KR20090091926A - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법

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KR20090091926A
KR20090091926A KR1020080017152A KR20080017152A KR20090091926A KR 20090091926 A KR20090091926 A KR 20090091926A KR 1020080017152 A KR1020080017152 A KR 1020080017152A KR 20080017152 A KR20080017152 A KR 20080017152A KR 20090091926 A KR20090091926 A KR 20090091926A
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이성국
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 오프-셋 공정을 이용하여 전극 패턴 인쇄 시에 전극라인간에 발생되는 쇼트를 방지함으로써, 플라즈마 디스플레이 패널 구동 시에 오작동을 방지할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법{Plasma display panel and method for fabricating in thereof}
본 발명은 영상 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
멀티 미디어 시대의 도래와 함께 더 세밀하고, 더 크고, 더욱 자연색에 가까운 색을 표현해줄 수 있는 디스플레이 장치의 등장이 요구되고 있다. 그런데, 40인치 이상의 큰 화면을 구성하기에는 현재의 CRT(Cathode Ray Tube)는 한계가 있어서, LCD(Liquid Crystal Display)나 PDP(Plasma Display Panel; 이하 'PDP') 및 프로젝션 TV(Television) 등이 고화질 영상의 분야로 용도확대를 위해 급속도로 발전하고 있다.
PDP는 플라즈마 방전을 이용하여 화상을 표시하는 전자 장치로서, PDP의 방전 공간에 배치된 전극에 소정의 전압을 인가하여 이들 사이에서 플라즈마 방전이 일어나도록 하고, 이 플라즈마 방전 시 발생되는 진공자외선(VUV)에 의해 소정의 패턴으로 형성된 형광체층을 여기시켜 화상을 형성한다.
상기 PDP에서 사용되는 전극은 상기 PDP의 상부 기판에 형성되는 투명 전극 및 버스 전극과, 상기 PDP의 하부 기판에 형성되는 어드레스 전극 등이 있다.
상기 전극들은 인쇄법, 그린 시트법 및 오프셋 법 등 다양한 공법을 사용하여 제조가 가능하다.
상기 제조 공법 중 상기 오프셋 법은 기존의 인쇄매체에서 사용하던 방법으로써 공정이 간단하고, 해상도가 뛰어난 장점이 있다.
도 1은 오프셋 공법을 이용한 종래의 방전부, 연결부 및 패드부의 전극 패턴 및 그 형성 방향을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 오프셋 공법을 이용하여 방전부(11)와 연결부(12)의 접합부분 및 상기 연결부(12)와 패드부(13)의 접합부분은 전극라인이 절곡되어 형성된다.
그러나, 상기 방전부(11)에서 상기 연결부(12)로 전극라인이 절곡될 때, 그 절곡되는 위치가 동일하여 상기 연결부(12) 각각의 전극라인의 간격(d2)이 상기 방전부(11) 전극라인의 간격(d1)보다 좁아지게 된다.
상기와 같이, 연결부(12)의 전극 라인 간격(d2)이 좁아지게 되면, 상기 오프셋 공법의 닥터링 공정 수행 시에 전극 형성용 잉크가 인쇄 방향으로 밀려서 인접한 전극라인과 쇼트(Short)(14)되는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 오프-셋 공정을 이용하여 전극 패턴 인쇄 시에 전극라인간에 발생되는 쇼트를 방지하기 위한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 유효 방전면에 평행하게 형성된 다수개의 제1 전극라인과; 상기 제1 전극라인의 연장선에서 패드부 방향으로 절곡되어 형성된 다수개의 제2 전극라인;을 포함하되, 상기 제1 및 제2 전극라인은 오프셋 공정에 의해 순차적으로 형성되고, 상기 제2 전극라인 각각의 절곡 위치를 서로 다르게 하여 상기 제1 전극라인의 간격 이상의 간격을 가지는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 제2 전극라인 중 상기 절곡되는 위치의 가장 안쪽 전극라인이 제일 먼저 절곡되고, 상기 절곡되는 위치의 가장 바깥쪽 전극라인이 제일 마지막 절곡될 수 있다.
또한, 상기 제2 전극라인의 길이를 서로 다르게 형성하여 상기 절곡되는 위치를 서로 다르게 할 수 있다. 즉, 상기 제2 전극라인 중 상기 절곡되는 위치의 가장 안쪽 전극라인에서 가장 바깥쪽 전극라인 방향으로 그 길이가 순차적으로 커지게 할 수 있다.
또한, 본 발명은 오프셋 공법에 의해 전극을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 전극재를 저장하기 위한 음각이, 유효 방전면에 형성된 제1 전극라인과 상기 제1 전극라인의 연장선에서 패드부 방향으로 절곡되어 형성된 제2 전극라인 각각의 절곡 위치를 다르게 하여 상기 제1 전극라인의 간격 이상을 가지도록 형성된 마스터 몰드(master mold)를 제조하는 단계와; 상기 음각에 전극재를 주입하는 단계와; 상기 마스터 몰드에 블랭킷을 롤링하여 상기 전극재를 오프(off)하는 단계와; 상기 블랭킷을 기판상에 롤링하여 상기 전극재를 셋(set)하여 상기 제1 및 제2 전극라인을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어진다.
이때, 상기 마스터 몰드 제조 단계는 상기 제2 전극라인 중 상기 절곡되는 위치의 가장 안쪽 전극라인이 제일 먼저 절곡되고, 상기 절곡되는 위치의 가장 바깥쪽 전극라인이 제일 마지막 절곡되도록 상기 음각을 형성할 수 있다.
또한, 상기 마스터 몰드 제조 단계는 상기 제2 전극라인의 길이를 서로 다르게 형성하여 상기 절곡 위치가 서로 다르도록 상기 음각을 형성할 수 있다. 즉, 상기 제2 전극라인 중 상기 절곡되는 위치의 가장 안쪽 전극라인에서 가장 바깥쪽 전극라인 방향으로 그 길이가 순차적으로 커지게 할 수 있다.
또한, 상기 전극재는 은(Ag), 바인더, 솔벤트 및 분산제를 포함한 잉크가 될 수 있다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법은, 오프-셋 공정을 이용하여 전극 패턴 인쇄 시에 전극라인간에 발생되는 쇼트를 방지함으로써, 플라즈마 디스플레이 패널 구동 시에 오작동을 방지할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 오프셋 공법을 이용한 종래의 방전부, 연결부 및 패드부의 전극 패턴 및 그 형성 방향을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀 구조를 나타낸 도면이다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 나타낸 단면도이다.
도 4a 내지 도 4f는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 패널 제조 공정을 나타낸 단면도이다.
도 5a는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널과 후면 패널을 합착하는 공정을 나타낸 도면이다.
도 5b는 도 5a의 A-A'의 단면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명에 따른 오프셋 공법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴 제조 과정을 나타낸 일 실시예 공정 설명도이다.
<도면의 주요 부호에 대한 설명>
110: 배면 기판 120: 어드레스 전극
130: 하판 유전체 140: 격벽
150a, 150b, 150c: 형광체 160: 방전 가스
170: 전면 기판 180a: 스캔 전극
180b: 서스테인 전극 180a', 180b': 버스 전극
190: 상판 유전체 195 : 보호막
610: 제1 전극라인 620: 제2 전극라인
630: 패드부 710: 닥터 링
720: 잉크 노즐 730: 마스터 몰드
740: 블랭킷 롤
본 발명의 다른 목적, 특성 및 이점들은 첨부한 도면을 참조한 실시예들의 상세한 설명을 통해 명백해질 것이다.
이하, 상기 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예가 첨부된 도면을 참조하여 설명된다.
첨부된 도면에서는 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타냈으며, 도면에 나타난 각 층간의 두께 비가 실제 두께 비를 나타내는 것은 아니다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 전면 패널과 후면 패널이 격벽을 사이에 두고 합착되어 이루어진다. 먼저, 도 2를 참조하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일 실시예를 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 방전 셀 구조를 나타낸 도면이다.
도 2에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 패널(170) 상에 일 방향으로 통상 ITO(Indium Tin Oxide)로 이루어진 스캔 전극과 서스테인 전극(180a, 180b)과 통상 금속 재료로 이루어지는 버스전극(180a', 180b')이 형성된다.
그리고, 스캔 전극과 서스테인 전극 및 버스전극을 덮으면서 전면 기판(170) 상에 상판 유전체 층(190)과, 보호막(195)이 순차적으로 형성되어 이루어진다.
전면 패널(170)은 디스플레이 기판용 글라스의 밀링(milling) 및 클리닝(cleaning) 등의 가공을 통하여 형성된다.
여기서, 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)은 ITO(Indium-Tin-Oxide) 또는 SnO2 등을, 스퍼터링(sputtering)에 의한 포토에칭(photoetching)법 또는 오프셋 공법 등으로 형성된 것이다.
그리고, 버스 전극(180a', 180b')은 은(Ag) 등을 포함하여 이루어진다. 또한, 스캔 전극과 서스테인 전극에는 블랙 매트릭스가 형성될 수 있는데, 저융점 유리와 흑색 안료 등을 포함하여 이루어진다.
그리고, 스캔 전극과 서스테인 전극 및 버스전극이 형성된 전면 패널(170) 상에 상판 유전체 층(190)이 형성된다. 여기서, 상판 유전체 층(190)은 투명한 저융점 유리를 포함하여 이루어진다.
그리고, 상판 유전체 층(190) 상에는 보호막(195)이 형성되어, 방전시 (+) 이온의 충격으로부터 유전체를 보호하고, 2차 전자 방출을 증가시키기도 한다.
상기 보호막(195)은 전자빔(Electron Beam) 증착법, 스퍼터링법, 이온 도금법(Ion Plating), 스크린 인쇄법 등을 이용하여 형성할 수 있다.
또한, 상기 보호막(195)은 산화 마그네슘인 MgO 박막으로 형성된 제1 층(195a)와 단결정의 산화 마그네슘 파우더를 포함한 제2 층(195b)을 포함하여 형성될 수 있다.
이때, 상기 제1 층(195a) 상의 일부분에, 단결정의 MgO 나노 파우더가 포함된 파티클이 일종의 군집 형태로 제2 층(195b)를 이루어, 전체적으로 보호막의 표면이 평탄하지 않고 울퉁불퉁한 형상을 이루게 된다.
따라서, 플라즈마 디스플레이 패널의 가스 방전시에 전면 패널(170)과 후면 패널(110)의 전자적인 상호 작용으로 인하여 이차전자의 방출량이 증가하고, 방전개시전압을 낮출 수 있으므로, 결과적으로 방전효율을 높이고 지터(jitter)를 감소시킨다.
한편, 후면 패널(110)의 일면에는 상기 서스테인 전극쌍과 교차하는 방향을 따라 어드레스 전극(120)이 형성되고, 상기 어드레스 전극(120)을 덮으면서 배면기판(110)의 전면에 백색의 하판 유전체 층(130)이 형성된다.
하판 유전체 층(130)은 인쇄법 또는 필름 라미네이팅(laminating) 방법에 의하여 도포된 후, 소성 공정을 통하여 완성된다.
그리고, 하판 유전체 층(130) 위로 각 어드레스 전극(120) 사이에 배치되도록 격벽(140)이 형성된다. 이때, 격벽(140)은 스트라이프형(stripe-type), 웰형(well-type), 또는 델타형(delta-type)일 수 있다.
그리고, 각각의 격벽(140) 사이에 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 형광체 층(150a, 150b, 150c)이 형성된다. 후면 패널(110) 상의 어드레스 전극(120)과 전면기판(110) 상의 서스테인 전극쌍이 교차하는 지점이 각각 방전셀을 구성하는 부분이 된다.
그리고, 상기 전면 패널(170)과 후면 패널(110)이 격벽(140)을 사이에 두고 접합되는데, 기판의 외곽에 구비된 실링재를 통하여 접합된다.
그리고, 전면 패널(170)과 후면 패널(110)은 구동 장치와 연결되어 있다.
도 3a 내지 도 3c는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 나타낸 단면도이다.
이하, 도 3a 내지 도 3c를 참조하여, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 상세히 설명한다.
먼저, 도 3a에 도시된 바와 같이 전면 패널(170) 상에 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)과 버스 전극(180a', 180b')을 형성한다.
여기서, 전면기판(170)은 디스플레이 기판용 글래스 또는 소다라임 유리를 밀링(milling) 및 클리닝(cleaning)하여 제조된다.
그리고, 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b)과 버스 전극(180a', 180b')은 본 발명에 따라, 은 페이스트를 이용하여 오프셋 공법으로 형성할 수 있다.
이어서, 도 3b에 도시된 바와 같이 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b) 및 버스 전극(180a', 180b')이 형성된 전면 패널(170) 상에 상판 유전체 층(190)을 형성한다.
상기 상판 유전체 층(190)은 저융점 글라스 페이스트를 스크린 인쇄법, 코터(coater)법 및 그린 시트를 라미네이팅하는 방법을 이용하여 형성할 수 있다. 상기 코터법은 롤(Roll) 또는 슬럿(Slot)의 두가지 방식 중 어느 하나의 방식을 이용할 수 있다.
이어서, 도 3c에 도시된 바와 같이 상판 유전체 층(190) 상에 보호막(195)을 증착한다.
여기서, 본 발명에 따른 보호막(195)은 산화마그네슘(MgO)를 포함한 제1 보호막(195a)과 단결정의 산화마그네슘 파우더를 포함한 제2 보호막(195b)로 이루어진다.
제1 보호막(195a)은 상판 유전체 층(190) 상에 형성된다. 그리고, 실리콘(Si) 등의 도펀트를 포함할 수 있다. 여기서, 제 1 보호막(195a)은 화학적 기상 증착(CVD)법, 전자빔(E-beam)법, 이온 도금(Ion-plating)법, 졸겔법 및 스퍼터링법 등으로 형성될 수 있다.
이때, 제1 보호막(195a) 내에 실리콘이 도핑되면 어드레스 기간의 지터 값이 줄어들게 되나, 실리콘의 함유량이 일정 값 이상으로 커지면 지터 값이 증가될 수 있다. 따라서, 실리콘은 지터 값이 최소화되는 범위로 도핑되는 것이 바람직하며, 최적 함량으로 보호막 내에 20 내지 500 ppm(parts per million)의 비율로 포함되는 것이 바람직하다. 그리고, 지터 값을 줄이기 위하여 실리콘 대신 다른 물질을 도펀트로 사용할 수도 있을 것이다.
그리고, 제1 보호막(195a) 상에는 도시된 바와 같이 제2 보호막(195b)이 형성된다.
여기서, 제2 보호막(195b)은 단결정의 산화마그네슘 파우더를 포함하여 이루어진다. 이때, 제2 보호막(195b) 내에서 단결정의 산화마그네슘 파우더는 크기가 5 내지 100 마이크로 미터이다.
여기서, '크기'는 결정이 구의 형상이면 지름을 의미하고, 육면체의 형상이면 한 변의 길이를 의미한다. 상기 단결정은 결정 전체가 일정한 결정축을 따라 규칙적으로 생성된 고체를 의미하며, 배향이 서로 다른 조그만 단결정들의 집합인 다결정과 구분된다.
도 4a 내지 도 4f는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 후면 패널 제조 공정을 나타낸 단면도이다.
먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이, 후면 패널(110) 상에 어드레스 전극(120)을 형성한다. 여기서, 후면 패널(110)은 디스플레이 기판용 글래스 또는 소다리임 유리를 밀링(milling) 또는 클리닝(cleaning) 등의 가공을 통하여 형성한다.
상기 어드레스 전극(120)은 은(Ag) 페이스트를 이용하여 오프셋 공법으로 형성할 수 있다.
그리고, 도 4b에 도시된 바와 같이, 어드레스 전극(120)이 형성된 후면 패널(110) 상에 백색의 하판 유전체 층(130)를 형성한다.
상기 하판 유전체 층(130)은 저융점 유리와 TiO2 등의 필러를 포함한 재료를 스크린 인쇄법 또는 그린 시트의 라미네이팅 등의 방법으로 형성한다.
여기서, 하판 유전체 층(130)는 플라즈마 디스플레이 패널의 휘도를 증가시키기 위하여 백색을 나타내는 것이 바람직하다. 공정의 간략화를 위하여, 하판 유전체 층(130)과 어드레스 전극(120)을 하나의 공정에서 소성할 수도 있다.
이어서, 도 4c 내지 4e에 도시된 바와 각각의 방전 셀을 구분하기 위한 격벽을 형성한다.
이때, 상기 격벽 재료(140a)는 용매와 분산제와 모상 유리 및 다공성 필러를 혼합하고, 밀링하여 준비한다.
여기서, 모상유리로서 유연계 모상 유리와 무연계 모상 유리가 있다. 유연계 모상 유리는 ZnO, PbO 및 B2O3 등을 포함하여 이루어지고, 무연계 모상 유리는 ZnO, B2O3, BaO, SrO 및 CaO 등으로 이루어진다. 그리고, 필러로서, SiO2, Al2O3 등의 산화물을 사용한다.
상기와 같은, 격벽 재료(140a)를 상기 하판 유전체층(130) 상에 도포한 후, 일정 시간 동안 건조시킨다.
이후, 상기 도포 및 건조 과정을 반복적으로 수행하여 일정한 두께(예를 들면, 150-200㎛)로 만들다. 이어서, 격벽 재료(140a)를 패터닝하여, 격벽(140)을 형성한다.
이때, 상기 패터닝 공정은 마스크(155)를 씌우고 노광한 후, 현상하여 수행된다. 즉, 어드레스 전극과 대응되는 부분에 마스크(155)를 위치시키고 노광하면, 현상 및 소성 공정 후에는 빛을 조사받은 부분만이 남아서 상기 격벽(140)을 형성한다.
그 다음으로, 도 4f에 도시된 바와 같이, 상기 하판 유전체 층(130) 중 방전 공간에 접하는 면과, 상기 격벽(140)의 측면에 형광체(150a, 150b, 150c)를 도포하여 형광체 층(150)을 형성한다. 즉, 상기 형광체층(250)은 각각의 방전 셀에 따라 R,G,B의 형광체가 차례로 도포되는데, 스크린 인쇄법이나 감광성 페이스트법으로 도포된다.
이때, 상기 적색(R) 형광 물질로 (Y, Gd)BO3:Eu3+ 을 사용하고, 녹색(G) 형광 물질로는 Zn2SiO4:Mn2+ 을 사용하고, 청색(B) 형광 물질로는 BaMgAl10O17:Eu2+ 를 많이 사용한다.
그 다음으로, 도 3의 과정에 의해 완성한 전면 패널(170)을 상기 격벽(140)을 사이에 두고 상기 후면 패널(110)과 접합하고 실링하고, 내부의 불순물 등을 배기한 후, 상기 격벽(140)내의 방전 셀에 Xe+Ne 또는 Xe+He 또는 Xe+Ne+He의 방전 가스(160)를 주입한 후 봉입하면, 도 2와 같은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널이 완성된다.
이하에서, 전면 패널(170)과 후면 패널(110)의 실링 공정을 상세히 설명한다.
상기 실링 공정은 통상적으로 스크린 인쇄법, 디스펜싱법 등으로 수행된다.
상기 스크린 인쇄법은 패터닝된 스크린을 소정 간격 유지하여 기판 위에 놓고, 실링재 형성에 필요한 페이스트를 압착, 전사시켜서 원하는 형상의 실링재를 인쇄하는 방법이다. 스크린 인쇄법은 생산 설비가 간단하고, 재료의 이용 효율이 높은 장점이 있다.
그리고, 상기 디스펜싱법은 스크린 마스크 제작에 사용되는 CAD 배선 데이터를 이용하여, 후막 페이스트를 공기 압력을 이용하여 기판 상에 직접 토출하여 실링재를 형성하는 방법이다. 디스펜싱법은 마스크의 제작비용이 절감되고, 후막의 형상에 큰 자유도를 가질 수 있는 장점이 있다.
도 5a는 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널과 후면 패널을 합착하는 공정을 나타낸 도면이다.
도 5b는 도 5a의 A-A'의 단면도이다.
도시된 바와 같이, 전면 패널(170) 또는 후면 패널(110) 상에 실링재(600)가 도포된다. 구체적으로, 기판의 최외곽에서 소정 간격을 두고 동시에 인쇄되거나 디스펜싱되어 도포된다.
이어서, 상기 실링재(600)를 소성한다. 상기 소성 과정에서, 실링재(600)에 포함된 유기물이 제거되고, 전면 패널(170)과 후면 패널(110)이 합착된다.
그리고, 이러한 소성 공정에서 실링재(600)의 폭이 넓어지고 높이가 낮아질 수 있다. 본 실시예에서는 실링재(600)가 인쇄 또는 도포되었으나, 실링 테이프의 형태로 형성되어 전면 기판(170) 또는 배면 기판(110)에 접착하여 사용할 수도 있다. 그리고, 에이징 공정을 통하여 소정 온도에서 보호막 등의 특성을 향상시킨다.
또한, 상기와 같이 완성된 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면에는 전면 필터(300)가 구비되는데, 상기 전면 필터(300)는 전자파(EMI, Electro Magnetic Interference; 이하 'EMI'로 약칭함)와, 근적외선(Near Infrared Rays; 이하 'NIR'로 약칭함)을 차폐하고 색보정 및 외부에서 입사되는 빛의 반사를 방지하는 역할 등을 한다.
이하, 도 6을 참조하여 상기와 같은 플라즈마 디스플레이 패널에 구비되는 전극 패턴에 대해 상세히 설명한다.
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전극은 유효 방전면에 평행하게 형성된 다수개의 제1 전극라인(710)과, 상기 제1 전극라인의 연장선에서 패드부(730) 방향으로 절곡되어 형성된 다수개의 제2 전극라인(720)을 포함하여 구성된다. 이때, 상기 전극은 플라즈마 디스플레이 패널의 스캔 전극(180a)과, 서스테인 전극(180b)과, 버스 전극(180a', 180b')과, 어드레스 전극(120)을 포함한다.
본 발명에서 상기 유효 방전면에 형성된 제1 전극라인(710)은 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스 전극(120)과 스캔 전극(180a) 사이에서 대향 방전이 발생하고, 상기 스캔 전극(180a)과 서스테인 전극(180b) 사이에서는 면방전이 발생하여, 방전셀들에서 발생되는 자외선에 의해 형광체를 발광시켜 가시광선이 외부로 발광하여 화상을 디스플레이(display)하는 영역이다.
상기 패드부(730)는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극이 구동 장치의 FPCB(Flexible Printed Circuits Board)와 접합되는 영역이다.
본 발명에서 상기 제1 및 제2 전극라인(710, 720)은 오프셋 공정에 의해 순차적으로 형성되고, 상기 제2 전극라인(720) 각각의 절곡 위치를 서로 다르게 하여 상기 제1 전극라인의 간격(d'1) 이상의 간격(d'2)을 가진다.
즉, 본 발명에서는 종래의 제2 전극라인(720)의 절곡 위치가 동일함에 따라 발생되는 문제점을 해결하기 위해, 제2 전극라인(720) 각각의 절곡 위치를 서로 다르게 하여 제1 전극라인(710)의 간격(d'1) 이상의 간격(d'2)을 가진다.
상기와 같은 전극라인 구조를 가짐으로써, 오프셋 공법의 닥터링 공정 수행 시 전극 형성용 잉크가 인쇄 방향으로 밀려서 인접한 전극라인과 쇼트되는 것을 방지할 수 있다. 이때, 도 7의 도면 부호 '740'은 상기 전극 형성용 잉크가 인쇄 방향으로 밀린 것을 나타내고 있다.
즉, 본 발명에서는 제2 전극라인(720) 중 상기 절곡 위치의 가장 안쪽 전극라인에서 가장 바깥쪽 전극라인 방향으로 그 길이가 순차적으로 커지는 구조를 가짐으로써, 상기와 같이 제2 전극라인(720) 각각의 절곡 위치를 서로 다르게 형성할 수 있는 것이다.
이때, 제2 전극라인(720) 중 상기 절곡 위치의 가장 안쪽 전극라인이 제일 먼저 절곡되고, 상기 절곡되는 위치의 가장 바깥쪽 전극라인이 제일 마지막 절곡된다.
이하, 도 7을 참조하여 상술한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴을 오프셋 공법으로 형성하는 과정을 상세히 설명한다.
도 7은 본 발명에 따른 오프셋 공법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴 제조 과정을 나타낸 일 실시예 공정 설명도이다.
먼저, 오프-셋 공정에 쓰일 마스터 몰드(master mold)(730)를 제조하는데, 상기 마스터 몰드(730)에는 전극으로 쓰일 전극 형성용 잉크를 주입할 음각이 형성되어 있으며, 상기 음각은 제1 전극라인(710)과 상기 제1 전극라인(710)의 연장선에서 패드부(730) 방향으로 절곡되는 제2 전극라인(720)의 절곡 위치를 다르게 하여 상기 제1 전극라인(710)의 간격(d'1) 이상의 간격(d'2)을 가지도록 형성한다.
이어서 상기 음각에 전극 형성용 잉크를 주입하는데, 상기 잉크는 전극의 재료로 사용될 것이므로 은(Ag), 바인더, 솔벤트 및 분산제 등이 페이스트의 형태를 이루고 있음이 바람직하다.
상기와 같은 전극 형성용 잉크를 잉크 노즐(720)을 통해 상기 마스터 몰드(730)의 음각에 충진한다.
그 다음으로, 닥터 링(Doctor ring)(710)을 사용하여 상기 마스터 몰드(730)의 음각 내에 채울 만큼의 전극 형성용 잉크를 제외한 나머지 잔여 잉크를 제거한다.
그 다음으로, 블랭킷 롤(740)과 상기 마스터 몰드(730)을 접촉시켜 상기 마스터 몰드(730)의 표면에 존재하는 잉크를 상기 블랭킷 롤(740)의 표면에 전사시킨다. 블랭킷 롤(blanket roll)(740)을 상기 마스터 몰드(730)와 접촉시켜 롤링(rolling)하면 상기 마스터 몰드(730)의 음각의 내부에 저장되어 있던 잉크가 오프(off)되어, 상기 블랭킷 롤의 표면에 잉크가 접합된다.
그 다음으로, 상기 잉크가 접합된 블랭킷 롤(740)을 플라즈마 디스플레이 패널의 기판 상부에 롤링하면, 상기 블랭킷 롤(740)의 표면에서 잉크가 분리되어 상기 기판의 상부에 셋(set)되어, 본 발명에 따른 전극 패턴이 형성된다.
이상, 본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있음은 당업자에게 자명하다. 예를 들면, 본 기술분야의 당업자에게는 전술한 실시예들을 서로 조합하여 사용하는 것도 매우 용이할 것이다.
따라서, 상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다.
본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다.

Claims (9)

  1. 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서,
    유효 방전면에 평행하게 형성된 다수개의 제1 전극라인; 및
    상기 제1 전극라인의 연장선에서 패드부 방향으로 절곡되어 형성된 다수개의 제2 전극라인;을 포함하되,
    상기 제1 및 제2 전극라인은 오프셋 공정에 의해 순차적으로 형성되고, 상기 제2 전극라인 각각의 절곡 위치를 서로 다르게 하여 상기 제1 전극라인의 간격 이상의 간격을 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 전극라인 중 상기 절곡되는 위치의 가장 안쪽 전극라인이 제일 먼저 절곡되고, 상기 절곡되는 위치의 가장 바깥쪽 전극라인이 제일 마지막 절곡되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 전극라인의 길이를 서로 다르게 형성하여 상기 절곡되는 위치를 서로 다르게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제2 전극라인 중 상기 절곡되는 위치의 가장 안쪽 전극라인에서 가장 바깥쪽 전극라인 방향으로 그 길이가 순차적으로 커지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 오프셋 공법에 의해 전극을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서,
    전극재를 저장하기 위한 음각이, 유효 방전면에 형성된 제1 전극라인과 상기 제1 전극라인의 연장선에서 패드부 방향으로 절곡되어 형성된 제2 전극라인 각각의 절곡 위치를 다르게 하여 상기 제1 전극라인의 간격 이상을 가지도록 형성된 마스터 몰드(master mold)를 제조하는 단계;
    상기 음각에 전극재를 주입하는 단계;
    상기 마스터 몰드에 블랭킷을 롤링하여 상기 전극재를 오프(off)하는 단계; 및
    상기 블랭킷을 기판상에 롤링하여 상기 전극재를 셋(set)하여 상기 제1 및 제2 전극라인을 형성하는 단계;를 포함하여 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  6. 제5 항에 있어서, 상기 마스터 몰드 제조 단계는,
    상기 제2 전극라인 중 상기 절곡되는 위치의 가장 안쪽 전극라인이 제일 먼저 절곡되고, 상기 절곡되는 위치의 가장 바깥쪽 전극라인이 제일 마지막 절곡되도록 상기 음각을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  7. 제5 항에 있어서, 상기 마스터 몰드 제조 단계는,
    상기 제2 전극라인의 길이를 서로 다르게 형성하여 상기 절곡 위치가 서로 다르도록 상기 음각을 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 제2 전극라인 중 상기 절곡되는 위치의 가장 안쪽 전극라인에서 가장 바깥쪽 전극라인 방향으로 그 길이가 순차적으로 커지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  9. 제5 항에 있어서, 상기 전극재는,
    은(Ag), 바인더, 솔벤트 및 분산제를 포함한 잉크인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
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