KR20080079623A - 레지스트 패턴 형상 예측 방법, 레지스트 패턴 형상을예측하는 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체및 레지스트 패턴 형상을 예측하는 컴퓨터 - Google Patents
레지스트 패턴 형상 예측 방법, 레지스트 패턴 형상을예측하는 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체및 레지스트 패턴 형상을 예측하는 컴퓨터 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (12)
- 레티클 패턴으로부터의 광을 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영해서 해당 레지스트를 노광하는 노광 공정 및 해당 레지스트를 현상하는 현상 공정에 의해서 형성되는 레지스트 패턴의 형상을 예측하는 방법에 있어서,상기 레티클 패턴으로서 제공되는 시험 패턴으로부터의 광을 상기 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영함으로써 상기 레지스트 위에 형성되는 광학상(aerial image)의 윤곽 형상을 계산하는 제1계산 단계;상기 시험 패턴을 이용하는 노광 공정과 현상 공정에 의해 형성되는 레지스트 패턴의 형상을 측정하는 측정 단계;상기 제1계산 단계에서 계산된 윤곽 형상과 상기 측정 단계에서 측정된 레지스트 패턴의 형상 간의 차이에 따라서 결정되는 보정량과 상기 윤곽 형상의 특징량 간의 관계를 나타내는 보정 모델을 생성하는 생성 단계;상기 레티클 패턴으로서 제공되는 임의의 패턴으로부터의 광을 상기 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영함으로써 상기 레지스트 위에 형성되는 광학상의 윤곽 형상을 계산하는 제2계산 단계; 및상기 윤곽 형상의 특징량에 대응해서 상기 보정 모델에 의해 부여되는 보정량을 이용하여 상기 제2계산 단계에서 계산된 광학상의 윤곽 형상을 보정함으로써, 상기 임의의 패턴에 대응하는 레지스트 패턴의 형상을 예측하는 예측 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 형상의 예측방법.
- 제1항에 있어서, 상기 보정 모델은 상기 특징량과 상기 보정량과의 관계를 나타내는 함수를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 형상의 예측방법.
- 제1항에 있어서, 상기 특징량은 상기 윤곽 형상의 윤곽점에서의 만곡률 및 해당 윤곽점에서의 상기 광학상의 대수 기울기를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 형상의 예측방법.
- 제1항에 있어서, 상기 보정 모델은 상기 윤곽 형상의 윤곽점에서의 만곡률 및 해당 윤곽점에서의 상기 광학상의 대수 기울기의 1차 함수를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 형상의 예측방법.
- 레티클 패턴으로부터의 광을 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영해서 해당 레지스트를 노광하는 노광 공정 및 상기 레지스트를 현상하는 현상 공정에 의해 형성되는 레지스트 패턴의 형상을 예측하는 방법에 있어서,상기 레티클 패턴으로서 제공되는 시험 패턴으로부터의 광을 상기 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영함으로써 상기 레지스트 위에 형성되는 광학상의 윤곽 형상을 계산하는 제1계산 단계;상기 시험 패턴을 이용한 상기 노광 공정 및 상기 현상 공정에 의해 형성되는 레지스트 패턴의 형상을 측정한 결과를 취득하는 취득 단계;상기 제1계산 단계에서 계산된 윤곽 형상과 상기 취득 단계에서 취득된 레지스트 패턴의 형상 간의 차이에 따라서 결정되는 보정량과 상기 윤곽 형상의 특징량 간의 관계를 나타내는 보정 모델을 생성하는 생성 단계;상기 레티클 패턴으로서 제공되는 임의의 패턴으로부터의 광을 상기 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영함으로써 상기 레지스트 위에 형성되는 광학상의 윤곽 형상을 계산하는 제2계산 단계; 및상기 윤곽 형상의 특징량에 대응해서 상기 보정 모델에 의해 부여되는 보정량을 이용하여 상기 제2계산 단계에서 계산된 광학상의 윤곽 형상을 보정함으로써, 상기 임의의 패턴에 대응하는 레지스트 패턴의 형상을 예측하는 예측 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 형상의 예측방법.
- 제5항에 있어서, 상기 보정 모델은 상기 특징량과 상기 보정량 간의 관계를 나타내는 함수를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 형상의 예측방법.
- 제5항에 있어서, 상기 특징량은 상기 윤곽 형상의 윤곽점에서의 만곡률 및 해당 윤곽점에서의 상기 광학상의 대수 기울기를 포함하는 것을 특징으로 하는 레지스트 패턴 형상의 예측방법.
- 제5항에 있어서, 상기 보정 모델은 상기 윤곽 형상의 윤곽점에서의 만곡률 및 해당 윤곽점에서의 상기 광학상의 대수 기울기의 1차 함수를 포함하는 것을 특 징으로 하는 레지스트 패턴 형상의 예측방법.
- 레티클 패턴으로부터의 광을 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영해서 해당 레지스트를 노광하는 노광 공정 및 해당 레지스트를 현상하는 현상 공정에 의해 형성되는 레지스트 패턴의 형상을 예측하는 처리를 컴퓨터에 실행시키는 프로그램을 기억한 컴퓨터 판독가능한 기록 매체에 있어서,상기 프로그램은,상기 레티클 패턴으로서 제공되는 시험 패턴으로부터의 광을 상기 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영함으로써 상기 레지스트 위에 형성되는 광학상의 윤곽 형상을 계산하는 제1계산 단계;상기 시험 패턴을 이용한 상기 노광 공정 및 상기 현상 공정에 의해 형성되는 레지스트 패턴의 형상을 측정한 결과를 취득하는 취득 단계;상기 제1계산 단계에서 계산된 윤곽 형상과 상기 취득 단계에서 취득된 레지스트 패턴의 형상 간의 차이에 따라서 결정되는 보정량과 상기 윤곽 형상의 특징량 간의 관계를 나타내는 보정 모델을 생성하는 생성 단계;상기 레티클 패턴으로서 제공되는 임의의 패턴으로부터의 광을 상기 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영함으로써 상기 레지스트 위에 형성되는 광학상의 윤곽 형상을 계산하는 제2계산 단계; 및상기 윤곽 형상의 특징량에 대응해서 상기 보정 모델에 의해 부여되는 보정량을 이용하여 상기 제2계산 단계에서 계산된 광학상의 윤곽 형상을 보정함으로써, 상기 임의의 패턴에 대응하는 레지스트 패턴의 형상을 예측하는 예측 단계를,컴퓨터에 실행시키는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기록 매체.
- 레티클 패턴으로부터의 광을 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영해서 해당 레지스트를 노광하는 노광 공정 및 해당 레지스트를 현상하는 현상 공정에 의해서 형성되는 레지스트 패턴의 형상을 예측하는 컴퓨터에 있어서,상기 레티클 패턴으로서 제공되는 시험 패턴으로부터의 광을 상기 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영함으로써 상기 레지스트 위에 형성되는 광학상의 윤곽 형상을 계산하는 제1계산부;상기 시험 패턴을 이용한 상기 노광 공정 및 상기 현상 공정에 의해 형성되는 레지스트 패턴의 형상을 측정한 결과를 취득하는 취득부;상기 제1계산 단계에서 계산된 윤곽 형상과 상기 취득 단계에서 취득된 레지스트 패턴의 형상 간의 차이에 따라서 결정되는 보정량과 상기 윤곽 형상의 특징량 간의 관계를 나타내는 보정 모델을 생성하는 생성부;상기 레티클 패턴으로서 제공되는 임의의 패턴으로부터의 광을 상기 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영함으로써 상기 레지스트 위에 형성되는 광학상의 윤곽 형상을 계산하는 제2계산부; 및상기 윤곽 형상의 특징량에 대응해서 상기 보정 모델에 의해 부여되는 보정량을 이용하여 상기 제2계산 단계에서 계산된 광학상의 윤곽 형상을 보정함으로써, 상기 임의의 패턴에 대응하는 레지스트 패턴의 형상을 예측하는 예측부를 포함하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터.
- 레티클 패턴으로부터의 광을 투영 광학계에 의해 레지스트 위에 투영해서 해당 레지스트를 노광하는 투영 노광 장치에 있어서,제10항에 규정된 컴퓨터를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
- 제11항에 규정된 투영 노광 장치를 이용해서 기판 위의 레지스트를 노광하는 노광 공정; 및상기 레지스트를 현상하는 현상 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스의 제조 방법.
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