KR20040049945A - Improved sand blast apparatus for reusing abrasive materials - Google Patents

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KR20040049945A KR1020020076923A KR20020076923A KR20040049945A KR 20040049945 A KR20040049945 A KR 20040049945A KR 1020020076923 A KR1020020076923 A KR 1020020076923A KR 20020076923 A KR20020076923 A KR 20020076923A KR 20040049945 A KR20040049945 A KR 20040049945A
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Abstract

PURPOSE: An improved sand blast apparatus for reusing abrasive materials is provided to improve the recovery rate of abrasive materials by recovering abrasive materials with a cyclone and an electromagnet. CONSTITUTION: A sand blast apparatus is composed of a grinding tank(100), an injection nozzle(102) installed in the grinding tank and injecting abrasive materials(A), a pair of first electromagnets(161), a cyclone(110) for separating the abrasive materials from ground materials(B), a first recovery tank(120) for collecting the abrasive materials, a second electromagnet(162) for separating the abrasive materials, a second recovery tank(130) for collecting the abrasive materials, and a waste tank(140) for collecting the ground materials. The first electromagnets are attached to the outside of the grinding tank, and prevent the abrasive materials from remaining on the surface of a board(101).

Description

연마재의 재사용이 증가된 샌드 블라스트 장치{Improved sand blast apparatus for reusing abrasive materials}Improved sand blast apparatus for reusing abrasive materials

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 관한 것으로, 특히, 샌드블라스트법을 이용하여 격벽을 형성할 때 발생되는 연삭물과 연마재를 용이하게 분리하고, 연마재를 다시 활용하는데 적합한 샌드블라스트 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a plasma display panel, and more particularly, to a sand blasting apparatus suitable for easily separating the abrasive and the abrasive generated when the partition wall is formed using the sand blasting method and reusing the abrasive. .

블라스트(Blast) 가공은 피가공물의 표면에 연삭재 입자를 고속으로 분사하여 피가공물 표면을 연삭하거나 표면에 부착한 더러움을 제거하거나, 피가공물 표면에 충격력을 주어서 그 표면의 특성을 개량하기 위해 널리 사용되는 공업적 수법이다. 최근에는 이 수법이 종래 생각되지 못하였던 수 10㎛의 미세 영역의 가공에 사용되도록 되었다.Blast processing is widely used to improve the characteristics of the surface by spraying abrasive particles on the surface of the workpiece at high speed to remove the surface of the workpiece or to remove dirts attached to the surface, or to give impact to the surface of the workpiece. It is an industrial technique used. In recent years, this method has been used for the processing of micro-regions of several micrometers, which have not been conventionally considered.

예컨대, 플라스마 디스플레이 패널(이하, PDP라 약칭)의 격벽을 형성하는 방법에도 샌드 블라스트법(Sand blast)이 유력한 방법으로서 받아들여서, 일부에서는 실용 단계에 있다. 전극이 설치된 유리기판상에 블라스트성을 가지는 두께 1㎜ 이하의 저융점 유리층을 형성하여, 이 저융점 유리층에 폭 50 내지 1000㎛라는 미세한 홈을 유전체층까지 연삭한다. 이경우, 홈폭은 마스킹 테이프의 표면측에 연마재를 분사하여 블라스트 가공하는 것에 의해 저융점 유리층을 연삭하여 격벽을 형성한다. 이 격벽은 후의 공정에서 소성이 되어서 무기질의 유리 격벽으로 된다. 이 격벽의 사이의 공간에 형광체 등이 설치되어서 PDP로 된다.For example, the sand blast method is taken as a viable method for forming a partition of a plasma display panel (hereinafter, abbreviated as PDP), and is in practical use in some cases. A low melting point glass layer having a blasting property of 1 mm or less is formed on a glass substrate provided with electrodes, and fine grooves having a width of 50 to 1000 µm are ground to the dielectric layer in the low melting point glass layer. In this case, the groove width is blasted by spraying an abrasive on the surface side of the masking tape to blast the low melting point glass layer to form partition walls. This partition is calcined in a later step to form an inorganic glass partition. Phosphors or the like are provided in the spaces between the partitions to form a PDP.

도 1은 종래 기술에 따른 샌드블라스트 장치의 구조도이다.1 is a structural diagram of a sandblasting apparatus according to the prior art.

도 1에 도시된 바와 같이, 샌드 블라스트 장치는 크게 연삭 대상물이 도포된 기판(30)이 놓여져 연삭 대상물에 대한 연삭 공정이 실시되는 연삭조(21)와, 연삭 공정에서 사용된 연마재(A)가 집진되는 회수조(24), 및 연삭 공정에서 연삭된 연삭물(B)이 집진되는 폐수조(25)로 이루어진다. 그리고, 연삭조(21)내에는 연삭 대상물에 연마재를 분사시키기 위한 분사 노즐(22)이 구비되며, 아울러, 연삭조(21)의 외측에는 연삭 공정에서 사용된 연마재(A)가 기판(30)의 표면에 잔류되는 것을 방지하기 위하여 한 쌍의 제1 전자석(23)이 대향되는 위치에 각각 부착된다. 또한, 연삭조(21)와 폐수조(25)는 제1 고무관(27)에 의해 상호 연결되며, 연삭 공정에서 사용된 연마재(A)가 집진되는 회수조(24)는 제1 고무관(27)의 소정 부분에 연결되는 제2 고무관(28)에 의해 제1 고무관(27)과 연결되고, 회수조(24)와 분사 노즐(22)은 제3 고무관(29)에 의해 상호 연결되어 회수조(24)에 집진된 연마재(A)가 분사 노즐(22)로 이동되도록 한다.As shown in FIG. 1, the sand blasting apparatus includes a grinding tank 21 in which a substrate 30 on which a grinding target is applied is placed, and a grinding process is performed on the grinding target, and an abrasive A used in the grinding process. It consists of the collection tank 24 collect | collected and the waste water tank 25 in which the grinding | polishing material B ground by the grinding process is collected. In addition, an injection nozzle 22 for injecting an abrasive into the grinding target is provided in the grinding tank 21, and an abrasive A used in the grinding process is provided on the outside of the grinding tank 21. A pair of first electromagnets 23 are respectively attached at opposite positions in order to prevent remaining on the surface of the pair. In addition, the grinding tank 21 and the waste water tank 25 are interconnected by the first rubber pipe 27, and the recovery tank 24 in which the abrasive A used in the grinding process is collected is the first rubber pipe 27. It is connected to the first rubber tube 27 by a second rubber tube 28 connected to a predetermined portion of the, and the recovery tank 24 and the spray nozzle 22 are connected to each other by a third rubber tube 29 to recover the recovery tank ( The abrasive A collected in 24 is moved to the spray nozzle 22.

게다가, 회수조(24)의 하측부와 이에 대향하는 제1 고무관(27)의 상측부에는 제1 고무관(27)을 통해 이동되는 연마재(A) 및 연삭물(B) 중에서 연마재(A)가 회수조(24)에 집진될 수 있도록 한 쌍의 제2 전자석(26)이 각각 부착된다.In addition, the lower portion of the recovery tank 24 and the upper portion of the first rubber tube 27 facing the abrasives A among the abrasives A and the abrasives B moved through the first rubber tube 27 A pair of second electromagnets 26 are attached to each of the collection tanks 24 so as to be collected.

도 1의 샌드 블라스트 장치에서 사용되는 연마재(A)는 SiO2또는 Al2O3에 자성체 물질을 첨가하여 연마재의 분리가 보다 용이하게 분리될 수 있도록 만든다.The abrasive A used in the sand blasting apparatus of FIG. 1 adds a magnetic material to SiO 2 or Al 2 O 3 to make it easier to separate the abrasive.

전술한 종래기술의 샌드 블라스트 장치는, 연마재에 자성체 물질을 첨부하여 제2 전자석(26)을 이용한 연마재의 집진시 제2 전자석(26)에 의한 연마재의 방향성을 부여하여 회수하고자 하였다.The above-described conventional sand blasting apparatus is intended to attach and recover a abrasive by the second electromagnet 26 at the time of dust collection of the abrasive using the second electromagnet 26 by attaching a magnetic material to the abrasive.

그러나, 종래기술은 회수조(24)에서만 연마재를 회수해야하기 때문에 폐수조(25)로 흘러들어갈 수 있는 연마재의 회수에는 한계가 있으며, 일정량의 연마재 회수시 주기적으로 자장을 제거하여 분사노즐(22)로 연마재를 공급하여야 하는 단점이 있고, 이때, 폐수조(25)로 다량의 연마재가 흘러들어가 소모되고 재사용되지 못하는 문제가 있다.However, since the prior art has to recover the abrasive only in the recovery tank 24, there is a limit to the recovery of the abrasive that can flow into the waste water tank 25, and when the recovery of a certain amount of abrasive periodically remove the magnetic field to spray nozzle 22 ), There is a disadvantage in that the abrasive must be supplied, and at this time, a large amount of abrasive flows into the waste water tank 25, and there is a problem in that it cannot be reused.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로, 플라즈마 디스플레이 패널의 오염을 방지함과 동시에 연마재의 손실 및 설비 주변의 오염을 방지하고, 연마재의 재사용율을 높이는데 적합한 샌드 블라스트 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems of the prior art, a sand blast device suitable for preventing contamination of the plasma display panel and at the same time to prevent the loss of abrasives and contamination around the equipment, and to increase the reuse rate of the abrasives The purpose is to provide.

도 1은 종래 기술에 따른 샌드 블라스트 장치의 구조도,1 is a structural diagram of a sand blasting apparatus according to the prior art,

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 샌드 블라스트 장치의 구조도.2 is a structural diagram of a sand blasting apparatus according to an embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

100 : 연삭조 101 : 기판100: grinding tank 101: substrate

102 : 분사노즐 110 : 싸이클론102: injection nozzle 110: cyclone

120 : 제1 회수조 130 : 제2 회수조120: first recovery tank 130: second recovery tank

140 : 폐수조 151 : 제1 고무관140: waste water tank 151: first rubber pipe

152 : 제2 고무관 153 : 제3 고무관152: second rubber tube 153: third rubber tube

154 : 제4 고무관 155 : 제5 고무관154: fourth rubber tube 155: fifth rubber tube

161 : 제1 전자석 162 : 제2 전자석161: first electromagnet 162: second electromagnet

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 샌드블라스트 장치는, 연삭 대상물이 도포된 기판이 놓여져 상기 연삭 대상물에 대한 연삭 공정이 실시되는 연삭조, 상기 연삭조 내에 구비되어 상기 연삭 대상물에 자성체 물질이 함유된 연마재를 분사시키는 분사 노즐, 상기 연삭 공정에서 사용된 연마재가 상기 기판의 표면에 잔류되는 것을 방지하기 위하여 상기 연삭조의 외측에 부착되는 한 쌍의 제1 전자석, 상기 연삭 공정에서 사용된 연마재와 상기 연삭공정에서 연삭된 연삭물을 분리시키는 싸이클론, 상기 싸이클론에서 분리된 연마재가 1차 집진되는 제1 회수조, 상기 제1 회수조에서 미집진된 연마재와 상기 연삭물을 분리시키는 제2 전자석, 상기 제2 전자석에 의해 분리된 미집진된 연마재가 2차 집진되는 제2 회수조, 및 상기 제2 전자석에 의해 분리된 상기 연삭물이 집진되는 폐수조를 포함함을 특징으로 한다.The sandblasting apparatus of the present invention for achieving the above object is provided in the grinding tank, the grinding tank is applied to the grinding object is subjected to the grinding process is applied to the grinding object, the grinding object contained a magnetic material A spray nozzle for injecting abrasive, a pair of first electromagnets attached to the outside of the grinding bath to prevent the abrasive used in the grinding process from remaining on the surface of the substrate, the abrasive used in the grinding process and the grinding Cyclone for separating the grinding material grinding in the process, a first recovery tank in which the abrasive separated from the cyclone is first collected, a second electromagnet for separating the abrasive and the abrasive is not collected in the first recovery tank, A second recovery tank in which the undusted abrasive separated by the second electromagnet is collected secondary, and separated by the second electromagnet It characterized in that it comprises a waste water tank in which the grinding material is collected.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, the most preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the technical idea of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 샌드블라스트 장치의 구조도이다.2 is a structural diagram of a sandblasting apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 패턴 형성용 재료, 예를 들어, 격벽재가 도포된 기판(101)이 놓여져 연마재(A)의 분사에 의해 연삭 공정이 실시되는 연삭조(100), 연삭조(100) 내에 구비되어 연삭 대상물에 연마재(A)를 분사시키는 분사 노즐(102), 연삭 공정에서 사용된 연마재(A)와 연삭 공정에 의해 연삭된 연삭물(B; 이때 연삭물은 격벽재를 일컫음)을 분리시키는 원심 분리기(110; 이하, '싸이클론'이라 약칭함), 싸이클론(110)에서 분리된 연마재(A)가 집진되는 제1 회수조(120), 싸이클론(110)에서 분리된 후 제1 회수조(120)에서 집진되지 못한 연마재(A)가 집진되는 제2 회수조(130), 싸이클론(110)에서 분리된 연삭물(B)이 집진되는 폐수조(140)로 이루어진다.As shown in FIG. 2, a grinding tank 100 and a grinding tank 100 in which a pattern forming material, for example, a substrate 101 coated with a partition wall material is placed and a grinding step is performed by spraying the abrasive A. FIG. A spray nozzle 102 which is provided in the inside to inject the abrasive A into the grinding object, the abrasive A used in the grinding process and the abrasive B ground by the grinding process (the grinding material refers to the partition material) Centrifuge (hereinafter, abbreviated as "cyclone") for separating), the first recovery tank 120, the cyclone 110, the abrasive (A) separated from the cyclone 110 is collected After the second recovery tank 130, the abrasive (A) is not collected in the first recovery tank 120 is collected, the waste water (140) separated from the cyclone 110 is collected in the waste water tank 140 Is done.

그리고, 연삭조(100)와 싸이클론(110)은 제1 고무관(151)에 의해 상호 연결되며, 싸이클론(110)과 제1 회수조(120)는 제2 고무관(152)에 의해 상호 연결되고,제1 회수조(120)와 분사노즐(102)은 제3 고무관(153)에 의해 상호 연결되어 제1 회수조(120)에 집진된 연마재(A)가 분사노즐(102)로 이동되도록 하며, 싸이클론(110)과 제2 회수조(130)는 제4 고무관(154)에 의해 상호 연결되며, 제2 회수조(130)와 폐수조(140)는 제5 고무관(155)에 의해 상호 연결된다.In addition, the grinding tub 100 and the cyclone 110 are interconnected by the first rubber pipe 151, the cyclone 110 and the first recovery tank 120 are interconnected by the second rubber pipe 152. The first recovery tank 120 and the injection nozzle 102 are interconnected by the third rubber tube 153 so that the abrasive A collected in the first recovery tank 120 is moved to the injection nozzle 102. The cyclone 110 and the second recovery tank 130 are interconnected by the fourth rubber tube 154, and the second recovery tank 130 and the waste water tank 140 are connected by the fifth rubber tube 155. Are interconnected.

그리고, 기판(101)의 표면에 잔류되는 연마재(A)를 제거하기 위해서 연삭조(100)의 외측부에 한쌍의 제1 전자석(161)이 구비되고, 제2 회수조(130)의 하측부에는 제4 고무관(154)을 통해 이동되는 연마재(A) 및 연삭물(B) 중에서 연마재(A)가 제2 회수조(130)에 집진될 수 있도록 하는 제2 전자석(162)이 부착된다. 이때, 제2 전자석(162)은 제2 회수조(130)의 하측에만 부착되는데, 연마재(A)와 연삭물(B)을 분리하기 위한 목적이므로 한쌍으로 부착할 필요는 없다.In order to remove the abrasive A remaining on the surface of the substrate 101, a pair of first electromagnets 161 are provided on the outer side of the grinding tank 100, and the lower side of the second recovery tank 130 is provided. A second electromagnet 162 is attached to the abrasive A to be collected in the second recovery tank 130 among the abrasive A and the abrasive B moved through the fourth rubber tube 154. At this time, the second electromagnet 162 is attached only to the lower side of the second recovery tank 130, it is not necessary to attach a pair because it is the purpose of separating the abrasive (A) and the grinding material (B).

한편, 도 2의 샌드 블라스트 장치에서 사용되는 연마재(A)는 SiO2또는 Al2O3이다.On the other hand, the abrasive A used in the sand blasting apparatus of FIG. 2 is SiO 2 or Al 2 O 3 .

도 2와 같은 본 발명의 실시예에 따른 샌드블라스트 장치의 구동을 설명하면 다음과 같다.Referring to the driving of the sandblasting apparatus according to an embodiment of the present invention as shown in FIG.

먼저, 연삭 대상물이 도포되어 있는 기판(101)을 연삭조(100)에 로딩시킨 상태에서, 분사노즐(102)로부터 연마재(A)를 분사시켜 연삭 대상물에 대한 연삭 공정을 실시하고, 이어서, 연삭조(102)에 공기를 주입하여 연마재(A)와 연삭물(B)을 제1 고무관(151)으로 배출시킨다. 이때, 기판(101)의 표면에 잔류되는 연마재(A)를 제거하기 위해서, 제1 전자석(161)에 자장을 가하며, 이에 따라, 기판(101)의 표면에 잔류되어 있는 연마재(A)는 기판(101)의 표면으로부터 분리된다.First, in the state in which the substrate 101 on which the grinding object is coated is loaded into the grinding tank 100, the abrasive A is sprayed from the injection nozzle 102 to perform the grinding step on the grinding object, and then grinding. Air is injected into the tank 102 to discharge the abrasive A and the abrasive B into the first rubber tube 151. At this time, in order to remove the abrasive A remaining on the surface of the substrate 101, a magnetic field is applied to the first electromagnet 161, whereby the abrasive A remaining on the surface of the substrate 101 is a substrate. It is separated from the surface of 101.

이후, 제1 전자석(161)에 인가된 자장을 제거하여 나머지 연마재(A)를 제1 고무관(151)으로 배출시킨다. 자세하게, 제1 전자석(161)에 인가되어 있는 자장을 제거하게 되면, 연삭조(100)의 내측면에 달라붙어 있는 연마재(A)는 연삭조(100) 내부에 주입된 공기의 흐름에 의해 기판(101) 표면에 다시 달라붙지 않고 제1 고무관(151)쪽으로 배출된다.Thereafter, the magnetic field applied to the first electromagnet 161 is removed to discharge the remaining abrasive A into the first rubber tube 151. In detail, when the magnetic field applied to the first electromagnet 161 is removed, the abrasive A sticking to the inner surface of the grinding tank 100 is a substrate by the flow of air injected into the grinding tank 100. It is discharged toward the first rubber tube 151 without sticking to the surface 101 again.

다음으로, 제1 고무관(151)으로 배출된 연마재(A) 및 연삭물(B)은 공기의 흐름에 의해 제1 고무관(151)을 통과하여 싸이클론(110)으로 흐르고, 싸이클론(110)의 원심분리 동작에 의해 연마재(A)와 연삭물(B)이 분리된다. 이때, 분리된 연마재(A)는 제2 고무관(152)을 통과하여 제1 회수조(120)로 이동하여 1차 집진되고, 분리되지 못하고 연삭물(B)에 섞여 싸이클론(110)으로부터 배출되는 연마재(A)와 연삭물(B)은 제4 고무관(154)으로 배출된다.Next, the abrasive (A) and the abrasive (B) discharged to the first rubber tube 151 passes through the first rubber tube 151 by the flow of air to the cyclone 110, the cyclone 110 The abrasive A and the abrasive B are separated by centrifugation. At this time, the separated abrasive (A) is passed through the second rubber tube 152 to the first recovery tank 120, the first dust is collected, and can not be separated, mixed with the grinding material (B) and discharged from the cyclone (110) The abrasive A and the abrasive B to be discharged are discharged to the fourth rubber tube 154.

한편, 제1 회수조(120)에 1차 집진된 연마재(A)는 제3 고무관(153)을 통해 분사노즐(102)로 이동하여 재사용된다.Meanwhile, the abrasive A primarily collected in the first recovery tank 120 may be reused by moving to the injection nozzle 102 through the third rubber pipe 153.

다음으로, 제4 고무관(154)을 통과하는 미집진된 연마재(A)와 연삭물(B)중에서 미집진된 연마재(A)를 회수하기 위해 제2 회수조(130)의 하측부에 부착된 제2 전자석(162)에 자장을 인가한다. 이때, 인가된 자장에 의해 미집진된 연마재(A)는 제2 회수조(130)로 집진된다.Next, attached to the lower side of the second recovery tank 130 to recover the undusted abrasive A and the abrasive A from the abrasive (B) passing through the fourth rubber tube 154. The magnetic field is applied to the second electromagnet 162. At this time, the abrasive A not collected by the applied magnetic field is collected in the second recovery tank 130.

그리고, 제2 회수조(130)에 회수된 연마재는 제2 전자석(162)의 전원을 차단하여 자력을 제거한 후에 모터 구동에 의한 공급시스템(도시 생략)을 통하여 연마재 보충용 탱크 또는 제1 회수조(120)로 공급한다. 이때, 제1 회수조(120)와 제2 회수조(130)는 제6 고무관(156)으로 서로 연결되고 있다.Then, the abrasive recovered in the second recovery tank 130, after removing the magnetic force by cutting off the power supply of the second electromagnet 162, the tank for refilling the abrasive or the first recovery tank (not shown) through a motor-driven supply system (not shown) 120). At this time, the first recovery tank 120 and the second recovery tank 130 are connected to each other by a sixth rubber tube (156).

한편, 자장의 영향을 받지 않는 연삭물(B)은 계속해서 제2 회수조(130)와 폐수조(140) 사이에 연결된 제5 고무관(155)을 통해 폐수조(140)로 집진된다.On the other hand, the abrasive (B) is not affected by the magnetic field is continuously collected in the waste water tank 140 through the fifth rubber tube 155 connected between the second recovery tank 130 and the waste water tank 140.

전술한 바와 같이, 본 발명은 자성체 물질을 연마재(A)에 혼합하지 않으면서도 싸이클론(110)을 이용하여 1차로 연마재(A)를 회수하고 싸이클론(110)에서 미처 회수되지 못한 연마재(A)를 싸이클론(110)과 폐수조(140) 사이에 구비된 제2 회수조(130)의 하측부에 제2 전자석(162)을 설치하여 2차로 회수함에 따라 연마재의 회수율이 높다.As described above, the present invention recovers the abrasive A first by using the cyclone 110 without mixing the magnetic material with the abrasive A, and then recovers the abrasive A without being recovered from the cyclone 110. ), The second electromagnet 162 is installed on the lower side of the second recovery tank 130 provided between the cyclone 110 and the waste water tank 140 to recover the secondary material.

또한, 연마재(A)를 흡착시킬 수 있는 제1 전자석(161)을 연삭조(100)에 부착시킬 경우에는 기판(101)의 표면에 연마재(A)가 잔류되어 패널의 오염이 야기되는 것을 방지할 수 있으며, 아울러, 연마재(A)와 연삭물(B)간의 분리를 보다 용이하게 실시할 수 있게 된다.In addition, when the first electromagnet 161 capable of adsorbing the abrasive A is attached to the grinding bath 100, the abrasive A remains on the surface of the substrate 101 to prevent contamination of the panel. In addition, the separation between the abrasive (A) and the abrasive (B) can be performed more easily.

도 2는 샌드블라스트 가공후의 패널에 부착된 오염을 방지하기 위한 방법을 도시한 도면이다.FIG. 2 shows a method for preventing contamination attached to a panel after sandblasting.

도 2에 도시된 바와 같이, 샌드블라스트 가공이 이루어진 패널, 예컨대 배면기판(200)을 반송롤러(201)에 의해 배출시킬 때, 배출구(202)에 이르기전 배면 기판(200)의 상하부에 전자석(203)을 설치하고, 배면 기판(200)이 배출구에 이르면 전자석(203)에 전원을 공급하여 배면 기판(200)에 흡착되어 있는 연마재(A)를 전자석(203)에 흡착시키고, 배면기판(200)의 배출이 완료된후 전자석(203)의 자력을 차단하여 연마재(A)를 회수한다.As shown in FIG. 2, when the sandblasted panel, for example, the rear substrate 200 is discharged by the transfer roller 201, an electromagnet (upper and lower portions of the rear substrate 200 before reaching the discharge port 202) may be used. 203 is provided, and when the rear substrate 200 reaches the discharge port, power is supplied to the electromagnet 203 to adsorb the abrasive A adsorbed on the rear substrate 200 to the electromagnet 203, and the rear substrate 200 is provided. After the discharge of the) is completed, the magnetic force of the electromagnet 203 is cut off to recover the abrasive (A).

위와 같이, 가공물인 플라즈마 디스플레이 패널에 부착되어 패널의 오염과 설비 주변의 오염이 발생하여 제품의 결함을 유도하므로 샌드블라스트 가공후 패널의 배출구 상하부에 전자석을 설치하여 패널에 부착된 연마재를 회수하므로써 연마재의 손실, 제품의 오염 및 설비 주변의 오염을 방지한다.As described above, it is attached to the plasma display panel, which is a work piece, and the contamination of the panel and the surroundings of the equipment are generated to induce defects of the product. To prevent the loss of product, contamination of the product and contamination around the equipment.

본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.Although the technical idea of the present invention has been described in detail according to the above preferred embodiment, it should be noted that the above-described embodiment is for the purpose of description and not of limitation. In addition, those skilled in the art will understand that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.

상술한 본 발명은 싸이클론을 이용하여 1차로 연마재를 회수하고, 전자석을 이용한 자장에 의해 2차로 연마재를 회수하는 두 번의 연마재 회수 과정을 진행함에 따라 연마재의 회수율을 향상시킬 수 있어 비용 절감의 효과를 구현할 수 있다.According to the present invention, the recovery rate of the abrasive can be improved by recovering the abrasive two times by recovering the abrasive first by using the cyclone and recovering the abrasive second by the magnetic field using an electromagnet. Can be implemented.

또한, 기판의 표면에 연마재가 잔류되는 것을 방지할 수 있기 때문에 이러한 연마재에 의해 패널이 오염되는 것을 방지할 수 있으며, 이로써 플라즈마 디스플레이 패널의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, since the abrasive can be prevented from remaining on the surface of the substrate, it is possible to prevent the panel from being contaminated by such abrasive, thereby improving the reliability of the plasma display panel.

Claims (4)

연삭 대상물이 도포된 기판이 놓여져 상기 연삭 대상물에 대한 연삭 공정이 실시되는 연삭조;A grinding tank on which a substrate to which a grinding object is applied is placed so that a grinding process for the grinding object is performed; 상기 연삭조 내에 구비되어 상기 연삭 대상물에 연마재를 분사시키는 분사 노즐;An injection nozzle provided in the grinding bath to inject abrasive into the grinding object; 상기 연삭 공정에서 사용된 연마재가 상기 기판의 표면에 잔류되는 것을 방지하기 위하여 상기 연삭조의 외측에 부착되는 한 쌍의 제1 전자석;A pair of first electromagnets attached to an outer side of the grinding bath to prevent the abrasive used in the grinding process from remaining on the surface of the substrate; 상기 연삭 공정에서 사용된 연마재와 상기 연삭공정에서 연삭된 연삭물을 분리시키는 싸이클론;A cyclone for separating the abrasive used in the grinding process and the grinding material ground in the grinding process; 상기 싸이클론에서 분리된 연마재가 1차 집진되는 제1 회수조;A first recovery tank in which the abrasive separated in the cyclone is first collected; 상기 제1 회수조에서 미집진된 연마재와 상기 연삭물을 분리시키는 제2 전자석;A second electromagnet separating the abrasive and the grinding material which are not collected in the first recovery tank; 상기 제2 전자석에 의해 분리된 미집진된 연마재가 2차 집진되는 제2 회수조; 및A second recovery tank in which the undusted abrasive separated by the second electromagnet is collected secondary; And 상기 제2 전자석에 의해 분리된 상기 연삭물이 집진되는 폐수조Waste water tank in which the grinding material separated by the second electromagnet is collected 를 포함함을 특징으로 하는 샌드 블라스트 장치.Sandblasting apparatus comprising a. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제2 전자석은 상기 제2 회수조의 하측부에 부착된 것을 특징으로 하는 샌드 블라스트 장치.And said second electromagnet is attached to a lower side of said second recovery tank. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 연삭조와 상기 싸이클론을 상호 연결시키는 제1 고무관;A first rubber tube interconnecting the grinding bath and the cyclone; 상기 싸이클론과 상기 제1 회수조를 상호 연결시키는 제2 고무관;A second rubber tube interconnecting the cyclone and the first recovery tank; 상기 제1 회수조와 상기 분사노즐을 상호 연결시키는 제3 고무관;A third rubber tube connecting the first recovery tank and the injection nozzle to each other; 상기 싸이클론과 상기 제2 회수조를 상호 연결시키는 제4 고무관;A fourth rubber tube interconnecting the cyclone and the second recovery tank; 상기 제2 회수조와 상기 폐수조를 상호 연결시키는 제5 고무관; 및A fifth rubber tube interconnecting the second recovery tank and the waste water tank; And 상기 제2 회수조와 상기 제1 회수조를 상호 연결시키는 제6 고무관A sixth rubber tube interconnecting the second recovery tank and the first recovery tank 을 더 포함함을 특징으로 하는 샌드 블라스트 장치.Sandblasting apparatus further comprises a. 제3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 제2 회수조에 2차 집진된 연마재는 상기 제2 전자석의 전원을 차단한 후, 상기 제6 고무관을 통해 상기 제1 회수조로 공급하는 것을 특징으로 하는 샌드 블라스트 장치.Sand abrasive apparatus, characterized in that the secondary dust collected in the second recovery tank is supplied to the first recovery tank through the sixth rubber tube after the power supply of the second electromagnet is cut off.
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