KR102614509B1 - 셔터 장치 및 이를 갖는 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 개구를 갖는 공정 챔버; 회동 동작에 의해 상기 개구를 개폐하는 셔터; 및 상기 셔터를 오픈 및 클로즈 동작시키는 실린더를 갖는 셔터 구동부를 포함하되; 상기 셔터 구동부는 상기 셔터가 오픈 위치에서 클로즈 위치로 회동될 때 상기 오픈 위치를 포함한 제1회동구간에서의 회동 속도와 상기 클로즈 위치를 포함한 제2회동구간에서의 회동 속도가 상이하도록 상기 실린더로 제공되는 공압을 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.

Description

셔터 장치 및 이를 갖는 기판 처리 장치{SHUTTER APPARATUS AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS COMPRISING THE SAME}
본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판이 반입 반출되는 출입구를 개폐하는 셔터 장치 및 이를 갖는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근 영상 표시장치의 제조에는 액정 디스플레이소자(LCD) 및 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 소자 등이 사용되며, 이는 평판표시장치(FPD, Flat Panel Display)의 기판이 사용된다.
평판표시장치를 제작하는 과정으로는, 기판을 제작하는 공정, 셀 제작공정, 모듈 제작공정 등 많은 공정들이 진행된다. 특히, 기판 제작 공정에는 기판 상에 다양한 패턴들을 형성하기 위한 사진 공정이 진행된다. 사진 공정은 기판 상에 포토레지스트와 같은 감광액을 도포하는 도포 공정, 도포된 감광막 위에 특정 패턴을 형성하는 노광 공정, 그리고 노광된 감광막에 대응되는 영역을 현상 처리하는 현상공정을 순차적으로 수행한다. 이 중 도포공정 및 현상 공정이 수행되기 전후 각각에는 기판을 열 처리하는 베이크 공정이 수행된다.
일반적인 베이크 유닛은 내부에 베이크 공정을 수행하는 공간을 제공하는 챔버와, 챔버의 일측에 기판이 반입반출되는 출입구를 개폐하는 셔터 장치가 제공된다.
기존의 셔터 장치의 구성요소 중 백래쉬(Back lash)를 유발하는 회전 실린더(Cylinder)는 랙 피니언(Rack & Pinion)으로 작동한다는 기본 원리 특징상 설계자는 ±1º의 틀어짐을 감수하고, 조립 시 간격 조정이 가능하도록 설계한다. 회전 실린더는 솔레노이드 밸브(Sol v/v) 정압을 사용하여 구동되며, 랙기어의 백래시로 인한 1º 틀어짐에도 일반적인 직선 운동에서의 오차와는 달리 회전반경에 의해 위치 오차가 커지게 된다.
베이크 유닛에서는 챔버와 셔터가 3mm Gap 을 유지해야만 베이킹 공정에 효과가 극대화 되는데, 백 래시의 떨림으로 챔버와 셔터 간의 간격(Gap)이 '0'이 되면 챔버와의 간섭과 반복된 충격으로 파티클이 발생되며 이는 글라스 표면 파티클 불량의 주 원인이 된다.
본 발명의 일 과제는 셔터 동작시 백래시 현상을 방지할 수 있는 기판 처리 장치 및 셔터 장치를 제공하는데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 개구를 갖는 공정 챔버; 회동 동작에 의해 상기 개구를 개폐하는 셔터; 및 상기 셔터를 오픈 및 클로즈 동작시키는 실린더를 갖는 셔터 구동부를 포함하되; 상기 셔터 구동부는 상기 셔터가 오픈 위치에서 클로즈 위치로 회동될 때 상기 오픈 위치를 포함한 제1회동구간에서의 회동 속도와 상기 클로즈 위치를 포함한 제2회동구간에서의 회동 속도가 상이하도록 상기 실린더로 제공되는 공압을 제어하는 제어부를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 제1회동구간은 상기 제2회동구간보다 상대적으로 큰 회동구간을 가질 수 있다.
또한, 상기 제2회동구간의 회동속도는 상기 제1회동구간의 회동속도보다 상대적으로 느린 속도를 가질 수 있다.
또한, 상기 셔터 구동부는 실린더; 상기 실린더에 상기 셔터를 클로즈하기 위한 정압을 제공하기 위한 제1공압라인; 상기 실린더에 상기 셔터를 오픈하기 위한 배압을 제공하기 위한 제2공압라인; 상기 제1공압라인에 제공되는 제1밸브; 상기 제2공압라인에 제공되는 제2밸브; 및 상기 제1밸브와 상기 제2밸브를 제어하는 제어부를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 셔터가 상기 제2회동구간에 진입하면 상기 제2공압라인을 통해 상기 실린더에 배압이 제공되도록 상기 제2밸브를 제어할 수 있다.
또한, 상기 셔터 구동부는 상기 제2공압라인에 설치되는 레귤레이터를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 레귤레이터는 상기 실린더로 공급되는 배압이 상기 실린더로 공급되는 정압보다 상대적으로 압력이 낮도록 제공될 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 개구를 갖는 공정 챔버; 회동 동작에 의해 상기 개구를 개폐하는 셔터; 및 상기 셔터를 오픈 및 클로즈 동작시키는 실린더를 갖는 셔터 구동부를 포함하되; 상기 셔터 구동부는 피스톤을 축선 방향으로 전후이동 가능하게 수용하는 그리고 상기 피스톤을 사이에 두어 한쪽에 형성되어 상기 셔터를 클로즈하기 위한 공압이 유입되는 정압실과, 다른쪽에 형성되어 상기 셔터를 오픈하기 위한 공압이 유입되는 배압실을 갖는 실린더; 상기 정압실에 상기 셔터를 클로즈하기 위한 정압을 제공하기 위한 제1공압라인; 상기 배압실에 상기 셔터를 오픈하기 위한 배압을 제공하기 위한 제2공압라인; 상기 제1공압라인에 제공되는 제1밸브; 상기 제2공압라인에 제공되는 제2밸브; 및 상기 셔터의 클로즈 동작시 정압과 배압이 함께 제공되도록 상기 제1,2밸브를 제어하는 제어부를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 셔터 구동부는 상기 제2공압라인에 설치되는 레귤레이터를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 셔터의 클로즈 동작을 위해, 상기 정압실로 정압이 공급되도록 상기 제1밸브를 제어하고, 일정시간 후에 상기 배압실로 배압이 공급되도록 상기 제2밸브를 제어할 수 있다.
또한, 상기 셔터의 클로즈 동작시, 상기 실린더에 정압과 배압이 동시에 제공되는 시간은 상기 실린더에 정압만이 제공되는 시간보다 상대적으로 짧을 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 셔터의 클로즈 동작을 위해, 상기 정압실로 공압이 공급되도록 상기 제1밸브를 제어하고, 상기 셔터가 일정 각도에 위치되면 상기 배압실로 공압이 공급되도록 상기 제2밸브를 제어할 수 있다.
또한, 상기 셔터의 클로즈 동작시, 상기 실린더에 정압과 배압이 동시에 제공되는 시간동안 상기 셔터가 회동되는 범위는 상기 실린더에 정압만이 제공되는 시간동안 상기 셔터가 회동되는 범위보다 상대적으로 짧을 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 셔터가 오픈 위치에서 클로즈 위치로 회동될 때 상기 오픈 위치를 포함한 제1회동구간에서의 회동 속도가 상기 클로즈 위치를 포함한 제2회동구간에서의 회동 속도보다 상대적으로 빠르도록 상기 실린더로 정압과 배압의 공급을 제어할 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 제1회동구간에서는 정압만이 제공되고, 상기 제2회동구간에서는 정압과 배압이 동시에 제공되도록 상기 제1밸브와 상기 제2밸브를 제어할 수 있다.
또한, 상기 배압실로 공급되는 배압은 상기 정압실로 공급되는 정압보다 상대적으로 압력이 낮을 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 회동 동작에 의해 개구를 개폐하는 셔터; 및 상기 셔터를 오픈 및 클로즈 동작시키는 실린더를 갖는 셔터 구동부를 포함하되; 상기 셔터 구동부는 피스톤을 축선 방향으로 전후이동 가능하게 수용하는 그리고 상기 피스톤을 사이에 두어 한쪽에 형성되어 상기 셔터를 클로즈하기 위한 공압이 유입되는 정압실과, 다른쪽에 형성되어 상기 셔터를 오픈하기 위한 공압이 유입되는 배압실을 갖는 실린더; 상기 정압실에 상기 셔터를 클로즈하기 위한 정압을 제공하기 위한 제1공압라인; 상기 배압실에 상기 셔터를 오픈하기 위한 배압을 제공하기 위한 제2공압라인; 상기 제1공압라인에 제공되는 제1밸브; 상기 제2공압라인에 제공되는 제2밸브; 상기 제2공압라인에 제공되는 레귤레이터; 및 상기 셔터의 클로즈 동작시 정압과 배압이 함께 제공되도록 상기 제1,2밸브를 제어하는 제어부를 포함하는 셔터 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 셔터의 클로즈 동작을 위해, 초반에는 정압만 제공되도록 제어하고, 그 후에는 정압과 배압이 동시에 제공되도록 상기 제1밸브와 상기 제2밸브를 제어할 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 실린더에 정압과 배압이 동시에 제공되는 시간이 상기 실린더에 정압만이 제공되는 시간보다 상대적으로 짧도록 상기 제1밸브와 상기 제2밸브를 제어할 수 있다.
또한, 상기 레귤레이터는 상기 배압실로 공급되는 배압이 상기 정압실로 공급되는 정압보다 상대적으로 작은 압력을 갖도록 제공될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 셔터의 클로즈 동작시 일정 시간 또는 일정 위치에서 서로 반대방향으로 작동되는 공압(배압)을 제공하여 에어 쿠션 현상에 의해 백래시 발생을 억제할 수 있다.
발명의 효과가 상술한 효과들로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 포토리소그래피 공정을 위한 설비의 구성도이다.
도 2는 베이크 유닛의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 셔터 장치를 보여주는 도면이다.
도 4는 셔터 장치의 오픈 상태와 클로즈 상태를 보여주는 개략도이다.
도 5는 셔터 구동부를 설명하기 위한 구성도이다.
도 6은 셔터의 클로즈 동작을 보여주는 도면이다.
도 7은 셔터 클로즈 동작시 실린더에 제공되는 정압과 배압의 공급 그래프이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
본 발명의 실시예에서는 포토리소그래피 설비에 사용되는 베이크 장치를 예로 들어 설명한다.
본 실시예에서 기판은 평판 디스플레이(flat panel display, 이하 'FPD') 소자를 제조하기 위한 것으로, FPD는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), FED(FieldEmission Display), ELD(Electro Luminescence Display) 일 수 있다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치(apparatus for treating substrate)는 포토리소그래피 공정에서 기판을 가열 냉각하기 위해 사용되는 베이크 장치이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 포토리소그래피 공정을 위한 설비(1)는 인덱스 모듈(10), 도포 모듈(20), 인터페이스 모듈(30), 에지 노광 장치(40), 액처리 모듈(50) 그리고 노광 모듈(60)을 포함할 수 있다.
인덱스 모듈(10)에서는 기판(W)이 유입되거나 유출된다. 인덱스 모듈(10)은 그 길이 방향이 제2방향(14)을 따라 배치된다. 여기서, 제2방향(14)은 인덱스 모듈(10)이 배치된 방향이다. 상부에서 바라 볼 때, 제2방향(14)과 수직한 방향을 제1방향(12)이라 한다. 제1방향(12)과 제2방향(14)에 모두 수직한 방향을 제3방향(16)이라 한다.
일 예로 인덱스 모듈(10)은 기판(W)을 반송하는 반송 롤로나 별도의 이송 로봇을 통해서 기판(W)을 유입하거나 유출 시킬 수 있다.
도포 모듈(20)은 기판(W)에 도포 공정 등을 수행한다. 도포 모듈(20)은 인덱스 모듈(10)의 일측과 인접하게 제공된다. 도포 모듈(20)은 그 길이 방향이 제1방향(12)을 따라 배치된다. 도포 모듈(20)은 세정 유닛(21), 도포 유닛(22), 진공건조 유닛(23) 그리고 베이크 유닛(100)을 포함할 수 있다. 도포 모듈(20)에서는 세정 공정, 도포 공정, 진공 건조 공정(VCD), 그리고 베이크 공정이 순차적으로 수행될 수 있다. 세정 유닛(21)은 기판(W)의 도포 공정이 수행되기 전에 기판(W)을 세정한다. 세정 유닛(21)은 세정액을 기판(W)에 공급하여 공정을 수행한다. 일 예로 세정 유닛(21)은 기판(W)의 상부에 제공되는 세정액 공급 수단에서 세정액을 공급 할 수 있다. 일 예로 세정액은 순수로 공급될 수 있다.
도포 유닛(22)은 기판(W)에 도포 공정을 수행한다. 도포 공정이 끝난 기판(W)은 진공건조 유닛으로 이동한다. 진공건조 유닛(23)은 포토레지스트(이하, PR이라 약칭함.)내에 포함된 유기용제(Solvent)를 제거함과 동시에 건조하는 공정을 수행한다.
베이크 유닛(100)은 기판(W)에 베이크 공정을 수행한다. 일 예로 베이크 공정은 기판(W)의 하부에 설치된 가열수단으로 기판(W)을 가열할 수 있다.
도포 모듈(20)에서 공정이 완료된 기판(W)은 인터페이스 모듈(30)로 이동한다. 인터페이스 모듈(30)은 도포 모듈(20)과 액처리 모듈(50) 그리고 노광 모듈(60)에 기판(W)을 반송한다. 인터페이스 모듈(30)은 도포 모듈(20)과 액처리 모듈(50)에 인접하게 배치된다. 인터페이스 모듈(30)은 인덱스 모듈(10)과 평행하게 배치된다. 인터페이스 모듈(30)은 그 길이 방향이 제2방향(14)을 따라 배치된다. 인터페이스 모듈(30)에서 기판(W)을 반송 시 이송 로봇을 이용하여 기판(W)을 반송 할 수 있다.
에지 노광 장치(40)는 기판(W)에 대해 기판(W)의 가장자리 영역에 광을 조사하는 에지 노광 공정을 수행한다. 에지 노광 장치(40)는 인터페이스 모듈(30)과 액처리 모듈(50)의 사이에 배치된다. 이와 달리, 에지 노광 장치(40)는 도포 모듈(20)과 인터페이스 모듈(30)에 배치될 수 있다.
노광 모듈(60)에서는 기판(W)에 대해 노광 공정을 수행한다. 노광 모듈(60)은 인터페이스 모듈(30)의 일측에 인접하여 배치된다.
액처리 모듈(50)은 기판(W)에 대해 현상 공정을 수행하는 현상 모듈로 제공될 수 있다. 액처리 모듈(50)의 일측에는 인덱스 모듈(10)이 인접하게 배치된다. 액처리 모듈(50)은 도포 모듈(20)과 평행하며 그 길이 방향이 제1방향(12)을 따라 배치된다.
액처리 모듈(50)은 액처리 유닛(51), 린스 유닛(52), 건조 유닛(53) 그리고 검사기(54)를 포함한다. 액처리 모듈(50)에서는 액처리 유닛(51)에서 액처리 공정 후 린스 유닛(52)과 건조 유닛(53)에서 세정 공정과 건조 공정을 진행 한 후 검사기(54)에서 검사를 진행한다. 일 예로 액처리 공정은 현상 공정일 수 있다.
도 2는 베이크 유닛의 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 2를 참조하면, 베이크 유닛(100)은 베이크 챔버(110)와 반송 챔버(120)를 포함할 수 있다.
베이크 챔버(110)는 수직 방향으로 다수개가 적층 배치될 수 있다. 각각의 베이크 챔버(110)는 기판의 반입 반출을 위한 개구(도 4에 표시됨)를 개폐하는 셔터 장치(200)를 포함할 수 있다.
반송 챔버(120)에는 기판 반송을 위한 반송 로봇(122)이 제공될 수 있다. 반송 로봇(122)은 컨베이어 반송로(101)를 통해 반송된 기판을 베이크 챔버(110)로 반송하거나, 베이크 챔버(110)에서 열처리된 기판을 쿨링 챔버(140)로 반송한다.
도 3은 도 2에 도시된 셔터 장치를 보여주는 도면이고, 도 4는 셔터 장치의 오픈 상태와 클로즈 상태를 보여주는 개략도이며, 도 5는 셔터 구동부를 설명하기 위한 구성도이다.
도 3 내지 도 5를 참조하면, 셔터 장치(200)는 셔터(202), 회전축(204) 그리고 셔터 구동부(210)를 포함할 수 있다.
셔터(202)는 회동 동작에 의해 베이크 챔버(110)의 개구(112)를 개폐할 수 있다. 셔터(202)는 클로즈 상태에서 베이크 챔버(110)와 일정한 간격( 예를 들면 3mm)을 유지된다. 이 갭을 통해 외부 공기가 유입되고, 개구(112)와 셔터(202) 사이의 틈새를 통해 유입된 외부 공기는 개구(112)와 반대되는 베이크 챔버(110)의 측벽에 형성된 배기구(미도시됨)를 통해 배기된다. 따라서, 베이크 챔버(110)의 내부에는 수평한 기류가 만들어지게 되고, 기판의 베이크 처리 과정에서 발생되는 흄 등은 이 기류를 따라 외부로 배기된다.
셔터 구동부(210)는 셔터(202)를 오픈 및 클로즈 동작시키는 실린더(220)를 포함할 수 있다. 일 예로, 실린더(220)는 피스톤에 의해 얻어진 직선 추력을 회전 토크로 변환하는 랙-피니언 방식의 회전형 실린더일 수 있다.
셔터 구동부(210)는 실린더(220), 제1공압라인(230), 제2공압라인(240), 제1밸브(232), 제2밸브(242), 레귤레이터(246) 그리고 제어부(290)를 포함할 수 있다.
실린더(220)는 피스톤(222)을 축선 방향으로 전후이동 가능하게 수용하는 그리고 피스톤(222)을 사이에 두어 한쪽에 형성되어 셔터(202)를 클로즈하기 위한 공압이 유입되는 정압실(224)과, 다른쪽에 형성되어 셔터(202)를 오픈하기 위한 공압이 유입되는 배압실(226)을 포함할 수 있다. 피스톤(222)에는 랙-피니언 구조가 적용되어 직선 운동을 회전 운동으로 전환시키며, 회전축(204)은 피니언에 연결될 수 있다.
제1공압라인(230)은 정압실(224)에 셔터(202)를 클로즈하기 위한 정압을 제공한다. 제1공압라인(230)에는 제1밸브(232)가 설치된다. 제1밸브(232)는 제어부(290)에 의해 제어된다.
제2공압라인(240)은 배압실(226)에 셔터(202)를 오픈하기 위한 배압을 제공한다. 제2공압라인(240)에는 제2밸브(242)와 레귤레이터(246)가 설치된다. 제2밸브(242)는 제어부(290)에 의해 제어된다.
제어부(290)는 셔터(202)의 클로즈 동작시 정압과 배압이 함께 제공되도록 제1,2밸브(232,242)를 제어할 수 있다. 또한, 제어부(290)는 셔터(202)의 오픈 동작시 배압이 제공되도록 제1,2밸브(232,242)를 제어할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 셔터 장치(200)는 셔터(202)의 클로즈 동작시 압력 조절만을 이용하여 실린더 구동 각도를 제어할 수 있다. 기존에는 셔터 구동부(210)에서의 백래시 발생에 의한 셔터(202)와 챔버(110) 간의 간섭(접촉)을 피하기 위해 조립 세팅시 갭을 5mm 이상 유지하도록 조립하거나 셔터 동작 시간을 추가하였다, 그러나 본 발명에서는 셔터(202)의 클로즈 동작시 일정 시간 또는 일정 위치에서 서로 반대방향으로 작동되는 공압(배압)을 제공하여 에어 쿠션 현상에 의해 백래시 발생을 억제할 수 있다.
도 6은 셔터의 클로즈 동작을 보여주는 도면이다.
도 5 및 도 6에서와 같이, 제어부(290)는 셔터(202)가 오픈 위치에서 클로즈 위치로 회동될 때, 오픈 위치를 포함한 제1회동구간에서의 회동 속도와 클로즈 위치를 포함한 제2회동구간에서의 회동 속도가 상이하도록 실린더(220)로 제공되는 공압을 제어할 수 있다. 제1회동구간은 제2회동구간보다 상대적으로 큰 회동구간을 갖는 것이 바람직하다. 예컨대, 제2회동구간의 회동속도는 제1회동구간의 회동속도보다 상대적으로 느린 속도를 갖는다. 제2회동구간의 회동속도가 느려지는 이유는 제2회동구간에서 정압 이외에 배압이 추가적으로 실린더(220)에 제공되기 때문이다.
즉, 제어부(290)는 셔터(202)가 제2회동구간에 진입하면 제2공압라인(240)을 통해 실린더(220)에 배압이 제공되도록 제2밸브(242)를 제어한다. 한편, 제2공압라인(240)에 설치되는 레귤레이터(246)는 배압실(226)로 공급되는 배압이 정압실(224)로 공급되는 정압보다 상대적으로 압력이 낮도록 제공된다.
제1회동구간과 제2회동구간은 셔터(202)의 클로즈 동작시 시간에 의해 설정될 수 있다.
도 7은 셔터 클로즈 동작시 실린더에 제공되는 정압과 배압의 공급 그래프이다.
도 7에서와 같이, 제어부(290)는 셔터(202)의 클로즈 동작을 위해, 정압실(224)로 정압이 공급되도록 제1밸브(232)를 제어하고, 일정시간 후에 배압실(226)로 배압이 공급되도록 제2밸브(242)를 제어할 수 있다. 바람직하게는 셔터(202)의 클로즈 동작시, 실린더(220)에 정압과 배압이 동시에 제공되는 시간(t2)은 실린더(220)에 정압만이 제공되는 시간(t1)보다 상대적으로 짧은 것이 바람직하다. 예를 들어, 셔터(202)의 클로즈 동작 시간이 전체 3초인 경우, 2초는 정압만 공급, 나머지 1초는 정압과 배압을 동시에 공급할 수 있다.
또 다른 방안으로, 제어부(290)는 셔터(202)의 클로즈 동작을 위해, 정압실(224)로 공압이 공급되도록 제1밸브(232)를 제어하고, 셔터(202)가 일정 각도에 위치되면 배압실(226)로 공압이 공급되도록 제2밸브(242)를 제어할 수 있다. 이러한 방안은 셔터(202)가 설정 각도에 도달했는지를 체크하는 센서(미도시됨)가 추가적으로 필요할 수 있다. 셔터(202)의 클로즈 동작시, 실린더(220)에 정압과 배압이 동시에 제공되는 시간동안 셔터(202)가 회동되는 범위는 실린더(220)에 정압만이 제공되는 시간동안 셔터(202)가 회동되는 범위보다 상대적으로 짧은 것이 바람직하다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
200 : 셔터 장치 202 : 셔터
210 : 셔터 구동부 220 : 실린더
230 : 제1공압라인 240 : 제2공압라인
232 : 제1밸브 242 : 제2밸브
246 : 레귤레이터 290 : 제어부

Claims (20)

  1. 기판 처리 장치에 있어서:
    개구를 갖는 공정 챔버;
    회동 동작에 의해 상기 개구를 개폐하는 셔터; 및
    상기 셔터를 오픈 및 클로즈 동작시키는 실린더를 갖는 셔터 구동부를 포함하되;
    상기 셔터 구동부는
    상기 셔터가 오픈 위치에서 클로즈 위치로 회동될 때 상기 오픈 위치를 포함한 제1회동구간에서의 회동 속도와 상기 클로즈 위치를 포함한 제2회동구간에서의 회동 속도가 상이하도록 상기 실린더로 제공되는 공압을 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 셔터 구동부는
    실린더;
    상기 실린더에 상기 셔터를 클로즈하기 위한 정압을 제공하기 위한 제1공압라인;
    상기 실린더에 상기 셔터를 오픈하기 위한 배압을 제공하기 위한 제2공압라인;
    상기 제1공압라인에 제공되는 제1밸브;
    상기 제2공압라인에 제공되는 제2밸브; 및
    상기 제1밸브와 상기 제2밸브를 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는
    상기 셔터가 상기 제2회동구간에 진입하면 상기 제2공압라인을 통해 상기 실린더에 배압이 제공되도록 상기 제2밸브를 제어하는 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1회동구간은 상기 제2회동구간보다 상대적으로 큰 회동구간을 갖는 기판 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제2회동구간의 회동속도는 상기 제1회동구간의 회동속도보다 상대적으로 느린 속도를 갖는 기판 처리 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 셔터 구동부는
    상기 제2공압라인에 설치되는 레귤레이터를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 레귤레이터는
    상기 실린더로 공급되는 배압이 상기 실린더로 공급되는 정압보다 상대적으로 압력이 낮도록 제공되는 기판 처리 장치.
  8. 기판 처리 장치에 있어서:
    개구를 갖는 공정 챔버;
    회동 동작에 의해 상기 개구를 개폐하는 셔터; 및
    상기 셔터를 오픈 및 클로즈 동작시키는 실린더를 갖는 셔터 구동부를 포함하되;
    상기 셔터 구동부는
    피스톤을 축선 방향으로 전후이동 가능하게 수용하는 그리고 상기 피스톤을 사이에 두어 한쪽에 형성되어 상기 셔터를 클로즈하기 위한 공압이 유입되는 정압실과, 다른쪽에 형성되어 상기 셔터를 오픈하기 위한 공압이 유입되는 배압실을 갖는 실린더;
    상기 정압실에 상기 셔터를 클로즈하기 위한 정압을 제공하기 위한 제1공압라인;
    상기 배압실에 상기 셔터를 오픈하기 위한 배압을 제공하기 위한 제2공압라인;
    상기 제1공압라인에 제공되는 제1밸브;
    상기 제2공압라인에 제공되는 제2밸브; 및
    상기 셔터의 클로즈 동작시 정압과 배압이 함께 제공되도록 상기 제1,2밸브를 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는
    상기 셔터의 클로즈 동작을 위해, 상기 정압실로 공압이 공급되도록 상기 제1밸브를 제어하고, 상기 셔터가 일정 각도에 위치되면 상기 배압실로 공압이 공급되도록 상기 제2밸브를 제어하고,
    상기 셔터의 클로즈 동작시, 상기 실린더에 정압과 배압이 동시에 제공되는 시간동안 상기 셔터가 회동되는 범위는 상기 실린더에 정압만이 제공되는 시간동안 상기 셔터가 회동되는 범위보다 상대적으로 짧은 기판 처리 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 셔터 구동부는
    상기 제2공압라인에 설치되는 레귤레이터를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제어부는
    상기 셔터의 클로즈 동작을 위해, 상기 정압실로 정압이 공급되도록 상기 제1밸브를 제어하고, 일정시간 후에 상기 배압실로 배압이 공급되도록 상기 제2밸브를 제어하는 기판 처리 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 셔터의 클로즈 동작시, 상기 실린더에 정압과 배압이 동시에 제공되는 시간은 상기 실린더에 정압만이 제공되는 시간보다 상대적으로 짧은 기판 처리 장치.
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 제8항에 있어서,
    상기 제어부는
    상기 셔터가 오픈 위치에서 클로즈 위치로 회동될 때 상기 오픈 위치를 포함한 제1회동구간에서의 회동 속도가 상기 클로즈 위치를 포함한 제2회동구간에서의 회동 속도보다 상대적으로 빠르도록 상기 실린더로 정압과 배압의 공급을 제어하는 기판 처리 장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제어부는
    상기 제1회동구간에서는 정압만이 제공되고, 상기 제2회동구간에서는 정압과 배압이 동시에 제공되도록 상기 제1밸브와 상기 제2밸브를 제어하는 기판 처리 장치.
  16. 제8항에 있어서,
    상기 배압실로 공급되는 배압은 상기 정압실로 공급되는 정압보다 상대적으로 압력이 낮은 기판 처리 장치.
  17. 셔터 장치 있어서:
    회동 동작에 의해 개구를 개폐하는 셔터; 및
    상기 셔터를 오픈 및 클로즈 동작시키는 실린더를 갖는 셔터 구동부를 포함하되;
    상기 셔터 구동부는
    피스톤을 축선 방향으로 전후이동 가능하게 수용하는 그리고 상기 피스톤을 사이에 두어 한쪽에 형성되어 상기 셔터를 클로즈하기 위한 공압이 유입되는 정압실과, 다른쪽에 형성되어 상기 셔터를 오픈하기 위한 공압이 유입되는 배압실을 갖는 실린더;
    상기 정압실에 상기 셔터를 클로즈하기 위한 정압을 제공하기 위한 제1공압라인;
    상기 배압실에 상기 셔터를 오픈하기 위한 배압을 제공하기 위한 제2공압라인;
    상기 제1공압라인에 제공되는 제1밸브;
    상기 제2공압라인에 제공되는 제2밸브;
    상기 제2공압라인에 제공되는 레귤레이터; 및
    상기 셔터의 클로즈 동작시 정압과 배압이 함께 제공되도록 상기 제1,2밸브를 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는
    상기 셔터의 클로즈 동작을 위해, 초반에는 정압만 제공되도록 제어하고, 그 후에는 정압과 배압이 동시에 제공되도록 상기 제1밸브와 상기 제2밸브를 제어하고,
    상기 제어부는
    상기 실린더에 정압과 배압이 동시에 제공되는 시간이 상기 실린더에 정압만이 제공되는 시간보다 상대적으로 짧도록 상기 제1밸브와 상기 제2밸브를 제어하는 셔터 장치.
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 제17항에 있어서,
    상기 레귤레이터는
    상기 배압실로 공급되는 배압이 상기 정압실로 공급되는 정압보다 상대적으로 작은 압력을 갖도록 제공되는 셔터 장치.
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