KR20080059691A - Cleaning device for large area substrate - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래 대면적 기판 세정장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional large-area substrate cleaning apparatus.
도 2는 종래 대면적 기판 세정장치를 이용한 세정과정의 모식도이다.Figure 2 is a schematic diagram of a cleaning process using a conventional large-area substrate cleaning apparatus.
도 3은 본 발명 대면적 기판 세정장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.Figure 3 is a block diagram according to a preferred embodiment of the large-area substrate cleaning apparatus of the present invention.
도 4는 본 발명 대면적 기판 세정장치의 바람직한 실시예를 이용한 세정과정의 모식도이다.Figure 4 is a schematic diagram of a cleaning process using a preferred embodiment of the large-area substrate cleaning apparatus of the present invention.
도 5는 본 발명 대면적 기판 세정장치의 다른 실시예에 따른 구성도이다.Figure 5 is a block diagram according to another embodiment of the large-area substrate cleaning apparatus of the present invention.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
10:대면적 기판 11:패턴10: large area substrate 11: pattern
20:이송부 31:세정수 공급관20: transfer unit 31: washing water supply pipe
32:제1세정노즐부 33:제2세정노즐부32: 1st cleaning nozzle part 33: 2nd cleaning nozzle part
34:공기 공급관 40:진동발생부34: air supply pipe 40: vibration generating unit
본 발명은 대면적 기판 세정장치에 관한 것으로, 특히 대면적 기판의 패턴 형성여부 및 이물의 입경에 무관하게 대면적 기판을 세정할 수 있는 대면적 기판 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a large-area substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a large-area substrate cleaning apparatus capable of cleaning a large-area substrate irrespective of the pattern formation of the large-area substrate and the particle diameter of the foreign matter.
일반적으로 평판 디스플레이의 제조에 사용되는 대면적 기판을 세정하는 세정장치는 이송중인 대면적 기판에 세정수를 분사하여, 그 세정수의 입자와 대면적 기판의 이물이 충돌하도록 함으로써, 그 이물을 제거하고 있으며, 이와 같은 종래 대면적 기판 세정장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.In general, a cleaning apparatus for cleaning a large-area substrate used in the manufacture of flat panel displays sprays cleaning water onto a large-area substrate being transported to remove the foreign matter by causing the particles of the washing water to collide with the foreign matter on the large-area substrate. When described in detail with reference to the accompanying drawings, such a conventional large-area substrate cleaning apparatus as follows.
도 1은 종래 대면적 기판 세정장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a conventional large-area substrate cleaning apparatus.
도 1을 참조하면, 종래 대면적 기판 세정장치는, 대면적 기판(1)을 이송하는 이송부(2)와, 상기 대면적 기판(1)에 세정수를 분사하는 세정노즐(3)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, a conventional large area substrate cleaning apparatus includes a
상기와 같이 구성된 종래 대면적 기판 세정장치는 이송부(2)에 의해 이송되는 대면적 기판(1)에 그 이송방향에 대하여 예각인 방향으로 세정수를 분사하는 세정노즐(3)을 둔 것이며, 그 세정수와 대면적 기판(1)에 존재하는 이물 간의 충돌에 의해 이물이 제거될 수 있도록 한 것이다.The conventional large-area substrate cleaning apparatus configured as described above has a large-area substrate (1) conveyed by the conveying unit (2) with a cleaning nozzle (3) for spraying the washing water in a direction acute with respect to the conveying direction. The foreign matter can be removed by the collision between the washing water and the foreign matter present in the large-area substrate (1).
그러나, 상기 이물의 크기가 세정수의 입경보다 상대적으로 작은 경우, 그 세정수는 이물과 함께 그 이물의 주변 대면적 기판(1)과 동시에 충돌하게 되어, 미세한 이물의 제거율이 저하된다.However, when the size of the foreign matter is relatively smaller than the particle size of the washing water, the washing water collides with the foreign matter and the surrounding large area substrate 1 at the same time, and the removal rate of the fine foreign matter is lowered.
즉, 세정수에 의한 세정만으로는 미세 이물의 제거가 용이하지 않은 문제점이 있었다.That is, there is a problem that the removal of fine foreign matters is not easy only by washing with washing water.
도 2는 종래 대면적 기판 세정장치를 이용하여 패턴이 형성된 대면적 기판을 세정하는 과정의 모식도이다.Figure 2 is a schematic diagram of a process for cleaning a large area substrate patterned using a conventional large area substrate cleaning apparatus.
도 2를 참조하면, 대면적 기판(1)의 상부에 패턴(4)이 형성된 경우, 세정노즐(3)에서 분사되는 세정수가 그 패턴(4)에 충돌하게 됨으로써, 그 패턴(4)의 후면에 위치하는 이물을 제거하기가 용이하지 않게 된다.Referring to FIG. 2, when the pattern 4 is formed on the large area substrate 1, the washing water sprayed from the cleaning nozzle 3 collides with the pattern 4, so that the rear surface of the pattern 4 is formed. It is not easy to remove foreign substances located in.
따라서, 종래 대면적 기판 세정장치는 대면적 기판(1)에 패턴(4)이 형성된 경우 그 패턴(4)의 일측에 위치하는 이물을 제거할 수 없는 문제점이 있었다.Therefore, the conventional large-area substrate cleaning apparatus has a problem in that when the pattern 4 is formed on the large-area substrate 1, foreign matter located on one side of the pattern 4 cannot be removed.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 대면적 기판의 패턴 형성여부와 무관하게 이물을 제거할 수 있으며, 세정수 입경에 비해 입경이 작은 미세 이물을 용 이하게 제거할 수 있는 대면적 기판의 세정장치를 제공함에 그 목적이 있다.In view of the above problems, the present invention can remove foreign matter regardless of pattern formation of a large-area substrate, and can clean a large-area substrate that can easily remove fine foreign matter having a small particle size compared to the particle size of the washing water. The object is to provide a device.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 세정수를 공급하는 세정수 공급관과, 상기 세정수 공급관을 통해 공급된 세정수를 양방향으로 분사하는 제1 및 제2분사노즐부와, 상기 제1 및 제2분사노즐부를 통해 대면적 기판에 분사된 세정수를 진동시키는 진동발생부를 포함한다.The present invention for achieving the above object, the washing water supply pipe for supplying the washing water, the first and second spray nozzle unit for spraying the washing water supplied through the washing water supply pipe in both directions, and the first And a vibration generator for vibrating the washing water sprayed onto the large-area substrate through the second spray nozzle.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention, and may be modified in various forms, and the scope of the present invention is limited to the embodiments described below. It is not. Like numbers refer to like elements in the figures.
도 3은 본 발명 대면적 기판 세정장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.Figure 3 is a block diagram according to a preferred embodiment of the large-area substrate cleaning apparatus of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명 대면적 기판 세정장치 바람직한 실시예는, 세정수를 공급받는 세정수 공급관(31)과, 상기 세정수 공급관(31)을 통해 공급된 세정수를 이송부(20)에 의해 이송되는 대면적 기판(10)에 분사하되, 그 분사방향이 중앙측을 향하도록 하는 제1 및 제2분사노즐부(32,33)와, 상기 제1 및 제2분사노즐 부(32,33)의 사이에 위치하여 상기 대면적 기판(10)과 이물의 부착력을 약화시키는 진동발생부(40)를 포함한다.Referring to FIG. 3, according to a preferred embodiment of the present invention, a large-area substrate cleaning apparatus includes a washing
이하, 상기와 같이 구성된 본 발명 대면적 기판 세정장치 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다. Hereinafter, the configuration and operation of the preferred embodiment of the large-area substrate cleaning apparatus of the present invention configured as described above will be described in more detail.
먼저, 상기 제1 및 제2분사노즐부(32,33)는 각각 그 제1 및 제2분사노즐부(32,33)의 중앙을 향하는 노즐을 구비하고 있다.First, the first and second
즉, 상기 제1분사노즐부(32)의 노즐은 상기 이송부(20)에 의해 이송되는 대면적 기판(10)의 이송방향에 대하여 예각이며, 제2분사노즐부(32)의 노즐은 상기 대면적 기판(10)의 이송방향에 대하여 둔각으로 위치한다. That is, the nozzle of the first
따라서, 상기 제1분사노즐부(32)와 상기 제2분사노즐부(33)는 서로 다른 방향으로 상기 세정수 공급관(31)을 통해 공급된 세정수를 분사하게 된다.Therefore, the first
상기 제1분사노즐부(32)와 제2분사노즐부(33)는 도 1과 같이 하나의 모듈일 수 있으며, 각각 별도의 세정수 공급관을 구비하는 별개의 것일 수 있다.The first
도 4는 본 발명 대면적 기판 세정장치의 바람직한 실시예를 이용한 세정과정의 모식도이다.Figure 4 is a schematic diagram of a cleaning process using a preferred embodiment of the large-area substrate cleaning apparatus of the present invention.
도 4를 참조하면, 상기 제1분사노즐부(32)와 제2분사노즐부(33)의 세정수 분사 방향의 차이에 의해 대면적 기판(10)의 상부에 패턴(11)이 형성된 경우에도, 그 패턴(11)의 양측면에 위치하는 이물을 용이하게 제거할 수 있게 된다.Referring to FIG. 4, even when the
또한, 상기 제1분사노즐부(32)와 제2분사노즐부(33)를 통해 대면적 기판(10)에 분사된 세정수는 상기 진동발생부(40)에 의해 진동하며, 그 세정수의 진동에 의해 대면적 기판(10)과 그 대면적 기판(10)에 부착된 이물 사이의 부착력을 약화시킨다.In addition, the washing water sprayed on the large-
상기 진동발생부(40)의 예로는 초음파 발생기를 들 수 있으며, 상기 세정수의 진동에 의해 부착력이 약해진 이물을 쉽게 제거할 수 있게 된다. 특히, 상기 세정수와의 충돌에 의해 쉽게 제거되지 않는 세정수 입경에 비해 더 작은 입경의 미세 이물도 제거할 수 있게 된다.An example of the
상기 진동발생부(40)의 저면은 상기 분사된 세정수에 접촉됨이 바람직하다.The bottom of the
도 5는 본 발명 대면적 기판 세정장치의 다른 실시예에 따른 구성도이다.Figure 5 is a block diagram according to another embodiment of the large-area substrate cleaning apparatus of the present invention.
도 5를 참조하면, 본 발명 대면적 기판 세정장치의 다른 실시예는 세정수를 공급받는 세정수 공급관(31)과, 정화된 공기를 공급받는 공기 공급관(34)과, 상기 세정수 공급관(31)과 공기 공급관(34)을 통해 공급된 세정수와 공기가 혼합된 이류체를 대면적 기판(10)에 분사하되, 그 분사방향이 중앙측을 향하도록 하는 제1 및 제2분사노즐부(32,33)와, 상기 제1 및 제2분사노즐부(32,33)의 사이에 위치하여 상기 대면적 기판(10)과 이물의 부착력을 약화시키는 진동발생부(40)를 포함한다.Referring to FIG. 5, another embodiment of the large-area substrate cleaning apparatus of the present invention includes a washing
이와 같은 구성의 본 발명의 다른 실시예는 제1 및 제2분사노즐(32,33)을 사용하여 양방향의 분사가 가능하며, 이류체를 이용하여 대면적 기판(10)을 세정하기 때문에 세정효율을 높일 수 있게 된다.According to another embodiment of the present invention having the above configuration, the first and
즉, 상기 이류체는 상기 공기 공급관(34)을 통해 공급된 공기에 세정수를 혼합하여 세정수를 미스트(mist)화 하여 분사될 수 있도록 한 것으로, 상기 제1 및 제2분사노즐(32,33)에서 분사되는 세정수의 입경을 줄여 보다 더 미세한 이물에 직접 충격을 줄 수 있어 세정효율이 높아진다.That is, the air is a mixture of the washing water to the air supplied through the
이때 역시 상기 진동발생부(40)를 사용하여 분사된 이류체를 진동시켜 이물의 대면적 기판(10)에 대한 부착력을 감소시킴으로써 이물의 제거율을 높일 수 있게 된다.At this time, also by using the
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.The present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.
상기한 바와 같이 본 발명은, 세정수 또는 이류체를 양방향으로 분사하여 대면적 기판에 패턴이 형성된 경우에도 그 패턴의 측면측에 인접하여 부착된 이물을 용이하게 세정할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention has an effect of easily cleaning the foreign matter adhering adjacent to the side surface of the pattern even when the pattern is formed on the large-area substrate by spraying the washing water or the air in both directions.
또한, 본 발명은, 상기 대면적 기판에 분사된 세정수 또는 이류체를 진동시켜 이물의 부착력을 약화시킴으로써, 세정효율을 높일 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect of increasing the cleaning efficiency by vibrating the washing water or the air sprayed on the large-area substrate to weaken the adhesion of the foreign matter.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020060133316A KR20080059691A (en) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | Cleaning device for large area substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020060133316A KR20080059691A (en) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | Cleaning device for large area substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20080059691A true KR20080059691A (en) | 2008-07-01 |
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KR1020060133316A KR20080059691A (en) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | Cleaning device for large area substrate |
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KR (1) | KR20080059691A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20160014133A (en) * | 2014-07-28 | 2016-02-11 | 한국기계연구원 | Ultrasonic cleaning apparatus for large area |
WO2022064680A1 (en) * | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 株式会社カイジョー | Ultrasonic shower cleaning apparatus |
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2006
- 2006-12-26 KR KR1020060133316A patent/KR20080059691A/en not_active Application Discontinuation
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KR20160014133A (en) * | 2014-07-28 | 2016-02-11 | 한국기계연구원 | Ultrasonic cleaning apparatus for large area |
WO2022064680A1 (en) * | 2020-09-28 | 2022-03-31 | 株式会社カイジョー | Ultrasonic shower cleaning apparatus |
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