JP5533825B2 - 光ファイバ製造方法および光ファイバ - Google Patents
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Description
T=A×exp(B×F1) …(1)
T>2.6×10−11×exp(4.736×F1) …(2)
T>4.6×10−11×exp(4.736×F1) …(3)
Claims (13)
- ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層が設けられた光ファイバを製造する方法であって、
光ファイバ母材を線引してガラスファイバとし該ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層を設けて元光ファイバとする第1工程と、
前記元光ファイバを分割して複数の光ファイバとする第2工程と、
前記元光ファイバの少なくとも1箇所で、前記元光ファイバの張力を引張速度1%/minで増していって前記元光ファイバが破断するときの張力である破断強度F1、および、半径1.3mmのマンドレルに巻き付けた前記元光ファイバが破断するまでの時間である破断時間Tを求める第3工程と、
前記複数の光ファイバそれぞれの破断強度F2を求める第4工程と、
前記破断強度F1[kgf]および前記破断時間T[min]が T>2.6×10−11×exp(4.736×F1) なる式を満たす元光ファイバから分割された光ファイバであって前記破断強度F2が5.5kgf以上である光ファイバを選択する第5工程と、
を備えることを特徴とする光ファイバ製造方法。 - 前記第3工程において、前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層に含まれる未反応のシランカップリング剤の量の減少率が0.1/7日未満である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。
- 前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において、オリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランを0.1wt%以上10wt%以下含み、アミン系添加剤の含有量が0.001wt%以下である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。
- 前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前において、オリゴマーが付加していない非反応性テトラエトキシシランを0.3wt%以上2wt%以下含む、ことを特徴とする請求項3に記載の光ファイバ製造方法。
- 前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後において破断強度が1.5MPa以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。
- 前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層となる樹脂は、光硬化前においてN-ビニルモノマーを5wt%以上15wt%以下含み、光硬化後において、前記一次被覆層のヤング率が0.2MPa以上1MPa以下であり、前記一次被覆層を取り囲む二次被覆層のヤング率が800MPa以上である、ことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバ製造方法。
- ガラスファイバの周囲に被覆樹脂層が設けられた光ファイバであって、
前記ガラスファイバの外径をd1としたときに、前記ガラスファイバの0.95d1〜d1の領域におけるOH濃度が10wtppm〜1000wtppmであり、
張力を引張速度1%/minで増していって破断するときの張力である破断強度F[kgf]、および、半径1.3mmのマンドレルに巻き付けたときに破断するまでの時間である破断時間T[min]が、T>2.6×10−11×exp(4.736×F) なる式を満たすとともに、F>5.5 なる式を満たす、
ことを特徴とする光ファイバ。 - 前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層に含まれる未反応のシランカップリング剤の量の減少率が0.1/7日未満である、ことを特徴とする請求項7に記載の光ファイバ。
- 前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後において破断強度が1.5MPa以上である、ことを特徴とする請求項7に記載の光ファイバ。
- 前記被覆樹脂層のうち前記ガラスファイバの外周に接触している一次被覆層は、光硬化後においてゲル分率が80〜95%の範囲にある、ことを特徴とする請求項7に記載の光ファイバ。
- 前記被覆樹脂層の外径が210μm以下であり、二次被覆層の厚みが10μm以上である、ことを特徴とする請求項7に記載の光ファイバ。
- 動疲労係数が20以上であることを特徴とする請求項7に記載の光ファイバ。
- 外周に圧縮応力が付与されていることを特徴とする請求項7に記載の光ファイバ。
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