KR102518011B1 - Optical film with antifouling layer - Google Patents

Optical film with antifouling layer Download PDF

Info

Publication number
KR102518011B1
KR102518011B1 KR1020227045067A KR20227045067A KR102518011B1 KR 102518011 B1 KR102518011 B1 KR 102518011B1 KR 1020227045067 A KR1020227045067 A KR 1020227045067A KR 20227045067 A KR20227045067 A KR 20227045067A KR 102518011 B1 KR102518011 B1 KR 102518011B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
antifouling layer
antifouling
contact angle
water contact
Prior art date
Application number
KR1020227045067A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20230005423A (en
Inventor
고다이 미야모토
도모타케 나시키
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=79555561&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR102518011(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20230005423A publication Critical patent/KR20230005423A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102518011B1 publication Critical patent/KR102518011B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023—Optical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
    • C09D5/1687—Use of special additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/10—Glass or silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • B32B2307/418—Refractive
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/538—Roughness

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

방오층이 형성된 광학 필름은, 기재층과, 무기층으로 이루어지는 광학 기능층과, 방오층을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비한다. 방오층의 표면 조도 Ra 가 10 nm 이하이다. 방오층의 두께 방향 일방면의 물 접촉각이 110°이상이다. 소정의 시험에 의해 구해지는 방오층의 물 접촉각이 83°이상이다.An optical film with an antifouling layer is provided with a substrate layer, an optical function layer composed of an inorganic layer, and an antifouling layer in order toward one side in the thickness direction. The surface roughness Ra of the antifouling layer is 10 nm or less. The water contact angle of one surface in the thickness direction of the antifouling layer is 110° or more. The water contact angle of the antifouling layer determined by a prescribed test is 83° or more.

Description

방오층이 형성된 광학 필름Optical film with antifouling layer

본 발명은, 방오층이 형성된 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film with an antifouling layer.

종래, 필름 기재의 표면 및 광학 부품의 표면에, 오염 (손때 및 지문) 의 부착을 방지하는 관점에서, 방오층을 형성하는 것이 알려져 있다.Conventionally, it is known to form an antifouling layer on the surface of a film substrate and the surface of an optical component from the viewpoint of preventing stains (fingerprints and finger marks) from adhering.

구체적으로는, 투명 필름과, 반사 방지층과, 방오층을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비하는 반사 방지 필름이 제안되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).Specifically, an antireflection film comprising a transparent film, an antireflection layer, and an antifouling layer in order toward one side in the thickness direction has been proposed (see Patent Document 1, for example).

일본 공개특허공보 2017-227898호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-227898

한편, 방오층에 부착된 오염을 닦아내면, 방오층의 방오성이 저하된다는 문제가 있다.On the other hand, there is a problem that the antifouling property of the antifouling layer is lowered when dirt adhering to the antifouling layer is wiped off.

본 발명은, 방오층에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층의 방오성의 저하를 억제할 수 있는, 방오층이 형성된 광학 필름을 제공하는 것에 있다.The present invention is to provide an optical film with an antifouling layer capable of suppressing a decrease in the antifouling properties of the antifouling layer even after wiping away stains adhering to the antifouling layer.

본 발명 [1] 은, 기재층과, 무기층으로 이루어지는 광학 기능층과, 방오층을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비하고, 방오층의 표면 조도 Ra 가 10 nm 이하이고, 상기 방오층의 두께 방향 일방면의 물 접촉각이 110°이상이고, 제 1 내구성 시험에 의해 구해지는 방오층의 물 접촉각이 83°이상인, 방오층이 형성된 광학 필름이다.In the present invention [1], a substrate layer, an optical function layer composed of an inorganic layer, and an antifouling layer are sequentially provided toward one side in the thickness direction, the surface roughness Ra of the antifouling layer is 10 nm or less, and the antifouling layer An optical film with an antifouling layer having a water contact angle of 110° or more on one surface in the thickness direction and a water contact angle of the antifouling layer determined by the first durability test of 83° or more.

제 1 내구성 시험 : 방오층에 대해, 이하의 조건에 기초하여, 제 1 지우개 슬라이딩 시험을 실시한다. 제 1 지우개 슬라이딩 시험을 실시한 후, 방오층의 순수에 대한 물 접촉각을 측정한다.1st durability test: The 1st eraser sliding test is implemented with respect to the antifouling layer based on the following conditions. After the first eraser sliding test is performed, the water contact angle of the antifouling layer with respect to pure water is measured.

<제 1 지우개 슬라이딩 시험><First Eraser Sliding Test>

Minoan 사 제조의 지우개 (Φ6 mm)Eraser made by Minoan (Φ6 mm)

슬라이딩 거리 : 편도 100 mmSliding distance: 100 mm one way

슬라이딩 속도 : 100 mm/초Sliding speed: 100 mm/sec

하중 : 1 kg/6 mmΦLoad: 1 kg/6 mmΦ

슬라이딩 횟수 : 3000 회Number of sliding: 3000 times

본 발명 [2] 는, 제 2 내구성 시험에 의해 구해지는 방오층의 물 접촉각의 변화량이 5°이하인, 상기 [1] 에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함하고 있다.The present invention [2] includes the optical film with an antifouling layer according to [1] above, wherein the change in the water contact angle of the antifouling layer determined by the second durability test is 5° or less.

제 2 내구성 시험 : 방오층의 순수에 대한 제 1 물 접촉각을 측정한다. 이어서, 방오층에 대해, 이하의 조건에 기초하여, 제 2 지우개 슬라이딩 시험을 실시한다. 제 2 지우개 슬라이딩 시험을 실시한 후, 방오층의 순수에 대한 제 2 물 접촉각을 측정한다. 이어서, 하기 식 (1) 에 기초하여, 물 접촉각의 변화량을 산출한다.Second durability test: The first water contact angle of the antifouling layer with respect to pure water is measured. Next, the antifouling layer was subjected to a second eraser sliding test based on the following conditions. After performing the second eraser sliding test, the second water contact angle of the antifouling layer with respect to pure water is measured. Next, based on the following formula (1), the amount of change in the water contact angle is calculated.

물 접촉각의 변화량 = 제 1 물 접촉각－제 2 물 접촉각 (1)Change in water contact angle = 1st water contact angle - 2nd water contact angle (1)

<제 2 지우개 슬라이딩 시험><Second Eraser Sliding Test>

Minoan 사 제조의 지우개 (Φ6 mm)Eraser made by Minoan (Φ6 mm)

슬라이딩 거리 : 편도 100 mmSliding distance: 100 mm one way

슬라이딩 속도 : 100 mm/초Sliding speed: 100 mm/sec

하중 : 1 kg/6 mmΦLoad: 1 kg/6 mmΦ

슬라이딩 횟수 : 10 회Number of sliding: 10 times

본 발명 [3] 은, 상기 광학 기능층이 반사 방지층인, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함하고 있다.The present invention [3] includes the optical film with an antifouling layer according to the above [1] or [2], wherein the optical function layer is an antireflection layer.

본 발명 [4] 는, 상기 반사 방지층이, 상대적으로 굴절률이 큰 고굴절률층과, 상대적으로 굴절률이 작은 저굴절률층을 교대로 갖는, 상기 [3] 에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함하고 있다.The present invention [4] includes the optical film with an antifouling layer according to [3] above, wherein the antireflection layer alternately includes a high refractive index layer having a relatively large refractive index and a low refractive index layer having a relatively small refractive index, there is.

본 발명 [5] 는, 기재층이, 기재와 하드 코트층을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비하는, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함하고 있다.The present invention [5] includes the optical film with an antifouling layer according to any one of the above [1] to [4], wherein the base material layer includes the base material and the hard coat layer sequentially toward one side in the thickness direction, there is.

본 발명 [6] 은, 상기 하드 코트층이 금속 산화물 미립자를 함유하는, 상기 [5] 에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함하고 있다.This invention [6] includes the optical film with an antifouling layer described in [5] above, in which the hard coat layer contains metal oxide fine particles.

본 발명 [7] 은, 상기 금속 산화물 미립자가 나노실리카 입자인, 상기 [6] 에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함하고 있다.The present invention [7] includes the optical film with an antifouling layer described in [6] above, wherein the metal oxide fine particles are nanosilica particles.

본 발명 [8] 은, 상기 하드 코트층의 두께 방향 일방면의 표면 조도 Ra 가 0.5 nm 이상 20 nm 이하인, 상기 [5] ∼ [7] 중 어느 하나에 기재된 방오층이 형성된 광학 필름을 포함하고 있다.The present invention [8] includes the optical film with an antifouling layer according to any one of [5] to [7] above, wherein the hard coat layer has a surface roughness Ra of one side in the thickness direction of 0.5 nm or more and 20 nm or less, there is.

본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름에 있어서, 방오층의, 표면 조도 Ra 가 10 nm 이하이다. 또, 방오층의 두께 방향 일방면의 물 접촉각이 110°이상이다. 또한, 이 방오층이 형성된 광학 필름에 있어서, 소정의 시험에 의해 구해지는 방오층의 물 접촉각이 83°이상이다. 그 때문에, 방오층에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층의 방오성의 저하를 억제할 수 있다.In the optical film with an antifouling layer of the present invention, the surface roughness Ra of the antifouling layer is 10 nm or less. In addition, the water contact angle of one surface in the thickness direction of the antifouling layer is 110° or more. In addition, in this optical film with an antifouling layer, the water contact angle of the antifouling layer determined by a prescribed test is 83° or more. Therefore, even after the dirt adhering to the antifouling layer is wiped off, the deterioration of the antifouling property of the antifouling layer can be suppressed.

도 1 은, 본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름의 일 실시형태를 나타낸다.
도 2A ∼ 도 2D 는, 본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름의 제조 방법의 일 실시형태를 나타낸다. 도 2A 는, 제 1 공정에 있어서, 기재를 준비하는 공정을 나타낸다. 도 2B 는, 제 1 공정에 있어서, 기재에, 하드 코트층을 배치하는 제 1 공정을 나타낸다. 도 2C 는, 기재층에 밀착층 및 광학 기능층을 순서대로 배치하는 제 2 공정을 나타낸다. 도 2D 는, 광학 기능층에 방오층을 배치하는 제 3 공정을 나타낸다.1 shows an embodiment of an optical film with an antifouling layer of the present invention.
2A to 2D show an embodiment of a method for manufacturing an optical film with an antifouling layer according to the present invention. 2A shows a step of preparing a substrate in the first step. 2B shows a first step of disposing a hard coat layer on a substrate in a first step. 2C shows the second step of sequentially disposing an adhesive layer and an optical function layer on the substrate layer. Fig. 2D shows a third step of disposing an antifouling layer on the optical function layer.

도 1 을 참조하여, 본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름의 일 실시형태를 설명한다.Referring to Fig. 1, an embodiment of an optical film with an antifouling layer according to the present invention will be described.

도 1 에 있어서, 지면 상하 방향은, 상하 방향 (두께 방향) 이다. 또한, 지면 상측이, 상측 (두께 방향 일방측) 이다. 또한, 지면 하측이, 하측 (두께 방향 타방측) 이다. 또, 지면 좌우 방향 및 깊이 방향은, 상하 방향과 직교하는 면방향이다. 구체적으로는, 각 도면의 방향 화살표에 준거한다.In Fig. 1, the vertical direction of the paper is the vertical direction (thickness direction). In addition, the upper side of the paper is the upper side (one side in the thickness direction). In addition, the lower side of the paper is the lower side (the other side in the thickness direction). In addition, the left-right direction and the depth direction of the paper plane are plane directions orthogonal to the up-down direction. Specifically, it is based on the direction arrows in each figure.

<방오층이 형성된 광학 필름><Optical Film with Antifouling Layer>

방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 소정의 두께를 갖는 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 갖는다. 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 두께 방향과 직교하는 면방향으로 연장된다. 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다.The optical film 1 with an antifouling layer has a film shape (including sheet shape) having a predetermined thickness. The optical film 1 with an antifouling layer extends in a surface direction orthogonal to the thickness direction. The optical film 1 with an antifouling layer has a flat upper surface and a flat lower surface.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 기재층 (2) 과, 밀착층 (3) 과, 광학 기능층 (4) 과, 방오층 (5) 을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비한다. 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 보다 구체적으로는, 기재층 (2) 과, 기재층 (2) 의 상면 (두께 방향 일방면) 에 직접 배치되는 밀착층 (3) 과, 밀착층 (3) 의 상면 (두께 방향 일방면) 에 직접 배치되는 광학 기능층 (4) 과, 광학 기능층 (4) 의 상면 (두께 방향 일방면) 에 직접 배치되는 방오층 (5) 을 구비한다.As shown in FIG. 1, the optical film 1 with an antifouling layer has a substrate layer 2, an adhesive layer 3, an optical function layer 4, and an antifouling layer 5 on one side in the thickness direction. Equipped in order towards The optical film 1 with an antifouling layer, more specifically, includes a substrate layer 2, an adhesive layer 3 directly disposed on the upper surface (one surface in the thickness direction) of the substrate layer 2, and an adhesive layer ( 3) The optical function layer 4 directly disposed on the upper surface (thickness direction one side) and the antifouling layer 5 directly disposed on the upper surface (thickness direction one side) of the optical function layer 4 are provided.

방오층이 형성된 광학 필름 (1) 의 두께는, 예를 들어, 300 ㎛ 이하, 바람직하게는 200 ㎛ 이하, 또한 예를 들어, 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 5 ㎛ 이상이다.The thickness of the optical film 1 with the antifouling layer is, for example, 300 μm or less, preferably 200 μm or less, and for example, 1 μm or more, preferably 5 μm or more.

<기재층><base layer>

기재층 (2) 은, 방오층 (5) 에 의해, 방오성이 부여되는 피처리체이다.The substrate layer 2 is a target object to which antifouling properties are imparted by the antifouling layer 5 .

기재층 (2) 의 전광선 투과율 (JIS K 7375-2008) 은, 예를 들어, 80 ％ 이상, 바람직하게는 85 ％ 이상이다.The total light transmittance (JIS K 7375-2008) of the substrate layer 2 is, for example, 80% or more, preferably 85% or more.

기재층 (2) 은, 기재 (10) 와, 하드 코트층 (11) 을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비한다.The substrate layer 2 is sequentially equipped with the substrate 10 and the hard coat layer 11 toward one side in the thickness direction.

<기재><Description>

기재 (10) 는, 필름 형상을 갖는다. 기재 (10) 는, 가요성을 갖는다. 기재 (10) 는, 하드 코트층 (11) 의 하면에 접촉하도록, 하드 코트층 (11) 의 하면 전체면에 배치되어 있다.The substrate 10 has a film shape. The base material 10 has flexibility. The base material 10 is disposed on the entire lower surface of the hard coat layer 11 so as to come into contact with the lower surface of the hard coat layer 11 .

기재 (10) 로는, 예를 들어, 고분자 필름을 들 수 있다.As the base material 10, a polymer film is mentioned, for example.

고분자 필름의 재료로는, 예를 들어, 폴리에스테르 수지, (메트)아크릴 수지, 올레핀 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 멜라민 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 셀룰로오스 수지, 및 폴리스티렌 수지를 들 수 있다. 폴리에스테르 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 및 폴리에틸렌나프탈레이트를 들 수 있다. (메트)아크릴 수지로는, 예를 들어, 폴리메틸메타크릴레이트를 들 수 있다. 올레핀 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 및 시클로올레핀 폴리머를 들 수 있다. 셀룰로오스 수지로는, 예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스를 들 수 있다.Examples of the material for the polymer film include polyester resins, (meth)acrylic resins, olefin resins, polycarbonate resins, polyethersulfone resins, polyarylate resins, melamine resins, polyamide resins, polyimide resins, and cellulose resins, and polystyrene resins. Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. As a (meth)acrylic resin, polymethyl methacrylate is mentioned, for example. As an olefin resin, polyethylene, a polypropylene, and a cycloolefin polymer are mentioned, for example. As a cellulose resin, triacetyl cellulose is mentioned, for example.

고분자 필름의 재료로는, 바람직하게는 셀룰로오스 수지, 보다 바람직하게는 트리아세틸셀룰로오스를 들 수 있다.The material of the polymer film is preferably a cellulose resin, more preferably a triacetyl cellulose.

기재 (10) 의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 5 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 또, 예를 들어, 200 ㎛ 이하, 바람직하게는 150 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 100 ㎛ 이하이다.The thickness of the substrate 10 is, for example, 1 μm or more, preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, and, for example, 200 μm or less, preferably 150 μm or less, more preferably It is preferably 100 μm or less.

기재 (10) 의 두께는, 다이얼 게이지 (PEACOCK 사 제조,「DG-205」) 를 사용하여 측정할 수 있다.The thickness of the substrate 10 can be measured using a dial gauge ("DG-205" manufactured by PEACOCK).

<하드 코트층><Hard coat layer>

하드 코트층 (11) 은, 기재 (10) 에 흠집이 발생하는 것을 억제하기 위한 보호층이다. 또, 하드 코트층 (11) 은, 목적 및 용도에 따라, 기재 (10) 에 방현성을 부여할 수 있는 층이다.The hard coat layer 11 is a protective layer for suppressing scratches on the substrate 10 . In addition, the hard coat layer 11 is a layer capable of imparting anti-glare properties to the substrate 10 depending on the purpose and application.

하드 코트층 (11) 은, 예를 들어, 하드 코트 조성물로 형성된다.The hard coat layer 11 is formed of a hard coat composition, for example.

하드 코트 조성물은, 수지 및 입자를 함유한다. 즉, 하드 코트층 (11) 은, 수지 및 입자를 함유한다.A hard-coat composition contains resin and particle|grains. That is, the hard coat layer 11 contains resin and particles.

수지로는, 예를 들어, 열가소성 수지 및 경화성 수지를 들 수 있다. 열가소성 수지로는, 예를 들어, 폴리올레핀 수지를 들 수 있다.As resin, a thermoplastic resin and curable resin are mentioned, for example. As a thermoplastic resin, polyolefin resin is mentioned, for example.

경화성 수지로는, 예를 들어, 활성 에너지선 (예를 들어, 자외선 및 전자선) 의 조사에 의해 경화되는 활성 에너지선 경화성 수지, 및 가열에 의해 경화되는 열경화성 수지를 들 수 있다. 경화성 수지로는, 바람직하게는 활성 에너지선 경화성 수지를 들 수 있다.Examples of the curable resin include active energy ray-curable resins cured by irradiation with active energy rays (for example, ultraviolet rays and electron beams), and thermosetting resins cured by heating. As curable resin, Active energy ray-curable resin is mentioned preferably.

활성 에너지선 경화성 수지로는, 예를 들어, (메트)아크릴계 자외선 경화성 수지, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 실록산계 폴리머, 및 유기 실란 축합물을 들 수 있다. 활성 에너지선 경화성 수지로는, 바람직하게는 (메트)아크릴계 자외선 경화성 수지를 들 수 있다.Examples of the active energy ray-curable resin include (meth)acrylic ultraviolet curable resins, urethane resins, melamine resins, alkyd resins, siloxane polymers, and organosilane condensates. As active energy ray-curable resin, (meth)acrylic-type ultraviolet curable resin is mentioned preferably.

또, 수지는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2008-88309호에 기재된 반응성 희석제를 함유할 수 있다. 구체적으로는, 수지는, 다관능 (메트)아크릴레이트를 함유할 수 있다.Moreover, resin can contain the reactive diluent of Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-88309, for example. Specifically, the resin may contain polyfunctional (meth)acrylate.

입자로는, 예를 들어, 금속 산화물 미립자 및 유기계 미립자를 들 수 있다. 금속 산화물 미립자의 재료로는, 예를 들어, 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화칼슘, 산화주석, 산화인듐, 산화카드뮴, 및 산화안티몬을 들 수 있다. 금속 산화물 미립자의 재료로서, 바람직하게는 실리카를 들 수 있다. 즉, 금속 산화물 미립자로서 바람직하게는, 실리카 입자, 보다 바람직하게는, 후술하는 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를, 후술하는 소정의 범위로 조정하는 관점에서 나노실리카 입자를 들 수 있다. 유기계 미립자의 재료로는, 폴리메틸메타크릴레이트, 실리콘, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 아크릴-스티렌 공중합체, 벤조구아나민, 멜라민, 및 폴리카보네이트를 들 수 있다. 유기계 미립자의 재료로는, 바람직하게는 실리콘 및 폴리메틸메타크릴레이트를 들 수 있다. 입자로는, 후술하는 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를, 후술하는 소정의 범위로 조정하는 관점에서, 바람직하게는 금속 산화물 미립자를 들 수 있다.Examples of the particles include metal oxide fine particles and organic fine particles. Examples of the material of the metal oxide fine particles include silica, alumina, titania, zirconia, calcium oxide, tin oxide, indium oxide, cadmium oxide, and antimony oxide. As the material of the metal oxide fine particles, silica is preferably used. That is, the metal oxide fine particles are preferably silica particles, and more preferably nanosilica particles from the viewpoint of adjusting the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 described later to a predetermined range described later. Examples of materials for the organic fine particles include polymethyl methacrylate, silicone, polystyrene, polyurethane, acrylic-styrene copolymer, benzoguanamine, melamine, and polycarbonate. As the material of the organic fine particles, preferably, silicone and polymethyl methacrylate are used. As the particles, from the viewpoint of adjusting the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 described later to a predetermined range described later, metal oxide fine particles are preferably used.

입자는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.Particles can be used alone or in combination of two or more.

그리고, 입자의 배합 비율 및/또는 입자의 평균 입자경을 소정의 비율로 조정함으로써, 후술하는 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를, 후술하는 소정의 범위로 조정할 수 있다.Then, by adjusting the mixing ratio of the particles and/or the average particle diameter of the particles to a predetermined ratio, the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 described later can be adjusted to a predetermined range described later.

구체적으로는, 입자의 배합 비율은, 수지 100 질량부에 대하여, 예를 들어, 1 질량부 이상, 바람직하게는 3 질량부 이상, 또, 예를 들어, 30 질량부 이상, 또, 예를 들어, 20 질량부 이하이다.Specifically, the mixing ratio of the particles is, for example, 1 part by mass or more, preferably 3 parts by mass or more, for example, 30 parts by mass or more, for example, with respect to 100 parts by mass of the resin. , 20 parts by mass or less.

입자의 배합 비율이 상기 상한 이하이면, 후술하는 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를, 후술하는 소정의 범위로 조정할 수 있다.If the mixing ratio of the particles is equal to or less than the above upper limit, the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 described later can be adjusted within a predetermined range described later.

입자의 평균 입자경은, 예를 들어, 10 ㎛ 이하, 바람직하게는 8 ㎛ 이하, 또, 예를 들어, 1 ㎚ 이상이다. 입자로서 나노 입자를 사용하는 경우, 입자의 평균 입자경은, 예를 들어, 100 ㎚ 이하, 바람직하게는 70 ㎚ 이하, 또, 예를 들어, 1 ㎚ 이상이다. 입자의 평균 입자경은, 예를 들어, 레이저 산란법에 있어서의 입도 분포 측정법에 의해 구해진 입도 분포에 기초하여, D50 값 (누적 50 ％ 메디안 직경) 으로서 구해진다.The average particle size of the particles is, for example, 10 μm or less, preferably 8 μm or less, and, for example, 1 nm or more. When nanoparticles are used as the particles, the average particle diameter of the particles is, for example, 100 nm or less, preferably 70 nm or less, and, for example, 1 nm or more. The average particle diameter of the particles is obtained as a D50 value (cumulative 50% median diameter) based on a particle size distribution obtained by, for example, a particle size distribution measurement method in a laser scattering method.

입자의 평균 입자경이 상기 범위 내이면, 후술하는 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를, 후술하는 소정의 범위로 조정할 수 있다.When the average particle diameter of the particles is within the above range, the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 described later can be adjusted to a predetermined range described later.

또, 하드 코트 조성물에는, 필요에 따라 틱소트로피 부여제, 광중합 개시제, 충전제 (예를 들어, 유기 점토), 및 레벨링제를 적절한 비율로 배합할 수 있다. 또, 하드 코트 조성물은, 공지된 용제로 희석할 수 있다.In addition, a thixotropy imparting agent, a photopolymerization initiator, a filler (eg, organic clay), and a leveling agent can be blended in an appropriate ratio to the hard coat composition, if necessary. Moreover, a hard-coat composition can be diluted with a well-known solvent.

또, 하드 코트층 (11) 을 형성하기 위해서는, 상세하게는 후술하지만, 하드 코트 조성물의 희석액을 기재 (10) 의 두께 방향 일방면에 도포하고, 건조시킨다. 건조 후, 예를 들어, 활성 에너지선 조사에 의해 하드 코트 조성물을 경화시킨다.Moreover, in order to form the hard-coat layer 11, although it mentions in detail later, a dilution liquid of a hard-coat composition is apply|coated to one side of the thickness direction of the base material 10, and it is made to dry. After drying, the hard coat composition is cured by, for example, active energy ray irradiation.

이로써, 하드 코트층 (11) 을 형성한다.In this way, the hard coat layer 11 is formed.

하드 코트층 (11) 의 표면 조도 Ra (상세하게는, 하드 코트층 (11) 의 두께 방향 일방면의 표면 조도 Ra) 는, 예를 들어 0.5 nm 이상, 또한, 예를 들어 20 nm 이하이다.The surface roughness Ra of the hard coat layer 11 (specifically, the surface roughness Ra of one side of the hard coat layer 11 in the thickness direction) is, for example, 0.5 nm or more and, for example, 20 nm or less.

하드 코트층 (11) 의 표면 조도 Ra 가 상기한 범위 내이면, 후술하는 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를, 후술하는 소정의 범위로 조정할 수 있다.As long as the surface roughness Ra of the hard coat layer 11 is within the above range, the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 described later can be adjusted to a predetermined range described later.

또한, 표면 조도 Ra 는, 예를 들어, AFM (원자간력 현미경) 에 의한 사방 1 ㎛ 의 관찰 이미지로부터 구해진다 (이하 동일).In addition, surface roughness Ra is calculated|required from the observation image of 1 micrometer square by AFM (atomic force microscope), for example (the same below).

하드 코트층 (11) 의 두께는, 내찰상성의 관점에서, 예를 들어, 0.1 ㎛ 이상, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 3 ㎛ 이상, 또, 예를 들어, 50 ㎛ 이하이다. 하드 코트층 (11) 의 두께는, 예를 들어, 투과형 전자 현미경을 사용하여, 단면 관찰에 의해 측정할 수 있다.The thickness of the hard coat layer 11 is, for example, 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, more preferably 3 μm or more, and, for example, 50 μm or less, from the viewpoint of scratch resistance. The thickness of the hard coat layer 11 can be measured by cross-sectional observation using a transmission electron microscope, for example.

<밀착층><adhesion layer>

밀착층 (3) 은, 기재층 (2) 과 광학 기능층 (4) 사이의 밀착력을 확보하기 위한 층이다.The adhesive layer 3 is a layer for securing the adhesive force between the substrate layer 2 and the optical function layer 4 .

밀착층 (3) 은, 필름 형상을 갖는다. 밀착층 (3) 은, 기재층 (2) (하드 코트층 (11)) 의 상면 전체면에, 기재층 (2)(하드 코트층 (11)) 의 상면에 접촉하도록 배치되어 있다.The adhesive layer 3 has a film shape. The adhesive layer 3 is arranged so as to contact the upper surface of the base material layer 2 (hard coat layer 11) over the entire upper surface of the base material layer 2 (hard coat layer 11).

밀착층 (3) 의 재료로는, 예를 들어, 금속을 들 수 있다. 금속으로는, 예를 들어, 실리콘, 인듐, 니켈, 크롬, 알루미늄, 주석, 금, 은, 백금, 아연, 티타늄, 텅스텐, 지르코늄 및 팔라듐을 들 수 있다. 또한, 밀착층 (3) 의 재료로는, 상기 금속의 2 종류 이상의 합금, 및 상기 금속의 산화물도 들 수 있다.As a material of the adhesive layer 3, metal is mentioned, for example. Examples of the metal include silicon, indium, nickel, chromium, aluminum, tin, gold, silver, platinum, zinc, titanium, tungsten, zirconium and palladium. Moreover, as a material of the adhesive layer 3, alloys of two or more types of the said metals, and oxides of the said metals are also mentioned.

밀착층 (3) 의 재료로서, 밀착성 및 투명성의 관점에서, 바람직하게는 산화 실리콘 (SiOx), 및 인듐주석 산화물 (ITO) 을 들 수 있다. 밀착층 (3) 의 재료로서 산화 실리콘이 사용되는 경우, 바람직하게는, 화학양론 조성보다 산소량이 적은 SiOx 가 사용되고, 보다 바람직하게는, x 가 1.2 이상 1.9 이하의 SiOx 가 사용된다.As the material of the adhesive layer 3, from the viewpoint of adhesion and transparency, preferably, silicon oxide (SiOx) and indium tin oxide (ITO) are used. When silicon oxide is used as the material of the adhesive layer 3, SiOx having a smaller oxygen content than the stoichiometric composition is preferably used, and more preferably SiOx having an x of 1.2 or more and 1.9 or less is used.

밀착층 (3) 의 두께는, 기재층 (2) 과 광학 기능층 (4) 사이의 밀착력의 확보, 및 밀착층 (3) 의 투명성의 양립의 관점에서, 예를 들어, 1 nm 이상, 또한, 예를 들어, 10 nm 이하이다.The thickness of the adhesive layer 3 is, for example, 1 nm or more, from the viewpoint of ensuring the adhesive force between the base material layer 2 and the optical function layer 4 and coexistence of the transparency of the adhesive layer 3. , eg less than 10 nm.

<광학 기능층><Optical functional layer>

일 실시형태에서는, 광학 기능층 (4) 은, 외광의 반사 강도를 억제하기 위한 반사 방지층이다. 즉, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 방오층이 형성된 반사 방지 필름이다.In one embodiment, the optical function layer 4 is an antireflection layer for suppressing the reflected intensity of external light. That is, the optical film 1 with an antifouling layer is an antireflection film with an antifouling layer.

광학 기능층 (4) (반사 방지층) 은, 무기층으로 이루어지고, 상대적으로 굴절률이 큰 고굴절률층과, 상대적으로 굴절률이 작은 저굴절률층을, 두께 방향으로 교대로 갖는다. 반사 방지층에서는, 거기에 포함되는 복수의 박층 (고굴절률층, 저굴절률층) 에 있어서의 복수의 계면에서의 반사광 간의 간섭 작용에 의해, 정미 (正味) 의 반사광 강도가 감쇠된다. 또한, 반사 방지층에서는, 각 박층의 광학 막두께 (굴절률과 두께의 곱) 의 조정에 의해, 반사광 강도를 감쇠시키는 간섭 작용을 발현시킬 수 있다. 이러한 반사 방지층으로서의 광학 기능층 (4) 은, 본 실시형태에 있어서 구체적으로는, 제 1 고굴절률층 (21) 과, 제 1 저굴절률층 (22) 과, 제 2 고굴절률층 (23) 과, 제 2 저굴절률층 (24) 을, 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비한다.The optical function layer 4 (antireflection layer) is made of an inorganic layer and has a high refractive index layer having a relatively large refractive index and a low refractive index layer having a relatively small refractive index alternately in the thickness direction. In the antireflection layer, the net intensity of the reflected light is attenuated by an interference action between reflected light at a plurality of interfaces in a plurality of thin layers (high refractive index layer and low refractive index layer) included therein. Further, in the antireflection layer, an interference effect of attenuating the reflected light intensity can be developed by adjusting the optical film thickness (product of refractive index and thickness) of each thin layer. In this embodiment, the optical function layer 4 as an antireflection layer specifically includes the first high refractive index layer 21, the first low refractive index layer 22, and the second high refractive index layer 23 , the second low refractive index layer 24 is sequentially provided toward one side in the thickness direction.

제 1 고굴절률층 (21) 및 제 2 고굴절률층 (23) 은, 각각, 파장 550 nm 에 있어서의 굴절률이 바람직하게는 1.9 이상의 고굴절률 재료로 이루어진다. 고굴절률과 가시광의 저흡수성의 양립의 관점에서, 고굴절률 재료로는, 예를 들어, 산화니오브 (Nb2O5), 산화티탄, 산화지르코늄, 주석 도프 산화인듐 (ITO), 및 안티몬 도프 산화주석 (ATO) 을 들 수 있고, 바람직하게는 산화니오브를 들 수 있다. 즉, 바람직하게는, 제 1 저굴절률층 (22) 의 재료 및 제 2 저굴절률층 (24) 의 재료가 모두 산화니오브이다.The first high refractive index layer 21 and the second high refractive index layer 23 are each made of a high refractive index material having a refractive index of preferably 1.9 or more at a wavelength of 550 nm. From the viewpoint of coexistence of high refractive index and low absorption of visible light, examples of the high refractive index material include niobium oxide (Nb 2 O 5 ), titanium oxide, zirconium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped oxide. Tin (ATO) is mentioned, Preferably niobium oxide is mentioned. That is, preferably, both the material of the first low refractive index layer 22 and the material of the second low refractive index layer 24 are niobium oxide.

제 1 고굴절률층 (21) 의 광학 막두께 (굴절률과 두께의 곱) 는, 예를 들어 20 nm 이상, 또한, 예를 들어 55 nm 이하이다. 제 2 고굴절률층 (23) 의 광학 막두께는, 예를 들어 60 nm 이상, 또한, 예를 들어 330 nm 이하이다.The optical film thickness (product of the refractive index and the thickness) of the first high refractive index layer 21 is, for example, 20 nm or more and, for example, 55 nm or less. The optical film thickness of the second high refractive index layer 23 is, for example, 60 nm or more and, for example, 330 nm or less.

제 1 저굴절률층 (22) 및 제 2 저굴절률층 (24) 은, 각각, 파장 550 nm 에 있어서의 굴절률이 바람직하게는 1.6 이하의 저굴절률 재료로 이루어진다. 저굴절률과 가시광의 저흡수성의 양립의 관점에서, 저굴절률 재료로는, 예를 들어, 이산화규소 (SiO2) 및 불화마그네슘, 바람직하게는 이산화규소를 들 수 있다. 즉, 바람직하게는, 제 1 저굴절률층 (22) 의 재료 및 제 2 저굴절률층 (24) 의 재료가 모두 이산화규소이다.The first low refractive index layer 22 and the second low refractive index layer 24 are each made of a low refractive index material having a refractive index of preferably 1.6 or less at a wavelength of 550 nm. From the viewpoint of both low refractive index and low absorption of visible light, low refractive index materials include, for example, silicon dioxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride, preferably silicon dioxide. That is, preferably, both the material of the first low refractive index layer 22 and the material of the second low refractive index layer 24 are silicon dioxide.

특히, 제 2 저굴절률층 (24) 의 재료가 이산화규소이면, 제 2 저굴절률층 (24) 과 방오층 (5) 사이의 밀착성이 우수하다.In particular, when the material of the second low refractive index layer 24 is silicon dioxide, the adhesion between the second low refractive index layer 24 and the antifouling layer 5 is excellent.

제 1 저굴절률층 (22) 의 광학 막두께는, 예를 들어 15 nm 이상, 또한, 예를 들어 70 nm 이하이다. 제 2 저굴절률층 (24) 의 광학 막두께는, 예를 들어 100 nm 이상, 또한, 예를 들어 160 nm 이하이다.The optical film thickness of the first low refractive index layer 22 is, for example, 15 nm or more and, for example, 70 nm or less. The optical film thickness of the second low refractive index layer 24 is, for example, 100 nm or more and, for example, 160 nm or less.

또한, 광학 기능층 (4) 에 있어서, 제 1 고굴절률층 (21) 의 두께는, 예를 들어 1 nm 이상, 바람직하게는 5 nm 이상, 또한, 예를 들어 30 nm 이하, 바람직하게는 20 nm 이하이다. 제 1 저굴절률층 (22) 의 두께는, 예를 들어 10 nm 이상, 바람직하게는 20 nm 이상, 또한, 예를 들어 50 nm 이하, 바람직하게는 30 nm 이하이다. 제 2 고굴절률층 (23) 의 두께는, 예를 들어 50 nm 이상, 바람직하게는 80 nm 이상, 또한, 예를 들어 200 nm 이하, 바람직하게는 150 nm 이하이다. 제 2 저굴절률층 (24) 의 두께는, 예를 들어 60 nm 이상, 바람직하게는 80 nm 이상, 또한, 예를 들어 150 nm 이하, 바람직하게는 100 nm 이하이다.In addition, in the optical function layer 4, the thickness of the first high refractive index layer 21 is, for example, 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and, for example, 30 nm or less, preferably 20 nm or less. less than nm. The thickness of the first low refractive index layer 22 is, for example, 10 nm or more, preferably 20 nm or more, and, for example, 50 nm or less, preferably 30 nm or less. The thickness of the second high refractive index layer 23 is, for example, 50 nm or more, preferably 80 nm or more, and, for example, 200 nm or less, preferably 150 nm or less. The thickness of the second low refractive index layer 24 is, for example, 60 nm or more, preferably 80 nm or more, and, for example, 150 nm or less, preferably 100 nm or less.

<방오층><Antifouling layer>

방오층 (5) 은, 기재층 (2) 의 두께 방향 일방측에 대해, 오염 (예를 들어, 때 및 지문) 의 부착을 방지하기 위한 층이다.The antifouling layer 5 is a layer for preventing adhesion of stains (eg, dirt and fingerprints) to one side of the substrate layer 2 in the thickness direction.

방오층 (5) 은, 필름 형상을 갖는다. 방오층 (5) 은, 광학 기능층 (4) 의 상면 전체면에, 광학 기능층 (4) 의 상면에 접촉하도록 배치되어 있다.The antifouling layer 5 has a film shape. The antifouling layer 5 is disposed so as to contact the upper surface of the optical function layer 4 on the entire upper surface of the optical function layer 4 .

방오층 (5) 을 형성하는 재료로는, 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물을 들 수 있다. 바꾸어 말하면, 방오층 (5) 은, 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물을 함유한다. 방오층 (5) 은, 바람직하게는 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물로 이루어진다.As a material forming the antifouling layer 5, an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group is exemplified. In other words, the antifouling layer 5 contains an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group. The antifouling layer 5 is preferably made of an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group.

방오층 (5) 이 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물을 함유하면, 방오층 (5) 의 방오성이 향상된다.When the antifouling layer 5 contains an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group, the antifouling property of the antifouling layer 5 is improved.

퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물로는, 예를 들어, 하기 일반식 (1) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As an alkoxysilane compound which has a perfluoropolyether group, the compound represented by the following general formula (1) is mentioned, for example.

R1-R2-X-(CH2)l-Si(OR3)3 (1)R 1 -R 2 -X-(CH 2 ) l -Si(OR 3 ) 3 (1)

(상기 식 (1) 에 있어서, R1 은, 1 개 이상의 수소 원자가 불소 원자에 의해 치환된 불화알킬기를 나타낸다. R2 는, 퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조를 적어도 1 개 포함하는 구조를 나타낸다. R3 은, 탄소수 1 이상 4 이하 알킬기를 나타낸다. l 은, 1 이상의 정수를 나타낸다.)(In the above formula (1), R 1 represents a fluoroalkyl group in which one or more hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms. R 2 is a structure containing at least one repeating structure of a perfluoropolyether group R 3 represents an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. l represents an integer of 1 or more.)

R1 은, 1 개 이상의 수소가 불소 원자에 의해 치환된, 직사슬형 또는 분기형의 불화알킬기 (탄소수 1 이상 20 이하) 를 나타낸다. R1 은, 바람직하게는 알킬기의 수소 원자의 모두를 불소 원자로 치환한 퍼플루오로알킬기를 나타낸다.R 1 represents a linear or branched fluoroalkyl group (having 1 or more and 20 or less carbon atoms) in which one or more hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms. R 1 preferably represents a perfluoroalkyl group in which all hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms.

R2 는, 퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조를 적어도 1 개 포함하는 구조를 나타낸다. R2 는, 바람직하게는 퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조를 2 개 포함하는 구조를 나타낸다.R 2 represents a structure containing at least one repeating structure of a perfluoropolyether group. R 2 preferably represents a structure containing two repeating structures of perfluoropolyether groups.

퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조로는, 예를 들어, 직사슬형의 퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조, 및 분기형의 퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조를 들 수 있다. 직사슬형의 퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조로는, 예를 들어 -(OCnF2n)m- (m 은 1 이상 50 이하의 정수를 나타낸다. n 은, 1 이상 20 이하의 정수를 나타낸다. 이하 동일.) 을 들 수 있다. 분기형의 퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조로는, 예를 들어, -(OC(CF3)2)m-, 및 -(OCF2CF(CF3)CF2)m- 을 들 수 있다.Examples of the repeating structure of the perfluoropolyether group include a repeating structure of a linear perfluoropolyether group and a repeating structure of a branched perfluoropolyether group. As a repeating structure of a linear perfluoropolyether group, for example -(OC n F 2n ) m - (m represents an integer of 1 or more and 50 or less. n represents an integer of 1 or more and 20 or less. The same applies below). Examples of the repeating structure of the branched perfluoropolyether group include -(OC(CF 3 ) 2 ) m -, and -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 ) m -. .

퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조로는, 바람직하게는 직사슬형의 퍼플루오로폴리에테르기의 반복 구조, 보다 바람직하게는 -(OCF2)m-, 및 -(OC2F4)m- 을 들 수 있다.The repeating structure of the perfluoropolyether group is preferably a repeating structure of a linear perfluoropolyether group, more preferably -(OCF 2 ) m -, and -(OC 2 F 4 ) m - can be heard.

R3 은, 탄소수 1 이상 4 이하 알킬기를 나타낸다. R3 은, 바람직하게는 메틸기를 나타낸다.R 3 represents an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms. R 3 preferably represents a methyl group.

X 는, 에테르기, 카르보닐기, 아미노기, 또는 아미드기를 나타내고, 바람직하게는 에테르기를 나타낸다.X represents an ether group, a carbonyl group, an amino group or an amide group, and preferably represents an ether group.

l 은, 1 이상, 또한 20 이하, 바람직하게는 10 이하, 보다 바람직하게는 5 이하의 정수를 나타낸다. l 은, 더욱 바람직하게는 3 을 나타낸다.l represents an integer of 1 or more and 20 or less, preferably 10 or less, and more preferably 5 or less. l represents 3 more preferably.

이와 같은 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물 중, 바람직하게는, 하기 일반식 (2) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.Among the alkoxysilane compounds having such a perfluoropolyether group, compounds represented by the following general formula (2) are preferably used.

CF3-(OCF2)P-(OC2F4)Q-O-(CH2)3-Si(OCH3)3 (2)CF 3 -(OCF 2 ) P -(OC 2 F 4 ) Q -O-(CH 2 ) 3 -Si(OCH 3 ) 3 (2)

(상기 식 (2) 에 있어서, P 는, 1 이상 50 이하의 정수를 나타낸다. Q 는, 1 이상 50 이하의 정수를 나타낸다.)(In the above formula (2), P represents an integer of 1 or more and 50 or less. Q represents an integer of 1 or more and 50 or less.)

퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물은, 시판품을 사용할 수도 있다. 시판품으로서 구체적으로는, 옵툴 UD509 (상기 일반식 (2) 로 나타내는 퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물, 다이킨 공업사 제조), 옵툴 UD120 (퍼플루오로폴리에테르기 함유의 알콕시실란 화합물) 를 들 수 있다.A commercial item can also be used for the alkoxysilane compound which has a perfluoropolyether group. Specifically, as a commercial item, Optool UD509 (an alkoxysilane compound having a perfluoropolyether group represented by the above general formula (2), manufactured by Daikin Industry Co., Ltd.), Optool UD120 (an alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether group) can be heard

또, 방오층 (5) 을 형성하는 재료를 변경함으로써, 후술하는 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를, 후술하는 소정의 범위로 조정할 수 있다.In addition, by changing the material forming the antifouling layer 5, the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 described later can be adjusted within a predetermined range described later.

퍼플루오로폴리에테르기를 갖는 알콕시실란 화합물은, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.The alkoxysilane compound which has a perfluoropolyether group can be used individually or in combination of 2 or more types.

방오층 (5) 은, 후술하는 방법에 의해 형성된다.The antifouling layer 5 is formed by a method described later.

방오층 (5) 의 두께는, 예를 들어 1 nm 이상, 바람직하게는 5 nm 이상, 또, 예를 들어 30 nm 이하, 바람직하게는 20 nm 이하, 보다 바람직하게는 15 nm 이하이다.The antifouling layer 5 has a thickness of, for example, 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and, for example, 30 nm or less, preferably 20 nm or less, and more preferably 15 nm or less.

방오층 (5) 의 두께가 상기 하한 이상이면, 방오층 (5) 의 방오성을 향상시킬 수 있다.When the thickness of the antifouling layer 5 is equal to or greater than the lower limit, the antifouling property of the antifouling layer 5 can be improved.

방오층 (5) 의 두께가 상기 상한 이하이면, 방오층 (5) 을 제조할 때에, 불균일을 억제할 수 있다. 그 결과, 방오층 (5) 의 의장성이 향상된다.When manufacturing the antifouling layer 5 as the thickness of the antifouling layer 5 is below the said upper limit, a nonuniformity can be suppressed. As a result, the designability of the antifouling layer 5 is improved.

또한, 방오층 (5) 의 두께는, 형광 X 선 (리가쿠 제조 ZXS PrimusII) 으로 측정할 수 있다.In addition, the thickness of the antifouling layer 5 can be measured by fluorescent X-ray (ZXS Primus II manufactured by Rigaku).

또한, 방오층 (5) 의 물 접촉각 (후술하는 제 1 물 접촉각과 동일한 의미) 은, 110°이상, 바람직하게는 114°이상, 보다 바람직하게는 117°이상, 더욱 바람직하게는 119°이상, 또한, 예를 들어 130°이하이다.The water contact angle of the antifouling layer 5 (meaning the same as the first water contact angle described later) is 110° or more, preferably 114° or more, more preferably 117° or more, still more preferably 119° or more, Moreover, it is 130 degrees or less, for example.

방오층 (5) 의 물 접촉각이 상기 하한 이상이면, 방오층 (5) 의 방오성을 향상시킬 수 있다.The antifouling property of the antifouling layer 5 can be improved as the water contact angle of the antifouling layer 5 is more than the said lower limit.

또한, 방오층 (5) 의 물 접촉각의 측정 방법에 대해서는, 후술하는 실시예에서 상세하게 설명한다.A method for measuring the water contact angle of the antifouling layer 5 will be described in detail in Examples to be described later.

그리고, 이와 같은 방오층 (5) 에 있어서, 표면 조도 Ra, 및 제 1 내구성 시험에 의해 구해지는 물 접촉각 (슬라이딩 후의 물 접촉각이라고 부르는 경우가 있다) 이 소정의 범위이다.And, in such an antifouling layer 5, the surface roughness Ra and the water contact angle (sometimes referred to as the water contact angle after sliding) determined by the first durability test are within a predetermined range.

구체적으로는, 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 는, 10 nm 이하, 바람직하게는 7 nm 이하, 보다 바람직하게는 5 nm 이하이다.Specifically, the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 is 10 nm or less, preferably 7 nm or less, and more preferably 5 nm or less.

방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를, 상기 소정의 범위로 조정하기 위해서는, 예를 들어, 하드 코트층 (11) (하드 코트 조성물) 에 있어서의, 입자의 종류 및/또는 입자의 배합 비율 및/또는 입자의 평균 입자경을 소정의 비율로 조정하거나, 및/또는, 하드 코트층 (11) 의 표면 조도 Ra 를 조정하거나, 및/또는, 방오층 (5) 을 형성하는 재료를 소정의 재료로 변경하거나, 및/또는, 광학 기능층 (4) 에 방오층 (5) 을 배치하는 방법을, 소정의 방법으로 변경한다.In order to adjust the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 to the predetermined range, for example, the type of particles and/or the mixing ratio of particles in the hard coat layer 11 (hard coat composition); / or the average particle size of the particles is adjusted in a predetermined ratio, and / or the surface roughness Ra of the hard coat layer 11 is adjusted, and / or the material forming the antifouling layer 5 is made of a predetermined material and/or the method of arranging the antifouling layer 5 on the optical function layer 4 is changed to a predetermined method.

또, 방오층 (5) 의 슬라이딩 후의 물 접촉각은, 83°이상, 바람직하게는 90°이상, 보다 바람직하게는 95°이상, 더욱 바람직하게는 100°이상이다.The water contact angle after sliding of the antifouling layer 5 is 83° or more, preferably 90° or more, more preferably 95° or more, still more preferably 100° or more.

슬라이딩 후의 물 접촉각은, 제 1 내구성 시험에 의해 구해진다. 제 1 내구성 시험에서는, 방오층 (5) 에 대해, 소정의 조건에 기초하여, 제 1 지우개 슬라이딩 시험을 실시한다. 제 1 지우개 슬라이딩 시험을 실시한 후, 방오층 (5) 의 순수에 대한 슬라이딩 후의 물 접촉각을 측정한다. 또한, 제 1 내구성 시험에 대해서는, 보다 상세하게는, 후술하는 실시예에서 설명한다.The water contact angle after sliding is obtained by the first durability test. In the first durability test, the antifouling layer 5 is subjected to a first eraser sliding test based on predetermined conditions. After carrying out the first eraser sliding test, the water contact angle after sliding of the antifouling layer 5 with respect to pure water is measured. In addition, the first durability test will be described in more detail in Examples to be described later.

표면 조도 Ra 및 슬라이딩 후의 물 접촉각이 상기한 소정의 범위이면, 방오층 (5) 에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층 (5) 의 방오성의 저하를 억제할 수 있다 (방오 내구성이 우수하다).If the surface roughness Ra and the water contact angle after sliding are within the above-described predetermined ranges, the deterioration of the antifouling properties of the antifouling layer 5 can be suppressed even after the dirt adhering to the antifouling layer 5 is wiped off (the antifouling durability is excellent). ).

한편, 방오층 (5) 에 오염이 부착된 경우에는, 그 오염을 닦아내는 경우가 있다. 그 때문에, 방오층 (5) 에는, 닦기 (슬라이딩) 에 대한 내구성이 요구된다. 구체적으로는, 수십 회 정도의 닦기 (슬라이딩) 에 대해, 방오성의 저하를 억제할 수 있는 품질, 및 수천 회 정도의 닦기 (슬라이딩) 에 대해, 실용 레벨의 방오성을 유지할 수 있는 실용성이 요구된다.On the other hand, when dirt adheres to the antifouling layer 5, the dirt may be wiped off. Therefore, the antifouling layer 5 is required to have durability against wiping (sliding). Specifically, a quality capable of suppressing deterioration in antifouling properties for tens of wipes (sliding), and practicality capable of maintaining a practical level of antifouling properties for thousands of wipes (sliding) are required.

상기와 같이, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 에서는, 표면 조도 Ra 및 슬라이딩 후의 물 접촉각이 상기한 소정의 범위이면, 방오층 (5) 에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층 (5) 의 방오성의 저하를 억제할 수 있다. 상세하게는, 상기 품질의 유지 및 상기 실용성을 도모할 수 있다.As described above, in the optical film 1 provided with the antifouling layer, as long as the surface roughness Ra and the water contact angle after sliding are within the above-described predetermined range, the antifouling layer 5 of antifouling properties can be suppressed. In detail, the maintenance of the said quality and the said practicality can be aimed at.

또한, 상기 품질의 정도는, 후술하는 제 2 내구성 시험에 의해 조사할 수 있다. 또한, 상기의 실용성의 정도는, 후술하는 제 1 내구성 시험에 의해 조사할 수 있다.In addition, the degree of the quality can be investigated by a second durability test described later. In addition, the degree of practicality described above can be investigated by a first durability test described later.

특히, 표면 조도 Ra 를 상기한 소정의 범위로 함으로써, 방오층 (5) 의 품질을 유지할 수 있다.In particular, the quality of the antifouling layer 5 can be maintained by setting the surface roughness Ra within the above-described predetermined range.

상세하게는, 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 가 높아지면, 방오층 (5) 의 표면에 요철이 증가하기 때문에, 슬라이딩의 영향을 받기 쉬워져, 슬라이딩에 의한 물 접촉각의 저하량이 커지는 경향이 있다.In detail, when the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 increases, irregularities increase on the surface of the antifouling layer 5, so it is easily affected by sliding, and the amount of decrease in the water contact angle due to sliding tends to increase. there is.

즉, 이러한 방오층 (5) 은, 품질을 유지할 수 없다.That is, the quality of such an antifouling layer 5 cannot be maintained.

한편, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 에서는, 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 가 상기 상한 이하이기 때문에, 방오층 (5) 의 표면에 요철이 적어진다. 그 때문에, 슬라이딩에 의한 물 접촉각의 저하량을 억제할 수 있다. 그 결과, 방오층 (5) 에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층 (5) 의 방오성의 저하를 억제할 수 있다 (방오 내구성이 우수하다). 이로써, 방오층 (5) 은, 품질을 유지할 수 있다.On the other hand, in the optical film 1 with an antifouling layer, since the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 is equal to or less than the above upper limit, the surface of the antifouling layer 5 has fewer irregularities. Therefore, the amount of decrease in the water contact angle due to sliding can be suppressed. As a result, even after the dirt adhering to the antifouling layer 5 is wiped off, the deterioration of the antifouling property of the antifouling layer 5 can be suppressed (excellent in antifouling durability). Thereby, the quality of the antifouling layer 5 can be maintained.

또, 방오층 (5) 의 슬라이딩 후의 물 접촉각을 상기한 소정의 범위로 함으로써, 방오층 (5) 의 실용성을 확보할 수 있다.In addition, by setting the water contact angle after sliding of the antifouling layer 5 within the above-described predetermined range, the practicality of the antifouling layer 5 can be ensured.

상세하게는, 방오층 (5) 의 슬라이딩 후의 물 접촉각이 상기 하한 미만이면, 방오성이 현저하게 저하되어, 실용성을 확보할 수 없다. 한편, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 에서는, 방오층 (5) 의 슬라이딩 후의 물 접촉각이 상기 하한 이상이기 때문에, 실용성을 갖는 방오성을 확보할 수 있다. 또한, 바람직하게는 방오층 (5) 에 있어서, 제 2 내구성 시험에 의해 구해지는 방오층 (5) 의 물 접촉각의 변화량이, 예를 들어, 5°이하, 바람직하게는 4°이하, 보다 바람직하게는 3°이하, 더욱 바람직하게는 2°이하이다.In detail, when the water contact angle after sliding of the antifouling layer 5 is less than the above lower limit, the antifouling property is remarkably lowered and practicality cannot be secured. On the other hand, in the optical film 1 with an antifouling layer, since the water contact angle after sliding of the antifouling layer 5 is equal to or greater than the above lower limit, practical antifouling properties can be secured. Further, preferably, in the antifouling layer 5, the amount of change in the water contact angle of the antifouling layer 5 determined by the second durability test is, for example, 5° or less, preferably 4° or less, more preferably Preferably it is 3° or less, more preferably 2° or less.

물 접촉각의 변화량은, 제 2 내구성 시험에 의해 구해진다. 제 2 내구성 시험에서는, 먼저, 방오층 (5) 의 순수에 대한 제 1 물 접촉각을 측정한다. 이어서, 방오층 (5) 에 대해서, 소정의 조건에 기초하여, 제 2 지우개 슬라이딩 시험을 실시한다. 제 2 지우개 슬라이딩 시험을 실시한 후, 방오층 (5) 의 순수에 대한 제 2 물 접촉각을 측정한다. 이어서, 하기 식 (1) 에 기초하여, 물 접촉각의 변화량을 산출한다.The amount of change in the water contact angle is obtained by the second durability test. In the second durability test, first, the first water contact angle of the antifouling layer 5 with respect to pure water is measured. Next, the antifouling layer 5 is subjected to a second eraser sliding test based on predetermined conditions. After carrying out the second eraser sliding test, the second water contact angle of the antifouling layer 5 with respect to pure water is measured. Next, based on the following formula (1), the amount of change in the water contact angle is calculated.

물 접촉각의 변화량 = 제 1 물 접촉각－제 2 물 접촉각 (1)Change in water contact angle = 1st water contact angle - 2nd water contact angle (1)

또한, 제 2 내구성 시험에 대해, 보다 상세하게는, 후술하는 실시예에서 설명한다.In addition, the second durability test will be described in more detail in Examples to be described later.

제 2 내구성 시험에 있어서, 제 1 물 접촉각은 110°이상, 바람직하게는 114°이상, 또한, 예를 들어 130°이하이다. 또한, 제 2 물 접촉각은, 예를 들어 105°이상, 바람직하게는 110°이상, 또한 예를 들어 120°이하이다.In the second durability test, the first water contact angle is 110° or more, preferably 114° or more, and, for example, 130° or less. The second water contact angle is, for example, 105° or more, preferably 110° or more, and, for example, 120° or less.

물 접촉각의 변화량이 상기 상한 이하이면, 방오층 (5) 에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층 (5) 의 방오성의 저하를 한층 더 억제할 수 있다.If the amount of change in the water contact angle is equal to or less than the above upper limit, the decrease in the antifouling properties of the antifouling layer 5 can be further suppressed even after the stain adhering to the antifouling layer 5 is wiped off.

<방오층이 형성된 광학 필름의 제조 방법><Method for Manufacturing Optical Film with Antifouling Layer>

도 2A ∼ 도 2D 를 참조하여, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 의 제조 방법을 설명한다.The manufacturing method of the optical film 1 with an antifouling layer is demonstrated with reference to FIG. 2A - FIG. 2D.

방오층이 형성된 광학 필름 (1) 의 제조 방법은, 기재층 (2) 을 준비하는 제 1 공정과, 기재층 (2), 밀착층 (3) 및 광학 기능층 (4) 을 순서대로 배치하는 제 2 공정과, 광학 기능층 (4) 에 방오층 (5) 을 배치하는 제 3 공정을 구비한다.The manufacturing method of the optical film 1 with an antifouling layer comprises the 1st process of preparing the base material layer 2, and arrange|positioning the base material layer 2, the adhesive layer 3, and the optical function layer 4 in order. A 2nd process and the 3rd process of arrange|positioning the antifouling layer 5 to the optical function layer 4 are provided.

(제 1 공정)(Step 1)

제 1 공정에서는, 기재층 (2) 을 준비한다.In a 1st process, the base material layer 2 is prepared.

기재층 (2) 을 준비하기 위해서는, 먼저, 도 2A 에 나타내는 바와 같이, 기재 (10) 를 준비한다.In order to prepare the base material layer 2, first, as shown in FIG. 2A, the base material 10 is prepared.

이어서, 도 2B 에 나타내는 바와 같이, 기재 (10) 에, 하드 코트층 (11) 을 배치한다. 구체적으로는, 기재 (10) 의 두께 방향 일방면에, 하드 코트층 (11) 을 배치한다.Next, as shown in Fig. 2B, the hard coat layer 11 is disposed on the substrate 10. Specifically, the hard coat layer 11 is disposed on one surface of the substrate 10 in the thickness direction.

구체적으로는, 기재 (10) 의 두께 방향 일방면에, 하드 코트 조성물의 희석액을 도포하고, 건조시킨다. 건조 후, 자외선 조사에 의해, 하드 코트 조성물을 경화시킨다. 이로써, 기재 (10) 의 두께 방향 일방면에, 하드 코트층 (11) 을 형성한다.Specifically, a diluted solution of the hard coat composition is applied to one surface of the base material 10 in the thickness direction and dried. After drying, the hard coat composition is cured by ultraviolet irradiation. In this way, the hard coat layer 11 is formed on one surface of the substrate 10 in the thickness direction.

(제 2 공정)(2nd process)

제 2 공정에서는, 도 2C 에 나타내는 바와 같이, 기재층 (2) (하드 코트층 (11)) 에, 밀착층 (3) 및 광학 기능층 (4) 을 순서대로 배치한다. 구체적으로는, 기재층 (2) (하드 코트층 (11)) 의 두께 방향 일방면에 밀착층 (3) 을 배치하고, 이어서, 밀착층 (3) 의 두께 방향 일방면에 광학 기능층 (4) 에 배치한다. 보다 구체적으로는, 기재층 (2) (하드 코트층 (11)) 의 두께 방향 일방면에 밀착층 (3) 을 배치하고, 밀착층 (3) 의 두께 방향 일방면에 제 1 고굴절률층 (21) 을 배치하고, 제 1 고굴절률층 (21) 의 두께 방향 일방면에 제 1 저굴절률층 (22) 을 배치하고, 제 1 저굴절률층 (22) 의 두께 방향 일방면에 제 2 고굴절률층 (23) 을 배치하고, 제 2 고굴절률층 (23) 의 두께 방향 일방면에 제 2 저굴절률층 (24) 을 배치한다.At a 2nd process, as shown to FIG. 2C, the adhesive layer 3 and the optical function layer 4 are arrange|positioned in order in the base material layer 2 (hard-coat layer 11). Specifically, the adhesive layer 3 is placed on one side of the thickness direction of the substrate layer 2 (hard coat layer 11), and then the optical functional layer 4 is placed on one side of the thickness direction of the adhesive layer 3. ) is placed in More specifically, the adhesive layer 3 is disposed on one side of the thickness direction of the substrate layer 2 (hard coat layer 11), and the first high refractive index layer ( 21), the first low refractive index layer 22 is disposed on one side of the first high refractive index layer 21 in the thickness direction, and the second high refractive index layer 22 is on one side of the thickness direction of the first low refractive index layer 22 The layer 23 is disposed, and the second low refractive index layer 24 is disposed on one side of the second high refractive index layer 23 in the thickness direction.

기재층 (2) 에 밀착층 (3) 및 광학 기능층 (4) 을 순서대로 배치하기 위해서는, 기재층 (2) 및 밀착층 (3) 사이의 밀착성 향상의 관점에서, 먼저, 기재층 (2) 의 표면에, 표면 처리를 실시한다.In order to arrange the adhesive layer 3 and the optical function layer 4 in order on the substrate layer 2, from the viewpoint of improving the adhesion between the substrate layer 2 and the adhesive layer 3, first, the substrate layer 2 ) is subjected to surface treatment.

표면 처리로는, 예를 들어, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 프레임 처리, 오존 처리, 프라이머 처리, 글로 처리, 및 비누화 처리를 들 수 있다. 표면 처리로는, 바람직하게는 플라즈마 처리를 들 수 있다.Examples of the surface treatment include corona treatment, plasma treatment, flame treatment, ozone treatment, primer treatment, gloss treatment, and saponification treatment. As the surface treatment, plasma treatment is preferably used.

그리고, 기재층 (2) 에 밀착층 (3) 및 광학 기능층 (4) 을 순서대로 배치하는 방법으로는, 예를 들어, 진공 증착법, 스퍼터링법, 라미네이트법, 도금법 및 이온 플레이팅법을 들 수 있다. 각 층을 순서대로 배치하는 방법으로서, 바람직하게는 스퍼터링법을 들 수 있다.Then, as a method of arranging the adhesion layer 3 and the optical function layer 4 in order on the substrate layer 2, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a lamination method, a plating method, and an ion plating method can be cited. there is. As a method of arranging each layer in order, sputtering is preferably used.

스퍼터링법에서는, 진공 챔버 내에 타깃 (각 층 (밀착층 (3), 제 1 고굴절률층 (21), 제 1 저굴절률층 (22), 제 2 고굴절률층 (23) 및 제 2 저굴절률층 (24)) 의 재료) 및 기재층 (2) 을 대향 배치한다. 이어서, 가스를 공급함과 함께 전원으로부터 전압을 인가함으로써 가스 이온을 가속하여 타깃에 조사시키고, 타깃 표면으로부터 타깃 재료를 튕겨낸다. 그리고, 그 타깃 재료를 기재층 (2) 의 표면에 각 층을 순서대로 퇴적시킨다.In the sputtering method, the target (each layer (adhesion layer 3), the first high refractive index layer 21, the first low refractive index layer 22, the second high refractive index layer 23 and the second low refractive index layer) is placed in a vacuum chamber. The material of (24)) and the substrate layer 2 are disposed oppositely. Next, while supplying gas, by applying a voltage from a power supply, gas ions are accelerated to irradiate the target, and the target material is repelled from the target surface. And each layer is deposited in order on the surface of the base material layer 2 for the target material.

가스로는, 예를 들어, 불활성 가스를 들 수 있다. 불활성 가스로는, 예를 들어, 아르곤 가스를 들 수 있다. 또, 필요에 따라 예를 들어, 반응성 가스 (예를 들어, 산소 가스) 를 병용할 수 있다. 반응성 가스를 병용하는 경우에 있어서, 반응성 가스의 유량비 (sccm) 는 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 반응성 가스의 유량비는, 스퍼터 가스 및 반응성 가스의 합계 유량비에 대하여, 예를 들어, 0.1 유량％ 이상 100 유량％ 이하이다.As a gas, an inert gas is mentioned, for example. As an inert gas, argon gas is mentioned, for example. Moreover, a reactive gas (eg, oxygen gas) can be used together as needed. In the case of using a reactive gas together, the flow rate (sccm) of the reactive gas is not particularly limited. Specifically, the flow rate ratio of the reactive gas is, for example, 0.1 flow% or more and 100 flow% or less with respect to the total flow rate ratio of the sputtering gas and the reactive gas.

스퍼터링시의 기압은, 예를 들어, 0.1 Pa 이상, 또, 예를 들어, 1.0 Pa 이하, 바람직하게는 0.7 Pa 이하이다.The air pressure at the time of sputtering is, for example, 0.1 Pa or more, and, for example, 1.0 Pa or less, preferably 0.7 Pa or less.

전원은, 예를 들어, DC 전원, AC 전원, MF 전원, 및 RF 전원 중 어느 것이어도 된다. 또, 이들의 조합이어도 된다.The power supply may be any of, for example, a DC power supply, an AC power supply, an MF power supply, and an RF power supply. Moreover, a combination of these may be sufficient.

이로써, 기재층 (2) 의 두께 방향 일방면에, 밀착층 (3) 및 광학 기능층 (4) 을 순서대로 배치한다.Thereby, the adhesive layer 3 and the optical function layer 4 are arrange|positioned in order on one side of the thickness direction of the base material layer 2.

(제 3 공정)(The 3rd process)

제 3 공정에서는, 도 2D 에 나타내는 바와 같이, 광학 기능층 (4) 에 방오층 (5) 을 배치한다. 구체적으로는, 광학 기능층 (4) 의 두께 방향 일방면에, 방오층 (5) 을 배치한다.At the 3rd process, as shown to FIG. 2D, the antifouling layer 5 is arrange|positioned on the optical function layer 4. Specifically, the antifouling layer 5 is disposed on one surface of the optical function layer 4 in the thickness direction.

광학 기능층 (4) 에 방오층 (5) 을 배치하는 방법으로는, 예를 들어 드라이 코팅법을 들 수 있다. 드라이 코팅법으로는, 예를 들어, 진공 증착법, 스퍼터링법, 및 CVD, 바람직하게는, 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra 를 상기한 소정의 범위로 조정하는 관점에서, 진공 증착법을 들 수 있다.As a method of disposing the antifouling layer 5 on the optical function layer 4, a dry coating method is mentioned, for example. Examples of the dry coating method include a vacuum deposition method, a sputtering method, and CVD, preferably a vacuum deposition method from the viewpoint of adjusting the surface roughness Ra of the antifouling layer 5 to the above-described predetermined range. .

이로써, 광학 기능층 (4) 에 방오층 (5) 을 배치한다. 그리고, 기재층 (2) 과, 밀착층 (3) 과, 광학 기능층 (4) 과, 방오층 (5) 을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비하는 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 이 제조된다.Thereby, the antifouling layer 5 is arrange|positioned on the optical function layer 4. Then, the optical film 1 with an antifouling layer provided with the substrate layer 2, the adhesive layer 3, the optical functional layer 4, and the antifouling layer 5 in order toward one side in the thickness direction, are manufactured

그리고, 이 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 에 있어서 방오층 (5) 의 표면 조도 Ra, 방오층 (5) 의 두께 방향 일방면의 물 접촉각 (제 1 물 접촉각), 및 방오층 (5) 의 슬라이딩 후의 물 접촉각이 소정의 범위이다. 그 때문에, 방오층 (5) 에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층 (5) 의 방오성의 저하를 억제할 수 있다 (방오 내구성이 우수하다).Then, in the optical film 1 with the antifouling layer, the surface roughness Ra of the antifouling layer 5, the water contact angle on one side of the antifouling layer 5 in the thickness direction (first water contact angle), and the antifouling layer 5 The water contact angle after sliding is within a predetermined range. For this reason, even after wiping away dirt adhering to the antifouling layer 5, a decrease in the antifouling property of the antifouling layer 5 can be suppressed (excellent in antifouling durability).

<변형예><Example of modification>

변형예에 있어서, 일 실시형태와 동일한 부재 및 공정에 대해서는, 동일한 참조 부호를 붙이고, 그 상세한 설명을 생략한다. 또, 변형예는 특별히 기재하는 것 이외에, 일 실시형태와 동일한 작용 효과를 발휘할 수 있다. 또한 일 실시형태 및 그 변형예를 적절히 조합할 수 있다.In the modified example, the same reference numerals are attached to the same members and steps as those of one embodiment, and detailed description thereof is omitted. In addition, the modified example can exhibit the same function and effect as one embodiment, except that it is specifically described. Moreover, one embodiment and its modified example can be combined suitably.

일 실시형태에서는, 기재층 (2) 은, 기재 (10) 와, 하드 코트층 (11) 을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비한다. 그러나, 기재층 (2) 은, 하드 코트층 (11) 을 구비하지 않고, 기재 (10) 로 이루어질 수도 있다.In one embodiment, the base material layer 2 is equipped with the base material 10 and the hard-coat layer 11 in order toward one side in the thickness direction. However, the substrate layer 2 may be made of the substrate 10 without the hard coat layer 11 being provided.

일 실시형태에서는, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 밀착층 (3) 을 구비한다. 그러나, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 밀착층 (3) 을 구비하지 않아도 된다. 이러한 경우에는, 방오층이 형성된 광학 필름 (1) 은, 기재층 (2) 과, 광학 기능층 (4) 과, 방오층 (5) 을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비한다.In one embodiment, the optical film 1 with an antifouling layer is equipped with the adhesive layer 3. However, the optical film 1 with an antifouling layer does not need to include the adhesive layer 3. In such a case, the optical film 1 with an antifouling layer is equipped with the base material layer 2, the optical function layer 4, and the antifouling layer 5 in order toward one side in the thickness direction.

일 실시형태에서는, 광학 기능층 (4) 은, 상대적으로 굴절률이 높은 고굴절률층을 2 층 구비함과 함께, 상대적으로 굴절률이 낮은 저굴절률층을 2 층 구비한다. 그러나, 고굴절률층 및 저굴절률층의 수는 특별히 한정되지 않는다.In one embodiment, the optical function layer 4 includes two high refractive index layers having a relatively high refractive index and two low refractive index layers having a relatively low refractive index. However, the number of high refractive index layers and low refractive index layers is not particularly limited.

일 실시형태에서는, 광학 기능층 (4) 은 반사 방지층이지만, 이것에 한정되지 않는다. 광학 기능층 (4)으로서, 예를 들어, 투명 전극막 (ITO 막), 전자파 차폐층 (전자파 반사능을 갖는 금속 박막) 을 들 수 있다.In one embodiment, the optical function layer 4 is an antireflection layer, but is not limited thereto. As the optical function layer 4, for example, a transparent electrode film (ITO film) and an electromagnetic wave shielding layer (metal thin film having electromagnetic wave reflecting ability) are exemplified.

실시예Example

이하에 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 또한, 본 발명은, 하등 실시예 및 비교예에 한정되지 않는다. 또, 이하의 기재에 있어서 사용되는 배합 비율 (함유 비율), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기의 「발명을 실시하기 위한 형태」에 있어서 기재되어 있는, 그것들에 대응하는 배합 비율 (함유 비율), 물성값, 파라미터 등 해당 기재의 상한값 (「이하」,「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한값 (「이상」,「초과」로서 정의되어 있는 수치) 로 대체할 수 있다.Examples and comparative examples are shown below to explain the present invention more specifically. In addition, the present invention is not limited to Examples and Comparative Examples. In addition, specific numerical values such as blending ratio (content ratio), physical property values, and parameters used in the following description are the blending ratio (content ratio) corresponding to those described in the above "mode for carrying out the invention" ), physical property values, parameters, etc. can be replaced with the upper limit value (numerical value defined as "below" or "less than") or lower limit value (numerical value defined as "above" or "exceeding") of the corresponding description.

1. 방오층이 형성된 광학 필름의 제조1. Manufacture of optical film with antifouling layer

비교예 1Comparative Example 1

(제 1 공정)(Step 1)

투명한 수지 필름으로서의 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 필름 (두께 80 ㎛) 의 편면에, 방현성의 하드 코트층을 형성하였다. 본 공정에서는, 먼저, 자외선 경화형의 우레탄아크릴레이트 (상품명 「UV1700TL」, 닛폰 합성 화학 공업사 제조) 50 질량부와, 자외선 경화형의 다관능 아크릴레이트 (상품명 「비스코트 ＃300」, 주성분은 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 오사카 유기 화학 공업사 제조) 50 질량부와, 입자로서의 폴리메틸메타크릴레이트 입자 (상품명 「테크폴리머」, 평균 입자경 3 ㎛, 굴절률 1.525, 세키스이 화성품 공업사 제조) 3 질량부와, 입자로서의 실리콘 입자 (상품명 「토스펄 130」, 평균 입자경 3 ㎛, 굴절률 1.42, 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬사 제조) 1.5 질량부와, 틱소트로피 부여제 (상품명 「루센타이트 SAN」, 유기 점토인 합성 스멕타이트, 코프 케미컬사 제조) 1.5 질량부와, 광 중합 개시제 (상품명 「OMNIRAD907」, BASF 사 제조) 3 질량부와, 레벨링제 (상품명 「LE303」, 쿄에이샤 화학사 제조) 0.15 질량부와, 톨루엔·아세트산에틸·시클로펜타논 혼합 용매 (질량비 35 : 41 : 24) 를 혼합하여, 고형분 농도 55 질량％ 의 조성물 (바니시) 을 조제하였다. 혼합에는, 초음파 분산기를 사용하였다.An anti-glare hard coat layer was formed on one side of a triacetyl cellulose (TAC) film (thickness: 80 μm) as a transparent resin film. In this step, first, 50 parts by mass of ultraviolet curable urethane acrylate (trade name "UV1700TL", manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industries, Ltd.) and an ultraviolet curable polyfunctional acrylate (trade name "Viscot # 300", the main component is pentaerythritol 50 parts by mass of triacrylate, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), and 3 parts by mass of polymethyl methacrylate particles as particles (trade name “Techpolymer”, average particle diameter 3 μm, refractive index 1.525, manufactured by Sekisui Chemical Industry Co., Ltd.), Silicon particles as particles (trade name "Tospearl 130", average particle diameter 3 μm, refractive index 1.42, manufactured by Momentive Performance Materials Japan Co., Ltd.) 1.5 parts by mass, thixotropy imparting agent (trade name "Lucentite SAN", organic 1.5 parts by mass of clay synthetic smectite, manufactured by Cope Chemical Co., Ltd.), 3 parts by mass of photopolymerization initiator (trade name "OMNIRAD907", manufactured by BASF), and 0.15 parts by mass of leveling agent (trade name "LE303", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and toluene/ethyl acetate/cyclopentanone mixed solvent (mass ratio: 35:41:24) were mixed to prepare a composition (varnish) having a solid content concentration of 55% by mass. For mixing, an ultrasonic disperser was used.

이어서, 상기 TAC 필름의 편면에 조성물을 도포하여 도막을 형성하였다. 이어서, 이 도막을, 자외선 조사에 의해 경화시킨 후, 가열에 의해 건조시켰다. 자외선 조사에서는, 광원으로서 고압 수은 램프를 사용하고, 파장 365 nm 의 자외선을 사용하여, 적산 조사 광량을 300 mJ/cm2 로 하였다. 또한, 가열의 온도는 80 ℃ 로 하고, 가열의 시간은 60 초간으로 하였다. 이로써, TAC 필름 상에 두께 8 ㎛ 의 방현성의 하드 코트층 (제 1 HC 층) 을 형성하였다. 이로써, 기재층 (HC 층이 형성된 TAC 필름) 을 얻었다.Then, the composition was applied to one side of the TAC film to form a coating film. Next, after curing this coating film by ultraviolet irradiation, it was dried by heating. In the ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp was used as a light source, and an ultraviolet ray having a wavelength of 365 nm was used, and the integrated irradiation light amount was 300 mJ/cm 2 . In addition, the heating temperature was 80°C, and the heating time was 60 seconds. Thus, an anti-glare hard coat layer (first HC layer) having a thickness of 8 μm was formed on the TAC film. In this way, a substrate layer (TAC film with an HC layer) was obtained.

(제 2 공정)(2nd process)

다음으로, 롤 투 롤 방식의 플라즈마 처리 장치에 의해, HC 층이 형성된 TAC 필름의 HC 층 표면을, 1.0 Pa 의 진공 분위기하에서 플라즈마 처리하였다. 이 플라즈마 처리에서는, 불활성 가스로서 아르곤 가스를 사용하고, 방전 전력을 2400 W 로 하였다.Next, the surface of the HC layer of the TAC film on which the HC layer was formed was subjected to plasma treatment in a vacuum atmosphere of 1.0 Pa using a roll-to-roll type plasma processing apparatus. In this plasma treatment, argon gas was used as an inert gas, and the discharge electric power was 2400 W.

이어서, 플라스마 처리 후의 HC 층이 형성된 TAC 필름의 HC 층 상에, 밀착층과 반사 방지층을 순차적으로 형성하였다. 구체적으로는, 롤 투 롤 방식의 스퍼터 성막 장치에 의해, 플라즈마 처리 후의 HC 층이 형성된 TAC 필름의 HC 층 상에, 밀착층으로서의 두께 3.5 nm 의 SiOx 층 (x＜2) 과, 제 1 고굴절률층으로서의 두께 12 nm 의 Nb2O5 층과, 제 1 저굴절률층으로서의 두께 28 nm 의 SiO2 층과, 제 2 고굴절률층으로서의 두께 100 nm 의 Nb2O5 층과, 제 2 저굴절률층으로서의 두께 85 nm 의 SiO2 층을 순차적으로 형성하였다. 밀착층의 형성에서는, Si 타깃을 사용하고, 불활성 가스로서의 아르곤 가스와, 아르곤 가스 100 체적부에 대하여 3 체적부의 반응성 가스로서의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 520 V 로 하고, 성막실 내의 기압 (성막 기압) 을 0.27 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 SiOx 층 (x＜2) 을 성막하였다. 제 1 고굴절률층의 형성에서는, Nb 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 5 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 415 V 로 하고, 성막 기압을 0.42 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 Nb2O5 층을 성막하였다. 제 1 저굴절률층의 형성에서는, Si 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 30 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 350 V 으로 하고, 성막 기압을 0.3 Pa 으로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 SiO2 층을 성막하였다. 제 2 고굴절률층의 형성에서는, Nb 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 13 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 460 V 로 하고, 성막 기압을 0.5 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 Nb2O5 층을 성막하였다. 제 2 저굴절률층의 형성에서는, Si 타깃을 사용하고, 100 체적부의 아르곤 가스 및 30 체적부의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 340 V 으로 하고, 성막 기압을 0.25 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 SiO2 층을 성막하였다. 이상과 같이 하여, HC 층이 형성된 TAC 필름의 HC 층 상에, 밀착층을 개재하여 반사 방지층 (제 1 고굴절률층, 제 1 저굴절률층, 제 2 고굴절률층, 제 2 저굴절률층) 을 적층 형성하였다.Then, an adhesive layer and an antireflection layer were sequentially formed on the HC layer of the TAC film on which the HC layer after plasma treatment was formed. Specifically, a SiOx layer (x<2) having a thickness of 3.5 nm as an adhesive layer and a first high refractive index were formed on the HC layer of the TAC film on which the HC layer after plasma treatment was formed by a roll-to-roll sputter film deposition apparatus. A 12 nm thick Nb 2 O 5 layer as a layer, a 28 nm thick SiO 2 layer as a first low refractive index layer, a 100 nm thick Nb 2 O 5 layer as a second high refractive index layer, and a second low refractive index layer. A SiO 2 layer with a thickness of 85 nm as was sequentially formed. In the formation of the adhesion layer, a Si target is used, argon gas as an inert gas, and oxygen gas as a reactive gas of 3 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the argon gas are used, the discharge voltage is set to 520 V, and the atmospheric pressure in the film formation chamber is A SiOx layer (x<2) was formed into a film by MFAC sputtering at a (film forming atmospheric pressure) of 0.27 Pa. In the formation of the first high refractive index layer, a Nb target was used, 100 parts by volume of argon gas and 5 parts by volume of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 415 V, and the deposition pressure was set to 0.42 Pa, by MFAC sputtering. A Nb 2 O 5 layer was formed. In the formation of the first low refractive index layer, a Si target was used, 100 parts by volume of argon gas and 30 parts by volume of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 350 V, and the deposition atmospheric pressure was set to 0.3 Pa by MFAC sputtering. A SiO 2 layer was deposited. In the formation of the second high refractive index layer, a Nb target was used, 100 parts by volume of argon gas and 13 parts by volume of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 460 V, and the deposition pressure was set to 0.5 Pa, by MFAC sputtering. A Nb 2 O 5 layer was formed. In the formation of the second low refractive index layer, a Si target was used, 100 parts by volume of argon gas and 30 parts by volume of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 340 V, and the deposition pressure was set to 0.25 Pa by MFAC sputtering. A SiO 2 layer was deposited. As described above, on the HC layer of the TAC film on which the HC layer was formed, an antireflection layer (the first high refractive index layer, the first low refractive index layer, the second high refractive index layer, and the second low refractive index layer) was formed through the adhesive layer. layered formation.

(제 3 공정)(The 3rd process)

다음으로, 형성된 반사 방지층 상에 방오층을 형성하였다. 구체적으로는, 퍼플루오로폴리에테르기 함유의 알콕시실란 화합물을 증착원으로서 사용한 진공 증착법에 의해, 두께 7 nm 의 방오층을 반사 방지층 상에 형성하였다. 증착원은, 다이킨 공업사 제조의 「옵툴 UD509」(상기 일반식 (2) 로 나타내는 퍼플루오로폴리에테르기 함유 알콕시실란 화합물, 고형분 농도 20 질량％) 를 건조시켜 얻은 고형분이다. 또한, 진공 증착법에 있어서의 증착원의 가열 온도는 260 ℃ 로 하였다.Next, an antifouling layer was formed on the formed antireflection layer. Specifically, an antifouling layer having a thickness of 7 nm was formed on the antireflection layer by a vacuum deposition method using an alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether group as a deposition source. The evaporation source is a solid content obtained by drying "Optool UD509" (a perfluoropolyether group-containing alkoxysilane compound represented by the above general formula (2), solid content concentration: 20% by mass) manufactured by Daikin Industry. In addition, the heating temperature of the evaporation source in the vacuum evaporation method was 260 degreeC.

이로써, 방오층이 형성된 광학 필름을 제조하였다.Thus, an optical film having an antifouling layer was prepared.

실시예 1Example 1

비교예 1 과 동일하게 하여, 방오층이 형성된 광학 필름을 제조하였다.In the same manner as in Comparative Example 1, an optical film having an antifouling layer was prepared.

단, 제 3 공정에서의 증착원으로서, 다이킨 공업사 제조의 「옵툴 UD120」(퍼플루오로폴리에테르기 함유의 알콕시실란 화합물) 을 건조하여 얻은 고형분을 사용하였다.However, as the deposition source in the third step, a solid obtained by drying "Optool UD120" (a perfluoropolyether group-containing alkoxysilane compound) manufactured by Daikin Industrial Co., Ltd. was used.

실시예 2Example 2

(제 1 공정)(Step 1)

투명한 수지 필름으로서의 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 필름 (두께 80 ㎛) 의 편면에, 하드 코트층을 형성하였다. 본 공정에서는, 먼저, 자외선 경화형의 아크릴 모노머 (상품명 「GRANDIC PC-1070」, DIC 사 제조) 100 질량부와, 입자로서의 나노실리카 입자를 함유하는 오르가노 실리카졸 (상품명 「MEK-ST-L」, 나노실리카 입자의 평균 1 차 입자경은 50 nm, 고형분 농도 30 질량％, 닛산 화학사 제조) 25 질량부 (나노실리카 입자 환산량) 와, 틱소트로피 부여제 (상품명 「루센타이트 SAN」, 유기 점토인 합성 스멕타이트, 코프 케미컬사 제조) 1.5 질량부와, 광 중합 개시제 (상품명 「OMNIRAD907」, BASF 사 제조) 3 질량부와, 레벨링제 (상품명 「LE303」, 쿄에이샤 화학사 제조) 0.15 질량부를 혼합하여, 고형분 농도 55 질량％ 의 조성물 (바니시) 을 조제하였다. 혼합에는, 초음파 분산기를 사용하였다. 이어서, 상기 TAC 필름의 편면에 조성물을 도포하여 도막을 형성하였다. 이어서, 이 도막을, 자외선 조사에 의해 경화시킨 후, 가열에 의해 건조시켰다. 자외선 조사에서는, 광원으로서 고압 수은 램프를 사용하고, 파장 365 nm 의 자외선을 사용하여, 적산 조사 광량을 200 mJ/cm2 로 하였다. 또한, 가열의 온도는 80 ℃ 로 하고, 가열의 시간은 3 분간으로 하였다. 이로써, TAC 필름 상에 두께 6 ㎛ 의 하드 코트층 (제 2 HC 층) 을 형성하였다. 이로써, 기재층 (HC 층이 형성된 TAC 필름) 을 얻었다.A hard coat layer was formed on one side of a triacetyl cellulose (TAC) film (thickness: 80 μm) as a transparent resin film. In this step, first, an organosilica sol containing 100 parts by mass of an ultraviolet curable acrylic monomer (trade name "GRANDIC PC-1070", manufactured by DIC) and nanosilica particles as particles (trade name "MEK-ST-L") , The average primary particle size of the nanosilica particles is 50 nm, the solid content concentration is 30% by mass, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) 25 parts by mass (in terms of nanosilica particles), and a thixotropy imparting agent (trade name "Lucentite SAN", organic clay phosphorus) 1.5 parts by mass of synthetic smectite, manufactured by Cope Chemical Co., Ltd.), 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (trade name "OMNIRAD907", manufactured by BASF), and 0.15 parts by mass of a leveling agent (trade name "LE303", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) were mixed. , a composition (varnish) having a solid content concentration of 55% by mass was prepared. For mixing, an ultrasonic disperser was used. Then, the composition was applied to one side of the TAC film to form a coating film. Next, after curing this coating film by ultraviolet irradiation, it was dried by heating. In the ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp was used as a light source, an ultraviolet ray having a wavelength of 365 nm was used, and the cumulative irradiation light amount was 200 mJ/cm 2 . In addition, the heating temperature was 80°C, and the heating time was 3 minutes. Thus, a hard coat layer (second HC layer) having a thickness of 6 μm was formed on the TAC film. In this way, a substrate layer (TAC film with an HC layer) was obtained.

(제 2 공정)(2nd process)

다음으로, 롤 투 롤 방식의 플라즈마 처리 장치에 의해, HC 층이 형성된 TAC 필름의 HC 층 표면을, 1.0 Pa 의 진공 분위기하에서 플라즈마 처리하였다. 이 플라즈마 처리에서는, 불활성 가스로서 아르곤 가스를 사용하고, 방전 전력을 150 W 로 하였다.Next, the surface of the HC layer of the TAC film on which the HC layer was formed was subjected to plasma treatment in a vacuum atmosphere of 1.0 Pa using a roll-to-roll type plasma processing apparatus. In this plasma treatment, argon gas was used as an inert gas, and the discharge electric power was 150 W.

이어서, 플라스마 처리 후의 HC 층이 형성된 TAC 필름의 HC 층 상에, 밀착층과 반사 방지층을 순차적으로 형성하였다. 구체적으로는, 롤 투 롤 방식의 스퍼터 성막 장치에 의해, 플라즈마 처리 후의 HC 층이 형성된 TAC 필름의 HC 층 상에, 밀착층으로서의 두께 1.5 nm 의 인듐주석 산화물 (ITO) 층과, 제 1 고굴절률층으로서의 두께 12 nm 의 Nb2O5 층과, 제 1 저굴절률층으로서의 두께 28 nm 의 SiO2 층과, 제 2 고굴절률층으로서의 두께 100 nm 의 Nb2O5 층과, 제 2 저굴절률층으로서의 두께 85 nm 의 SiO2 층을, 순차적으로 형성하였다. 밀착층의 형성에서는, ITO 타깃을 사용하고, 불활성 가스로서의 아르곤 가스와, 아르곤 가스 100 체적부에 대하여 10 체적부의 반응성 가스로서의 산소 가스를 사용하고, 방전 전압을 400 V 로 하고, 성막실 내의 기압 (성막 기압) 을 0.2 Pa 로 하여, MFAC 스퍼터링에 의해 ITO 층을 성막하였다. 실시예 2 에 있어서의 제 1 고굴절률층, 제 1 저굴절률층, 제 2 고굴절률층 및 제 2 저굴절률층의 형성 조건은, 비교예 1 에 있어서의 제 1 고굴절률층, 제 1 저굴절률층, 제 2 고굴절률층 및 제 2 저굴절률층의 상기의 형성 조건과 동일하다.Then, an adhesive layer and an antireflection layer were sequentially formed on the HC layer of the TAC film on which the HC layer after plasma treatment was formed. Specifically, an indium tin oxide (ITO) layer with a thickness of 1.5 nm as an adhesive layer and a first high refractive index were formed on the HC layer of the TAC film on which the HC layer after plasma treatment was formed by a roll-to-roll sputter film deposition apparatus. A 12 nm thick Nb 2 O 5 layer as a layer, a 28 nm thick SiO 2 layer as a first low refractive index layer, a 100 nm thick Nb 2 O 5 layer as a second high refractive index layer, and a second low refractive index layer. An SiO 2 layer with a thickness of 85 nm as , was sequentially formed. In the formation of the adhesion layer, an ITO target is used, argon gas as an inert gas, and oxygen gas as a reactive gas of 10 parts by volume per 100 parts by volume of the argon gas are used, the discharge voltage is set to 400 V, and the air pressure in the film formation chamber is reduced. The ITO layer was formed into a film by MFAC sputtering at a (film forming atmospheric pressure) of 0.2 Pa. The conditions for forming the first high refractive index layer, the first low refractive index layer, the second high refractive index layer, and the second low refractive index layer in Example 2 are the first high refractive index layer and the first low refractive index layer in Comparative Example 1. layer, the second high refractive index layer and the second low refractive index layer are the same as the above formation conditions.

(제 3 공정)(The 3rd process)

다음으로, 형성된 반사 방지층 상에 방오층을 형성하였다. 구체적으로는, 비교예 1 에 있어서의 제 3 공정과 동일하다 (증착원으로는, 다이킨 공업사 제조의 「옵툴 UD509」를 건조하여 얻은 고형분을 사용하였다). 이로써, 방오층이 형성된 광학 필름을 제조하였다.Next, an antifouling layer was formed on the formed antireflection layer. Specifically, it is the same as the 3rd process in Comparative Example 1 (as a evaporation source, the solid content obtained by drying "Optool UD509" by Daikin Kogyo Co., Ltd. was used). Thus, an optical film having an antifouling layer was prepared.

실시예 3Example 3

실시예 2 와 동일하게 하여, 방오층이 형성된 광학 필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 2, an optical film having an antifouling layer was prepared.

단, 제 3 공정에서의 증착원으로서, 다이킨 공업사 제조의 「옵툴 UD120」(퍼플루오로폴리에테르기 함유의 알콕시실란 화합물) 을 건조하여 얻은 고형분을 사용하였다.However, as the deposition source in the third step, a solid obtained by drying "Optool UD120" (a perfluoropolyether group-containing alkoxysilane compound) manufactured by Daikin Industrial Co., Ltd. was used.

실시예 4Example 4

실시예 2 와 동일하게 하여, 방오층이 형성된 광학 필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 2, an optical film having an antifouling layer was prepared.

단, 제 1 공정 및 제 3 공정을 이하와 같이 변경하였다.However, the 1st process and the 3rd process were changed as follows.

(제 1 공정)(Step 1)

나노실리카 입자 함유의 아크릴 단량체 조성물 (상품명 「NC035」, 나노실리카 입자의 평균 1 차 입자경은 40 ㎚, 고형분 농도 50 ％, 고형분 중의 나노실리카 입자의 비율은 60 질량％, 아라카와 화학 공업사 제조) 67 질량부와, 자외선 경화형의 다관능 아크릴레이트 (상품명 「바인더A」, 고형분 농도 100 ％, 아라카와 화학 공업사 제조) 33 질량부와, 입자로서의 폴리메틸메타크릴레이트 입자 (상품명 「테크폴리머」, 평균 입자경 3 ㎛, 굴절률 1.525, 세키스이 화성품 공업사 제조) 3 질량부와, 입자로서의 실리콘 입자 (상품명 「토스펄 130」, 평균 입자경 3 ㎛, 굴절률 1.42, 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬사 제조) 1.5 질량부와, 틱소트로피 부여제 (상품명 「루센타이트 SAN」, 유기 점토인 합성 스멕타이트, 코프 케미컬사 제조) 1.5 질량부와, 광 중합 개시제 (상품명 「OMNIRAD907」, BASF 사 제조) 3 질량부와, 레벨링제 (상품명 「LE303」, 쿄에이샤 화학사 제조) 0.15 질량부와, 톨루엔을 혼합하여, 고형분 농도 45 질량％ 의 조성물 (바니시) 을 조제하였다. 혼합에는, 초음파 분산기를 사용하였다. 이어서, 상기 TAC 필름의 편면에 조성물을 도포하여 도막을 형성하였다. 이어서, 이 도막을, 자외선 조사에 의해 경화시킨 후, 가열에 의해 건조시켰다. 자외선 조사에서는, 광원으로서 고압 수은 램프를 사용하고, 파장 365 nm 의 자외선을 사용하여, 적산 조사 광량을 200 mJ/cm2 로 하였다. 또한, 가열의 온도는 60 ℃ 로 하고, 가열의 시간은 60 초간으로 하였다. 이로써, TAC 필름 상에 두께 7 ㎛ 의 방현성의 하드 코트층 (제 3 HC 층) 을 형성하였다. 이로써, 기재층 (HC 층이 형성된 TAC 필름) 을 얻었다.Acrylic monomer composition containing nano-silica particles (trade name "NC035", average primary particle size of nano-silica particles is 40 nm, solid content concentration is 50%, the ratio of nano-silica particles in solid content is 60% by mass, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) 67 mass 33 parts by mass of polyfunctional acrylate (trade name "Binder A", solid content concentration 100%, manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.) and polymethyl methacrylate particles as particles (trade name "Techpolymer", average particle diameter 3) μm, refractive index 1.525, manufactured by Sekisui Chemical Industry Co., Ltd.) 3 parts by mass, and silicon particles as particles (trade name “Tospearl 130”, average particle diameter 3 μm, refractive index 1.42, manufactured by Momentive Performance Materials Japan Co., Ltd.) 1.5 parts by mass, 1.5 parts by mass of a thixotropy imparting agent (trade name "Lucentite SAN", synthetic smectite that is an organic clay, manufactured by Corp Chemical Co.), and 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (trade name "OMNIRAD907", manufactured by BASF); 0.15 parts by mass of a leveling agent (trade name "LE303", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and toluene were mixed to prepare a composition (varnish) having a solid content concentration of 45% by mass. For mixing, an ultrasonic disperser was used. Then, the composition was applied to one side of the TAC film to form a coating film. Next, after curing this coating film by ultraviolet irradiation, it was dried by heating. In the ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp was used as a light source, an ultraviolet ray having a wavelength of 365 nm was used, and the cumulative irradiation light amount was 200 mJ/cm 2 . In addition, the heating temperature was 60°C, and the heating time was 60 seconds. Thus, an anti-glare hard coat layer (third HC layer) having a thickness of 7 μm was formed on the TAC film. In this way, a substrate layer (TAC film with an HC layer) was obtained.

(제 3 공정)(The 3rd process)

증착원으로서, 다이킨 공업사 제조의 「옵툴 UD120」(퍼플루오로폴리에테르기 함유의 알콕시실란 화합물) 을 건조시켜 얻은 고형분을 사용하였다.As the deposition source, a solid obtained by drying "Optool UD120" (a perfluoropolyether group-containing alkoxysilane compound) manufactured by Daikin Industrial Co., Ltd. was used.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 2 와 동일하게 하여, 방오층이 형성된 광학 필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 2, an optical film having an antifouling layer was prepared.

단, 제 3 공정을 이하와 같이 변경하였다.However, the 3rd process was changed as follows.

(제 3 공정)(The 3rd process)

코팅제로서의 「옵툴 UD509」(다이킨 공업사 제조) 를, 희석 용매 (상품명 「플루오리너트」, 3M 사 제조) 로 희석하여, 고형분 농도 0.1 질량％ 의 코팅액을 조제하였다. 다음으로, 제 2 공정에서 형성된 반사 방지층 상에, 코팅액을 그라비어 코팅에 의해 도포하여 도막을 형성하였다. 다음으로, 이 도막을, 60 ℃ 에서 2 분간의 가열에 의해 건조시켰다. 이로써, 반사 방지층 상에 두께 7 nm 의 방오층을 형성하였다."Optool UD509" (manufactured by Daikin Kogyo) as a coating agent was diluted with a dilution solvent (trade name "Fluorinert", manufactured by 3M) to prepare a coating liquid having a solid content concentration of 0.1% by mass. Next, on the antireflection layer formed in the second step, a coating liquid was applied by gravure coating to form a coating film. Next, this coating film was dried by heating at 60°C for 2 minutes. Thus, an antifouling layer having a thickness of 7 nm was formed on the antireflection layer.

실시예 5Example 5

실시예 2 와 동일하게 하여, 방오층이 형성된 광학 필름을 제조하였다.In the same manner as in Example 2, an optical film having an antifouling layer was prepared.

단, 제 1 공정을 이하와 같이 변경하였다.However, the 1st process was changed as follows.

(제 1 공정)(Step 1)

투명한 수지 필름으로서의 PET 필름 (상품명 「50U48」, 도레이 주식회사 제조) 의 편면에, 하드 코트층을 형성하였다. 본 공정에서는, 먼저, 자외선 경화형 다관능 아크릴레이트 수지 (아이카 공업 주식회사 제조 Z-850-50H-D (고형분 44％)) 를 100 질량부 준비하였다. 이어서, 이 수지에, 광 중합 개시제 (상품명 「OMNIRAD2959」, BASF 사 제조) 4 질량부와, 레벨링제 (상품명 「LE303」, 쿄에이샤 화학사 제조) 0.05 질량부와, 메틸이소부틸케톤을 혼합하여, 고형분 농도 40 질량％ 의 조성물 (바니시) 을 조제하였다. 혼합에는, 초음파 분산기를 사용하였다.A hard coat layer was formed on one side of a PET film (trade name "50U48", manufactured by Toray Industries, Ltd.) as a transparent resin film. At this process, 100 mass parts of ultraviolet curable polyfunctional acrylate resins (Aika Kogyo Co., Ltd. product Z-850-50H-D (44% of solid content)) were prepared first. Subsequently, 4 parts by mass of a photopolymerization initiator (trade name "OMNIRAD2959", manufactured by BASF) and 0.05 parts by mass of a leveling agent (trade name "LE303", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and methyl isobutyl ketone were mixed with this resin, , a composition (varnish) having a solid content concentration of 40% by mass was prepared. For mixing, an ultrasonic disperser was used.

이어서, 상기 PET 필름의 편면에 조성물을 도포한 후에 건조하여 도막을 형성하였다. 이어서, 이 도막을 자외선 조사에 의해 경화시켰다. 가열의 온도는, 80 ℃ 로 하고, 가열의 시간은 60 초간으로 하였다. 자외선 조사에서는, 광원으로서 고압 수은 램프를 사용하고, 파장 365 nm 의 자외선을 사용하여, 적산 조사 광량을 300 mJ/cm2 로 하였다. 이로써, PET 필름 상에 두께 5 ㎛ 의 하드 코트층 (제 4 HC 층) 을 형성하였다. 이로써, 기재층 (HC 층이 형성된 PET 필름) 을 얻었다.Subsequently, the composition was applied to one side of the PET film and dried to form a coating film. Next, this coating film was cured by ultraviolet irradiation. The heating temperature was 80°C, and the heating time was 60 seconds. In the ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp was used as a light source, and an ultraviolet ray having a wavelength of 365 nm was used, and the integrated irradiation light amount was 300 mJ/cm 2 . Thus, a hard coat layer (fourth HC layer) having a thickness of 5 μm was formed on the PET film. In this way, a substrate layer (PET film with an HC layer) was obtained.

또한, 제 2 공정에 있어서, 성막실 내의 기압 (성막 기압) 을 0.5 Pa 로 변경하였다.In addition, in the second step, the air pressure in the film formation chamber (film formation air pressure) was changed to 0.5 Pa.

2. 평가2. Evaluation

(표면 조도 Ra)(surface roughness Ra)

각 실시예 및 각 비교예의 방오층이 형성된 광학 필름의 방오층 및 하드 코트층에 대해, 방오층의 표면 조도 Ra 를 조사하였다. 구체적으로는, 각 방오층이 형성된 광학 필름의 방오층 표면을, 원자간력 현미경 (상품명 「SPI3800」, 세이코 인스트루먼트사 제조) 에 의해 관찰하고, 사방 1 ㎛ 의 관찰 이미지에 있어서, 표면 조도 Ra (산술 평균 조도) 를 구했다. 그 결과를 표 1 에 나타낸다.The surface roughness Ra of the antifouling layer was investigated for the antifouling layer and the hard coat layer of the optical film with an antifouling layer of each Example and each Comparative Example. Specifically, the surface of the antifouling layer of the optical film on which each antifouling layer was formed was observed with an atomic force microscope (trade name "SPI3800", manufactured by Seiko Instruments Co., Ltd.), and in an observation image of 1 μm square, the surface roughness Ra ( arithmetic average roughness) was obtained. The results are shown in Table 1.

(제 1 내구성 시험)(1st durability test)

각 실시예 및 각 비교예의 방오층이 형성된 광학 필름의 방오층에 대해, 이하의 조건에 기초하여, 제 1 지우개 슬라이딩 시험을 실시하였다.The antifouling layer of the optical film provided with the antifouling layer of each Example and each Comparative Example was subjected to a first eraser sliding test based on the following conditions.

<제 1 지우개 슬라이딩 시험><First Eraser Sliding Test>

Minoan 사 제조의 지우개 (Φ6 mm)Eraser made by Minoan (Φ6 mm)

슬라이딩 거리 : 편도 100 mmSliding distance: 100 mm one way

슬라이딩 속도 : 100 mm/초Sliding speed: 100 mm/sec

하중 : 1 kg/6 mmΦLoad: 1 kg/6 mmΦ

슬라이딩 횟수 : 3000 회Number of sliding: 3000 times

제 1 지우개 슬라이딩 시험을 실시한 후, 쿄와 계면 과학사 제조 DMo-501 을 사용하여, 이하의 조건에 기초하여, 방오층의 순수에 대한 물 접촉각을 측정하였다. 그 결과를 표 1 에 나타낸다.After the first eraser sliding test was conducted, the water contact angle of the antifouling layer with respect to pure water was measured using DMo-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. under the following conditions. The results are shown in Table 1.

<측정 조건><Measurement conditions>

액적량 : 2 μlDrop volume: 2 μl

온도 : 25 ℃Temperature: 25℃

습도 : 40 ％Humidity: 40%

(방오성 시험)(antifouling test)

제 1 지우개 슬라이딩 시험 후의 방오층에 대해, 지문 닦아냄성을 확인하였다.About the antifouling layer after the 1st eraser sliding test, fingerprint wiping property was confirmed.

구체적으로는, 방오층에 있어서, 지우개 슬라이딩부에 직접 손가락을 닿게 하여 지문을 부착하고, 그 직후에 웨이스트에 의해 3 회 닦아내기를 실시하여, 닦이는지 여부를 하기 기준에 의해 평가하였다. 그 결과를 표 1 에 나타낸다.Specifically, in the antifouling layer, fingerprints were attached by directly touching the sliding part of the eraser, and immediately after that, wiping was performed with a waste three times, and whether or not it was wiped was evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 1.

○ : 완전히 닦아낼 수 있다.(circle): It can wipe off completely.

× : 일부 지문이 남는다.x: Some fingerprints remain.

(제 2 내구성 시험)(2nd durability test)

각 실시예 및 각 비교예의 방오층이 형성된 광학 필름의 방오층에 대해, 상기한 방법과 동일한 순서로, 제 1 접촉각을 측정하였다.For the antifouling layer of the optical film provided with the antifouling layer of each Example and each Comparative Example, the first contact angle was measured in the same procedure as the above method.

이어서, 각 실시예 및 각 비교예의 방오층이 형성된 광학 필름의 방오층에 대해, 이하의 조건에 기초하여, 제 2 지우개 슬라이딩 시험을 실시한 후, 상기한 방법과 동일한 순서로, 제 2 물 접촉각을 측정하였다. 그 결과를 표 1 에 나타낸다.Subsequently, the antifouling layer of the optical film having the antifouling layer of each Example and each Comparative Example was subjected to a second eraser sliding test based on the following conditions, and then, in the same order as the above method, the second water contact angle was measured. measured. The results are shown in Table 1.

<제 2 지우개 슬라이딩 시험><Second Eraser Sliding Test>

Minoan 사 제조의 지우개 (Φ6 mm)Eraser made by Minoan (Φ6 mm)

슬라이딩 거리 : 편도 100 mmSliding distance: 100 mm one way

슬라이딩 속도 : 100 mm/초Sliding speed: 100 mm/sec

하중 : 1 kg/6 mmΦLoad: 1 kg/6 mmΦ

슬라이딩 횟수 : 10 회Number of sliding: 10 times

그리고, 하기 식 (1) 에 기초하여, 접촉각의 변화량을 산출하였다. 그 결과를 표 1 에 나타낸다. 물 접촉각의 변화량이 작을수록, 품질이 우수하다고 평가하였다.And based on the following formula (1), the amount of change in the contact angle was calculated. The results are shown in Table 1. The smaller the change in the water contact angle, the better the quality.

물 접촉각의 변화량 = 제 1 접촉각－제 2 물 접촉각 (1)Change in water contact angle = 1st contact angle - 2nd water contact angle (1)

3. 고찰3. Consideration

방오층의 표면 조도 Ra 가 10 nm 이하인 실시예 1 ∼ 실시예 5 는, 방오층의 표면 조도 Ra 가 17.7 nm 인 비교예 1 에 비해, 물 접촉각의 변화량이 작다. 이것으로부터, 방오층의 표면 조도 Ra 가 10 nm 이하이면, 방오층에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층의 방오성의 저하를 억제할 수 있는 것을 알 수 있다. 구체적으로는, 수십 회 정도의 닦기 (슬라이딩) 에 대해, 방오성의 저하를 억제할 수 있는 품질을 가지고 있음을 알 수 있다.In Examples 1 to 5 in which the surface roughness Ra of the antifouling layer was 10 nm or less, the amount of change in water contact angle was smaller than that in Comparative Example 1 in which the surface roughness Ra of the antifouling layer was 17.7 nm. From this, it can be seen that, if the surface roughness Ra of the antifouling layer is 10 nm or less, the decrease in antifouling properties of the antifouling layer can be suppressed even after wiping off the stain adhering to the antifouling layer. Specifically, it can be seen that it has a quality capable of suppressing the deterioration of antifouling properties with respect to several tens of times of wiping (sliding).

슬라이딩 후의 물 접촉각이 83°이상이고, 방오층의 두께 방향 일방면의 물 접촉각 (제 1 접촉각) 이 110°이상인 실시예 1 ∼ 5 는, 슬라이딩 후의 물 접촉각이 80°이고, 방오층의 두께 방향 일방면의 물 접촉각 (제 1 접촉각) 이 109.4°인 비교예 2 에 비해, 방오성이 우수하다. 이것으로부터, 방오층의 슬라이딩 후의 물 접촉각이 83°이상, 또한, 방오층의 두께 방향 일방면의 물 접촉각 (제 1 접촉각) 이 110°이상이면, 방오층에 부착된 오염을 닦아낸 후에도, 방오층의 방오성의 저하를 억제할 수 있는 것을 알 수 있다. 구체적으로는, 수천 회 정도의 닦기 (슬라이딩) 에 대해, 실용 레벨의 방오성을 유지할 수 있는 실용성을 확보할 수 있음을 알 수 있다.Examples 1 to 5 in which the water contact angle after sliding is 83° or more and the water contact angle (first contact angle) on one side of the antifouling layer in the thickness direction is 110° or more, the water contact angle after sliding is 80° and the antifouling layer thickness direction Compared with Comparative Example 2 in which the one-sided water contact angle (first contact angle) was 109.4°, the antifouling property was excellent. From this, if the water contact angle after sliding of the antifouling layer is 83° or more, and the water contact angle (first contact angle) of one surface of the antifouling layer in the thickness direction is 110° or more, even after wiping off the dirt adhering to the antifouling layer, It turns out that the fall of the antifouling property of the five layers can be suppressed. Specifically, it can be seen that practicality capable of maintaining antifouling properties at a practical level can be secured for thousands of times of wiping (sliding).

Figure 112022138092113-pct00001
Figure 112022138092113-pct00001

또한, 상기 발명은 본 발명의 예시의 실시형태로서 제공했지만, 이것은 단순한 예시에 지나지 않고, 한정적으로 해석해서는 안된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해 분명한 본 발명의 변형예는, 후기하는 청구범위에 포함되는 것이다.In addition, although the said invention was provided as embodiment of an illustration of this invention, this is only a mere illustration and it must not interpret it limitedly. Modifications of the present invention obvious to those skilled in the art in the art are included in the claims described later.

본 발명의 방오층이 형성된 광학 필름은, 예를 들어, 방오층이 형성된 반사 방지 필름, 방오층이 형성된 투명 도전성 필름, 및 방오층이 형성된 전자파 차폐 필름에 있어서, 바람직하게 사용된다.The optical film with an antifouling layer of the present invention is preferably used in, for example, an antireflection film with an antifouling layer, a transparent conductive film with an antifouling layer, and an electromagnetic wave shielding film with an antifouling layer.

1 : 방오층이 형성된 광학 필름
2 : 기재층
4 : 광학 기능층
5 : 방오층
10 : 기재
11 : 하드 코트층1: optical film with antifouling layer
2: base layer
4: optical functional layer
5: antifouling layer
10: materials
11: hard coat layer

Claims (8)

기재층과, 무기층으로 이루어지는 광학 기능층과, 방오층을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비하고,
상기 기재층이, 기재와 하드 코트층을 두께 방향 일방측을 향하여 순서대로 구비하고,
상기 방오층의 표면 조도 Ra 가 5.01 nm 이하이고,
상기 하드 코트층의 두께 방향 일방면의 표면 조도 Ra 가 1.2 nm 이상 5.0 nm 이하이고,
상기 방오층의 두께 방향 일방면의 물 접촉각이 110°이상이고,
제 1 내구성 시험에 의해 구해지는 방오층의 물 접촉각이 83°이상인, 방오층이 형성된 광학 필름.
제 1 내구성 시험 : 방오층에 대해, 이하의 조건에 기초하여, 제 1 지우개 슬라이딩 시험을 실시한다. 제 1 지우개 슬라이딩 시험을 실시한 후, 방오층의 순수에 대한 물 접촉각을 측정한다.
<제 1 지우개 슬라이딩 시험>
Minoan 사 제조의 지우개 (Φ6 mm)
슬라이딩 거리 : 편도 100 mm
슬라이딩 속도 : 100 mm/초
하중 : 1 kg/6 mmΦ
슬라이딩 횟수 : 3000 회A substrate layer, an optical function layer composed of an inorganic layer, and an antifouling layer are sequentially provided toward one side in the thickness direction,
The base material layer is provided with a base material and a hard coat layer in order toward one side in the thickness direction,
The surface roughness Ra of the antifouling layer is 5.01 nm or less,
The surface roughness Ra of one side in the thickness direction of the hard coat layer is 1.2 nm or more and 5.0 nm or less,
The water contact angle of one surface of the antifouling layer in the thickness direction is 110 ° or more,
An optical film with an antifouling layer, wherein the water contact angle of the antifouling layer determined by the first durability test is 83° or more.
1st durability test: The 1st eraser sliding test is implemented with respect to the antifouling layer based on the following conditions. After the first eraser sliding test is performed, the water contact angle of the antifouling layer with respect to pure water is measured.
<First Eraser Sliding Test>
Eraser made by Minoan (Φ6 mm)
Sliding distance: 100 mm one way
Sliding speed: 100 mm/sec
Load: 1 kg/6 mmΦ
Number of sliding: 3000 times 제 1 항에 있어서,
제 2 내구성 시험에 의해 구해지는 방오층의 물 접촉각의 변화량이 5°이하인, 방오층이 형성된 광학 필름.
제 2 내구성 시험 : 방오층의 순수에 대한 제 1 물 접촉각을 측정한다. 이어서, 방오층에 대해, 이하의 조건에 기초하여, 제 2 지우개 슬라이딩 시험을 실시한다. 제 2 지우개 슬라이딩 시험을 실시한 후, 방오층의 순수에 대한 제 2 물 접촉각을 측정한다. 이어서, 하기 식 (1) 에 기초하여, 물 접촉각의 변화량을 산출한다.
물 접촉각의 변화량 = 제 1 물 접촉각－제 2 물 접촉각 (1)
<제 2 지우개 슬라이딩 시험>
Minoan 사 제조의 지우개 (Φ6 mm)
슬라이딩 거리 : 편도 100 mm
슬라이딩 속도 : 100 mm/초
하중 : 1 kg/6 mmΦ
슬라이딩 횟수 : 10 회According to claim 1,
An optical film with an antifouling layer, wherein the amount of change in the water contact angle of the antifouling layer determined by the second durability test is 5° or less.
Second durability test: The first water contact angle of the antifouling layer with respect to pure water is measured. Next, the antifouling layer was subjected to a second eraser sliding test based on the following conditions. After performing the second eraser sliding test, the second water contact angle of the antifouling layer with respect to pure water is measured. Next, based on the following formula (1), the amount of change in the water contact angle is calculated.
Change in water contact angle = 1st water contact angle - 2nd water contact angle (1)
<Second Eraser Sliding Test>
Eraser made by Minoan (Φ6 mm)
Sliding distance: 100 mm one way
Sliding speed: 100 mm/sec
Load: 1 kg/6 mmΦ
Number of sliding: 10 times 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 광학 기능층이 반사 방지층인, 방오층이 형성된 광학 필름.According to claim 1 or 2,
An optical film with an antifouling layer, wherein the optical function layer is an antireflection layer. 제 3 항에 있어서,
상기 반사 방지층이, 상대적으로 굴절률이 큰 고굴절률층과, 상대적으로 굴절률이 작은 저굴절률층을 교대로 갖는, 방오층이 형성된 광학 필름.According to claim 3,
The optical film with an antifouling layer, wherein the antireflection layer alternately includes a high refractive index layer having a relatively large refractive index and a low refractive index layer having a relatively small refractive index. 제 4 항에 있어서,
상기 하드 코트층이 금속 산화물 미립자를 함유하는, 방오층이 형성된 광학 필름.According to claim 4,
An optical film with an antifouling layer, wherein the hard coat layer contains metal oxide fine particles. 제 5 항에 있어서,
상기 금속 산화물 미립자가 나노실리카 입자인, 방오층이 형성된 광학 필름.According to claim 5,
An optical film with an antifouling layer, wherein the metal oxide fine particles are nanosilica particles. 삭제delete 삭제delete
KR1020227045067A 2020-07-13 2021-07-13 Optical film with antifouling layer KR102518011B1 (en)

Applications Claiming Priority (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020120131 2020-07-13
JPJP-P-2020-120131 2020-07-13
JP2020146144 2020-08-31
JPJP-P-2020-146144 2020-08-31
JP2020166844 2020-10-01
JPJP-P-2020-166844 2020-10-01
PCT/JP2021/026246 WO2022014568A1 (en) 2020-07-13 2021-07-13 Optical film with anti-fouling layer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20230005423A KR20230005423A (en) 2023-01-09
KR102518011B1 true KR102518011B1 (en) 2023-04-04

Family

ID=79555561

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227045067A KR102518011B1 (en) 2020-07-13 2021-07-13 Optical film with antifouling layer

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7130893B2 (en)
KR (1) KR102518011B1 (en)
CN (1) CN115803192B (en)
TW (1) TWI811736B (en)
WO (1) WO2022014568A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023163654A (en) * 2022-04-28 2023-11-10 日東電工株式会社 Antireflection film and image display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004088370A1 (en) 2003-03-31 2004-10-14 Zeon Corporation Protective film for polarizing plate, method for preparation thereof, polarizing plate with antireflection function, and optical article
WO2018207811A1 (en) 2017-05-12 2018-11-15 Ａｇｃ株式会社 Antifouling article and method for producing antifouling article
WO2019177120A1 (en) 2018-03-16 2019-09-19 Ａｇｃ株式会社 Film-coated base
WO2019208786A1 (en) 2018-04-27 2019-10-31 大日本印刷株式会社 Optical film, polarizing plate, and image display device
JP2020052221A (en) 2018-09-26 2020-04-02 日東電工株式会社 Optical film having protective film

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070141114A1 (en) * 2005-12-15 2007-06-21 Essilor International Compagnie Generale D'optique Article coated with an ultra high hydrophobic film and process for obtaining same
CN101523240A (en) * 2006-09-29 2009-09-02 大日本印刷株式会社 Optically functional film
JP5157162B2 (en) * 2006-12-27 2013-03-06 日本ゼオン株式会社 Antireflection laminate and method for producing the same
JP2010092003A (en) * 2008-09-11 2010-04-22 Toppan Printing Co Ltd Antireflection film
JP2011069995A (en) * 2009-09-25 2011-04-07 Toppan Printing Co Ltd Antireflection film
JP5789963B2 (en) * 2009-11-30 2015-10-07 大日本印刷株式会社 Optical film and touch panel
JP6774383B2 (en) 2016-06-17 2020-10-21 日東電工株式会社 Antireflection film and its manufacturing method, and polarizing plate with antireflection layer
JP6702022B2 (en) * 2016-06-24 2020-05-27 大日本印刷株式会社 Touch panel, multilayer film, and method for manufacturing multilayer film
JP7128571B2 (en) * 2017-02-07 2022-08-31 大日本印刷株式会社 Composition for low refractive index layer
JP6897238B2 (en) 2017-03-31 2021-06-30 大日本印刷株式会社 Optical film and image display device
JP2020037248A (en) * 2018-09-03 2020-03-12 住友化学株式会社 Laminate, and production method thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004088370A1 (en) 2003-03-31 2004-10-14 Zeon Corporation Protective film for polarizing plate, method for preparation thereof, polarizing plate with antireflection function, and optical article
WO2018207811A1 (en) 2017-05-12 2018-11-15 Ａｇｃ株式会社 Antifouling article and method for producing antifouling article
WO2019177120A1 (en) 2018-03-16 2019-09-19 Ａｇｃ株式会社 Film-coated base
WO2019208786A1 (en) 2018-04-27 2019-10-31 大日本印刷株式会社 Optical film, polarizing plate, and image display device
JP2020052221A (en) 2018-09-26 2020-04-02 日東電工株式会社 Optical film having protective film

Also Published As

Publication number Publication date
CN115803192B (en) 2024-03-19
TWI811736B (en) 2023-08-11
JPWO2022014568A1 (en) 2022-01-20
JP7130893B2 (en) 2022-09-05
WO2022014568A1 (en) 2022-01-20
CN115803192A (en) 2023-03-14
KR20230005423A (en) 2023-01-09
TW202208883A (en) 2022-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP4116083A1 (en) Optical laminate, article, and method for producing optical laminate
KR102518012B1 (en) Optical film with antifouling layer
KR102518011B1 (en) Optical film with antifouling layer
EP4116086A1 (en) Method for manufacturing optical laminate
EP4212922A1 (en) Production method for optical laminate
KR102520745B1 (en) laminate
KR102520744B1 (en) laminate
KR102522232B1 (en) laminate
TWI838633B (en) Optical film with anti-fouling layer
WO2022014572A1 (en) Optical film with antifouling layer
KR102666261B1 (en) Optical film with anti-fouling layer
JP7389259B2 (en) Optical film with antifouling layer
JP2022079332A (en) Optical film with antifouling layer

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant