질 수 있는 장점이 있다.
도 8a는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판과 배면 기판을 합착하는 공정을 나타낸 도면이다.
도 8b는 도 7a의 A-A'의 단면도이다.
도시된 바와 같이, 전면 기판(170) 또는 배면 기판(110) 상에 실링재(600)가 도포된다. 구체적으로, 기판의 최외곽에서 소정 간격을 두고 동시에 인쇄되거나 디스펜싱되어 도포된다.
이어서, 상기 실링재(600)를 소성한다. 상기 소성 과정에서, 실링재(600)에 포함된 유기물이 제거되고, 전면 기판(170)과 배면 기판(110)이 합착된다.
그리고, 이러한 소성 공정에서 실링재(600)의 폭이 넓어지고 높이가 낮아질 수 있다. 본 실시예에서는 실링재(600)가 인쇄 또는 도포되었으나, 실링 테이프의 형태로 형성되어 전면 기판(170) 또는 배면 기판(110)에 접착하여 사용할 수도 있다. 그리고, 에이징 공정을 통하여 소정 온도에서 보호막 등의 특성을 향상시킨다.
상술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 LaB6 나노 입자(191)는 비단 상판 유전 체 층(190)내에 포함되어 형성될 뿐만 아니라, 하나의 박막 형태로 전면 기판(170)내에 형성될 수 있다.
이하의 제2 내지 제4 실시예에서는 LaB6 나노 입자를 포함한 박막의 형성 과정에 대해 상세히 설명한다.
<제2 실시예>
도 9는 본 발명에 따른 LaB6 나노 입자를 포함한 박막이 구비된 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판을 나타낸 제2 실시예 단면도이다.
도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에서는 제1 실시예에서 설명한 LaB6 나노 입자(191)가 박막(200) 형태로 전면 기판(170)의 전면에 형성된다.
상기 LaB6 나노 입자(191)가 포함된 박막(200)은 전면 기판(170)의 전면에 1㎛ 미만으로 형성될 경우 상기 LaB6 나노 입자(191)의 근적외선 흡수 능력이 떨어지고, 20㎛를 초과한 두께로 형성될 경우 PDP 전면 기판(170)의 크기가 증가되어 효율이 떨어지는 문제점이 있기 때문에 1 내지 20㎛의 두께로 형성하는 것이 바람직하다.
이때, 상기 박막(200)은 스크린 인쇄법이나 라미네이팅법 및 스프레이법으로 형성할 수 있다.
먼저, 스크린 인쇄법으로 상기 박막(200)을 형성할 경우에는 10 내지 20 중량%의 LaB6 나노입자(191) 및 80 내지 90 중량%의 비히클(Vehicle)을 혼합하여 페이 스트를 제조한다. 이때 비히클은 상술한 제1 실시예에서의 비히클을 이용할 수 있다.
상기와 같이 제조된 페이스트를 제1 실시예에서 완성된 전면 기판(170)의 전면에 도포한 후 건조 및 소성하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막(200)을 완성한다.
또한, 라미네이팅법으로 상기 박막(200)을 형성할 경우에는 상기 제조된 페이스트를 기초로 하여 필름(dry film)을 제조하고 이를 라미네이팅(laminating)함으로써 상기 제1 실시예에서 완성된 전면 기판(170)의 전면에 본 발명의 제2 실시예에 따른 박막(200)을 형성할 수도 있다.
또한, 스프레이법으로 상기 박막(200)을 형성할 경우에는 10 내지 20 중량%의 LaB6 나노입자(191) 및 80 내지 90 중량%의 분산제를 혼합하고, 상기 혼합된 물질을 제1 실시예에서 완성된 전면 기판(170)의 전면에 스프레이 방식으로 산포하여 형성할 수 있다.
상기와 같이, 스프레이법으로 상기 박막(200)을 형성할 경우에는, 전면 기판(170)의 전면 표면에 상기 LaB6 나노입자(191)가 분포되어 근적외선을 흡수한다.
상기와 같이, 박막(200)이 완성되면, 상기 박막(200)의 상부에 근적외선 차폐 기능이 생략된 전면필터가 형성된다.
<제3 실시예>
도 10은 본 발명에 따른 LaB6 나노 입자를 포함한 박막이 구비된 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판을 나타낸 제3 실시예 단면도이다.
도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에서는 제1 실시예에서 설명한 LaB6 나노 입자(191)가 박막(200) 형태로 전면 기판(170)의 스캔 및 서스테인 전극(180a, 180b)과 상판 유전체 층(190) 사이에 형성된다.
상기와 같은 본 발명의 제3 실시예에서의 박막(200)은 상술한 제2 실시예에서와 같이 스크린 인쇄법이나 라미네이팅법 및 스프레이법으로 형성할 수 있다.
이때, 스프레이법으로 본 발명의 제3 실시예에 따른 박막(200)을 형성할 경우에는 스캔 및 서스테인 전극(180a, 180b)과 버스 전극(180a', 180b')에 상기 LaB6 나노 입자(191)가 묻을 수 있는 문제점이 발생할 수도 있다.
따라서, 상기 전극들(180a, 180b, 180a', 180b')에 마스크를 씌워서 상기 전극들(180a, 180b, 180a', 180b')을 가리고, 10 내지 20 중량%의 LB6 나노입자(191) 및 80 내지 90 중량%의 분산제를 혼합하고, 상기 혼합된 물질을 상기 전극들(180a, 180b, 180a', 180b')을 포함한 전면 기판(170)에 스프레이 방식으로 산포하여 본 발명의 제3 실시예에 따른 박막(200)을 형성할 수 있다.
<제4 실시예>
도 11은 본 발명에 따른 LaB6 나노 입자를 포함한 박막이 구비된 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판을 나타낸 제4 실시예 단면도이다.
도 11에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제4 실시예에서는 제1 실시예에서 설 명한 LaB6 나노 입자(191)가 박막(200) 형태로 전면 기판(170)의 상판 유전체 층(190)과 보호막(195) 사이에 형성된다.
상기와 같은 본 발명의 제4 실시예에서의 박막(200)은 상술한 제2 실시예에서와 같이 스크린 인쇄법이나 라미네이팅법 및 스프레이법으로 형성할 수 있다.
이상, 본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있음은 당업자에게 자명하다. 예를 들면, 본 기술분야의 당업자에게는 전술한 실시예들을 서로 조합하여 사용하는 것도 매우 용이할 것이다.
따라서, 상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다.
본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다.
도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀 구조를 나타낸 제1 실시예 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 장치와 연결부를 나타낸 도면이다.
도 3은 일반적인 테이프 캐리어 패키지의 기판 배선 구조를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 또 다른 실시예를 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 5a 내지 5c는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판 제조 방법을 나타낸 제1 실시예 공정 순서도이다.
도 6은 본 발명에 따른 LaB6 나노입자가 첨가된 상판 유전체 층들 별 투과 스펙트럼을 나타낸 그래프이다.
도 7a 내지 7f는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 배면 기판 제조 방법을 나타낸 제1 실시예 공정 순서도이다.
도 8a는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판과 배면 기판을 합착하는 공정을 나타낸 도면이다.
도 8b는 도 7a의 A-A'의 단면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 LaB6 나노 입자를 포함한 박막이 구비된 플라즈마 디 스플레이 패널의 전면 기판을 나타낸 제2 실시예 단면도이다.
도 10은 본 발명에 따른 LaB6 나노 입자를 포함한 박막이 구비된 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판을 나타낸 제3 실시예 단면도이다.
도 11은 본 발명에 따른 LaB6 나노 입자를 포함한 박막이 구비된 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 기판을 나타낸 제4 실시예 단면도이다.
<도면의 부호에 대한 설명>
<도면의 주요 부호에 대한 설명>
110: 배면 기판 120: 어드레스 전극
130: 하판 유전체 140: 격벽
150a, 150b, 150c: 형광체 160: 방전 가스
170: 전면 기판 180a: 스캔 전극
180b: 서스테인 전극 180a', 180b': 버스 전극
190: 상판 유전체 191: LaB6 나노 입자
195 : 보호막 200: 박막
220: 패널 230: 구동 기판
240: TCP 241: 구동 드라이버 칩
242: 연성 기판 243: 배선
250: FPC 260: 방열판

Claims (15)

  1. 적어도 하나의 전극과, 상기 전극의 배면에 형성되고 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 첨가된 제1 유전체 층과, 상기 제1 유전체 층의 배면에 형성되는 보호막을 구비한 제1 기판; 및
    격벽을 사이에 두어 상기 제1 기판과 합착되고, 적어도 하나의 어드레스 전극과, 상기 어드레스 전극 상에 형성된 제2 유전체 층 및 형광체 층을 구비한 제2 기판;을 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 LaB6 나노입자는, 상기 제1 유전체 층에 0.001 내지 1.0 중량%으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 모상 유리와, 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자 및 비히클(Vehicle)을 혼합한 유전체 층 재료를 준비하는 단계;
    상기 준비된 유전체 층 재료를 스캔 및 서스테인 전극이 형성된 기판에 도포하는 단계; 및
    상기 유전체 층 재료가 도포된 기판을 소성하는 단계를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 LaB6 나노입자는, 상기 유전체 층 재료내에 0.001 내지 1.0 중량%으로 첨가되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  5. 글라스의 전면에 형성되고 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막과, 상기 글라스의 배면에 형성되는 적어도 하나의 전극과, 상기 전극의 배면에 형성되는 제1 유전체 층과, 상기 제1 유전체 층의 배면에 형성되는 보호막을 구비한 제1 기판; 및
    격벽을 사이에 두어 상기 제1 기판과 합착되고, 적어도 하나의 어드레스 전극과, 상기 어드레스 전극 상에 형성된 제2 유전체 층 및 형광체 층을 구비한 제2 기판;을 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 박막은, 상기 제1 기판의 글라스 상에 1 내지 20㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  7. 제5 항에 있어서,
    상기 LaB6 나노입자는, 상기 박막의 총량 대비 10 내지 20 중량%을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  8. 제1 기판의 글라스 전면에 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막을 형성하는 단계;
    상기 제1 기판의 글라스 배면에 투명 전극과 상부 유전체 층 및 산화마그네슘(MgO)이 포함된 보호막을 순차적으로 형성하는 단계; 및
    어드레스 전극이 형성된 제2 기판과 상기 제1 기판을 합착하는 단계;를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 박막 형성 단계는, 상기 제1 기판의 글라스 상에 1 내지 20㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  10. 제8 항에 있어서,
    상기 박막 형성 단계는, 10 내지 20 중량%의 LaB6 나노입자 및 80 내지 90 중량%의 비히클(Vehicle)을 혼합하고, 상기 혼합된 물질을 상기 제1 기판의 글라스 전면에 도포하여 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  11. 제8 항에 있어서,
    상기 박막 형성 단계는, 10 내지 20 중량%의 LaB6 나노입자 및 80 내지 90 중량%의 분산제를 혼합하고, 상기 혼합된 물질을 상기 제1 기판의 글라스 전면에 스프레이 방식으로 산포하여 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  12. 글라스의 배면에 형성되고 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막과, 상기 박막의 배면에 형성되는 적어도 하나의 전극과, 상기 전극의 배면에 형성되는 제1 유전체 층과, 상기 제1 유전체 층의 배면에 형성되는 보호막을 구비한 제1 기판; 및
    격벽을 사이에 두어 상기 제1 기판과 합착되고, 적어도 하나의 어드레스 전극과, 상기 어드레스 전극 상에 형성된 제2 유전체 층 및 형광체 층을 구비한 제2 기판;을 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널.
  13. 제1 기판의 글라스 배면에 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막을 형성하는 단계;
    상기 박막의 배면에 투명 전극과 상부 유전체 및 산화마그네슘(MgO)이 포함된 보호막을 순차적으로 형성하는 단계; 및
    어드레스 전극이 형성된 제2 기판과 상기 제1 기판을 합착하는 단계;를 포함 하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  14. 글라스의 배면에 형성되는 적어도 하나의 전극과, 상기 전극의 배면에 형성되는 제1 유전체 층과, 상기 제1 유전체 층의 배면에 형성되고 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막과, 상기 박막의 배면에 형성되는 보호막을 구비한 제1 기판; 및
    격벽을 사이에 두어 상기 제1 기판과 합착되고, 적어도 하나의 어드레스 전극과, 상기 어드레스 전극 상에 형성된 제2 유전체 층 및 형광체 층을 구비한 제2 기판;을 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널.
  15. 제1 기판의 글라스 배면에 투명 전극과 상부 유전체 층을 순차적으로 형성하는 단계;
    상기 상부 유전체 층의 배면에 근적외선 차폐를 위한 LaB(Lanthanum Boride)6 나노입자가 포함된 박막을 형성하는 단계;
    상기 박막의 배면에 산화마그네슘(MgO)이 포함된 보호막을 형성하는 단계; 및
    어드레스 전극이 형성된 제2 기판과 상기 제1 기판을 합착하는 단계;를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103065914A (zh) * 2012-12-27 2013-04-24 电子科技大学 一种pdp前玻璃板的保护层结构及其制备方法

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