KR102672568B1 - 마스크 자세 모니터링 방법, 장치 및 마스크 입도 검측 설비 - Google Patents
마스크 자세 모니터링 방법, 장치 및 마스크 입도 검측 설비 Download PDFInfo
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Abstract
마스크 자세 모니터링 방법, 장치 및 마스크 입도 검측 설비를 제공하고, 여기서 모니터링 방법은, 적어도 하나의 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리(H1, H2)를 획득하는 단계(S11); 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크(200) 상의 제1 검측점(a1)까지의 제1 방향 (Z)에서의 거리(H1'), 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크(200) 상의 제2 검측점(a2)까지의 제1 방향 (Z)에서의 거리(H2'), 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크(200) 상의 제3 검측점(a3)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 각각 획득하는 단계(S12); 획득한 데이터에 따라 측정될 마스크(200)가 표준면(A)에 대한 제2 방향(X)에서의 편향 각도 및 제3 방향(Y)에서의 편향 각도를 계산하는 단계(S13); 를 포함한다.
Description
본 출원은 2018년 12월 28일에 중국특허청에 제출된 출원번호가 201811630079.0인 중국특허출원의 우선권을 주장하는 바, 해당 출원의 전부 내용은 참조로서 본 출원에 포함된다.
본 출원의 실시예는 반도체 리소그래피 기술 분야에 관한 것으로, 예를 들어, 마스크 자세 모니터링 방법 및 장치 및 마스크 입도 검측 설비에 관한 것이다.
마스크는 클램핑, 전송, 저장 및 노광 과정에서 오염되어 표면에 파티클, 긁힘, 핀홀 등의 흠결이 발생할 수 있다. 노광 과정에서 상술한 흠결의 존재는 리소그래피 머신의 이미지 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치며, 엄중한 경우, 수율이 0으로 저하될 수 있다.
마스크 입도 검측 시스템은 리소그래피 머신 마스크 전송 시스템의 주요 구성요소 중 하나이며, 마스크 표면의 흠결 크기와 위치를 검측할 수 있다. 검측 결과에 따라 리소그래피 머신의 운영 체제 또는 작업자는 마스크를 후속 노광 공정에서 사용할 수 있는지 여부를 결정할 수 있다. 검측 결과는 마스크의 흠결을 제거하기 위한 입력 데이터로도 사용될 수 있다.
조명 및 이미징 시스템의 제한을 받아, 마스크를 스캔하기 전에, 마스크에 대해 초점을 맞추고 수평 자세(X축 주위의 편향 Rx 및 Y축 주위의 편향 Ry)를 검측해야 한다. 현재 특수 설계된 마스크를 사용하여 Rx/Ry를 측정하고, 특수 설계된 마스크에 특정 구조의 회절 표시가 설계되어 있으며, 레이저가 특정 각도로 입사되면, 선형(linear array) 전하 결합 소자(Charge Coupled Device, CCD)가 회절 표시의 산란광 강도를 수신할 수 있이며, 선형 CCD 카메라에서 광점의 위치와 편향에 따라 마스크의 Rx/Ry를 측정한다. 그러나 해당 방법은 마스크 입도 검사 이전의 디버깅(debugging)에만 적용될 수 있고, 특정 작업 프로젝트에서는 매니퓰레이터가 왕복 운동 중에 편향될 수 있으므로, 항상 수평 상태를 유지할 수 없기 때문에, 마스크도 편향되어 비정상적인 입도 검측 결과가 나타난다. 현재, Rx/Ry를 온라인으로 직접 모니터링하기가 어렵고 비용이 많이 들고 효율이 낮다.
본 출원은 마스크 자세 모니터링 방법, 장치 및 마스크 입도 검측 설비를 제공하고, 마스크 입도 검측 과정에서 마스크의 자세가 온라인으로 모니터링되므로 모니터링 설비가 간소화되고 모니터링 효율이 향상된다.
제1 측면에서, 본 출원의 실시예는 마스크 자세 모니터링 방법을 제공하고, 상기 방법은: 적어도 하나의 보정점(calibration point)으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계; 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 제1 방향에서의 거리, 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 제1 방향에서의 거리, 및 제1 방향에서 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계-여기서, 표준면에서 제1 검측점과 제2 검측점의 투영은 제2 방향으로 배치되고, 표준면에서 제1 검측점과 제3 검측점의 투영은 제3 방향으로 배치되고, 제1 방향, 제2 방향 및 제3 방향은 서로 수직되고, 표준면은 제 1 방향에 수직됨-; 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리, 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 제2 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리, 제2 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 제2 방향에서의 거리, 및 제1 검측점과 제2 검측점의 제2 방향에서의 거리에 따라, 측정될 마스크가 표준면에 대한 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하고; 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리, 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 제3 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리, 제3 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 및 제1 검측점과 제3 검측점의 제3 방향에서의 거리에 따라, 측정될 마스크가 표준면에 대한 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계; 를 포함한다.
제2 측면에서, 본 출원의 실시예는 마스크 자세 모니터링 장치를 더 제공하고, 상기 장치는, 측정될 마스크의 상부에 설치되며, 적어도 하나의 보정점(calibration point)으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하고, 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 제1 방향에서의 거리, 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 제1 방향에서의 거리, 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하도록 구성된 적어도 하나의 거리 센서-여기서, 제1 방향, 제2 방향 및 제3 방향은 서로 수직되고, 표준면은 제 1 방향에 수직되며, 표준면에서 제1 검측점과 제2 검측점의 투영은 제2 방향으로 배치되고, 표준면에서 제1 검측점과 제3 검측점의 투영은 제3 방향으로 배치됨-; 제2 방향 및/또는 제3 방향에서의 측정될 마스크의 이동을 구동하도록 구성된 이동 기구; 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리, 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 제2 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리, 제2 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 및 제1 검측점과 제2 검측점의 제2 방향에서의 거리에 따라, 측정될 마스크가 표준면에 대한 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하고; 및 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리, 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 제3 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리, 제3 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 및 제1 검측점과 제3 검측점의 제3 방향에서의 거리에 따라, 측정될 마스크가 표준면에 대한 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하도록 구성된 계산 제어 유닛;을 포함한다.
제3 측면에서, 본 출원의 실시예는 마스크 입도 검측 설비를 더 제공하고, 본 출원의 제2 측면 중 어느 하나의 마스크 자세 모니터링 장치를 포함한다.
본 출원은 마스크 자세 모니터링 방법, 장치 및 마스크 입도 검측 설비를 제공하고, 마스크 입도 검측 과정에서 마스크의 자세가 온라인으로 모니터링되므로 모니터링 설비가 간소화되고 모니터링 효율이 향상되는 효과를 가진다.
도 1은 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 자세 모니터링 방법이다.
도 2는 본 출원의 실시예에서 측정될 마스크의 편향 각도를 계산하는 모식도이다.
도 3은 본 출원의 실시예에서 측정될 마스크 상의 각 검측점의 분포 개략도이다.
도 4는 본 출원의 실시예의 다른 하나의 측정될 마스크의 편향 각도를 계산하는 모식도이다.
도 5는 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 자세 모니터링 장치의 제3 방향에서의 개략도이다.
도 6은 도 5의 마스크 자세 모니터링 장치의 제2 방향에서의 개략도이다.
도 7은 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 자세 모니터링 장치의 제3 방향에서의 개략도이다.
도 8은 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 입도 검측 설비의 검측 모식도이다.
도 2는 본 출원의 실시예에서 측정될 마스크의 편향 각도를 계산하는 모식도이다.
도 3은 본 출원의 실시예에서 측정될 마스크 상의 각 검측점의 분포 개략도이다.
도 4는 본 출원의 실시예의 다른 하나의 측정될 마스크의 편향 각도를 계산하는 모식도이다.
도 5는 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 자세 모니터링 장치의 제3 방향에서의 개략도이다.
도 6은 도 5의 마스크 자세 모니터링 장치의 제2 방향에서의 개략도이다.
도 7은 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 자세 모니터링 장치의 제3 방향에서의 개략도이다.
도 8은 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 입도 검측 설비의 검측 모식도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 출원의 실시예의 기술방안을 보다 구체적으로 설명하고, 물론 상술한 실시예는 본 출원의 실시예의 전부의 실시예가 아닌 일부 실시예에 불과하다. 본 출원의 실시예에 기초하여, 진보성 노동없이 당업자에 의해 획득된 모든 기타 실시예는 본 출원의 보호범위에 속할 것이다.
본 출원의 설명에서 달리 명시적으로 규정되거나 한정되지 않는 한, "연결", "접속" 및 "고정"라는 용어는 예를 들어 고정 연결, 착탈 가능한 연결 또는 통합될 수 있는 것과 같이 광범위하게 해석되어야 하며, 기계적 연결 또는 전기적 연결일 수 있고, 또한 중간 매체를 통해 직접 연결되거나 간접적으로 연결될 수 있으며 두 요소 간의 내부 연통 또는 두 요소 간의 상호 작용 관계일 수 있다. 본 분야의 당업자에게 있어서, 본 출원에서 상술한 용어의 구체적인 의미는 특정 상황에 따라 이해될 수 있다.
본 출원에서, 달리 명시적으로 규정되고 한정되지 않는 한, 제1 특징이 제2 특징의 "위" 또는 "아래"에 위치하는 경우는 제1 특징과 제2 특징이 직접 접촉하는 것을 포함할 수 있거나, 제1 특징 및 제2 특징이 집적 접촉하는 것이 아니고, 이들 사이의 기타 특징을 통해 접촉하는 것도 포함할 수 있다. 또한, 제1 특징이 제2 특징의 "위", "상부" 및 "상면"에 위치하는 경우는 제1 특징이 제2 특징의 "정 상부"와 "사선 윗 방향"에 위치하는 것을 포함할 수 있고, 또는, 단순히 제1 특징의 수평 높이가 제2 특징보다 높음을 나타낼 수 있다. 제1 특징이 제2 특징의 "아래", "하부" 및 "하면"에 위치하는 경우는 제1 특징이 제2 특징의 "정 하부"와 "사선 아래 방향"에 위치하는 것을 포함할 수 있고, 또는, 단순히 제1 특징의 수평 높이가 제2 특징보다 낮음을 나타낼 수 있다.
본 출원의 실시예는 마스크 자세 모니터링 방법을 제공하고, 도 1은 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 자세 모니터링 방법이며, 도 1에 도시된 바와 같이, 해당 마스크 자세 모니터링은 단계(S11) 내지 단계(S13)을 포함한다.
단계(S11)에서, 적어도 하나의 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득한다.
여기서, 표준면은 제1 방향(Z)에 수직되는 평면이다. 예시적으로, 적어도 하나의 보정점은 3개의 보정점일 수 있으며, 3개의 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득한다. 설명해야 할 것은, 3개의 보정점이 위치한 평면은 표준면에 평행될 수 있으며, 이 경우 그 중 하나의 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하면 된다.
단계(S12)에서, 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크 상의 제1 검측점, 제2 검측점 및 제3 검측점까지의 제1 방향에서의 거리를 획득한다.
여기서, 제1 검측점, 제2 검측점 및 제3 검측점은 측정될 마스크 상에 위치하고, 3개의 보정점과 일대일 대응되며, 표준면에서 제1 검측점과 제2 검측점의 투영은 제2 방향(X)으로 배치되고, 표준면에서 제1 검측점과 제3 검측점의 투영은 제3 방향(Y)으로 배치되고, 제1 방향, 제2 방향 및 제3 방향은 서로 수직된다. 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크 상의 제1 검측점, 제2 검측점 및 제3 검측점까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계는 각 검측점으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계를 포함한다.
단계(S13)에서, 획득한 데이터에 따라 측정될 마스크가 표준면에 대한 제2 방향에서의 편향 각도 및 제3 방향에서의 편향 각도를 계산한다.
도 2는 본 출원의 실시예에서 측정될 마스크의 편향 각도를 계산하는 모식도이고, 도 3은 본 출원의 실시예에서 측정될 마스크 상의 각 검측점의 분포 개략도이다. 설명해야 할 것은, 각 검측점은 측정될 마스크 상의 고정된 점이 아니며, 검측 수요에 따라 설정될 수 있으며, 표준면에서 제1 검측점과 제2 검측점의 투영이 제2 방향(X)으로 배치되고, 표준면에서 제1 검측점과 제3 검측점의 투영이 제3 방향(Y)으로 배치되는 것을 충족하면 된다. 측정될 마스크가 표준면에 대한 제3 방향에서의 편향 각도를 측정하는 경우의 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 일 실시예에서, 제1 검측점(a1)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', 제1 검측점(a1)에 대응되는 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1, 제2 검측점(a2)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H2', 제2 검측점(a2)에 대응되는 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H2, 및 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제2 방향(X)에서의 거리 L1에 따라, 측정될 마스크(200)가 표준면(A)에 대한 제3 방향(Y)에서의 편향 각도(θ1)를 측정한다. 여기서, 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 거리 L1는 제2 방향(X)에서의 대응되는 2개의 보정점의 제2 방향(X)에서의 거리이다. 일 실시예에서 계산 공식은 다음과 같다:
측정될 마스크(200)가 표준면에 대한 제2 방향(X)에서의 편향 각도를 계산하는 원리는 측정될 마스크(200)가 제2 방향(X)에서의 편향 각도를 계산하는 원리와 유사하며, 일 실시예에서, 제1 검측점(a1)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', 제1 검측점(a1)에 대응되는 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1, 제3 검측점(a3)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H3', 제1 검측점(a3)에 대응되는 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H3, 및 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제3 방향(Y)에서의 거리 L2에 따라, 측정될 마스크(200)가 표준면(A)에 대한 제2 방향(X)에서의 편향 각도(θ2)를 측정한다. 여기서, 제1 검측점(a1)과 제3 검측점(a2)의 제3 방향(Y)에서의 거리 L2는 대응되는 2개의 보정점의 제3 방향(Y)에서의 거리이다. 일 실시예에서 계산 공식은 다음과 같다:
본 출원의 실시예는 적어도 하나의 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크 상의 제1 검측점, 제2 검측점과 제3 검측점의 제1 방향에서의 거리를 획득하고, 획득한 데이터에 따라 측정될 마스크의 제2 방향에서의 편향 각도 및 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하는 것을 통해, 측정될 마스크의 편향 각도에 대한 온라인 모니터링를 구현할 수 있고, 모니터링 과정이 간단하고 모니터링 효율이 높으며, 특수 설계된 마스크 및 선형 CCD 카메라가 필요하지 않으며, 모니터링 비용이 낮다.
일 실시예에서, 적어도 하나의 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계 전에, 보정 마스크에 대한 레벨링(levelling)을 수행하여 보정 마스크가 제1 방향에 수직되고, 보정 마스크의 표면이 표준면이 되도록 한다.
일 실시예에서, 오프라인 상태에서 보정 마스크를 레벨링하고, 보정 마스크는 측정될 마스크(200)와 동일한 파라미터와 설계를 가지는 마스크일 수 있으며, 따라서, 보정 마스크는 제1 방향(Z)에 수직되고, 보정 마스크의 상하표면은 표준면이 될 수 있으며, 보정 마스크는 특수 설계가 필요하지 않다.
일 실시예에서, 계속하여 도 2를 참조하면, 본 출원의 다른 하나의 실시예에서, 적어도 하나의 보정점은 2개의 보정점일 수 있으며, 각각 제1 보정점과 제2 보정점이며, 제1 보정점과 제2 보정점은 제2 방향(X)으로 배치되고, 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크 상의 제1 검측점, 제2 검측점 및 제3 검측점까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계는, 제1 보정점으로부터 제1 검측점(a1)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', 및 제2 보정점으로부터 제2 검측점(a2)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H2'를 획득하는 단계; 제3 방향(Y)에 따라 측정될 마스크(200)를 이동하고, 제1 보정점으로부터 제3 검측점(a3)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 획득하고, 해당 거리를 제3 검측점(a3)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H3'로하는 단계-여기서, 측정될 마스크(200)가 제3 방향(Y)에서의 이동 거리는 제1 검측점(a1)과 제3 검측점(a3)의 제3 방향(Y)에서의 거리 L2임-; 를 포함한다.
본 출원의 실시예는 보정점의 개수를 줄이고 모니터링 장치의 구조를 단순화할 수 있으며 관련기술의 마스크 이동 기구를 사용하여 측정될 마스크를 이동함으로써 모니터링 비용을 절감할 수 있다.
일 실시예에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 보정점과 제2 보정점은 측정될 마스크(200)의 동일한 측에 위치한다. 도 4는 본 출원의 실시예의 다른 하나의 측정될 마스크의 편향 각도를 계산하는 모식도이고, 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 보정점과 제2 보정점은 측정될 마스크(200)의 상이한 측에 위치할 수도 있다.
본 출원의 다른 하나의 실시예에서, 적어도 하나의 보정점은 2개의 보정점일 수 있으며, 각각 제3 보정점과 제4 보정점이며, 제3 보정점과 제4 보정점은 제3 방향(Y)으로 배치되고, 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크 상의 제1 검측점, 제2 검측점과 제3 검측점까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계는, 제3 보정점으로부터 제1 검측점(a1)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 획득하고, 해당 거리를 제1 검측점(a1)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1'로 하며, 제4 보정점으로부터 제3 검측점(a3)까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하고, 해당 거리를 제3 검측점(a3)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H3'로 하는 단계; 제2방향(X)에 따라 측정될 마스크(200)를 이동하고, 제3 보정점으로부터 제2 검측점(a2)의 제1 방향(Z)에서의 거리를 획득하고, 해당 거리를 제2 검측점(a2)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H2'로 하는 단계-여기서, 측정될 마스크(200)가 제2 방향(X)에서의 이동 거리는 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제2 방향(Y)에서의 거리 L1임-; 를 포함한다.
일 실시예에서, 제3 보정점과 제4 보정점은 측정될 마스크의 동일한 측 또는 상이한 측에 위치한다.
본 출원의 다른 하나의 실시예에서, 보정점은 제5 보정점을 포함하고, 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크 상의 제1 검측점, 제2 검측점과 제3 검측점까지의 제1 방향에서의 거리(Z)를 획득하는 단계는, 제2방향(X) 및/또는 제3 방향(Y)에 따라 측정될 마스크(200)를 이동하고, 제5 보정점으로부터 제1 검측점(a1)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리, 제5 보정점으로부터 제2 검측점(a2)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리, 및 제5 보정점으로부터 제3 검측점(a3)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 획득하여, 각 검측점으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', H2' 및 H3'으로 하는 단계-여기서, 측정될 마스크(200)가 제2 방향(X)에서의 이동 거리는 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제2 방향(X)에서의 거리이고, 측정될 마스크(200)가 제3 방향(Y)에서의 이동 거리는 제1 검측점(a1)과 제3 검측점(a3)의 제3 방향(X)에서의 거리임-; 를 포함한다.
본 출원의 실시예는 보정점의 개수를 더 줄이고, 하나의 보정점을 사용하여 모니터링 과정을 완료할 수 있으며, 모니터링 장치의 구조를 단순화하고, 관련기술의 마스크 이동 기구를 사용하여 측정될 마스크를 이동함으로써 모니터링 비용을 절감할 수 있다.
본 출원의 실시예는 마스크 자세 모니터링 장치를 더 제공하고, 도 5는 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 자세 모니터링 장치의 제3 방향에서의 개략도이고, 도 6은 도 5의 마스크 자세 모니터링 장치의 제2 방향에서의 개략도이며, 도 5와 도 6에 도시된 바와 같이, 마스크 자세 모니터링 장치는, 적어도 하나의 거리 센서(101), 이동 기구(400) 및 제어 계산 유닛(도면에서 도시되지 않음)을 포함한다. 적어도 하나의 거리 센서(101)는 측정될 마스크(200)의 상부에 설치되고, 장착 프레임(300)에 고정되며, 예시적으로, 적어도 하나의 거리 센서는 3개의 보정점으로부터 표준면(A) 까지의 제1 방향(Z)에서의 거리, 및 측정될 마스크(200) 상의 제1 검측점(a1), 제2 검측점(a2)과 제3 검측점(a3)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 획득하도록 구성된 3개의 거리 센서(101)일 수 있으며, 여기서, 제1 방향(Z), 제2 방향(X) 및 제3 방향(Y)은 서로 수직이고, 표준면(A)은 제1 방향(Z)에 수직되며, 표준면에서 제1 검측점과 제2 검측점의 투영은 제2 방향(X)으로 배치되고, 표준면(A)으로부터 제1 검측점(a1)과 제3 검측점(a3)의 투영은 제3 방향(Y)으로 배치되며, 거리 센서와 검측점은 일대일 대응된다. 여기서, 표준면(A)는 오프라인 상태에서 보정 마스크를 레벨링한 후의, 보정 마스크의 상하표면이고, 보정 마스크는 측정될 마스크(200)와 동일한 파라미터와 설계를 가지는 마스크일 수 있으며, 보정 마스크를 레벨링하여 보정 마스크가 제1 방향(Z)에 수직되도록 한다.
이동 기구(400)는 제2 방향(X) 및/또는 제3 방향(Y)에서의 측정될 마스크(200)의 이동을 구동하도록 구성되고, 이동 기구(400)는 매니퓰레이터일 수 있고, 매니퓰레이터의 자유 단부에는 측정될 마스크(200)를 적재하도록 구성된 포크(fork)가 제공된다.
제어 계산 유닛(도면에서 도시되지 않음)은 거리 센서(101)가 획득한 데이터에 따라 측정될 마스크(200)가 표준면(A)에 대한 제2 방향(X)에서의 편향 각도 및 제3 방향(Y)에서의 편향 각도를 계산하도록 구성된다.
일 실시예에서, 제1 검측점(a1)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', 제1 검측점(a1)에 대응되는 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1, 제2 검측점(a2)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H2', 제2 검측점(a2)에 대응되는 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H2, 및 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제2 방향(X)에서의 거리 L1에 따라, 측정될 마스크(200)가 표준면(A)에 대한 제3 방향(Y)에서의 편향 각도(θ1)를 측정한다. 여기서, 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제2 방향(X)에서의 거리 L1는 대응되는 2개의 거리 센서(101)의 제2 방향(X)에서의 거리이다. 일 실시예에서 계산 공식은 다음과 같다:
측정될 마스크(200)가 표준면에 대한 제2 방향(X)에서의 편향 각도를 계산하는 원리는 측정될 마스크(200)가 제2 방향(Y)에서의 편향 각도를 계산하는 원리와 유사하며, 일 실시예에서, 제1 검측점(a1)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', 제1 검측점(a1)에 대응되는 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1, 제3 검측점(a3)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H3', 제1 검측점(a3)에 대응되는 보정점으로부터 표준면(A)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H3, 및 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제3 방향(Y)에서의 거리 L2에 따라, 측정될 마스크(200)가 표준면(A)에 대한 제2 방향(X)에서의 편향 각도(θ2)를 측정한다. 여기서, 제1 검측점(a1)과 제3 검측점(a2)의 제3 방향(Y)에서의 거리 L2는 대응되는 2개의 거리 센서(101)의 제3 방향(Y)에서의 거리이다. 일 실시예에서 계산 공식은 다음과 같다:
본 출원의 실시예는 적어도 하나의 거리 센서를 통해, 적어도 하나의 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리, 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크 상의 제1 검측점, 제2 검측점과 제3 검측점까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하고, 제어 계산 유닛은 획득한 데이터에 따라 측정될 마스크가 표준면에 대한 제2 방향에서의 편향 각도 및 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하는 것을 통해, 측정될 마스크의 편향 각도에 대한 온라인 모니터링을 구현할 수 있고, 모니터링 과정이 간단하고 모니터링 효율이 높으며, 특수 설계된 마스크 및 선형 CCD 카메라가 필요하지 않으며, 모니터링 비용이 낮다.
본 출원의 다른 한 실시예에서, 도 5를 참조하면, 마스크 자세 모니터링 장치는, 제2 방향(X)으로 배치되며 제1 보정점과 제2 보정점에 각각 대응되는 2개의 거리 센서(101)를 포함한다. 2개의 거리 센서(101)는 먼저 제1 보정점으로부터 제1 검측점(a1)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', 및 제2 보정점으로부터 제2 검측점(a2)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H2'를 획득한다. 그리고, 제어 계산 유닛은 이동 기구(400)를 제어하여 측정될 마스크(200)를 적재하여 제3 방향(Y)으로 이동하도록 하고, 대응되는 거리 센서(101)는 제1 보정점으로부터 제3 검측점(a3)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 획득하고, 해당 거리를 제3 검측점(a3)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H3'로 하고, 여기서, 측정될 마스크(200)가 제3 방향(Y)에서의 이동 거리는 제1 검측점(a1)과 제3 검측점(a3)의 제3 방향(Y)에서의 거리 L2이다.
도 6을 참조하면, 본 출원의 다른 한 실시예에서, 마스크 자세 모니터링 장치는, 제3 방향(Y)으로 배치되며 제3 보정점과 제4 보정점에 각각 대응되는 2개의 거리 센서(101)를 포함한다. 2개의 거리 센서(101)는 먼저 제3 보정점으로부터 제1 검측점(a1)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', 및 제4 보정점으로부터 제3 검측점(H3)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H3'를 획득한다. 그리고, 제어 계산 유닛은 이동 기구를 제어하여 측정될 마스크(200)를 적재하여 제2 방향(X)으로 이동하도록 하고, 대응되는 거리 센서(101)는 제3 보정점으로부터 제2 검측점(a2)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 획득하고, 해당 거리를 제2 검측점(a2)으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H2'로 하고, 여기서, 측정될 마스크(200)가 제2 방향(X)에서의 이동 거리는 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제2 방향(X)에서의 거리 L2이다.
도 7은 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 자세 모니터링 장치의 제3 방향에서의 개략도이고, 일 실시예에서, 도 5, 도 6 또는 도 7을 참조하면, 2개의 거리 센서(101)는 측정될 마스크의 동일한 측 또는 상이한 측에 위치한다.
본 출원의 실시예는 거리 센서의 개수를 줄이고 모니터링 장치의 구조를 단순화할 수 있으며 관련기술의 마스크 이동 기구를 사용하여 측정될 마스크를 이동함으로써 모니터링 비용을 절감할 수 있다.
본 출원의 다른 한 실시예에서, 마스크 자세 모니터링 장치는, 제5 보정점에 대응되는 거리 센서(101)를 포함한다. 일 실시예에서, 이동 기구(400)는 제2방향(X) 및/또는 제3 방향(Y)에 따라 측정될 마스크(200)를 이동하고, 거리 센서(1010)는 제5 보정점으로부터 제1 검측점(a1)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리, 제5 보정점으로부터 제2 검측점(a2)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리, 및 제5 보정점으로부터 제3 검측점(a3)까지의 제1 방향(Z)에서의 거리를 획득하고, 각 검측점으로부터 대응되는 보정점까지의 제1 방향(Z)에서의 거리 H1', H2' 및 H3'으로 하며, 여기서, 측정될 마스크(200)가 제2 방향(X)에서의 이동 거리는 제1 검측점(a1)과 제2 검측점(a2)의 제2 방향(X)에서의 거리 L1이고, 측정될 마스크(200)가 제3 방향(Y)에서의 이동 거리는 제1 검측점(a1)과 제3 검측점(a3)의 제3 방향(X)에서의 거리 L2이다.
본 출원의 실시예는 거리 센서의 개수를 더 줄이고, 하나의 거리 센서를 사용하여 모니터링 과정을 완료할 수 있으며, 모니터링 장치의 구조를 단순화하고, 관련기술의 마스크 이동 기구를 사용하여 측정될 마스크를 이동함으로써 모니터링 비용을 절감할 수 있다.
본 출원의 실시예는 마스크 입도 검측 설비를 더 제공하고, 본 출원의 상기 어느 하나의 실시예에 따른 마스크 자세 모니터링 장치를 포함한다.
마스크 입도 검측 설비는 리소그래피 머신 마스크 전송 시스템의 주요 구성요소 중 하나이며, 마스크 보호 필름(pellicle) 표면 및 기저(glass)면 상의 오염된 입도 크기와 위치를 검측할 수 있다. 검측 결과에 따라 리소그래피 머신의 운영 체제 또는 작업자가 마스크를 후속 노광 공정에서 사용할 수 있는지 여부를 결정할 수 있다. 검측 결과는 마스크의 오염된 입도를 제거하기 위한 입력 데이터로도 사용될 수 있다.
도 8은 본 출원의 실시예서 제공한 마스크 입도 검측 설비의 검측 모식도이고, 도 8에 도시된 바와 같이, 마스크의 보호 필름(201)과 기저(202) 표면에 각각 한 세트의 조명 및 탐지 유닛을 구성한다. 입도의 탐지 감도를 향상하기 위해, 마스크 입도 검측은 픽셀 크기보다 작은 입도를 탐지할 수 있는 암시야 산란 측정 기술을 사용한다.
광원(601)에서 생성된 빛은 조명 시스템(602)에 의해 시준, 확장 및 균질화되어 일정한 경사각으로 pellicle 면(또는 glass면)에 입사되고, pellicle 면에 고휘도 선형 스폿(spot)을 형성하고, 해당 스폿은 바로 탐지 영역이다. 탐지 영역은 제3 방향(Y)에 따라 분포되고, 탐지 영역에 오염 입자가 없을 때, 광선은 거울 반사 방향을 따라 흡수 장치(603)로 들어가며, 이때 탐지 유닛(604)은 광신호를 검측할 수 없고; 탐지 영역에 오염 입자가 존재하는 경우, 광선의 일부가 입자에 의해 산란되어 탐지 유닛(604)에 입사되며, 검측된 광도에 따라 입자 크기를 확정할 수 있다. 이동 기구는 마스크를 적재하여 제2 방향(X)으로 이동하고, 탐지 영역은 전체 마스크 표면을 스캔한다.
설명해야 할 것은 용어 "상" 등 방향 또는 위치 관계는 도면에 도시된 방향 또는 위치 관계를 기반으로 하며, 설명의 편의 및 작업의 단순화를 위한 것일 뿐이며, 언급된 장치 또는 요소가 반드시 특정 방향을 가지거나, 특정 방향으로 구성 및 작동해야 하는 것을 지시하거나 암시하지 않으며, 본 발명에 대한 한정을 구성하지 않는다.
본 명세서의 설명에서 "일 실시예" 등의 참조 용어를 사용한 설명은 본 출원의 적어도 하나의 실시예 또는 예에 본 실시예의 특징, 구조, 재료 또는 특성이 포함됨을 의미한다. 본 명세서에서 상술한 용어의 개략적인 표현은 반드시 동일한 실시예를 지칭하는 것은 아니다.
또한, 본 명세서는 실시예에 따라 설명되지만, 모든 실시예가 하나의 독립적인 기술방안만을 포함하는 것은 아님을 이해해야 하며, 설명서에서 이러한 설명 방법은 소자의 명확하게 하기 위함이고, 본 분야의 당업자는 명세서를 하나의 전체로 간주해야 하며, 다양한 실시예의 기술방안은 또한 적절하게 조합되어 당업자가 이해할 수 있는 다른 실시예를 형성할 수 있다.
Claims (14)
- 적어도 하나의 보정점(calibration point)으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계;
상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계-여기서, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 투영은 제2 방향으로 배치되고, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 투영은 제3 방향으로 배치되며, 상기 제1 방향, 상기 제2 방향 및 제3 방향은 서로 수직되고, 상기 표준면은 상기 제1 방향에 수직됨-;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 상기 제2 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 상기 제2 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 상기 제3 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계;
를 포함하되,
상기 적어도 하나의 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계 전에,
보정 마스크에 대한 레벨링을 수행하여 상기 보정 마스크가 상기 제1 방향에 수직되고, 상기 보정 마스크의 표면이 상기 표준면이 되도록 하는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 방법. - 삭제
- 적어도 하나의 보정점(calibration point)으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계;
상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계-여기서, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 투영은 제2 방향으로 배치되고, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 투영은 제3 방향으로 배치되며, 상기 제1 방향, 상기 제2 방향 및 제3 방향은 서로 수직되고, 상기 표준면은 상기 제1 방향에 수직됨-;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 상기 제2 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 상기 제2 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 상기 제3 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계;
를 포함하되,
상기 보정점은 제1 보정점과 제2 보정점을 포함하고, 상기 제1 보정점과 상기 제2 보정점은 상기 제2 방향으로 배치되고, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계는,
상기 제1 보정점으로부터 상기 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제2 보정점으로부터 상기 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계;
상기 제3 방향에 따라 상기 측정될 마스크를 이동하여 상기 제1 보정점으로부터 상기 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계-여기서, 상기 측정될 마스크가 상기 제3 방향에서의 이동 거리는 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 상기 제3 방향에서의 거리임-; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 방법. - 제3 항에 있어서,
상기 제1 보정점과 상기 제2 보정점은 상기 측정될 마스크의 동일한 측 또는 상이한 측에 위치하는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 방법. - 적어도 하나의 보정점(calibration point)으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계;
상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계-여기서, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 투영은 제2 방향으로 배치되고, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 투영은 제3 방향으로 배치되며, 상기 제1 방향, 상기 제2 방향 및 제3 방향은 서로 수직되고, 상기 표준면은 상기 제1 방향에 수직됨-;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 상기 제2 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 상기 제2 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 상기 제3 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계;
를 포함하되,
상기 보정점은 제3 보정점과 제4 보정점을 포함하고, 상기 제3 보정점과 상기 제4 보정점은 상기 제3 방향으로 배치되고, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계는,
상기 제3 보정점으로부터 상기 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제4 보정점으로부터 상기 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계;
상기 제2 방향에 따라 상기 측정될 마스크를 이동하여 상기 제3 보정점으로부터 상기 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계-여기서, 상기 측정될 마스크가 상기 제2 방향에서의 이동 거리는 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 상기 제2 방향에서의 거리임-; 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 방법. - 제5 항에 있어서,
상기 제3 보정점과 상기 제4 보정점은 상기 측정될 마스크의 동일한 측 또는 상이한 측에 위치하는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 방법. - 적어도 하나의 보정점(calibration point)으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하는 단계;
상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계-여기서, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 투영은 제2 방향으로 배치되고, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 투영은 제3 방향으로 배치되며, 상기 제1 방향, 상기 제2 방향 및 제3 방향은 서로 수직되고, 상기 표준면은 상기 제1 방향에 수직됨-;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점에 대응하는 보정점으로부터 표준면까지의 상기 제2 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 상기 제2 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 상기 제3 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계;
를 포함하되,
상기 보정점은 제5 보정점을 포함하고, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계는,
상기 제2 방향과 제3 방향 중 적어도 하나의 방향에 따라 상기 측정될 마스크를 이동하고, 상기 제5 보정점으로부터 상기 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제5 보정점으로부터 상기 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제5 보정점으로부터 상기 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하는 단계를 포함하고, 여기서, 상기 측정될 마스크가 상기 제2 방향에서의 이동 거리는 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 상기 제2 방향에서의 거리이고, 상기 측정될 마스크가 상기 제3 방향에서의 이동 거리는 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 상기 제3 방향에서의 거리인 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계는, 이하의 공식:
을 통해 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계를 포함하고,
여기서, θ1은 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제3 방향에서의 편향 각도이고, H1'은 상기 제1 검측점으로부터 대응되는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리이고, H1은 상기 제1 검측점에 대응되는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리이며, H2'는 상기 제2 검측점으로부터 대응되는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리이고, H2는 상기 제2 검측점에 대응되는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리이며, L1은 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 상기 제2 방향에서의 거리인 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 방법. - 제1 항에 있어서,
상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계는, 이하의 공식:
을 통해 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하는 단계를 포함하며,
여기서, θ2은 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제2 방향에서의 편향 각도이고, H1'은 상기 제1 검측점으로부터 대응되는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리이고, H1은 상기 제1 검측점에 대응되는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리이며, H3'은 상기 제3 검측점으로부터 대응되는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리이고, H3은 상기 제3 검측점에 대응되는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리이며, L2은 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 상기 제3 방향에서의 거리인 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 방법. - 측정될 마스크의 상부에 설치되며, 적어도 하나의 보정점으로부터 표준면까지의 제1 방향에서의 거리를 획득하고, 및 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제1 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제2 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 적어도 하나의 보정점으로부터 측정될 마스크의 제3 검측점까지의 상기 제1 방향에서의 거리를 각각 획득하도록 구성된 적어도 하나의 거리 센서-여기서, 상기 제1 방향, 제2 방향 및 제3 방향은 서로 수직되고, 상기 표준면은 상기 제 1 방향에 수직되며, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 투영은 상기 제2 방향으로 배치되고, 상기 표준면에서 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 투영은 상기 제3 방향으로 배치됨-;
상기 측정될 마스크의 이동을 구동하여 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동하도록 구성된 이동 기구;
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제2 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제2 검측점의 상기 제2 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제3 방향에서의 편향 각도를 계산하고; 및
상기 제1 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제1 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점으로부터 대응하는 보정점까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 상기 제3 검측점에 대응하는 보정점으로부터 상기 표준면까지의 상기 제1 방향에서의 거리, 및 상기 제1 검측점과 상기 제3 검측점의 상기 제3 방향에서의 거리에 따라, 상기 측정될 마스크가 상기 표준면에 대한 상기 제2 방향에서의 편향 각도를 계산하도록 구성된 제어 계산 유닛;
을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 장치. - 제10 항에 있어서,
상기 마스크 자세 모니터링 장치는 2개의 거리 센서를 포함하고, 상기 2개의 거리 센서는 상기 제2 방향에 따라 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 장치. - 제10 항에 있어서,
상기 마스크 자세 모니터링 장치는 2개의 거리 센서를 포함하고, 상기 2개의 거리 센서는 상기 제3 방향에 따라 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 장치. - 제11 항에 있어서,
상기 2개의 거리 센서는 상기 측정될 마스크의 동일한 측 또는 상이한 측에 위치하는 것을 특징으로 하는 마스크 자세 모니터링 장치. - 제10 항 내지 제13 항 중 어느 한 항에 따른 마스크 자세 모니터링 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 입도 모니터링 장치.
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