KR20020071205A - 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및이를 포함하는 감광성 조성물 - Google Patents

기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및이를 포함하는 감광성 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20020071205A
KR20020071205A KR1020010011195A KR20010011195A KR20020071205A KR 20020071205 A KR20020071205 A KR 20020071205A KR 1020010011195 A KR1020010011195 A KR 1020010011195A KR 20010011195 A KR20010011195 A KR 20010011195A KR 20020071205 A KR20020071205 A KR 20020071205A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
bis
photosensitive composition
group
methyl
Prior art date
Application number
KR1020010011195A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100396377B1 (ko
Inventor
김성현
윤정애
백세정
김진석
최동창
방승민
조진우
박상욱
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR10-2001-0011195A priority Critical patent/KR100396377B1/ko
Publication of KR20020071205A publication Critical patent/KR20020071205A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100396377B1 publication Critical patent/KR100396377B1/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295Photolytic halogen compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물에 관한 것이다.
본 발명의 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물은 감광성 조성물에 적용할 경우 광중합 개시제로서 감도와 고온공정 특성이 우수하며 실온에서 장기간 보존성이 우수하다.
[화학식 1]
상기 식에서, n은 1 내지 4의 정수이고, 각각의 R1, R2, R3, R4는 독립적으로 또는 동시에 수소, 할로겐, 탄소수 1∼6의 알킬, 또는 알콕시이고, R5는 불포화 탄소-탄소 결합, 및 헤테로 원소를 포함할 수 있는 탄소수 3∼12의 그룹, 또는 2 개 이상의 히드록시기를 포함하는 폴리올(polyol)에서 유도된 그룹, 포화 지방족 디올에서 유도된 탄소수 2∼12의 알킬렌 그룹이고, X는 S, SO, 또는 SO2이다.

Description

기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물 {TRIAZINE BASED COMPOUND CONTAINING FUNCTIONALIZED ALKYLTHIO GROUP AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION COMPRISING THE SAME}
[산업상 이용 분야]
본 발명은 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광중합 개시제로서 감도와 고온공정 특성이 우수한 기능성 알킬티오 관능기를 갖는 트리아진계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물에 관한 것이다.
[종래 기술]
감광성 조성물은 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 광중합 개시제로 이루어진다. 이 감광성 조성물은 광을 조사하여 중합하고 경화시키는 것이 가능하므로 광경화성 잉크, 감광성 인쇄판, 각종 포토레지스트(photoresist), LCD 용 칼라 필터 포토레지스트, BM 수지용 포토레지스트, 또는 투명 감광재 등에 이용되고 있다. 이러한 감광성 조성물에 이용되는 광중합 개시제로는 아세톤페논 유도체, 벤조페논 유도체, 아실포스핀 옥사이드 유도체, 트리아진 유도체 등 여러 종류가 알려져 있으나, 그 중 광조사에 의해 분해되어 할로겐 라디칼을 발생하는 할로메틸 트리아진계 화합물이 많이 사용되고 있다. 특히 할로메틸 트리아진계 화합물 중에서도 2-아릴-4,6-비스(트리할로메틸)-s-트리아진은 감도가 비교적 양호한 것으로 알려져 있다.
일본공개특허공보 소53-133428호에는 2-위치의 아릴기로서 이환, 또는 다환의 방향족기, 또는 복소환식 방향족기를 가지는 할로메틸 트리아진 화합물을 사용하는 것이 제안되어 있으며, 그 중에도 아릴기로 나프틸기를 이용한 경우에 양호한 결과가 얻어지는 것이 기재되어 있다. 그러나 상기 화합물의 감도는 실용상 만족스러운 정도가 되지 않으며, 다량으로 이용하거나 장시간의 광조사가 필요하며 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물에 대한 용해성이 불충분하여 감광성 조성물의 시간 경과에 따른 안정성이 떨어진다는 단점이 있다.
또한 일본공개특허공보 소63-70243호에는 할로메틸 트리아진 화합물의 2-위치에 나프틸기에 아미드 결합, 또는 에스터 결합을 갖는 치환기를 도입함으로써 감광성 조성물의 시간 경과에 따른 안정성을 개선하는 것이 제안되고 있지만, 그 경우에도 광중합 개시제로서의 감도는 만족할 만한 것은 아니었다. 또 분자량이 작고 결정성이 큰 광중합 개시제는 코팅 후, 코팅된 필름 표면 위로 삐져 나오거나 필름 내에서 결정화되어 광 개시효율이 감소되는 단점이 있다. 이를 해결하는 방법들로서는 바인더와 강한 상호작용이 있는 개시제를 사용하거나, 분자량이 큰 광개시제를 사용하거나, 다중관능성(multi-functional), 또는 다관능성(poly-functional) 트리아진계 광 개시제를 사용하는 방법 등이 있다.
미국특허 제5,298,361호에는 2 개 이상의 광활성 트리아진 그룹을 갖는 광 개시제가 기재되어있다. 여기에서는 트리아진 그룹들이 지방족 에테르, 우레탄, 에스테르, 아미드 결합으로 연결되어 있다. 미국특허 제4,837,128호에서는 아미노 그룹이 치환된 페닐 그룹이 2- 위치에 도입된 2-아릴-4,6-비스(트리할로메틸)-s-트리아진계 유도체가 기재되어있다. 그러나 상기 화합물의 경우에 광활성은 우수하지만 350 nm 이상에서 최대 흡광도를 가지고 있고 가시광선 영역까지 빛 흡수가 되기 때문에 색의 순도를 요구하는 용도에는 그 한계가 있다. 또한 유럽공개특허공보 271195 A1에는 단순한 알킬, 또는 아릴 그룹이 S, Se, 또는 Te에 의해 연결된 페닐 그룹이 2-위치에 도입된 2-아릴-4,6-비스(트리할로메틸)-s-트리아진계 유도체가 기재되어있다. 그러나 이 화합물들은 광중합 조성물에 사용되는 바인더 폴리머(binder polymer)와의 상용성 문제가 있고, 탄소수가 작은 알킬기가 치환된 경우에는 고온 공정에서 승화되는 단점 등이 있다.
따라서 360 nm 이하에서 강한 빛의 흡수를 보이고 상용성과 광 개시효율을 높이고 후열처리(postbake) 공정시 승화성 물질이 발생되는 문제점을 해결할 수 있을 뿐만 아니라 고온 공정특성 및 상용성이 뛰어난 화합물에 대한 연구가 필요하다.
본 발명은 상기 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 광반응에 참여할 수 있는 관능기를 도입하거나 한 분자 내에 2 개 이상의 광활성 트리아진 그룹을 도입함으로써 광중합 개시제로서 감도가 뛰어나고 고온 공정특성 및 상용성이우수한 트리아진계 화합물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 상기 광중합 개시제로서 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진 화합물을 포함하는 광중합형 감광성 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위하여,
하기 화학식 1로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물을 제공한다:
[화학식 1]
상기 식에서,
n은 1 내지 4의 정수이고,
각각의 R1, R2, R3, R4는 독립적으로 또는 동시에 수소, 할로겐, 탄소수 1∼6의 알킬, 또는 알콕시 그룹이고,
R5는 불포화 탄소-탄소 결합, 및 헤테로 원소를 포함할 수 있는 탄소수 3∼12의 그룹, 또는 2 개 이상의 히드록시기를 포함하는 폴리올(polyol)에서 유도된 그룹, 포화 지방족 디올에서 유도된 탄소수 2∼12의 알킬렌 그룹이고,
X는 S, SO, 또는 SO2이다.
또한 본 발명은 상기 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물을 유효성분으로 하는 광중합 개시제를 포함하는 감광성 조성물을 제공한다.
이하에서 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명자는 광반응에 참여할 수 있는 관능기가 도입된 할로메틸 트리아진계 화합물, 및 광활성의 트리아진 모이어티를 2 개 이상 포함하는 화합물이 실온에서 장기간 보존성이 우수하며 광중합 개시제로서의 감도가 뛰어날 뿐만 아니라 광표백(photobleaching) 효과가 있어 LCD 용 칼라 필터 제조, 및 투명 감광재에 사용할 경우 색상에 영향을 미치지 않음을 확인하고 본 발명에 이르게 되었다.
상기 화학식 1로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물에서, R5를 상세히 설명하면 다음과 같다.
R5가 불포화 탄소-탄소 결합, 및 헤테로 원소를 포함할 수 있는 탄소수 3∼12의 그룹일 경우에 하기의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
,,,,
,,,
,,,
,,,
,,
,,,
,,,
,,,
또한 R5가 2 개 이상의 히드록시기를 포함하는 폴리올(polyol)에서 유도된 그룹일 경우에 하기의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.
,,
,,
,,,,
,,,
,,,
,,,
,,
,,
,,,
또한 R5가 포화 지방족 디올에서 유도된 탄소수 2∼12의 알킬렌 그룹(CmH2m, m은 2∼12의 정수)일 경우에는 에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 헵타메틸렌, 옥타메틸렌, 노나메틸렌, 데카메틸렌, 운데카메틸렌, 및 도데카메틸렌으로 이루어지는 군으로부터 선택될 수 있다.
하기 화학식 1a∼1e는 본 발명의 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물의 구체적인 예를 나열한 것이다.
[화학식 1a]
[화학식 1b]
[화학식 1c]
[화학식 1d]
[화학식 1e]
본 발명의 상기 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물은 무색 투명한 감광성 조성물과 착색 감광성 조성물의 제조시에 광중합 개시제의 유효성분으로 사용될 수 있다.
본 발명의 광중합 개시제를 포함하는 감광성 조성물은
a) 화학식 1로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물;
[화학식 1]
상기 식에서,
n은 1 내지 4의 정수이고,
각각의 R1, R2, R3, R4는 독립적으로 또는 동시에 수소, 할로겐, 탄소수 1∼6의 알킬, 또는 알콕시 그룹이고,
R5는 불포화 탄소-탄소 결합, 및 헤테로 원소를 포함할 수 있는 탄소수 3∼12의 그룹, 또는 2 개 이상의 히드록시기를 포함하는 폴리올(polyol)에서 유도된 그룹, 포화 지방족 디올에서 유도된 탄소수 2∼12의 알킬렌 그룹이고,
X는 S, SO, 또는 SO2이다.
b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물;
c) 알칼리 가용성 수지 바인더; 및
d) 용제
를 포함한다.
상기 감광성 조성물의 b) 성분인 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물은 열가소성 유기 중합체와 함께 사용함으로써 경화물의 특성을 개선할 수 있다.
또한 상기 b)의 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로는 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌기의 수가 2∼14인 폴리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 프로필렌기의 수가 2∼14인 폴리프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트 등과 같은 다가 알콜을 α, β-불포화 카르복실산에 에스테르화하여 얻어지는 화합물; 트리메틸올프로판 트리글리시딜에테르 메타아크릴산 부가물, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 메타아크릴산 부가물 등의 글리시딜기를 함유하는 화합물에 (메타)아크릴산을 부가하여 얻어지는 화합물; β-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트의 프탈산디에스테르, β-하이드록시에틸 (메타)아크릴레이트의 톨루엔 디이소시아네이트 부가물 등과 같은 수산기 또는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 화합물과 다가 카르복실산과의 에스테르 화합물, 또는 폴리이소시아네이트와의 부가물; 및 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트 등과 같은 (메타)아크릴산 알킬 에스테르로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것이 바람직하다.
알칼리 가용성 수지바인더(c) 성분)는 산기(acid functional group)를 포함하는 모노머와 필름강도를 주는 모노머의 공중합체, 또는 이 공중합체가 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물과 고분자 반응을 통하여 제조되는 화합물이 될 수 있다.
본 발명에서 사용된 바인더는 산가가 30∼300 KOH ㎎/g 정도이며, 중량평균 분자량은 1,000∼200,000의 범위인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 분자량이 5,000∼100,000의 범위인 바인더이다.
상기 산기를 가진 모노머는 (메타)아크릴 산, 크로톤 산, 이타콘 산, 말레인산, 푸마린 산, 모노메틸 말레인 산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 및 5-노보넨-2-카복실산으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것이 바람직하다.
상기 산기를 포함하는 모노머와 공중합할 수 있는 모노머는 스티렌, 클로로 스티렌, α-메틸 스티렌, 비닐톨루엔, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트, 이소부틸 (메타)아크릴레이트, t-부틸 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 이소보닐 (메타)아크릴레이트, 2-페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼프릴 (메타)아크릴레이트, 하이드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필 (메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 아실옥틸옥시-2-하이드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 에틸헥실 아크릴레이트, 2-메톡시에틸 (메타)아크릴레이트, 3-메톡시부틸 (메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시트리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 페녹시디에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, p-노닐페녹시폴리프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 테트라플루오로프로필 (메타)아크릴레이트, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 (메타)아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸 (메타)아크릴레이트, 헵타데카플루오로데실 (메타)아크릴레이트, 트리브로모페닐 (메타)아크릴레이트, 메틸 α-하이드록시메틸아크릴레이트, 에틸 α-하이드록시메틸아크릴레이트, 프로필 α-하이드록시메틸 아크릴레이트, 및 부틸α-하이드록시메틸 아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것이 바람직하다.
또한 상기 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물은 알릴 글리시딜 에테르, 글리시딜 (메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸 (메타)아크릴레이트, 글리시딜 5-노보넨-2-메틸-2-카복실레이트(엔도, 엑소 혼합물), 및 1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-9-데센으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것이 바람직하다.
또한 상기 알칼리 가용성 바인더는 단독 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
상기 용매(d) 성분)는 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀루솔브, 테트라히드로퓨란, 1,4-디옥산, 에틸렌글리콜 디메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 프로필렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜 디에틸에테르, 클로로포름, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,1-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에텐, 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 프로판올, 부탄올, t-부탄올, 시클로헥사논, 프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트, 프로펠렌글리콜 에틸 에테르아세테이트, 3-메톡시부틸 아세테이트, 에틸 3-에톡시프로피오네이트, 에틸 셀로솔브아세테이트, 메틸 셀로솔브아세테이트, 및 부틸아세테이트로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것이 바람직하다.
상기 본 발명 감광성 조성물에 e) 착색제를 더욱 포함할 수 있으며, 상기 착색제는 1 종 이상의 안료, 염료, 또는 이들의 혼합물인 것이 바람직하다. 사용가능한 흑색 안료로는 카본 블랙, 흑연, 또는 금속산화물 등이 있다. 카본 블랙의 예로는 (상품명으로) 시스토5HIISAF-HS, 시스토 KH, 시스토3HHAF-HS, 시스토 NH, 시스토 3M, 시스토300HAF-LS, 시스토116HMMAF-HS, 시스토 116MAF, 시스토FMFEF-HS, 시스토SOFEF, 시스토 VGPF, 시스토 SVHSRF-HS 및 시스토 SSRF( 동해카본 ㈜); 다이어그램 블랙II, 다이어그램 블랙N339, 다이어그램 블랙 SH, 다이어그램 블랙H, 다이어그램 LH, 다이어그램 HA, 다이어그램 SF, 다이어그램 N550M, 다이어그램 M, 다이어그램 E, 다이어그램 G, 다이어그램 R, 다이어그램 N760M, 다이어그램 LR, #2700, #2600, #2400, #2350, #2300, #2200, #1000, #980, #900, MCF88, #52, #50, #47, #45, #45L, #25, #CF9, #95, #3030, #3050, MA7, MA77, MA8, MA11, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B 및 OIL31B(미쯔비시화학㈜); PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX-200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, 및 LAMP BLACK-101(대구사㈜); RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN-820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200,RAVEN-1190ULTRA, 및 RAVEN-1170(콜롬비아 카본㈜) 등이 있다.
또한 색깔을 띄는 착색제로는 카민 6B(C.I.12490), 프탈로시아닌 그린(C.I. 74260), 프탈로시아닌 블루(C.I. 74160), 미쓰비시 카본 블랙 MA100, 페릴렌 블랙(BASF K0084. K0086), 시아닌 블랙, 리놀 옐로우(C.I.21090), 리놀 옐로우GRO(C.I. 21090), 벤지딘 옐로우4T-564D, 미쓰비시 카본 블랙MA-40, 빅토리아 퓨어 블루(C.I.42595), C.I.PIGMENT RED97, C.I.PIGMENT RED 122, C.I.PIGMENT RED 149, C.I.PIGMENT RED 168, C.I.PIGMENT RED 177, C.I.PIGMENT RED 180, C.I.PIGMENT RED 192, C.I.PIGMENT RED 215, C.I.PIGMENT RED 254, C.I. PIGMENT GREEN 7, C.I. PIGMENT GREEN 36, C.I. PIGMENT BLUE 15:1, C.I. PIGMENT BLUE 15:4, C.I. PIGMENT BLUE 15:6, C.I. PIGMENT BLUE 22, C.I. PIGMENT BLUE 60, C.I. PIGMENT BLUE 64, C.I.PIGMENT YELLOW 83, C.I.PIGMENT YELLOW 139 C.I. PIGMENT VIOLET 23등이 있고, 이 밖에 백색 안료, 형광 안료 등도 이용할 수 있다.
또한 상기 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물과 f) 제 2 광중합 개시제, 또는 광 증감제를 혼합하여 사용할 경우 상승효과를 나타낼 수 있다.
상기 제 2 광중합 개시제, 또는 광 증감제로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 등의 비이미다졸 화합물; 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-하이드록시에톡시)-페닐 (2-하이드록시)-2-프로필케톤, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸 에테르, 벤조인이소부틸 에테르, 벤조인부틸 에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-몰폴리노-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온 등의 아세토페논계 화합물; 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,4,6-트리메틸아미노벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 3,3'4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 9-플로레논, 2-클로로-9-프로레논, 2-메틸-9-플로레논 등의 플로레논계 화합물; 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 1-클로로-4-프로필옥시 티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 크산톤, 2-메틸크산톤 등의 크산톤계 화합물; 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10-안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물; 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판 등의 아크리딘계 화합물; 벤질, 1,7,7-트리메틸-비스클로[2,2,1]헵탄-2,3-디온, 9,10-펜안트렌퀴논 등의 디카르보닐 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일) 프로필 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 메틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-n-부톡시에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)-4-메틸-시클로헥타논 등의 아민계 시너지스트; 3,3'-카르보닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10'-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라히드로-1H,5H,11H-Cl]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물; 4-디에틸아미노 칼콘, 4-아지드벤잘아세토페논 등의 칼콘 화합물; 2-벤조일메틸렌, 및 3-메틸-β-나프토티아졸린으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택될 수 있다.
또한 본 발명의 감광성 조성물에는 필요에 따라 경화촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 충전제, 및 계면활성제로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 g) 첨가제를 더욱 포함할 수 있다.
상기 경화촉진제로는 2-멀캅토벤조이미다졸, 2-멀캅토벤조티아졸, 2-멀캅토벤조옥사졸, 2,5-디멀캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-멀캅토-4,6-디메틸아미노피리딘, 펜타에리스리톨 테트라키스(3-멀캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 트리스(3-멀캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(2-멀캅토아세테이트), 펜타에리스리톨 트리스(2-멀캅토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(2-멀캅토아세테이트), 트리메틸올프로판 트리스(3-멀캅토프로피오네이트) 트리메틸올에탄 트리스(2-멀캅토아세테이트), 및 트리메틸옥에탄 트리스(3-멀캅토프로피오네이트)로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것이 바람직하다.
상기 열 중합 억제제는 p-아니솔, 히드로퀴논, 피로카테콜(pyrocatechol), t-부틸카테콜(t-butyl catechol), 및 페노티아진(phenothiazine)으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 것이 바람직하다.
기타 가소제, 접착 촉진제, 충전제, 및 계면활성제는 종래의 감광성 조성물에 포함될 수 있는 모든 화합물이 사용될 수 있다.
상기 감광성 조성물의 성분 중, 화학식 1로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물은 0.1 내지 5 중량부, 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물은 0.5 내지 10 중량부, 알칼리 가용성 수지 바인더는 1 내지 20 중량부, 용제는 10 내지 95 중량부, 착색제는 0.5 내지 20 중량부, 및 첨가제는 0.01 내지 20 중량부로 함유되는 것이 바람직하다.
본 발명의 감광성 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는 파장이 250∼450 nm의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크 등이 있다.
본 발명의 감광성 조성물은 롤 코터(roll coater), 커튼 코터(curtain coater), 스핀 코터(spin coater), 각종 인쇄, 침적 등에 사용되며, 금속, 종이, 유리 등의 지지체상에 적용된다. 또한 필름 등의 지지체 상에 도포한 후, 기타 지지체 상에 전사하는 것도 가능하며 그 적용방법에 제한을 두지 않는다.
본 발명의 화합물을 포함하는 감광성 조성물은 광경화성 도료, 광경화성 잉크, 광경화성 접착제, 인쇄판, 인쇄 배선반용 포토레지스트, TFT LCD 컬러 필터 제조용 안료분산형 포토레지스트, 블랙 메트릭스 형성용 포토레지스트, 기타 투명 감광제, 및 PDP 제조 등에 사용할 수 있으며, 그 용도에 제한을 두지 않는다.
이하의 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이지 이들만으로 한정하는 것은 아니다.
[실시예]
합성예 1 : 화학식 1a의 화합물 제조
a. 3-(4-시아노페닐 티오)프로피온산의 합성
4-플루오로벤조니트릴(165 mmol) 20 g, 3-머캅탄프로피오닉 산(188 mmol) 20 g, 포타슘 카르보네이트 50 g을 300 mL의 DMF에 넣은 뒤, 용기 온도를 100 ℃로 하여 20 시간 동안 반응시켰다. 이의 반응 온도를 상온으로 내린 뒤, 1500 mL의 증류수에 반응 용액을 천천히 부은 후 2 N HCl 용액으로 산성화(pH 페이퍼로 확인, pH = ∼2)시켜 유기물 침전을 생성시키고, 침전물을 여과하여 증류수로 씻어준 후, 여과하여 화합물을 분리하고 진공 오븐에서 건조시킨 후, NMR로 구조분석하였다(수율 : > 86 %).
b. (3-{4-[2,4-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진-6-yl]페닐 티오]프로피온산(이하 TPA)의 합성
상기에서 제조된 3-(4-시아노페닐 티오)프로피오닉 산(106 mmol) 22 g, AlBr32 g, 트리클로로아세토니트릴 용액 150 g을 상온에서 건조(dry) HCl로 버블링시켰다. 초기에 녹지 않은 출발물을 녹이기 위하여 50 ℃로 승온하였다. TLC로 체크하면서 반응 경과를 확인한 결과, 시간이 경과함에 따라 천천히 생산물이 생성되었고, 24 시간 후에 반응을 멈추고 100 mL의 디에틸 에테르로 추출하였다. 증류수로 씻은 후, 무수 마그네슘 설페이트로 건조하였다. 휘발성 물질은 진공하에서 모두 제거하고 메탄올/물에서 결정을 유도하였고(수율 : > 87 %), NMR, FT-IR, UV-스펙트로포토메터로 구조분석하였다.
1H-NMR (CDCl3, ppm) : 9.03 (1H, broad perak, COOH), 8.57(2H, d, Ar-H), 7.41 (2H, d, Ar-H), 3.30 (2H, t, -CH2-S), 2.78 (2H, t, -CH2-)
UV-vis. (nm) : λmax= 356 nm
c. 화학식 1a의 화합물 합성
상기 b 단계에서 제조된 TPA(20 mmol) 10.0 g, 및 티오닐 클로라이드 60 mL을 70 ℃에서 2 시간 동안 반응시켜 산 염화물(acid chloride)로 전환하였다. 트리메틸 프로판(6.1 mmol) 0.82 g을 50 mL 무수 THF에 녹여 250 mL 2-네크(two necked) 둥근 바닥 플라스크에 넣고 염기로 피리딘 1.9 g을 첨가하였다. 여기에 준비한 산 염화물을 THF 10 mL에 녹여 스포이드로 천천히 첨가하였다. 28 ℃의 온도에서 12 시간 동안 반응시킨 후, 40 ℃에서 3 시간 동안 더욱 반응시켜 반응을 완결하였다. 상기의 반응 혼합물을 에틸 아세테이트로 묽게한 후, 간수로 세척하였다. 상기와 같은 방법으로 수득한 유기층은 무수 마그네슘 설페이트로 건조하고 회전 증발기(rotary evaporator)로 여분의 용매를 제거하였다. 상기 반응 혼합물에 메틸렌 클로라이드(MC)/헥산 = 2/1의 혼합 용매를 용리액(eluent)으로 하여 실리카 겔 컬럼 크로마토그라피를 통하여 분리하여 화학식 1a의 화합물을 수득하였다.
1H NMR (300 MHz, ppm, 아세톤-d6) : 8.53 (6H, d, Ar-H), 7.51 (6H, d, Ar-H), 4.12 (6H,-CCH2O-), 3.38 (6H, t, SCH2-), 2.83 (6H, t, OCOCH2-),0.90 (3H, -CCH3-)
UV(아세토니트릴) λmax= 353 nm
합성예 2 : 화학식 1b의 화합물 제조
상기 합성예 1의 b 단계에서 제조된 TPA(10 mmol) 10.0 g, 및 티오닐 클로라이드 60 mL을 70 ℃에서 3 시간 동안 반응시켜 산 염화물로 전환하였다. 4,4-비스(하이드록시메틸)-1,6-헵타디엔(9.1 mmol) 1.42 g을 50 mL 무수 THF에 녹여 250 mL 2-네크 둥근 바닥 플라스크에 넣고 염기로 피리딘 1.9 g을 첨가하였다. 여기에 준비한 산 염화물을 THF 20 mL에 녹여 스포이드로 천천히 첨가하였다. 45 ℃의 온도에서 4 시간 동안 반응시킨 후, 반응 혼합물을 에틸 아세테이트로 묽게한 후, 간수로 세척하였다. 상기와 같은 방법으로 수득한 유기층은 무수 마그네슘 설페이트로 건조하고 회전 증발기로 여분의 용매를 제거하였다. 상기 반응 혼합물에 MC/헥산 = 2/1의 혼합 용매를 용리액으로 하여 실리카 겔 컬럼 크로마토그라피를 통하여 분리하여 화학식 1a의 화합물을 수득하였다.
1H NMR (300 MHz, ppm, 아세톤-d6) : 8.58 (4 H, d, Ar-H), 7.57 (4H, d, Ar-H), 5.85 (2H, m, C=CH-C), 5.08∼5.14 (4 H, CH2=C-C-), 4.02 (4H, -CCH2O-), 3.43 (4 H, t, SCH2-), 2.81 (4 H, t, OCOCH2-), 2.05 (4 H, d, C=CCH2-)
UV(아세토니트릴) λmax= 352 nm
합성예 3 : 화학식 1c의 화합물 제조
상기 합성예 1의 b 단계에서 제조된 TPA(12 mmol) 6.0 g, 및 티오닐 클로라이드 50 mL을 70 ℃에서 3 시간 동안 반응시켜 산 염화물로 전환하였다. 4-하이드록시벤조페논(8.0 mmol) 1.54 g을 50 mL 무수 THF에 녹여 250 mL 2-네크 둥근 바닥 플라스크에 넣고 염기로 피리딘 1.5 g을 첨가하였다. 여기에 준비한 산 염화물을 THF 20 mL에 녹여 스포이드로 천천히 첨가하였다. 45 ℃의 온도에서 하룻밤 동안 반응시킨 후, 반응 혼합물을 에틸 아세테이트로 묽게한 후, 간수로 세척하였다. 상기와 같은 방법으로 수득한 유기층은 무수 마그네슘 설페이트로 건조하고 회전 증발기로 여분의 용매를 제거하였다. 상기 반응 혼합물에 MC/헥산 = 1/1의 혼합 용매를 용리액으로 하여 실리카 겔 컬럼 크로마토그라피를 통하여 분리하여 화학식 1a의 화합물을 수득하였다.
1H NMR (300 MHz, ppm, 아세톤-d6) : 8.59 ( H, d, Ar-H), 7.58∼7.88 (9 H, m, Ar-H), 7.38 (2 H, d, Ar-H), 3.58 (2 H, t, SCH2-), 3.15 (2 H, t, OCOCH2-)
UV(아세토니트릴) λmax= 352 nm
합성예 4 : 화학식 1d의 화합물 제조
상기 합성예 1의 b 단계에서 제조된 TPA(10 mmol) 5.0 g, 및 티오닐 클로라이드 50 mL을 70 ℃에서 2 시간 동안 반응시켜 산 염화물로 전환하였다. 7-하이드록시쿠마린(10 mmol) 1.62 g을 50 mL 무수 THF에 녹여 250 mL 2-네크 둥근 바닥 플라스크에 넣고 염기로 피리딘 1.5 g을 첨가하였다. 여기에 준비한 산 염화물을 THF 20 mL에 녹여 스포이드로 천천히 첨가하였다. 45 ℃의 온도에서 하룻밤 동안반응시킨 후, 반응 혼합물을 에틸 아세테이트로 묽게한 후, 간수로 세척하였다. 상기와 같은 방법으로 수득한 유기층은 무수 마그네슘 설페이트로 건조하고 회전 증발기로 여분의 용매를 제거하였다. 상기 반응 혼합물에 에틸 아세테이트/헥산 = 2/3의 혼합 용매를 용리액으로 하여 실리카 겔 컬럼 크로마토그라피를 통하여 분리하여 화학식 1a의 화합물을 수득하였다.
1H NMR (400 MHz, ppm, 아세톤-d6) : 8.61 (2H, dt, Ar-H), 7.97 (1H, d, Ar-H), 7.72 (1H, d, -CH=CCO2-), 7.67 (2H, dt, Ar-H), 7.12∼7.15 (2H, Ar-H), 6.38 (aH, -C=CHCO2-), 3.56 (2H, -SCH2C), 3.14 (2H, t, -SCCH2CO2-)
UV(아세토니트릴) λmax= 351 nm
합성예 5 : 화학식 1e의 화합물 제조
a. TPA 술폰의 합성
상기 합성예 1에서 제조된 TPA(24 mmol) 12.0 g을 아세트산 60 g에 녹이고 반응온도를 100 ℃로 올린 후, 30 % 과산화수소 10 g을 조금씩 첨가하여 1 시간 동안 교반하고 온도를 상온으로 내렸다. 1500 mL의 증류수에 상기 반응액을 가하여 생성된 흰색의 침전물을 여과하고 증류수로 충분히 세척한 후, 헥산으로 씻어준다(수율 : 92 %).
b. 화학식 1e의 화합물 합성
상기에서 제조된 TPA 술폰(10 mmol) 5.3 g, 및 티오닐 클로라이드 50 mL을70 ℃에서 2 시간 동안 반응시켜 산 염화물로 전환하였다. 7-하이드록시쿠마린(10 mmol) 1.62 g을 50 mL 무수 THF에 녹여 250 mL 2-네크 둥근 바닥 플라스크에 넣고 염기로 피리딘 1.5 g을 첨가하였다. 여기에 준비한 산 염화물을 THF 20 mL에 녹여 스포이드로 천천히 첨가하였다. 45 ℃의 온도에서 하룻밤 동안 반응시킨 후, 반응 혼합물을 에틸 아세테이트로 묽게한 후, 간수로 세척하였다. 상기와 같은 방법으로 수득한 유기층은 무수 마그네슘 설페이트로 건조하고 회전 증발기로 여분의 용매를 제거하였다. 상기 반응 혼합물에 에틸 아세테이트/헥산 = 2/3의 혼합 용매를 용리액으로 하여 실리카 겔 컬럼 크로마토그라피를 통하여 분리하여 화학식 1e의 화합물을 수득하였다.
1H NMR (400 MHz, ppm, 아세톤-d6) : 8.61 (2H, dt, Ar-H), 7.97 (1H, d, Ar-H), 7.72 (1H, d, -CH=CCO2-), 7.67 (2H, dt, Ar-H), 7.12∼7.15 (2H, Ar-H), 6.38 (aH, -C=CHCO2-), 3.63 (2H, t, -SO2CH2C-), 3.14 (2H, t, -SCCH2CO2-)
UV(아세토니트릴) λmax= 274 nm
조성물 실시예 1
안료인 C.I.Pigment red 177 90 중량부, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMa/MAA/HEMA(몰비 : 65/25/10, Mw : 30,000) 50 중량부, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 40 중량부, 광중합 개시제로 상기 합성예 1에서 제조된 화학식 1a의 화합물 30 중량부, 유기 용매인 PGMEA(b.p. 146 ℃) 790 중량부를비드 밀(bead mill)에 넣고 20 시간 동안 교반하면서 색소를 분산시켰다.
비드 크기는 직경 0.3 ㎜를 사용하였고, 밀링(milling) 후 용액을 10 마이크론 필터로 거른 다음 약 10 일 동안 자외선을 차단한 방에 보관하면서 분산 상태의 안정성을 관찰한 결과 안정한 분산 상태를 유지하였다.
상기와 같이 수득한 감광성 조성물 용액을 유리에 스핀 코팅(spin coating)하여 약 80∼90 ℃로 2 분 동안 전열 처리(prebake)하면 두께가 약 2 ㎛되는 균등한 필름이 형성된다. 상기 필름을 포토마스크(photomask)를 이용하여 고압 수은 램프(high-pressure mercury lamp) 하에서 200 mJ/㎠의 에너지로 노광시킨 후 패턴을 pH 11.4의 KOH 알칼리 수용액으로 현상하고 탈 이온수로 세척하여 200 ℃에서 약 60 분간 후열 처리(postbaking)한 다음 유리 표면의 필름 상태를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 깨끗한 패턴이 형성되었고 잔사가 남지 않았다.
조성물 실시예 2
안료인 C.I.Pigment red 177 90 중량부, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMa/MAA(몰비 : 75/25, Mw : 35,000) 50 중량부, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 40 중량부, 광중합 개시제로 상기 합성예 1에서 제조된 화학식 1a의 화합물 30 중량부, 유기 용매인 PGMEA(b.p. 146 ℃) 790 중량부를 사용하여 상기 제조실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 유리 표면의 필름 상태를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 깨끗한 패턴이 형성됨을 확인할 수 있었다.
조성물 실시예 3
안료인 C.I.Pigment red 177 90 중량부, 알칼리 가용성 수지 바인더BzMa/MAA/HEMA(몰비 : 65/25/10, Mw : 30,000) 50 중량부, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 40 중량부, 광중합 개시제로 상기 합성예 2에서 제조된 화학식 1b의 화합물 30 중량부, 유기 용매인 PGMEA(b.p. 146 ℃) 790 중량부를 사용하여 상기 조성물실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 유리 표면의 필름 상태를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 깨끗한 패턴이 형성됨을 확인할 수 있었다.
조성물 실시예 4
안료인 C.I.Pigment red 177 90 중량부, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMa/MAA/HEMA(몰비 : 65/25/10, Mw : 30,000) 50 중량부, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 40 중량부, 광중합 개시제로 상기 합성예 3에서 제조된 화학식 1c의 화합물 15 중량부, 및 (±)2-벤질-2-(디메틸아미노)-4'몰폴리노부티로페논 15 중량부 , 유기 용매인 PGMEA(b.p. 146 ℃) 790 중량부를 사용하여 상기 조성물실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 유리 표면의 필름 상태를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 깨끗한 패턴이 형성됨을 확인할 수 있었다.
조성물 실시예 5
안료인 C.I.Pigment red 177 90 중량부, 알칼리 가용성 수지 바인더 BzMa/MAA/HEMA(몰비 : 65/25/10, Mw : 30,000) 50 중량부, 중합성 화합물인 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 40 중량부, 광중합 개시제로 상기 합성예 4에서 제조된 화학식 1d의 화합물 15 중량부, 및 (±)2-벤질-2-(디메틸아미노)-4'몰폴리노부티로페논 15 중량부, 유기 용매인 PGMEA(b.p. 146 ℃) 790 중량부를 사용하여 상기 제조실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 유리 표면의 필름 상태를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 깨끗한 패턴이 형성됨을 확인할 수 있었다.
본 발명은 감광성 조성물에 적용할 경우 실온에서 장기간 보존성이 우수할 뿐만 아니라 광중합 개시제로서의 감도가 우수하고 고온공정 특성이 우수한 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 광중합 개시제, 및 이를 포함하는 광중합형 감광성 조성물을 제공할 수 있다.

Claims (14)

  1. 화학식 1로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물:
    [화학식 1]
    상기 식에서,
    n은 1 내지 4의 정수이고,
    각각의 R1, R2, R3, R4는 독립적으로 또는 동시에 수소, 할로겐, 탄소수 1∼6의 알킬, 또는 알콕시 그룹이고,
    R5는 불포화 탄소-탄소 결합, 및 헤테로 원소를 포함할 수 있는 탄소수 3∼12의 그룹, 또는 2 개 이상의 히드록시기를 포함하는 폴리올(polyol)에서 유도된 그룹, 포화 지방족 디올에서 유도된 탄소수 2∼12의 알킬렌 그룹이고,
    X는 S, SO, 또는 SO2임.
  2. 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 1a로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물:
    [화학식 1a]
  3. 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 1b로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물:
    [화학식 1b]
  4. 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 1c로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물:
    [화학식 1c]
  5. 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 1d로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물:
    [화학식 1d]
  6. 제 1 항에 있어서, 하기 화학식 1e로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물:
    [화학식 1e]
  7. 감광성 조성물에 있어서,
    a) 하기 화학식 1로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물;
    b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물;
    c) 알칼리 가용성 수지 바인더; 및
    d) 용제
    를 포함하는 감광성 조성물:
    [화학식 1]
    상기 식에서,
    n은 1 내지 4의 정수이고,
    각각의 R1, R2, R3, R4는 독립적으로 또는 동시에 수소, 할로겐, 탄소수 1∼6의 알킬, 또는 알콕시 그룹이고,
    R5는 불포화 탄소-탄소 결합, 및 헤테로 원소를 포함할 수 있는 탄소수 3∼12의 그룹, 또는 2 개 이상의 히드록시기를 포함하는 폴리올(polyol)에서 유도된 그룹, 포화 지방족 디올에서 유도된 탄소수 2∼12의 알킬렌 그룹이고,
    X는 S, SO, 또는 SO2임.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 c)의 알칼리 가용성 수지바인더는 산가가 30∼300 KOH ㎎/g이고, 중량평균 분자량이 1,000∼200,000인 감광성 조성물.
  9. 제 7 항에 있어서,
    e) 착색제를 더욱 포함하는 감광성 조성물.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 착색제가 1 종 이상의 안료, 염료, 또는 이들의 혼합물인 감광성 조성물.
  11. 제 7 항 또는 제 9 항에 있어서,
    f) 제 2 광중합 개시제, 또는 광 증감제를 더욱 포함하는 감광성 조성물.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 2 광중합 개시제, 또는 광 증감제가 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐 비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-하이드록시에톡시)-페닐 (2-하이드록시-2-프로필)케톤, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인메틸 에테르, 벤조인에틸 에테르, 벤조인이소부틸 에테르, 벤조인부틸 에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-몰폴리노-1-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰폴리노페닐)-부탄-1-온, 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,4,6-트리메틸아미노벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 3,3'4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 9-플로레논, 2-클로로-9-플로레논, 2-메틸-9-플로레논, 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 1-클로로-4-프로필옥시 티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 디이소프로필티옥산톤, 크산톤, 2-메틸크산톤, 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10-안트라퀴논, 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐)펜탄, 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판, 벤질, 1,7,7-트리메틸-비스클로[2,2,1]헵탄-2,3-디온, 9,10-펜안트렌퀴논, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디클로로벤조일) 프로필 포스핀 옥사이드, 메틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-n-부톡시에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)-4-메틸-시클로헥타논, 3,3'-카르보닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10'-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라히드로-1H,5H,11H-Cl]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온, 4-디에틸아미노 칼콘, 4-아지드벤잘아세토페논, 2-벤조일메틸렌, 및 3-메틸-β-나프토티아졸린으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 감광성 조성물.
  13. 제 7 항, 제 9 항 또는 제 11 항에 있어서,
    경화촉진제, 열 중합 억제제, 가소제, 접착 촉진제, 중전제, 및 계면활성제로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 g) 첨가제를 더욱 포함하는 감광성 조성물.
  14. 제 7 항에 있어서,
    a) 상기 화학식 1로 표시되는 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계
    화합물 0.1 내지 5 중량부;
    b) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 0.5 내지 10 중량부;
    c) 알칼리 가용성 수지 바인더 1 내지 20 중량부; 및
    d) 용제 10 내지 95 중량부
    를 포함하는 감광성 조성물.
KR10-2001-0011195A 2001-03-05 2001-03-05 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및이를 포함하는 감광성 조성물 KR100396377B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2001-0011195A KR100396377B1 (ko) 2001-03-05 2001-03-05 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및이를 포함하는 감광성 조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2001-0011195A KR100396377B1 (ko) 2001-03-05 2001-03-05 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및이를 포함하는 감광성 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020071205A true KR20020071205A (ko) 2002-09-12
KR100396377B1 KR100396377B1 (ko) 2003-09-03

Family

ID=27696372

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2001-0011195A KR100396377B1 (ko) 2001-03-05 2001-03-05 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및이를 포함하는 감광성 조성물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100396377B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100763744B1 (ko) * 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8627059D0 (en) * 1986-11-12 1986-12-10 Cookson Group Plc Substituted trialine derivatives
GB8906470D0 (en) * 1989-03-21 1989-05-04 Cookson Group Plc Photopolymerisable composition
US5298361A (en) * 1991-08-30 1994-03-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light-sensitive article containing migration-resistant halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiator
US5847133A (en) * 1997-05-23 1998-12-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ionic halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiators
JPH10333334A (ja) * 1997-06-03 1998-12-18 Toppan Printing Co Ltd 感光性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100763744B1 (ko) * 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물

Also Published As

Publication number Publication date
KR100396377B1 (ko) 2003-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100814232B1 (ko) 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
KR101384431B1 (ko) 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
US8182979B2 (en) Photopolymerization initiator containing unsaturated double bond and oxime ester group and photosensitive resin composition comprising the same
JP5780618B2 (ja) 高分子およびそれを含む感光性樹脂組成物{polymerandphotosensitiveresincompositioncomprisingthesame}
KR100900138B1 (ko) 알칼리 가용성 수지, 이의 제조방법 및 상기 알칼리 가용성수지를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR100709891B1 (ko) 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 조성물
JP5420527B2 (ja) 架橋性化合物及びそれを含む感光性組成物
KR101217448B1 (ko) 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 조성물
KR101384478B1 (ko) 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR100396377B1 (ko) 기능성 알킬티오 관능기를 가지는 트리아진계 화합물 및이를 포함하는 감광성 조성물
KR100417091B1 (ko) 기능성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물
KR100453921B1 (ko) 광활성 알독심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는감광성 조성물
KR20120054539A (ko) 아크릴레이트계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물
KR101403775B1 (ko) 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR100681460B1 (ko) 현상 잔사 저감제 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR101445906B1 (ko) 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20130135077A (ko) 신규한 고분자 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20130135010A (ko) 아크릴계 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20120106408A (ko) 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR100781873B1 (ko) 광활성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물
KR20120116678A (ko) 중합체 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20120119508A (ko) 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20160002195A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 감광재
KR20080018572A (ko) 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130730

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140716

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150716

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160817

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170718

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180619

Year of fee payment: 16

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190625

Year of fee payment: 17