KR102640324B1 - 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법 - Google Patents

알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102640324B1
KR102640324B1 KR1020210084275A KR20210084275A KR102640324B1 KR 102640324 B1 KR102640324 B1 KR 102640324B1 KR 1020210084275 A KR1020210084275 A KR 1020210084275A KR 20210084275 A KR20210084275 A KR 20210084275A KR 102640324 B1 KR102640324 B1 KR 102640324B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
acid
showerhead
alkaline
aluminum
Prior art date
Application number
KR1020210084275A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20230001439A (ko
Inventor
권용철
Original Assignee
주식회사 알지비하이텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 알지비하이텍 filed Critical 주식회사 알지비하이텍
Priority to KR1020210084275A priority Critical patent/KR102640324B1/ko
Publication of KR20230001439A publication Critical patent/KR20230001439A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102640324B1 publication Critical patent/KR102640324B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/14—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
    • C23G1/22—Light metals
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45563—Gas nozzles
    • C23C16/45565—Shower nozzles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
    • C23G1/12—Light metals
    • C23G1/125—Light metals aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
    • C25F1/00—Electrolytic cleaning, degreasing, pickling or descaling

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

본 발명은 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판처리장치의 샤워헤드 등의 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법에 관한 것이다.
본 발명은, 알루미늄 또는 그 합금 재질을 가지는 세정대상부재의 세정방법으로서, 알칼리 세정 단계 : 알칼리 세정액을 사용하여 세정대상부재를 침지하여 세정하는 단계; 산성 세정 단계 : 산성 세정액을 사용하여 상기 알칼리 세정 단계에 의하여 세정된 상기 세정대상부재를 침지하여 세정하는 단계; 전해 세정 단계 : 상기 산성 세정 단계 후에 상기 세정대상부재를 전해액을 사용하여 전해 세정 하는 단계를 포함하는 세정방법을 개시한다.

Description

알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법 {Cleaning method for member of aluminum and aluminum-alloy}
본 발명은 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판처리장치의 샤워헤드 등의 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법에 관한 것이다.
샤워헤드(Shower head)(도 1에서 1로 표시)는 LCD, OLED, 반도체 등의 기판처리장치에 설치되는 부품으로, 기판처리에 부재이다.
구체적으로, 샤워헤드는, 기판처리장치를 구성하는 챔버(3) 내에 설치되어 공정가스(3)를 처리공간(S) 내에 분사할 수 있도록 다수의 분사공(2)이 형성된다.
특히 상기 샤워헤드(1)는, 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 제조되며, 챔버(3) 등과의 결합을 위하여 분사공(2) 이외에 다수의 홈들이 형성될 수 있다.
한편 상기 샤워헤드(1)는, 어느 정도 사용된 후 샤워헤드(1)의 표면, 홈, 분사공(2)의 내벽 등에 많은 퇴적물이 퇴적되며, 퇴적된 퇴적물에 의하여 홈과 분사공(2)이 막히게 되고, 퇴적물의 일부는 알루미늄 및 그 합금 소재의 샤워헤드(1)의 표면을 부식시키는 문제점이 있다.
더 나아가 샤워헤드(1)에 퇴적되는 퇴적물은, 샤워헤드(1)의 부식 등으로 기판처리장치의 작동 및 처리 효과에 영향을 미치게 된다.
이에 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여 현재의 처리 방법은 샤워헤드(1)을 정기적으로 세정하고 수리하는 것이다.
종래의 세정방법은 주로 교정, 기계적 연마, 샌드 블라스팅, 강알칼리 세정, 강알칼리 세정, 강산 세정 및 건조 공정을 포함한다.
그러나 종래의 기존 세정 및/또는 재생 방법은 다음과 같은 단점이 있다.
첫째, 종래 기술의 세정 및/또는 재생 방법은 보관에서 세정 완료 및 복원, 배송까지 약 100 ~ 200 시간이 소요되며 세정 및 재생 주기가 매우 길어 생산 라인의 지속적인 운영 및 출하량에 심각한 영향을 미친다.
둘째, 샌드 블라스팅 공정 수행시 분사되는 모래 입자는 미세하지만 고속으로 분사하면 표면에 강한 충격력을 주게 된다. 샤워헤드 표면(1)의 퇴적물을 제거하기 위해 연마를 하게 되면, 홈 및 분사공(2)의 구조에 어느 정도의 손상이 발생하여 장비의 정확도와 제어 가능성이 떨어지고 샤워헤드(1)의 수명이 단축된다.
셋째, 종래 기술의 화학 세정 작업은 여러 번 반복해야 하며, 사용되는 세정액의 주성분은 강알칼리 (예 : NaOH 등), 강산 (예 : 질산) 및 다른 화학 물질이 사용된다. 이는 알루미늄 및 그 합금재질의 샤워헤드(1)의 홈 및 분사공(2) 내벽에 강한 부식 효과가 있으며, 또한 표면의 홈 및 분사공(2)의 미세 구조에 어느 정도 손상을 입힐 수 있어, 홀의 내경을 확장하여, 궁극적으로 장비의 정확성 및 제어 가능성에 영향을 미치고, 생산 라인의 불량률을 높이고 사용수명을 단축하며 장비 교체 비용을 증가시킨다.
특허문헌: KR 2010-0138864 A
본 발명의 목적은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여, 세정공정 수행시 가해지는 손상을 최소화하고 공정 수행시간을 크게 단축시킬 수 있는 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법을 제공하는데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 알루미늄 또는 그 합금 재질을 가지는 세정대상부재의 세정방법으로서, 알칼리 세정 단계 : 알칼리 세정액을 사용하여 세정대상부재를 침지하여 세정하는 단계; 산성 세정 단계 : 산성 세정액을 사용하여 상기 알칼리 세정 단계에 의하여 세정된 상기 세정대상부재를 침지하여 세정하는 단계; 전해 세정 단계 : 상기 산성 세정 단계 후에 상기 세정대상부재를 전해액을 사용하여 전해 세정 하는 단계를 포함하는 세정방법을 개시한다.
본 발명에 따른 세정 방법은, 상기 세정대상부재를 연마하는 연마 단계와;
상기 세정대상부재의 표면에서 탈지하는 탈지 단계와; 상기 세정대상부재를 건조하는 건조 단계를 포함하며; 상기 연마 단계 및 상기 탈지 단계는, 상기 알칼리 세정 단계 수행 전에 수행되고, 상기 건조 단계는, 상기 전해 세정 단계 후에 수행될 수 있다.
상기 알칼리 세정 단계는, 알칼리 세정액을 사용하여 0.1 ~ 5 시간 동안 상기 세정대상부재를 침지 및 세정하며, 상기 산성 세정 단계는, 산성 세정액을 사용하여 상기 세정대상부재를 0.1 ~ 5 시간 동안 침지 및 세정하며, 상기 전해 세정 단계는, 상기 세정대상부재를 전해액을 사용하여 1-20 시간 동안 전해 세정할 수 있다.
상기 알칼리 세정액의 성분 및 함량 비율이 알칼리 1-50%, 알칼리 염 0.1-25%, 계면 활성제 0.01 ~ 0.5%로 구성될 수 있다.
상기 알칼리는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 및 수산화칼슘 중 적어도 하나를 포함하며; 상기 알칼리 염은, 탄산나트륨, 메타 규산 나트륨, 인산 나트륨 및 옥살산 나트륨 중 적어도 하나를 포함하며; 상기 계면 활성제는, 알킬 벤젠 설포 네이트, 알킬 설포 네이트, 숙시 네이트 설포 네이트, α-알 케닐 설포 네이트, 지방 알코올 설페이트 및 지방 알코올 폴리 옥시 에틸렌 에테르 설페이트 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 산성 세정액의 성분 및 함량 비율은 1-50 % 의 산화 산을 포함할 수 있다.
상기 산화 산은 아질산, 인산, 농황산, 과산화이황산, 중크롬산, 과염소산, 하이포 요오드 산, 염소산, 브롬 산, 차아 브롬 산, 메타과요산, 차아 염소산, 염소산, 과망간산, 과 브롬 산 및 과산화수소 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 전해액의 조성 및 함량 비율이 5-50 % 산 및 1-20 % 산성염을 포함할 수 있다.
상기 산은 황산, 인산, 붕산, 질산, 과산화수소, 옥살산 및 말산 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 산성염은 황산염, 인산염, 붕산염, 질산염 및 옥살산 염 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법은, 이론적으로 모든 알루미늄 및 그 합금 재질의 부재의 세정 및/또는 재생에 사용될 수 있으며, 특히 LCD, OLED 및 반도체 제조 장비와 같은 기판처리장치에서 홈, 분사공 등 미세 구조를 가지는 알루미늄 또는 및 그 합금 재질의 부재, 예를 들면 샤워헤드 등의 세정 및/또는 재생에 사용될 수 있다.
본 발명은, 종래 기술과 비교하여 다양한 절차, 특히 각 세정액 및 세정 작업 절차의 각 단계를 최적화하고 최종적으로 본 발명의 세정 및/또는 재생 방법은 샌드 블라스팅 공정 수행없이 샤워헤드 등 알루미늄 및 그 합금 재질의 부재의 세정 및/또는 재생 작업을 수행할 수 있다. 종래 기술로 인한 알루미늄 및 그 합금 재질의 홈, 분사공 등의 정밀 구조 손상을 방지하는 동시에 전체 세정 및 수리 프로세스의 시간을 크게 단축하고 장비의 수명을 효과적으로 연장시킨다.
본 발명에 따른 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법은, 서로 연결되어 있으며, 최적화된 고효율 세정액을 사용하여 알루미늄 및/또는 그 합금 재질의 부재의 부식 억제 및 산화 특성을 가지는 표면처리방법으로, 최종적으로 샤워헤드와 같은 알루미늄 및/또는 그 합금 재질 재질의 표면, 홈 및 분사공 등의 미세구조에 존재하는 퇴적물을 효과적으로 제거한다.
동시에 미세구조(예 홈 및 분사공 등)의 구조에 샌드 블라스팅으로 인한 구조적 변형, 개구 확장 등의 문제를 효과적으로 방지하여 제품의 수명을 연장한다. 또한 샌드 블라스팅 공정 수행 후 샤워헤드와 같은 알루미늄 및/또는 합금 재질에 형성된 분사공 등의 미세 구조에 잔류하는 입자 및 먼지 문제를 해결할 수 있으며 입자 및 먼지로 인한 재작업 비율을 줄이고 세정 작업의 품질을 보장할 수 있다.
도 1은, 종래의 기판처리장치의 일예를 보여주는 단면도이다.
도 2는, 본 발명에 따른 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법의 일예를 보여주는 순서도이다.
이하 본 발명에 따른 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.
본 발명은, 알루미늄 또는 그 합금 재질을 가지는 세정대상부재에 대한 효과적인 세정방법을 제시한다.
여기서 본 발명에 따른 세정 방법의 세정대상은, 알루미늄 및/또는 알루미늄 합금 재질의 부재이면 모두 가능하다.
특히 세정대상부재는, LCD, OLED, 반도체, 태양전지 등의 제조를 위한 기판처리장치를 구성하는 부재, 특히 도 1에 도시된 바와 같이, 공정가스를 분사하는 샤워헤드, 소위 디퓨저가 될 수 있다.
한편 본 발명에 따른 세정방법은, 도 2에 도시된 바와 같이, 알칼리 세정 단계(S31) : 알칼리 세정액을 사용하여 세정대상부재를 침지하여 세정하는 단계; 산성 세정 단계(S32) : 산성 세정액을 사용하여 상기 알칼리 세정 단계(S31)에 의하여 세정된 상기 세정대상부재를 침지하여 세정하는 단계; 전해 세정 단계(S33) : 상기 산성 세정 단계(S32) 후에 상기 세정대상부재를 전해액을 사용하여 전해 세정 하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 알칼리 세정 단계(S31), 산성 세정 단계(S32), 전해 세정 단계(S33)는, 서로 조합되어 하나의 세정 단계(S30)를 구성할 수 있다.
상기 알칼리 세정 단계(S31)는, 알칼리 세정액을 사용하여 세정대상부재를 침지하여 세정하는 단계로서, 알칼리 세정액, 세정대상부재 등에 따라서 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.
상기 산성 세정 단계(S32)는, 산성 세정액을 사용하여 상기 알칼리 세정 단계(S31)에 의하여 세정된 상기 세정대상부재를 침지하여 세정하는 단계로서, 산성 세정액, 세정대상부재 등에 따라서 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.
상기 전해 세정 단계(S33)는, 상기 산성 세정 단계(S32) 후에 상기 세정대상부재를 전해액을 사용하여 전해 세정 하는 단계로서, 전해액, 세정대상부재 등에 따라서 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.
이때 상기 전해 세정 단계(S33)는, 세정대상부재, 예를 들면 샤워헤드(1)가 전해액에 담긴 상태에서 DC 전원(20)의 음전위 또는 양전위를 인가하여 수행될 수 있다.
이때 상기 세정대상부재, 예를 들면 샤워헤드(1)에 가해지는 전위에 따라서 전해액이 담긴 반응조(23)에는, DC 전원(20)의 다른 전극(22)이 담겨 전해 세정 단계(S33)가 수행될 수 있다.
한편 본 발명에 따른 세정 방법은, 세정대상부재를 연마하는 연마 단계(S10)와; 세정대상부재의 표면에서 탈지하는 탈지 단계(S20)와; 세정대상부재를 건조하는 건조 단계(S40)를 포함할 수 있다.
상기 연마 단계(S10)는, 세정대상부재를 연마하는 단계로서, 샌드 블라스팅 등 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.
여기서 상기 연마 단계(S10)는, 세정대상부재의 표면 상태에 따라서 미세구조를 손상시키지 않는 수준에서 연마를 수행할 수 있다.
상기 탈지 단계(S20)는, 세정대상부재의 표면에서 탈지하는 단계로서, 탈지 방법에 따라서 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.
상기 건조단계(S40)는, 세정대상부재를 건조하는 단계로서, 건조 방법에 따라서 다양한 방법에 의하여 수행될 수 있다.
한편 상기 연마 단계(S10) 및 탈지 단계(S20)는, 알칼리 세정 단계(S31) 수행 전에 수행되고, 건조 단계(S40)는, 전해 세정 단계(S33) 후에 수행될 수 있다.
상기 알칼리 세정 단계(S31)는, 알칼리 세정액을 사용하여 0.1 ~ 5 시간 동안 세정대상부재를 침지 및 세정하며, 산성 세정 단계(S32)는, 산성 세정액을 사용하여 세정대상부재를 0.1 ~ 5 시간 동안 침지 및 세정하며, 전해 세정 단계(S33)는, 세정대상부재를 전해액을 사용하여 1-20 시간 동안 전해 세정할 수 있다.
이때 상기 알칼리 세정액의 성분 및 함량 비율이 알칼리 1-50%, 알칼리 염 0.1-25%, 계면 활성제 0.01 ~ 0.5%로 구성될 수 있다.
그리고 상기 알칼리는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 및 수산화칼슘 중 적어도 하나를 포함하며; 상기 알칼리 염은, 탄산나트륨, 메타 규산 나트륨, 인산 나트륨 및 옥살산 나트륨 중 적어도 하나를 포함하며; 상기 계면 활성제는, 알킬 벤젠 설포 네이트, 알킬 설포 네이트, 숙시 네이트 설포 네이트, α-알 케닐 설포 네이트, 지방 알코올 설페이트 및 지방 알코올 폴리 옥시 에틸렌 에테르 설페이트 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 산성 세정액의 성분 및 함량 비율은 1-50 % 의 산화 산을 포함할 수 있다.
상기 산화 산은 아질산, 인산, 농황산, 과산화이황산, 중크롬산, 과염소산, 하이포 요오드 산, 염소산, 브롬 산, 차아 브롬 산, 메타과요산, 차아 염소산, 염소산, 과망간산, 과 브롬 산 및 과산화수소 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 전해액의 조성 및 함량 비율이 5-50 % 산 및 1-20 % 산성염을 포함할 수 있다.
상기 산은 황산, 인산, 붕산, 질산, 과산화수소, 옥살산 및 말산 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 산성염은 황산염, 인산염, 붕산염, 질산염 및 옥살산 염 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
실시예 1
본 실시예의 알칼리 세정액의 성분 및 함량 백분율은 다음과 같다 :
실험조 1 (알칼리 세정액 1) : 수산화 나트륨 10 %, 탄산나트륨 10 %, 정제수 80 %.
실험조 2 (알칼리 세정액 2) : 수산화 나트륨 10 %, 탄산나트륨 20 %, 정제수 70 %.
샤워헤드의 세정 과정에서 먼저 기계적 연마, 탈지 및 표면 세정을 선택하고 제품 표면의 산화물 및 지문 등을 제거한 다음 물 세정을 통해 잔류 연마제 또는 세정제를 제거한 다음 침지하여 구현할 수 있다.
실시예 1의 알칼리 세정액은 제품 표면의 퇴적물을 제거한다. 세정 과정에서 생성된 부산물은 묽은 질산 용액으로 세정 및 제거된다. 샤워헤드 표면 세정 실험을 위해 탄산나트륨 함량이 서로 다른 2 세트의 알칼리 세정액을 사용하여 실험조 1과 실험조 2의 절차 및 표면 세정 조건을 표 1에 나타내었다.
실시예 2
본 실시예의 산성 세정액의 성분 및 함량 백분율은 다음과 같다 :
실험조 3 (산성 세정액 1) : 인산 10 %, 과산화수소 10 %, 정제수 80 %.
실험조 4 (산성 세정액 2) : 인산 10 %, 과산화수소 20 %, 정제수 70 %.
본 실시예의 사용 방법은 제 1 실시예의 사용 방법과 동일하다.
과산화수소 함량이 서로 다른 두 세트의 산성 세정액을 샤워헤드 표면 세정 실험에 적용했으며 실험조 3과 실험조 4의 절차 및 표면 세정 조건은 표 1에 나와 있다.
실시예 3
샤워헤드는 0.5 시간 동안 순차적으로 연마, 탈지, 강알칼리 세정 1 (강알칼리 세정액 1은 대조 실시예와 동일), 강알칼리 세정 2 (강알칼리 세정액 2는 대조 실시예와 동일) ) 침지 0.5 시간 세정 후 강산 세정 (강산성 세정액은 대조 실시예와 동일) 1 시간 침지 세정 후 전해 세정을 한다. 전해액의 성분은 다음과 같다.
실험조 5 : (전해액 1) : 황산 10 %, 인산 10 %, 질산 0.1 %, 황산 알루미늄 5 %, 정제수 74.9 %. 전해 처리 시간은 1 시간이다.
실험조 6 : (전해액 2) : 황산 10 %, 인산 10 %, 질산 0.1 %, 황산 알루미늄 5 %, 정제수 74.9 %. 전해 처리 시간은 10 시간이다.
두 그룹에 대해 서로 다른 시간에 전해 세정 실험을 수행하였으며 실험조 5와 실험조 6의 공정 및 표면 세정 조건은 표 1과 같다.
실시예 4
제품을 알칼리 세정액과 산성 세정액으로 처리 한 후 전해 세정을 수행한다. 세정액 및 내용물은 다음과 같다.
실험조 7 :
알칼리 세정액 : 탄산나트륨 20 %, 수산화 나트륨 10 %, 정제수 70 %.
산성 세정액 : 인산 10 %; 과산화수소 20 %; 정제수 70 %.
전해질 용액 : 황산 10 %, 인산 10 %, 질산 0.1 %, 황산 알루미늄 5 %, 정제수 74.9 %.
샤워헤드에 대한 세정 실험을 수행하고 실험조 7의 공정 및 표면 세정은 표 1에 나와 있다.
실험조 8 :
알칼리 세정액 : 탄산나트륨 20 %; 수산화 나트륨 10 %; 나트륨 도데 실 설포 네이트(NaC 12 H25SO3) 0.2 %; 정제수 70 %.
산성 세정액 : 인산 10 %; 과산화수소 20 %; 정제수 70 %.
전해액 : 황산 10 %, 인산 10 %, 질산 0.1 %, 황산 알루미늄 5 %, 정제수 74.9 %.
샤워헤드에 대한 세정 실험을 수행하고, 실험조 8의 공정 및 표면 세정은 표 1과 같다.
비교예
샤워헤드에 대한 종래 기술 방법으로 실험하였다. 세정액의 성분 및 함량은 다음과 같다.
실험조 9 :
강 알칼리 세정액 1 : 수산화 나트륨 10 %, 정제수 90 %.
강 알칼리 세정액 2 : 수산화 나트륨 1 %, 정제수 90 %.
강산 세정액 : 10 % 질산; 90 % 순수.
종래 기술의 공정을 이용하여 샤워헤드 표면에 대한 세정 실험을 수행하였으며, 실험조 9의 공정 및 표면 세정 조건을 표 1에 나타내었다.
실험조 1 ~ 8의 처리 과정 및 처리 효과 통계 및 대조 실시예
항항목 실시조 공정(시간) 사용
시간
(Hr)		 표면세정
퇴적물
제거율
（%）		 내경
변화		 표면
상태
실시예 1 1 연마（5Hr）
-탈지（1Hr）-알칼리 세정（1Hr）-묽은 질산（1Hr）-건조（2Hr）		 10 30~50% 미소변화(제품 구조에 비해 무시할 수 있음) 부식
2 연마（5Hr）-탈지（1Hr）-알칼리 세정（1Hr）-묽은 질산（1Hr）-건조（2Hr） 10 30~50% 실시조1보다 상당히 큼 부식
실시예 2 3 연마（5Hr）-탈지（1Hr）-산성 세정（1Hr）-묽은 질산（1Hr）-건조（2Hr） 10 40~60% 미소변화(제품 구조에 비해 무시할 수 있음) 부식
4 연마（5Hr）-탈지（1Hr）-산성 세정（1Hr）-묽은 질산（1Hr）-건조（2） 10 5~10% 실시조3에비해 훨씬 작음 부식
실시예 3 5 연마（5Hr）-탈지（1Hr）-강알칼리 세정1（0.5Hr）-강알칼리 세정2（0.5Hr）-강산성 세정（1Hr）-전해 세정1（1Hr）-건조（2Hr） 11 5~10% 크게 확대 양호
6 연마（5Hr）-탈지（1Hr）-강알칼리 세정1(0.5Hr)-강알칼리 세정2（0.5Hr）-강산성 세정（1Hr）-전해 세정2（10Hr）-건조（2Hr） 20 20~30% 크개 확대 양호
실시예 4 7 연마（5Hr）-탈지（1Hr）-알칼리 세정（1Hr）-산성 세정（1Hr）-전해 세정1（10Hr）-건조（2Hr） 20 90% 미소변화(제품 구조에 비해 무시할 수 있음) 양호
8 연마（5Hr）-탈지（1Hr）-알칼리 세정（1Hr）-산성 세정（1Hr）-전해 세정（10Hr）-건조（2Hr） 20 100% 미소변화(제품 구조에 비해 무시할 수 있음) 양호
대조 실시예 9 연마（5Hr）-모래분사（120Hr）-탈지（1Hr）-강알칼리 세정1（0.5Hr）-강알칼리 세정2（0.5Hr）-강산성 세정（1Hr）-건조（2Hr） 130 100% 실시조7에비해 상당히 큼 양호
표 1의 비교 결과는 본 발명의 공정에서 각 공정의 조합 효과와 각 시약의 조합 효과가 샌드 블라스팅 작업이 제거된 후에도 샤워헤드에 여전히 좋은 세정 효과를 얻을 수 있음을 보여준다. 샤워헤드는 완전한 구조로 재생될 수 있으며 신속하게 작업장 생산 라인으로 돌아가 생산 작업을 시작할 수 있다.
본 발명의 세정 용액 및 공정은 다음과 같은 기존 공정의 문제를 효과적으로 해결한다.
첫째, 샤워헤드 표면의 퇴적물을 제거하는 과정이 번거롭고 처리주기가 길다.
둘째, 샌드 블라스팅 중에 모래 입자는 샤워헤드의 홈과 관통홀의 구조를 손상시켜 장비의 정확성과 제어성을 감소시키고 샤워헤드의 수명을 단축시킨다.
셋째, 종래 기술의 세정액에 사용되는 용액은 강알칼리 (NaOH 등), 강산 (질산 등)을 포함하여 홈과 관통홀에 구조적 손상 및 기공 직경 확장 문제를 유발한다. 샤워헤드의 기술 프로세스는 여러 번 반복 세정이 필요하므로 세정 및 재생 주기가 길어지고 생산라인의 배송시간이 지연된다.
넷째, 샤워헤드의 기공에 남아있는 모래 입자 및 먼지 문제를 해결하고, 모래 분사 입자 및 먼지로 인한 재작업률을 줄이고 제품의 세정품질을 보장할 수 있다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.

Claims (10)

  1. 알루미늄 또는 그 합금 재질을 가지는 샤워헤드의 세정방법으로서,
    상기 샤워헤드를 연마하는 연마 단계;
    상기 연마 단계 후에 상기 연마 단계에서 연마된 상기 샤워헤드의 표면에서 탈지하는 탈지 단계;
    상기 탈지 단계 후에 상기 샤워헤드의 표면에서 탈지된 후 알칼리 세정액을 사용하여 상기 샤워헤드를 0.1 ~ 5 시간 동안 침지하여 세정하는 알칼리 세정 단계;
    산성 세정액을 사용하여 상기 알칼리 세정 단계에 의하여 세정된 상기 샤워헤드를 0.1 ~ 5 시간 동안 침지하여 세정하는 산성 세정 단계;
    상기 산성 세정 단계 후에 상기 샤워헤드를 전해액을 사용하여 1-20 시간 동안 전해 세정하는 전해 세정 단계;
    상기 전해 세정 단계 후에 상기 샤워헤드를 건조하는 건조 단계를 포함하며,
    상기 알칼리 세정액은 알칼리 1-50wt%, 알칼리 염 0.1-25wt%, 계면 활성제 0.01 ~ 0.5wt% 및 잔부의 정제수로 조성되며,
    상기 산성 세정액은 질량 비율은 1-50wt% 산화 산 및 잔부의 정제수로 조성되며,
    상기 전해액은 질량 비율은 5-50wt% 산, 1-20wt% 산성염 및 잔부의 정제수로 조성되며,
    상기 샤워헤드는, 기판처리를 수행하는 처리공간을 구비하는 챔버에 설치되어 공정가스를 상기 처리공간에 분사할 수 있도록 다수의 분사공이 형성되며,
    상기 알칼리는, 수산화 나트륨을 포함하며;
    상기 알칼리 염은, 탄산나트륨을 포함하며;
    상기 산화 산은 인산 및 과산화수소를 포함하며,
    상기 계면 활성제는, 알킬 벤젠 설포 네이트, 알킬 설포 네이트, 숙시 네이트 설포 네이트, α-알 케닐 설포 네이트, 지방 알코올 설페이트 및 지방 알코올 폴리 옥시 에틸렌 에테르 설페이트 중 적어도 하나를 포함하며,
    상기 전해액에 포함되는 산은 황산, 인산, 질산 및 황산알루미늄을 포함하는 세정 방법.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 산성염은 황산염, 인산염, 붕산염, 질산염 및 옥살산 염 중 적어도 하나를 포함하는 세정 방법.
KR1020210084275A 2021-06-28 2021-06-28 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법 KR102640324B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210084275A KR102640324B1 (ko) 2021-06-28 2021-06-28 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210084275A KR102640324B1 (ko) 2021-06-28 2021-06-28 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20230001439A KR20230001439A (ko) 2023-01-04
KR102640324B1 true KR102640324B1 (ko) 2024-02-23

Family

ID=84925283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210084275A KR102640324B1 (ko) 2021-06-28 2021-06-28 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102640324B1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101908321B1 (ko) * 2017-12-20 2018-10-17 주식회사 이노메탈 차량용 알루미늄 루프랙의 표면처리방법

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101908321B1 (ko) * 2017-12-20 2018-10-17 주식회사 이노메탈 차량용 알루미늄 루프랙의 표면처리방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20230001439A (ko) 2023-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5660640A (en) Method of removing sputter deposition from components of vacuum deposition equipment
KR20180118696A (ko) 염소 및 불소 플라즈마 내식성을 가진 코팅된 반도체 처리 부재 및 그 복합 산화물 코팅
CN101381877B (zh) 精密零件的清洗方法
JP2009052142A (ja) 陽極酸化チャンバパーツ再生のためのウェットクリーンプロセス
CN113215583B (zh) 一种铝及其合金器件的清洁及再生方法
CN114226327A (zh) 一种去除陶瓷基材表面沉积的复合沉积物的清洗方法
CN101154558A (zh) 刻蚀设备组件的清洗方法
CN110484919A (zh) 退镀液及其退除含钛膜层的方法、及表面形成有含钛膜层的基材的退镀方法
JP2008095192A (ja) ニオブ及びタンタルの電解研磨方法
US7704936B2 (en) Methods and removers for removing anodized films
KR102640324B1 (ko) 알루미늄 및 그 합금 재질을 가지는 부재의 세정방법
JP4456769B2 (ja) フロロカーボン系プラズマ生成用シリコン製電極の洗浄方法およびこれを利用した半導体装置の製造方法
CN109295458A (zh) 铝合金无磷无氮抛光液及铝合金表面处理方法
JP2011137206A (ja) アルミニウム合金のめっき前処理方法
KR101792078B1 (ko) 반응기 표면의 선택적 에칭
KR101208122B1 (ko) 알루미늄 가공을 위한 버 제거용 조성물 및 상기 조성물을 이용한 버 제거방법
CN114535186A (zh) 再生pecvd设备或dry etch设备腔体中的构件的方法
KR102245912B1 (ko) 아크 코팅공정에서의 파티클 감소방법 및 이에 의한 코팅층을 갖는 반도체 제조공정의 스퍼터링 장치
CN115125468B (zh) 一种用于干刻工艺中熔射壁板再生的方法
KR102625872B1 (ko) 물리적 연마 단계 및 양극산화 단계를 포함하는 알루미늄 소재 리모트 플라즈마 소스 챔버의 표면 처리 방법
CN115029697B (zh) 一种酸蚀液及其应用
JP2010227811A (ja) ワークの洗浄方法、ワーク、時計
WO2007063746A1 (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
JP3070379B2 (ja) 洗浄システム
KR102013528B1 (ko) 스테인레스강 세정용 조성물 및 이를 이용한 스테인레스강 세정 방법

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant