KR20040037162A - 불소 가스에 의한 세정 기구를 구비하는 cvd 장치 및cvd 장치의 불소 가스에 의한 세정 방법 - Google Patents
불소 가스에 의한 세정 기구를 구비하는 cvd 장치 및cvd 장치의 불소 가스에 의한 세정 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (20)
- 반응 챔버 내에, 반응 가스를 공급하여, 반응 챔버 내에 배치한 기재 표면 상에 퇴적막을 형성하는 CVD 장치로써,불소 화합물에 에너지를 부여하고, 상기 불소 화합물을 반응시켜, 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 생성하는 에너지 인가 장치와,상기 에너지 인가 장치에 의해 생성된 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 분리하여, 불소 가스 성분을 분리 정제하는 불소 가스 농축·분리 정제 장치를 구비하는 불소 가스 발생 장치를 포함하며,상기 CVD 장치에 의해 기재의 성막 처리를 행한 후에, 상기 불소 가스 발생 장치가 분리 정제한 불소 가스를 플라즈마화하여, 반응 챔버 내에 부착된 부생성물을 제거하도록 구성됨을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 에너지 인가 장치가, 상기 불소 화합물을 가열함으로써, 상기 불소 화합물을 반응시켜, 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 생성하도록 구성됨을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 에너지 인가 장치가, 상기 불소 화합물에 플라즈마를 인가함으로써, 상기 불소 화합물을 반응시켜, 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 생성하도록 구성됨을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 에너지 인가 장치가, 상기 불소 화합물을 촉매에 의해 반응시켜, 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 생성하도록 구성됨을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 가스 농축·분리 정제 장치가, 냉각에 의한 끓는점의 차를 이용하여, 불소 가스 성분을 불소 가스 성분 이외의 성분으로부터 분리하도록 구성됨을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 질소를 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 염소를 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 요오드를 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 황을 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 탄소를 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 세정 기구를 구비하는 CVD 장치.
- 반응 챔버 내에, 반응 가스를 공급하여, 반응 챔버 내에 배치한 기재 표면 상에 퇴적막을 형성하는 CVD 장치의 세정 방법으로써,불소 화합물에 에너지를 부여하고, 상기 불소 화합물을 반응시켜 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 생성하고,상기 생성된 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 분리하여, 불소 가스 성분을 분리 정제하고,상기 CVD 장치에 의해 기재의 성막 처리를 행한 후에, 상기 분리 정제된 불소 가스를 플라즈마화하여, 반응 챔버 내에 부착된 부생성물을 제거함을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 불소 화합물을 가열함으로써, 상기 불소 화합물을 반응시켜, 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 생성함을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 불소 화합물에 플라즈마를 인가함으로써, 상기 불소 화합물을 반응시켜, 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 생성함을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 불소 화합물을 촉매에 의해 반응시켜, 불소 가스 성분과 불소 가스 성분 이외의 성분을 생성함을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 냉각에 의한 끓는점의 차를 이용하여, 불소 가스 성분을 불소 가스 성분 이외의 성분으로부터 분리하도록 구성됨을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 질소를 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 염소를 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 요오드를 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 황을 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
- 제 11 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 화합물이, 탄소를 함유하는 불소 화합물인 것을 특징으로 하는 CVD 장치의 세정 방법.
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