KR102585073B1 - Surface Coating Method of Implant Assembly using Plasma Melt Spraying Method - Google Patents
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Abstract
본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것이다. 본 발명의 목적은 종래의 티타늄으로만 구성된 임플란트 식립체가 아닌, 티타늄으로 구성된 임플란트 식립체에 플라즈마 용융분사방식을 적용하여 원래 모양을 유지하면서 산화방지를 위한 탄탈룸(Ta)을 용융, 도포하는 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법에 대한 것이다.The present invention is intended to solve the problems of the prior art as described above. The purpose of the present invention is to melt and apply tantalum (Ta) to prevent oxidation while maintaining the original shape by applying a plasma melt spraying method to an implant assembly made of titanium, rather than a conventional implant assembly made only of titanium. This is about a method of coating the surface of an implant placement using a spraying method.
Description
본 발명은 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마 용융 분사법을 이용하여 치과 임플란트 식립체의 주성분을 이루는 이산화티타늄의 표면을 탄탈룸(Ta)으로 코팅하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of coating the surface of an implant body using a plasma melt spraying method. More specifically, the surface of titanium dioxide, which is the main component of a dental implant body, is coated with tantalum (Ta) using a plasma melt spraying method. It's about how to do it.
일반적으로 티타늄은 임플란트의 식립체로서의 주성분으로 우수한 기계적 특성과 표면 산화막층의 생체 적합성 때문에 치과 분야에서 임플란트 재료로써 널리 사용되고 있다. 티타늄은 비강도가 높으며 전기적, 화학적 부식 저항성이 크고 표면에 자연적으로 산화막을 형성하여 금속이온의 용출을 막아주기 때문에 생체적합성이 우수하다.In general, titanium is the main component of implants and is widely used as an implant material in the dental field due to its excellent mechanical properties and biocompatibility of the surface oxide layer. Titanium has high specific strength, great resistance to electrical and chemical corrosion, and excellent biocompatibility because it naturally forms an oxide film on the surface, preventing the elution of metal ions.
그러나 표면에 형성된 티타늄의 자연 산화막은 그 두께가 얇고 약하기 때문에 음식물을 섭취할 때 외부환경에 노출되기 쉬운 이유로 상온에서 쉽게 산화되는 단점이 있다.However, the natural oxide film of titanium formed on the surface is thin and weak, so it is easily exposed to the external environment when eating food, so it has the disadvantage of being easily oxidized at room temperature.
이러한 임플란트 식립체의 주성분인 티타늄의 산화막 방지를 위해 다양한 금속 재료를 이용하여 코팅하는 방법에 대한 많은 연구가 진행되고 있다.Much research is being conducted on coating methods using various metal materials to prevent the oxidation film of titanium, which is the main component of these implants.
종래 한국등록특허 제10-2116955호(“탄탈룸 코팅된 나노구조를 갖는 제조산물, 이를 제조 및 사용하는 방법에서의 참조”, 2020.05.25., 이하 ‘선행문헌’)에서는 스퍼터링을 이용하는 물리적 증착방법과 화학적 에칭방법에 의해 티타늄 구조로 된 기판 또는 형상에 탄탈룸의 나노구조를 형성하는 방법에 대하여 개시되어 있었다.Conventional Korean Patent No. 10-2116955 (“Manufactured product with tantalum-coated nanostructure, reference to method for manufacturing and using the same”, May 25, 2020, hereinafter referred to as ‘prior literature’), a physical vapor deposition method using sputtering and a method of forming a tantalum nanostructure on a titanium-structured substrate or shape by a chemical etching method was disclosed.
그러나 기존 임플란트 식립체는 나사형태로 구성되어 있어 종래 기술은 스퍼터링 후 화학적 에칭 방법으로 구성되어 있어 나사형태의 임플란트 식립체의 형상을 유지하면서 간단하게 탄탈룸의 코팅막을 형성하는데에 시간이 오래걸리고 공정이 복잡하다는 문제점이 있다.However, the existing implant assembly is composed of a screw shape, and the conventional technology consists of sputtering followed by chemical etching, so it takes a long time and a long process to simply form a tantalum coating film while maintaining the shape of the screw-shaped implant assembly. The problem is that it is complicated.
따라서 본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 종래의 티타늄 기판 또는 형상에 스퍼터링과 화학적 에칭방법으로 탄탈룸 코팅막을 형성하는 방법이 아닌, 티타늄으로 구성된 임플란트 식립체에 플라즈마 용융분사방식을 적용하여 원래 모양을 유지하면서 산화방지를 위한 탄탈룸(Ta)을 용융, 도포하는데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention was created to solve the problems of the prior art as described above, and the purpose of the present invention is not to form a tantalum coating film on a conventional titanium substrate or shape by sputtering and chemical etching, but to form a tantalum coating film made of titanium. The purpose is to melt and apply tantalum (Ta) to prevent oxidation while maintaining the original shape by applying the plasma melt spraying method to the implant fixture.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 용융 분사법을 이용한 사용자의 턱뼈에 식립되는 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법은 상기 임플란트 식립체를 지그에 장착시켜 선반척에 고정시킨 후 회전시키는 단계; 및 상기 회전하는 임플란트 식립체의 표면 상에 플라즈마 용융 분사법으로 탄탈룸(Ta) 분말을 고열로 용융시켜 탄탈룸(Ta) 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 탄탈룸(Ta) 코팅층을 형성하는 단계는, 상기 탄탈룸(Ta) 코팅층의 표면 온도를 100℃ 내지 200℃로 낮게 유지하여 상기 탄탈룸(Ta) 코팅층이 상기 임플란트 식립체에 안정적으로 접착되어 코팅될 수 있도록 상기 플라즈마 용융 분사법으로 상기 탄탈룸(Ta) 분말을 8,000℃ 내지 12,000℃의 플라즈마 열원으로 용융하는 것을 특징으로 하고, 상기 플라즈마에 의해 용융된 탄탈룸이 임플란트 식립체 표면에 고르게 분사되도록, 상기 플라즈마 용융 분사법의 코팅 시간은 20 내지 40초 인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 임플란트 식립체의 회전은 40 내지 80rpm의 속도로 회전시키는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 탄탈룸(Ta) 코팅층은 그 두께가 20 내지 60㎛로 형성되는 것을 특징으로 한다.The method of coating the surface of an implant to be installed in the user's jawbone using the plasma melt spraying method of the present invention to achieve the above-described object includes the steps of mounting the implant to a jig, fixing it to a lathe chuck, and then rotating it. ; And forming a tantalum (Ta) coating layer by melting tantalum (Ta) powder at high temperature using a plasma melt spraying method on the surface of the rotating implant installation body, and forming the tantalum (Ta) coating layer. The tantalum (Ta) coating layer is maintained by maintaining the surface temperature of the tantalum (Ta) coating layer as low as 100°C to 200°C using the plasma melt spraying method so that the tantalum (Ta) coating layer can be stably adhered to and coated with the implant. Ta) The powder is melted with a plasma heat source at 8,000°C to 12,000°C, and the coating time of the plasma melt spraying method is 20 to 40 seconds so that the tantalum melted by the plasma is sprayed evenly on the surface of the implant. It is characterized by being.
In addition, the implant installation body is rotated at a speed of 40 to 80 rpm.
In addition, the tantalum (Ta) coating layer is characterized in that it is formed to have a thickness of 20 to 60㎛.
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본 발명에 의하면, 플라즈마 용융 분사법을 사용하여 짧은 시간에 용융점이 높은 탄탈룸(Ta)을 효율적으로 고르게 도포함으로서 인체 발암성이 없는 인체에 안전한 코팅막을 형성할 수 있다.According to the present invention, it is possible to form a coating film that is safe for the human body and is not carcinogenic by efficiently and evenly applying tantalum (Ta) with a high melting point in a short period of time using a plasma melt spraying method.
또한, 본 발명에 의하면, 플라즈마 용융 분사법을 사용하여 티타늄으로 구성된 임플란트 식립체에 탄탈룸(Ta)을 고르게 도포함으로써 이산화티타늄의 생성을 방지 할 수 있어 지속적이고 안정된 코팅막을 형성할 수 있다.In addition, according to the present invention, the formation of titanium dioxide can be prevented by evenly applying tantalum (Ta) to an implant body made of titanium using a plasma melt spraying method, thereby forming a continuous and stable coating film.
도 1은 본 발명의 플라즈마 용융 분사법을 이용한 탄탈룸(Ta)이 코팅된 임플란트 식립체
도 2는 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 단계
도 3은 지그에 장착시켜 선반척에 고정시킨 임플란트 식립체Figure 1 shows an implant installation body coated with tantalum (Ta) using the plasma melt spraying method of the present invention.
Figure 2 shows the surface coating step of the implant assembly using the plasma melt spraying method.
Figure 3 shows an implant assembly mounted on a jig and fixed to a lathe chuck.
본 발명은 기존의 티타늄 임플란트 식립체의 산화문제로 인한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 플라즈마 용융 분사법을 사용하여 임플란트 식립체의 본래 형태를 유지하면서 산화방지를 위해 탄탈룸(Ta)을 용융, 도포하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 플라즈마 용융 분사법을 이용한 사용자의 턱뼈에 식립되는 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법은 상기 임플란트 식립체를 지그에 장착시켜 선반척에 고정시킨 후 회전시키는 단계; 및 상기 회전하는 임플란트 식립체의 표면 상에 플라즈마 용융 분사법으로 탄탈룸(Ta) 분말을 고열로 용융시켜 탄탈룸(Ta) 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 탄탈룸(Ta) 코팅층을 형성하는 단계는, 상기 탄탈룸(Ta) 코팅층의 표면 온도를 100℃ 내지 200℃로 낮게 유지하여 상기 탄탈룸(Ta) 코팅층이 상기 임플란트 식립체에 안정적으로 접착되어 코팅될 수 있도록 상기 플라즈마 용융 분사법으로 상기 탄탈룸(Ta) 분말을 8,000℃ 내지 12,000℃의 플라즈마 열원으로 용융하는 것을 특징으로 하고, 상기 플라즈마에 의해 용융된 탄탈룸이 임플란트 식립체 표면에 고르게 분사되도록, 상기 플라즈마 용융 분사법의 코팅 시간은 20 내지 40초 인 것을 특징으로 한다.The present invention is intended to solve problems caused by oxidation of existing titanium implants, and uses a plasma melt spraying method to melt and apply tantalum (Ta) to prevent oxidation while maintaining the original shape of the implants. It has a purpose.
A method of coating the surface of an implant to be installed in a user's jawbone using the plasma melt spraying method of the present invention includes the steps of mounting the implant to a jig, fixing it to a lathe chuck, and rotating it; And forming a tantalum (Ta) coating layer by melting tantalum (Ta) powder at high temperature using a plasma melt spraying method on the surface of the rotating implant installation body, and forming the tantalum (Ta) coating layer. The tantalum (Ta) coating layer is maintained by maintaining the surface temperature of the tantalum (Ta) coating layer as low as 100°C to 200°C using the plasma melt spraying method so that the tantalum (Ta) coating layer can be stably adhered to and coated with the implant. Ta) The powder is melted with a plasma heat source at 8,000°C to 12,000°C, and the coating time of the plasma melt spraying method is 20 to 40 seconds so that the tantalum melted by the plasma is sprayed evenly on the surface of the implant. It is characterized by being.
도 1은 본 발명의 플라즈마 용융 분사법을 이용한 탄탈룸(Ta)이 코팅된 임플란트 식립체를 도시한 것이다.Figure 1 shows an implant installation body coated with tantalum (Ta) using the plasma melt spraying method of the present invention.
도 1에 도시된 바와 같이, 상기 탄탈룸(Ta)이 코팅된 임플란트 식립체는 나사형태로 구성된 티타늄 재질의 임플란트 식립체와 상기 임플란트 식립체 표면에 금속분말로 코팅된 금속 코팅층으로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 1, the tantalum (Ta)-coated implant assembly may be formed of a screw-shaped implant assembly made of titanium and a metal coating layer coated with metal powder on the surface of the implant assembly.
여기에서, 상기 임플란트 식립체는 치근의 복구 또는 대치를 위한 핀 또는 막대 형태로 구성될 수 있다.Here, the implant placement body may be configured in the form of a pin or rod for restoration or replacement of the tooth root.
또한, 상기 임플란트 식립체는 틀니를 윗턱과 아래턱에 고정시키기 위해 식립하는 핀, 메쉬 또는 막대 형태로 구성될 수 있다.Additionally, the implant installation body may be configured in the form of a pin, mesh, or rod to be installed to secure the denture to the upper and lower jaw.
여기에서, 상기 금속분말은 탄탈룸(Ta) 또는 산화탄탈룸(Ta2O5), 결정성탄탈룸(Ta), 무정형탄탈룸(Ta)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상으로 코팅 또는 적층될 수 있다.Here, the metal powder may be coated or laminated with one or more materials selected from the group consisting of tantalum (Ta) or tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), crystalline tantalum (Ta), and amorphous tantalum (Ta).
여기에서, 탄탈룸(Ta)는 공기 중에서 산화반응이 매우 낮은 편이므로 산에 의한 부식이 거의 발생하지 않으므로 이산화티타늄의 생성을 막을 수 있다.Here, since tantalum (Ta) has a very low oxidation reaction in air, corrosion by acids rarely occurs, thereby preventing the formation of titanium dioxide.
또한, 상기 탄탈룸(Ta)의 순도는 99.99% 이상일 수 있다.Additionally, the purity of tantalum (Ta) may be 99.99% or more.
또한, 상기 탄탈룸(Ta) 분말의 입자는 10 내지 50㎛일 수 있다. 여기에서, 여기에서, 탄탈룸(Ta) 분말의 입자가 상기 적정치인 10㎛ 보다 작을 경우 플라즈마 열원으로 분말형태의 입자가 과열되어 기화할 수 있다. 또한, 분말의 입자가 상기 적정치인 50㎛보다 클 경우 분말형태의 입자가 적당한 열에너지를 공급받지 못하므로 코팅 시 증착효율이 저하될 수 있다.Additionally, the particles of the tantalum (Ta) powder may be 10 to 50㎛. Here, if the particles of the tantalum (Ta) powder are smaller than the appropriate value of 10㎛, the particles in the form of powder may be overheated by the plasma heat source and vaporize. In addition, if the powder particles are larger than the above appropriate value of 50㎛, the powder particles do not receive adequate heat energy, so deposition efficiency may decrease during coating.
다음으로, 본 발명의 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법은 플라즈마용사코팅장비를 이용한 것으로, 탄탈룸(Ta) 분말을 플라즈마 용융분사법으로 용융시켜 탄탈룸(Ta) 코팅층이 형성될 수 있다.Next, the surface coating method of the implant placement body of the present invention uses plasma spray coating equipment, and a tantalum (Ta) coating layer can be formed by melting tantalum (Ta) powder using a plasma melt spraying method.
여기에서, 용사란, 분말 형태의 재료를 고온의 열원을 이용하여 용액 상태로 만들어 분사하는 기술로써, 화염이나 플라즈마 등 고온의 열원을 발생시키는 용사장치에 분말 형태의 용사재료를 주입하여 용융시킴으로써, 피막층을 형성하는 것이다.Here, thermal spraying is a technology that sprays a powder-type material into a solution state using a high-temperature heat source. By injecting the powder-type spraying material into a spraying device that generates a high-temperature heat source such as a flame or plasma and melting it, It forms a film layer.
상기 플라즈마 용융분사 방식은 코팅 두께와 표면 특성을 효과적으로 제어하면서 모든 형태의 재료를 코팅 할 수 있는 공정으로, 에너지 밀도가 높아 재료의 형태나 모양에 제한받지 않고 코팅이 가능할 수 있다.The plasma melt spraying method is a process that can coat all types of materials while effectively controlling the coating thickness and surface characteristics. The energy density is high, so coating can be possible without being limited by the shape or shape of the material.
도 2는 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 단계를 도시한 것이다.Figure 2 shows the surface coating step of an implant placement using a plasma melt spraying method.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법은 상기 임플란트 식립체를 지그에 장착시켜 선반척에 고정시킨 후 회전시키는 단계 및 상기 회전하는 임플란트 식립체의 표면 상에 플라즈마 용융 분사법으로 탄탈룸(Ta) 분말을 고열로 용융시켜 탄탈룸(Ta) 코팅층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.As shown in FIG. 2, the method of coating the surface of the implant body using the plasma melt spraying method includes mounting the implant body on a jig, fixing it to a lathe chuck, and then rotating it; and rotating the surface of the rotating implant body. It may include forming a tantalum (Ta) coating layer by melting tantalum (Ta) powder at high heat using a plasma melt spraying method.
도 3은 지그에 장착시켜 선반척에 고정시킨 임플란트 식립체를 도시한 것으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 임플란트 식립체를 지그에 장착시켜 선반척에 고정시킨 후 회전시키는 단계에서는 상기 임플란트 식립체를 지그에 장착시켜 선반척에 고정시킨 후 40 내지 80rpm의 속도로 회전시킨다. 여기에서, 상기 임플란트 식립체가 나사형태로 구성되어 있어 코팅 공정 진행 시 40 내지 80rpm의 적절한 속도로 회전시킴으로써 탄탈룸이 상기 임플란트 식립체의 표면에 고르게 분사되어 코팅될 수 있다.FIG. 3 shows an implant installation body mounted on a jig and fixed to a lathe chuck. As shown in FIG. 3, the implant installation body is mounted on a jig, fixed to the lathe chuck, and then rotated. The sieve is mounted on a jig, fixed to a lathe chuck, and rotated at a speed of 40 to 80 rpm. Here, since the implant assembly body is configured in a screw shape, tantalum can be evenly sprayed and coated on the surface of the implant assembly body by rotating it at an appropriate speed of 40 to 80 rpm during the coating process.
다음으로, 상기 회전하는 임플란트 식립체의 표면 상에 플라즈마 용융 분사법으로 탄탈룸(Ta) 분말을 고열로 용융시켜 탄탈룸(Ta) 코팅층을 형성하는 단계에서는 플라즈마 용사코팅장비 내부에 플라즈마 가스가 투입되고 양극과 음극 사이에 강한 아크(arc)가 발생되어 플라즈마 열원이 형성될 수 있다. 이때 발생되는 플라즈마 열원은 8,000 내지 12,000℃일 수 있다. 또한, 플라즈마를 점화하기 위해 사용되는 가스의 종류로는 아르곤(Ar), 질소(N2) 수소(H2) 헬륨(He)일 있다. 여기에서, 탄탈룸 분말 입자는 플라즈마 열원의 온도에 영향을 받을 수 있다. 플라즈마 열원의 온도가 8000℃ 이하일 경우 탄탈룸 분말 입자의 코팅이 제대로 이루어지지 않아 접착강도 및 접착밀도가 떨어질 수 있으며, 12000℃이상일 경우 탄탈룸 분말 입자의 물리적, 화학적 특성이 변화될 수 있다.Next, in the step of forming a tantalum (Ta) coating layer by melting tantalum (Ta) powder at high temperature on the surface of the rotating implant assembly using a plasma melt spraying method, plasma gas is injected into the plasma spray coating equipment and the anode is used. A strong arc may be generated between the electrode and the cathode to form a plasma heat source. The plasma heat source generated at this time may be 8,000 to 12,000°C. Additionally, types of gas used to ignite plasma include argon (Ar), nitrogen (N 2 ), hydrogen (H 2 ), and helium (He). Here, the tantalum powder particles may be affected by the temperature of the plasma heat source. If the temperature of the plasma heat source is below 8000°C, the coating of the tantalum powder particles may not be performed properly and the adhesive strength and adhesive density may decrease. If the temperature is above 12000°C, the physical and chemical properties of the tantalum powder particles may change.
또한, 여기에서, 플라즈마 열원은 8,000 내지 12,000℃의 고온이지만, 동시에 코팅 재료로 사용되는 탄탈룸(Ta)은 약 100 내지 200℃로 낮게 유지할 수 있어 재료의 변형없이 코팅이 가능하다.In addition, here, the plasma heat source has a high temperature of 8,000 to 12,000°C, but tantalum (Ta) used as a coating material can be maintained at a low temperature of about 100 to 200°C, making coating possible without deformation of the material.
또한, 일반적으로 임플란트의 식립체의 코팅은 전기영동방식을 이용하여 코팅에 소요되는 시간은 30분으로, 전기영동방식과 비교 시, 상기 플라즈마 용융분사 방식으로 코팅 진행 시 코팅에 소요되는 시간이 20 내지 40초로, 짧은 시간에 효율적으로 코팅이 가능하다.In addition, generally, the coating time for the implant placement is 30 minutes using the electrophoresis method. Compared to the electrophoresis method, the coating time required for coating using the plasma melt spraying method is 20 minutes. From 40 seconds, efficient coating is possible in a short period of time.
상기 분말상태의 탄탈룸(Ta)을 플라즈마 용사코팅장비의 플라즈마 분사구에 위치시켜 분말 탄탈룸(Ta)을 용융시키고, 플라즈마 분사구에서 발생하는 플라즈마에 의해 용융된 탄탈룸이 회전하는 임플란트 식립체의 표면에 고르게 분사되어 탄탈룸(Ta) 표면이 형성될 수 있다.The powdered tantalum (Ta) is placed in the plasma spraying port of the plasma spray coating equipment to melt the powdered tantalum (Ta), and the molten tantalum is evenly sprayed onto the surface of the rotating implant body by the plasma generated from the plasma spraying port. A tantalum (Ta) surface can be formed.
또한, 티타늄 임플란트 식립체를 모체로 하여 탄탈룸(Ta)으로 코팅된 임플란트 식립체는 코팅된 두께가 20 내지 60㎛로 형성될 수 있다. 여기에서, 임플란트 식립체의 구조가 나사형태이기 때문에 두께가 20 이하일 경우 두께가 너무 얇아 코팅막 형성이 제대로 되지 못할 수 있으며, 두께가 60 이상일 경우 코팅막이 코팅의 두께가 균일하지 못할 수 있으므로 임플란트 식립체의 본래 나사형태가 유지되지 않을 수 있다.In addition, an implant body coated with tantalum (Ta) using a titanium implant body as a base may be formed to have a coating thickness of 20 to 60㎛. Here, since the structure of the implant fixture is in the form of a screw, if the thickness is less than 20, the coating film may not be formed properly because the thickness is too thin, and if the thickness is more than 60, the thickness of the coating film may not be uniform, so the implant fixture may not be formed properly. The original screw shape may not be maintained.
따라서 본 발명의 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법을 적용하여 기존의 나사형태를 가지는 티타늄 임플란트 식립체의 원래 모양이 유지될 수 있는 효과가 있으며, 공기 중에서 산화반응이 매우 낮아 이산화티타늄의 생성을 막을 수 있는 탄탈룸(Ta)이 코팅될 수 있는 효과가 있는 것이다.Therefore, by applying the surface coating method of the implant body using the plasma melt spraying method of the present invention, the original shape of the existing screw-shaped titanium implant body can be maintained, and the oxidation reaction in air is very low, so This has the effect of being coated with tantalum (Ta), which can prevent the formation of titanium.
본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, and the scope of application is diverse. Of course, various modifications and implementations are possible without departing from the gist of the present invention as claimed in the claims.
Claims (8)
상기 임플란트 식립체를 지그에 장착시켜 선반척에 고정시킨 후 회전시키는 단계; 및
상기 회전하는 임플란트 식립체의 표면 상에 플라즈마 용융 분사법으로 탄탈룸(Ta) 분말을 고열로 용융시켜 탄탈룸(Ta) 코팅층을 형성하는 단계;
를 포함하고,
상기 탄탈룸(Ta) 코팅층을 형성하는 단계는,
상기 탄탈룸(Ta) 코팅층의 표면 온도를 100℃ 내지 200℃로 낮게 유지하여 상기 탄탈룸(Ta) 코팅층이 상기 임플란트 식립체에 안정적으로 접착되어 코팅될 수 있도록 상기 플라즈마 용융 분사법으로 상기 탄탈룸(Ta) 분말을 8,000℃ 내지 12,000℃의 플라즈마 열원으로 용융하는 것을 특징으로 하고,
상기 플라즈마에 의해 용융된 탄탈룸이 임플란트 식립체 표면에 고르게 분사되도록,
상기 플라즈마 용융 분사법의 코팅 시간은 20 내지 40초 인 것을 특징으로 하는 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법.
A method of coating the surface of an implant placed in the user's jawbone using a plasma melt spraying method,
Mounting the implant fixture on a jig, fixing it to a lathe chuck, and then rotating it; and
Forming a tantalum (Ta) coating layer by melting tantalum (Ta) powder at high temperature on the surface of the rotating implant assembly using a plasma melt spraying method;
Including,
The step of forming the tantalum (Ta) coating layer,
The tantalum (Ta) coating layer is maintained by maintaining the surface temperature of the tantalum (Ta) coating layer as low as 100°C to 200°C, so that the tantalum (Ta) coating layer can be stably adhered to and coated with the implant fixture. Characterized by melting the powder with a plasma heat source at 8,000°C to 12,000°C,
So that the tantalum melted by the plasma is evenly sprayed onto the surface of the implant,
A method of coating the surface of an implant assembly using a plasma melt spraying method, wherein the coating time of the plasma melt spraying method is 20 to 40 seconds.
40 내지 80rpm의 속도로 회전시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법.
The method of claim 4, wherein rotation of the implant installation body is performed by:
A method of coating the surface of an implant assembly using a plasma melt spraying method, characterized in that rotation at a speed of 40 to 80 rpm.
그 두께가 20 내지 60㎛로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 용융 분사법을 이용한 임플란트 식립체의 표면 코팅 방법.The method of claim 4, wherein the tantalum (Ta) coating layer,
A method of coating the surface of an implant using a plasma melt spraying method, characterized in that the thickness is formed to be 20 to 60㎛.
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|---|---|---|---|
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2022
- 2022-03-17 KR KR1020220033513A patent/KR102585073B1/en active IP Right Grant
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