KR200240406Y1 - Light-Shielding Plastic Container for High-Purity Chemicals - Google Patents
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Abstract
본 고안은 중화제, 산화방지제 및 자외선 안정제로 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 첨가제가 각각 0.1중량% 이하로 함유되고, 비등 n-헥산에 의해 추출되는 추출물 함량이 0.1중량% 이하인 폴리올레핀〔A〕100중량부; 폴리아마이드, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 폴리에스테르, 폴리페닐렌옥사이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 수지 혼합물 100중량부에 대해 차광성 첨가제 5∼50중량부를 첨가하여 제조된 차단성 수지 조성물〔B〕2∼25중량부; 및 상용화제〔C〕0.5∼10중량부로 구성된 수지조성물을 사용하여 압출블로우 가공기를 통해 성형된 차광성 청정 플라스틱 용기, 또는 상기 수지조성물로 이루어진 외층; 및 폴리올레핀〔A〕로 이루어진 내층으로 구성되고 압출블로우 가공에 의해 제조되는 차광성 청정 플라스틱 용기를 제공한다.The present invention is a polyolefin [A] having 0.1% by weight or less of each of one or more additives selected from the group consisting of a neutralizer, an antioxidant, and an ultraviolet stabilizer, and an extract content of 0.1% by weight or less, which is extracted by boiling n-hexane. 100 parts by weight; A barrier prepared by adding 5 to 50 parts by weight of a light-shielding additive to 100 parts by weight of at least one resin mixture selected from the group consisting of polyamide, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyester and polyphenylene oxide. 2-25 weight part of resin composition [B]; And a light-shielding clean plastic container molded through an extrusion blow processor using a resin composition composed of 0.5 to 10 parts by weight of a compatibilizer [C], or an outer layer formed of the resin composition. And an inner layer made of polyolefin [A], and provide a light-shielding clean plastic container manufactured by extrusion blow processing.
Description
본 고안은 고순도 화학물질을 보관하기에 적합한 플라스틱 용기에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 광민감성 고순도 화학 약품을 보관하기에 적합한 플라스틱 재질의 용기에 관한 것이다.The present invention relates to a plastic container suitable for storing high purity chemicals, and more particularly, to a plastic container suitable for storing photosensitive high purity chemicals.
일반적으로, 플라스틱 재질의 용기는 가볍고 기계적 물성이 우수하며 내약품성을 지니고 있을 뿐 아니라, 위생적이고 성형성이 우수하면서도 값이 저렴한 장점을 가지므로, 통상 압출 블로우 성형법에 의해 널리 제조 및 사용되고 있다. 특히청정성 플라스틱 용기는 최근 반도체 산업, 액정 디스플레이(LCD)산업 등에 사용되는 고순도 약품용 용기 또는 의료용 약품을 보존하기 위한 의료용 용기분야에 있어서 그 사용량이 급증하고 있다.In general, plastic containers are not only lightweight, have excellent mechanical properties and chemical resistance, but also have advantages of being hygienic and excellent in moldability and inexpensive, and thus are commonly manufactured and used by extrusion blow molding. In particular, the use of clean plastic containers is rapidly increasing in the field of high-purity chemical containers used in the semiconductor industry, liquid crystal display (LCD) industry, or the medical container for preserving medical drugs.
플라스틱 용기의 청정성은 고순도 약품을 용기에 장기간 저장하는 동안에 용기로부터 약품중으로 불순 미립자가 침출하여 약품을 불순화하는 정도로서 나타내는 것인데, 이러한 청정성 정도, 즉 청정도는 통상 미립자 수와 잔류 금속함량 2가지로 평가하고 있다. 즉, 용기에 일정기간 초순수를 저장한 후, 저장되어 있는 물 1㎖중에 입경 0.2㎛ 또는 0.3㎛ 이상인 미립자가 몇 개 존재하는가를 산정하여 산출된 미립자 수와, 고순도 약품을 일정기간 용기에 저장한 후 저장되어 있는 약품에 의해 침출되는 잔류 금속함량으로부터 구한다. 즉, 용기의 청정도는 고순도 약품 자체만의 청정도를 측정하고, 그 약품을 용기에 일정 기간 저장한 후 청정도를 측정한 뒤, 그 차이에 따라 용기 자체에 의해 오염되는 정도를 평가함으로써 산정될 수 있다.The cleanliness of a plastic container is expressed as the degree to which impurities are leached from the container into the chemical during the long-term storage of high purity chemicals in the container, and the degree of cleanness, that is, the cleanliness, is usually evaluated by the number of particulates and the residual metal content. Doing. That is, after storing the ultrapure water for a certain period of time in the container, the number of particles calculated by calculating the number of particles having a particle diameter of 0.2 μm or 0.3 μm or more in 1 ml of stored water, and the high purity chemicals stored in the container for a period of time It is then obtained from the residual metal content leached by the stored chemicals. That is, the cleanliness of the container can be calculated by measuring the cleanliness of the high-purity drug itself, storing the drug in the container for a period of time, measuring the cleanliness, and evaluating the degree of contamination by the container itself according to the difference. .
그런데, 고순도에 적합한 미립자수는 구체적인 특정 국제규격이 없고, 고순도 약품별, 업체 관리기준치별 차이가 다양하다. 즉, 가령 반도체 시약용 약품의 경우 반도체 제조공정중 어떤 용도로, 어떤 공정에 사용되는가에 따라 다르고, 해당 반도체가 64M급인가 256M급인가의 여부에 따라서도 달라지기 때문에 일반적으로 규정하기 어려우나, 대체로 0.2㎛ 입자를 기준으로 ㎖당 최소 100개 이하의 수준이 요구된다.However, the number of fine particles suitable for high purity does not have a specific international standard, and there are various differences between high purity drugs and company management standard values. In other words, it is generally difficult to specify the chemicals for semiconductor reagents because they depend on what the semiconductor manufacturing process is used for, what process, and whether the semiconductor is 64M or 256M class. At least 100 levels per ml are required based on 0.2 μm particles.
또한, 약품의 보관, 수출시 지체기간 등을 고려하여 약 6개월 정도의 장기보관시 담는 약품에 의해 침출되는 잔류 금속함량을 볼 때, 약품 종류별, 그 등급 및 요구 수준이 매우 큰 차이가 있으나, 최근 반도체, LCD 등 기술의 급속한 발달로 심지어 ppt 수준까지 요구하고 있는 추세이다.In addition, considering the residual metal content leached by the drug contained in the long-term storage of about 6 months in consideration of the storage period of the drug storage, export, etc., there is a great difference by the type of drug, its grade and the required level, Recently, due to the rapid development of technology such as semiconductor and LCD, it is demanding even ppt level.
한편 빛에 민감한 고순도 약품의 대표격인 포토레지스트(Photoresist)는 화상형성용의 사진 식각에 사용되는 감광성 고분자를 일컫는 것으로, 미크론(㎛) 이하의 미세 형상의 구현이 요구되는 반도체 제조공정에 필수적인 재료이며, 이 외에도 평판 디스플레이 제조, 인쇄분야, 인쇄회로기판, 정밀금속 가공제품 제조 등, 산업전반에 널리 사용되고 있다. 반도체 산업, 액정 디스플레이 산업 등의 급성장과 더불어 급신장중인 이러한 포토레지스터에 필요한 핵심 소모성 부품이 바로 차광성 청정 용기이다.On the other hand, photoresist, which is representative of light-sensitive high-purity chemicals, refers to a photosensitive polymer used for photolithography for image forming, and is an essential material for a semiconductor manufacturing process that requires the realization of a micron or less micron. In addition, it is widely used throughout the industry, such as flat panel display manufacturing, printing, printed circuit boards, precision metal processed products manufacturing. Along with the rapid growth of the semiconductor industry and the liquid crystal display industry, the key consumable parts required for such a rapidly growing photoresist are light-shielding clean containers.
포토레지스터는 대체로 약산성으로서, 바인더와 함께 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트 등의 용매에 용해된 일종의 조성물 상태로 통상적으로 시판되는데, 우선 빛에 민감하다는 포토레지스터의 기본 특성상 이를 담는 용기는 빛을 차단하는 차광성이 요구된다. 차광성에 대해서는 어느 정도 차광 효과가 있어야 하는지 특정 규정은 없는 실정이지만, 실제 반도체 공정에 관련되는 영역인 400nm 이하 파장대의 최저 흡광도[흡광도=2-log투과도(%)]가 통상 2.0 이상(투과도 1.0% 이하)일 것이 요구되고 있다. 또한 전체 조성중 약 70∼80%나 차지하는 용매가 용기외부로 확산 배출되면 약품 조성이 바뀌어 품질이 손상되는 심각한 문제가 발생되므로, 용매에 대한 차단성이 역시 요구되며, 미세 반도체 회로의 제조에 사용되는 경우에는 눈에 보이지 않는 극미세 먼지도 없고, 약품에 침출되는 금속성분 등이 없어야 하는 등 청정성이 요구된다. 이러한 차원에서, 자외선 차단성 갈색 유리용기가 오래 전부터 양호한 소재로서 사용되어 왔다.The photoresist is generally weakly acidic, and is generally marketed as a kind of composition dissolved in a solvent such as propylene glycol methylethyl acetate together with a binder.First, a container containing the light is blocked by light due to the basic characteristics of the photoresist that is sensitive to light. Is required. There is no specific regulation on the degree of light shielding, but the lowest absorbance (absorbance = 2-log transmittance (%)) in the wavelength range of 400 nm or less, which is related to the actual semiconductor process, is usually 2.0 or more (transmission 1.0). % Or less) is required. In addition, when the solvent, which accounts for about 70 to 80% of the total composition, is diffused and discharged out of the container, a serious problem occurs in that the chemical composition is changed and the quality is impaired. Therefore, the barrier property to the solvent is also required. In this case, cleanliness is required such that there is no invisible ultra-fine dust and there should be no metal component leaching into the chemical. In this respect, UV-blocking brown glass containers have long been used as good materials.
그러나, 이러한 병은 양호한 자외선 차단성에도 불구하고 내충격성이 매우 불량하여 예컨대 충격이나 낙하시에 파손되기 쉬운 점이 큰 결점으로 대두되었고, 유리의 가공기술 한계로 인해 현재 주로 사용되고 있는 용기의 최대 용량이 기껏해야 1gal(3.785ℓ) 정도에 미치지 못하여 용기의 대형화에 큰 지장이 되고 있으므로 이를 개선할 수 있는 소재의 출현이 절실히 요구되어 왔다.However, these bottles have a high drawback in that they are very poor in impact resistance in spite of good UV protection, for example, they are easily damaged during impact or dropping. At most, less than 1 gal (3.785 ℓ) is a major obstacle to the enlargement of the container, so the emergence of a material that can improve this has been urgently required.
이러한 결점을 해결하는 수단으로 급부상하게 된 용기가 바로 플라스틱을 소재로 한 차광성 청정 용기이다. 그 일례로서 예컨대 미국특허 제 5,102,010호 및 제 5,031,801호에 소개된 미국 나워테크놀로지사의 차광성 청정 플라스틱 용기이다. 이는 차광성 첨가제가 처방된 폴리에틸렌 용기에 청정 불소수지(주로 폴리테트라플루오르에틸렌) 필름을 내재시킨 형태의 용기이다.A container that has emerged as a means to solve the above drawback is a light-shielding clean container made of plastic. An example is a light-shielding clean plastic container of Nowaer Technologies, USA, which is introduced, for example, in US Pat. Nos. 5,102,010 and 5,031,801. This is a type of container in which a clean fluororesin (mainly polytetrafluoroethylene) film is embedded in a polyethylene container prescribed a light-shielding additive.
그러나 이 용기는 낙하 내충격성은 매우 우수한 점은 있으나, 제조공정이 복잡하고 극히 고가의 불소수지 필름을 사용하기 때문에, 기존의 차광성 청정 갈색병 대비 가격이 비싸다는 문제로 현재는 극히 제한적으로만 사용되고 있다.However, this container has excellent drop resistance, but because of the complicated manufacturing process and the use of extremely expensive fluorine resin film, the container is currently used in a very limited amount due to its high cost compared to a conventional light-shielding clean brown bottle. have.
이에 따라, 일본 아이세로화학사는 일본공개특허공보 평7-330074호에서와 같이 고밀도 폴리에틸렌에 산화티탄, 카아본블랙 등의 차광성 첨가제를 단순첨가한 수지조성물을 이용하는 플라스틱 용기의 제조법을 제시하고 있는데, 이 용기는 폴리에틸렌에 대한 차광성 첨가제의 분산 상태가 불량하여 차광효과가 만족스럽지 않고, 이를 보강하기 위해서는 차광성 첨가제를 다량 처방해야 하는데 이 경우 차광성 첨가제가 용기내부 벽에 노출되어 포토레지스트 등 약품을 오염시키는 문제점이 제기되며, 포토레지스터 약품내의 용매에 대한 차단성이 열악하여 약품의 조성이 변질되는 점이 큰 문제점으로 지적되었다.Accordingly, Japan's Aisero Chemicals Co., Ltd. proposes a method of manufacturing a plastic container using a resin composition obtained by simply adding a light-shielding additive such as titanium oxide and carbon black to high density polyethylene as in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-330074. In addition, this container is not satisfactory due to poor dispersion state of the light-shielding additives to polyethylene, and in order to reinforce it, a large amount of light-shielding additives must be prescribed. It is pointed out that the problem of contaminating the drug is raised, and the composition of the drug is altered due to poor barrier property to the solvent in the photoresist drug.
이러한 문제점을 개량하기 위해, 일본공개특허공보 평 11-290420호에서는, 공압출 블로우 가공방법에 의해, 폴리올레핀계 수지로 형성된 내층, 용매 차단성이 우수한 폴리아마이드, 폴리비닐알코올 등의 수지로 형성된 중간층, 차광성 첨가제가 함유된 수지로 형성된 외층, 그리고 층간의 박리를 방지하기 위한 2개의 접착제 층으로 구성된 소위 5층으로 된 신규의 차광성 청정 플라스틱용기의 제조방법을 제시하였다. 그러나 이러한 용기의 경우, 낙하 내충격성은 상기 병과 비교해볼 때 만족할만하나, 매우 고가의 접착제 및 공압출기를 사용해야 하는 부담이 있을뿐더러, 압출가공비가 높은 문제로 인해 기존의 차광성 청정 갈색병 대비 가격 경쟁력이 떨어지는 문제가 생겨 이의 개선이 절실히 요청되어왔다.In order to improve this problem, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 11-290420 discloses an interlayer formed of a resin such as polyamide-based resin, polyamide alcohol, polyvinyl alcohol, etc., having an inner layer formed of a polyolefin resin by a coextrusion blow processing method. A novel method for manufacturing a light-shielding clean plastic container comprising five layers consisting of an outer layer formed of a resin containing a light-shielding additive and two adhesive layers to prevent delamination between layers is proposed. However, in such containers, drop impact resistance is satisfactory compared to the above bottle, but there is a burden of using a very expensive adhesive and co-extruder, and the cost competitiveness compared to the existing light-shielding clean brown bottle due to the high extrusion processing cost. This falling problem has arisen, and its improvement has been urgently requested.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 본 고안자들은 예의 연구를 거듭한 결과, 제조 비용이 저렴하고 내충격성이 우수하면서도, 광민감성 고순도 약품의 보관에 적합한 플라스틱 용기를 제공하게 되어 본 고안을 완성하게 되었다.In order to solve the above problems, the present inventors have earned a lot of research, as a result of providing a plastic container suitable for the storage of light-sensitive high-purity chemical drugs while having low manufacturing cost and excellent impact resistance, thereby completing the present invention.
도 1은 본 고안의 바람직한 일실시예에 따라 성형된 용기를 도시한 것이고,1 illustrates a container shaped according to a preferred embodiment of the present invention,
도 2는 본 고안의 바람직한 일실시예에 따라 성형된 용기의 단면을 확대 도시한 주사 전자현미경(SEM) 사진이다.Figure 2 is a scanning electron microscope (SEM) picture showing an enlarged cross-section of the container formed in accordance with a preferred embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
1 : 차단성 수지조성물〔B〕층1: Barrier Resin Composition [B] Layer
2 : 폴리올레핀〔A〕매트릭스 층2: polyolefin [A] matrix layer
본 고안은 기존의 차광성 청정 갈색병 대비 가격이 저렴하면서도 낙하 내충격성 및 빛과 용매에 대한 차단성이 우수하며, 빛에 민감한 고순도 약품을 담기에 적합한 신규의 플라스틱 용기에 관한 것이다.The present invention relates to a novel plastic container suitable for containing high-purity chemicals sensitive to light, which is inexpensive compared to existing light-shielding clean brown bottles but has excellent impact resistance against dropping and light and solvents.
즉, 본 고안은 중화제, 산화방지제, 자외선 안정제 등으로 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 첨가제가 각각 0.1중량% 이하로 함유되고, 비등 n-헥산에 의해 추출되는 추출물 함량이 0.1중량% 이하인 폴리올레핀〔A〕100중량부; 폴리아마이드, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 폴리에스테르, 폴리페닐렌옥사이드로 이루어지는 군으로부터 선택된 1종 이상의 수지 100중량부에 대해 차광성 첨가제 5∼50중량부를 첨가하여 제조된 차단성 수지조성물〔B〕2∼25중량부; 및 상용화제〔C〕0.5∼10중량부로 구성된 수지조성물을 사용하여, 압출블로우 가공기를 통해 제조하는 것을 특징으로 하는 차광성 청정 플라스틱용기 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.That is, the present invention contains at least 0.1% by weight of one or more additives selected from the group consisting of neutralizers, antioxidants, UV stabilizers and the like, and the polyolefin having an extract content of 0.1% by weight or less extracted by boiling n-hexane. [A] 100 parts by weight; Blocking resin prepared by adding 5 to 50 parts by weight of a light-shielding additive to 100 parts by weight of at least one resin selected from the group consisting of polyamide, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyester, and polyphenylene oxide 2 to 25 parts by weight of the composition [B]; And a resin composition composed of 0.5 to 10 parts by weight of a compatibilizer [C], to provide a light-shielding clean plastic container, and a method for producing the same, which is produced through an extrusion blow processing machine.
본 고안의 또 하나의 양태는 중화제, 산화방지제, 자외선안정제 등으로 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 첨가제가 각각 0.1중량% 이하로 함유되고, 비등 n-헥산에 의해 추출되는 추출물 함량이 0.1중량% 이하인 폴리올레핀〔A〕100중량부; 폴리아마이드, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 폴리에스테르, 폴리페닐렌옥사이드중에서 하나 이상 선택된 수지 100중량부에 대해 차광성 첨가제 5∼50중량부를 첨가하여 제조된 차단성 수지조성물〔B〕2∼25중량부; 및 상용화제〔C〕0.5∼10중량부로 구성된 수지 조성물을 외층에 사용하고 상기 폴리올레핀〔A〕만을 내층에 사용하여, 압출블로우 가공기를 통해 제조하는 것을 특징으로 하는 차광성 청정 플라스틱 용기 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another embodiment of the present invention contains at least 0.1% by weight of one or more additives selected from the group consisting of neutralizers, antioxidants, UV stabilizers and the like, and 0.1% by weight of the extract extracted by boiling n-hexane. 100 weight part of polyolefin [A] which is% or less; Blocking resin composition prepared by adding 5 to 50 parts by weight of a light-shielding additive to 100 parts by weight of a resin selected from at least one of polyamide, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyester, and polyphenylene oxide [B] 2 to 25 parts by weight; And a resin composition composed of 0.5 to 10 parts by weight of a compatibilizer [C] for the outer layer, and using only the polyolefin [A] for the inner layer, and manufacturing the light-shielding clean plastic container characterized in that it is produced through an extrusion blow processing machine. To provide.
본 고안에 있어서 폴리올레핀으로서는 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE, 에틸렌과 α-올레핀과의 공중합체), 프로필렌의 단독중합체, 에틸렌과 프로필렌의 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택된 1종 이상의 혼합물이 사용된다. 상기 α-올레핀은 탄소수 4∼8개의 α-올레핀으로서, 부텐-1, 헥센-1, 4-메틸펜텐-1, 옥텐-1중에서 선택된 하나 또는 그 이상이 선택된다. 이러한 폴리올레핀은 지글러-나타계 촉매, 크롬계 촉매, 메타로센계 촉매 등 어느 촉매에 의해 제조된 것이어도 무방하나, 잔류촉매가 극히 적어 용매에 의한 촉매의 금속성분 침출 가능성이 적은 메타로센 촉매계 폴리올레핀이 가장 바람직하고, 낙하 내충격성의 측면에서 볼 때 고밀도 폴리에틸렌이 가장 바람직하다.In the present invention, the polyolefin is selected from the group consisting of high density polyethylene (HDPE), low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE, copolymer of ethylene and α-olefin), homopolymer of propylene, and copolymer of ethylene and propylene. One or more mixtures selected are used. The α-olefin is an α-olefin having 4 to 8 carbon atoms, and at least one selected from butene-1, hexene-1, 4-methylpentene-1, and octene-1 is selected. The polyolefin may be produced by any catalyst such as a Ziegler-Natta catalyst, a chromium catalyst, a metalocene catalyst, but a metalocene catalyst polyolefin having a low residual catalyst and a low possibility of leaching the metal component of the catalyst by a solvent. This is most preferred, and high density polyethylene is most preferred in view of drop impact resistance.
본 고안에 사용되는 폴리올레핀은 분자량 수천의 올리고머 함유량의 지침이 되는 비등 n-헥산에 의해 추출되는 추출량이 0.1중량% 이하, 바람직하기로는 0.05중량% 이하인 것이 좋다. 비등 n-헥산에 의해 추출되는 저분자는 마치 파라핀계 왁스와 같은 것이 주성분으로 낙하 내충격성 약화는 물론 약품 저장시 매우 빠르게 약품으로 용출되어 미립자 발생 원인이 되어 약품을 오염시키고, 잔존 금속 및 첨가제 등의 용출도 가속화시키는 문제가 있다. 추출양이 0.1중량%를 초과하는 폴리올레핀을 사용하는 경우는 미립자 발생이 현저하게 되어 고순도 약품 용기용 수지로 사용하는 것이 곤란하여 본 고안에서는 이러한 수지를 사용하는 것은 적합하지 않다.The polyolefin used in the present invention preferably has an extraction amount of 0.1% by weight or less, preferably 0.05% by weight or less, which is extracted by boiling n-hexane as a guideline for the oligomer content of thousands of molecular weights. Low molecules extracted by boiling n-hexane are paraffin-based waxes, and the main ingredient is not only dropping impact resistance but also eluting into the chemical very quickly during chemical storage, causing microparticles to contaminate the chemicals and remaining metals and additives. There is also a problem that accelerates dissolution. In the case where polyolefin having an amount of extraction exceeding 0.1% by weight is used, the generation of fine particles becomes remarkable, and it is difficult to use it as a resin for a high purity chemical container, so it is not suitable to use such a resin in the present invention.
또한 본 고안에 사용되는 폴리올레핀에는 스테아린산 칼슘, 스테아린산 아연, 하이드로탈사이트 등의 중화제, 디부틸히드록시톨루엔, 펜타에리스틸-테트라키스〔3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트 등의 산화방지제, 2-(5-메틸-2-히드록실페놀)벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘)세바케이트 등의 자외선 안정제가 필요에 따라 적정량 첨가될 수 있는데, 그 첨가되는 첨가제의 총량은 폴리올레핀의 0.1중량% 이하로 하는 것이 좋다. 첨가량 총량이 0.1중량%를 초과하게 되면, 이러한 첨가물중 대부분이 분자량이 극히 낮은 관계로 고순도 약품에 쉽게 침출되어 결국 미립자로 작용하여 청정도를 불량하게 할 수도 있고, 일부 첨가제는 금속성분을 함유하고 있기 때문에 고순도 약품에 의한 침출 잔류금속 함량에도 치명적으로 작용해 청정도를 불량하게 하는 주원인이 될 수도 있다.In addition, polyolefins used in the present invention include neutralizing agents such as calcium stearate, zinc stearate, hydrotalcite, dibutylhydroxytoluene, pentaerythyl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydrate Antioxidants such as hydroxyphenyl) propionate, 2- (5-methyl-2-hydroxyphenol) benzotriazole, 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5- UV stabilizers, such as chlorobenzotriazole and bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine) sebacate, may be added as needed, and the total amount of the additives added is 0.1 It is good to set it as weight% or less. If the total amount exceeds 0.1% by weight, most of these additives are extremely low in molecular weight, so they may easily leach into high-purity chemicals and eventually act as fine particles, resulting in poor cleanliness, and some additives contain metals. Therefore, it may be fatal to the content of leaching residual metal by high purity chemicals, and may be the main cause of poor cleanliness.
본 고안에서는 용기의 용매에 대한 차단성을 부여하는 수지로서, 폴리아마이드, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 폴리에스테르, 폴리페닐렌옥사이드중에서 하나 또는 그 이상 선택된 수지를 사용한다. 통상 포토레지스트용 용매로는 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트 등 에스테르류, 메틸에틸케톤 등 케톤류, γ-부티로락톤 등의 락톤류 및 에틸셀루솔브아세테이트 등의 셀루솔브류가 단독 또는 혼합되어 사용되고 있는데, 사용되는 용매의 종류에 대응하여 상기 용매차단성 수지의 종류 및 양을 선택하는데, 가공성, 차단성능, 가격 등을 모두 고려할 때 폴리아마이드 또는 에틸렌-비닐알코올 공중합체가 보다 바람직하다.In the present invention, one or more resins selected from polyamide, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyester, and polyphenylene oxide are used as the resin for imparting barrier property to the solvent of the container. As a solvent for a photoresist, esters such as propylene glycol methyl ethyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, lactones such as γ-butyrolactone, and cellulsolves such as ethyl cellulsolve acetate are used alone or in combination. Although the type and amount of the solvent barrier resin are selected according to the type of solvent to be used, polyamide or ethylene-vinyl alcohol copolymer is more preferable in consideration of processability, barrier performance, price, and the like.
또한 본 고안에서는 용기의 빛에 대한 차단성, 즉 차광성을 부여하는 첨가제로서 카아본블랙, 산화티탄, 벵갈라, 이산화규소 등의 무기안료, 프탈로시아닌계, 키나크리돈계, 아조계의 유기 안료를 사용한다. 상기의 자외선 안정제를 차광성을 부여하는 보조제로 함께 사용해도 좋으나, 약품에 의한 침출 가능성이 높으므로 첨가량을 극히 제한할 필요가 있다.In addition, the present invention uses inorganic pigments such as carbon black, titanium oxide, bengal and silicon dioxide, phthalocyanine-based, kinacridone-based and azo-based organic pigments as additives for imparting light blocking property to the light of the container, that is, light shielding properties. do. Although the said ultraviolet stabilizer may be used together as an adjuvant which provides light-shielding property, since the possibility of leaching by a chemical is high, it is necessary to restrict | limit the addition amount extremely.
본 고안에서의 상용화제로는 에틸렌-비닐아세테이트 공중합체, 에틸렌-아크릴산 공중합체, 에틸렌-메타크릴산 공중합체, 에틸렌-알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-알킬메타크릴레이트 등 불포화 에스테르가 5∼40몰%로 에틸렌과 공중합된 중합체, 또는 무수 말레산, 말레산, 퓨마르산, 아크릴산, 메타크릴산, 비닐아세테이트, 아크릴아마이드, 메타크릴아마이드, 알킬아크릴레이트, 알킬메타크릴레이트 등 카르보닐기를 가진 단량체가 폴리올레핀에 0.1∼5.0중량부로 그라프트 된 중합체를 들 수 있는데, 이 중에서 무수 말레산이 그라프트된 폴리에틸렌이 가장 좋다.Compatibilizers in the present invention include 5 to 40 moles of unsaturated esters such as ethylene-vinylacetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-alkyl acrylate copolymer, ethylene-alkyl methacrylate, etc. Polyolefin is a polymer copolymerized with ethylene or a monomer having a carbonyl group such as maleic anhydride, maleic acid, fumaric acid, acrylic acid, methacrylic acid, vinyl acetate, acrylamide, methacrylamide, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, etc. And polymers grafted at 0.1 to 5.0 parts by weight, of which polyethylene is grafted with maleic anhydride.
본 고안의 핵심 해결수단은 대체로 친수성을 가진 차광성 첨가제를 친유성의 폴리올레핀 대비 친수성인 관계로 분산성인 우수한 상기 용매 차단성 수지내에 균일하게 분산시키고, 이렇게 얻어진 차단성 수지 조성물, 고순도 폴리올레핀 및 이들의 상용화제로 구성된 불균일 블렌드를 압출가공시켜, 용기 단면으로 보면 폴리올레핀 메트릭스에 수㎛ 두께의 수많은 판상으로 형성된 차단성 수지조성물층이 형성되는 소위 라미나 형태(Laminar Morphology)를 형성케 하고자 하는 것이다.The core solution of the present invention is to uniformly disperse the hydrophilic light-shielding additive in the solvent barrier resin, which is highly dispersible in the hydrophilic relationship with the hydrophilic polyolefin, and thus the barrier resin composition, the high-purity polyolefin, and their obtained The heterogeneous blend composed of the compatibilizer is extruded to form a so-called laminar morphology in which the barrier resin composition layer formed in numerous plates having a thickness of several μm is formed in the polyolefin matrix.
이렇게 하면 포토레지스트와 접촉하는 면은 청정성 손상 우려가 있는 차광성 첨가제 성분과 접촉하지 않고, 오로지 고순도 폴리올레핀과 접촉하게 되어 청정성이 부여되고, 소량의 첨가만으로 수많이 형성된 차단성 판에 의해 용매 및 빛에 대한 차단성이 부여됨과 동시에 공압출(coextrusion)이 아닌 단일 압출(single extrusion)가공으로 일종의 다층구조를 부여함으로써 높은 가공비 및 고가의 공압출기 투자에 의한 원가부담을 획기적으로 줄여지는 효과가 발생하는 것이다.In this way, the surface in contact with the photoresist does not come into contact with the light-shielding additive component which may damage the cleanliness, but only comes in contact with the high-purity polyolefin, thereby providing cleanliness, and the solvent and light are formed by the barrier plate formed by many additions with only a small amount. In addition to the barrier properties to a single extrusion process rather than coextrusion (single extrusion) as a kind of multi-layer structure by reducing the cost burden due to high processing costs and expensive co-extruder investment will be.
상기와 같은 해결수단에 의거하여, 본 고안에서는 폴리아마이드, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 폴리에스테르, 폴리페닐렌옥사이드 등 용매 차단성 100중량부에 대해 차광성 첨가제 5∼50중량부를 첨가하여 차단성 수지조성물 〔B〕를 얻는다. 5중량부 미만으로 첨가하면 차광성 효과가 떨어지고, 50중량부 이상 첨가하면 분산성이 떨어져서 결국 차단성이 효과적으로 발휘되지 않는다.Based on the above solutions, in the present invention, 5 to 50 parts by weight of light-shielding additives with respect to 100 parts by weight of solvent barrier properties such as polyamide, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyester, polyphenylene oxide, etc. It adds and the barrier resin composition [B] is obtained. If it is added less than 5 parts by weight, the light-shielding effect is inferior, and if it is added more than 50 parts by weight, the dispersibility is poor, eventually blocking properties are not effectively exhibited.
본 고안에서 추구하는 라미나 형태를 형성하기 위해서는 수지조성물의 조성을 폴리올레핀〔A〕100중량부에 대해 차단성 수지 조성물〔B〕2∼25중량부 및 상용화제〔C〕0.5∼10중량부로 구성하는 것이 좋고, 차단성 수지조성물〔B〕5∼15중량부 및 상용화제〔C〕1∼5중량부로 구성하는 것이 더욱 바람직하다. 차단성 수지조성물을 2중량부 미만으로 하면 청정성은 좋으나, 만족할만한 차단성을 얻을 수 없고, 25중량부를 초과하면 차단성은 우수해지나, 청정성이 다소 나빠지는 경향을 보인다.In order to form the lamina form pursued by the present invention, the composition of the resin composition is composed of 2 to 25 parts by weight of the barrier resin composition [B] and 0.5 to 10 parts by weight of the compatibilizer [C] based on 100 parts by weight of the polyolefin [A]. It is more preferable to comprise 5-15 weight part of barrier resin compositions [B], and 1-5 weight part of compatibilizers [C]. If the barrier resin composition is less than 2 parts by weight, the cleanliness is good, but satisfactory barrier properties cannot be obtained. If the barrier resin composition is more than 25 parts by weight, the barrier properties are excellent, but the cleanliness tends to be somewhat worse.
친유성인 폴리올레핀과 친수성인 차단성 수지조성물은 상용성이 나쁘므로 상용화제를 적절히 첨가해야 하는데, 상용화제를 0.5중량부 미만이 되면 상용성이 나빠 낙하 내충격성이 열악해지는 문제가 있고, 10중량부를 초과하게 되면 상용성이 너무 좋아져, 판상의 라미나 형태가 잘 형성되지 않아 원하는 차단성을 얻지 못하는 문제가 생긴다. 본 고안에 의한 수지 조성물은 용융혼합 또는 건조 혼합하여 제조할 수 있는데, 건조혼합을 하는 것이 판상의 라미나형태의 형성에 유리하여 높은 차단성을 얻을 수 있다. 또한 압출블로우 가공기는 통상의 설비를 사용하면 좋으나, 수지조성물의 혼련성을 떨어뜨리는 것이 판상의 라미나형태의 형성에 유리하므로 가능한 저전단 및 저혼합성으로 디자인된 일축 스크류 압출기를 사용하는 것이 좋다.Since the lipophilic polyolefin and the hydrophilic barrier resin composition have poor compatibility, a compatibilizer should be added appropriately. If the compatibilizer is less than 0.5 part by weight, the compatibility is poor and the drop impact resistance is poor. If the excess exceeds the compatibility is too good, the lamina form of the plate does not form well, there is a problem that does not achieve the desired barrier properties. The resin composition according to the present invention can be produced by melt mixing or dry mixing. Dry mixing is advantageous for the formation of a lamina-like lamellar form, and high barrier properties can be obtained. In addition, the extrusion blow processing machine may use a conventional equipment, but it is preferable to use a single screw extruder designed as low shear and low mixing as possible to reduce the kneading property of the resin composition to form a lamina lamellar form. .
반도체 경우 메모리용량이 점점 커지고, 회로가 미세화될수록 포토레지스트와 같은 시약의 순도를 더욱더 엄하게 요구하므로 청정도를 보다 향상시키기 위한 또 하나의 수단으로 폴리올레핀〔A〕, 차단성 수지조성물〔B〕및 상용화제〔C〕로 구성된 상기의 수지조성물을 외층에 사용하고, 폴리올레핀〔A〕만을 내층에 사용하여, 압출블로우 가공기를 통해 제조하는 방법을 사용할 수 있다. 이 경우 청정도는 증가되나 가공비는 다소 증가하게 되는데, 종래 기술에 의한 5층으로 된 용기와 대비하면 훨씬 원가가 저렴하다.In the case of semiconductors, as the memory capacity increases and the circuit becomes finer, the purity of reagents such as photoresist is more severely demanded, so that polyolefin [A], barrier resin composition [B] and compatibilizers are further improved to improve the cleanliness. The above-mentioned resin composition composed of [C] is used for the outer layer, and only polyolefin [A] is used for the inner layer, and a method of producing through an extrusion blow processing machine can be used. In this case, the cleanliness is increased but the processing cost is somewhat increased, compared to the five-layer container according to the prior art is much cheaper.
본 고안에 의한 용기는 클라스 1,000 이하, 바람직하게는 클라스 500이하의 크린룸에서, 클라스 10 이하, 바람직하게는 클라스 5이하의 크린 압축에어를 이용하여 통상의 블로우 성형가공에 의해 제조된다. 클라스가 1,000을 초과하거나, 압축에어가 클라스 10을 초과할 경우 만족할 만한 청정도를 얻을 수 없다.The container according to the present invention is produced by a conventional blow molding process using a clean compressed air of class 10 or less, preferably class 5 or less in a clean room of class 1,000 or less, preferably class 500 or less. If the class exceeds 1,000 or the compressed air exceeds class 10, satisfactory cleanliness cannot be obtained.
이하 실시예를 통하여 본 고안을 보다 자세히 설명하고자 한다.Through the following examples will be described in more detail the present invention.
실시예 1∼4Examples 1-4
산화방지제, 자외선안정제가 포함되지 않고 중화제만 0.002중량% 함유되며 ASTM D5227에 의한 비등 n-헥산 추출량 0.05중량%, 밀도 0.955g/cm3, 용융지수 0.15 g/10분인 고밀도 폴리에틸렌을 폴리올레핀〔A〕로 사용하였다. 용매차단성수지로 밀도가 1.19g/cm3이고 용융지수가 1.3g/10분인 에틸렌 32몰% 및 비닐알코올 68몰%의 공중합체(일본 Kuraray사 제품)를, 차광성 첨가제로 카아본블랙과 산화티탄이 20:80 중량비로 혼합된 것을 사용하여, 용매차단성수지 100중량부에 대해 차광성 첨가제 20중량부를 첨가하여 2축압출 컴파운딩기에서 잘 혼련시켜 얻어진 조성물을 차단성 수지조성물〔B〕로 사용하였다. 상용화제〔C〕로는 용융지수가 6.2g/10분인 0.1중량%의 무수말레산이 그라프트 된 선형저밀도폴리에틸렌(일본 Mitsui Petrochemical Industries사 제품)을 사용하였다. 얻어진 폴리올레핀〔A〕100중량부에 대해 차단성 수지조성물〔B〕, 상용화제〔C〕의 조성을 바꿔가며 건조혼합시켜 최종 원료가 되는 수지조성물을 얻었다.(표 1 참조) 얻어진 수지조성물을 사용하여 압출블로우 가공기(독일 Battenfeld사제)에서 용융온도 190∼220℃, 에어압력 8.0 Kg/㎠를 이용하여 클라스 300 이하의 크린룸 하에서, 에어필터(SMC사 AMD 350 및 AMF350)를 이용한 클라스 10 이하로 조절된 크린 압축에어로 블로우 성형가공하여 두께 1.5mm, 용량 1gal인 용기를 얻었다. 대표로 실시예 1에 의해 얻어진 용기를 도 1에 나타내었다.High density polyethylene containing 0.002% by weight of neutralizing agent, 0.05% by weight of boiling n-hexane extract, density 0.955g / cm3 and melt index 0.15g / 10min, according to ASTM D5227. Used. A solvent-blocking resin is a copolymer of 32 mol% ethylene and 68 mol% vinyl alcohol (manufactured by Kuraray, Japan) with a density of 1.19 g / cm3 and a melt index of 1.3 g / 10 min. The composition obtained by mixing 20 parts by weight of the light-shielding additive with respect to 100 parts by weight of the solvent barrier resin using a mixture of the 20:80 weight ratio was kneaded in a biaxial extrusion compounding machine to a barrier resin composition [B]. Used. As the compatibilizer [C], a linear low density polyethylene (manufactured by Mitsui Petrochemical Industries, Ltd.) of 0.1 wt% maleic anhydride having a melt index of 6.2 g / 10 minutes was used. With respect to 100 parts by weight of the obtained polyolefin [A], the composition of the barrier resin composition [B] and the compatibilizer [C] were changed and dried to obtain a resin composition as a final raw material. (See Table 1) In a extrusion blow processing machine (manufactured by Battenfeld, Germany) under a clean room of class 300 or less using a melting temperature of 190 to 220 ° C. and an air pressure of 8.0 Kg / cm 2, controlled to class 10 or less using an air filter (AMC 350 and AMF 350). Blow molding was performed with a clean compressed air to obtain a container having a thickness of 1.5 mm and a capacity of 1 gal. As a representative, the container obtained by Example 1 is shown in FIG.
얻어진 용기에 대해 차광성, 용매차단성, 청정도 및 낙하 내충격성을 평가하여 그 결과를 표 2와 3에 나타내었다. 청정도는 미립자수 및 잔류 금속함량 두가지로 평가하였다. 차광성은 용기의 일부를 약 2 ×2cm 정도로 취한 뒤 분광광도계(UV/Vis Spectrometer, Perkin-Elmer사제)에 의해 실제 반도체공정에서 관심있는 영역인 400nm 이하 파장에서의 최저 흡광도로서 구하였다. 투과도는 흡광도와의 관계식[흡광도 = 2-log투과도(%)]에서 구할 수 있다. 용매의 차단성은 포토레지스터의 대표적인 용매인 프로필렌글리콜메틸에틸아세테이트를 용기에 넣고 밀폐한 후 23℃, 6개월간 보관한 후 중량변화율(%)로 측정하였다. 미립자수는 용기에초순수(비저항 18㏁ 이상) 또는 포토레지스터(스위스 클라리언트사 제품 AZ7900)를 넣고 쇄이커를 이용하여 1시간동안 격렬히 흔들어 용기기벽에 붙어있는 미립자를 떨어뜨리고 나서 2시간 방치해 탈포시킨 뒤, 저장되어 있는 물 1㎖중에 존재하는 입경 0.2㎛이상인 미립자를 Liquid Particle Counter(RION사제 Model KS-40A)를 이용하여 산정하였고, 포토레지스터에 대해서는 6개월간 방치한 이후에도 측정하여 그 변화를 관찰하였다. 잔류 금속함량은 용기에 상기 포토레지스터를 넣고 6개월간 방치한 후 포토레지스터중에 포함된 잔류 금속함량을 ICP-MS(VG Elemental사제, model PlasmaQuadII)를 이용하여 구하였다. 낙하 내충격성은 UN 기준에 의거 실시하였다. 즉 20±5℃의 물을 주입구까지 채우고 마개를 하여 일정 높이에서 용기의 취약부분이 닿도록 각각 5회 낙하하여 용기의 파손 및 누수 상태를 확인하였다. 파손 및 누수가 1회도 나타나지 않는 최대높이를 낙하 내충격성으로 평가하였다. 또한 용기의 일부를 취해 주사전자현미경(일본 JEOL사제품)을 이용하여 용기의 단면구조를 관찰하였다. 대표로 실시예 1에 의해 얻어진 용기의 단면에 대한 사진을 도 2에 나타내었다.About the obtained container, light blocking property, solvent blocking property, cleanliness, and drop impact resistance were evaluated, and the result is shown to Tables 2 and 3. Cleanliness was evaluated in terms of particulate water and residual metal content. The light shielding properties were obtained by taking a portion of the container about 2 x 2 cm and using a spectrophotometer (UV / Vis Spectrometer, manufactured by Perkin-Elmer) as the lowest absorbance at a wavelength of 400 nm or less, which is a region of interest in the actual semiconductor process. The transmittance can be obtained from the relation between absorbance (absorbance = 2-log transmittance (%)). The barrier property of the solvent was measured by weight change rate (%) after propylene glycol methyl ethyl acetate, a representative solvent of the photoresist, was placed in a container and sealed, and stored at 23 ° C. for 6 months. The fine particles were placed in a container with ultrapure water (resistance of 18 Ω or higher) or photoresist (AZ7900, Swiss Clariant) and shaken vigorously for 1 hour using a chain breaker to drop the particles attached to the wall of the container. Afterwards, the particles having a particle diameter of 0.2 μm or more present in 1 ml of stored water were calculated using a Liquid Particle Counter (Model KS-40A manufactured by RION), and the photoresist was measured after being left for 6 months to observe the change. . The residual metal content was placed in the container and left for 6 months, and then the residual metal content contained in the photoresist was calculated using ICP-MS (model PlasmaQuadII, manufactured by VG Elemental). Drop impact resistance was performed in accordance with UN standards. In other words, the water of 20 ± 5 ℃ to the inlet and the stopper was dropped five times to reach the vulnerable part of the container at a certain height to check the damage and leakage of the container. The maximum height at which no breakage or leakage occurred was evaluated as drop impact resistance. In addition, a portion of the container was taken and the cross-sectional structure of the container was observed using a scanning electron microscope (manufactured by JEOL, Japan). As a representative, a photograph of the cross section of the container obtained in Example 1 is shown in FIG. 2.
실시예 1∼4의 물성 평가결과를 비교해보면 차단성 수지조성물〔B〕함량이 증가할수록 차광성 및 용매에 대한 차단성은 우수해지는데, 낙하 내충격성 및 청정성이 다소 떨어지는 경향을 보이나, 전체적으로 거의 비슷하게 우수함을 알 수 있다.Comparing the evaluation results of the physical properties of Examples 1 to 4, as the content of the barrier resin composition [B] is increased, the light shielding property and the blocking property against the solvent are excellent, but the drop impact resistance and cleanliness tend to be somewhat inferior. It can be seen that excellent.
실시예 5Example 5
용기의 외층에 실시예 4와 동일한 수지조성물을 사용하고, 용기의 내층에 실시예 4에서의 폴리올레핀〔A〕만을 사용하여 공압출블로우 가공기로 가공하여 내층두께 0.5mm, 외층두께 1.0mm의 용기를 얻었다. 실시예 1∼4과 동일한 방법으로 물성을 평가하였다(표 4 및 5 참조).The same resin composition as in Example 4 was used for the outer layer of the container, and the inner layer of the container was processed using a coextrusion blow processing machine using only the polyolefin [A] in Example 4 to obtain a container having an inner layer thickness of 0.5 mm and an outer layer thickness of 1.0 mm. Got it. Physical properties were evaluated in the same manner as in Examples 1 to 4 (see Tables 4 and 5).
실시예 4와 실시예 5을 비교해 보면 차광성 및 용매차단성은 다소 떨어지나, 낙하 내충격성 및 청정도가 개선됨을 알 수 있다. 전체적으로 균형이 잡힌 우수한물성을 보이나, 실시예 1∼4에 비해 원가가 다소 상승한다.Comparing Example 4 and Example 5, the light shielding property and the solvent barrier property is somewhat inferior, but it can be seen that drop impact resistance and cleanliness are improved. Although there are excellent balanced physical properties as a whole, the cost is slightly increased as compared with Examples 1 to 4.
비교예 1Comparative Example 1
실시예 1에서 사용한 폴리올레핀〔A〕만을 사용하여 압출블로우 가공하여 용기를 얻은 것외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다(표 6 및 7 참조). 실시예 1∼5과 비교해 보면 청정도 및 낙하내충격성은 우수하나, 차광성 및 용매차단성이 매우 열악함을 알 수 있다.The same procedure as in Example 1 was conducted except that the container was obtained by extrusion blow processing using only the polyolefin [A] used in Example 1 (see Tables 6 and 7). Compared with Examples 1 to 5, it is excellent in cleanliness and drop impact resistance, but it can be seen that the light blocking property and solvent barrier property are very poor.
비교예 2Comparative Example 2
차광성 청정 갈색유리병에 대해 실시예 1∼5와 동일한 방법으로 물성평가를 실시하였다(표 6 및 7 참조). 실시예 1∼5와 비교해 보면 차광성, 용매차단성 및 청정성은 우수하나, 낙하 내충격성이 매우 열악함을 알 수 있다.Physical property evaluation was performed on the light-shielding clean brown glass bottle in the same manner as in Examples 1 to 5 (see Tables 6 and 7). Compared with Examples 1 to 5, it is excellent in light shielding property, solvent barrier property, and cleanness, but it is understood that the drop impact resistance is very poor.
이상 설명한 바와 같이 본 고안에 의한 차광성 청정 용기는 종래의 병과 달리 가볍고, 깨질 염려가 없고 큰 용량으로 가공이 용이하여 대형화에 따른 경비절감을 꾀할 수 있으며, 종래 기술에 의한 5층으로 된 차광성 청정 플라스틱 용기 대비 매우 저렴한 가격으로 제조되는 획기적인 것으로 보존 및 운송중에 미립자나 금속이온의 침출이 거의 없는 청정성을 유지하며, 차광성은 물론 약품의 용매차단성을 부여하는 등 고순도약품의 품질을 유지하는데 적합하다. 이러한 용기는 빛에 민감한 포토레지스트용뿐 아니라, 연마제, 세정제, 현상액 등 반도체용 시약 및 액정표시용 시약, 의료산업용 용기로도 유용하게 사용될 것으로 전망된다.As described above, the light-shielding clean container according to the present invention is light, unlike a conventional bottle, and does not have to be broken, and can be easily processed at a large capacity, thereby achieving cost savings due to its large size. It is a breakthrough that is manufactured at a very low price compared to a clean plastic container, and maintains cleanliness with little leaching of fine particles or metal ions during storage and transportation, and maintains the quality of high-purity chemicals such as shading as well as chemical solvent blocking. Suitable. Such a container is expected to be useful not only for light-sensitive photoresist, but also for semiconductor reagents such as abrasives, cleaners, and developer, liquid crystal display reagents, and medical industry containers.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020082242A (en) * | 2001-04-19 | 2002-10-31 | 케미타운 주식회사 | Light-Shielding Plastic Container for High-Purity Chemicals |
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2001
- 2001-04-19 KR KR2020010011207U patent/KR200240406Y1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020082242A (en) * | 2001-04-19 | 2002-10-31 | 케미타운 주식회사 | Light-Shielding Plastic Container for High-Purity Chemicals |
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| REGI | Registration of establishment | ||
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