KR20090097772A - Position adjusting device of glass mask and mask holder - Google Patents

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KR20090097772A
KR20090097772A KR1020080135459A KR20080135459A KR20090097772A KR 20090097772 A KR20090097772 A KR 20090097772A KR 1020080135459 A KR1020080135459 A KR 1020080135459A KR 20080135459 A KR20080135459 A KR 20080135459A KR 20090097772 A KR20090097772 A KR 20090097772A
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mask holder
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타카시 메구로
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가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링
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Abstract

A position adjusting device of a glass mask and a mask holder is provided to reduce an installation dimension of a device by supporting a glass mask in a top part of a mask holder. A frame(1) maintains a mask holder(51) to a fixed position. The mask holder supports a glass mask(50). A reference mark is installed in the frame, and has a fixed position relation with the mask holder. An alignment stage(2) supports the glass mask. A mask mark for adjusting a position is installed in the glass mask. A position decision device moves the glass mask, and positions the mask holder to a predetermined position. The glass mask is fixed to the mask holder.

Description

글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치{Position adjusting device of glass mask and mask holder}Position adjusting device of glass mask and mask holder}

본 발명은 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치에 관한 것이다. The present invention relates to a positioning device of a glass mask and a mask holder.

프린트 회로기판의 제조 등에 사용되어지는 노광장치에 있어서는 노광할 패턴인 회로기판을 그린 마스크로서 글라스 마스크가 주로 사용되고 있다. 이 글라스 마스크는 통상 마스크 홀더라고 불리워 지는 틀 형상의 고정구에 고정되어 사용된어 진다. 글라스마스크를 마스크 홀더에 고정시킬 때에는 글라스 마크의 단면의 돌기부나 표시선 또는 표시점에 의해 눈짐작으로 위치맞춤 등을 행하게 된다. In an exposure apparatus used for manufacturing a printed circuit board, a glass mask is mainly used as a mask on which a circuit board as a pattern to be exposed is drawn. This glass mask is used by being fixed to a frame-shaped fixture commonly called a mask holder. When the glass mask is fixed to the mask holder, the projections, display lines, or display points of the end face of the glass mark are used for eye position alignment.

[특허문헌 1] 일본국 특허공개 2004-247718호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Publication No. 2004-247718

그러나, 최근에 분할노광법 등에 의해 프린트 회로기판의 노광에 있어서 정 밀도가 높은 노광이 이루어지고 있으며, 글라스 마스크와 노광 대상물인 회로기판 등의 위치맞춤에 대하여는 아주 정확하게 위치를 맞출 수 있는 방법이나 장치가 개발되어 이용되어지고 있다. In recent years, however, high-precision exposure has been achieved in the exposure of printed circuit boards by the divisional exposure method, etc., and a method or apparatus that can be precisely positioned with respect to the alignment of a glass mask and a circuit board as an exposure target. Has been developed and used.

그러나 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤에 있어서는 상기한 바와 같이 글라스 마스크 단면의 돌기부나 표시선 또는 표시점에 의한 눈짐작의 위치맞춤때문에 글라스 마스크의 외형치수의 고르지 못함 등에 의해 정밀도가 높은 위치맞춤이 아주 어렵고 노광의 정밀도 향상에 지장을 주게 된다.However, in the alignment of the glass mask and the mask holder, as described above, the alignment of the glass mask is difficult due to the unevenness of the external dimensions of the glass mask due to the unevenness of the eye by the projections, the display lines or the display points of the end face of the glass mask. This will impede the improvement of the exposure accuracy.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결함을 그 목적으로 한다.Therefore, an object of the present invention is to solve the above conventional problems.

상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명은 글라스 마스크와 글라스 홀더의 위치맞춤 장치로서 글라스 마스크를 지지하는 마스크 홀더를 소정의 위치에서 지지하는 기대와, 이 기대에 설치되어 상기 지지된 마스크 홀더와 소정의 위치관계를 가지는 기준 마스크와, 상기 글라스 마스크를 적어도 xy 방향 및 상하 방향으로 이동 가능하게 지지하는 얼라이먼트 스테이지와, 상기 글라스 마스크에 설치된 위치맞춤용 마스크 마크와, 상기 마스크 마크와 상기 기준마크에 근거하여 상기 글라스 마스크를 이동시켜 마스크 홀더에 대하여 미리 결정된 소정의 위치에 위치를 결정하는 위치결정장치와, 상기 위결정장치에 의해 위치가 결정된 글라스 마스크를 마스크 홀더에 고정시키는 장치 등을 갖는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a base for supporting a mask holder for supporting a glass mask at a predetermined position as a positioning device for a glass mask and a glass holder, and a mask holder and a predetermined position provided on the base. A reference mask having a relationship, an alignment stage for movably supporting the glass mask in at least the xy direction and the vertical direction, an alignment mask mark provided in the glass mask, the mask mark and the reference mark And a positioning device for moving the glass mask to determine a position at a predetermined predetermined position relative to the mask holder, and a device for fixing the glass mask determined by the positioning device to the mask holder.

상기 구성에 의해 글라스 마스크와 마스크 홀더와의 위치맞춤을 고정밀도로 행할 수 있게 되고 나아가서 노광 정밀도를 향상시킬 수 있게 된다.By the above configuration, alignment between the glass mask and the mask holder can be performed with high accuracy, and the exposure accuracy can be improved further.

상기 기준마크는 기준마크 플레이트에 그려지고 글라스 마스크에 겹쳐지도록 구성하는 것이 바람직하다. The reference mark is preferably configured to be drawn on the reference mark plate and overlap the glass mask.

또한, 상기 위치결정장치가 상기 마스크 홀더와 상기 기준마크를 촬영하고 이 마스크 마크와 기준마크의 위치관계를 표시할 수 있는 화상처리장치를 가질 수 있도록 하는 구성이 바람직하다. 이와 같은 화상처리장치를 사용하여 마스크 마크와 상기 기준마크의 겹침에 의해 위치맞춤을 간단히 할 수 있으며, 또 정밀도를 좋게할 수 있다는 것이 가능하게 된다.It is also preferable that the positioning device has an image processing device capable of photographing the mask holder and the reference mark and displaying the positional relationship between the mask mark and the reference mark. By using such an image processing apparatus, the alignment of the mask mark and the reference mark can be simplified, and the precision can be improved.

상기 마스크 홀더는 일반적으로 틀(frame) 형상이고, 얼라이먼트 스테이지가 틀 형상의 마스크 홀더의 하측에서 이 틀 형상의 중공부를 통해서 마스크 홀더의 상방으로 늘어나도록 구성되고, 이로 인해서 글라스 마스크를 마스크 홀더의 상방에서 지지되도록 구성하는 것이 가능하게 된다. 이와 같은 구성에 의해서 장치 전체를 콤팩트하게 구성할 수 있게 되어 장치의 설치면적을 축소시킬수 있게 된다. The mask holder is generally frame-shaped, and the alignment stage is configured such that the alignment stage extends from the lower side of the frame-shaped mask holder to the upper side of the mask holder through the hollow portion of the frame-shaped, thereby extending the glass mask above the mask holder. It is possible to configure to support at. By such a configuration, the entire apparatus can be compactly configured, thereby reducing the installation area of the apparatus.

더욱이 상기 얼라이먼트스테이지는 θ방향으로 이동 가능하게 구성되어 있고 글라스 마스크를 회동시킬 수 있도록 구성하는것이 바람직하다.Further, it is preferable that the alignment stage is configured to be movable in the θ direction and configured to be able to rotate the glass mask.

본 발명의 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치에 의하면, 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤을 고정밀도로 행할 수 있게 되는 효과가 있다.According to the alignment apparatus of the glass mask and mask holder of this invention, there exists an effect that the alignment of a glass mask and a mask holder can be performed with high precision.

이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 근거하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described based on drawing.

도 1은 정면도이고, 도 2는 평면도이다.1 is a front view and FIG. 2 is a plan view.

이 위치맞춤장치는 기대(1)와 얼라이먼트스테이지(2)를 가진다. 이 기대(1)는 그 상면(15)에 글라스 마스크(50)를 얹어둔 마스크 홀더(51)를 재치하고 소정의 위치에 위치를 결정하도록 구성되어 있다.This positioning device has a base 1 and an alignment stage 2. This base 1 is comprised so that the mask holder 51 which mounted the glass mask 50 on the upper surface 15 may be mounted, and a position may be determined in a predetermined position.

상면(15)에는 서로 평행을 이룬 두 개의 부분으로 구성되고, 그 가운데 공간(16)이 있다. 마스크 홀더(51)는 두 개의 상면(15, 15)의 사이에 걸치도록 재치되어 있다. The upper surface 15 is composed of two parts parallel to each other, with a space 16 in the middle thereof. The mask holder 51 is placed so as to span between the two upper surfaces 15 and 15.

도 2에 도시된 바와 같이 상면(15)에는 X 기준위치편(10)과 Y 기준위치편(11)이 있으며, 이 X 기준위치편(10)과 Y 기준위치편(11)에 마스크 홀더(51)를 고정 실린더(12)와 고정 실린더(13)에 의해 눌리워져 마스크 홀더(51)를 미리 결정된 소정의 위치에 정밀도가 좋게 위치시킬 수 있게 되어 있다. As shown in FIG. 2, the upper surface 15 includes an X reference position piece 10 and a Y reference position piece 11, and a mask holder (X) on the X reference position piece 10 and the Y reference position piece 11. 51 is pressed by the fixed cylinder 12 and the fixed cylinder 13, and the mask holder 51 can be located at a predetermined predetermined position with high precision.

기대(1)에는 또 기준마크 플레이트(17)가 설치되었고 이 기준마크플레이트(17)에 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 기준마크(61)가 있다. 기준마크 플레이트(17)는 기대(1)에 미리 결정된 소정의 위치에 설치되어 있고, 전술한 X 기준위치편(10)과 Y 기준위치편(11)에 의해 위치가 결정된 마스크 홀더(51)와 기준마크 플레이트(17)의 위치는 소정의 위치관계에 이룰수 있도록 되어 있다. 따라서, 기준마크 플레이트(17)에 설치된 기준마크(61)와 마스크 홀더(51)도 소정의 위치관계에 있고 기준마크(61)의 위치는 마스크 홀더(51)의 위치로 나타나게 된다.The base 1 is also provided with a reference mark plate 17, which has a reference mark 61 as shown in FIGS. 4 and 5. The reference mark plate 17 is provided at a predetermined position predetermined on the base 1, and the mask holder 51 whose position is determined by the aforementioned X reference position piece 10 and Y reference position piece 11 and The position of the reference mark plate 17 can be achieved in a predetermined positional relationship. Therefore, the reference mark 61 provided on the reference mark plate 17 and the mask holder 51 also have a predetermined positional relationship, and the position of the reference mark 61 is represented by the position of the mask holder 51.

기준마크 플레이트(17)는 그의 실시형태로서는 마스크 홀더(51) 상에 고정되는 글라스 마스크(50)의 단부 상방에 위치하도록 설치되어 있고, 글라스 마스크(50)에 설치된 마스크 마크(60)와 기준마크(61)를 서로 겹칠수 있도록 되어 있다.The reference mark plate 17 is provided so that it may be located above the edge part of the glass mask 50 fixed on the mask holder 51 as the embodiment, and the mask mark 60 and the reference mark provided in the glass mask 50 are shown. The 61 can overlap each other.

기준마크 플레이트(17)의 상방에는 또 CCD 카메라(18)가 설치되고, 마스크 마크(60)와 기준마크(61)를 서로 겹쳐 촬영하고, 도 5에 도시된 바와 같이 CCD 카메카(18)에 접속된 모니터(19)에 이 화상을 나타낼 수 있도록 구성되어 있다.A CCD camera 18 is further provided above the reference mark plate 17, and the mask mark 60 and the reference mark 61 are superimposed on each other, and as shown in Fig. 5, the CCD camera 18 is shown. The monitor 19 is configured to display this image.

이 화상의 신호는 제어장치(5)에 보내어져 각종 데이터 처리를 할 수 있도록 구성되어 있다. The signal of this image is sent to the control apparatus 5, and is comprised so that various data processing may be performed.

또한, 이와 같은 실시형태에 있어서는 도 2에 도시된 바와 같이 기준마크 플레이트(17)와 CCD 카메라(18)는 2개 설치되어 있으나 그 숫자는 필요에 따라 적의 증감할 수 있다.In this embodiment, two reference mark plates 17 and CCD cameras 18 are provided as shown in Fig. 2, but the numbers can be increased or decreased as needed.

얼라이먼트 스테이지(2)는 상면(15)의 아랫쪽에 장착되어 있으며 이동기구(20)에 의해서 xy 방향으로 이동가능하고 또 θ방향으로 회동가능하게 글라스 마크(50)에 지지되어 있다. 얼라이먼트 스테이지(2)는 또 리프터(21)를 구비하고 이 리프터(21)는 리프터 실린더(22)에 의해서 상하방향으로 승강 가능하도록 되어있다. 리프터(21)의 위에는 복수의 흡착패드(23)가 있으며, 이 흡착패드(23)의 위에 글라스 마스크(50)를 흡착지지할 수 있도록 구성되어 있다.The alignment stage 2 is attached to the lower side of the upper surface 15 and is supported by the glass mark 50 so as to be movable in the xy direction and pivotable in the θ direction by the moving mechanism 20. The alignment stage 2 is also provided with a lifter 21, which is capable of lifting up and down by the lifter cylinder 22. As shown in FIG. A plurality of adsorption pads 23 are provided on the lifter 21, and the adsorption pads 23 are configured to be capable of adsorbing and supporting the glass mask 50.

리프터(21) 위에 있는 흡착패드(23)는 도 3에 도시된 바와 같이 공간(16)과 틀 형상의 마스크 홀더(51)의 중공부를 통과하여 마스크 홀더(51) 위에 놓여 있는 글라스 마스크(50)의 하면에 접촉하고 있으며, 이 하면을 흡착지지 하도록 되어 있다. 그리하여 이동기구(20)에 의해서 xy 방향 및 θ방향으로 글라스 마스크(50) 만을 이동시켜 글라스 마스크(50)와 마스크 홀더(51)의 위치맞춤을 할 수 있도록 구성되어 있다. The suction pad 23 on the lifter 21 passes through the hollow portion of the space 16 and the frame-shaped mask holder 51, as shown in FIG. 3, on the glass mask 50. Is in contact with the lower surface of the lower surface of the substrate. Thus, the glass mechanism 50 and the mask holder 51 can be aligned by moving only the glass mask 50 in the xy direction and the θ direction by the moving mechanism 20.

마스크 홀더(60)는 도 4에 도시된 바와 같이 글라스 마스크(50)의 단부에 설치되어 있고, 기준마크(61)의 평면상의 위치와 합치할 때에 글라스 마스크(50)와 마스크 홀더(51)와의 상호 위치가 미리 정해진 소정의 위치에 위치가 결정되도록 형성되어 있다.The mask holder 60 is provided at the end of the glass mask 50 as shown in FIG. 4, and when the mask holder 60 coincides with the planar position of the reference mark 61, the mask holder 60 is formed with the glass mask 50 and the mask holder 51. It is formed so that a position may be determined in a predetermined position which mutual position is predetermined.

마스크 마크(60)와 기준마크(61)는 CCD 카메라(18)에 의해서 촬영되어지고 도 5에 도시된 바와 같이 모니터(19) 상에 겹쳐져서 표시된다. 사용자는 모니터(19)로 확인하면서 얼라이먼트 스테이지(2)를 이동시켜 마스크마크(60)와 기준마크(61)를 일치시킴으로서 글라스 마스크(50)와 마스크 홀더(51)의 위치를 합칠 수 있도록 구성되어 있다. 더욱이 상기 조작은 자동적으로 이루어지도록 구성하는 것도 가능하다.The mask mark 60 and the reference mark 61 are photographed by the CCD camera 18 and displayed superimposed on the monitor 19 as shown in FIG. The user can move the alignment stage 2 while checking with the monitor 19 to match the mask mark 60 and the reference mark 61 so as to combine the positions of the glass mask 50 and the mask holder 51. have. Furthermore, it is also possible to configure the operation to be automatic.

상기 얼라이먼트 스테이지(2), CCD 카메라(18), 모니터(19) 및 마스크 마크The alignment stage 2, CCD camera 18, monitor 19 and mask mark

(60), 기준마크(61)로 위치결정장치가 형성된다.(60), the positioning device is formed from the reference mark (61).

글라스 마스크(50)와 마스크 홀더(51)의 위치맞춤이 종료되면 리프터(21)를 하강시키고 위치가 합쳐진 상태에서 글라스 마스크(50)를 마스크 홀더(51) 위에 다시 재치시키고, 소정의 고정장치에 의해 글라스 마스크(50)와 마스크 홀더(51)를 고정하도록 구성되어 있다. 이 고정은 고정금구 등의 물리적 고정 뿐만 아니라 진 공흡착을 병용하는 것이 바람직하며, 이로 인하여 정합후의 위치 어긋남을 유발하지 않고 다음 공정의 노광장치로 보내는것이 순조로워진다.When the alignment of the glass mask 50 and the mask holder 51 is finished, the lifter 21 is lowered and the glass mask 50 is placed on the mask holder 51 again in a state where the positions are combined, and the predetermined fixing device is mounted on the mask holder 51. It is comprised so that the glass mask 50 and the mask holder 51 may be fixed by this. This fixing preferably uses not only physical fixing such as fixing fixtures but also vacuum adsorption, which facilitates sending to the exposure apparatus of the next step without causing misalignment after registration.

다음에 그 동작에 대하여 설명한다.Next, the operation will be described.

우선, 글라스 마스크(50)를 얹어둔 마스크 홀더(51)를 기대(1) 위에 장입하고 고정 실린더(12)와 고정 실린더(13)에 의해 X 기준위치편(10)과 Y 기준위치편(11)에 마스크 홀더(51)를 눌러주어 고정시키고 이것에 의해 마스크 홀더(51)의 위치결정을 하게 된다.First, the mask holder 51 on which the glass mask 50 is placed is charged on the base 1, and the X reference position piece 10 and the Y reference position piece 11 are fixed by the fixed cylinder 12 and the fixed cylinder 13. ), The mask holder 51 is pressed and fixed, thereby positioning the mask holder 51.

다음에 리프터(21)를 상승시켜서 글라스 마스크(50)를 지지하고 흡착패드(23)에 의해 글라스 마스크(50)를 흡착고정하며, 또 리프터(21)를 상승시켜 CCD 카메라(18) 촛점을 맞춘다.Next, the lifter 21 is raised to support the glass mask 50 and the glass mask 50 is fixed by the suction pad 23, and the lifter 21 is raised to focus the CCD camera 18. .

그리하여 CCD 카메라(18)로부터 보내어지는 화상을 모니터(19)로 확인하면서 이동기구(20)로 제어하여 얼라이먼트 스테이지(2)를 움직여 마스크 마크(60)와 기준마크(61)를 정합시킨다. 이 얼라이먼트 조작은 상기한 바와 같이 수동 얼라이먼트 혹은 자동 얼라이먼트 어느 쪽 모두 적용 가능하다.Thus, while checking the image sent from the CCD camera 18 with the monitor 19, the moving mechanism 20 is controlled to move the alignment stage 2 so that the mask mark 60 and the reference mark 61 are aligned. This alignment operation can be applied to both manual alignment and automatic alignment as described above.

마스크 마크(60)와 기준마크(61)의 정합 후, 리프터(21)를 내려서 마스크 홀더(51)에 글라스 마스크(50)를 재치하고, 흡착패드(2)의 진공흡착을 개방하여 글라스 마스크(50)와 리프터(21)를 떨어지게 한다.After the registration of the mask mark 60 and the reference mark 61, the lifter 21 is lowered, the glass mask 50 is placed on the mask holder 51, the vacuum suction of the suction pad 2 is opened, and the glass mask ( 50) and lifter 21 away.

그리하여 글라스 마스크(50)를 마스크 홀더(51)에 의해 고정시키고 고정 실린더(12)와 고정 실린더(13)를 개방하여 마스크 홀더(51)의 고정을 해지하여 글라스 마스크(50)와 마스크 홀더(51)를 기재(1)로부터 떼어내어 다음 공정을 이송한 다.Thus, the glass mask 50 is fixed by the mask holder 51 and the fixing cylinder 12 and the fixing cylinder 13 are opened to release the fixing of the mask holder 51 to thereby release the glass mask 50 and the mask holder 51. ) Is removed from the substrate (1) and the next process is transferred.

도 1은 본 발명의 1실시형태를 나타내는 개략정면도이고,1 is a schematic front view showing one embodiment of the present invention,

도 2는 본 발명의 1실시형태를 나타내는 개략평면도이고,2 is a schematic plan view showing one embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명의 1실시형태의 동작을 나타내는 설명도이고,3 is an explanatory diagram showing an operation of one embodiment of the present invention;

도 4는 본 발명의 1실시형태의 기준마크 플레이트(17)와 CCD 카메라(18)의 상세도이고, 4 is a detailed view of the reference mark plate 17 and the CCD camera 18 of the embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 1실시형태의 동작을 나타내는 설명도이다.Fig. 5 is an explanatory diagram showing the operation of one embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1: 기대 2: 얼라이먼트 스테이지1: expectation 2: alignment stage

5: 제어장치 10: X 기준위치편5: Control unit 10: X reference position

11: Y 기준위치편 12: 고정 실린더11: Y reference position 12: fixed cylinder

13: 고정 실린더 15: 상면13: fixed cylinder 15: upper surface

16: 공간 17: 기준마크 플레이트16: space 17: reference mark plate

18: CCD 카메라 19: 모니터18: CCD camera 19: monitor

20: 이동기구 21: 리프터20: moving mechanism 21: lifter

22: 리프터 실린더 23: 흡착패드22: lifter cylinder 23: suction pad

50: 글라스 마스크 51: 마스크 홀더50: glass mask 51: mask holder

60: 마스크 마크 61: 기준마크60: mask mark 61: reference mark

Claims (5)

글라스 마스크를 지지하는 마스크 홀더를 소정의 위치에 유지시키는 기대와,A base for holding the mask holder for supporting the glass mask in a predetermined position, 이 기대에 설치되고 상기 지지된 마스크 홀더와 소정의 위치관계를 갖는 기준마크와, A reference mark provided on the base and having a predetermined positional relationship with the supported mask holder; 상기 글라스 마스크를 적어도 xy 방향 및 상하방향으로 이동가능하게 지지하는 얼라이먼트 스테이지와,An alignment stage for movably supporting the glass mask in at least the xy direction and the vertical direction; 상기 글라스 마스크에 설치되어진 위치맞춤용의 마스크 마크와,Positioning mask mark provided in the glass mask, 상기 마스크 마크와 상기 기준마크에 근거하여 상기 글라스 마스크를 이동시켜 마스크 홀더에 대하여 미리 결정된 소정의 위치에 위치를 정하게 하는 위치결정장치와, A positioning device for moving the glass mask based on the mask mark and the reference mark to position the glass mask at a predetermined predetermined position relative to the mask holder; 상기 위치결정장치에 의해 위치가 결정된 글라스 마스크를 마스크 홀더에 고정시키는 장치를 구비함을 특징으로 하는 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치.And a device for fixing the glass mask positioned by the positioning device to the mask holder. 제 1항에 있어서, 상기 기준마크가 상기 글라스 마크에 겹쳐지는 것이 가능한 기준마크 플레이트에 그려져 있는 것을 특징으로 하는 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치.The alignment device of a glass mask and a mask holder according to claim 1, wherein the reference mark is drawn on a reference mark plate which can be superimposed on the glass mark. 제 1항 또는 제 2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 위치결정장치가 상기 마스크 마크와 상기 기준마크를 촬영하고, 이 마스크 마크와 기준마크의 위치관계를 표시 가능하도록 하는 화상처리장치를 갖고 있음을 특징으로 하는 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치.The image positioning apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the positioning device has an image processing apparatus that photographs the mask mark and the reference mark, and displays the positional relationship between the mask mark and the reference mark. Positioning device of the glass mask and mask holder, characterized in that. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마스크 홀더가 틀 형상이고, 상기 얼라이먼트 스테이지가 글라스 마스크를 틀 형상의 마스크 홀더의 하측에서 이 틀형상의 중공부를 통해 마스크 홀더의 상방에 글라스 마스크를 지지하도록 함을 특징으로 하는 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치.The mask holder according to any one of claims 1 to 3, wherein the mask holder has a frame shape, and the alignment stage has a glass mask on the upper side of the mask holder through the hollow portion of the frame shape under the mask holder of the frame shape. Alignment device of the glass mask and the mask holder, characterized in that for supporting the mask. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 얼라이먼트 스테이지가 θ방향으로 이동 가능한 것을 특징으로 하는 글라스 마스크와 마스크 홀더의 위치맞춤장치.The alignment device according to any one of claims 1 to 4, wherein the alignment stage is movable in the θ direction.
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