KR102517501B1 - Optical film with antifouling layer - Google Patents
Optical film with antifouling layer Download PDFInfo
- Publication number
- KR102517501B1 KR102517501B1 KR1020227044254A KR20227044254A KR102517501B1 KR 102517501 B1 KR102517501 B1 KR 102517501B1 KR 1020227044254 A KR1020227044254 A KR 1020227044254A KR 20227044254 A KR20227044254 A KR 20227044254A KR 102517501 B1 KR102517501 B1 KR 102517501B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- antifouling layer
- optical film
- antifouling
- inorganic oxide
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/022—Mechanical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름 (F) 은, 투명 기재 (11) 와, 하드 코트층 (12) 과, 무기 산화물 하지층 (13) 과, 방오층 (14) 을 이 순서로 구비한다. 방오층 (14) 은, 무기 산화물 하지층 (13) 상에 배치된 드라이 코팅막이다. 방오층 (14) 에 있어서의 무기 산화물 하지층 (13) 과는 반대측의 표면 (14a) 의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 경도 (GPa) 와 탄성 회복률의 곱이 0.8 이상이다.The optical film (F) with an antifouling layer of the present invention includes a transparent substrate 11, a hard coat layer 12, an inorganic oxide base layer 13, and an antifouling layer 14 in this order. The antifouling layer 14 is a dry coating film disposed on the inorganic oxide base layer 13 . The product of the hardness (GPa) at 25°C measured by the nanoindentation method and the elastic recovery rate of the surface 14a on the opposite side to the inorganic oxide base layer 13 in the antifouling layer 14 is 0.8 or more. .
Description
본 발명은, 방오층이 형성된 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film with an antifouling layer.
터치 패널 디스플레이 등의 디스플레이에 있어서의 화상 표시측의 외표면에는, 방오성의 관점에서, 예를 들면, 방오층이 형성된 광학 필름이 첩합 (貼合) 된다. 방오층이 형성된 광학 필름은, 투명 기재와, 당해 투명 기재의 일방면측의 최표면에 배치된 방오층을 구비한다. 방오층에 의해, 디스플레이 표면에 있어서 손기름 등의 오염 물질의 부착이 억제되고, 또, 부착된 오염 물질이 제거되기 쉬워진다. 이와 같은 방오층이 형성된 광학 필름에 관한 기술에 대해서는, 예를 들어 하기의 특허문헌 1 에 기재되어 있다.From the viewpoint of antifouling property, for example, an optical film with an antifouling layer is bonded to the outer surface on the image display side in displays such as touch panel displays. An optical film with an antifouling layer includes a transparent substrate and an antifouling layer disposed on an outermost surface of one side of the transparent substrate. The antifouling layer suppresses the adhesion of contaminants such as hand oil on the surface of the display, and facilitates removal of the contaminants adhering. A technology related to an optical film with such an antifouling layer is described in, for example,
방오층이 형성된 광학 필름의 사용시에 있어서, 방오층에 부착된 오염 물질은, 예를 들어, 닦아내기 작업에 의해 제거된다. 그러나, 방오층에 대한 닦아내기 작업의 반복은, 방오층의 방오성 저하의 원인이 되고, 또한, 방오층의 박리의 원인이 된다. 방오층이 형성된 광학 필름의 방오 기능의 관점에서, 방오층의 방오성 저하 및 박리는 바람직하지 않다.At the time of use of the optical film on which the antifouling layer is formed, contaminants adhering to the antifouling layer are removed by, for example, a wiping operation. However, repetition of the wiping operation for the antifouling layer causes deterioration in the antifouling properties of the antifouling layer, and also causes peeling of the antifouling layer. From the viewpoint of the antifouling function of the optical film on which the antifouling layer is formed, deterioration in antifouling properties and peeling of the antifouling layer are undesirable.
본 발명은, 방오층에 있어서 내박리성을 확보하면서 방오성의 저하를 억제하는데 적합한, 방오층이 형성된 광학 필름을 제공한다.The present invention provides an optical film with an antifouling layer suitable for suppressing a decrease in antifouling property while ensuring peeling resistance in the antifouling layer.
본 발명 [1] 은, 투명 기재와, 하드 코트층과, 무기 산화물 하지층과, 방오층을 이 순서로 구비하고, 상기 방오층이, 상기 무기 산화물 하지층 상에 배치된 드라이 코팅막이고, 상기 방오층에 있어서의 상기 무기 산화물 하지층과는 반대측의 표면의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 경도 (GPa) 와 탄성 회복률의 곱이 0.8 이상인, 방오층이 형성된 광학 필름을 포함한다.The present invention [1] is a dry coating film comprising a transparent substrate, a hard coat layer, an inorganic oxide base layer, and an antifouling layer in this order, and the antifouling layer disposed on the inorganic oxide base layer, An optical film with an antifouling layer, wherein the product of the hardness (GPa) at 25°C measured by the nanoindentation method and the elastic recovery rate of the surface opposite to the inorganic oxide base layer in the antifouling layer is 0.8 or more. do.
본 발명 [2] 는, 상기 방오층의 상기 표면의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 탄성 회복률이 0.76 이상인, 상기 [1] 에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함한다.The present invention [2] includes the optical film with an antifouling layer described in [1] above, wherein the surface of the antifouling layer has an elastic recovery factor at 25°C of 0.76 or more as measured by the nanoindentation method.
본 발명 [3] 은, 상기 방오층이 1 nm 이상 25 nm 이하의 두께를 갖는, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함한다.The present invention [3] includes the optical film with an antifouling layer according to the above [1] or [2], wherein the antifouling layer has a thickness of 1 nm or more and 25 nm or less.
본 발명 [4] 는, 상기 무기 산화물 하지층이 이산화규소를 함유하는, 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함한다.The present invention [4] includes the optical film with an antifouling layer according to any one of the above [1] to [3], wherein the inorganic oxide underlayer contains silicon dioxide.
본 발명 [5] 는, 상기 무기 산화물 하지층이 50 nm 이상의 두께를 갖는, 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함한다.This invention [5] includes the optical film with an antifouling layer according to any one of [1] to [4] above, wherein the inorganic oxide underlayer has a thickness of 50 nm or more.
본 발명 [6] 은, 상기 하드 코트층이 1 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하의 두께를 갖는, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함한다.The present invention [6] includes the optical film with an antifouling layer according to any one of [1] to [5], wherein the hard coat layer has a thickness of 1 μm or more and 50 μm or less.
본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름은, 상기와 같이, 방오층이, 무기 산화물 하지층 상에 배치된 드라이 코팅막이다. 이와 같은 구성은, 방오층이 형성된 광학 필름에 있어서의 방오층의 높은 접합력의 확보에 적합하고, 따라서, 방오층의 내박리성의 확보에 적합하다. 또한, 방오층이 형성된 광학 필름은, 방오층에 있어서의 무기 산화물 하지층과는 반대측의 표면의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 경도 (GPa) 와 탄성 회복률의 곱이 0.8 이상이다. 이와 같은 구성은, 방오층에 대한 닦아내기 작업에 저항하여 방오층의 방오성 저하를 억제하는데 적합하다.As described above, the optical film with an antifouling layer of the present invention is a dry coating film in which the antifouling layer is disposed on the inorganic oxide base layer. Such a configuration is suitable for securing high bonding strength of the antifouling layer in an optical film with an antifouling layer, and therefore suitable for ensuring peeling resistance of the antifouling layer. Further, in the optical film with the antifouling layer, the product of the hardness (GPa) at 25°C measured by the nanoindentation method and the elastic recovery rate of the surface of the antifouling layer on the opposite side to the inorganic oxide underlayer is 0.8 or more. am. Such a configuration is suitable for suppressing the deterioration of the antifouling properties of the antifouling layer by resisting the wiping operation to the antifouling layer.
도 1 은, 본 발명의 광학 필름의 일 실시형태의 단면 모식도이다.
도 2 는, 본 발명의 광학 필름의 변형예의 단면 모식도이다 (본 변형예에서는, 광학 필름은 반사 방지층을 구비한다).
도 3 은, 실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 의 각 광학 필름에 대하여 측정된 표면 경도 H 와 탄성 회복률 R 의 곱 (가로축) 및 제 2 지우개 슬라이딩 시험 후의 물 접촉각 θ2 (세로축) 의 측정 결과가 플롯된 그래프이다.1 is a cross-sectional schematic diagram of an embodiment of an optical film of the present invention.
2 is a cross-sectional schematic diagram of a modified example of the optical film of the present invention (in this modified example, the optical film is provided with an antireflection layer).
3 shows the measurement results of the product of the surface hardness H and the elastic recovery rate R (horizontal axis) measured for each optical film of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 (horizontal axis) and the water contact angle θ 2 (vertical axis) after the second eraser sliding test. is the plotted graph.
본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름의 일 실시형태로서의 광학 필름 (F) 은, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 투명 기재 (11) 와, 하드 코트층 (12) 과, 무기 산화물 하지층 (13) 과, 방오층 (14) 을, 두께 방향 (T) 의 일방측을 향하여 이 순서로 구비한다. 광학 필름 (F) 은, 본 실시형태에서는, 투명 기재 (11) 와, 하드 코트층 (12) 과, 밀착층 (15) 과, 무기 산화물 하지층 (13) 과, 방오층 (14) 을, 두께 방향 (T) 의 일방측을 향하여 이 순서로 구비한다. 또한, 광학 필름 (F) 은, 두께 방향 (T) 과 직교하는 방향 (면방향) 으로 펼쳐지는 형상을 갖는다.As shown in FIG. 1, the optical film (F) as an embodiment of the optical film with antifouling layer of the present invention includes a
투명 기재 (11) 는, 가요성을 갖는 투명한 수지 필름이다. 투명 기재 (11) 의 재료로는, 예를 들어, 폴리에스테르 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 셀룰로오스 수지, 노르보르넨 수지, 폴리아릴레이트 수지, 및 폴리비닐알코올 수지를 들 수 있다. 폴리에스테르 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 및 폴리에틸렌나프탈레이트를 들 수 있다. 폴리올레핀 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 및 시클로올레핀 폴리머 (COP) 를 들 수 있다. 셀룰로오스 수지로는, 예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 를 들 수 있다. 이들 재료는, 단독으로 사용되어도 되고, 2 종류 이상이 병용되어도 된다. 투명 기재 (11) 의 재료로는, 투명성 및 강도의 관점에서, 폴리에스테르 수지, 폴리올레핀 수지 및 셀룰로오스 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개가 사용되고, 보다 바람직하게는, PET, COP 및 TAC 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 개가 사용된다.The
투명 기재 (11) 에 있어서의 하드 코트층 (12) 측 표면은, 표면 개질 처리되어 있어도 된다. 표면 개질 처리로는, 예를 들어, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 오존 처리, 프라이머 처리, 글로 처리 및 커플링제 처리를 들 수 있다.The surface on the side of the
투명 기재 (11) 의 두께는, 강도의 관점에서, 바람직하게는 5 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이상이다. 투명 기재 (11) 의 두께는, 취급성의 관점에서, 바람직하게는 300 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200 ㎛ 이하이다.From the viewpoint of strength, the thickness of the
투명 기재 (11) 의 전광선 투과율 (JIS K 7375-2008) 은, 바람직하게는 80 % 이상, 보다 바람직하게는 90 % 이상, 더욱 바람직하게는 95 % 이상이다. 이와 같은 구성은, 터치 패널 디스플레이 등의 디스플레이의 표면에 광학 필름 (F) 이 구비되는 경우에 당해 광학 필름 (F) 에 요구되는 투명성을 확보하는데 적합하다. 투명 기재 (11) 의 전광선 투과율은, 예를 들어 100 % 이하이다.The total light transmittance (JIS K 7375-2008) of the
하드 코트층 (12) 은, 투명 기재 (11) 의 두께 방향 (T) 의 일방면 상에 배치되어 있다. 하드 코트층 (12) 은, 광학 필름 (F) 의 노출 표면 (도 1 에서는 상면) 에 찰상이 형성되기 어렵게 하기 위한 층이다.The
하드 코트층 (12) 은, 경화성 수지 조성물의 경화물이다. 경화성 수지 조성물이 함유하는 경화성 수지로는, 예를 들어, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 아크릴우레탄 수지, 아미드 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지, 및 멜라민 수지를 들 수 있다. 이들 경화성 수지는, 단독으로 사용되어도 되고, 2 종류 이상이 병용되어도 된다. 하드 코트층 (12) 의 고경도 확보의 관점에서는, 경화성 수지로는, 바람직하게는 아크릴우레탄 수지가 사용된다.The
또한, 경화성 수지 조성물로는, 예를 들어, 자외선 경화형의 수지 조성물 및 열경화형의 수지 조성물을 들 수 있다. 고온 가열하지 않고 경화 가능하기 때문에 광학 필름 (F) 의 제조 효율 향상에 도움이 되는 관점에서, 경화성 수지 조성물로는, 바람직하게는 자외선 경화형의 수지 조성물이 사용된다. 자외선 경화형의 수지 조성물에는, 자외선 경화형 모노머, 자외선 경화형 올리고머, 및 자외선 경화형 폴리머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종류가 포함된다. 자외선 경화형의 수지 조성물의 구체예로는, 일본 공개특허공보 2016-179686호에 기재된 하드 코트층 형성용 조성물을 들 수 있다.Moreover, as a curable resin composition, an ultraviolet curing type resin composition and a thermosetting type resin composition are mentioned, for example. Since it can be cured without heating at a high temperature, a UV-curable resin composition is preferably used as the curable resin composition from the viewpoint of being useful for improving the manufacturing efficiency of the optical film (F). The ultraviolet curable resin composition includes at least one selected from the group consisting of ultraviolet curable monomers, ultraviolet curable oligomers, and ultraviolet curable polymers. As a specific example of an ultraviolet curable resin composition, the composition for hard-coat layer formation of Unexamined-Japanese-Patent No. 2016-179686 is mentioned.
경화성 수지 조성물은, 미립자를 함유해도 된다. 경화성 수지 조성물에 대한 미립자의 배합은, 하드 코트층 (12) 에 있어서의 경도의 조정, 표면 조도의 조정, 굴절률의 조정 및 방현성의 부여에 도움이 된다. 미립자로는, 예를 들어, 금속 산화물 입자, 유리 입자, 및 유기 입자를 들 수 있다. 금속 산화물 입자의 재료로는, 예를 들어, 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화칼슘, 산화주석, 산화인듐, 산화카드뮴, 및 산화안티몬을 들 수 있다. 유기 입자의 재료로는, 예를 들어, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 아크릴·스티렌 공중합체, 벤조구아나민, 멜라민 및 폴리카보네이트를 들 수 있다.The curable resin composition may contain fine particles. Mixing of the fine particles into the curable resin composition is useful for adjusting the hardness, adjusting the surface roughness, adjusting the refractive index, and imparting anti-glare properties to the
하드 코트층 (12) 의 두께는, 하드 코트층 (12) 의 경도 확보에 의한 방오층 (14) 표면의 경도 확보의 관점에서, 바람직하게는 1 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 3 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이상이다. 하드 코트층 (12) 의 두께는, 광학 필름 (F) 의 유연성 확보의 관점에서, 바람직하게는 50 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 40 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 35 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 30 ㎛ 이하이다.The thickness of the
하드 코트층 (12) 에 있어서의 밀착층 (15) 측의 표면은, 표면 개질 처리되어 있어도 된다. 표면 개질 처리로는, 예를 들어 플라즈마 처리, 코로나 처리, 오존 처리, 프라이머 처리, 글로 처리 및 커플링제 처리를 들 수 있다. 하드 코트층 (12) 과 밀착층 (15) 사이에 있어서 높은 밀착력을 확보하는 관점에서는, 하드 코트층 (12) 에 있어서의 밀착층 (15) 측 표면은, 바람직하게는 플라즈마 처리되어 있다.The surface of the
밀착층 (15) 은, 투명 기재 (11) 에 대한 무기 산화물층 (본 실시형태에서는 무기 산화물 하지층 (13)) 의 밀착력을 확보하기 위한 층이다. 밀착층 (15) 은, 하드 코트층 (12) 의 두께 방향 (T) 의 일방면 상에 배치되어 있다. 밀착층 (15) 의 재료로는, 예를 들면, 실리콘, 인듐, 니켈, 크롬, 알루미늄, 주석, 금, 은, 백금, 아연, 티탄, 텅스텐, 지르코늄, 팔라듐 등의 금속, 이들 금속의 2 종류 이상의 합금, 및 이들 금속의 산화물을 들 수 있다. 유기층 (구체적으로는 하드 코트층 (12)) 및 무기 산화물층 (본 실시형태에서는 구체적으로는 무기 산화물 하지층 (13)) 의 양방에 대한 밀착성과, 밀착층 (15) 의 투명성의 양립의 관점에서는, 밀착층 (15) 의 재료로는, 바람직하게는 인듐주석 산화물 (ITO) 또는 산화실리콘 (SiOx) 이 사용된다. 밀착층 (15) 의 재료로서 산화실리콘이 사용되는 경우, 바람직하게는, 화학양론 조성보다 산소량이 적은 SiOx 가 사용되고, 보다 바람직하게는, x 가 1.2 이상 1.9 이하의 SiOx 가 사용된다.The
밀착층 (15) 의 두께는, 하드 코트층 (12) 과 무기 산화물 하지층 (13) 사이의 밀착력의 확보와, 밀착층 (15) 의 투명성의 양립의 관점에서, 바람직하게는 1 nm 이상 10 nm 이하이다.The thickness of the
무기 산화물 하지층 (13) 은, 방오층 (14) 에 있어서, 내박리성을 확보하기 위한 층이다. 무기 산화물 하지층 (13) 의 재료로는, 예를 들어, 이산화규소 (SiO2) 및 불화마그네슘을 들 수 있고, 바람직하게는 이산화규소가 사용된다.The inorganic
무기 산화물 하지층 (13) 의 두께는, 방오층 (14) 에 있어서의 내박리성 확보의 관점에서, 바람직하게는 50 nm 이상, 보다 바람직하게는 65 nm 이상, 더욱 바람직하게는 80 nm 이상, 특히 바람직하게는 90 nm 이상이다. 무기 산화물 하지층 (13) 의 두께는, 예를 들어 300 nm 이하이다.The thickness of the inorganic
방오층 (14) 은, 방오 기능을 갖는 층이다. 방오층 (14) 은, 무기 산화물 하지층 (13) 의 두께 방향 (T) 의 일방면 상에 배치되어 있다. 방오층 (14) 은, 두께 방향 (T) 의 일방측에 표면 (14a) (외표면) 을 갖는다. 방오층 (14) 의 방오 기능에는, 광학 필름 (F) 의 사용시의 필름 노출면에 대한 손기름 등의 오염 물질의 부착을 억제하는 기능, 및 부착된 오염 물질을 제거하기 쉽게 하는 기능이 포함된다.The
방오층 (14) 의 재료로는, 예를 들어, 불소기 함유의 유기 화합물을 들 수 있다. 불소기 함유의 유기 화합물로는, 바람직하게는 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물이 사용된다. 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물로는, 예를 들어, 하기의 일반식 (1) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As a material of the
R1-R2-X-(CH2)m-Si(OR3)3 (1)ROne-R2-X-(CH2)m-Si(OR3)3 (One)
일반식 (1) 에 있어서, R1 은, 알킬기에 있어서의 하나 이상의 수소 원자가 불소 원자로 치환된, 직사슬형 또는 분기형의 불화알킬기 (탄소수는 예를 들면 1 이상 20 이하) 를 나타내고, 바람직하게는, 알킬기의 수소 원자의 전부가 불소 원자로 치환된 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.In the general formula (1), R 1 represents a linear or branched fluoroalkyl group (eg, 1 to 20 carbon atoms) in which one or more hydrogen atoms in the alkyl group are substituted with fluorine atoms, preferably represents a perfluoroalkyl group in which all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms.
R2 는, 퍼플루오로폴리에테르 (PFPE) 기의 반복 구조를 적어도 1 개 포함하는 구조를 나타내고, 바람직하게는, PFPE 기의 반복 구조를 2 개 포함하는 구조를 나타낸다. PFPE 기의 반복 구조로는, 예를 들면, 직사슬형 PFPE 기의 반복 구조, 및 분기형 PFPE 기의 반복 구조를 들 수 있다. 직사슬형 PFPE 기의 반복 구조로는, 예를 들면, -(OCnF2n)p- 로 나타내는 구조 (n 은, 1 이상 20 이하의 정수를 나타내고, p 는, 1 이상 50 이하의 정수를 나타낸다. 이하 동일) 를 들 수 있다. 분기형 PFPE 기의 반복 구조로는, 예를 들면, -(OC(CF3)2)p- 로 나타내는 구조, 및, -(OCF2CF(CF3)CF2)p- 로 나타내는 구조를 들 수 있다. PFPE 기의 반복 구조로는, 바람직하게는 직사슬형 PFPE 기의 반복 구조를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 -(OCF2)p- 및 -(OC2F4)p- 를 들 수 있다.R 2 represents a structure containing at least one repeating structure of a perfluoropolyether (PFPE) group, and preferably represents a structure containing two repeating structures of a PFPE group. Examples of the repeating structure of the PFPE group include a repeating structure of a linear PFPE group and a repeating structure of a branched PFPE group. As a repeating structure of the linear PFPE group, for example, a structure represented by -(OC n F 2n ) p - (n represents an integer of 1 or more and 20 or less, and p is an integer of 1 or more and 50 or less The same below) can be mentioned. Examples of the repeating structure of the branched PFPE group include a structure represented by -(OC(CF 3 ) 2 ) p - and a structure represented by -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 ) p -. can The repeating structure of the PFPE group is preferably a repeating structure of a linear PFPE group, more preferably -(OCF 2 ) p - and -(OC 2 F 4 ) p -.
R3 은, 탄소수 1 이상 4 이하 알킬기를 나타내고, 바람직하게는 메틸기를 나타낸다.R 3 represents an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, preferably a methyl group.
X 는, 에테르기, 카르보닐기, 아미노기, 또는 아미드기를 나타내고, 바람직하게는 에테르기를 나타낸다.X represents an ether group, a carbonyl group, an amino group or an amide group, and preferably represents an ether group.
m 은, 1 이상의 정수를 나타낸다. 또한, m 은, 바람직하게는 20 이하, 보다 바람직하게는 10 이하, 더욱 바람직하게는 5 이하의 정수를 나타낸다.m represents an integer of 1 or greater. In addition, m is preferably an integer of 20 or less, more preferably 10 or less, still more preferably 5 or less.
이와 같은 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물 중, 바람직하게는, 하기의 일반식 (2) 로 나타내는 화합물이 사용된다.Among the alkoxysilane compounds having such a perfluoropolyether group, a compound represented by the following general formula (2) is preferably used.
CF3-(OCF2)q-(OC2F4)r-O-(CH2)3-Si(OCH3)3 (2)CF3-(OCF2)q-(OC2F4)r-O-(CH2)3-Si(OCH3)3 (2)
일반식 (2) 에 있어서, q 는, 1 이상 50 이하의 정수를 나타내고, r 은, 1 이상 50 이하의 정수를 나타낸다.In general formula (2), q represents an integer of 1 or more and 50 or less, and r represents an integer of 1 or more and 50 or less.
또, 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물은, 단독으로 사용되어도 되고, 2 종류 이상이 병용되어도 된다.Moreover, the alkoxysilane compound which has a perfluoropolyether group may be used independently, and 2 or more types may be used together.
방오층 (14) 은, 드라이 코팅법으로 형성된 막 (드라이 코팅막) 이다. 드라이 코팅법으로는, 스퍼터링법, 진공 증착법, 및 CVD 를 들 수 있다. 방오층 (14) 은, 바람직하게는, 진공 증착법으로 형성된 막 (진공 증착막) 이다.The
방오층 (14) 의 재료가, 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물을 함유하고, 또한 방오층 (14) 이 드라이 코팅막 (바람직하게는 진공 증착막) 인 구성은, 무기 산화물 하지층 (13) 에 대한 방오층 (14) 의 높은 접합력의 확보에 적합하고, 따라서, 방오층 (14) 의 내박리성의 확보에 적합하다. 방오층 (14) 의 내박리성이 높은 것은, 방오층 (14) 의 방오 기능의 유지에 도움이 된다.The material of the
방오층 (14) 의 표면 (14a) 의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 경도 (표면 경도 H) 는, 바람직하게는 1.05 GPa 이상, 보다 바람직하게는 1.1 GPa 이상, 한층 더 바람직하게는 1.15 GPa 이상, 더욱 바람직하게는 1.2 GPa 이상, 보다 더 바람직하게는 1.25 GPa 이상, 특히 바람직하게는 1.3 GPa 이상이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 에 대한 닦아내기 작업에 저항하여 방오층 (14) 의 방오성 저하를 억제하는데 적합하다. 방오층 (14) 의 표면 (14a) 의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 경도 (표면 경도 H) 는, 바람직하게는 30 GPa 이하, 보다 바람직하게는 20 GPa 이하, 더욱 바람직하게는 15 GPa 이하이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 의 굴곡성을 확보하는데 적합하고, 따라서, 광학 필름 (F) 의 굴곡성을 확보하는데 적합하다.The hardness (surface hardness H) at 25°C of the
나노인덴테이션법이란, 시료의 여러 가지 물성을 나노미터 스케일로 측정하는 기술이다. 본 실시형태에 있어서, 나노인덴테이션법은, ISO14577 에 준거하여 실시된다. 나노인덴테이션법에서는, 스테이지 상에 세팅된 시료에 압자를 압입하는 과정 (하중 인가 과정) 과, 그것보다 나중에 시료로부터 압자를 뽑아내는 과정 (제하 과정) 이 실시되고, 일련의 과정 중, 압자-시료 사이에 작용하는 하중과, 시료에 대한 압자의 상대 변위가 측정된다 (하중-변위 측정). 이것에 의해, 하중-변위 곡선을 얻는 것이 가능하다. 이 하중-변위 곡선으로부터, 측정 시료에 대하여, 나노미터 스케일 측정에 기초한 경도나 탄성률 등의 물성을 구하는 것이 가능하다. 나노인덴테이션법에 의한 방오층 표면의 하중-변위 측정에는, 예를 들어 나노인덴터 (상품명 「Triboindenter」, Hysitron 사 제조) 를 사용할 수 있다. 그 측정에 있어서, 측정 모드는 단일 압입 측정으로 하고, 측정 온도는 25 ℃ 로 하고, 사용 압자는 Berkovich (삼각추) 형의 다이아몬드 압자로 하고, 하중 인가 과정에서의 측정 시료에 대한 압자의 최대 압입 깊이 (최대 변위 H1) 는 200 nm 로 하고, 당해 압자의 압입 속도는 20 nm/초로 하고, 제하 과정에서의 측정 시료로부터 압자를 뽑아내는 속도는 20 nm/초로 한다. 본 측정에 의해 얻어지는 하중-변위 곡선에 기초하여, 최대 하중 Pmax (최대 변위 H1 에서 압자에 작용하는 하중), 접촉 투영 면적 Ap (최대 하중시에 있어서의 압자와 시료 사이의 접촉 영역의 투영 면적), 및 제하 과정 후의 시료 표면에 있어서의 소성 변형량 H2 (시료 표면으로부터 압자를 이간시킨 후에 당해 시료 표면에 유지되는 오목부의 깊이) 를 얻을 수 있다. 그리고, 최대 하중 Pmax 와 접촉 투영 면적 Ap 로부터, 방오층 표면의 경도 (= Pmax/Ap) 를 산출할 수 있다. 또한, 최대 변위 H1 과 소성 변형량 H2 로부터, 하중 인가와 그 후의 제하를 거친 방오층 표면의 후술하는 탄성 회복률 (= (H1-H2)/H1) 을 산출할 수 있다.The nanoindentation method is a technique for measuring various physical properties of a sample on a nanometer scale. In this embodiment, the nanoindentation method is implemented based on ISO14577. In the nanoindentation method, a process of pressing an indenter into a sample set on a stage (load application process) and a process of extracting an indenter from the sample later (unloading process) are performed. Among a series of processes, the indenter - The load acting between the sample and the relative displacement of the indenter relative to the sample are measured (load-displacement measurement). By this, it is possible to obtain a load-displacement curve. From this load-displacement curve, it is possible to obtain physical properties such as hardness and modulus of elasticity based on nanometer-scale measurement of the measurement sample. For the load-displacement measurement of the surface of the antifouling layer by the nanoindentation method, a nanoindenter (trade name "Triboindenter", manufactured by Hysitron) can be used, for example. In the measurement, the measurement mode is single indentation measurement, the measurement temperature is 25 ° C, the indenter used is a Berkovich (triangular pyramid) type diamond indenter, and the maximum indentation depth of the indenter to the measurement sample in the process of applying the load (Maximum displacement H1) is 200 nm, the pushing speed of the indenter is 20 nm/sec, and the speed of extracting the indenter from the measurement sample in the unloading process is 20 nm/sec. Based on the load-displacement curve obtained by this measurement, the maximum load Pmax (the load acting on the indenter at the maximum displacement H1), the projected contact area Ap (the projected area of the contact area between the indenter and the sample at the time of maximum load) , and the amount of plastic deformation H2 on the sample surface after the unloading process (the depth of the concave portion maintained on the sample surface after separating the indenter from the sample surface) can be obtained. Then, the surface hardness of the antifouling layer (= Pmax/Ap) can be calculated from the maximum load Pmax and the contact projected area Ap. Further, from the maximum displacement H1 and the amount of plastic deformation H2, the later-described elastic recovery factor (= (H1-H2)/H1) of the surface of the antifouling layer subjected to load application and subsequent unloading can be calculated.
방오층 (14) 에 있어서의 표면 경도 H 를 조정하는 수법으로는, 예를 들어 하드 코트층 (12) 의 경도 조정 및 두께 조정, 그리고, 방오층 (14) 에 있어서의 하지층의 경도 조정 및 두께 조정을 들 수 있다.As a method for adjusting the surface hardness H in the
방오층 (14) 의 표면 (14a) 의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 탄성 회복률 (탄성 회복률 R) 은, 바람직하게는 0.76 이상이고, 보다 바람직하게는 0.80 이상, 더욱 바람직하게는 0.815 이상, 특히 바람직하게는 0.85 이상이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 에 대한 닦아내기 작업에 저항하여 방오층 (14) 의 방오성 저하를 억제하는데 적합하다. 방오층 (14) 의 표면 (14a) 의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 탄성 회복률 (탄성 회복률 R) 은, 바람직하게는 1.0 이하, 보다 바람직하게는 0.95 이하이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 의 굴곡성을 확보하는데 적합하고, 따라서, 광학 필름 (F) 의 굴곡성을 확보하는데 적합하다. 방오층 (14) 에 있어서의 탄성 회복률 R 을 조정하는 수법으로는, 예를 들어, 하드 코트층 (12) 의 경도 조정 및 탄성률 조정, 그리고, 방오층 (14) 에 있어서의 하지층의 경도 조정 및 탄성률 조정을 들 수 있다.The elastic recovery rate (elastic recovery rate R) at 25°C of the
방오층 (14) 에 있어서의 표면 경도 H (GPa) 와 탄성 회복률 R 의 곱은, 0.8 이상이고, 바람직하게는 0.9 이상, 보다 바람직하게는 1.0 이상, 더욱 바람직하게는 1.1 이상이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 에 대한 닦아내기 작업에 저항하여 방오층 (14) 의 방오성 저하를 억제하는데 적합하다. 방오층 (14) 에 있어서의 표면 경도 H (GPa) 와 탄성 회복률 R 의 곱은, 바람직하게는 2.0 이하, 보다 바람직하게는 1.7 이하, 더욱 바람직하게는 1.5 이하이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 의 굴곡성을 확보하는데 적합하고, 따라서, 광학 필름 (F) 의 굴곡성을 확보하는데 적합하다.The product of the surface hardness H (GPa) and the elastic recovery rate R in the
방오층 (14) 의 표면 (14a) 의 물 접촉각 (순수 접촉각) 은, 바람직하게는 110°이상이고, 바람직하게는 111°이상, 보다 바람직하게는 112°이상, 더욱 바람직하게는 113°이상, 특히 바람직하게는 114°이상이다. 표면 (14a) 에 있어서의 물 접촉각이 이 정도로 높은 구성은, 방오층 (14) 에 있어서 높은 방오성을 실현하는데 적합하다. 동 물 접촉각은, 예를 들어 130°이하이다. 물 접촉각은, 방오층 (14) 의 표면 (14a) (노출 표면) 에 직경 2 mm 이하의 물방울 (순수의 액적) 을 형성하고, 표면 (14a) 에 대한 당해 물방울의 접촉각을 측정함으로써 구해진다. 표면 (14a) 의 물 접촉각은, 예를 들어, 방오층 (14) 의 조성, 표면 (14a) 의 조도, 하드 코트층 (12) 의 조성, 및 하드 코트층 (12) 의 방오층 (14) 측의 표면 조도의 조정에 의해 조정할 수 있다.The water contact angle (pure contact angle) of the
방오층 (14) 의 두께는, 바람직하게는 1 nm 이상, 보다 바람직하게는 3 nm 이상, 더욱 바람직하게는 5 nm 이상, 특히 바람직하게는 7 nm 이상이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 에 있어서 상기의 표면 경도를 실현하는데 적합하다. 방오층 (14) 의 두께는, 바람직하게는 25 nm 이하, 보다 바람직하게는 20 nm 이하, 더욱 바람직하게는 18 nm 이하이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 에 있어서 상기의 물 접촉각을 실현하는데 적합하다.The
광학 필름 (F) 은, 투명 기재 (11) 를 준비한 후, 예를 들면 롤 투 롤 방식에 있어서, 투명 기재 (11) 상에 하드 코트층 (12), 밀착층 (15), 및 방오층 (14) 을 순차적으로 형성함으로써, 제작할 수 있다.The optical film (F), after preparing the
하드 코트층 (12) 은, 예를 들어, 투명 기재 (11) 상에 경화성 수지 조성물을 도포하여 도막을 형성한 후, 이 도막을 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 경화성 수지 조성물이 자외선 경화형 수지를 함유하는 경우에는, 자외선 조사에 의해 상기 도막을 경화시킨다. 경화성 수지 조성물이 열경화형 수지를 함유하는 경우에는, 가열에 의해 상기 도막을 경화시킨다.The
투명 기재 (11) 상에 형성된 하드 코트층 (12) 의 노출 표면은, 필요에 따라 표면 개질 처리된다. 표면 개질 처리로서 플라즈마 처리하는 경우, 불활성 가스로서 예를 들어 아르곤 가스를 사용한다. 또한, 플라즈마 처리에 있어서의 방전 전력은, 예를 들어 10 W 이상이며, 또, 예를 들어 10000 W 이하이다.The exposed surface of the
무기 산화물 하지층 (13) 은, 드라이 코팅법으로 재료를 성막함으로써 형성한다. 드라이 코팅법으로는, 스퍼터링법, 진공 증착법, 및 CVD 를 들 수 있고, 바람직하게는 스퍼터링법이 사용된다.The inorganic
스퍼터링법에서는, 스퍼터실 내에 진공 조건하에서 가스를 도입하면서, 캐소드 상에 배치된 타깃에 마이너스의 전압을 인가한다. 이것에 의해, 글로 방전을 발생시켜 가스 원자를 이온화하고, 당해 가스 이온을 고속으로 타깃 표면에 충돌시켜, 타깃 표면으로부터 타깃 재료를 튕겨내고, 튕겨나온 타깃 재료를 소정면 상에 퇴적시킨다. 성막 속도의 관점에서, 스퍼터링법으로는, 반응성 스퍼터링이 바람직하다. 반응성 스퍼터링에서는, 타깃으로서 금속 타깃을 사용하고, 상기 서술한 가스로서, 아르곤 등의 불활성 가스와 산소 (반응성 가스) 의 혼합 가스를 사용한다. 불활성 가스와 산소의 유량비 (sccm) 의 조정에 의해, 성막되는 무기 산화물에 함유되는 산소의 비율을 조정할 수 있다.In the sputtering method, a negative voltage is applied to a target placed on a cathode while gas is introduced into the sputter chamber under vacuum conditions. Thereby, a glow discharge is generated to ionize gas atoms, and the gas ions collide with the target surface at high speed to repel the target material from the target surface, and the repelled target material is deposited on a predetermined surface. From the viewpoint of film formation speed, reactive sputtering is preferred as the sputtering method. In reactive sputtering, a metal target is used as a target, and a mixed gas of an inert gas such as argon and oxygen (reactive gas) is used as the gas described above. The ratio of oxygen contained in the inorganic oxide to be formed can be adjusted by adjusting the flow rate ratio (sccm) of the inert gas and oxygen.
스퍼터링법을 실시하기 위한 전원으로는, 예를 들어, DC 전원, AC 전원, RF 전원, 및 MFAC 전원 (주파수대가 수 kHz ∼ 수 MHz 의 AC 전원) 을 들 수 있다. 스퍼터링법에 있어서의 방전 전압은, 예를 들어 200 V 이상이고, 또한, 예를 들어 1000 V 이하이다. 또한, 스퍼터링법이 실시되는 스퍼터실 내의 성막 기압은, 바람직하게는 0.01 Pa 이상, 보다 바람직하게는 0.05 Pa 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 Pa 이상이다. 이와 같은 구성은, 재료가 치밀하게 퇴적된 방오층 (14) 을 형성하는 관점에서 바람직하다. 또한, 성막 기압은, 방전 안정성의 관점에서, 예를 들어 2 Pa 이하이다.As a power supply for performing the sputtering method, a DC power supply, an AC power supply, an RF power supply, and an MFAC power supply (an AC power supply having a frequency band of several kHz to several MHz) are exemplified. The discharge voltage in the sputtering method is, for example, 200 V or more, and is, for example, 1000 V or less. In addition, the film formation atmospheric pressure in the sputtering chamber where the sputtering method is performed is preferably 0.01 Pa or more, more preferably 0.05 Pa or more, still more preferably 0.1 Pa or more. Such a configuration is preferable from the viewpoint of forming the
방오층 (14) 은, 무기 산화물 하지층 (13) 상에, 예를 들어 불소기 함유의 유기 화합물을, 드라이 코팅법으로 성막함으로써 형성한다. 드라이 코팅법으로는, 예를 들어, 진공 증착법, 스퍼터링법 및 CVD 를 들 수 있고, 바람직하게는 진공 증착법이 사용된다.The
예를 들어 이상과 같이 하여, 광학 필름 (F) 을 제조할 수 있다. 광학 필름 (F) 은, 투명 기재 (11) 측이 예를 들어 점착제를 개재하여 피착체에 첩합되고, 사용된다. 피착체로는, 예를 들어, 터치 패널 디스플레이 등의 디스플레이에 있어서의 화상 표시측에 배치되는 투명 커버를 들 수 있다.For example, the optical film (F) can be manufactured as described above. As for the optical film (F), the side of the
광학 필름 (F) 은, 상기 서술한 바와 같이, 방오층 (14) 이 무기 산화물 하지층 (13) 상에 배치된 드라이 코팅막이다. 이와 같은 구성은, 광학 필름 (F) 에 있어서의 방오층 (14) 의 높은 접합력의 확보에 적합하고, 따라서, 방오층 (14) 의 내박리성의 확보에 적합하다. 방오층 (14) 의 내박리성이 높은 것은, 방오층 (14) 의 방오 기능의 유지에 도움이 된다.As described above, the optical film (F) is a dry coating film in which the antifouling layer (14) is disposed on the inorganic oxide base layer (13). Such a configuration is suitable for ensuring high bonding strength of the
광학 필름 (F) 에서는, 방오층 (14) 에 있어서의 표면 경도 H (GPa) 와 탄성 회복률 R 의 곱이, 상기 서술한 바와 같이 0.8 이상이고, 바람직하게는 0.9 이상, 보다 바람직하게는 1.0 이상, 더욱 바람직하게는 1.1 이상이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 에 대한 닦아내기 작업에 저항하여 방오층 (14) 의 방오성 저하를 억제하는데 적합하다.In the optical film (F), the product of the surface hardness H (GPa) and the elastic recovery factor R in the
이에 더하여, 광학 필름 (F) 에서는, 방오층 (14) 의 표면 (14a) 의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 탄성 회복률 R 이, 상기 서술한 바와 같이 바람직하게는 0.76 이상, 보다 바람직하게는 0.80 이상, 더욱 바람직하게는 0.815 이상, 특히 바람직하게는 0.85 이상이다. 이와 같은 구성은, 방오층 (14) 에 대한 닦아내기 작업에 저항하여 방오층 (14) 의 방오성 저하를 억제하는데 적합하다.In addition to this, in the optical film (F), the elastic recovery factor R at 25°C measured by the nanoindentation method of the
이상과 같이, 광학 필름 (F) 은, 방오층 (14) 에 있어서 내박리성을 확보하면서 방오성의 저하를 억제하는데 적합하다.As described above, the optical film (F) is suitable for suppressing a decrease in antifouling properties while ensuring peeling resistance in the
광학 필름 (F) 은, 소정의 광학적 기능을 갖는 층 (광학 기능층) 을 구비해도 된다. 광학 기능층이 복수의 층을 포함하는 경우, 그러한 광학 기능층의 방오층 (14) 측 표면의 층은, 상기 서술한 무기 산화물 하지층 (13) 을 겸하는 것이 바람직하다.The optical film F may include a layer having a predetermined optical function (optical function layer). When the optical function layer contains a plurality of layers, it is preferable that the surface layer on the
도 2 는, 광학 필름 (F) 이, 밀착층 (15) 과 방오층 (14) 사이에 광학 기능층 (20) 을 구비하는 경우를 나타낸다. 이 광학 기능층 (20) 은, 후술하는 바와 같이 무기 산화물 하지층 (13) 을 겸하는 층을 방오층 (14) 측 표면에 갖는다.2 shows the case where the optical film F is provided with the
광학 기능층 (20) 은, 밀착층 (15) 의 두께 방향 (T) 의 일방면 상에 배치되어 있다. 본 변형예에서는, 광학 기능층 (20) 은, 외광의 반사 강도를 억제하기 위한 반사 방지층이다. 즉, 광학 필름 (F) 은, 본 변형예에서는, 방오층이 형성된 반사 방지 필름이다.The
광학 기능층 (20) (반사 방지층) 은, 상대적으로 굴절률이 큰 고굴절률층과, 상대적으로 굴절률이 작은 저굴절률층을, 두께 방향으로 교대로 갖는다. 반사 방지층에서는, 동 층에 포함되는 복수의 박층 (고굴절률층, 저굴절률층) 에 있어서의 복수의 계면에서의 반사광 간의 간섭 작용에 의해, 정미 (正味) 의 반사광 강도가 감쇠된다. 또한, 반사 방지층에서는, 각 박층의 광학 막두께 (굴절률과 두께의 곱) 의 조정에 의해, 반사광 강도를 감쇠시키는 간섭 작용을 발현시킬 수 있다. 이러한 반사 방지층으로서의 광학 기능층 (20) 은, 본 실시형태에 있어서 구체적으로는, 제 1 고굴절률층 (21) 과, 제 1 저굴절률층 (22) 과, 제 2 고굴절률층 (23) 과, 상기 서술한 무기 산화물 하지층 (13) 을 겸하는 제 2 저굴절률층 (24) 을, 두께 방향 (T) 의 일방측을 향하여 이 순서로 갖는다.The optical function layer 20 (antireflection layer) has a high refractive index layer having a relatively large refractive index and a low refractive index layer having a relatively small refractive index alternately in the thickness direction. In the antireflection layer, the net intensity of reflected light is attenuated by an interference action between reflected light at a plurality of interfaces in a plurality of thin layers (high refractive index layer and low refractive index layer) included in the same layer. Further, in the antireflection layer, an interference effect of attenuating the reflected light intensity can be developed by adjusting the optical film thickness (product of refractive index and thickness) of each thin layer. The
제 1 고굴절률층 (21) 및 제 2 고굴절률층 (23) 은, 각각, 파장 550 nm 에 있어서의 굴절률이 바람직하게는 1.9 이상의 고굴절률 재료로 이루어진다. 고굴절률과 가시광의 저흡수성의 양립의 관점에서, 고굴절률 재료로는, 예를 들어, 산화니오브 (Nb2O5), 산화티탄, 산화지르코늄, 주석 도프 산화인듐 (ITO), 및 안티몬 도프 산화주석 (ATO) 을 들 수 있고, 바람직하게는 산화니오브가 사용된다.The first high
제 1 고굴절률층 (21) 의 광학 막두께 (굴절률과 두께의 곱) 는, 예를 들어 20 nm 이상이고, 또한, 예를 들어 55 nm 이하이다. 제 2 고굴절률층 (23) 의 광학 막두께는, 예를 들어 60 nm 이상이고, 또한, 예를 들어 330 nm 이하이다.The optical film thickness (product of the refractive index and the thickness) of the first high
제 1 저굴절률층 (22) 및 제 2 저굴절률층 (24) 은, 각각, 파장 550 nm 에 있어서의 굴절률이 바람직하게는 1.6 이하의 저굴절률 재료로 이루어진다. 저굴절률과 가시광의 저흡수성의 양립의 관점에서, 저굴절률 재료로는, 예를 들어, 이산화규소 (SiO2) 및 불화마그네슘을 들 수 있고, 바람직하게는 이산화규소가 사용된다. SiO2 및 불화마그네슘은, 상기 서술한 바와 같이, 무기 산화물 하지층 (13) 의 재료로서도 바람직하다.The first low
제 1 저굴절률층 (22) 의 광학 막두께는, 예를 들어 15 nm 이상이고, 또한, 예를 들어 70 nm 이하이다. 제 2 저굴절률층 (24) 의 광학 막두께는, 예를 들어 100 nm 이상이고, 또한, 예를 들어 160 nm 이하이다.The optical film thickness of the first low
제 1 고굴절률층 (21), 제 1 저굴절률층 (22) 및 제 2 고굴절률층 (23) 은, 각각 드라이 코팅법으로 재료를 성막함으로써 형성할 수 있다. 무기 산화물 하지층 (13) 을 겸하는 제 2 저굴절률층 (24) 은, 드라이 코팅법으로 재료를 성막함으로써 형성한다. 드라이 코팅법으로는, 스퍼터링법, 진공 증착법, 및 CVD 를 들 수 있고, 바람직하게는 스퍼터링법이 사용된다. 스퍼터링법으로는, 성막 속도의 관점에서, 반응성 스퍼터링이 바람직하다. 스퍼터링법의 조건은, 무기 산화물 하지층 (13) 의 형성에 관한 스퍼터링법의 조건으로서 상기한 것과 동일하다.The first high-refractive-
도 2 에 나타내는 광학 필름 (F) 에서는, 방오층 (14) 이, 제 2 저굴절률층 (24) (무기 산화물 하지층 (13)) 상에 배치된 드라이 코팅막이다. 도 2 에 나타내는 광학 필름 (F) 에서는, 방오층 (14) 의 표면 (14a) 의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 표면 경도 H (GPa) 와 탄성 회복률 R 의 곱이 0.8 이상이고, 바람직하게는 0.9 이상, 보다 바람직하게는 1.0 이상, 더욱 바람직하게는 1.1 이상이다. 도 2 에 나타내는 광학 필름 (F) 에서는, 방오층 (14) 의 표면 (14a) 의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 탄성 회복률 R 이, 바람직하게는 0.76 이상, 보다 바람직하게는 0.80 이상, 더욱 바람직하게는 0.815 이상, 특히 바람직하게는 0.85 이상이다. 이러한 광학 필름 (F) 은, 방오층 (14) 에 있어서 내박리성을 확보하면서 방오성의 저하를 억제하는데 적합하다.In the optical film F shown in FIG. 2 , the
실시예Example
본 발명에 대하여, 이하에 실시예를 나타내어 구체적으로 설명한다. 본 발명은 실시예에 한정되지 않는다. 또, 이하에 기재되어 있는 배합량 (함유량), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기 서술한 「발명을 실시하기 위한 형태」에 있어서 기재되어 있는, 그것들에 대응하는 배합량 (함유량), 물성값, 파라미터 등 해당 기재의 상한 (「이하」또는 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한 (「이상」또는 「초과한다」로서 정의되어 있는 수치) 으로 대체할 수 있다.The present invention will be described concretely by showing examples below. The present invention is not limited to the examples. In addition, specific numerical values such as compounding amounts (contents), physical property values, and parameters described below are described in the above-mentioned "mode for carrying out the invention", and the compounding amounts (contents), physical property values, and parameters corresponding to them are described. etc. can be replaced with the upper limit (numerical value defined as "below" or "less than") or lower limit (numerical value defined as "greater than" or "exceeds") of the description.
〔실시예 1〕[Example 1]
먼저, 투명 기재로서의 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 (상품명 「50U48」, 두께 50 ㎛, 도레이사 제조) 의 편면에, 하드 코트층을 형성하였다 (하드 코트층 형성 공정). 구체적으로는, 먼저, 자외선 경화형의 모노머 및 올리고머의 혼합물 (우레탄아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다) 의 아세트산부틸 용액 (상품명 「유니딕 17-806」, 고형분 농도 80 질량%, DIC 사 제조) 100 질량부 (고형분 환산) 와, 광 중합 개시제 (상품명 「IRGACURE906」, BASF 사 제조) 5 질량부와, 레벨링제 (상품명 「GRANDIC PC4100」, DIC 사 제조) 0.01 질량부를 혼합하여, 혼합액을 얻었다. 다음으로, 시클로펜타논 (CPN) 과 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (PGM) 의 혼합 용매 (CPN 과 PGM 의 질량비는 45 : 55) 의 첨가에 의해, 혼합액의 고형분 농도를 36 질량% 로 조정하였다. 이로써, 자외선 경화성의 수지 조성물 (바니시) 을 조제하였다. 이어서, 상기 PET 필름의 편면에 조성물을 도포하여 도막을 형성하였다. 이어서, 이 도막을, 가열에 의해 건조시킨 후, 자외선 조사에 의해 경화시켰다. 가열의 온도는 90 ℃ 로 하고, 가열의 시간은 60 초간으로 하였다. 자외선 조사에서는, 광원으로서 고압 수은 램프를 사용하고, 파장 365 nm 의 자외선을 사용하여, 적산 조사 광량을 300 mJ/cm2 로 하였다. 이로써, PET 필름 상에 두께 5 ㎛ 의 하드 코트 (HC) 층을 형성하였다.First, a hard coat layer was formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film (trade name "50U48", thickness 50 µm, manufactured by Toray Corporation) as a transparent substrate (hard coat layer forming step). Specifically, first, 100 mass of a butyl acetate solution (trade name "Unidic 17-806", solid content concentration: 80% by mass, manufactured by DIC) of a mixture of ultraviolet curable monomers and oligomers (containing urethane acrylate as a main component) Part (in terms of solid content), 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (trade name "IRGACURE906", manufactured by BASF), and 0.01 part by mass of a leveling agent (trade name "GRANDIC PC4100", manufactured by DIC) were mixed to obtain a liquid mixture. Next, the solid content concentration of the liquid mixture was adjusted to 36% by mass by adding a mixed solvent of cyclopentanone (CPN) and propylene glycol monomethyl ether (PGM) (the mass ratio of CPN and PGM was 45:55). Thus, an ultraviolet curable resin composition (varnish) was prepared. Then, the composition was applied to one side of the PET film to form a coating film. Next, after drying this coating film by heating, it was hardened by ultraviolet irradiation. The heating temperature was 90°C, and the heating time was 60 seconds. In the ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp was used as a light source, and an ultraviolet ray having a wavelength of 365 nm was used, and the integrated irradiation light amount was 300 mJ/cm 2 . This formed a hard coat (HC) layer with a thickness of 5 μm on the PET film.
다음으로, 롤 투 롤 방식의 플라즈마 처리 장치에 의해, HC 층이 형성된 PET 필름의 HC 층 표면을, 1.0 Pa 의 진공 분위기하에서 플라즈마 처리하였다. 이 플라즈마 처리에서는, 불활성 가스로서 아르곤 가스를 사용하고, 방전 전력을 780 W 로 하였다.Next, the surface of the HC layer of the PET film on which the HC layer was formed was subjected to plasma treatment in a vacuum atmosphere of 1.0 Pa using a roll-to-roll type plasma processing apparatus. In this plasma treatment, argon gas was used as an inert gas, and the discharge electric power was 780 W.
다음으로, 플라즈마 처리 후의 HC 층이 형성된 PET 필름의 HC 층 상에, 밀착층과, 무기 산화물 하지층을 순차적으로 형성하였다 (스퍼터 성막 공정). 구체적으로는, 롤 투 롤 방식의 스퍼터 성막 장치에 의해, HC 층이 형성된 PET 필름의 HC 층 상에, 밀착층으로서의 두께 2.0 nm 의 인듐주석 산화물 (ITO) 층과, 무기 산화물 하지층으로서의 두께 165 nm 의 SiO2 층을 순차적으로 형성하였다. 밀착층의 형성에서는, ITO 타깃을 사용하고, 불활성 가스로서의 아르곤 가스와, 아르곤 가스 100 체적부에 대하여 10 체적부의 반응성 가스로서의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 350 V 로 하고, 성막실 내의 기압 (성막 기압) 을 0.4 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 ITO 층을 성막하였다. 무기 산화물 하지층의 형성에서는, Si 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 30 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 350 V 로 하고, 성막 기압을 0.3 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 SiO2 층을 형성하였다.Next, on the HC layer of the PET film on which the HC layer was formed after plasma treatment, an adhesive layer and an inorganic oxide base layer were sequentially formed (sputter film formation process). Specifically, an indium tin oxide (ITO) layer with a thickness of 2.0 nm as an adhesive layer and a thickness of 165 nm as an inorganic oxide underlayer were formed on the HC layer of a PET film on which an HC layer was formed by a roll-to-roll sputter film deposition apparatus. nm SiO 2 layers were sequentially formed. In the formation of the adhesion layer, an ITO target is used, argon gas as an inert gas, and oxygen gas as a reactive gas of 10 parts by volume per 100 parts by volume of the argon gas are used, the discharge voltage is set to 350 V, and the air pressure in the film formation chamber is reduced. The ITO layer was formed into a film by MFAC sputtering at a (film forming atmospheric pressure) of 0.4 Pa. In the formation of the inorganic oxide base layer, a Si target is used, 100 parts by volume of argon gas and 30 parts by volume of oxygen gas are used, the discharge voltage is set to 350 V, the film formation pressure is set to 0.3 Pa, and SiO is formed by MFAC sputtering. Two layers were formed.
다음으로, 방오층을 형성하였다 (방오층 형성 공정). 구체적으로는, 퍼플루오로폴리에테르기 함유의 알콕시실란 화합물을 증착원으로서 사용한 진공 증착법에 의해, 두께 12 nm 의 방오층을, 무기 산화물 하지층 상에 형성하였다. 증착원은, 신에츠 화학 공업사 제조의 「KY1903-1」(퍼플루오로폴리에테르기 함유 알콕시실란 화합물, 고형분 농도 20 질량%) 을 건조시켜 얻은 고형분이다. 또한, 진공 증착법에 있어서의 증착원의 가열 온도는 260 ℃ 로 하였다.Next, an antifouling layer was formed (antifouling layer forming step). Specifically, an antifouling layer having a thickness of 12 nm was formed on the inorganic oxide base layer by a vacuum deposition method using an alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether group as a deposition source. The evaporation source is a solid content obtained by drying "KY1903-1" (a perfluoropolyether group-containing alkoxysilane compound, solid content concentration: 20% by mass) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. In addition, the heating temperature of the evaporation source in the vacuum evaporation method was 260 degreeC.
이상과 같이 하여, 실시예 1 의 광학 필름을 제작하였다. 실시예 1 의 광학 필름은, 투명 기재 (수지 필름) 와, 하드 코트층과, 밀착층과, 무기 산화물 하지층과, 방오층을, 두께 방향 일방측을 향하여 이 순서로 구비한다.As described above, the optical film of Example 1 was produced. The optical film of Example 1 includes a transparent substrate (resin film), a hard coat layer, an adhesive layer, an inorganic oxide base layer, and an antifouling layer in this order toward one side in the thickness direction.
〔실시예 2〕[Example 2]
HC 층의 두께를 5 ㎛ 대신에 10 ㎛ 로 한 것 이외에는, 실시예 1 의 광학 필름과 동일하게 하여, 실시예 2 의 광학 필름을 제작하였다.An optical film of Example 2 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except that the thickness of the HC layer was changed to 10 µm instead of 5 µm.
〔실시예 3〕[Example 3]
HC 층의 두께를 5 ㎛ 대신에 10 ㎛ 로 하고, 또한 무기 산화물 하지층의 두께를 165 nm 대신에 100 nm 로 한 것 이외에는, 실시예 1 의 광학 필름과 동일하게 하여, 실시예 3 의 광학 필름을 제작하였다.Optical film of Example 3 in the same manner as in the optical film of Example 1, except that the thickness of the HC layer was changed to 10 μm instead of 5 μm, and the thickness of the inorganic oxide underlayer was changed to 100 nm instead of 165 nm. was produced.
〔실시예 4〕[Example 4]
무기 산화물 하지층의 형성시의 성막 기압을 0.3 Pa 대신에 0.1 Pa 로 한 것 이외에는, 실시예 1 의 광학 필름과 동일하게 하여, 실시예 4 의 광학 필름을 제작하였다.The optical film of Example 4 was produced in the same manner as in the optical film of Example 1, except that the deposition air pressure at the time of forming the inorganic oxide underlayer was 0.1 Pa instead of 0.3 Pa.
〔실시예 5〕[Example 5]
HC 층의 두께를 5 ㎛ 대신에 10 ㎛ 로 하고, 또한 무기 산화물 하지층의 형성시의 성막 기압을 0.3 Pa 대신에 0.1 Pa 로 한 것 이외에는, 실시예 1 의 광학 필름과 동일하게 하여, 실시예 5 의 광학 필름을 제작하였다.Example 1 was carried out in the same manner as in the optical film of Example 1, except that the thickness of the HC layer was changed to 10 μm instead of 5 μm, and the deposition air pressure at the time of forming the inorganic oxide underlayer was changed to 0.1 Pa instead of 0.3 Pa. The optical film of 5 was produced.
〔실시예 6〕[Example 6]
방오층의 두께를 12 nm 대신에 8 nm 로 한 것 이외에는, 실시예 1 의 광학 필름과 동일하게 하여, 실시예 6 의 광학 필름을 제작하였다.The optical film of Example 6 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except that the thickness of the antifouling layer was changed to 8 nm instead of 12 nm.
〔실시예 7〕[Example 7]
방오층의 두께를 12 nm 대신에 6 nm 로 한 것 이외에는, 실시예 1 의 광학 필름과 동일하게 하여, 실시예 7 의 광학 필름을 제작하였다.The optical film of Example 7 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except that the thickness of the antifouling layer was changed to 6 nm instead of 12 nm.
〔실시예 8〕[Example 8]
방오층의 두께를 12 nm 대신에 16 nm 로 한 것 이외에는, 실시예 1 의 광학 필름과 동일하게 하여, 실시예 8 의 광학 필름을 제작하였다.The optical film of Example 8 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except that the thickness of the antifouling layer was changed to 16 nm instead of 12 nm.
〔실시예 9〕[Example 9]
먼저, 투명 기재로서의 PET 필름 (상품명 「50U48」, 두께 50 ㎛, 도레이사 제조) 의 편면에, 하드 코트층을 형성하였다. 구체적으로는, 먼저, 자외선 경화형 다관능 아크릴레이트 수지 (상품명 「Z-850-50H-D」, 고형분 농도 44 질량%, 아이카 공업사 제조) 100 질량부 (고형분 환산) 와, 광 중합 개시제 (상품명 「OMNIRAD2959」, BASF 사 제조) 4 질량부와, 레벨링제 (상품명 「LE-303」, 쿄에이샤 화학사 제조) 0.05 질량부를 혼합하여, 혼합액을 얻었다. 다음으로, 이 혼합액에 대한 메틸이소부틸케톤의 첨가에 의해, 혼합액의 고형분 농도를 40 질량% 로 조정하였다. 이로써, 자외선 경화성의 수지 조성물 (바니시) 을 조제하였다. 이어서, 상기 PET 필름의 편면에 조성물을 도포하여 도막을 형성하였다. 이어서, 이 도막을, 가열에 의해 건조시킨 후, 자외선 조사에 의해 경화시켰다. 가열의 온도는 80 ℃ 로 하고, 가열의 시간은 60 초간으로 하였다. 자외선 조사에서는, 광원으로서 고압 수은 램프를 사용하고, 파장 365 nm 의 자외선을 사용하여, 적산 조사 광량을 300 mJ/cm2 로 하였다. 이로써, PET 필름 상에 두께 5 ㎛ 의 하드 코트 (HC) 층을 형성하였다.First, a hard coat layer was formed on one side of a PET film (trade name "50U48", thickness 50 µm, manufactured by Toray Industries) as a transparent substrate. Specifically, first, an ultraviolet curable polyfunctional acrylate resin (trade name "Z-850-50H-D", solid content concentration: 44 mass%, manufactured by Aika Kogyo) 100 parts by mass (in terms of solid content) and a photopolymerization initiator (trade name "OMNIRAD2959", manufactured by BASF) and 0.05 parts by mass of a leveling agent (trade name "LE-303", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) were mixed to obtain a liquid mixture. Next, the solid content concentration of the liquid mixture was adjusted to 40% by mass by adding methyl isobutyl ketone to the liquid mixture. Thus, an ultraviolet curable resin composition (varnish) was prepared. Then, the composition was applied to one side of the PET film to form a coating film. Next, after drying this coating film by heating, it was hardened by ultraviolet irradiation. The heating temperature was 80°C, and the heating time was 60 seconds. In the ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp was used as a light source, and an ultraviolet ray having a wavelength of 365 nm was used, and the integrated irradiation light amount was 300 mJ/cm 2 . Thus, a hard coat (HC) layer having a thickness of 5 μm was formed on the PET film.
다음으로, 롤 투 롤 방식의 플라즈마 처리 장치에 의해, HC 층이 형성된 PET 필름의 HC 층 표면을, 1.0 Pa 의 진공 분위기하에서 플라즈마 처리하였다. 이 플라즈마 처리에서는, 불활성 가스로서 아르곤 가스를 사용하고, 방전 전력을 150 W 로 하였다.Next, the surface of the HC layer of the PET film on which the HC layer was formed was subjected to plasma treatment in a vacuum atmosphere of 1.0 Pa using a roll-to-roll type plasma processing apparatus. In this plasma treatment, argon gas was used as an inert gas, and the discharge electric power was 150 W.
이어서, 플라스마 처리 후의 HC 층이 형성된 PET 필름의 HC 층 상에, 밀착층과 반사 방지층을 순차적으로 형성하였다. 구체적으로는, 롤 투 롤 방식의 스퍼터 성막 장치에 의해, 플라즈마 처리 후의 HC 층이 형성된 PET 필름의 HC 층 상에, 밀착층으로서의 두께 1.5 nm 의 인듐주석 산화물 (ITO) 층과, 제 1 고굴절률층으로서의 두께 12 nm 의 Nb2O5 층과, 제 1 저굴절률층으로서의 두께 28 nm 의 SiO2 층과, 제 2 고굴절률층으로서의 두께 100 nm 의 Nb2O5 층과, 제 2 저굴절률층으로서의 두께 85 nm 의 SiO2 층을, 순차적으로 형성하였다. 밀착층의 형성에서는, ITO 타깃을 사용하고, 불활성 가스로서의 아르곤 가스와, 아르곤 가스 100 체적부에 대하여 10 체적부의 반응성 가스로서의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 400 V 로 하고, 성막실 내의 기압 (성막 기압) 을 0.2 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 ITO 층을 성막하였다. 제 1 고굴절률층의 형성에서는, Nb 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 5 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 415 V 로 하고, 성막 기압을 0.7 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 Nb2O5 층을 성막하였다. 제 1 저굴절률층의 형성에서는, Si 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 30 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 350 V 으로 하고, 성막 기압을 0.7 Pa 으로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 SiO2 층을 성막하였다. 제 2 고굴절률층의 형성에서는, Nb 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 13 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 460 V 로 하고, 성막 기압을 0.7 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 Nb2O5 층을 성막하였다. 제 2 저굴절률층의 형성에서는, Si 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 30 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 340 V 으로 하고, 성막 기압을 0.7 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 SiO2 층을 성막하였다. 이상과 같이 하여, HC 층이 형성된 PET 필름의 HC 층 상에, 밀착층을 개재하여 반사 방지층 (제 1 고굴절률층, 제 1 저굴절률층, 제 2 고굴절률층, 제 2 저굴절률층) 을 적층 형성하였다. 본 실시예에서는, 제 2 저굴절률층이, 방오층에 있어서의 무기 산화물 하지층이다.Subsequently, an adhesive layer and an antireflection layer were sequentially formed on the HC layer of the PET film on which the HC layer was formed after plasma treatment. Specifically, an indium tin oxide (ITO) layer having a thickness of 1.5 nm as an adhesive layer and a first high refractive index were placed on the HC layer of a PET film on which the HC layer after plasma treatment was formed by a roll-to-roll sputter film deposition apparatus. A 12 nm thick Nb 2 O 5 layer as a layer, a 28 nm thick SiO 2 layer as a first low refractive index layer, a 100 nm thick Nb 2 O 5 layer as a second high refractive index layer, and a second low refractive index layer. An SiO 2 layer with a thickness of 85 nm as , was sequentially formed. In the formation of the adhesion layer, an ITO target is used, argon gas as an inert gas, and oxygen gas as a reactive gas of 10 parts by volume per 100 parts by volume of the argon gas are used, the discharge voltage is set to 400 V, and the air pressure in the film formation chamber is reduced. The ITO layer was formed into a film by MFAC sputtering at a (film forming atmospheric pressure) of 0.2 Pa. In formation of the first high refractive index layer, a Nb target was used, 100 parts by volume of argon gas and 5 parts by volume of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 415 V, and the deposition pressure was set to 0.7 Pa by MFAC sputtering. A Nb 2 O 5 layer was formed. In the formation of the first low refractive index layer, a Si target was used, 100 parts by volume of argon gas and 30 parts by volume of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 350 V, and the deposition atmospheric pressure was set to 0.7 Pa by MFAC sputtering. A SiO 2 layer was deposited. In the formation of the second high refractive index layer, a Nb target was used, 100 parts by volume of argon gas and 13 parts by volume of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 460 V, the deposition pressure was set to 0.7 Pa, by MFAC sputtering. A Nb 2 O 5 layer was formed. In the formation of the second low refractive index layer, a Si target was used, 100 parts by volume of argon gas and 30 parts by volume of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 340 V, and the deposition pressure was set to 0.7 Pa, by MFAC sputtering. A SiO 2 layer was deposited. As described above, on the HC layer of the PET film on which the HC layer was formed, an antireflection layer (the first high refractive index layer, the first low refractive index layer, the second high refractive index layer, and the second low refractive index layer) was applied through the adhesive layer. layered formation. In this embodiment, the second low refractive index layer is an inorganic oxide base layer in the antifouling layer.
다음으로, 형성된 반사 방지층 상 (즉, 제 2 저굴절률층 상) 에 방오층을 형성하였다. 구체적으로는, 실시예 1 에서의 방오층 형성 공정과 동일하다.Next, an antifouling layer was formed on the formed antireflection layer (i.e., on the second low refractive index layer). Specifically, it is the same as the antifouling layer formation process in Example 1.
이상과 같이 하여, 실시예 9 의 광학 필름을 제작하였다. 실시예 9 의 광학 필름은, 투명 기재 (수지 필름) 와, 하드 코트층과, 밀착층과, 반사 방지층 (무기 산화물 하지층인 제 2 저굴절률층을 포함한다) 과, 방오층을, 두께 방향 일방측을 향하여 이 순서로 구비한다.As described above, the optical film of Example 9 was produced. The optical film of Example 9 includes a transparent substrate (resin film), a hard coat layer, an adhesive layer, an antireflection layer (including a second low refractive index layer as an inorganic oxide base layer), and an antifouling layer in the thickness direction It is provided in this order toward one side.
〔비교예 1〕[Comparative Example 1]
HC 층의 두께를 5 ㎛ 대신에 10 ㎛ 로 하고, 또한 무기 산화물 하지층의 두께를 165 nm 대신에 30 nm 로 한 것 이외에는, 실시예 1 의 광학 필름과 동일하게 하여, 비교예 1 의 광학 필름을 제작하였다.Optical film of Comparative Example 1 in the same manner as in the optical film of Example 1, except that the thickness of the HC layer was changed to 10 μm instead of 5 μm, and the thickness of the inorganic oxide underlayer was changed to 30 nm instead of 165 nm. was produced.
〈방오층 표면의 경도와 탄성 회복률〉<Hardness and elastic recovery rate of the surface of the antifouling layer>
실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 의 각 광학 필름의 방오층 표면에 대해, 나노인덴테이션법에 의한 하중-변위 측정을 실시하였다. 구체적으로는, 먼저, 광학 필름으로부터, 측정 시료 (5 mm×5 mm) 를 잘라냈다. 이어서, 나노인덴터 (상품명 「Triboindenter」, Hysitron 사 제조) 를 사용하여, 측정 시료에 있어서의 방오층 표면의 하중-변위 측정을 ISO14577 에 준거하여 실시하고, 하중-변위 곡선을 얻었다. 본 측정에서는, 측정 모드는 단일 압입 측정으로 하고, 측정 온도는 25 ℃ 로 하고, 사용 압자는 Berkovich (삼각추) 형의 다이아몬드 압자로 하고, 하중 인가 과정에서의 측정 시료에 대한 압자의 최대 압입 깊이 (최대 변위 H1) 는 200 nm 로 하고, 그 압자의 압입 속도는 20 nm/초로 하고, 제하 과정에서의 측정 시료로부터 압자를 뽑아내는 속도는 20 nm/초로 하였다. 얻어진 하중-변위 곡선에 기초하여, 최대 하중 Pmax (최대 변위 H1 에서 압자에 작용하는 하중), 접촉 투영 면적 Ap (최대 하중시에 있어서의 압자와 시료 사이의 접촉 영역의 투영 면적), 및 제하 과정 후의 시료 표면에 있어서의 소성 변형량 H2 (시료 표면으로부터 압자를 이간시킨 후에 당해 시료 표면에 유지되는 오목부의 깊이) 를 얻었다. 그리고, 최대 하중 Pmax 와 접촉 투영 면적 Ap 로부터, 방오층 표면의 경도 (= Pmax/Ap) 를 산출하였다. 또한, 최대 변위 H1 과 소성 변형량 H2 로부터, 하중 인가와 그 후의 제하를 거친 방오층 표면의 후술하는 탄성 회복률 (= (H1-H2)/H1) 을 산출하였다. 이들 표면 경도 (GPa) 및 탄성 회복률 (%) 을 표 1 에 나타낸다.The surface of the antifouling layer of each optical film of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 was subjected to load-displacement measurement by a nanoindentation method. Specifically, first, a measurement sample (5 mm × 5 mm) was cut out from the optical film. Next, using a nanoindenter (trade name "Triboindenter", manufactured by Hysitron), a load-displacement measurement of the surface of the antifouling layer in the measurement sample was performed based on ISO14577, and a load-displacement curve was obtained. In this measurement, the measurement mode is single indentation measurement, the measurement temperature is 25 ° C, the indenter used is a Berkovich (triangular pyramid) type diamond indenter, and the maximum indentation depth of the indenter into the measurement sample during the load application process ( The maximum displacement H1) was 200 nm, the pushing speed of the indenter was 20 nm/sec, and the speed of extracting the indenter from the measurement sample in the unloading process was 20 nm/sec. Based on the obtained load-displacement curve, the maximum load Pmax (the load acting on the indenter at the maximum displacement H1), the projected contact area Ap (the projected area of the contact area between the indenter and the sample at the time of maximum load), and the unloading process The amount of plastic deformation H2 (the depth of the concave portion held on the sample surface after separating the indenter from the sample surface) on the subsequent sample surface was obtained. Then, the surface hardness of the antifouling layer (= Pmax/Ap) was calculated from the maximum load Pmax and the projected contact area Ap. In addition, from the maximum displacement H1 and the amount of plastic deformation H2, an elastic recovery factor (= (H1-H2)/H1) described below of the surface of the antifouling layer subjected to load application and subsequent unloading was calculated. Table 1 shows these surface hardness (GPa) and elastic recovery rate (%).
〈물 접촉각〉<Water contact angle>
실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 의 각 광학 필름에 대해, 방오층 표면의 물 접촉각을 조사하였다. 먼저, 광학 필름의 방오층 표면에, 약 1 μL 의 순수의 적하에 의해 물방울을 형성하였다. 다음으로, 방오층 표면 상의 물방울의 표면과 방오층 표면이 이루는 각도를 측정하였다. 측정에는, 접촉각계 (상품명 「DMo-501」, 쿄와 계면 과학사 제조) 를 사용하였다. 그 측정 결과를, 초기의 물 접촉각 θ0 으로서 표 1 에 나타낸다.For each optical film of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1, the contact angle of water on the surface of the antifouling layer was investigated. First, water droplets were formed on the surface of the antifouling layer of the optical film by dropping about 1 µL of pure water. Next, the angle between the surface of the water droplets on the surface of the antifouling layer and the surface of the antifouling layer was measured. For the measurement, a contact angle meter (trade name "DMo-501", manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used. The measurement results are shown in Table 1 as the initial water contact angle θ 0 .
〈지우개 슬라이딩 시험〉<Eraser sliding test>
실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 의 각 광학 필름에 대해, 지우개 슬라이딩 시험을 거치는 것에 의한 방오층 표면의 방오성 저하의 정도를 조사하였다. 구체적으로는, 먼저, 광학 필름의 방오층 표면에 대해 지우개를 슬라이딩시키면서 왕복동시키는 슬라이딩 시험을 실시하였다 (제 1 지우개 슬라이딩 시험). 이 시험에서는, Minoan 사 제조의 지우개 (Φ6 mm) 를 사용하여, 방오층 표면에 대한 지우개의 하중을 1 kg/6 mmΦ 로 하고, 방오층 표면 상의 지우개의 슬라이딩 거리 (왕복동에 있어서의 편도) 를 20 mm 로 하고, 지우개의 슬라이딩 속도를 40 rpm 으로 하고, 방오층 표면에 대해 지우개를 왕복동시키는 횟수는 3000 왕복으로 하였다. 다음으로, 광학 필름의 방오층 표면에 있어서의 지우개 슬라이딩 지점의 물 접촉각을, 초기의 물 접촉각 θ0 의 측정 방법과 동일한 방법으로 측정하였다. 그 측정 결과를, 제 1 지우개 슬라이딩 시험 후의 물 접촉각 θ1 로서 표 1 에 나타낸다.For each optical film of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1, the degree of deterioration in antifouling properties of the surface of the antifouling layer by passing through an eraser sliding test was investigated. Specifically, first, a sliding test was conducted in which an eraser was reciprocated while sliding on the surface of the antifouling layer of the optical film (first eraser sliding test). In this test, an eraser (Φ6 mm) manufactured by Minoan was used, the load of the eraser on the surface of the antifouling layer was 1 kg/6 mmΦ, and the sliding distance (one way in reciprocation) of the eraser on the surface of the antifouling layer was 20 mm, the sliding speed of the eraser was 40 rpm, and the number of times the eraser was reciprocated with respect to the surface of the antifouling layer was 3000 reciprocations. Next, the water contact angle at the sliding point of the eraser on the surface of the antifouling layer of the optical film was measured by the same method as the measuring method of the initial water contact angle θ 0 . The measurement results are shown in Table 1 as the water contact angle θ 1 after the first eraser sliding test.
이어서, 광학 필름의 방오층 표면에 대해, 다시 지우개를 슬라이딩시키면서 왕복동시키는 슬라이딩 시험을 실시하였다 (제 2 지우개 슬라이딩 시험). 슬라이딩 조건은, 제 1 지우개 슬라이딩 시험과 동일하다 (지우개를 왕복동시키는 횟수는, 제 1 지우개 슬라이딩 시험과 그 후의 제 2 지우개 슬라이딩 시험에서, 합계 6000 왕복이다). 다음으로, 광학 필름의 방오층 표면에 있어서의 지우개 슬라이딩 지점의 물 접촉각을, 초기의 물 접촉각 θ0 의 측정 방법과 동일한 방법으로 측정하였다. 그 측정 결과를, 제 2 지우개 슬라이딩 시험 후의 물 접촉각 θ2 로서 표 1 에 나타낸다. 도 3 은, 실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 의 각 광학 필름에 있어서의 표면 경도 H 와 탄성 회복률 R 의 곱 및 물 접촉각 θ2가 플롯된 그래프이다. 도 3 의 그래프에서는, 가로축은 표면 경도 H (GPa) 와 탄성 회복률 R 의 곱 (R×H) 을 나타내고, 세로축은 물 접촉각 θ2 (°) 를 나타낸다. 도 3 에 있어서, 플롯 E1 ∼ E9 는 실시예 1 ∼ 9 에 있어서의 측정 결과를 나타내고, 플롯 C1 은 비교예 1 에 있어서의 측정 결과를 나타낸다.Subsequently, a sliding test was conducted in which the surface of the antifouling layer of the optical film was reciprocated while sliding an eraser again (second eraser sliding test). The sliding conditions are the same as those in the first eraser sliding test (the number of times the eraser is reciprocated is a total of 6000 reciprocations in the first eraser sliding test and the second eraser sliding test thereafter). Next, the water contact angle at the sliding point of the eraser on the surface of the antifouling layer of the optical film was measured by the same method as the measuring method of the initial water contact angle θ 0 . The measurement results are shown in Table 1 as the water contact angle θ 2 after the second eraser sliding test. 3 is a graph in which the product of the surface hardness H and the elastic recovery rate R and the water contact angle θ 2 in each of the optical films of Examples 1 to 9 and Comparative Example 1 are plotted. In the graph of FIG. 3 , the horizontal axis represents the product (R×H) of the surface hardness H (GPa) and the elastic recovery rate R, and the vertical axis represents the water contact angle θ 2 (°). In FIG. 3 , plots E1 to E9 show measurement results in Examples 1 to 9, and plot C1 shows measurement results in Comparative Example 1.
〈평가〉<evaluation>
실시예 1 ∼ 9 의 각 광학 필름에서는, 비교예 1 의 광학 필름과 비교하여, 지우개 슬라이딩 시험 (제 1 지우개 슬라이딩 시험, 제 2 지우개 슬라이딩 시험) 을 거치는 것에 의한 방오층 표면에 있어서의 물 접촉각의 저하의 정도가 유의하게 작고, 따라서, 방오성의 저하가 유의하게 작다 (방오층 표면에서는, 물 접촉각의 저하가 작을수록, 방오성의 저하는 작다).In each optical film of Examples 1 to 9, compared to the optical film of Comparative Example 1, the water contact angle at the surface of the antifouling layer by passing through the eraser sliding test (first eraser sliding test, second eraser sliding test) The degree of degradation is significantly small, and therefore, the decrease in antifouling properties is significantly small (on the surface of the antifouling layer, the smaller the decrease in water contact angle, the smaller the decrease in antifouling properties).
상기 서술한 실시형태는 본 발명의 예시로서, 당해 실시형태에 의해 본 발명을 한정적으로 해석해서는 안 된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해 분명한 본 발명의 변형예는, 후기하는 청구범위에 포함된다.The embodiment described above is an illustration of the present invention, and the present invention should not be interpreted limitedly by the embodiment. Modifications of the present invention obvious to those skilled in the art are included in the claims described later.
산업상 이용가능성industrial applicability
본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름은, 예를 들어, 방오층이 형성된 반사 방지 필름, 방오층이 형성된 투명 도전성 필름, 및 방오층이 형성된 전자파 차폐 필름에 적용할 수 있다.The optical film with an antifouling layer of the present invention can be applied to, for example, an antireflection film with an antifouling layer, a transparent conductive film with an antifouling layer, and an electromagnetic wave shielding film with an antifouling layer.
F : 광학 필름 (방오층이 형성된 광학 필름)
11 : 투명 기재
12 : 하드 코트층
13 : 무기 산화물 하지층
14 : 방오층
14a : 표면
15 : 밀착층
20 : 광학 기능층
21 : 제 1 고굴절률층
22 : 제 1 저굴절률층
23 : 제 2 고굴절률층
24 : 제 2 저굴절률층F: Optical film (optical film with antifouling layer)
11: transparent substrate
12: hard coat layer
13: inorganic oxide under layer
14: antifouling layer
14a: surface
15: adhesion layer
20: optical functional layer
21: first high refractive index layer
22: first low refractive index layer
23: second high refractive index layer
24: second low refractive index layer
Claims (6)
상기 무기 산화물 하지층이 이산화규소를 함유하고,
상기 방오층이, 상기 무기 산화물 하지층 상에 배치된, 퍼플루오로폴리에테르기 함유 알콕시실란 화합물의 진공 증착막이며, 7 nm 이상의 두께를 갖고,
상기 퍼플루오로폴리에테르기 함유 알콕시실란 화합물이, 하기의 일반식 (1) 로 나타내는 화합물이며,
R1-R2-X-(CH2)m-Si(OR3)3 (1)
일반식 (1) 에 있어서, R1 은 퍼플루오로알킬기를 나타내고, R2 는 -(OCF2)p- 와 -(OC2F4)p- 를 포함하는 퍼플루오로폴리에테르기 반복 구조를 나타내고, p 는 1 이상 50 이하의 정수를 나타내고, R3 은 탄소수 1 이상 4 이하 알킬기를 나타내고, X 는 에테르기, 카르보닐기, 아미노기, 또는 아미드기를 나타내고, m 은 1 이상의 정수를 나타내고,
상기 방오층에 있어서의 상기 무기 산화물 하지층과는 반대측의 표면의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 경도 (GPa) 와 탄성 회복률의 곱이 0.8 이상이며,
상기 경도가, 1.05 GPa 이상인, 방오층이 형성된 광학 필름.A transparent substrate, a hard coat layer, an inorganic oxide base layer, and an antifouling layer are provided in this order,
The inorganic oxide underlayer contains silicon dioxide,
the antifouling layer is a vacuum deposited film of an alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether group disposed on the inorganic oxide underlayer, and has a thickness of 7 nm or more;
The perfluoropolyether group-containing alkoxysilane compound is a compound represented by the following general formula (1),
R 1 -R 2 -X-(CH 2 ) m -Si(OR 3 ) 3 (1)
In the general formula (1), R 1 represents a perfluoroalkyl group, and R 2 represents a repeating structure of a perfluoropolyether group including -(OCF 2 ) p - and -(OC 2 F 4 ) p - , p represents an integer of 1 or more and 50 or less, R 3 represents an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, X represents an ether group, a carbonyl group, an amino group or an amide group, m represents an integer of 1 or more,
The product of the hardness (GPa) and the elastic recovery factor at 25° C. measured by the nanoindentation method of the surface of the antifouling layer on the opposite side to the inorganic oxide underlayer is 0.8 or more,
An optical film with an antifouling layer having the hardness of 1.05 GPa or more.
상기 방오층의 상기 표면의, 나노인덴테이션법에 의해 측정되는 25 ℃ 에서의 탄성 회복률이 0.76 이상인, 방오층이 형성된 광학 필름.According to claim 1,
The optical film with an antifouling layer, wherein the surface of the antifouling layer has an elastic recovery factor at 25°C of 0.76 or more as measured by a nanoindentation method.
상기 방오층이 25 nm 이하의 두께를 갖는, 방오층이 형성된 광학 필름.According to claim 1 or 2,
An optical film with an antifouling layer, wherein the antifouling layer has a thickness of 25 nm or less.
상기 무기 산화물 하지층이 100 nm 초과의 두께를 갖는, 방오층이 형성된 광학 필름.According to claim 1 or 2,
An optical film with an antifouling layer, wherein the inorganic oxide underlayer has a thickness of greater than 100 nm.
상기 하드 코트층이 1 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하의 두께를 갖는, 방오층이 형성된 광학 필름.According to claim 1 or 2,
The optical film with an antifouling layer, wherein the hard coat layer has a thickness of 1 μm or more and 50 μm or less.
Applications Claiming Priority (23)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2020-120131 | 2020-07-13 | ||
JP2020120131 | 2020-07-13 | ||
JP2020146144 | 2020-08-31 | ||
JPJP-P-2020-146144 | 2020-08-31 | ||
JP2020166844 | 2020-10-01 | ||
JP2020166847 | 2020-10-01 | ||
JPJP-P-2020-166844 | 2020-10-01 | ||
JPJP-P-2020-166847 | 2020-10-01 | ||
JP2020190465 | 2020-11-16 | ||
JP2020190466 | 2020-11-16 | ||
JPJP-P-2020-190466 | 2020-11-16 | ||
JP2020190468 | 2020-11-16 | ||
JPJP-P-2020-190465 | 2020-11-16 | ||
JPJP-P-2020-190468 | 2020-11-16 | ||
JPJP-P-2020-191680 | 2020-11-18 | ||
JP2020191680 | 2020-11-18 | ||
JPJP-P-2021-015315 | 2021-02-02 | ||
JP2021015315 | 2021-02-02 | ||
JPJP-P-2021-015317 | 2021-02-02 | ||
JP2021015317 | 2021-02-02 | ||
JPJP-P-2021-015316 | 2021-02-02 | ||
JP2021015316 | 2021-02-02 | ||
PCT/JP2021/026249 WO2022014571A1 (en) | 2020-07-13 | 2021-07-13 | Antifouling layer-equipped optical film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230003643A KR20230003643A (en) | 2023-01-06 |
KR102517501B1 true KR102517501B1 (en) | 2023-04-03 |
Family
ID=79555576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020227044254A KR102517501B1 (en) | 2020-07-13 | 2021-07-13 | Optical film with antifouling layer |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7186331B2 (en) |
KR (1) | KR102517501B1 (en) |
CN (1) | CN115803187A (en) |
TW (1) | TWI820451B (en) |
WO (1) | WO2022014571A1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001188102A (en) | 1999-12-27 | 2001-07-10 | Toppan Printing Co Ltd | Antireflection film |
JP2002243904A (en) | 2001-02-20 | 2002-08-28 | Toppan Printing Co Ltd | Light absorbing antireflection laminated body and liquid crystal display device which uses the same |
JP2006134867A (en) | 2004-10-06 | 2006-05-25 | Nitto Denko Corp | Transparent conductive film and touch panel |
JP2019032524A (en) | 2017-08-08 | 2019-02-28 | 日東電工株式会社 | Antireflection film |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100543222B1 (en) * | 2002-08-02 | 2006-01-20 | 호야 가부시키가이샤 | Optical member and process of producing the same |
JP4508074B2 (en) * | 2005-02-18 | 2010-07-21 | 日東電工株式会社 | Transparent conductive laminate and touch panel provided with the same |
JP2012144695A (en) * | 2010-09-14 | 2012-08-02 | Central Glass Co Ltd | Antifouling article and production method therefor, and embrocation for forming antifouling layer |
KR20150110984A (en) * | 2014-03-24 | 2015-10-05 | 나노크리스탈주식회사 | Surface Treatment Compound and Method for Forming Anti-fouling Coating Film containing the same |
WO2016068112A1 (en) * | 2014-10-30 | 2016-05-06 | 旭硝子株式会社 | Substrate having antifouling film |
JP6825825B2 (en) * | 2015-05-27 | 2021-02-03 | デクセリアルズ株式会社 | Laminated thin film and manufacturing method of laminated thin film |
JP7217118B2 (en) | 2018-09-26 | 2023-02-02 | 日東電工株式会社 | Optical film with protective film |
-
2021
- 2021-07-13 TW TW110125721A patent/TWI820451B/en active
- 2021-07-13 CN CN202180049370.2A patent/CN115803187A/en active Pending
- 2021-07-13 WO PCT/JP2021/026249 patent/WO2022014571A1/en active Application Filing
- 2021-07-13 JP JP2022536375A patent/JP7186331B2/en active Active
- 2021-07-13 KR KR1020227044254A patent/KR102517501B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001188102A (en) | 1999-12-27 | 2001-07-10 | Toppan Printing Co Ltd | Antireflection film |
JP2002243904A (en) | 2001-02-20 | 2002-08-28 | Toppan Printing Co Ltd | Light absorbing antireflection laminated body and liquid crystal display device which uses the same |
JP2006134867A (en) | 2004-10-06 | 2006-05-25 | Nitto Denko Corp | Transparent conductive film and touch panel |
JP2019032524A (en) | 2017-08-08 | 2019-02-28 | 日東電工株式会社 | Antireflection film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN115803187A (en) | 2023-03-14 |
TWI820451B (en) | 2023-11-01 |
KR20230003643A (en) | 2023-01-06 |
TW202208652A (en) | 2022-03-01 |
JP7186331B2 (en) | 2022-12-08 |
WO2022014571A1 (en) | 2022-01-20 |
JPWO2022014571A1 (en) | 2022-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102518011B1 (en) | Optical film with antifouling layer | |
WO2022014569A1 (en) | Optical film with anti-fouling layer | |
JP7265682B2 (en) | Optical film with antifouling layer | |
KR102517501B1 (en) | Optical film with antifouling layer | |
KR102521712B1 (en) | Optical film with antifouling layer | |
JP2022079332A (en) | Optical film with antifouling layer | |
JP7219849B2 (en) | Optical film with antifouling layer | |
KR102666261B1 (en) | Optical film with anti-fouling layer | |
JP2024070685A (en) | Optical film with antifouling layer and method for producing same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |