KR19990007119A - 1385nm에서 저손실되는 광학 섬유 및 그 제조 방법 - Google Patents

1385nm에서 저손실되는 광학 섬유 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR19990007119A
KR19990007119A KR1019980023039A KR19980023039A KR19990007119A KR 19990007119 A KR19990007119 A KR 19990007119A KR 1019980023039 A KR1019980023039 A KR 1019980023039A KR 19980023039 A KR19980023039 A KR 19980023039A KR 19990007119 A KR19990007119 A KR 19990007119A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
rod
glass
core
tube
loss
Prior art date
Application number
KR1019980023039A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100283713B1 (ko
Inventor
카이 훼이 창
데비드 칼리쉬
토마스 존 밀러
마이클 엘. 피어살
Original Assignee
엠. 에이. 모라
루센트트케놀러지스 인코포레이티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=25373968&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR19990007119(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 엠. 에이. 모라, 루센트트케놀러지스 인코포레이티드 filed Critical 엠. 에이. 모라
Publication of KR19990007119A publication Critical patent/KR19990007119A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100283713B1 publication Critical patent/KR100283713B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01211—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01876—Means for heating tubes or rods during or immediately prior to deposition, e.g. electric resistance heaters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
    • C03B37/01228—Removal of preform material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
    • C03B37/01228—Removal of preform material
    • C03B37/01237—Removal of preform material to modify the diameter by heat-polishing, e.g. fire-polishing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
    • C03B37/01225—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing
    • C03B37/01248—Means for changing or stabilising the shape, e.g. diameter, of tubes or rods in general, e.g. collapsing by collapsing without drawing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/07—Controlling or regulating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10—Coating
    • C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
    • C03C25/106—Single coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10—Coating
    • C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • C03B2201/03—Impurity concentration specified
    • C03B2201/04—Hydroxyl ion (OH)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/07—Impurity concentration specified
    • C03B2201/075—Hydroxyl ion (OH)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10—Internal structure or shape details
    • C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C03B2203/24—Single mode [SM or monomode]
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

본 발명은 1385 nm에서 매우 낮은 손실을 가지는 단일모드 광학 섬유(700) 특히, 그것을 제조하는 방법이 개시된다. 코어 로드(20)는 7.5보다 작은 증착된 클래딩/코어 비율을 가지기 위해 VAD(vapor axial deposition)를 사용하게 제조된다. 코어 로드는 무게로 0.8 p.p.b. 보다 작게 존재하는 OH 양을 줄이기 위해 약 1200℃로 염소-불소 함유 대기로 탈수되고, 이어서 글라스안에 다공성 슈트 바디를 전환하기 위해 약 1500℃로 헬륨 대기로 압밀된다. 압밀된 코어 로드는 주로 플라스마 에칭으로 제거되는 로드 표면상의 OH 이온을 생성하는 산소-수소 토치를 사용하여 연장된다. 결국, 코어 로드는 적절하게 낮은 OH 함유량을 가지는 글라스 관(40)에 설치된다. 그 후, 관은 프리폼(60)을 생성하기 위해 로드에서 파손된다. 종래 방법은 프리폼으로부터 광학 섬유를 드로윙하고 하나 이상의 보호 코팅(75, 76)을 적용하여 사용된다. 1385 nm에서의 섬유의 손실은 1310 nm에서의 그것의 손실보다 작은 레벨로 줄어들므로, 광학 섬유 전송에 적절한 전체 파장 영역 1200∼1600 nm이 된다. 특히, WDM(wave-division-multiplex) 시스템은 1360 nm 및 1430 nm 사이의 파장 영역의 10 km 보다 큰 간격 이상으로 광학 신호를 전송하기에 용이하다.

Description

1385 ㎚에서 저손실되는 광학 섬유 및 그 제조 방법
본 발명은 일반적으로 단일모드 광학 섬유에 관한 것으로, 특히, 전체 파장 영역 1200∼1600 nm 이상의 적절한 전송 특성을 가지는 광학 섬유의 제조에 관한 것이다.
글라스 섬유의 광학 손실은 글라스의 순도 척도이고, 빛이 어떻게 섬유의 입력 단부로부터 그 출력 단부까지 약하게 되는지를 나타낸다. 손실이 적으면 적을수록, 그것이 증폭되기 전 빛이 이동될 수 있는 간격은 커진다. 글라스를 통하는 손실은 특히 파장 영역 1200∼1600 nm에서 낮고, 이미 여러해 동안 광파 전송이 1310 nm, 1550 nm 근처의 파장 영역에 제한되어 있다. 다수의 요소는 1600 nm 이상의 섬유 밴딩 손실, 현재 광학 증폭기의 이득 특성, 레일리 스캐터링(Rayleigh scattering), 1385 nm에 흡수된 수산기 이온(OH)을 포함하는 상기 영역에 전송을 제한하기 위해 상호 작용한다. 1360∼1430 nm 파장 영역의 광원의 이용에 관해서는, 무인 지역이 생성된다. 그러나, 인듐 인화물(InP) 기반된 재료 시스템과 함께 파장 범위 1200∼1600 nm를 통하여 광원을 생성할 자연 장벽이 없다. 실제로, 많은 연구원은 섬유와 대기 오염의 특성에서 광학 흡수를 연구하기 위해 정확하게 상기 영역에서 다양한 파장으로 레이저를 생성하였다. 또한, 섬유 증폭기 펌프 레이저는 1480 nm으로 전송되었다.
도 1은 글라스 코어를 가지는 광학 섬유를 위한 전체적인 스펙트럼 손실 커브를 나타낸다. 손실 커브는 전체 손실이 실제 광학 시스템을 작동시키기에 충분히 낮은 파장 영역에 도시된다.
레일리 스캐터링은 섬유 재료내의 구성 변경과 밀도로부터 결과가 발생되는 기본 현상이다. 그것이 비결정질 고체로 이루어지는 글라스 변이점을 통하여 통과되어야 하므로, 글라스가 생성될 때 상기 변화가 발생된다. 변이점에서 발생하는 열 교반의 레벨이 있고, 재료 성분에 의존되고 연질점에서 격자안으로 냉동된 열적 및 합성적 변동을 유발한다. 상기 결함 범위는 빛의 파장보다 작다. 그것은 기본적이고, 제거될 수 없으며, 섬유 손실상의 낮은 제한을 설정한다. 레일리 스캐터링은 1/λ4에 비례하고, 여기에서 λ는 빛의 파장이다.
1385 nm에서 광학 손실은 글라스에 존재하는 물의 측도이다. 물이 존재될수록, 손실은 높다. 따라서, 수산기 이온 흡수가 물 흡수로서 자주 언급되고, 그것의 다른 진동 모드에 관계된 파장으로 OH 이온으로 흡수되는 광파 에너지를 유발시킨다. 예를 들면, 상기 이온의 2개의 기본적인 진동은 2730 nm, 6250 nm에서 발생되고 그것에 스트래칭 및 밴딩 모션과 각각 대응된다. 그럼에도 불구하고, 오버톤과 콤비네이션 진동은 가까운 적외선 및 가시 파장 영역의 손실에 강하게 영향을 입힌다. 특히, 1385 nm에서 오버톤은 미래 광학 섬유 시스템이 작동되는 전송 영역의 핵심부에 존재된다. 이것은 가능한 낮은 값으로 특히 상기 워터 피크(water peak)를 줄이기 위해 길도록 함이 바람직하다. 불행하게도, 1 p.p.m.과 같이 낮은 OH 농도는 1385 nm에서 65 dB/km 정도로 손실을 발생시킨다. 1385 nm에서 전체 광학 손실이 1310 nm(즉, 약 0.33 dB/km)와 비교되는 것과 같은 레벨로 OH 농도를 줄일 수 있도록 함이 바람직하다. 약 0.8 p.p.b.의 천배로 줄이기 위해 상업적으로 사용될 수 없다. 상기 OH 농도는 상기 파장이 약 0.33 dB/km이 될 전체 손실의 범위로 1385 nm에서 레일리 스캐터링 손실에 0.05 dB/km이 부가된다.
3개의 윈도우는 광학 섬유상의 정상 작동을 위한 파장 영역을 각각 확인하는 도 1에 도시된다. 레이저원과 검출기가 1979년 상기 파장으로 활용될 수 있으므로 초기 광학 시스템이 825 nm(제 1 윈도우) 가까이 작동된다. 1310 nm 가까이 작동되는 제 2 윈도우 시스템은 1980년과 1983년 사이에 활용되었다. 더욱 최근에는, 1550 nm 가까이에 작동되는 제 3 윈도우 시스템은 1986년에 도입된다. 미래 광학 시스템을 위하여, 상업용 광학 섬유 상태에서 1385 nm로 워터 피크의 제거는 광파 전송을 위한 전체 파장 범위 1200∼1600를 효과적으로 개방한다.
멀티모드 섬유에서, 광파는 그것을 감싸는 증착된 클래딩 및 코어 사이의 굴절 인덱스의 비교적 많은 차이로 인하여 코어에 강력하게 제한된다. 광파가 멀티모드 섬유의 코어에 효과적으로 제한되므로, 클래딩의 OH 이온은 광학 손실상의 중요한 영향을 가지지 않는다. 실제로, 1385 nm 영역의 저 OH 흡수를 가지는 멀티모드 섬유가 제조되고 문헌(예를 들면, Moriyama et al. Ultimately Low OH Content V.A.D. Optical Fibres, Electronics Letters, August 28, 1980 Vol. 16, No. 18, pp. 698∼699)에 보고되어 있다. 그러나, 단일모드 섬유를 제조함이 바람직하고, 에너지의 중요 부분은 1385 nm에서 낮은 물흡수 피크를 가지는 클래딩을 전송한다.
1385 nm에서 낮은 물흡수 피크를 가지는 단일모드 광학 섬유는 H. Murata저술의 journal of Lightwave-Technology, Vol. LT-4, No. 8, pp. 1026∼1033에 의한 Recent Developments in Vapor Phase Axial Deposition 기사에 1986년 8월에 보고되어 있다. 그러나, 낮은 물흡수는 실리카 관으로 오버클래딩 이전에 코어상의 클래딩의 실질적인 양을 최초로 증착함으로써 얻어진다. (VAD 방법은 고비용이 소요되고, 생산성의 저하는 클래딩의 다량 증착이 프리폼의 많은 생산을 위해 불가피한 점에서 제조 비용을 증가시킨다.) 증착된 클래딩/코어 비율과 같이 공지된 메릿 형태는 코어의 직경(d)에 대한 로드의 직경(D)의 비율로서 한정되고, 증착된 재료의 양이 (D/d)2에 비례하므로 상기 무차원수가 가능한 낮게 됨이 바람직하다. 무라타(Murata)는 그것이 다수의 다른 오버클래딩 관을 위해 섬유에서 저 OH 함유량을 확신하기 위해 실리카 관으로 오버클래드되기 전에 증착된 클래딩/코어 비율이 7.5 보다 큰 것을 보고하였다. 그럼에도 불구하고, D/d가 7.5 이하인 저 OH 함유량을 가지는 코어 로드를 제조함이 바람직하다.
1995년 3월 14일자로 간행된 미국 특허 제5,397,372호에 도시된 바와 같이 변형 화학 기상 증착(MCVD) 방법을 사용하여 저 OH 함유량을 가지는 광학 섬유를 제조하는 것이 공지되어 있다. 상기 특허에서, 무수소 플라스마 토치가 글라스 관내측에 고 인덱스 재료의 증착을 위해 사용된다. 글라스 관은 프리폼하기 위해 파손되고, 섬유의 짧은 길이(예를 들면, 0.7 km)는 상기 프리폼으로부터 추출될 수 있다. 그러나, 상업용으로 생산시 많은 프리폼은 섬유의 긴 길이를 형성하기 위해 요구된다. OH 오염이 심각한 문제로 될지라도, 관의 로드 기술은 많은 프리폼을 제조하기 위해 비용이 효과적인 방법이다.
따라서, 광학 전송 시스템은 1360∼1430 nm 영역의 파장에서 긴 간격 이상으로 작동될 수 있다. 특히, 단일모드 광학 섬유는 1385 nm에서 저 워터 피크 및 그것을 제조하는 상업적으로 활용가능한 방법을 가진다.
1385 nm에서 저 광학 손실을 가지는 단일모드 광학 섬유를 제조하기 위한 방법은 굴절 인덱스가 그것을 감싸는 증착된 클래딩 층의 굴절 인덱스보다 높은 코어를 가지는 글라스 로드를 형성하는 단계로 시작된다. 코어의 직경은 d로 설계되고, 증착된 클래딩의 직경은 D로서 설계된다. 코어 로드는 7.5 이하인 클래딩/코어 비율을 가지고, OH 이온의 농도는 무게로 0.8 p.p.b. 이하이다. 코어 로드는 적절하게 낮은 OH 이온 농도를 가지는 중공 글라스 관에 설치하기 이전에 연장된다. 설치된 후, 관을 열원으로 노출함으로써 코어 로드상에서 파손된다. 결과적으로 구조는 프리폼으로서 언급된다.
광학 섬유는 노에서 프리폼을 위치시키고 일단부로부터 얇은 글라스 섬유를 드로잉함으로써 형성된다. 이어서 글라스 섬유는 방사로 경화된 하나 이상의 보호 코팅 재료의 층으로 코팅된다.
발명의 실시예에서, 코어 로드는 게르마늄으로 도우프되고 VAD로 제조된다. 일단 코어 로드가 형성되면, 이것은 1300℃ 이하의 온도에서 염소 또는 불소 함유 대기로 탈수되고, 이어서 1400℃ 이상의 온도에서 헬륨 대기로 압밀된다. 재료의 미소량은 무수소 플라스마 토치를 사용하여 바람직하게 형성된 에칭 동안 로드의 표면으로부터 제거된다.
일실시예에서, 코어 로드의 연장은 토치에 의해 생성된 로드 표면상의 OH 오염균 층을 제거하기 위해 에칭 단계가 연속적으로 요구되는 수소-산소 토치를 사용하여 얻어진다. 다른 실시예에서, 코어 로드의 연장은 로드 표면이 오염되지 않고, 연속적인 에칭 단계가 요구되지 않는 무수소 플라스마를 사용하여 얻어진다.
발명가는 매우 낮은 OH 함유량을 가지는 광학 섬유의 상업적 생산이 가능하고, 이것이 결코 이전에 조합되지 않은 공지된 단계를 사용하여 얻어질 수 있는 것을 일차적으로 인식한다. 실제로, 전송을 위해 전체 파장 영역 1200∼1600 nm을 사용하기 위해 오랫동안 느꼈던 필요성과, 광학 섬유가 저 OH 함유량으로 제조될 수 있는 것을 나타내는 1980년대 초기 동안 획기적인 실험 보고서에도 불구하고, 제조업자는 오늘날 상기 제품을 상업적으로 제공하지는 못했다.
도 1은 공지된 광학 섬유의 전체적인 손실 스펙트럼을 나타내고, 다양한 파장으로 OH 이온으로 흡수된 에너지에 소요되는 손실을 나타낸 도면,
도 2는 VAD(vapor axial deposition) 방법으로 코어 로드가 제조되는 것을 나타내는 도면,
도 3은 본 발명에 따른 광학 섬유를 제조하기 위한 방법의 플로우챠트,
도 4는 코어 로드의 표면으로부터 OH 이온을 제거하는 플라스마 토치를 나타낸 도면,
도 5는 코어 로드가 관에 삽입되어 정렬될 장치의 사시도,
도 6은 본 발명에 따른 글라스 프리폼의 크로스 섹션을 나타낸 도면,
도 7은 광학 섬유가 2개의 보호 코팅층으로 코팅된 후, 도 6의 글라스 프리폼으로부터 드로잉된 광학 섬유를 나타낸 도면,
도 8은 본 발명에 따라 제조된 광학 섬유의 측정 전송 특성을 나타내는 그래프,
도 9는 1360∼1430 nm 영역의 파장에서 작용되는 전송 통로 너머로 작동되는 4-채널 WDM 시스템을 나타낸 도면.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 토치 11 : 맨틀
12 : 파이어볼 14 : RF 발생기
17, 18 : 가스원 19 : RF 코일
20 : 코어 로드 21 : 글라스
52 : 척 110 : 쉴드
120 : 선반
도 3에는 본 발명에 따라 1385 nm 에서 저손실을 가지는 광학 섬유를 제조하는 양호한 방법이 개략적으로 나타내어져 있다. 상기 단계는 본 명세서를 통하여 언급될 개별 번호(31∼38)를 가진다. 첫 번째 3단계(번호 31∼33)는 글라스 관으로 덮혀질 수 있는 적절하게 낮은 OH 함유량(즉, 0.8 p.p.b. 보다 작은)을 가지는 코어 로드의 제조에 관한 것이다. 따라서, 첫 번째 3단계는 7.5보다 작은 증착된 글래딩/코어 비율을 가지고, 무게로 0.8 p.p.b. 보다 작은 OH 함유량을 가지는 코어 로드를 형성하는 단일 단계로 대치될 수 있다. 바람직하게, 코어 로드는 하술된 바와 같이 단계 번호(31)에 의하여 VAD로 제조된다.
코어 로드 제조
도 2에는 글라스 물질 또는 슈트(soot)는 실리카 스타팅 로드상에 증착된 VAD 방법이 나타내어져 있다. 코어 로드(20)는 굴절 인덱스가 증착된 클래딩(22)의 굴절 인덱스보다 높은 코어(21)를 포함한다. 굴절 인덱스가 높은 영역으로 빛이 굴곡지고, 상기 자연 법칙은 광학 섬유의 중심을 따라 빛을 안내시킨다. 비교적 높은 굴절 인덱스를 가지는 영역을 생성하기 위해, 토치(201)가 연료(예를 들면, 산소 및 수소)와 원료(예를 들면, GeCl4, SiCl4)가 공급되므로 토치는 글라스 로드의 중심 방향으로 플래임내의 증발된 원료를 돌출시킨다. 플래임은 코어 로드(20)상의 글라스 물질(슈트)을 증착시키도록 원료를 반응시킨다. 통상적으로 코어 로드는 그 상단부에서 최초 증착되어 수직으로 연장된다. 이어서 글라스 슈트가 그것의 전체 길이 및 원주를 따라 증착되도록, 그것이 수직적으로 상방향으로 이동되고 회전된다. 다른 토치(202)는 코어(21)상의 글라스 층(22; 증착된 클래딩으로 명명)을 증착시키기 위해 사용된다. 클래딩(22)을 형성하기 위해 토치(202)에 사용된 원료는 예를 들면, SiCl4이다. 코어(21)의 게르마늄 도핑은 클래딩보다 높은 굴절 인덱스를 가지는 코어를 생성하기 위한 일방법이다. 선택적으로, SiCl4는 코어(21)를 제조시 사용된 원료일 수 있고 증착된 클래딩의 불소 도핑은 코어보다 낮은 굴절 인덱스로 클래딩을 생성한다. 상기 상태에서, SF6,CCl2F2,CF4와 같은 불소는 클래딩 토치(202)의 SiCl4와 혼합된다. 다른 섬유 제조 방법에 관한 특정 설명은 광학 섬유 통신 Ⅱ의 챠트 4(아카데미 출판소, 1988 ATT 및 벨 통신 연구소에서 출판)에 포함되어 있다. 특히, 섹션 4.4.4(페이지 169∼180)는 VAD 방법을 취급한다.
상술된 VAD 방법에서, 증착된 클래딩의 직경(D)은 코어의 직경(d)보다 7.5배 작다. 코어 로드 제조가 고비용의 방법이므로, 코어 로드를 제조시 저장된 특정 시간은 저비용의 섬유를 직접 생성한다. 실제로, 코어 로드를 위해 요구된 VAD 증착량은 (D/d)2과 비례된다. 그러나, 코어 로드를 위한 D/d가 작을 때, 오버클래드 관의 순도를 위한 요구는 크게 된다. D/d가 감소됨으로써, 섬유의 보다 많은 광학력은 오버클래딩 관에 이동되고, OH 이온과 같은 불순물은 부가적 흡수 손실을 발생한다. 이것은 OH 이온이 특히, 섬유를 드로잉 작동 동안, 이동할 수 있고 코어 방향으로 이동되기 때문이다. 그리고, OH 이온은 OH 자체보다도 더욱 움직일 수 있는 수소로 분해될 수 있고, 또한 섬유를 당기는 동안 섬유 코어안에 발산될 수 있다. 광학 코어의 수소와 원자 결점 사이의 다음 반응은 OH 이온을 거기에 형성시킨다. 2.0보다 작은 증착된 클래딩/코어 비율을 가지는 코어 로드는 현재로 효과적인 비용이 들지 않는 저 OH 함유량을 가지는 오버클래딩 관을 요구한다. 따라서, 증착된 클래딩/코어 비율을 위한 상업용 실제적 범위는 현재로 2.0 D/d 7.5 로 결정된다.
도 3에서의 단계 번호(32)는 코어 로드가 약 1200℃의 온도로 염소-불소 함유 대기에서 그것을 위치시킴으로써 탈수된다. 상기 단계에서, 코어 로드는 다공성 슈트 바디이고 염소 가스는 슈트 바디의 구멍에 쉽게 스며들고 염소 이온과 함께 OH 이온을 대신함으로써, 실질적으로 방수인 슈트 바디가 이루어진다. OH 이온 교체율은 염소 가스 유동율과 탈수 온도와 관계된다.
도 3의 단계 번호(33)는 코어 로드가 약 1500℃의 온도로 헬륨 대기에서 그것을 위치시킴으로써 압밀되는 것을 나타낸다. 압밀은 다공성 슈트 로드가 물체 경계가 없는 조밀 글라스로 전환되는 단계이다. 탈수 및 압밀 단계에 관한 특정 항목은 1976년 1월 20일에 간행된 미국 특허 제3,933,454호에 제공되어 있다.
도 3의 단계 번호(34)는 코어 로드가 산소-수소 토치를 사용하여 바람직하게 연장된 것을 나타낸다. 이것은 상기 단계에 필요한 다량의 열을 공급하는 가장 효과적인 비용 방법이다. 선택적으로, 상기 단계는 하술된 바와 같이, 무수소 플라스마 토치를 사용하여 실행되고, 에칭을 위한 필요가 제거된다(단계 번호 35). 통상적으로, VAD 방법으로 생성된 코어 로드는 적당한 크기의 오버클래딩 관에 맞추기 위해서는 너무 크고, 삽입하기 이전에 그 직경을 줄이기 위해 뻗혀진다. 확장은 산업상에서 구성이 잘 공지된 글라스 선반에서 실행된다. 코어 로드는 공동 결합 회전을 위한 선반의 주축대와 심압대 사이에 설치된다. 코어 로드가 회전될 때, 토치는 주축대 방향으로 일정 비율로 그 중심축을 따라 그 아래로 이동된다. 토치의 이동과 동시에, 심압대는 주축대와 떨어져 이동함으로써, 그 직경을 줄일 수 있도록 코어 로드를 확장시킨다. 수소와 산소와 같은 가연성 가스는 15 lpm, 30 lpm 각각의 견본 비율로 토치를 통하여 유동된다. 수소를 상업적으로 실제 사용하는 동안, 그것은 코어 로드의 표면상에 OH 층을 발생시킨다. 코어 로드 확장은 산업상에 있어서 공지되어 있고 특정 항목은 1986년 3월 25일에 간행된 미국 특허 제4,578,101호에 개시되어 있다.
코어 로드 에칭
단계 번호(35)는 연장된 코어 로드가 무수소 플라스마 토치로 에칭되는 것을 나타낸다. 도 4는 로드의 표면상에 존재하는 OH 이온의 실재 부분을 제거하기 위해 코어 로드(20)의 플라스마 에칭용 장치를 개략적으로 나타낸다. 플라스마 에칭에 관한 상세한 정보는 1991년 3월 19일 간행된 미국 특허 제5,000,771호에서 활용가능하다. 다른 에칭 기술이 로드의 표면으로부터 OH 이온을 효과적으로 제거하기 위해 사용될 수 있는 것을 이해할지라도, 플라스마 에칭 방법은 간단히 하술된다. 상기 다른 에칭 기술은 기계적 글라인딩 및 화학적 에칭을 포함한다.
등온 플라스마는 글라스 로드의 외부면으로부터 실리카와 실리카 글라스를 빨리 제거(에칭)하기 위해 사용될 수 있다. 등온 플라스마 토치로 인하여, 재료 제거하기 위한 우수한 메카니즘은 플라스마 중심에서의 9000℃ 이상의 레벨로 도달될 수 있는 높은 플라스마 온도로 인하여 증발된다. 내화 유전면을 가진 전도성 파이어볼(fireball ; 12)의 접촉은 에너지를 표면으로 전달하고, 유전 재료의 증발점 위의 표면 온도가 증가된다.
도 4는 플라스마 에칭용 견본 장치를 개략적으로 나타낸다. 토치(10)는 관(16)에 의한 가스원(18)과 관(15)에 의한 가스원(17) 모두에 연결된 퓨즈 실리카 맨틀(11)을 포함한다. 가스원(17)은 맨틀(11)과 관통 쉴드(22)로 플라스마를 배기하기 위해 사용된 원하는 가스를 전달한다. 플라스마 파이어볼(12)은 RF 코일(19)과 RF 발생기(14)에 의해 여기된다. 가스원은 토치의 제한 영역에 주로 포함된 플라스마 파이어볼과 함께 이온화 가스를 제공하기 위해 일반적으로 사용된다. 플라스마 파이어볼의 실질적인 부분은 이온화 배기 가스, 높은 이온화 입구 가스로 부가함으로써 제한 영역의 외부로 가압될 수 있다. 가스원(18)으로 공급되고 쉴드(110)에 의해 토치의 외부 영역에 제한된 부가적 가스는 높은 에너지가 플라스마를 형성하기 위해 가스안에 RF 에너지를 결합하기 위해 필요한 제한 영역의 상부 부분의 에어리어를 발생시킨다. 안정된 플라스마 유지는 RF원으로부터 플라스마안으로 결합시키기 위해 충분한 에너지를 토치에 남기기 위해 플라스마 중심에 요구하므로, 토치 외측의 파이어볼의 부분은 통상적으로 50% 보다 작다. 부가적으로, 그 체적의 대략 30%∼50%로 토치 외측에 연장된 파이어볼과 함께하는 작동은 파이어볼 체적의 30% 이하의 작동보다 방법과 관련된 가스의 유동율 및 RF원의 동력 요구조건상의 큰 요구조건을 가진다. 플라스마 중심을 토치 출구 방향으로 가압함으로써, 플라스마 파이어볼은 코어 로드(20)와 쉽게 접촉될 수 있다. 또한, 접촉은 플라스마 파이어볼이 토치 외측에 가압될 때 가장 쉽게 이루어진다.
코어 로드(20)는 로드가 회전될 수 있는 상기 방법으로 선반(120)에 설치된다. 일반적으로, 상기 로드를 설치하고 회전하기 위한 수단은 산업상에 있어서 숙련된 자에 의해 공지되어 있다. 로드를 따라 플라스마 토치의 적절한 운동과 함께 원통형 코어 로드의 균일한 회전은 재료를 실질적으로 전체 표면으로부터 제거하므로 코어 로드(20)는 횡단면형으로 유지된다. 더욱 중요하게는, 상기 에칭 기술은 로드 표면으로부터 OH 이온을 제거시킨다. 본 발명의 양호한 실시예에서, 0.25 ± 0.15 mm의 에칭 깊이가 선택된다. 따라서, 플라스마 에칭 이전에 약 20 mm의 직경을 가지는 코어 로드는 에칭 후 약 19.5 mm의 직경을 가진다.
가스 유동은 현재 양호한 가스가 일반적으로 1.0∼100 l/min 범위일 때 O2또는 O2/Ar 중 어느 하나로 플라스마 토치안에 위치된다. 통상적으로 3 MHz로 20, 40 kW 사이의 출력 동력이 공급되는 RF 발생기에 의해 여기된 플라스마 파이어볼은 프로세스되는 코어 로드의 약 1 미터를 덮는 0.01∼100 cm/sec 속도로 코어 로드를 전달한다. 일반적으로, 코어 로드는 0.1 및 200 rpm 사이로 회전된다. 상기 상태는 0.01 g/min 이하로부터 10 g/min 이상의 범위로 에칭율을 생성할 수 있다.
전체 섬유 비용은 많은 오버클래딩 관을 사용하여 줄어든다. 바람직하게, 관은 그것의 고순도, 저감쇠 및 고장력 강도로 공지된 합성 실리카를 포함한다. 복수의 오버클래딩 관은 코어가 어떻게 가깝게 위치되는지 막 결정된다. 단계 번호(36)는 D/d 값이 작게 될 때, 복수의 관이 높게 되기를 필요(즉, 그 OH 함유량이 낮게 되기를 필요)하다는 점을 생각한다면, OH의 적절하게 낮은 레벨을 가지는 글라스 관으로 코어 로드가 오버클래딩되는 것을 나타낸다. 예들 들면, 다음 표는 본 발명에 사용하기 위한 적절히 낮은 오버클래딩 관의 다양한 OH 농도 레벨을 설명한다.
D/d OH 농도
7.5 200 ppm
5.2 1.0 ppm
4.4 0.5 ppm
관의 로드
도 3의 단계 번호(37)는 글라스 관을 프리폼하기 위해 코어 로드상에 파손되는 것을 나타낸다. 도 5에는 상기 단계가 설명되어 있다. 장치(500)는 중공 글라스 관(40)안에 코어 로드(20)를 설치하기 위해서와, 로드상의 관을 파손시키기 위해 사용된다. 도 5에 도시된 바와 같이, 글라스 관(40)은 수직적으로 연장되는 종축(401)이 설치된다. 또한, 그것이 힌지되고 그것의 베이스 둘레의 특정 방향으로 피벗식으로 이동될 수 있도록, 관(40)은 수직 선반 프레임(510)의 하부 아암(55)상에 설치된 홀더(53)에 설치된 짐벌형(gimbal-type) 척(52)에 설치된다. 또한, 하부 척(52)은 관(40)의 외부면과 함께 시일된다. 로드(20)는 관과 정렬되고 오버헤드 척(51)에 매달려 있다. 척(51)은 선반 프레임(510)으로부터 외팔보된 상부 아암(56)으로부터 지지된다. 그 후에, 하부 및 상부 선반 아암(55, 56) 사이와, 관과 로드 사이에 형성된 관계는 로드 길이의 실질적인 부분이 관내에 배치된다.
로드(20)의 외부면과 관(40)의 내부면 사이의 어떤 점에 있어서의 간극이 제어된다. 예들 들면, 약 0.75 mm의 균일한 간격이 얻어지도록 20 mm의 외부 직경을 가지는 로드는 21.5 mm의 내부 직경을 가지는 관으로 사용된다. 로드가 아웃세트에서 관내의 중심에 들어가는 것이 양호할지라도, 상기 물체는 삽입시 항상 얻어지는 것은 아니고, 때때로 로드는 관이 파손되거나 또는 편심되지 않는 이전에 관을 접촉시킨다. 예비 파손 접촉되거나 또는 비집중 상태(편심)로 될것이고, 오버클래드 프리폼 결과는 로드의 중심으로부터 오프세트된 중심을 가진다. 그럼에도 불구하고, 상기 편심을 줄이기 위해, 어떤 방향으로 피벗 운동하는 선반 프레임(510)의 베이스에서 짐벌형 조인트를 통하여 이동될 수 있다.
산소-수소 토치일 수 있는 링형 토치(520)는 관(40)의 전체 주변을 둘러싼다. 관(40)과 로드(20)가 그 종축 둘레로 회전될 때, 토치(520)는 토치의 운전 휴지(休止) 위치에서 오프세트를 형성하고 관을 스스로 재위치시키기에 충분하게 관(40)을 가열함으로써, 관을 로드 둘레로 들어가게 한다. 효과적으로, 관(40)은 특정 위치에서 그것을 가열함으로써 압력 경감되고 로드(20)를 스스로 정렬시킨다. 예비결정된 운전 휴지 시간 동안에, 토치(520)는 관의 상단부(41)에 또는 상단부 근처에 존재됨으로써, 상기 지점에서 로드(20)로 시일시킨다. 이때, 관의 하단부에 연결되고 아암(55)과 홀더(53)를 통하여 연장되는 관(531)을 가지는 배큠 장치(530)는 관내의 압력을 관 외측의 압력에 대하여 내려가게 한다. 결과적으로, 로드에 관의 상단부의 시일링은 배큠 어시스트를 완수한다. 관 내측의 압력은 약 0.2 기압이다. 운전 휴지 시간 후, 토치(520)는 관 부분을 가로지르는 하부방향으로 이동된다. 배큠은 토치가 관 부분을 가로지를 때 유지되고, 가열 지역에 관의 부분을 과도하게 증가시키며, 크로스 섹션이 도 6에 도시된 프리폼을 형성하기 위해 관(40)을 비교적 고속으로 로드(20)상에 파손시킨다. 상기 방법에 관하여 더욱 상세한 항목은 1989년 4월 11월에 간행된 미국 특허 제4,820,322호에 기재되어 있다. 선택적으로, 글라스 관은 1996년 11월 26일에 간행된 미국 특허 제5,578,106호에 개시된 바와 같이, OH 오염을 줄이기 위해 플라스마 토치를 사용하는 코어 로드상에 파손될 수 있다. OH 층이 코어로부터 꽤 멀리 떨어져 있으므로 오버클래딩 방법 동안에 형성된 오버클래드 관의 외부면에 OH 층을 반드시 제거할 필요는 없다. 프리폼의 설명된 치수는 100 cm(길이), 63 mm(오버클래딩 직경), 19 mm(증착된 클래딩 직경), 4.5 mm(코어 직경)이다. 따라서, D/d = 4.2이다.
섬유 드로우 및 코팅
도 3의 단계 번호(38)는 가열된(약 2000℃) 프리폼 단부로부터 광학 섬유를 드로잉하는 방법을 나타낸다. 광학 섬유의 제조에 있어서, 글라스 프리폼은 제어된 속도로 노(furnace)안에 이동되고 수직으로 매달려진다. 프리폼은 노에서 경감되고 글라스 섬유는 드로우 타워의 베이스에 위치된 캡스턴(capstan)에 의해 프리폼의 용융된 단부로부터 자유로이 드로우된다. 글라스 섬유의 표면이 마멸로 손상되기 쉬우므로, 드로우 후(어떤 표면과 접촉되기 전)에 섬유를 코팅할 필요가 있다. 코팅 재료의 적용이 글라스 표면을 손상시키지 않으므로, 코팅 재료는 액체 상태로 적용된다. 일단 적용되면, 코팅 재료는 글라스 섬유가 캡스턴에 도달하기 전에 굳어진다. 이것은 통상적으로 액체 코팅 재료가 방사물의 노출에 의해 고체로 전환되는 포토커링 공정으로 간단한 시간 간격내에 성취된다.
도 7은 본 발명에 따라 드로잉 후 이중 코팅된 광학 섬유(700)를 나타낸다. 도시된 바와 같이, 코팅 재료의 2개의 층은 빛 운반 코어(71), 증착된 클래딩 층(72), 오버클래딩(73)을 포함하는 드로우 섬유(70)에 적용된다. 글라스 섬유(70)는 약 125 μm 의 직경을 가진다. 도 6에 도시된 프리폼(60)의 상대 치수는 드로우 섬유(70)의 상대 치수와 대응된다. (드로우 섬유가 프리폼보다 수천배 작은 직경을 가질지라도, 동일한 굴절 인덱스 프로파일을 가진다) 보호 코팅 재료의 내부 층(75; 1차 코팅)은 글라스 섬유(70)에 적용되고, 이어서 보호 코팅 재료의 외부 층(76; 2차 층)은 1차 코팅의 상부에 적용된다. 양 재료는 소정의 경도 등급을 가지는 아크릴 기반된 폴리머이다. 일반적으로 제 2 코팅 재료는 핸들링에 견디기 위해 비교적 높은 계수(예를 들면, 109Pa)를 가지는 반면, 1차 코팅 재료는 마이크로밴딩 손실이 줄어드는 쿠션을 제공하기 위해 비교적 낮은 계수(예를 들면, 106Pa)를 가진다. 2차 코팅 재료는 1차 코팅이 여전히 덜 마른 동안 적용될 수 있고, 이어서 양 코팅은 전자기 스펙트럼의 자외선 영역에서 방사에 의해 동시에 커링될 수 있다.
도 8은 발명에 따라 제조된 광학 섬유의 실제 손실 특성을 나타낸다. 1385 nm 영역의 최대 측정된 손실은 1310(약 0.33 dB/km)에서 측정된 손실보다 낮게 유지하는 정해진 목표아래인 0.29 dB/km 보다 작다.
WDM 시스템
도 9는 발명에 따라 WDM 시스템(90)을 나타낸다. 시스템은 4개의 다른 베이스밴드 신호를 가진 1200∼1600 nm 영역의 4개의 소정 파장을 조정하는 4개의 전달기(81∼84)를 포함한다. 전달기(예를 들면, 81)의 적어도 하나는 1360∼1430 nm 영역의 파장으로 작동한다. 지금까지는, 그 무인 구역내의 작동은 OH 이온에 의해 에너지 흡수에 기여하는 손실로 인하여 먼 거리 광학 전송(즉, 10 킬로미터 이상)을 효과적으로 방해한다. 이어서 조정된 파장은 일반적인 구성이 관계 분야에서 숙련된 자에 의해 공지되고 다수의 간행물에 개시되어 있는 광학 케이블(900)로 도입되고 멀티플렉서(85)를 통하여 조합된다. 선택적으로, 케이블(900)은 상술된 방법에 따라 제조된 단일모드 광학 섬유(700)를 포함하는 하나 이상의 섬유를 포함하고, 파장 영역 1200∼1600 nm의 광학 신호를 전송하기 적절하며, 1310 nm 에서의 그것의 손실보다 작은 1385 nm에서의 손실을 가진다. 수신기 단부에서, 4개의 채널은 그 파장에 따른 디멀티플렉서(85)로 분열되고, 개별 베이스밴드 신호를 추출하기 위해 수신기(91∼94)로 프로세스된다. 도 9에 도시되어 있지 않지만, 광학 증폭기는 멀티플렉서(85)와 디멀티플렉서(95) 사이의 통로에 포함될 수 있다. 멀티플렉서와 디멀티플렉서는 수동 광학 네트워크이다.
다양한 특정 실시예가 도시되고 설명되었을지라도, VAD와 다른 프로세스에 의해 코어 로드의 조립과 같은 발명의 범위내에서 변형될 수 있다.

Claims (14)

  1. 코어 직경을 d로 나타내고 증착된 클래딩 직경을 D로 나타내며, 여기에서 D/d 7.5 이고, 수소 이온 농도가 무게로 약 0.8 p.p.b. 이하이며, 굴절 인덱스가 코어를 감싸는 증착된 클래딩의 굴절 인덱스보다 높은 코어(21)를 가지는 글라스 로드(20)를 형성하는 단계와,
    일반적으로 원통형이고 외측 직경을 가지는 글라스 로드를 연장하는 단계와,
    연장된 글라스 로드의 외측 직경보다 미소하게 큰 내측 직경을 가지고 적절히 낮은 OH 함유량을 가지는 글라스로 이루어진 중공 원통형 관(40)을 제공하는 단계와,
    중공 관안에 연장된 글라스 로드의 실질적인 부분을 위치하는 단계와,
    소스(source)로부터의 열이 상기 로드상의 내부방향으로 관을 파손하고, 글라스 프리폼(60)이 생성되며, 상기 관과 로드에 대하여 종방향으로 이동되는 열원에 관을 노출하는 단계를 포함하는, 단일모드 광학 전송을 위한 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 글라스 로드(20)를 연장하는 단계는 수산기 이온을 가진 로드 표면이 오염되는 열원을 사용하고,
    그 외측 직경을 소정량으로 줄이기 위해 상기 표면을 에칭함으로써 연장된 글라스 로드의 표면으로부터 수산기 이온의 실질적인 부분을 제거하는 단계를 실행하는 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 글라스 로드(20)를 연장하는 단계는 산소-수소 토치로 형성되는 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 글라스 로드(20)를 연장하는 단계는 무수소 플라스마 토치를 사용하는 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 글라스 프리폼(60)으로부터 글라스 섬유(70)를 드로잉하는 단계와,
    보호 코팅 재료(75, 76)를 드로잉된 글라스 섬유에 적용하는 단계 및,
    보호 코팅 재료를 경화시키기 위해 보호 코팅을 방사원에 노출하는 단계를 부가로 포함하고,
    광학 섬유(700)가 생성되는 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 글라스 로드(20)를 형성하는 단계는 VAD(vapor axial deposition)로 형성되는 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  7. 제 6 항에 있어서, 1300℃ 이하의 온도로 염소-불소 함유 대기의 글라스 로드(20)를 탈수하는 단계와,
    1400℃ 이상의 온도로 헬륨 대기의 글라스 로드를 압밀하는 단계를 부가로 포함하는 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 코어(21)는 게르마늄으로 도우프된 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  9. 제 1 항에 있어서, 증착된 클래딩(22)은 불소로 도우프된 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  10. 제 2 항에 있어서, 로드(20)를 에칭하는 단계는 무수소 플라스마 토치(10)로 형성된 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  11. 제 10 항에 있어서, 플라스마 에칭은 로드(20)의 외경을 0.5 ± 0.3 밀리미터로 감소된 원통형 글라스 바디 제조 방법.
  12. 제 1 항의 방법에 따라 제조된 글라스 프리폼(60).
  13. 제 12 항의 글라스 프리폼(60)으로부터 드로잉된 글라스 섬유(70).
  14. 상이한 파장으로 영역 1200∼1600 nm내에 조정되고, 하나 이상이 영역 1360∼1430 nm의 파장으로 작동되는 광학 신호의 복수 소스(81∼84)와,
    WDM 시스템의 입력에서 광학 신호를 멀티플렉싱하는 장치(85)와,
    WDM 시스템의 출력에서 광학 신호를 디멀티플렉싱하는 장치(95)와,
    멀티플렉싱 장치와 디멀티플렉싱 장치 사이를 연장하는 전송 통로를 포함하고,
    상기 전송 통로는 10 킬로미터 보다 긴 길이이고, 1310 nm에서의 그 손실보다 작은 1385 nm에서의 손실을 가지는 광학 섬유(700)를 구비하고, 섬유는 적절히 낮은 OH 함유량을 가지는 글라스 관(40)으로 오버클래드된 코어 로드(20)로부터 제조되고, 상기 코어 로드는 무게로 0.8 p.p.b. 이하인 OH 농도 레벨을 가지고, d가 코어(21)의 직경이고 D가 증착된 클래딩(22)의 직경인 증착된 클래딩/코어 비율(D/d) 7.5 를 가지는 WDM 시스템(wave-division-multiplex system; 90).
KR1019980023039A 1997-06-20 1998-06-19 1385㎚에서 저손실되는 광학 섬유 제조 방법 KR100283713B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/879,348 US6131415A (en) 1997-06-20 1997-06-20 Method of making a fiber having low loss at 1385 nm by cladding a VAD preform with a D/d<7.5
US8/879,348 1997-06-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990007119A true KR19990007119A (ko) 1999-01-25
KR100283713B1 KR100283713B1 (ko) 2001-03-02

Family

ID=25373968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980023039A KR100283713B1 (ko) 1997-06-20 1998-06-19 1385㎚에서 저손실되는 광학 섬유 제조 방법

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6131415A (ko)
EP (2) EP0887670B1 (ko)
JP (1) JP3301602B2 (ko)
KR (1) KR100283713B1 (ko)
CN (1) CN1094906C (ko)
AU (1) AU723038B2 (ko)
BR (1) BR9816133B1 (ko)
CA (1) CA2240220C (ko)
DE (1) DE69800981T2 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100420175B1 (ko) * 2001-09-08 2004-03-02 엘지전선 주식회사 광섬유모재와 그 제조방법
KR100665694B1 (ko) * 2004-06-18 2007-01-10 (주)싸이버트론 링타입의 파장 분할 다중화 방식 수동 광 네트워크 시스템

Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6205268B1 (en) * 1993-05-28 2001-03-20 Lucent Technologies Inc. Arrangement of optical fiber segments for minimizing effect of nonlinearities
US6105396A (en) * 1998-07-14 2000-08-22 Lucent Technologies Inc. Method of making a large MCVD single mode fiber preform by varying internal pressure to control preform straightness
EP1146358A4 (en) 1998-11-26 2005-09-07 Sumitomo Electric Industries OPTICAL FIBER AND OPTICAL TRANSMISSION SYSTEM WITH THIS FIBER
EP1061054A1 (en) * 1999-06-18 2000-12-20 Lucent Technologies Inc. Method of making optical fiber by a rod-in tube process and fiber made by the method
EP1111414A3 (en) * 1999-12-13 2007-08-08 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber and optical transmission system
US6553790B1 (en) * 2000-05-09 2003-04-29 Fitel Usa Corp. Process for fabricating optical fiber involving tuning of core diameter profile
DE10025176A1 (de) * 2000-05-24 2001-12-06 Heraeus Quarzglas Verfahren für die Herstellung einer optischen Faser und Vorform für eine optische Faser
NL1015405C2 (nl) * 2000-06-09 2001-12-12 Draka Fibre Technology Bv Single mode optische vezel en werkwijze voor het vervaardigen van een single mode optische vezel.
JP2002202428A (ja) 2000-10-31 2002-07-19 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバ
JP2002187733A (ja) * 2000-12-14 2002-07-05 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法
EP1351897A4 (en) * 2000-12-22 2005-06-15 Corning Inc TREATMENT OF SUET PREFORMS USING A REDUCING AGENT
US6904772B2 (en) * 2000-12-22 2005-06-14 Corning Incorporated Method of making a glass preform for low water peak optical fiber
WO2002098806A1 (en) * 2001-05-31 2002-12-12 Corning Incorporated Method of manufacturing an optical fiber from a perform and optical fiber made by the method
US20020197005A1 (en) * 2001-06-26 2002-12-26 Chang Kai H. Method and apparatus for fabricating optical fiber using adjustment of oxygen stoichiometry
US6776012B2 (en) * 2001-06-26 2004-08-17 Fitel Usa Corp. Method of making an optical fiber using preform dehydration in an environment of chlorine-containing gas, fluorine-containing gases and carbon monoxide
JP2003114347A (ja) * 2001-07-30 2003-04-18 Furukawa Electric Co Ltd:The シングルモード光ファイバ、その製造方法および製造装置
US20030027055A1 (en) * 2001-08-01 2003-02-06 Ball Laura J. Method and feedstock for making photomask material
US20030027054A1 (en) * 2001-08-01 2003-02-06 Ball Laura J. Method for making photomask material by plasma induction
JP5291277B2 (ja) * 2001-08-28 2013-09-18 アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー（シンガポール）プライベート・リミテッド 柱状集積回路および柱状集積回路の製造方法
US7515802B2 (en) * 2001-09-10 2009-04-07 Schott Ag Glass fibre with at least two glass layers
JP3753975B2 (ja) * 2001-11-29 2006-03-08 株式会社フジクラ シングルモード光ファイバの製造方法及びシングルモード光ファイバ
JP2003183042A (ja) * 2001-12-14 2003-07-03 Shin Etsu Chem Co Ltd 光ファイバ用母材の製造方法及びその製造方法で製造した光ファイバ用母材
JP2003206149A (ja) * 2002-01-09 2003-07-22 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光ファイバの製造方法
US20050135759A1 (en) * 2003-12-22 2005-06-23 Xingwu Wang Optical fiber assembly
US6769275B2 (en) * 2002-03-15 2004-08-03 Fibercore, Inc. Method for making optical fiber preform using simultaneous inside and outside deposition
JP2004002106A (ja) * 2002-05-31 2004-01-08 Shin Etsu Chem Co Ltd 低損失光ファイバ母材とその製造方法
DE10225773B4 (de) 2002-06-10 2005-03-31 Heraeus Tenevo Ag Jacketrohr aus synthetisch hergestelltem Quarzglas
CA2459082C (en) * 2002-06-29 2007-10-23 Lg Cable Ltd. Method for fabricating optical fiber preform without hydroxyl group in core
JP3559269B2 (ja) * 2002-07-11 2004-08-25 三菱電線工業株式会社 光ファイバ母材の製造方法、並びに該製造方法により製造された光ファイバ母材及び光ファイバ
JP4093553B2 (ja) * 2002-08-07 2008-06-04 信越化学工業株式会社 光ファイバプリフォームとその製造方法、及びこれを線引きして得られる光ファイバ
KR100545813B1 (ko) * 2002-08-20 2006-01-24 엘에스전선 주식회사 탈수 및 탈염소공정을 포함하는 수정화학기상증착공법을 이용한 광섬유 프리폼 제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 광섬유
US20040057692A1 (en) * 2002-08-28 2004-03-25 Ball Laura J. Low loss optical fiber and method for making same
KR20040042054A (ko) * 2002-11-12 2004-05-20 엘지전선 주식회사 광섬유 프리폼 제조에서 광화학 반응에 의한 탈수 방법
US20040139765A1 (en) * 2003-01-16 2004-07-22 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of producing optical fiber preform, and optical fiber preform and optical fiber produced with the method
US20040139766A1 (en) * 2003-01-17 2004-07-22 Weeks Gene K. Systems and methods for recycling gas used in treating optical fiber
US7021083B2 (en) * 2003-01-29 2006-04-04 Fitel Usa Corp. Manufacture of high purity glass tubes
US6839481B2 (en) * 2003-04-04 2005-01-04 Fitel Usa Corp. High-capacity multimode optical fiber systems
US6888991B2 (en) * 2003-04-04 2005-05-03 Fitel Usa Corp. Single-mode fiber systems
US6839484B2 (en) * 2003-04-04 2005-01-04 Fitel Usa Corp. Optical fiber for single-mode operation
JP2004307280A (ja) * 2003-04-08 2004-11-04 Shin Etsu Chem Co Ltd Ｏｈ基による吸収を減少した光ファイバ用ガラス母材及びその製造方法
JP4463605B2 (ja) * 2003-05-09 2010-05-19 株式会社フジクラ 光ファイバ母材およびその製造方法
JP4198714B2 (ja) * 2003-06-25 2008-12-17 株式会社フジクラ 光ファイバ母材の製造方法
US7261763B2 (en) 2003-07-17 2007-08-28 The Boc Group, Inc. Method for the recovery and recycle of helium and chlorine
US7164833B2 (en) * 2003-09-24 2007-01-16 Fitel U.S.A. Corp. Optical fiber for improved performance in S-, C- and L-bands
US7752870B1 (en) 2003-10-16 2010-07-13 Baker Hughes Incorporated Hydrogen resistant optical fiber formation technique
CN1618750B (zh) * 2003-11-11 2010-04-28 株式会社藤仓 多孔二氧化硅预制件的制造方法和多孔二氧化硅预制件
JP4472308B2 (ja) * 2003-11-11 2010-06-02 株式会社フジクラ 石英多孔質母材の製造方法
JPWO2005049516A1 (ja) * 2003-11-18 2007-06-07 株式会社フジクラ 光ファイバ裸線の線引方法、光ファイバ素線の製造方法、光ファイバ素線
WO2005058765A1 (en) * 2003-12-12 2005-06-30 Corning Incorporated Alkali-doped optical fiber, its preform and method of making the same
CN1301225C (zh) * 2004-05-10 2007-02-21 烽火通信科技股份有限公司 一种低水峰光纤的制造方法
JP2006030655A (ja) * 2004-07-16 2006-02-02 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバとその評価方法および製造方法
JP2006117496A (ja) * 2004-10-25 2006-05-11 Shin Etsu Chem Co Ltd 光ファイバ用母材の製造方法、並びに光ファイバの製造方法
CN102583997B (zh) * 2004-11-29 2015-03-11 古河电气工业株式会社 光纤母材、光纤母材的制造方法以及光纤的制造方法
US20060130530A1 (en) * 2004-12-21 2006-06-22 Anderson James G Method of doping silica glass with an alkali metal, and optical fiber precursor formed therefrom
JP4890767B2 (ja) * 2005-01-31 2012-03-07 昭和電線ケーブルシステム株式会社 光ファイバ用プリフォームロッドの製造方法
US20070003198A1 (en) * 2005-06-29 2007-01-04 Lance Gibson Low loss optical fiber designs and methods for their manufacture
CN100406401C (zh) * 2005-09-15 2008-07-30 长飞光纤光缆有限公司 采用等离子体外喷法制造低水峰光纤预制棒的方法
JP2009517702A (ja) * 2005-11-23 2009-04-30 コーニング インコーポレイテッド 低減衰／非ゼロ分散シフト光ファイバ
KR20070075034A (ko) * 2006-01-11 2007-07-18 삼성전자주식회사 광섬유 모재의 제조 방법 및 이를 이용한 저수분 손실광섬유의 제조 방법
JP5126566B2 (ja) * 2006-03-30 2013-01-23 古河電気工業株式会社 プラズマを用いた線条体の被覆除去方法及び装置
US7805039B2 (en) * 2007-05-04 2010-09-28 Weatherford/Lamb, Inc. Single mode optical fiber with improved bend performance
US7836728B2 (en) * 2007-05-09 2010-11-23 Ofs Fitel, Llc Increasing the cladding-to-core ratio (D/d) of low D/d ratio core rods in optical fiber performs
CN101066834B (zh) * 2007-05-28 2011-01-05 江苏法尔胜股份有限公司 一种光纤预制棒的制备方法
US7879392B2 (en) * 2007-10-15 2011-02-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Compositions with elongated particles having varying charges and aspect ratios
JP2010064915A (ja) * 2008-09-09 2010-03-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 光ファイバ母材の製造方法
WO2010070931A1 (ja) 2008-12-19 2010-06-24 株式会社フジクラ 光ファイバ母材の製造方法
US20100158459A1 (en) * 2008-12-24 2010-06-24 Daniel Homa Long Lifetime Optical Fiber and Method
CN102272063B (zh) 2009-04-16 2014-03-12 株式会社藤仓 光纤素线的制造方法
JP5545236B2 (ja) * 2011-02-03 2014-07-09 住友電気工業株式会社 光ファイバ母材製造方法
US20130025326A1 (en) 2011-07-29 2013-01-31 Dabby Franklin W Methods for manufacturing low water peak optical waveguide
JP5533825B2 (ja) * 2011-09-13 2014-06-25 住友電気工業株式会社 光ファイバ製造方法および光ファイバ
JP5700699B2 (ja) * 2012-05-11 2015-04-15 株式会社フジクラ 広帯域低損失光ファイバの製造方法
US20140186645A1 (en) * 2013-01-02 2014-07-03 Ofs Fitel, Llc Manufacture of bend insensitive multimode optical fiber
JP2014219474A (ja) * 2013-05-02 2014-11-20 日立金属株式会社 光ファイバ
JP6402466B2 (ja) * 2014-03-31 2018-10-10 住友電気工業株式会社 マルチコア光ファイバの製造方法
CN103995314A (zh) * 2014-06-13 2014-08-20 江苏七宝光电集团有限公司 一种弯曲不敏感单模光纤及其生产工艺
CN113387560B (zh) * 2021-08-17 2021-11-02 藤仓烽火光电材料科技有限公司 一种改善光纤传输衰减的反应***及方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3933454A (en) * 1974-04-22 1976-01-20 Corning Glass Works Method of making optical waveguides
EP0154026B1 (en) * 1980-07-17 1988-09-07 BRITISH TELECOMMUNICATIONS public limited company A monomode optical fibre and a method of manufacture
US4310341A (en) * 1980-09-12 1982-01-12 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Removal of --OH impurities from fiber optic precursor materials
DE3304721A1 (de) * 1983-02-11 1984-08-16 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung einer vorform fuer lichtwellenleiter
US4842626A (en) * 1983-02-14 1989-06-27 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboatories Process for making optical fibers
US4685945A (en) * 1984-02-06 1987-08-11 Friedemann Freund Method of processing high purity low-OH vitreous silica fibers
JPS60260430A (ja) * 1984-06-04 1985-12-23 Sumitomo Electric Ind Ltd フツ素をクラツド部に含有する光フアイバ用母材の製造方法
US4578101A (en) * 1984-09-26 1986-03-25 At&T Technologies, Inc. Method for stretching a glass rod
JPH0753591B2 (ja) * 1985-08-14 1995-06-07 住友電気工業株式会社 光フアイバ用母材の製造方法
US4820322A (en) * 1986-04-28 1989-04-11 American Telephone And Telegraph Company At&T Bell Laboratories Method of and apparatus for overcladding a glass rod
KR900003449B1 (ko) * 1986-06-11 1990-05-19 스미도모덴기고오교오 가부시기가이샤 분산 시프트싱글모우드 광파이버 및 그 제조방법
US4775401A (en) * 1987-06-18 1988-10-04 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Method of producing an optical fiber
US5000771A (en) * 1989-12-29 1991-03-19 At&T Bell Laboratories Method for manufacturing an article comprising a refractory dielectric body
CA2107448A1 (en) * 1992-11-13 1994-05-14 Lee Landis Blyler, Jr. Optical transmission media having enhanced strength retention capabilities
EP0656325B1 (en) * 1993-11-29 1999-09-22 AT&T Corp. Method for making optical fiber preforms
US5397372A (en) * 1993-11-30 1995-03-14 At&T Corp. MCVD method of making a low OH fiber preform with a hydrogen-free heat source

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100420175B1 (ko) * 2001-09-08 2004-03-02 엘지전선 주식회사 광섬유모재와 그 제조방법
KR100665694B1 (ko) * 2004-06-18 2007-01-10 (주)싸이버트론 링타입의 파장 분할 다중화 방식 수동 광 네트워크 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
US6131415A (en) 2000-10-17
EP1104891A1 (en) 2001-06-06
AU7196598A (en) 1998-12-24
BR9816133B1 (pt) 2010-07-13
JPH11171575A (ja) 1999-06-29
EP0887670B1 (en) 2001-06-27
DE69800981T2 (de) 2002-04-04
AU723038B2 (en) 2000-08-17
BR9816133A (pt) 2001-11-27
CN1094906C (zh) 2002-11-27
JP3301602B2 (ja) 2002-07-15
KR100283713B1 (ko) 2001-03-02
CN1221709A (zh) 1999-07-07
CA2240220A1 (en) 1998-12-20
EP0887670A2 (en) 1998-12-30
EP0887670A3 (en) 1999-03-10
DE69800981D1 (de) 2001-08-02
CA2240220C (en) 2003-04-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100283713B1 (ko) 1385㎚에서 저손실되는 광학 섬유 제조 방법
EP0139348B1 (en) Optical fiber and method for its production
US4157906A (en) Method of drawing glass optical waveguides
US6917740B2 (en) Optical fiber having reduced viscosity mismatch
CA1165551A (en) Optical fiber fabrication and resulting product
EP0547335A2 (en) Method of making fluorine/boron doped silica tubes
US20050000253A1 (en) Method of manufacture of low water peak single mode optical fiber
JPS6113203A (ja) 単一モード光学繊維
IZAWA et al. Continuous fabrication process for high-silica fiber preforms
US20020194877A1 (en) Method and apparatus for fabricating optical fiber using improved oxygen stoichiometry and deuterium exposure
CN102149648B (zh) 光纤母材的制造方法
JP2527849B2 (ja) 光ファイバ伝送路の製造方法
KR101057173B1 (ko) 광섬유 및 그의 모재의 제조방법
US4968339A (en) Method of fluorine doped modified chemical vapor deposition
US20020197005A1 (en) Method and apparatus for fabricating optical fiber using adjustment of oxygen stoichiometry
Niizeki Recent progress in glass fibers for optical communication
US5039325A (en) Method for consolidating doped glass using an encapsulating structure
US8667816B2 (en) Method for manufacturing a primary preform
Chida et al. Fabrication of OH-free multimode fiber by vapor phase axial deposition
RU2174248C2 (ru) Оптическое волокно с низкими потерями на длине волны 1385 нм, способ его изготовления и многоканальная система, в которой используется такое оптическое волокно
TOMARU et al. Fabrication of the VAD Single-Mode Fibres
RU2342334C1 (ru) Способ изготовления заготовок для вытягивания анизотропных одномодовых световодов
JPS62283838A (ja) 光フアイバの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121220

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131219

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141219

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151202

Year of fee payment: 16

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161221

Year of fee payment: 17

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171220

Year of fee payment: 18

EXPY Expiration of term