KR102609119B1 - 내열성이 강화된 테프론호스 및 이를 포함하는 테프론호스어셈블리 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함하는 내관; 상기 내관 상에 형성된 보강사층; 상기 보강사층 상에 형성된 실리콘층; 상기 실리콘층 상에 형성된 슬리브층; 및 상기 슬리브층 상에 형성된 최외각층;을 포함하는 반도체 제조 설비용 테프론 호스를 제공한다.
Description
본 발명은 내열성이 강화된 테프론호스 및 이를 포함하는 테프론호스 어셈블리에 관한 것이다.
일반적으로, 다양한 산업분야에서는 화학적으로 다양한 형태의 유체를 이용하거나 취급하고 있으며, 이 같은 유체의 취급 또는 이용을 위해서는 그 유체를 이송 또는 유동시켜야 하며 이 같은 유체의 이송은 주로 호스 또는 관을 이용하고 있다.
이와 같이 호스를 이용하여 이송하거나 전달하는 유체들 중에는 인체에 해롭거나, 누출시 위험이 초래되거나, 또는 누설이 엄격히 규제되어야 하는 유체가 있다. 이와 같은 위험성 또는 규제성 유체들을 취급하기 위해서는 필수적으로 누설방지 성능이 제공되어야 한다.
유체의 안전한 이송을 위하여 내구성 및 유연성을 동시에 제공할 수 있는 호스 조립체들이 제안되고 있으며, 대한민국 등록특허 제10-1218049호에는 유체 이송용 호스 조립체가 개시되어 있다.
상기와 같은 유체 이송관 또는 유체 이송 호스는 유체 이송시 100℃ 이상의 열이 발생하는 데, 외부로 노출되어 있는 호스들이 있어 작업자들이 위험에 노출되어 있는 실정이다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 내구성이 우수한 테프론호스 외부 표면에 유리섬유와 실리콘 재질로 이루어진 슬리브층을 형성하고, 상기 슬리브층 표면에 최외부층을 형성하여 외면 온도를 70℃ 이하로 유지하여 안전성이 우수한 테프론호스 및 이를 포함하는 어셈블리를 제공하는 것이다.
본 발명의 과제는 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은
폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함하는 내관;
상기 내관 상에 형성된 보강사층;
상기 보강사층 상에 형성된 실리콘층;
상기 실리콘층 상에 형성된 슬리브층; 및
상기 슬리브층 상에 형성된 최외각층;을 포함하는 반도체 제조 설비용 테프론 호스를 제공한다.
또한, 상기 보강사층은 스테인레스 스틸 재질의 메쉬 구조이고,
상기 실리콘층은 메틸트리에톡시실란 단량체로부터 유래되는 단위 38-42 중량부, 테트라에틸오르토실리케이트 단량체부터 유래되는 단위 38-42 중량부 및 트리에틸실릴 디하이드로젠 포스페이트(trimethylsilyl dihydrogen phosphate) 단량체로부터 유래되는 단위 18-22 중량부를 포함하는 실리콘 고분자 수지 48-52 중량부, 하기 화학식 1로 표시되는 고분자 수지 18-22 중량부, 탄산칼륨 3-7 중량부, 수산화마그네슘 3-7 중량부, 트리브로모페녹시에탄 3-7 중량부, 멜라민 3-7 중량부, 유리분말 4-8 중량부, 폴리디메틸실록산 1-5 중량부 및 백금촉매 0.5-1.5 중량부를 포함하는 실리콘층 형성용 조성물로 형성된 것이고,
<화학식 1>
(상기 화학식 1에서, n은 50-500이고, m은 25-30이다),
상기 슬리브층은 유리섬유로 이루어진 내층; 및 상기 내층 상에 형성된 실리콘 고무층;을 포함하고,
상기 최외각층은 메틸메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 하이드록시에틸메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 메타크릴산 단량체 단위 23-27 중량부 및 글리시딜메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부를 포함하는 제1 아크릴계 공중합체 38-42 중량부, 데실아크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트(2-(dimethylamino)ethyl acrylate) 단량체 단위 23-27 중량부, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 23-27 중량부 및 아크릴산 단량체 단위 23-27 중량부를 포함하는 제2 아크릴계 공중합체 18-22 중량부, 에틸렌프로필렌디엔메틸렌(EPDM) 고무 3-7 중량부, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트 2-6 중량부, 수산화탄산마그네슘 3-7 중량부, 멜라민포스페이트 1-5 중량부, 카본블랙 3-7 중량부, 은 나노입자 3-7 중량부, 산화아연 나노입자 3-7 중량부, 프로필렌글리콜 1-5 중량부, 셀룰로오즈 아세테이트 부틸레이트 1-5 중량부, 산화방지제 0.3-0.7 중량부, UV 안정제 0.3-0.7 중량부 및 백금촉매 0.5-1.5 중량부를 포함하는 최외각층 형성용 조성물로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조 설비용 테프론 호스를 제공한다.
또한, 본 발명은
상기의 테프론 호스를 포함하고,
상기 테프론 호스 양측에 형성된 피팅을 포함하는 테프론 호스 어셈블리를 제공한다.
본 발명에 따른 테프론 호스는 내구성이 우수한 테프론 기반의 내관 상에 보강사층, 실리콘층, 슬리브층 및 최외각층을 구성하여 외면 온도를 70℃ 이하로 유지하여 작업자에 대한 안전성이 우수하다.
이하에서는 다양한 실시예를 보다 상세하게 설명한다. 본 명세서에 기재된 실시예는 다양하게 변형될 수 있다. 특정한 실시예가 상세한 설명에서 자세하게 설명될 수 있다. 그러나 개시된 특정한 실시 예는 다양한 실시예를 쉽게 이해하도록 하기 위한 것일 뿐이다. 따라서 개시된 특정 실시예에 의해 기술적 사상이 제한되는 것은 아니며, 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 균등물 또는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
1차, 2차, 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이러한 구성요소들은 상술한 용어에 의해 한정되지는 않는다. 상술한 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 명세서에서, '포함한다' 또는 '가지다' 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 '연결되어' 있다거나 '접속되어' 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 '직접 연결되어' 있다거나 '직접 접속되어' 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다.
그 밖에도, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그에 대한 상세한 설명은 축약하거나 생략한다.
본 발명은
폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함하는 내관;
상기 내관 상에 형성된 보강사층;
상기 보강사층 상에 형성된 실리콘층;
상기 실리콘층 상에 형성된 슬리브층; 및
상기 슬리브층 상에 형성된 최외각층;을 포함하는 반도체 제조 설비용 테프론 호스를 제공한다.
이하, 본 발명에 따른 반도체 제조 설비용 테프론 호스에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 테프론 호스는 내관을 포함하고, 상기 내관은 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함한다.
상기 내관은 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 소재를 포함하는 것으로, 테프론 소재로 이루어진 내관을 사용하며, 테프론의 신축성 및 내식성으로 화학성분, 가스 및 냉매 등과 같은 유체에 의해 손상되지 않고 안정적인 이송이 가능하다. 또한, 관 내부에 미세먼지 등이 발생하지 않아 내관을 통과하는 유체의 높은 순도를 유지할 수 있다.
본 발명에 따른 테프론 호스는 상기 보강사층을 포함하고, 상기 보강사층은 내관 상에 형성된다.
상기 보강사층은 스테인레스 스틸 재질의 메쉬 구조인 것이 바람직하다. 상기 보강사층은 메쉬(mesh) 형태로 형성되어 상기 내관을 보강한다.
상기 보강사층은 스테인레스 스틸 재질의 메쉬 구조체가 내관을 감싸도록 형성되어 테프론 소재 기반의 내관의 강성이 보강되며, 상기 내관을 따라 유체가 유동되어 상기 내관의 내부 압력이 상승되더라도 내관이 찢어지는 등 손상되는 현상을 방지할 수 있다.
본 발명에 따른 테프론 호스는 실리콘층을 포함하고, 상기 실리콘층은 상기 보강사층 상에 형성된다.
상기 실리콘층은 보강사층으로 감싸진 내관 상에 형성될 수 있다.
상기 실리콘층은 메틸트리에톡시실란 단량체로부터 유래되는 단위 38-42 중량부, 테트라에틸오르토실리케이트 단량체부터 유래되는 단위 38-42 중량부 및 트리에틸실릴 디하이드로젠 포스페이트(trimethylsilyl dihydrogen phosphate) 단량체로부터 유래되는 단위 18-22 중량부를 포함하는 실리콘 고분자 수지 48-52 중량부, 하기 화학식 1로 표시되는 고분자 수지 18-22 중량부, 탄산칼륨 3-7 중량부, 수산화마그네슘 3-7 중량부, 트리브로모페녹시에탄 3-7 중량부, 멜라민 3-7 중량부, 유리분말 4-8 중량부, 폴리디메틸실록산 1-5 중량부 및 백금촉매 0.5-1.5 중량부를 포함하는 실리콘층 형성용 조성물로 형성된 것이 바람직하고, 메틸트리에톡시실란 단량체로부터 유래되는 단위 39-41 중량부, 테트라에틸오르토실리케이트 단량체부터 유래되는 단위 39-41 중량부 및 트리에틸실릴 디하이드로젠 포스페이트(trimethylsilyl dihydrogen phosphate) 단량체로부터 유래되는 단위 19-21 중량부를 포함하는 실리콘 고분자 수지 49-51 중량부, 하기 화학식 1로 표시되는 고분자 수지 19-21 중량부, 탄산칼륨 4-6 중량부, 수산화마그네슘 4-6 중량부, 트리브로모페녹시에탄 4-6 중량부, 멜라민 4-6 중량부, 유리분말 5-7 중량부, 폴리디메틸실록산 2-4 중량부 및 백금촉매 0.8-1.2 중량부를 포함하는 실리콘층 형성용 조성물로 형성된 것이 더욱 바람직하다.
<화학식 1>
(상기 화학식 1에서, n은 50-500이고, m은 25-30이다.)
상기 실리콘 수지는 메틸트리에톡시실란 단량체로부터 유래되는 단위, 테트라에틸오르토실리케이트 단량체부터 유래되는 단위 및 트리에틸실릴 디하이드로젠 포스페이트(trimethylsilyl dihydrogen phosphate) 단량체로부터 유래되는 단위를 포함한다.
상기 실리콘 수지는 다음과 같은 방법으로 제조된 것일 수 있다.
먼저, 메틸트리에톡시실란 38-42 중량부, 테트라에틸오르토실리케이트 38-42 중량부 및 트리에틸실릴 디하이드로젠 포스페이트(trimethylsilyl dihydrogen phosphate) 18-22 중량부를 준비한다. 상기 트리에틸실릴 디하이드로젠 포스페이트(trimethylsilyl dihydrogen phosphate)는 트리메틸실란올과 디하이드로젠 포스페이트를 반응시켜 제조하여 준비할 수 있다.
다음, 상기 준비된 단량체 원료를 반응기에 첨가하고, 단량체 총 중량의 0.4-0.6배의 에탄올을 첨가한 후, 적당량의 염산을 첨가하여 pH를 1-5로 조절하고 균일하게 하기 위해 충분히 교반하여 준다.
다음, 상기 준비된 단량체 총 중량의 0.1-1배의 물을 첨가하고, 가열하여 50-80℃의 온도에서 회류시킨다. 반응하여 단상으로 변하여 완전히 투명하게 되면, 그 상태에서 1-6시간 동안 보온하여 반응을 유지한다.
이후, pH를 5.5-6.5로 조절하고, 고형분 함량의 20 중량%에 해당하는 물을 보충 첨가하고, 냉각시킨 후 여과하여 실리콘 고분자 수지를 제조한다.
상기 화학식 1로 표시되는 고분자 수지는 방향족 폴리아미드 단위와 폴리페닐렌에테르 단위로 이루어지고, 증량제로 도데칸디올을 이용하여 중축합 반응을 통해 제조될 수 있다. 상기 고분자 수지는 165-175℃의 유리전이온도(Tg)와 265-275℃의 용융온도(Tm)을 가지는 소재로, 이를 이용하여 내열수지 조성물을 제조함으로써 높은 내열성과 기계적 물성을 동시에 확보할 수 있다.
상기 탄산칼륨, 수산화마그네슘, 트리브로모페녹시에탄 및 멜라민은 첨가제 및 난연제로 적용되어 우수한 내구성 및 난연성을 확보할 수 있다.
상기 유리분말은 고온 조건에서 상기 유리분말이 용융후 다시 냉각되면서 강한 유리막을 형성하여 기밀성을 더욱 향상시켜 유체의 노출을 방지하는 목적으로 포함된다.
상기 폴리디메틸실록산은 가소제로 적용된다.
본 발명에 따른 테프론 호스는 슬리브층을 포함하고, 상기 슬리브층은 상기 실리콘층 상에 형성된다.
상기 슬리브층은 유리섬유로 이루어진 내층; 및 상기 내층 상에 형성된 실리콘 고무층;을 포함하는 것이 바람직하다.
상기 슬리브층은 유리섬유, 바람직하게는 유리섬유 얀으로 구성된 내층과 실리콘 고무층으로 구성된 외층을 포함한다.
상기 슬리브층을 통해 테프론 호스의 내구성을 더욱 강화할 뿐만 아니라 테프론 호스의 외부 표면 온도를 70℃ 이하로 낮추어 작업자가 작업 시 화학물질의 열에 의한 화상 등을 방지할 수 있다.
본 발명에 따른 테프론 호스는 최외각층을 포함하고, 상기 최외각층은 상기 슬리브층 상에 형성된다.
상기 최외각층은 메틸메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 하이드록시에틸메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 메타크릴산 단량체 단위 23-27 중량부 및 글리시딜메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부를 포함하는 제1 아크릴계 공중합체 38-42 중량부, 데실아크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트(2-(dimethylamino)ethyl acrylate) 단량체 단위 23-27 중량부, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 23-27 중량부 및 아크릴산 단량체 단위 23-27 중량부를 포함하는 제2 아크릴계 공중합체 18-22 중량부, 에틸렌프로필렌디엔메틸렌(EPDM) 고무 3-7 중량부, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트 2-6 중량부, 수산화탄산마그네슘 3-7 중량부, 멜라민포스페이트 1-5 중량부, 카본블랙 3-7 중량부, 은 나노입자 3-7 중량부, 산화아연 나노입자 3-7 중량부, 프로필렌글리콜 1-5 중량부, 셀룰로오즈 아세테이트 부틸레이트 1-5 중량부, 산화방지제 0.3-0.7 중량부, UV 안정제 0.3-0.7 중량부 및 백금촉매 0.5-1.5 중량부를 포함하는 최외각층 형성용 조성물로 형성된 것이 바람직하고, 메틸메타크릴레이트 단량체 단위 24-26 중량부, 하이드록시에틸메타크릴레이트 단량체 단위 24-26 중량부, 메타크릴산 단량체 단위 24-26 중량부 및 글리시딜메타크릴레이트 단량체 단위 24-26 중량부를 포함하는 제1 아크릴계 공중합체 39-41 중량부, 데실아크릴레이트 단량체 단위 24-26 중량부, 2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트(2-(dimethylamino)ethyl acrylate) 단량체 단위 24-26 중량부, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 24-26 중량부 및 아크릴산 단량체 단위 24-26 중량부를 포함하는 제2 아크릴계 공중합체 19-21 중량부, 에틸렌프로필렌디엔메틸렌(EPDM) 고무 4-6 중량부, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트 3-5 중량부, 수산화탄산마그네슘 4-6 중량부, 멜라민포스페이트 2-4 중량부, 카본블랙 4-6 중량부, 은 나노입자 4-6 중량부, 산화아연 나노입자 4-6 중량부, 프로필렌글리콜 2-4 중량부, 셀룰로오즈 아세테이트 부틸레이트 2-4 중량부, 산화방지제 0.4-0.6 중량부, UV 안정제 0.4-0.6 중량부 및 백금촉매 0.8-1.2 중량부를 포함하는 최외각층 형성용 조성물로 형성된 것이 더욱 바람직하다.
상기 제1 아크릴계 공중합체는 메틸메타크릴레이트 단량체 단위, 하이드록시에틸메타크릴레이트 단량체 단위, 메타크릴산 단량체 단위 및 글리시딜메타크릴레이트 단량체 단위를 포함한다. 상기 제1 아크릴계 공중합체는 메인수지로 적용되며 높은 내구성과 경도를 가지는 최외각층을 형성할 수 있다.
상기 제2 아크릴계 공중합체는 데실아크릴레이트 단량체 단위, 2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트(2-(dimethylamino)ethyl acrylate) 단량체 단위, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 및 아크릴산 단량체 단위를 포함한다. 상기 제2 아크릴계 공중합체는 보조수지로 적용되며 높은 내열성과 경도를 가지는 최외각층을 형성할 수 있다.
상기 에틸렌프로필렌디엔메틸렌 고무는 첨가제로 적용되어 높은 내구성과 경도를 확보할 수 있다.
상기 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트는 조성물의 혼화성을 높여주고 슬리브층과의 접착력을 높여준다.
상기 수산화탄산마그네슘, 멜라민포스페이트는 난연제로 적용된다.
상기 카본블랙, 은 나노입자, 산화아연 나노입자는 최외각층에 더욱 높은 경도를 적용함과 동시에 내구성이 향상되고 항균성이 부여될 수 있다.
상기 산화방지제 및 UV 안정제는 기타 첨가제로서 당분야에 통상적으로 적용되는 물질을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명은
상기의 테프론 호스를 포함하고,
상기 테프론 호스 양측에 형성된 피팅을 포함하는 테프론 호스 어셈블리를 제공한다.
이하, 본 발명에 따른 테프론 호스 어셈블리에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 테프론 호스 어셈블리는 테프론 호스를 포함하고, 상기 테프론 호스는 전술한 바와 같은 테프론 호스를 적용한다.
본 발명에 따른 테프론 호스 어셈블리는 피팅을 포함하고, 상기 피팅은 테프론 호스 양측에 형성된다. 상기 피팅은 테프론 호스를 다른 배관 또는 연결구에 결속시키는 역할을 수행할 수 있다.
상기 피팅은 유니언(Union) 타입, 플랜지(Flange) 타입, 니플(Nipple) 타입 또는 소켓(Socket) 타입 중 어느 하나로 구성될 수 있다. 일례로 스테인레스 스틸 재질의 피팅을 적용할 수 있다.
이상에서 설명된 본 발명의 일 실시예는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 그러므로 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 형태로만 한정되는 것은 아님을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다. 또한, 본 발명은 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 그 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
Claims (3)
- 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)을 포함하는 내관;
상기 내관 상에 형성된 보강사층;
상기 보강사층 상에 형성된 실리콘층;
상기 실리콘층 상에 형성된 슬리브층; 및
상기 슬리브층 상에 형성된 최외각층;을 포함하고,
상기 보강사층은 스테인레스 스틸 재질의 메쉬 구조이고,
상기 실리콘층은 메틸트리에톡시실란 단량체로부터 유래되는 단위 38-42 중량부, 테트라에틸오르토실리케이트 단량체부터 유래되는 단위 38-42 중량부 및 트리에틸실릴 디하이드로젠 포스페이트(trimethylsilyl dihydrogen phosphate) 단량체로부터 유래되는 단위 18-22 중량부를 포함하는 실리콘 고분자 수지 48-52 중량부, 하기 화학식 1로 표시되는 고분자 수지 18-22 중량부, 탄산칼륨 3-7 중량부, 수산화마그네슘 3-7 중량부, 트리브로모페녹시에탄 3-7 중량부, 멜라민 3-7 중량부, 유리분말 4-8 중량부, 폴리디메틸실록산 1-5 중량부 및 백금촉매 0.5-1.5 중량부를 포함하는 실리콘층 형성용 조성물로 형성된 것이고,
<화학식 1>
(상기 화학식 1에서, n은 50-500이고, m은 25-30이다),
상기 슬리브층은 유리섬유로 이루어진 내층; 및 상기 내층 상에 형성된 실리콘 고무층;을 포함하고,
상기 최외각층은 메틸메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 하이드록시에틸메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 메타크릴산 단량체 단위 23-27 중량부 및 글리시딜메타크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부를 포함하는 제1 아크릴계 공중합체 38-42 중량부, 데실아크릴레이트 단량체 단위 23-27 중량부, 2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트(2-(dimethylamino)ethyl acrylate) 단량체 단위 23-27 중량부, 프로피온산 변성 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 23-27 중량부 및 아크릴산 단량체 단위 23-27 중량부를 포함하는 제2 아크릴계 공중합체 18-22 중량부, 에틸렌프로필렌디엔메틸렌(EPDM) 고무 3-7 중량부, 트리프로필렌글리콜 디아크릴레이트 2-6 중량부, 수산화탄산마그네슘 3-7 중량부, 멜라민포스페이트 1-5 중량부, 카본블랙 3-7 중량부, 은 나노입자 3-7 중량부, 산화아연 나노입자 3-7 중량부, 프로필렌글리콜 1-5 중량부, 셀룰로오즈 아세테이트 부틸레이트 1-5 중량부, 산화방지제 0.3-0.7 중량부, UV 안정제 0.3-0.7 중량부 및 백금촉매 0.5-1.5 중량부를 포함하는 최외각층 형성용 조성물로 형성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조 설비용 테프론 호스. - 삭제
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