KR20000022200A - 4-요오도-2[엔-(엔-알킬아미노카보닐)아미노설포닐]벤조산 메틸 에스테르, 그의 유도체 및 그의 제조방법 - Google Patents

4-요오도-2[엔-(엔-알킬아미노카보닐)아미노설포닐]벤조산 메틸 에스테르, 그의 유도체 및 그의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 제초성 설포닐우레아의 제조용 중간체로서 적합한 화학식(I)의 화합물에 관한 것이다:
화학식 I
상기식에서,
R=(치환된)알킬 또는 (치환된)시클로알킬이다.
본 발명에 따라서,
(a) 산 H+X-(여기서, X-는 음이온의 당량이다)의 존재하에서 화학식(II)의 화합물을 디아조화시켜 화학식(III)의 화합물(디아조늄염)을 수득하고;
(b) 요오드 이온의 존재하에서, 화학식(III)의 화합물을 반응시켜 화학식(IV)의 화합물을 수득하고;
(c) 화학식(IV)의 화합물과 화학식(V)의 이소시아네이트를 반응시켜 화학식(I)의 화합물을 제조한다:
화학식 II
화학식 III
화학식 IV
화학식 V
R-N=C=O
상기식들에서,
R은 화학식(I)에서 정의된 바와 같다.

Description

4-요오도-2[엔-(엔-알킬아미노카보닐)아미노설포닐]벤조산 메틸 에스테르, 그의 유도체 및 그의 제조방법
화학식 아릴-SO2-NH-CO-NH-R(여기서, 아릴은 치환되거나 치환되지 않는 아릴 라디칼이고, R은 알킬 라디칼이다)의 우레아는 주로 포스겐과 반응하여 화학식 아릴-SO2-NCO의 상응하는 이소시아네이트를 수득하고, 또한 제초성으로 활성 설포닐우레아의 제조를 위해 사용될 수 있는 것으로 알려져 있다(EP-A-0584043; US-A-4566898). 일련의 아릴=2-카보메톡시-5-요오도펜-1-일의 설포닐우레아의 일반적인 제조방법을 적용할 수 있는 것은 유용한 제초성 설포닐우레아이고(WO-A-92/13845), 이는 화학식 (I)의 화합물을 제공하기 위한 목적이었다:
상기식에서,
R은 각각 비치환되거나 치환된 알킬 또는 시클로알킬이다.
바람직하게, 상기 목적은 화학식(I)의 화합물의 효과적인 제조방법을 제공하기 위한 것이었다.
본 발명은 활성 화합물, 특히 제초성 설포닐우레아 제조를 위한 중간체에 관한 것이다.
놀랍게도, 하기에 보다 상세하게 논의되는 바와 같이, 중간체(III) 및 (IV)을 통해 화학식(II)의 화합물로부터 출발하는 화학식(I)의 화합물을 매우 양호한 수율로 얻는 것이 가능하다. 본 발명은 따라서 제초성 설포닐우레아 및 기타 활성 화합물의 효과적인 제조방법을 제공한다.
본 발명은 (a) 산 H+X-(여기서, X-는 음이온의 당량이고, 예컨대 X-=Cl-, I-또는 HSO4 -이다)의 존재하에서 화학식(II)의 화합물을 디아조화시켜 화학식(III)의 화합물(디아조늄염)을 수득하고;
(b) 요오드 이온의 존재하에서, 분리한 후에 또는 바람직하게는 분리하지 않고 화학식(III)의 화합물을 반응시켜 화학식(IV)의 화합물을 수득하고;
(c) 화학식(V)의 이소시아네이트와 화학식(IV)의 화합물을 반응시켜 화학식(I)의 화합물을 수득하는 것을 포함하는,
화학식(I)의 N-치환된 메틸 4-요오도-2-[N-(아미노카보닐)아미노설포닐]벤조에이트의 제조방법에 관한 것이다:
화학식 I
R-N=C=O
상기식들에서,
R은 비치환되거나 치환된 알킬 또는 시클로알킬이고, 바람직하게 R은 할로겐, (C1-C6)알콕시, (C1-C6)알킬티오, (C1-C6)할로알콕시 및 치환되거나 비치환된 페닐로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 하나이상의 라디칼에 의해 비치환되거나 치환된 (C1-C12)알킬 또는 할로겐, (C1-C4)알킬, (C1-C4)할로알킬, (C1-C4)알콕시, (C1-C4)할로알콕시 및 (C1-C6)알킬티오로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 하나이상의 라디칼에 의해 비치환되거나 치환된 (C3-C12)시클로알킬이고,
X-는 산 H+X-와 동일한 의미를 갖는다.
본 발명은 또한 개별적인 공정 단계를 제공한다.
화학식(I) 및 하기 사용된 화학식들에서, 알킬, 알콕시, 할로알킬, 할로알콕시 및 알킬티오 라디칼 및 상응하는 치환된 라디칼은 각각의 경우에 탄소 주쇄에서 직쇄 또는 분지될 수 있다. 특정하게 언급되지 않는한, 예컨대 탄소수 1 내지 4를 갖는 저급 탄소 주쇄가 이들 라디칼에 대해 바람직하다. 또한 알콕시, 할로알킬 등과 같은 복잡한 의미의 알킬 라디칼은 예컨대, 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, 2-부틸, 펜틸, 헥실(예, n-헥실, i-헥실 및 1,3-디메틸부틸) 및 헵틸(예, n-헵틸, 1-메틸헥실 및 1,4-디메틸펜틸)이다.
시클로알킬은 예컨대 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실 등과 같은 3 내지 8개의 고리원자를 갖는 카보시클릭 포화 고리 시스템이다.
할로겐은 예컨대, 불소, 염소, 브롬 또는 요오드이다. 할로알킬, 할로알케닐 및 할로알키닐은 각각 할로겐, 바람직하게 불소, 염소 및/또는 브롬, 특히 불소 또는 염소에 의해 일부 또는 전체적으로 치환된 알킬, 알케닐 및 알키닐, 예컨대 CF3, CHF2, CH2F, CF3CF2, CH2FCHCl2, CCl3, CHCl2, CH2CH2Cl이고; 할로알킬은 예컨대, OCF3, OCHF2, OCH2F, CF3CF2O, OCH2CF3및 OCH2CH2Cl이고; 이것은 할로겐으로 치환된 기타 라디칼 및 할로알케닐에 상응하게 적용한다.
치환이 "라디칼의 그룹으로부터 선택된 하나이상의 라디칼"로 정의되면, 이는 하나이상의 동일한 라디칼에 의한 치환 및 다른 라디칼에 의한 단일치환 또는 다중치환을 의미한다. 치환되거나 비치환된 페닐은 바람직하게 할로겐, 알킬, 할로알킬, 알콕시, 할로알콕시, 알킬티오, 하이드록실, 아미노, 니트로, 시아노, 아지도, 알콕시카보닐, 알킬카보닐, 포름일, 카바모일, 모노알킬아미노카보닐, 디알킬아미노카보닐, 치환된 아미노(예, 아실아미노, 모노알킬아미노 또는 디알킬아미노), 알킬설피닐, 할로알킬설피닐, 알킬설포닐, 할로알킬설포닐로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 같거나 다른 라디칼에 의해 비치환, 단일치환 또는 다중치환되고, 바람직하게 할로겐, (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시, (C1-C4)할로알킬, (C1-C4)할로알콕시, CN 및 니트로로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 같거나 다른 라디칼에 의해 3이하로 치환되는 페닐, 예컨대 o-톨릴, m-톨릴, p-톨릴, 디메틸페닐, 2-클로로페닐, 3-클로로페닐, 4-클로로페닐, 2-트리플루오로페닐, 3-트리플루오로페닐, 4-트리플루오로페닐, 2-트리클로로페닐, 3-트리클로로페닐, 4-트리클로로페닐, 2,4-디클로로페닐, 3,5-디클로로페닐, 2,5-디클로로페닐, 2,3-디클로로페닐, o-메톡시페닐, m-메톡시페닐 및 p-메톡시페닐이다.
본 발명은 또한 화학식(I)에 의해 포함되는 모든 입체이성체 및 이들의 혼합물에 관한 것이다. 이러한 화학식(I)의 화합물은 화학식(I)에서 상세하게 나타내지 않는 하나이상의 비대칭 탄소원자를 함유한다. 가능하고, 그의 특정 공간 형태로 정의되는 입체이성체(예, 에난티오머 및 디아스테레오머)는 모두 화학식(I)에 의해 포함되고, 통상적인 방법에 의해 입체이성체 혼합물로부터 얻어지고, 또는 입체화학적으로 순수한 출발 물질의 사용과 함께 입체선택적 반응에 의해 제조될 수 있다. 화학식(I)은 또한 양성자 이동에 의해 발생하고 화학적으로 안정한 경우에 화합물의 호변 이성체를 포함한다.
화학식(I)의 화합물은 염을 형성할 수 있고, 이때 -SO2-NH 그룹의 수소 또는 기타 산성 수소 원자가 농업적으로 적합한 양이온에 의해 치환된다. 이들 염은 예컨대, 금속염; 바람직하게 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속염, 특히 나트륨염 및 칼륨염 또는 기타 암모늄 염 또는 유기 아민을 갖는 염이다. 동일하게, 예컨대 아미노 및 알킬아미노와 같은 염기성기와 부가 반응으로 산을 가하여 염을 형성할 수 있다. 이런 목적에 적합한 산은 강 무기산 및 강 유기산, 예컨대 HCl, HBr, H2SO4또는 HNO3이다.
화학식(II)의 화합물이 공지되어 있고(예, EP-A-382436, EP-A-382437) 또는 간단한 시판가능한 화합물로부터 표준방법에 의해 제조할 수 있다(예, 문헌[J.Org.Chem. 27(1962) 2177ff]에 유사한 이소프로필 에스테르의 제조방법 참조).
디아조화 반응에 대해 통상적인 조건하에서 공정단계(a)에 의한 화학식(II)의 화합물의 디아조화를 수행할 수 있다. 예컨대, 산 H+X-(여기서, X-는 바람직하게 Cl-, I-또는 HSO4 -이다)의 존재하의 수용액중에서, 적합하다면 바람직하게 반응조건하에서 불활성인 유기 용매를 가하고 질산염을 사용하여 화학식(II)의 화합물의 디아조화를 수행한다. 디아조화는 예컨대 화학식(II)의 화합물의 몰당 1.0 내지 1.2몰의 질산염, 바람직하게 1.01 내지 1.05몰의 질산염의 NaNO2(질산나트륨)와 같은 알칼리 금속 질산염을 사용하여 수행한다.
디아조화를 위한 적합한 산은 무기질산 또는 강유기산이다. 바람직한 것은 할로겐산(예, 염산 또는 요오드산) 또는 황산이다. 산 H+X-는 화학양론을 기준으로 보통 과량으로 사용되고; 황산(n=2)과 같이 n이 1이상인 n가 산의 경우에 1가산에 대한 화학양론적 양은 n가 산에 대한 화학양론적 양을 얻기 위해 n으로 나누어진다. 단염기산은 예컨대 화학식(II)의 화합물의 몰당 5 내지 15몰, 바람직하게 화학식(II)의 화합물의 몰당 H+X-8 내지 12몰로 사용된다.
디아조화를 위한 용매는 반응조건하에서 불활성인 유기 용매, 예컨대 톨루엔, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 클로로톨루엔 또는 크실렌과 같은 치환되거나 비치환된 방향족 탄화수소, 디클로로메탄과 같은 할로겐화 지방족 탄화수소 및 디에틸 에테르, 디옥산 및 테트라하이드로푸란과 같은 에테르로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 유기 용매와 물의 혼합물 또는 물이다.
화학식(III)의 화합물을 수득하기 위해 적합한 디아조화 온도는 예비 실험에서 쉽게 측정할 수 있다; 일반적으로 -5 내지 50℃, 바람직하게 10 내지 20℃, 특히 15 내지 20℃의 온도범위에서 반응을 수행한다.
통상적인 방법에 의해 화학식(III)의 화합물의 디아조늄 염을 분리시킬 수 있지만 디아조늄 그룹의 비교적 낮은 안정성에 주의해야하고; 그러나, 바람직한 것은 화학식(IV)의 화합물의 제조를 위한 중간체 분리없이 화합물(III)을 사용하는 것이다.
화학식(III)의 다아조늄염, 바람직하게 X-=I-(요오드 음이온)인 디아조늄염은 신규하고, 본 발명의 주제의 일부를 형성한다.
공정단계(b)에 의해 화학식(IV)의 화합물을 수득하기 위한 화합물(III)의 반응은 공정단계(a)와 동일한 수성 또는 수성 유기용매 또는 용매 혼합물 또는 유사한 개질된 용매(혼합물)중에서 수행한다. 상기 반응에서, 디아조늄 그룹을 요오드 원자로 치환하고, 따라서 요오드 이온은 반응 혼합물에서 요구된다. 이들 요오드 이온이 X-=I-인 경우에, 디아조늄염 자체의 음이온으로부터 생성된다. X-가 요오드 음이온과 다르면(예, Cl-) 요오드는 다른 형태로, 예컨대 요오드화나트륨 또는 요오드화칼륨과 같은 알칼리금속 요오드로서 가해진다. 이 경우에, 상기 양은 예컨대 화학식(III)의 화합물의 몰당 요오드 1.1 내지 1.5몰이다. 한편으로, 요오드는 예비단계(a)에서 화학식(II)의 화합물에 이미 가해질 수 있다.
화학식(III)의 화합물로부터 화학식(IV)의 화합물의 형성은 10 내지 40℃, 바람직하게 15 내지 30℃의 온도범위에서 발생한다.
예컨대, 수성 염산중에서 화학식(II)의 화합물을 초기에 채우고, 적합하다면 탈포제와 함께 톨루엔의 촉매량을 혼합함으로써 화학식(IV)의 화합물을 제조한다. 15 내지 20℃에서, NaNO2의 수용액을 천천히 가하고, 수시간동안 혼합물을 교반하고, 아미도설폰산을 사용하여 과량의 질산염을 분해한다. 요오드화나트륨의 수용액에 15 내지 20℃에서 수용액으로서 화학식(III)(여기서, X-=Cl-이다)의 생성된 디아조늄 염을 가한다. 수시간동안 혼합물을 교반하고, 이어서 침전물을 여과시키고, 요오드가 유리될때까지 비설파이트(예, NaHSO3)로 세척하고 건조시킨다.
놀랍게도, 디아조늄 염(II)을 통한 요오도페닐설폰아미드(IV)의 제조는 매우 양호한 수율로 진행한다. 이론치 90%보다 많은 수율을 얻을 수 있다. 유사한 반응의 알려진 수율을 고려할때, 이러한 높은 수율을 기대하지 못했다. 문헌[J.Am.Chem. Soc.55(1933)1652]에 따라, 질산나트륨 및 염산을 사용하는 에틸 4-아미노벤조에이트의 디아조화 및 가해진 요오드화칼륨과의 연속 반응은 단지 이론치 68.5%의 수율로 에틸 4-요오도벤조에이트를 수득한다; 이와 비교하여, 상기 반응은 설폰아미도기때문에 부가적인 작용기를 갖는 화학식(III)의 화합물과 놀랍게도 잘 작용한다.
화학식(IV)의 요오도페닐 화합물은 지금까지 단지 불충분한 수율로 제조될 수 있었다. 따라서, 암모니아의 존재하에서 메틸 4-요오도-2-클로로설포닐벤조에이트로부터 출발하는 화학식(IV)의 화합물은 단지 약 75%의 수율을 얻는다(WO 92/13845의 26페이지, 실시예 6 참조); 이 형태의 반응에서, 당 유도체에 대한 고리 폐쇄때문에 수율 손실이 자주 관찰되고 있다. 그러나, 본 발명에 따르는 방법을 사용하여, 화학식(IV)의 화합물은 매우 높은 수율을 얻으며 바람직하지 않은 요오도당이 없다.
공정단계(c)에서, 화학식(IV)의 화합물은 화학식 R-N=C=O(V)의 이소시아네이트와 반응하여 화학식(I)의 화합물을 수득한다. 상기 반응은 바람직하게 염기성 촉매 및 불활성 용매중에서 수행되고, 공정단계(a) 및 (b)에 대해 언급한 가해진 유기 용매는 또한 여기에서 적합하다; 다른 유기 용매를 사용할 수 있고, 적합한 용매는 예비 실험에서 비교하여 쉽게 알 수 있다.
공정단계(c)에 대한 바람직한 용매는 반응 조건하에서 불활성인, 예컨대 톨루엔, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 클로로톨루엔 또는 크실렌과 같은 치환되거나 비치환된 방향족 탄화수소, 디클로로메탄과 같은 할로겐화 지방족 탄화수소, 디에틸 에테르, 디옥산 및 테트라하이드로푸란과 같은 에테르 및 아세톤과 같은 케톤으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 비수성 유기 용매이다. 바람직한 것은 클로로벤젠이다.
적합한 염기는 무기 또는 유기염기, 예컨대, 탄산염(예, K2CO3, Na2CO3), 치환된 아민(예, 트리에틸아민), DBU(1,8-디아자바이시클로[5.4.0]운데크-7-엔) 등이다; 바람직한 것은 K2CO3와 같은 염기이다. 상기 염기는 예컨대 화학식(IV)의 화합물의 몰당 1몰 내지 1.1몰, 바람직하게 1.01 내지 1.05몰의 양으로 사용된다.
화학식(V)의 이소시아네이트의 양은 예컨대 화학식(IV)의 화합물의 몰당 1.0 내지 2.0몰, 바람직하게 1.01 내지 1.1몰이다. 사용된 바람직한 이소시아네이트는 메틸 이소시아네이트, 에틸 이소시아네이트, n-프로필 이소시아네이트, 이소프로필 이소시아네이트, n-부틸 이소시아네이트, i-부틸 이소시아네이트, sec-부틸 이소시아네이트, t-부틸 이소시아네이트, n-펜틸 이소시아네이트, n-헥실 이소시아네이트, 시클로헥실 이소시아네이트, 도데실 이소시아네이트, 바람직하게 R이 (C4-C6)알킬인 이소시아네이트이다.
톨루엔, 크실렌 또는 클로로벤젠과 같은 용매가 사용될때 화학식(I)의 화합물의 제조를 위한 공정단계(c)의 반응 온도는 바람직하게 2단계로 이루어진다. 초기에, 예컨대, 온도는 2시간동안 55 내지 60℃에서 유지된다음 5 내지 10시간, 바람직하게 6 내지 9시간동안 90℃에서 유지된다. 아세톤과 같은 용매의 존재하에서, 예컨대 반응을 초기에 실온에서 교반한다음 4 내지 10시간, 바람직하게 5 내지 8시간동안 환류하에서 교반하여 수행한다.
화학식(I)의 화합물의 제조방법은 예컨대 클로로벤젠중에서 화학식(V)의 K2CO3및 이소시아네이트와 화학식(IV)의 설폰아미드를 혼합하여 초기에 55 내지 60℃에서 수행한다음 90℃에서 수행한다. 실온으로 냉각시킨 다음, 반응 혼합물을 물과 혼합하여 2N 염산을 사용하여 pH 1 내지 2로 조절한다. 유기상을 분리하고, 유리산으로 세척하고 농축시킨다. 잔여물은 화학식(I)의 화합물을 고수율 및 매우 양호한 순도로 포함한다.
지금까지, 화학식(I)의 화합물은 단지 불충분한 수율로 얻을 수 있었다. 따라서, 예컨대 2-부타논중의 부틸 이소시아네이트와 이소프로필 2-(아미노설포닐)-4-클로로벤조에이트를 반응시켜 목적하는 부틸설포닐우레아 이소프로필 2-[N-(N-부틸아미노카보닐)아미노설포닐]-4-클로로벤조에이트를 단지 이론치 44%의 수율로 얻는다.(US-A-4566898의 실시예 5 참조).
그러나, 화학식(I)의 화합물은 놀랍게도 본 발명의 방법에서 매우 고수율로 얻는다. 이 방법을 사용하여, 단지 적은 폐기물을 생성하고, 용적 수율이 높다. 따라서, 상기 언급된 이유로 화학식(II)의 화합물 또는 화학식(IV)의 화합물로부터 출발하여 수단계에 걸쳐 고수율 또는 전체 수율의 화학식(I)의 화합물을 얻을 수 있는 것을 예견하지 못했다.
하기의 실시예에서, 특정적으로 다르게 규정되지 않는한 양은 중량을 나타낸다.
실시예 1
메틸 4-요오도-2-아미노설포닐벤조에이트(IV)
메틸 4-아미노-2-아미노설포닐벤조에이트 1000g(4.34mol) 및 H2O 3400ml를 농축 염산 3700ml(37% 농도)와 신속히 혼합한다. 톨루엔 10ml를 이 혼합물에 가한다. 혼합물을 15℃로 냉각시키고, H2O 1740ml중에 NaNO2용액 315g(4.56mol)을 15 내지 20℃에서 1시간내에 가한다. 1시간동안 교반을 계속하고, 아미도설폰산을 사용하여 과량의 질산염을 분해한다. 제 2 용기에서, 요오드화칼륨 1082g(6.51mol) 및 H2O 7000ml을 초기에 채운다. 15 내지 20℃에서, 1 내지 2시간에 걸쳐 디아조늄 염 용액을 가한다. 생성된 현탁액을 H2O 10 리터로 희석시키고, 침전물을 흡인여과한다. 이어서 필터 케이크를 H2O 8.5리터중에 Na2S2O5435g의 혼합물을 사용하여 유리 요오드로 세척한다음 H2O 25리터로 중성 세척한다. 화학식(IV)의 화합물을 1771g(수분)의 양으로 얻는다. 진공중에서(=감압하에서) 50℃에서 건조시킨후에 융점 175 내지 177℃의 메틸 4-요오도-2-아미노설포닐벤조에이트(화학식(IV)의 설폰아미드) 1403g(이론치 94.8%)를 얻는다.
실시예 2
메틸 4-요오도-2-[N-(N-부틸아미노카보닐)아미노설포닐]벤조에이트(I)
실시예 1로부터 화학식(IV)의 설폰아미드 34.1g(0.1mol) 및 K2CO314.7g(0.105mol)을 클로로벤젠 250ml중의 n-부틸 이소시아네이트 10.6g(98% 순도)(0.105mol)과 혼합하고, 혼합물을 55 내지 60℃에서 2시간동안 유지시킨다. 이어서 혼합물을 90℃에서 8.5시간동안 교반한다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고, pH 1 내지 2에 이를때까지 물 200ml를 초기에 가한다음 2N 염산을 가한다. 유기상을 분리하고, 물 50ml를 4회 사용하여 유리 산으로 세척한다. 감압하에서 용매를 제거하고, 융점 128 내지 130℃의 목적하는 화학식(I)의 화합물 43.8g(이론치 99.3%)를 얻는다.
비교 실시예(US-A-4566898)
2-부타논 10.8리터중에 이소프로필 2-(아미노설포닐)-4-클로로벤조에이트 1063.4g, n-부틸 이소시아네이트 590.4g 및 K2CO3590.4g을 밤새 환류하에서 가열한다. 실온으로 냉각시킨후에, 반응 혼합물을 각각의 경우에 빙수 10리터를 부었다. 수성상을 염화메틸렌 9리터로 추출하였다. 농축 HCl을 사용하여 수성상을 pH 1.0으로 산성화시키고, 생성된 침전물을 여과하였다. 건조후에, 융점 129 내지 132℃의 이소프로필 2-[N-(N-부틸아미노카보닐)아미노설포닐]-4-클로로벤조에이트 714.6g(이론치 44%)을 얻는다.

Claims (12)

  1. 화학식(I)의 화합물:
    화학식 I
    상기식에서,
    R은 비치환되거나 치환된 알킬 또는 시클로알킬이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    R이 할로겐, (C1-C6)알콕시, (C1-C6)알킬티오, (C1-C6)할로알콕시 및 치환되거나 비치환된 페닐로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 하나이상의 라디칼에 의해 비치환되거나 치환된 (C1-C12)알킬, 또는 할로겐, (C1-C4)알킬, (C1-C4)할로알킬, (C1-C4)알콕시, (C1-C4)할로알콕시 및 (C1-C6)알킬티오로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 하나이상의 라디칼에 의해 비치환되거나 치환된 (C3-C12)시클로알킬인 화합물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    R이 할로겐, (C1-C4)알콕시 및 페닐로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 하나이상의 라디칼에 의해 비치환되거나 치환된 (C1-C12)알킬 또는 (C3-C12)시클로알킬인 화합물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    R이 n-부틸인 화합물.
  5. 화학식(III)의 화합물:
    화학식 III
    상기식에서,
    X-는 음이온 당량이다.
  6. 제 4 항에 있어서,
    X-=I-인 화합물.
  7. 화학식(IV)의 화합물과 화학식(V)의 이소시아네이트를 반응시켜 화학식(I)의 화합물을 수득하는 것을 포함하는 제 1 항에 정의된 바와 같은 화학식(I)의 화합물의 제조방법:
    화학식 IV
    화학식 V
    R-N=C=O
    상기식에서,
    R은 화학식(I)에 정의된 바와 같다.
  8. 제 7 항에 있어서,
    (a) 산 H+X-(여기서, X-는 음이온의 당량이다)의 존재하에서 화학식(II)의 화합물을 디아조화시켜 화학식(III)의 화합물(디아조늄염)을 수득하고;
    (b) 요오드 이온의 존재하에서, 화학식(III)의 화합물을 반응시켜 화학식(IV)의 화합물을 수득하고;
    (c) 화학식(IV)의 화합물과 화학식(V)의 이소시아네이트를 반응시켜 화학식(I)의 화합물을 수득하는 방법:
    화학식 II
    화학식 III
    화학식 IV
    화학식 V
    R-N=C=O
    상기식들에서,
    X-는 산 H+X-에서와 동일한 의미를 갖고,
    R은 화학식(I)에서 정의된 바와 같다.
  9. (a) 산 H+X-(여기서, X-는 음이온의 당량이다)의 존재하에서 화학식(II)의 화합물을 디아조화시켜 화학식(III)의 화합물(디아조늄염)을 수득하는 것을 포함하는,
    제 5 항 또는 제 6 항에 정의된 바와 같은 화학식(III)의 화합물의 제조방법.
  10. 요오드이온의 존재하에서, 화학식(III)의 화합물과 반응시켜 화학식(IV)의 화합물을 수득하는 것을 포함하는 화학식(IV)의 화합물의 제조방법:
    화학식 III
    화학식 IV
    상기식에서,
    X-는 음이온의 당량이다.
  11. 제 10 항에 있어서,
    산 H+X-(여기서, X-는 음이온의 당량이다)의 존재하에서 화학식(II)의 화합물을 초기에 디아조화시켜 화학식(III)의 화합물을 수득하는 방법:
    화학식 II
  12. 제초성 설포닐우레아의 제조를 위해 제 1 항 내지 제 4 항중 어느 한 항에 정의된 바와 같은 화학식(I)의 화합물의 용도.
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