KR19980037948A - Cylindrical Developer Spray Nozzle - Google Patents
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Abstract
원통형 현상액 분사 노즐에 관하여 개시한다. 본 발명은 그 폭이 작아지도록 내측벽에 돌출부를 구비한 것을 특징으로 하는 원통형 현상액 분사 노즐을 제공한다. 본 발명에 의하면, 그 내측벽에 상기 돌출부를 형성함으로써 상기 원통형 현상액 분사 노즐에 채워져 있는 현상액에 기포가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 원통형 현상액 분사 노즐을 통하여 분사되는 현상액이 기포를 함유하지 않기 때문에 감광막의 현상 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.A cylindrical developer spray nozzle is disclosed. The present invention provides a cylindrical developer spray nozzle characterized in that the protrusion is provided on the inner side wall so that the width thereof becomes smaller. According to the present invention, bubbles can be prevented from being generated in the developer filled in the cylindrical developer injection nozzle by forming the protrusion on the inner wall thereof. Therefore, since the developer injected through the cylindrical developer injection nozzle does not contain bubbles, development failure of the photosensitive film can be prevented from occurring.
Description
본 발명은 원통형 현상액 분사 노즐에 관한 것으로, 특히 분사되는 현상액에 기포가 함유되지 않도록하여 감광막의 현상 불량을 방지할 수 있는 원통형 현상액 분사 노즐에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cylindrical developer spray nozzle, and more particularly, to a cylindrical developer spray nozzle capable of preventing development defects of the photosensitive film by preventing bubbles from being injected.
초기에는 스프레이(spray)형 분사 노즐을 사용하여 노광 과정을 거친 감광막 상에 현상액을 분사함으로써 감광막을 현상하였다. 그러나, 스프레이형 분사 노즐을 사용하여 현상액을 분사하는 방법은 분사되는 현상액 내에 많은 양의 기포가 발생하여 감광막의 현상 불량이 발생한다는 문제점을 안고 있다. 이렇게 현상액 분사 시에 분사되는 현상액 내에 많은 양의 기포가 발생하는 것을 방지하기 위하여 원통형 현상액 분사 노즐이 제시되었다.Initially, the photosensitive film was developed by spraying a developer onto the photosensitive film subjected to the exposure process using a spray type spray nozzle. However, the method of spraying the developer using the spray-type spray nozzle has a problem in that a large amount of bubbles are generated in the developer to be sprayed, thereby causing a poor development of the photosensitive film. In order to prevent a large amount of bubbles in the developer injected during developer injection, a cylindrical developer injection nozzle has been proposed.
도 1의 (a) 및 도 1의 (b)는 종래 기술에 의한 원통형 현상액 분사 노즐을 설명하기 위한 개략도들이다.1 (a) and 1 (b) are schematic diagrams for explaining a cylindrical developer spray nozzle according to the prior art.
도 1의 (a)는 원통형 현상액 분사 노즐(20)을 사용하여 감광막을 현상하는 단계를 설명하기 위한 개략도이다. 구체적으로, 그 표면에 노광 과정을 거친 감광막이 도포된 반도체 기판(10) 상에 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20)을 통하여 현상액(22)을 분사시킨다.FIG. 1A is a schematic view for explaining a step of developing a photosensitive film using the cylindrical developer spray nozzle 20. Specifically, the developer 22 is sprayed through the cylindrical developer spray nozzle 20 on the semiconductor substrate 10 on which the photoresist film subjected to the exposure process is applied to the surface thereof.
상기 원통형 현상액 분사 노즐(20)을 이용하면 상기 현상액(22)이 큰 줄기 형태로 분사되기 때문에 스프레이형 분사 노즐을 사용할 때와는 달리 상기 현상액(22) 분사 시에 상기 현상액(22) 내에 기포가 발생하는 것을 방지할 수 있다.When the cylindrical developer spray nozzle 20 is used, the developer 22 is sprayed in the form of a large stem, so that bubbles are formed in the developer 22 when the developer 22 is sprayed, unlike when a spray type spray nozzle is used. It can be prevented from occurring.
도 1의 (b)는 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20)을 확대하여 도시한 상세도이다. 구체적으로, 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20)로 상기 현상액(22)을 분사하는 단계를 행하기 전 또는 후에는 상기 현상액(22)이 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20)에서 밑으로 떨어지는 것을 방지하기 위하여 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20) 내의 압력을 낮춘다. 즉, 압력 차이를 이용하여 상기 현상액(22)이 밑으로 떨어지는 것을 방지한다.FIG. 1B is an enlarged detail view of the cylindrical developer spray nozzle 20. Specifically, in order to prevent the developer 22 from falling down from the cylindrical developer spray nozzle 20 before or after the step of spraying the developer 22 with the cylindrical developer spray nozzle 20. The pressure in the cylindrical developer spray nozzle 20 is lowered. In other words, the pressure difference is used to prevent the developer 22 from falling down.
이 때, 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20)은 그 폭이 크기 때문에 상기 현상액(22)과 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20)의 내측면과의 표면 장력이 약하여 상기 노즐(20) 내에 채워져 있는 상기 현상액(22)에 기포(40)가 형성되기 쉽다. 즉, 상기 현상액(22) 분사 시에 기포가 형성되는 것이 아니라 상기 현상액(22)이 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20) 내에 있을 때 이미 기포가 형성된다. 따라서, 감광막 상에 상기 현상액(22)을 분사할 경우에 상기 기포(40)도 같이 감광막 상에 분사되어 감광막의 현상 불량이 발생할 수 있다.At this time, since the cylindrical developer spray nozzle 20 has a large width, the surface tension between the developer 22 and the inner surface of the cylindrical developer spray nozzle 20 is weak, so that the developer is filled in the nozzle 20. Bubble 40 is likely to be formed at 22. That is, bubbles are not formed when the developer 22 is sprayed, but bubbles are already formed when the developer 22 is in the cylindrical developer spray nozzle 20. Therefore, when the developer 22 is sprayed onto the photoresist film, the bubble 40 may also be sprayed onto the photoresist film, thereby causing a poor development of the photoresist film.
상술한 바와 같이 종래 기술에 의한 원통형 현상액 분사 노즐에 의하면, 상기 현상액(22) 분사 시에 현상액에 기포가 형성되는 것을 방지할 수는 있으나, 상기 현상액(22)이 상기 원통형 현상액 분사 노즐(20)에 채워져 있을 때 이미 상기 현상액(22)에 상기 기포(40)가 형성되기 쉬어 감광막의 현상 불량이 발생하기 쉽다.As described above, according to the cylindrical developer spray nozzle according to the related art, it is possible to prevent bubbles from being formed in the developer when the developer 22 is sprayed, but the developer 22 is the cylindrical developer spray nozzle 20. The bubble 40 is easily formed in the developing solution 22 when it is filled in, so that developing defects of the photosensitive film are likely to occur.
따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 원통형 현상액 분사 노즐 내에 있는 현상액에 기포가 발생하는 것을 방지함으로써 상기 원통형 현상액 분사 노즐을 통하여 분사되는 현상액에 기포가 함유되지 않도록 하여 감광막의 현상 불량을 방지할 수 있는 원통형 현상액 분사 노즐을 제공하는 데 있다.Therefore, the technical problem to be achieved by the present invention is to prevent the development of bubbles in the developer developing in the cylindrical developer injection nozzle to prevent the bubbles contained in the developer injected through the cylindrical developer injection nozzle to prevent the development of the photosensitive film To provide a cylindrical developer spray nozzle.
도 1의 (a) 및 도 1의 (b)는 종래 기술에 의한 원통형 현상액 분사 노즐을 설명하기 위한 개략도들이다.1 (a) and 1 (b) are schematic diagrams for explaining a cylindrical developer spray nozzle according to the prior art.
도 2의 (a) 및 도 2의(b)는 본 발명에 따른 원통형 현상액 분사 노즐을 설명하기 위한 개략도들이다.2 (a) and 2 (b) are schematic diagrams for explaining the cylindrical developer spray nozzle according to the present invention.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings
10: 반도체 기판 20, 120: 원통형 현상액 분사 노즐10: semiconductor substrate 20, 120: cylindrical developer spray nozzle
22, 130: 현상액 40: 기포 A: 돌출부22, 130: developer 40: bubble A: protrusion
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 그 폭이 작아지도록 내측벽에 돌출부를 구비한 것을 특징으로 하는 원통형 현상액 분사 노즐을 제공한다.In order to achieve the above technical problem, the present invention provides a cylindrical developer spray nozzle characterized in that the protrusion is provided on the inner wall so that the width thereof is reduced.
본 발명에 따른 원통형 현상액 분사 노즐에 있어서, 상기 돌출부는 상기 내측벽의 길이 방향으로 가운데 부분에 형성된 것을 특징으로 한다.In the cylindrical developer spray nozzle according to the invention, the protrusion is characterized in that formed in the center portion in the longitudinal direction of the inner wall.
본 발명에 따른 원통형 현상액 분사 노즐에 의하면, 그 내측벽에 상기 돌출부를 형성함으로써 상기 원통형 현상액 분사 노즐에 채워져 있는 현상액에 기포가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 원통형 현상액 분사 노즐을 통하여 분사되는 현상액이 기포를 함유하지 않기 때문에 감광막의 현상 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the cylindrical developer spray nozzle according to the present invention, bubbles can be prevented from occurring in the developer filled in the cylindrical developer spray nozzle by forming the protrusion on the inner wall thereof. Therefore, since the developer injected through the cylindrical developer injection nozzle does not contain bubbles, development failure of the photosensitive film can be prevented from occurring.
이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
도 2의 (a) 및 도 2의 (b)는 본 발명에 따른 원통형 현상액 분사 노즐을 설명하기 위한 개략도들이다.2 (a) and 2 (b) are schematic diagrams for explaining the cylindrical developer spray nozzle according to the present invention.
도 2의 (a) 및 도 2의 (b)를 참조하면, 참조 번호 120은 그 폭이 작아지도록 내측벽에 돌출부(A)를 구비한 원통형 현상액 분사 노즐, 그리고 130은 상기 원통형 현상액 분사 노즐(120)에 채워져 있는 현상액을 각각 나타낸다.Referring to FIGS. 2A and 2B, reference numeral 120 denotes a cylindrical developer spray nozzle having a protrusion A on an inner side wall thereof so as to have a smaller width, and 130 denotes a cylindrical developer spray nozzle ( Each developer filled in 120 is shown.
상기 돌출부(A)에 의해서 상기 현상액 분사 노즐(120)의 폭이 감소하므로 상기 현상액(130)과 상기 원통형 현상액 분사 노즐(120)의 내측벽 사이의 표면 장력이 증가하여 종래와 달리 상기 현상액(130)에 기포가 발생하지 않는다.Since the width of the developer jetting nozzle 120 is reduced by the protrusion A, the surface tension between the developer 130 and the inner wall of the cylindrical developer jetting nozzle 120 is increased, thereby increasing the developer 130. ) Does not generate bubbles.
이 때, 상기 돌출부(A)를 상기 현상액(130)이 분사되는 상기 원통형 분사 노즐(120)의 출구에 형성하는 것은 상기 현상액(130)을 분사할 경우에 그 유속이 빨라져서 분사 압력이 증가하기 때문에 바람직하지 않다. 따라서, 분사 압력을 감소시키기 위하여 상기 돌출부(A)는 상기 내측벽의 길이 방향으로 가운데 부분에 형성하는 것이 바람직하다.At this time, the projecting portion A is formed at the outlet of the cylindrical spray nozzle 120 to which the developer 130 is sprayed because the flow rate is increased when the developer 130 is sprayed to increase the spray pressure. Not desirable Therefore, in order to reduce the injection pressure, the protrusion A is preferably formed at the center portion in the longitudinal direction of the inner wall.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 원통형 현상액 분사 노즐에 의하면, 그 내측벽에 상기 돌출부(A)를 형성함으로써 상기 원통형 현상액 분사 노즐(120)에 채워져 있는 상기 현상액(130)에 기포가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 원통형 현상액 분사 노즐(120)을 통하여 분사되는 현상액이 기포를 함유하지 않기 때문에 감광막의 현상 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.As described above, according to the cylindrical developer spray nozzle according to the present invention, the projection A is formed on the inner wall thereof to prevent bubbles from being generated in the developer 130 filled in the cylindrical developer spray nozzle 120. can do. Therefore, since the developer injected through the cylindrical developer injection nozzle 120 does not contain bubbles, development failure of the photosensitive film may be prevented from occurring.
본 발명은 상기 실시예에만 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함은 명백하다.The present invention is not limited to the above embodiments, and it is apparent that many modifications are possible by those skilled in the art within the technical spirit of the present invention.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960056772A KR19980037948A (en) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | Cylindrical Developer Spray Nozzle |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960056772A KR19980037948A (en) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | Cylindrical Developer Spray Nozzle |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980037948A true KR19980037948A (en) | 1998-08-05 |
Family
ID=66320867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960056772A KR19980037948A (en) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | Cylindrical Developer Spray Nozzle |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR19980037948A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8276779B2 (en) | 2006-11-13 | 2012-10-02 | Hyundai Motor Company | Baffle for automotive fuel tank |
-
1996
- 1996-11-22 KR KR1019960056772A patent/KR19980037948A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8276779B2 (en) | 2006-11-13 | 2012-10-02 | Hyundai Motor Company | Baffle for automotive fuel tank |
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Legal Events
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| WITN | Withdrawal due to no request for examination |