JP2024070685A - Optical film with antifouling layer and method for producing same - Google Patents
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Abstract
【課題】防汚層において良好な透明外観性を実現するのに適した防汚層付き光学フィルムの製造方法および防汚層付き光学フィルムを提供する。【解決手段】本発明の防汚層付き光学フィルムＺの製造方法は、透明基材フィルム１１の一方面側に防汚層１５を形成する工程と、剥離フィルム１６の粘着面１６ａを防汚層１５に貼り合わせる工程と、剥離フィルム１６を防汚層１５から剥離する工程と、保護フィルム１７の粘着面１７ａを防汚層１５に貼り合わせる工程とを含む。防汚層１５に対する剥離フィルム１６の粘着力が０.００８Ｎ/５０ｍｍ以上である。光学フィルムＺは、透明基材フィルム１１と、防汚層１５と、保護フィルム１７とをこの順で備える。保護フィルム１７は粘着面１７ａで防汚層１５に貼着している。保護フィルム１７を備える状態での防汚層１５の厚さに対する、保護フィルム除去後の防汚層１５の厚さの比率は、０.９以上１.０以下である。【選択図】図１[Problem] To provide a manufacturing method for an optical film with an antifouling layer suitable for realizing a good transparent appearance in the antifouling layer, and an optical film with an antifouling layer. [Solution] The manufacturing method for an optical film Z with an antifouling layer of the present invention includes a step of forming an antifouling layer 15 on one side of a transparent substrate film 11, a step of bonding an adhesive surface 16a of a release film 16 to the antifouling layer 15, a step of peeling the release film 16 from the antifouling layer 15, and a step of bonding an adhesive surface 17a of a protective film 17 to the antifouling layer 15. The adhesive strength of the release film 16 to the antifouling layer 15 is 0.008 N/50 mm or more. The optical film Z comprises a transparent substrate film 11, an antifouling layer 15, and a protective film 17 in this order. The protective film 17 is attached to the antifouling layer 15 at its adhesive surface 17a. The ratio of the thickness of the antifouling layer 15 after removing the protective film to the thickness of the antifouling layer 15 with the protective film 17 is 0.9 or more and 1.0 or less. [Selected Figure] FIG. 1
Description
本発明は、防汚層付き光学フィルムおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical film with an antifouling layer and a method for producing the same.
タッチパネルディスプレイなどのディスプレイにおける画像表示側の外表面には、防汚性の観点から、例えば、防汚層付き光学フィルムが貼り合わせられる。防汚層付き光学フィルムは、透明基材フィルムと、当該透明基材フィルムの一方面側の最表面に配置された防汚層とを備える。防汚層により、ディスプレイの外表面において、手脂などの汚染物質の付着が抑制され、また、付着した汚染物質が除去されやすくなる。このような防汚層付き光学フィルムに関する技術については、例えば下記の特許文献１に記載されている。 For example, an optical film with an anti-smudge layer is attached to the outer surface of the image display side of a display such as a touch panel display from the viewpoint of anti-smudge properties. The optical film with an anti-smudge layer comprises a transparent substrate film and an anti-smudge layer disposed on the outermost surface on one side of the transparent substrate film. The anti-smudge layer prevents adhesion of contaminants such as hand oils to the outer surface of the display, and also makes it easier to remove adhered contaminants. Technology relating to such optical films with an anti-smudge layer is described, for example, in Patent Document 1 below.
防汚層付光学フィルムの製造過程において、防汚層は、例えば、ウェットコーティング法またはドライコーティング法により、撥水性の高い材料から形成される。しかしながら、当該防汚層の露出表面には、高撥水性材料が防汚層組織に充分に定着していないために白濁している部分（材料未定着部分）が生ずる場合があるという知見を、本発明者らは得た。この不具合は、防汚層がドライコーティング法によって形成される場合に、特に生じやすい。一方、防汚層は、膜強度および防汚機能の観点から、充分な厚さで形成される必要がある。しかし、形成される防汚層が厚いほど、上述の材料未定着部分も厚く形成される傾向がある。防汚層の表面における白濁の形成は、透明外観性の観点から好ましくない。 In the manufacturing process of an optical film with an antifouling layer, the antifouling layer is formed from a highly water-repellent material, for example, by a wet coating method or a dry coating method. However, the present inventors have found that the exposed surface of the antifouling layer may have opaque parts (material unfixed parts) because the highly water-repellent material is not sufficiently fixed to the antifouling layer structure. This defect is particularly likely to occur when the antifouling layer is formed by a dry coating method. On the other hand, the antifouling layer needs to be formed with a sufficient thickness from the viewpoint of film strength and antifouling function. However, the thicker the antifouling layer formed, the thicker the above-mentioned material unfixed parts tend to be formed. The formation of opaqueness on the surface of the antifouling layer is undesirable from the viewpoint of transparent appearance.
本発明は、防汚層において良好な透明外観性を実現するのに適した防汚層付き光学フィルムの製造方法および防汚層付き光学フィルムを提供する。 The present invention provides a method for producing an optical film with an antifouling layer that is suitable for achieving good transparent appearance in the antifouling layer, and an optical film with an antifouling layer.
本発明［１］は、ロールトゥロール方式で防汚層付き光学フィルムを製造する方法であって、透明基材フィルムの厚さ方向一方面側に防汚層を形成する防汚層形成工程と、前記防汚層に、粘着面を有する剥離フィルムの前記粘着面を貼り合わせる第１貼合せ工程と、前記剥離フィルムを前記防汚層から剥離する剥離工程と、前記防汚層に、粘着面を有する保護フィルムの前記粘着面を貼り合わせる第２貼合せ工程とを含み、前記防汚層に対する前記剥離フィルムの粘着力が０.００８Ｎ/５０ｍｍ以上である、防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。 The present invention [1] is a method for producing an optical film with an antifouling layer by a roll-to-roll process, and includes an antifouling layer forming step of forming an antifouling layer on one side in the thickness direction of a transparent substrate film, a first lamination step of laminating an adhesive surface of a release film having an adhesive surface to the antifouling layer, a peeling step of peeling the release film from the antifouling layer, and a second lamination step of laminating an adhesive surface of a protective film having an adhesive surface to the antifouling layer, in which the adhesive strength of the release film to the antifouling layer is 0.008 N/50 mm or more.
本発明の防汚層付き光学フィルム製造方法の第１貼合せ工程では、防汚層組織に充分に定着していない防汚層材料（未定着材料）が、剥離フィルムの粘着面に付着する。その後の剥離工程では、防汚層に対する粘着力が０.００８Ｎ/５０ｍｍ以上の剥離フィルムが、当該防汚層から剥離される。剥離フィルムの剥離時には、未定着材料の少なくとも一部が剥離フィルムに伴って防汚層から除去される。このように、防汚層形成工程後に上記の第１貼合せ工程と剥離工程とが実施されることは、防汚層表面から未定着材料を除去するのに適する。そして、第２貼合せ工程では、未定着材料の除去を経た防汚層が、保護フィルムによって被覆されて保護される。したがって、本製造方法は、防汚層において、未定着材料に起因する白濁を抑制して良好な透明外観性を実現するのに適する。 In the first lamination step of the method for manufacturing an optical film with an antifouling layer of the present invention, the antifouling layer material (unfixed material) that is not sufficiently fixed to the antifouling layer structure adheres to the adhesive surface of the release film. In the subsequent peeling step, a release film having an adhesive strength to the antifouling layer of 0.008 N/50 mm or more is peeled off from the antifouling layer. When the release film is peeled off, at least a part of the unfixed material is removed from the antifouling layer along with the release film. In this way, the first lamination step and peeling step described above are performed after the antifouling layer formation step, which is suitable for removing the unfixed material from the antifouling layer surface. Then, in the second lamination step, the antifouling layer from which the unfixed material has been removed is covered and protected by a protective film. Therefore, this manufacturing method is suitable for suppressing the cloudiness caused by the unfixed material in the antifouling layer and achieving good transparent appearance.
本発明［２］は、前記防汚層形成工程では、ドライコーティング法によって前記防汚層を形成する、上記［１］に記載の防汚層付き光学フィルムの製造方法を含む。 The present invention [2] includes the method for producing an optical film with an antifouling layer described in [1] above, in which the antifouling layer forming step forms the antifouling layer by a dry coating method.
このような構成は、防汚層が積層される下地に対する防汚層の高い接合力を確保するのに好ましく、従って、防汚層の耐剥離性を確保するのに好ましい。防汚層の耐剥離性が高いことは、防汚層の防汚機能の維持に役立つ。本製造方法は、防汚層がドライコーティング法によって形成される場合であっても、防汚層において良好な透明外観性を実現するのに適する。 Such a configuration is preferable for ensuring high adhesion of the antifouling layer to the substrate on which it is laminated, and therefore is preferable for ensuring peel resistance of the antifouling layer. High peel resistance of the antifouling layer helps maintain the antifouling function of the antifouling layer. This manufacturing method is suitable for achieving good transparent appearance in the antifouling layer, even when the antifouling layer is formed by a dry coating method.
本発明［３］は、透明基材フィルムと、防汚層と、保護フィルムとをこの順で備え、前記保護フィルムが、前記防汚層側に粘着面を有し、当該粘着面で前記防汚層に貼着しており、前記保護フィルムを備える状態での前記防汚層の厚さに対する、前記保護フィルムを除去した後の前記防汚層の厚さの比率が、０.９以上１.０以下である、防汚層付き光学フィルムを含む。 The present invention [3] includes an optical film with an antifouling layer, which comprises a transparent substrate film, an antifouling layer, and a protective film in this order, the protective film having an adhesive surface on the side of the antifouling layer and attached to the antifouling layer with the adhesive surface, and the ratio of the thickness of the antifouling layer after removing the protective film to the thickness of the antifouling layer with the protective film is 0.9 or more and 1.0 or less.
このような防汚層付き光学フィルムは、防汚層表面に未定着材料が残存する場合に、保護フィルムを防汚層から剥離することによって、当該防汚層表面から未定着材料を除去するのに適する。したがって、本防汚層付き光学フィルムは、防汚層において、未定着材料に起因する白濁を抑制して良好な透明外観性を実現するのに適する。 When unfixed material remains on the surface of the antifouling layer, such an optical film with an antifouling layer is suitable for removing the unfixed material from the surface of the antifouling layer by peeling the protective film from the antifouling layer. Therefore, this optical film with an antifouling layer is suitable for suppressing cloudiness caused by unfixed material in the antifouling layer and achieving good transparent appearance.
本発明［４］は、前記防汚層がドライコーティング膜である、上記［３］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。 The present invention [4] includes the optical film with an antifouling layer described in [3] above, in which the antifouling layer is a dry coating film.
このような構成は、防汚層が積層される下地に対する防汚層の高い接合力を確保するのに好ましく、従って、防汚層の耐剥離性を確保するのに好ましい。防汚層の耐剥離性が高いことは、防汚層の防汚機能の維持に役立つ。 Such a configuration is preferable for ensuring high adhesion of the antifouling layer to the base on which it is laminated, and therefore is preferable for ensuring peel resistance of the antifouling layer. High peel resistance of the antifouling layer helps maintain the antifouling function of the antifouling layer.
本発明［５］は、前記保護フィルムを除去した後の前記防汚層のＦ強度比が０.１８以上である、上記［３］または［４］に記載の防汚層付き光学フィルムを含む。 The present invention [5] includes an optical film with an antifouling layer according to the above [3] or [4], in which the F intensity ratio of the antifouling layer after removing the protective film is 0.18 or more.
このような構成は、防汚層において防汚機能および防汚耐久性を確保するのに好ましい。 This type of configuration is preferable for ensuring antifouling function and durability in the antifouling layer.
本発明［６］は、前記保護フィルムを除去した後の前記防汚層のＦ強度比が０.９８以下である、上記［３］から［５］のいずれか一つに記載の防汚層付き光学フィルムを含む。 The present invention [6] includes an optical film with an antifouling layer according to any one of [3] to [5] above, in which the F intensity ratio of the antifouling layer after removing the protective film is 0.98 or less.
このような構成は、防汚層付き光学フィルムの薄型化の観点から好ましい。 This type of configuration is preferable from the viewpoint of making the optical film with the antifouling layer thinner.
図１Ａから図３は、本発明の防汚層付き光学フィルムの製造方法の一実施形態の工程図である。防汚層付き光学フィルムの製造方法は、ロールトゥロール方式で実施され、本実施形態では、用意工程（図１Ａ）と、ハードコート層形成工程（図１Ｂ）と、密着層形成工程（図１Ｃ）と、反射防止層工程（図１Ｄ）と、防汚層形成工程（図２Ａ）と、第１貼合せ工程（図２Ｂ）と、剥離工程（図２Ｃ）と、第２貼合せ工程（図３）とを含む。本実施形態では、図３に示す光学フィルムＺが製造される。具体的には、以下のとおりである。 Figures 1A to 3 are process diagrams of one embodiment of the method for producing an optical film with an antifouling layer of the present invention. The method for producing an optical film with an antifouling layer is carried out by a roll-to-roll method, and in this embodiment, includes a preparation step (Figure 1A), a hard coat layer forming step (Figure 1B), an adhesion layer forming step (Figure 1C), an antireflection layer step (Figure 1D), an antifouling layer forming step (Figure 2A), a first lamination step (Figure 2B), a peeling step (Figure 2C), and a second lamination step (Figure 3). In this embodiment, an optical film Z shown in Figure 3 is produced. Specifically, it is as follows.
まず、用意工程では、図１Ａに示すように、透明基材フィルム１１を用意する。透明基材フィルム１１は、本実施形態では、ロールトゥロール方式で本製造方法を実施できるように長尺形状を有する。
First, in the preparation step, a
透明基材フィルム１１は、可撓性を有する透明な樹脂フィルムである。透明基材フィルム１１の材料としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアリレート樹脂、およびポリビニルアルコール樹脂が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、およびポリエチレンナフタレートが挙げられる。ポリオレフィン樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、およびシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。セルロース樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が挙げられる。これら材料は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。透明基材フィルム１１の材料としては、透明性および強度の観点から、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、およびセルロース樹脂からなる群より選択される一つが用いられ、より好ましくは、ＰＥＴ、ＣＯＰ、およびＴＡＣからなる群より選択される一つが用いられる。
The
透明基材フィルム１１における厚さ方向Ｄの一方面としての表面１１ａ（後述のハードコート層１２が積層される表面）は、表面改質処理されていてもよい。表面改質処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、およびカップリング剤処理が挙げられる。
透明基材フィルム１１の厚さは、強度の観点から、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上、更に好ましくは２０μｍ以上である。透明基材フィルム１１の厚さは、取扱い性の観点から、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。
From the viewpoint of strength, the thickness of the
透明基材フィルム１１の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ ７３７５－２００８）は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、更に好ましくは９５％以上である。このような構成は、タッチパネルディスプレイなどのディスプレイの表面に光学フィルムＺが備えられる場合に当該光学フィルムＺに求められる透明性を、確保するのに適する。透明基材フィルム１１の全光線透過率は、例えば１００％以下である。
The total light transmittance (JIS K 7375-2008) of the
次に、ハードコート層形成工程では、図１Ｂに示すように、透明基材フィルム１１の表面１１ａ（厚さ方向Ｄの一方面）上に、ハードコート層１２を形成する。ハードコート層１２は、光学フィルムＺの使用時の露出表面（図２Ｃに示す光学フィルムＺでの図中上面）に擦り傷が形成されにくくするための層である。ハードコート層形成工程は、ロールトゥロール方式で実施される。
Next, in the hard coat layer formation process, as shown in FIG. 1B, a
ハードコート層１２は、例えば、透明基材フィルム１１上に硬化性樹脂組成物（ワニス）を塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を乾燥および硬化させることによって形成できる。硬化性樹脂組成物は、硬化性樹脂と溶剤とを含有する。ハードコート層１２は、硬化性樹脂組成物（具体的には硬化性樹脂）の硬化物である。
The
硬化性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、アクリル樹脂（アクリルウレタン樹脂を除く）、ウレタン樹脂（アクリルウレタン樹脂を除く）、アミド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、およびメラミン樹脂が挙げられる。これら硬化性樹脂は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。ハードコート層１２の高硬度の確保の観点からは、硬化性樹脂としては、好ましくはアクリルウレタン樹脂が用いられる。
Examples of the curable resin include polyester resin, acrylic urethane resin, acrylic resin (excluding acrylic urethane resin), urethane resin (excluding acrylic urethane resin), amide resin, silicone resin, epoxy resin, and melamine resin. These curable resins may be used alone or in combination of two or more kinds. From the viewpoint of ensuring high hardness of the
また、硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性樹脂、および、熱硬化性樹脂が挙げられる。硬化性樹脂組成物が紫外線化性樹脂を含有する場合には、紫外線照射によって上記塗膜を硬化させる。硬化性樹脂組成物が熱硬化性樹脂を含有する場合には、加熱によって上記塗膜を硬化させる。高温加熱せずに硬化可能であるために光学フィルムＺの製造効率向上に役立つ観点から、硬化性樹脂としては、好ましくは紫外線硬化性樹脂が用いられる。紫外線硬化性樹脂には、紫外線硬化型モノマー、紫外線硬化型オリゴマー、および紫外線硬化型ポリマーからなる群より選択される少なくとも一種類が含まれる。紫外線硬化性樹脂を含有する組成物の具体例としては、特開２０１６－１７９６８６号公報に記載のハードコート層形成用組成物が挙げられる。 Examples of the curable resin include ultraviolet-curable resin and thermosetting resin. When the curable resin composition contains an ultraviolet-curable resin, the coating film is cured by ultraviolet irradiation. When the curable resin composition contains a thermosetting resin, the coating film is cured by heating. As the curable resin, an ultraviolet-curable resin is preferably used because it can be cured without high-temperature heating and is useful for improving the production efficiency of the optical film Z. The ultraviolet-curable resin includes at least one type selected from the group consisting of an ultraviolet-curable monomer, an ultraviolet-curable oligomer, and an ultraviolet-curable polymer. A specific example of a composition containing an ultraviolet-curable resin is a composition for forming a hard coat layer described in JP-A-2016-179686.
硬化性樹脂組成物が含有する溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジクロロメタン、およびクロロホルムが挙げられる。 Examples of solvents contained in the curable resin composition include ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dichloromethane, and chloroform.
硬化性樹脂組成物は、微粒子を含有してもよい。硬化性樹脂組成物に対する微粒子の配合は、ハードコート層１２における硬さの調整、表面粗さの調整、屈折率の調整、および防眩性の付与に、役立つ。微粒子としては、例えば、金属酸化物粒子、ガラス粒子、および有機粒子が挙げられる。金属酸化物粒子の材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化カルシウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化カドミウム、および酸化アンチモンが挙げられる。有機粒子の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、アクリル・スチレン共重合体、ベンゾグアナミン、メラミン、およびポリカーボネートが挙げられる。
The curable resin composition may contain fine particles. The incorporation of fine particles into the curable resin composition is useful for adjusting the hardness, surface roughness, and refractive index of the
ハードコート層１２の厚さは、ハードコート層１２の硬度の確保による防汚層１５表面の硬度の確保の観点から、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上、更に好ましくは５μｍ以上である。ハードコート層１２の厚さは、光学フィルムＺの柔軟性確保の観点から、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下、更に好ましくは３５μｍ以下、特に好ましくは３０μｍ以下である。
The thickness of the
ハードコート層１２における厚さ方向Ｄの一方面としての表面１２ａ（後述の密着層１３が積層される表面）は、必要に応じて表面改質処理される。表面改質処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー処理、およびカップリング剤処理が挙げられる。ハードコート層１２と密着層１３との間において高い密着力を確保する観点からは、表面１２ａは、好ましくはプラズマ処理される。表面１２ａをプラズマ処理する場合、不活性ガスとして例えばアルゴンガスを用いる。また、プラズマ処理における放電電力は、例えば１０Ｗ以上であり、また、例えば１００００Ｗ以下である。
次に、密着層形成工程では、図１Ｃに示すように、ハードコート層１２の表面１２ａ（厚さ方向Ｄの一方面）上に、密着層１３を形成する。密着層１３は、有機層（本実施形態ではハードコート層１２）に対する無機酸化物層（本実施形態では後述の反射防止層１４）の密着力を確保するための層である。このような密着層１３の材料としては、例えば、シリコン、ニッケル、クロム、アルミニウム、錫、金、銀、白金、亜鉛、チタン、タングステン、ジルコニウム、パラジウム等の金属、これら金属の２種類以上の合金、および、これら金属の酸化物が挙げられる。有機層（本実施形態ではハードコート層１２）および無機酸化物層（本実施形態では反射防止層１４）の両方に対する密着性と、密着層１３の透明性との両立の観点からは、密着層１３の材料としては、好ましくは、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）または酸化シリコン（ＳｉＯｘ）が用いられる。密着層１３の材料として酸化シリコンが用いられる場合、好ましくは、化学量論組成よりも酸素量の少ないＳｉＯｘが用いられ、より好ましくは、ｘが１.２以上１.９以下のＳｉＯｘが用いられる。
Next, in the adhesion layer forming process, as shown in FIG. 1C, an
密着層１３は、例えば、ドライコーティング法で材料を成膜することによって形成する。ドライコーティング法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、およびＣＶＤが挙げられ、好ましくはスパッタリング法が用いられる。
The
スパッタリング法では、スパッタ室内に真空条件下でガスを導入しつつ、カソード上に配置されたターゲットにマイナスの電圧を印加する。これにより、グロー放電を発生させてガス原子をイオン化し、当該ガスイオンを高速でターゲット表面に衝突させ、ターゲット表面からターゲット材料を弾き出し、弾き出たターゲット材料を所定面上に堆積させる。成膜速度の観点から、スパッタリング法としては、反応性スパッタリングが好ましい。反応性スパッタリングでは、ターゲットとして金属ターゲットを用い、上述のガスとして、アルゴンなどの不活性ガスと酸素（反応性ガス）との混合ガスを用いる。不活性ガスと酸素との流量比（ｓｃｃｍ）の調整により、成膜される無機酸化物に含まれる酸素の割合を調整できる。 In the sputtering method, a negative voltage is applied to a target placed on a cathode while gas is introduced into a sputtering chamber under vacuum conditions. This generates a glow discharge to ionize gas atoms, and the gas ions collide with the target surface at high speed, ejecting target material from the target surface, and depositing the ejected target material on a predetermined surface. From the viewpoint of film formation speed, reactive sputtering is preferred as a sputtering method. In reactive sputtering, a metal target is used as the target, and a mixed gas of an inert gas such as argon and oxygen (reactive gas) is used as the above-mentioned gas. The proportion of oxygen contained in the inorganic oxide film formed can be adjusted by adjusting the flow rate ratio (sccm) of the inert gas and oxygen.
スパッタリング法を実施するための電源としては、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＲＦ電源、および、ＭＦＡＣ電源（周波数帯が数ｋＨｚ～数ＭＨｚのＡＣ電源）が挙げられる。スパッタリング法における放電電圧は、例えば２００Ｖ以上であり、また、例えば１０００Ｖ以下である。また、スパッタリング法が実施されるスパッタ室内の成膜気圧は、好ましくは０.０１Ｐａ以上、より好ましくは０.０５Ｐａ以上、更に好ましくは０.１Ｐａ以上である。また、成膜気圧は、放電安定性の観点から、例えば２Ｐａ以下である。 Examples of power sources for carrying out the sputtering method include DC power sources, AC power sources, RF power sources, and MFAC power sources (AC power sources with a frequency band of several kHz to several MHz). The discharge voltage in the sputtering method is, for example, 200 V or more, and, for example, 1000 V or less. The film formation pressure in the sputtering chamber in which the sputtering method is carried out is preferably 0.01 Pa or more, more preferably 0.05 Pa or more, and even more preferably 0.1 Pa or more. From the viewpoint of discharge stability, the film formation pressure is, for example, 2 Pa or less.
密着層１３の厚さは、ハードコート層１２と反射防止層１４との間の密着力の確保と、密着層１３の透明性との両立の観点から、好ましくは１ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。
The thickness of the
次に、反射防止層形成工程では、図１Ｄに示すように、密着層１３における厚さ方向Ｄの一方面上に、反射防止層１４を形成する。反射防止層１４は、外光の反射強度を抑制するための層である。
Next, in the anti-reflection layer formation process, as shown in FIG. 1D, an
反射防止層１４は、相対的に屈折率が大きな高屈折率層と、相対的に屈折率が小さな低屈折率層とを、厚さ方向に交互に有する。反射防止層１４では、同層に含まれる複数の薄層（高屈折率層，低屈折率層）における複数の界面での反射光間の干渉作用により、正味の反射光強度が減衰される。また、反射防止層１４では、各薄層の光学膜厚（屈折率と厚さとの積）の調整により、反射光強度を減衰させる干渉作用を発現させることができる。このような反射防止層１４は、本実施形態において具体的には、第１高屈折率層１４ａと、第１低屈折率層１４ｂと、第２高屈折率層１４ｃと、第２低屈折率層１４ｄとを、厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で有する。
The
第１高屈折率層１４ａ、第１低屈折率層１４ｂ、第２高屈折率層１４ｃ、および第２低屈折率層１４ｄは、それぞれ、ドライコーティング法で材料を成膜することによって形成できる。ドライコーティング法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、およびＣＶＤが挙げられ、好ましくはスパッタリング法が用いられる。スパッタリング法としては、成膜速度の観点から、反応性スパッタリングが好ましい。本工程でのスパッタリング法の条件は、密着層形成工程でのスパッタリング法の条件として上記したのと同様である。
The first high
第１高屈折率層１４ａおよび第２高屈折率層１４ｃは、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.９以上の高屈折率材料からなる。高屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、高屈折率材料としては、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン、酸化ジルコニウム、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、およびアンチモンスズ酸化物（ＡＴＯ）が挙げられ、好ましくは酸化ニオブが用いられる。
The first high
第１高屈折率層１４ａの光学膜厚（屈折率と厚さとの積）は、例えば２０ｎｍ以上であり、また、例えば５５ｎｍ以下である。第２高屈折率層１４ｃの光学膜厚は、例えば６０ｎｍ以上であり、また、例えば３３０ｎｍ以下である。
The optical thickness (product of refractive index and thickness) of the first high
第１低屈折率層１４ｂおよび第２低屈折率層１４ｄは、それぞれ、波長５５０ｎｍにおける屈折率が好ましくは１.６以下の低屈折率材料からなる。低屈折率と可視光の低吸収性との両立の観点から、低屈折率材料としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）およびフッ化マグネシウムが挙げられ、好ましくは二酸化ケイ素が用いられる。
The first low-
第１低屈折率層１４ｂの光学膜厚は、例えば１５ｎｍ以上であり、また、例えば７０ｎｍ以下である。第２低屈折率層１４ｄの光学膜厚は、例えば１００ｎｍ以上であり、また、例えば１６０ｎｍ以下である。
The optical thickness of the first low
反射防止層１４の露出表面は、必要に応じて、表面改質処理される。表面改質処理としてプラズマ処理する場合、処理ガスとしては、例えば、酸素ガスおよびアルゴンガスが挙げられる。また、プラズマ処理における放電電力は、例えば１０Ｗ以上であり、好ましくは５０Ｗ以上である。同放電電力は、例えば１００００Ｗ以下であり、好ましくは８０００Ｗ以下であり、より好ましくは５０００Ｗ以下、更に好ましくは４０００Ｗ以下、特に好ましくは３０００Ｗ以下である。
The exposed surface of the
次に、防汚層形成工程では、図２Ａに示すように、反射防止層１４における厚さ方向Ｄの一方面上に、防汚層１５を形成する。防汚層１５は、防汚機能を有する層である。防汚層１５の防汚機能には、光学フィルムＺの使用時のフィルム露出面に対する手脂などの汚染物質の付着の抑制機能、および、付着した汚染物質を除去しやすくする機能が含まれる。
Next, in the anti-stain layer forming process, as shown in FIG. 2A, an
防汚層１５は、ドライコーティング法によって防汚層材料を反射防止層１４上に成膜することによって形成する。すなわち、防汚層１５は、ドライコーティング法によって形成された膜（ドライコーティング膜）である。ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、およびＣＶＤが挙げられる。防汚層１５は、好ましくは、真空蒸着法で形成された膜（真空蒸着膜）である。防汚層１５が、ドライコーティング膜（好ましくは真空蒸着膜）である構成は、下地に対する防汚層１５の高い接合力の確保に適し、従って、防汚層１５の耐剥離性の確保に適する。防汚層１５の耐剥離性が高いことは、防汚層１５の防汚機能の維持に役立つ。
The
防汚層１５の材料としては、好ましくは、フッ化アルキル基を末端に有する有機フッ素化合物が用いられる。当該有機フッ素化合物は、末端フッ化アルキル基に起因する高い疎水性と高い疎油性との重畳的発現により、防汚層１５において優れた防汚性を発現させるのに適する。このような有機フッ素化合物としては、好ましくは、下記の一般式（１）で表される、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物が用いられる。
As the material for the
Ｒ１－Ｒ２－Ｘ－(ＣＨ２)ｍ－Ｓｉ(ＯＲ３)３ （１） R 1 -R 2 -X-(CH 2 ) m -Si(OR 3 ) 3 (1)
一般式（１）において、Ｒ１は、アルキル基における一つ以上の水素原子がフッ素原子に置換された、直鎖状または分岐状のフッ化アルキル基（炭素数は例えば１以上２０以下）を表し、好ましくは、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換されたパーフルオロアルキル基を表す。 In general formula (1), R1 represents a linear or branched fluorinated alkyl group (having, for example, 1 to 20 carbon atoms) in which one or more hydrogen atoms in the alkyl group are substituted with fluorine atoms, and preferably represents a perfluoroalkyl group in which all of the hydrogen atoms in the alkyl group are substituted with fluorine atoms.
Ｒ２は、パーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）基の繰り返し構造を少なくとも一つ含む構造を表し、好ましくは、ＰＦＰＥ基の繰り返し構造を二つ含む構造を表す。ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造、および、分岐状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造が挙げられる。直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、－(ＯＣｎＦ２ｎ)ｐ－で表される構造（ｎは、１以上２０以下の整数を表し、ｐは、１以上５０以下の整数を表す。以下同じ）が挙げられる。分岐状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、例えば、－(ＯＣ(ＣＦ３)２)ｐ－で表される構造、および、－(ＯＣＦ２ＣＦ(ＣＦ３)ＣＦ２)ｐ－で表される構造が挙げられる。ＰＦＰＥ基の繰り返し構造としては、好ましくは、直鎖状ＰＦＰＥ基の繰り返し構造が挙げられ、より好ましくは、－(ＯＣＦ２)ｐ－および－(ＯＣ２Ｆ４)ｐ－が挙げられる。 R 2 represents a structure containing at least one repeating structure of a perfluoropolyether (PFPE) group, and preferably represents a structure containing two repeating structures of a PFPE group. Examples of the repeating structure of a PFPE group include a repeating structure of a linear PFPE group and a repeating structure of a branched PFPE group. Examples of the repeating structure of a linear PFPE group include a structure represented by -(OC n F 2n ) p - (n represents an integer of 1 or more and 20 or less, and p represents an integer of 1 or more and 50 or less; the same applies below). Examples of the repeating structure of a branched PFPE group include a structure represented by -(OC(CF 3 ) 2 ) p - and a structure represented by -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 ) p -. The repeating structure of the PFPE group preferably includes a repeating structure of a linear PFPE group, more preferably --(OCF 2 ) p -- and --(OC 2 F 4 ) p --.
Ｒ３は、炭素数１以上４以下アルキル基を表し、好ましくはメチル基を表す。 R3 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably represents a methyl group.
Ｘは、エーテル基、カルボニル基、アミノ基、またはアミド基を表し、好ましくはエーテル基を表す。 X represents an ether group, a carbonyl group, an amino group, or an amide group, and preferably represents an ether group.
ｍは、１以上の整数を表す。また、ｍは、好ましくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好ましくは５以下の整数を表す。 m represents an integer of 1 or more. In addition, m represents an integer of preferably 20 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 5 or less.
このようなパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物のうち、好ましくは、下記の一般式（２）に示される化合物が用いられる。 Among such alkoxysilane compounds having a perfluoropolyether group, the compound shown in the following general formula (2) is preferably used.
ＣＦ３－(ＯＣＦ２)ｑ－(ＯＣ２Ｆ４)ｒ－Ｏ－(ＣＨ２)３－Ｓｉ(ＯＣＨ３)３ （２） CF3- ( OCF2 ) q- ( OC2F4 ) r -O-( CH2 ) 3 - Si( OCH3 ) 3 (2)
一般式（２）において、ｑは、１以上５０以下の整数を表し、ｒは、１以上５０以下の整数を表す。 In general formula (2), q represents an integer of 1 or more and 50 or less, and r represents an integer of 1 or more and 50 or less.
また、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物は、単独で用いられてもよいし、二種類以上が併用されてもよい。 Alkoxysilane compounds having perfluoropolyether groups may be used alone or in combination of two or more types.
本工程では、防汚層１５の後記の厚さＴ１（剥離工程後の防汚層１５の厚さ）および厚さＴ２（保護フィルム除去後の防汚層１５の厚さ，最終狙い厚さ）より大きな厚さＴ０を有する防汚層１５を形成する。厚さＴ０は、厚さＴ１,Ｔ２より大きい限りにおいて、例えば６ｎｍ以上、好ましくは８ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、更に好ましくは１２ｎｍ以上、特に好ましくは１５ｎｍ以上である。厚さＴ１と厚さＴ０との差（Ｔ０－Ｔ１）は、好ましくは０.１ｎｍ以上、より好ましくは０.２ｎｍ以上、更に好ましくは０.３ｎｍ以上であり、また、好ましくは８ｎｍ以下、より好ましくは７ｎｍ以下、更に好ましくは６ｎｍ以下である。厚さＴ０に対する厚さＴ１の比率（Ｔ１／Ｔ０）は、好ましくは０.７以上、より好ましくは０.８以上、更に好ましくは０.８５以上であり、また、好ましくは０.９９以下、より好ましくは０.９４以下、更に好ましくは０.９０以下である。厚さＴ０に関するこれら構成は、保護フィルム除去後の防汚層１５において有意な厚さＴ２を得るのに好ましい。
In this step, the
防汚層１５の厚さの指標としてＦ強度比を用いる場合、本工程で形成される防汚層１５のＦ強度比（Ｆ強度比Ｒ０）は、例えば０.２０以上、好ましくは０.２６以上、より好ましくは０.３３以上、更に好ましくは０.３９以上、特に好ましくは０.４９以上である。後述の剥離工程後の防汚層１５のＦ強度比（Ｆ強度比Ｒ１）の、Ｆ強度比Ｒ０に対する比率（Ｒ１／Ｒ０）は、好ましくは０.７以上、より好ましくは０.８以上、更に好ましくは０.８５以上であり、また、好ましくは０.９９以下、より好ましくは０.９４以下、更に好ましくは０.９０以下である（Ｆ強度比の当該比率（Ｒ１／Ｒ０）には、防汚層１５の上記の厚さ比率（Ｔ１／Ｔ０）が反映されている。すなわち、Ｆ強度比の比率（Ｒ１／Ｒ０）と厚さ比率（Ｔ１／Ｔ０）とは同じである）。Ｆ強度比Ｒ０に関するこれら構成は、保護フィルム除去後の防汚層１５において有意な厚さＴ２を得るのに好ましい。Ｆ強度比とは、測定対象膜について所定条件での蛍光Ｘ線分析によって得られるフッ素（Ｆ）のＸ線強度（Ｆ強度）の、フッ素原子を４.９６質量％含む標準サンプルとしてのガラスについて同条件での蛍光Ｘ線分析によって得られるフッ素（Ｆ）のＸ線強度に対する比率である。標準サンプルとしてのガラスは、LGC Standards社製の「XRF-PF3」とする。Ｆ強度比の測定方法は、具体的には、実施例に関して後述するとおりである。
When the F intensity ratio is used as an index of the thickness of the
また、本工程では、防汚層１５の表面１５ａにおいて、防汚層材料が防汚層組織に充分に定着していない未定着部分（図示略）が生じる。表面１５ａにおいて、未定着部分は、白濁しており、色むらの原因となる。
In addition, in this process, unfixed areas (not shown) are generated on the
好ましくは、上述の密着層形成工程から防汚層形成工程までの一連のプロセスを、ロールトゥロール方式でワークフィルムを走行させながら一つの連続ラインで実施する。一つの連続ラインでのプロセス中、ワークフィルムは一度も大気中に出されず、好ましくは、ロール状に巻き回されない。 Preferably, the series of processes from the adhesion layer forming process to the stain-resistant layer forming process described above is carried out on one continuous line while the work film is running in a roll-to-roll manner. During the process on one continuous line, the work film is never exposed to the atmosphere, and preferably is not wound into a roll.
次に、第１貼合せ工程では、図２Ｂに示すように、防汚層１５に剥離フィルム１６を貼り合わせる。剥離フィルム１６は、同フィルムの片面に粘着面１６ａを有する。本工程では、具体的には、ロールトゥロール方式の貼合せ装置により、防汚層１５の表面１５ａに対して、剥離フィルム１６の粘着面１６ａを貼り合わせる。本工程では、防汚層１５の表面１５ａに剥離フィルム１６の粘着面１６ａ側が貼り合わされることにより、防汚層１５における上述の未定着部分（防汚層材料）が粘着面１６ａに付着する。
Next, in the first lamination step, as shown in FIG. 2B, a
剥離フィルム１６は、フィルム基材と、当該フィルム基材上の粘着剤層とを備える。粘着剤層におけるフィルム基材とは反対側の面が、粘着面１６ａを形成する。フィルム基材としては、例えば、透明基材フィルム１１に関して上記した樹脂フィルムが挙げられる。フィルム基材の厚さは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。粘着剤層の材料としては、例えば、アクリル粘着剤、ゴム粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル粘着剤、ポリウレタン粘着剤、ポリアミド粘着剤、エポキシ粘着剤、および、ビニルアルキルエーテル粘着剤が挙げられる。粘着剤層の厚さは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下である。
The
貼合せ装置において、貼合わせ温度は、好ましくは１０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、また、好ましくは１００℃以下、より好ましくは５０℃以下である。また、本工程における貼合わせ圧力は、好ましくは０.０５ＭＰａ以上、より好ましくは０.１ＭＰａ以上であり、また、好ましくは１ＭＰａ以下、より好ましくは０.８ＭＰａ以下である。 In the lamination device, the lamination temperature is preferably 10°C or higher, more preferably 20°C or higher, and is preferably 100°C or lower, more preferably 50°C or lower. The lamination pressure in this process is preferably 0.05 MPa or higher, more preferably 0.1 MPa or higher, and is preferably 1 MPa or lower, more preferably 0.8 MPa or lower.
本工程で防汚層１５に貼り合わされた剥離フィルム１６が防汚層１５に対して有する粘着力は、０.００８Ｎ/５０ｍｍ以上であり、好ましくは０.０１５Ｎ/５０ｍｍ以上、より好ましくは０.０２Ｎ/５０ｍｍ以上である。このような構成は、後述の剥離工程において上述の未定着部分が剥離フィルム１６に付着して防汚層１５から除去されうる程度の、剥離フィルム１６に対する未定着部分の良好な付着性を、確保するのに適する。また、同粘着力は、剥離フィルム１６の剥離性の観点から、好ましくは０.１Ｎ/５０ｍｍ以下であり、より好ましくは０.０９Ｎ/５０ｍｍ以下、更に好ましくは０.０８Ｎ/５０ｍｍ以下である。この粘着力は、実施例に関して後述する方法によって測定される。
The adhesive strength of the
次に、剥離工程では、図２Ｃに示すように、剥離フィルム１６を防汚層１５から剥離する。剥離速度は、例えば５～２０ｍ/分である。本工程は、ロールトゥロール方式で実施する。本工程では、剥離フィルム１６の粘着面１６ａに付着している未定着部分（防汚層材料）の少なくとも一部が、剥離フィルム１６と共に防汚層１５から除去される。これにより、上述の未定着部分の少なくとも一部が防汚層１５から除去される。上述の第１貼合せ工程と剥離工程とは、機能的に一連の工程として実施される。すなわち、第１貼合せ工程と剥離工程とは、防汚層１５の表面１５ａの未定着部分を剥離フィルム１６に転写する工程（転写工程）を構成する。
Next, in the peeling process, as shown in FIG. 2C, the
剥離工程での未定着部分（防汚層材料）の除去により、防汚層１５は薄くなる。本工程後の防汚層１５の厚さＴ１は、防汚層１５の防汚機能と防汚耐久性との両立の観点から、好ましくは４ｎｍ以上、より好ましくは６ｎｍ以上、更に好ましくは８ｎｍ以上、特に好ましくは１０ｎｍ以上である。また、厚さＴ１は、光学フィルムＺの薄型化の観点からは、好ましくは３０ｎｍ以下、より好ましくは２５ｎｍ以下、更に好ましくは２０ｎｍ以下である。
The
防汚層１５の厚さの指標としてＦ強度比を用いる場合、剥離工程後の防汚層１５のＦ強度比（Ｆ強度比Ｒ１）は、防汚層１５の防汚機能と防汚耐久性との両立の観点から、好ましくは０.０８０以上、より好ましくは０.１２５以上、更に好ましくは０.１７０以上、一層好ましくは０.１８０以上である。また、Ｆ強度比Ｒ１は、光学フィルムＺの薄型化の観点からは、好ましくは１.００以下、より好ましくは０.８００以下、更に好ましくは０.６００以下である。
When the F intensity ratio is used as an index of the thickness of the
次に、第２貼合せ工程では、図３に示すように、防汚層１５に保護フィルム１７を貼り合わせる。保護フィルム１７は、同フィルムの片面に粘着面１７ａを有する。本工程では、具体的には、ロールトゥロール方式の貼合せ装置により、防汚層１５の表面１５ａに対して、保護フィルム１７の粘着面１７ａを貼り合わせる。上述の第１貼合せ工程と剥離工程の後に防汚層１５の表面に未定着材料が残存する場合、本工程では、防汚層１５の表面１５ａに保護フィルム１７の粘着面１７ａ側が貼り合わされることにより、防汚層１５における残存未定着部分（防汚層材料）が粘着面１７ａに付着する。
Next, in the second lamination step, as shown in FIG. 3, a
保護フィルム１７は、フィルム基材と、当該フィルム基材上の粘着剤層とを備える。粘着剤層におけるフィルム基材とは反対側の面が、粘着面１７ａを形成する。フィルム基材としては、例えば、透明基材フィルム１１に関して上記した樹脂フィルムが挙げられる。フィルム基材の厚さは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは２００μｍ以下である。粘着剤層の材料としては、例えば、アクリル粘着剤、ゴム粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル粘着剤、ポリウレタン粘着剤、ポリアミド粘着剤、エポキシ粘着剤、および、ビニルアルキルエーテル粘着剤が挙げられる。粘着剤層の厚さは、好ましくは５μｍ以上、より好ましくは１０μｍ以上であり、また、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下である。
The
貼合せ装置において、貼合わせ温度は、好ましくは１０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、また、好ましくは１００℃以下、より好ましくは５０℃以下である。また、本工程における貼合わせ圧力は、好ましくは０.０５ＭＰａ以上、より好ましくは０.１ＭＰａ以上であり、また、好ましくは１ＭＰａ以下、より好ましくは０.８ＭＰａ以下である。 In the lamination device, the lamination temperature is preferably 10°C or higher, more preferably 20°C or higher, and is preferably 100°C or lower, more preferably 50°C or lower. The lamination pressure in this process is preferably 0.05 MPa or higher, more preferably 0.1 MPa or higher, and is preferably 1 MPa or lower, more preferably 0.8 MPa or lower.
本工程で防汚層１５に貼り合わされた保護フィルム１７が防汚層１５に対して有する粘着力は、好ましくは０.００８Ｎ/５０ｍｍ以上、より好ましくは０.０１５Ｎ/５０ｍｍ以上、更に好ましくは０.０２Ｎ/５０ｍｍ以上である。このような構成は、保護フィルム１７の剥離時に上述の残存未定着部分が保護フィルム１７に付着して防汚層１５から除去されうる程度の、保護フィルム１７に対する残存未定着部分の良好な付着性を、確保するのに適する。また、同粘着力は、保護フィルム１７の剥離性の観点から、好ましくは０.１Ｎ/５０ｍｍ以下であり、より好ましくは０.０９Ｎ/５０ｍｍ以下、更に好ましくは０.０８Ｎ/５０ｍｍ以下である。この粘着力は、実施例に関して後述する方法によって測定される。
The adhesive strength of the
以上のようにして、光学フィルムＺが製造される。光学フィルムＺは、透明基材フィルム１１と、ハードコート層１２と、密着層１３と、反射防止層１４と、防汚層１５と、保護フィルム１７とを、厚さ方向Ｄの一方側に向かってこの順で備える。光学フィルムＺは、厚さ方向Ｄに直交する方向（面方向）に広がる形状を有する。また、光学フィルムＺは、透明基材フィルム１１側が例えば粘着剤を介して被着体に貼り合わされて、使用される。被着体としては、例えば、タッチパネルディスプレイなどのディスプレイにおける画像表示側に配置される透明カバーが挙げられる。光学フィルムＺにおいては、保護フィルム１７によって防汚層１５を保護できる。したがって、光学フィルムＺは、保護フィルム１７が剥離されて防汚層付き光学フィルムとして使用される時まで、防汚層１５の防汚機能の維持など、防汚層付き光学フィルムとしての耐久性を確保するのに適する。
In this manner, the optical film Z is manufactured. The optical film Z includes the
光学フィルムＺにおいて、保護フィルム１７を備える状態での防汚層１５の厚さＴ１に対する、保護フィルム１７を除去（剥離）した後の防汚層１５の厚さＴ２の比率（Ｔ２／Ｔ１）は、好ましくは０.９以上、より好ましくは０.９２以上であり、また、好ましくは１.０以下または０.９９以下である。防汚層１５の厚さの指標としてＦ強度比を用いる場合、保護フィルム１７除去後の防汚層１５のＦ強度比（Ｆ強度比Ｒ２）の、剥離工程後の上述のＦ強度比Ｒ１に対する比率（Ｒ２／Ｒ１）は、好ましくは０.９以上、より好ましくは０.９２以上であり、また、好ましくは１.０以下または０.９９以下である（Ｆ強度比の当該比率（Ｒ２／Ｒ１）には、防汚層１５の厚さ比率（Ｔ２／Ｔ１）が反映されている。すなわち、Ｆ強度比の比率（Ｒ２／Ｒ１）と厚さ比率（Ｔ２／Ｔ１）とは同じである）。これら構成は、防汚層１５の表面１５ａに未定着材料が残存する場合に、保護フィルム１７を防汚層１５から剥離することによって、当該防汚層表面１５ａから未定着材料を除去するのに適する。したがって、当該構成は、防汚層１５において、未定着材料に起因する白濁を抑制して良好な透明外観性を実現するのに適する。
In the optical film Z, the ratio (T2 / T1) of the thickness T2 of the
保護フィルム１７除去後の防汚層１５の厚さＴ２は、防汚層１５の防汚機能と防汚耐久性との両立の観点から、好ましくは６ｎｍ以上、より好ましくは８ｎｍ以上、更に好ましくは１０ｎｍ以上である。また、厚さＴ２は、光学フィルムＺの薄型化の観点からは、好ましくは３０ｎｍ以下、より好ましくは２５ｎｍ以下、更に好ましくは２０ｎｍ以下、一層好ましくは１５ｎｍ以下である。
The thickness T2 of the
防汚層１５の厚さの指標としてＦ強度比を用いる場合、保護フィルム１７除去後の防汚層１５のＦ強度比Ｒ２は、防汚層１５の防汚機能と防汚耐久性との両立の観点から、好ましくは０.１８以上、より好ましくは０.２０以上、更に好ましくは０.３０以上、一層好ましくは０.３５以上、より一層好ましくは０.４０以上、特に好ましくは０.４２以上である。また、Ｆ強度比Ｒ２は、光学フィルムＺの薄型化の観点からは、好ましくは０.９８以下、より好ましくは０.８０以下、更に好ましくは０.６６以下、一層好ましくは０.５０以下である。
When the F intensity ratio is used as an index of the thickness of the
防汚層１５の表面１５ａの保護フィルム１７剥離後の水接触角（純水接触角）は、好ましくは１１０°以上であり、より好ましくは１１１°以上、更に好ましくは１１２°以上、一層好ましくは１１３°以上、特に好ましくは１１４°以上である。表面１５ａにおける水接触角がこの程度に高い構成は、防汚層１５において高い防汚性を実現するのに適する。同水接触角は、例えば１３０°以下である。水接触角は、防汚層１５の表面１５ａ（露出表面）に直径２ｍｍ以下の水滴（純水の液滴）を形成して、表面１５ａに対する当該水滴の接触角を測定することにより、求められる。表面１５ａの水接触角は、例えば、防汚層１５の組成、表面１５ａの粗さ、ハードコート層１２の組成、および、ハードコート層１２の防汚層１５側の表面の粗さの調整によって、調整できる。
The water contact angle (pure water contact angle) of the
本製造方法の第１貼合せ工程（図２Ｂ）では、上述のように、防汚層１５の組織に充分に定着していない防汚層材料（未定着材料）が、剥離フィルム１６の粘着面１６ａに付着する。剥離工程（図２Ｃ）では、防汚層１５に対する粘着力が０.００８Ｎ/５０ｍｍ以上の剥離フィルム１６が防汚層１５から剥離される。これにより、防汚層材料における上述の未定着部分の少なくとも一部が防汚層１５から除去される。すなわち、本製造方法が防汚層形成工程（図２Ａ）後に第１貼合せ工程と剥離工程とを含むことは、前記未定着材料を防汚層１５から除去するのに適する。そして、第２貼合せ工程（図３）では、未定着材料の除去を経た防汚層１５が、保護フィルム１７によって被覆されて保護される。このような製造方法は、防汚層１５において、未定着材料に起因する白濁を抑制して良好な透明外観性を実現するのに適する。
In the first lamination step (FIG. 2B) of this manufacturing method, as described above, the antifouling layer material (unfixed material) that is not sufficiently fixed to the structure of the
光学フィルムＺは、反射防止層１４を備えない光学フィルムであってもよい。そのような光学フィルムＺを製造するには、図１Ｄに示す工程において、防汚層１５の耐剥離性を確保するための無機酸化物下地層１８を、反射防止層１４の代わりに形成するのが好ましい。このような工程の後に防汚層形成工程（図２Ａ）、第１貼合せ工程（図２Ｂ）、剥離工程（図２Ｃ）および第２貼合せ工程（図３）を実施して得られる光学フィルムＺを、図４に示す。
The optical film Z may be an optical film that does not include an
無機酸化物下地層１８は、ドライコーティング法で材料を成膜することによって形成する。ドライコーティング法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、およびＣＶＤが挙げられ、好ましくはスパッタリング法が用いられる。無機酸化物下地層１８の材料としては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）およびフッ化マグネシウムが挙げられ、好ましくは二酸化ケイ素が用いられる。また、無機酸化物下地層１８の厚さは、防汚層１５の耐剥離性の確保の観点から、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは６５ｎｍ以上、更に好ましくは８０ｎｍ以上である。無機酸化物下地層１８の厚さは、例えば３００ｎｍ以下である。
The
本発明について、以下に実施例を示して具体的に説明する。本発明は実施例に限定されない。また、以下に記載されている配合量（含有量）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上述の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合量（含有量）、物性値、パラメータなど該当記載の上限（「以下」または「未満」として定義されている数値）または下限（「以上」または「超える」として定義されている数値）に代替できる。 The present invention will be specifically described below with reference to examples. The present invention is not limited to the examples. In addition, the specific numerical values of the compounding amounts (contents), physical property values, parameters, etc. described below can be replaced with the upper limit (a numerical value defined as "equal to or less than") or lower limit (a numerical value defined as "equal to or more than") of the corresponding compounding amounts (contents), physical property values, parameters, etc. described in the above-mentioned "Form for carrying out the invention".
〔実施例１〕
以下の工程を順次に実施して、防汚層付き光学フィルムを製造した。
Example 1
The following steps were carried out in order to produce an optical film with an antifouling layer.
まず、透明基材フィルムとしてのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ５０μｍ）の片面に、ハードコート層を形成した（ハードコート層形成工程）。具体的には、まず、紫外線硬化型のモノマーおよびオリゴマーの混合物（ウレタンアクリレートを主成分として含む）の酢酸ブチル溶液（品名「ユニディック１７－８０６」，固形分濃度８０質量％，ＤＩＣ社製）１００質量部（固形分換算）と、光重合開始剤（品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０６」，ＢＡＳＦ社製）５質量部と、レベリング剤（品名「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ４１００」，ＤＩＣ社製）０.０１質量部とを混合して、混合液を得た。次に、シクロペンタノン（ＣＰＮ）とプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）との混合溶媒（ＣＰＮとＰＧＭの質量比は４５：５５）の添加により、混合液の固形分濃度を３６質量％に調整した。これにより、紫外線硬化性の樹脂組成物（ワニス）を調製した。次に、上記ＰＥＴフィルムの片面に樹脂組成物を塗布して塗膜を形成した。次に、この塗膜を、加熱により乾燥させた後、紫外線照射により硬化させた。加熱の温度は９０℃とし、加熱の時間は６０秒間とした。紫外線照射では、光源として高圧水銀ランプを使用し、波長３６５ｎｍの紫外線を用い、積算照射光量を３００ｍＪ／ｃｍ２とした。これにより、ＰＥＴフィルム上に厚さ５μｍのハードコート層（ＨＣ）を形成した。 First, a hard coat layer was formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film (thickness 50 μm) as a transparent substrate film (hard coat layer formation process). Specifically, first, 100 parts by mass (solid content equivalent) of a butyl acetate solution (product name "UNIDIC 17-806", solid content concentration 80 mass%, manufactured by DIC Corporation) of a mixture of ultraviolet curing type monomers and oligomers (containing urethane acrylate as a main component), 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (product name "IRGACURE 906", manufactured by BASF Corporation), and 0.01 parts by mass of a leveling agent (product name "GRANDIC PC4100", manufactured by DIC Corporation) were mixed to obtain a mixed solution. Next, the solid content concentration of the mixed solution was adjusted to 36 mass% by adding a mixed solvent of cyclopentanone (CPN) and propylene glycol monomethyl ether (PGM) (mass ratio of CPN to PGM is 45:55). This prepared an ultraviolet-curable resin composition (varnish). Next, the resin composition was applied to one side of the PET film to form a coating film. Next, this coating film was dried by heating and then cured by ultraviolet irradiation. The heating temperature was 90°C, and the heating time was 60 seconds. For ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp was used as a light source, ultraviolet rays with a wavelength of 365 nm were used, and the cumulative irradiation amount was 300 mJ/ cm2 . This formed a hard coat layer (HC) with a thickness of 5 μm on the PET film.
次に、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、ＨＣ層付きＰＥＴフィルムのＨＣ層表面を、１.０Ｐａの真空雰囲気下でプラズマ処理した（ＨＣ層前処理工程）。このプラズマ処理では、不活性ガスとしてアルゴンガスを用い、放電電力を７８０Ｗとした。 Next, the HC layer surface of the PET film with the HC layer was plasma-treated in a vacuum atmosphere of 1.0 Pa using a roll-to-roll type plasma treatment device (HC layer pretreatment process). In this plasma treatment, argon gas was used as the inert gas, and the discharge power was 780 W.
次に、プラズマ処理後のＨＣ層付きＰＥＴフィルムのＨＣ層上に、密着層と反射防止層とを順次に形成した（スパッタ成膜工程）。具体的には、ロールトゥロール方式のスパッタ成膜装置により、ＨＣ層付きＰＥＴフィルムのＨＣ層上に、密着層としての厚さ１.５ｎｍのインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層と、第１高屈折率層としての厚さ１２ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第１低屈折率層としての厚さ２８ｎｍのＳｉＯ２層と、第２高屈折率層としての厚さ１００ｎｍのＮｂ２Ｏ５層と、第２低屈折率層としての厚さ８５ｎｍのＳｉＯ２層とを、順次に形成した。密着層の形成では、ＩＴＯターゲットを用い、不活性ガスとしてのアルゴンガスと、アルゴンガス１００体積部に対して１０体積部の反応性ガスとしての酸素ガスとを用い、放電電圧を４００Ｖとし、成膜室内の気圧（成膜気圧）を０.２Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＩＴＯ層を成膜した。第１高屈折率層の形成では、Ｎｂターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび５体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を４１５Ｖとし、成膜気圧を０.４２Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＮｂ２Ｏ５層を成膜した。第１低屈折率層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび３０体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を３５０Ｖとし、成膜気圧を０.３Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯ２層を成膜した。第２高屈折率層の形成では、Ｎｂターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび１３体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を４６０Ｖとし、成膜気圧を０.５Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＮｂ２Ｏ５層を成膜した。第２低屈折率層の形成では、Ｓｉターゲットを用い、１００体積部のアルゴンガスおよび３０体積部の酸素ガスを用い、放電電圧を３４０Ｖとし、成膜気圧を０.２５Ｐａとし、ＭＦＡＣスパッタリングによってＳｉＯ２層を成膜した。以上のようにして、ＨＣ層付きＰＥＴフィルムのＨＣ層上に、密着層を介して反射防止層（第１高屈折率層，第１低屈折率層，第２高屈折率層，第２低屈折率層）を積層形成した。 Next, an adhesive layer and an anti-reflection layer were formed in sequence on the HC layer of the PET film with the HC layer after the plasma treatment (sputtering film formation process). Specifically, a 1.5 nm thick indium tin oxide (ITO) layer as an adhesive layer, a 12 nm thick Nb 2 O 5 layer as a first high refractive index layer, a 28 nm thick SiO 2 layer as a first low refractive index layer, a 100 nm thick Nb 2 O 5 layer as a second high refractive index layer, and a 85 nm thick SiO 2 layer as a second low refractive index layer were formed in sequence on the HC layer of the PET film with the HC layer by a roll-to-roll sputtering film formation device. In the formation of the adhesion layer, an ITO target was used, argon gas as an inert gas and oxygen gas as a reactive gas of 10 volume parts per 100 volume parts of argon gas were used, the discharge voltage was set to 400 V, the pressure in the film-forming chamber (film-forming pressure) was set to 0.2 Pa, and the ITO layer was formed by MFAC sputtering. In the formation of the first high refractive index layer, an Nb target was used, 100 volume parts of argon gas and 5 volume parts of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 415 V, the film-forming pressure was set to 0.42 Pa, and the Nb 2 O 5 layer was formed by MFAC sputtering. In the formation of the first low refractive index layer, an Si target was used, 100 volume parts of argon gas and 30 volume parts of oxygen gas were used, the discharge voltage was set to 350 V, the film-forming pressure was set to 0.3 Pa, and the SiO 2 layer was formed by MFAC sputtering. In the formation of the second high refractive index layer, a Nb 2 O 5 layer was formed by MFAC sputtering using a Nb target, 100 parts by volume of argon gas and 13 parts by volume of oxygen gas, a discharge voltage of 460 V, and a deposition pressure of 0.5 Pa. In the formation of the second low refractive index layer, a Si target was used, 100 parts by volume of argon gas and 30 parts by volume of oxygen gas, a discharge voltage of 340 V, and a deposition pressure of 0.25 Pa, and a SiO 2 layer was formed by MFAC sputtering. In this manner, the anti-reflection layers (first high refractive index layer, first low refractive index layer, second high refractive index layer, and second low refractive index layer) were laminated on the HC layer of the PET film with the HC layer via the adhesive layer.
次に、反射防止層上に防汚層を形成した（防汚層形成工程）。具体的には、パーフルオロポリエーテル基含有のアルコキシシラン化合物を蒸着源として用いた真空蒸着法により、厚さ１０ｎｍの防汚層を反射防止層上に形成した。蒸着源は、信越化学工業社製の「ＫＹ１９０３－１」（パーフルオロポリエーテル基含有アルコキシシラン化合物，固形分濃度２０質量％）を乾燥して得た固形分である。また、真空蒸着法における蒸着源の加熱温度は２６０℃とした。 Next, an anti-smudge layer was formed on the anti-reflection layer (anti-smudge layer formation process). Specifically, an anti-smudge layer with a thickness of 10 nm was formed on the anti-reflection layer by a vacuum deposition method using an alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether group as a deposition source. The deposition source was a solid obtained by drying "KY1903-1" (alkoxysilane compound containing a perfluoropolyether group, solid content concentration 20% by mass) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. The heating temperature of the deposition source in the vacuum deposition method was 260°C.
上述のＨＣ層前処理工程から防汚層形成工程までの一連のプロセスは、ロールトゥロール方式でワークフィルムを走行させながら一つの連続ラインで実施した。このプロセス中、ワークフィルムは一度も大気中に出されていない。 The entire process from the HC layer pretreatment process to the anti-fouling layer formation process was carried out on a single continuous line with the work film running using the roll-to-roll method. During this process, the work film was never exposed to the atmosphere.
次に、防汚層の露出面に剥離フィルムを貼り合わせた（第１貼合せ工程）。具体的には、ロールトゥロール方式の貼合せ装置により、片面に粘着面を有する第１剥離フィルムの粘着面を、防汚層表面に貼り合わせた。使用装置において、貼合わせ圧力は０.２ＭＰａとした。第１剥離フィルムは、以下のようにして作製した。 Next, a release film was attached to the exposed surface of the antifouling layer (first lamination process). Specifically, a roll-to-roll lamination device was used to attach the adhesive surface of a first release film having an adhesive surface on one side to the surface of the antifouling layer. The lamination pressure in the device used was 0.2 MPa. The first release film was prepared as follows.
まず、撹拌機、温度計、還流冷却器および窒素ガス導入管を備える反応容器内で、ブチルアクリレート（ＢＡ）９０質量部と、アクリル酸（ＡＡ）１０質量部と、重合開始剤としての２,２'－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０.２質量部と、酢酸エチル２３４質量部とを含む混合物を、６３℃で約７時間、窒素雰囲気下にて撹拌し、反応させた（重合反応）。これにより、第１アクリルポリマーを含有する第１ポリマー溶液（固形分濃度３０質量％）を得た。次に、このポリマー溶液を、酢酸エチルで２０質量％に希釈した。次に、当該ポリマー溶液に、第１アクリルポリマー１００質量部あたり、エポキシ架橋剤（品名「ＴＥＴＲＡＤ－Ｃ」，三菱ガス化学社製）１１質量部を加えた後、当該溶液を、２５℃付近で約１分間、撹拌した。これにより、粘着剤組成物Ｃ１を得た。次に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材の片面に、粘着剤組成物Ｃ１を塗布して塗膜を形成した。次に、ＰＥＴ基材上の塗膜を、１５０℃で６０秒間加熱し、厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層の露出面に、片面にシリコーン処理を施したＰＥＴ剥離ライナー（厚さ２５μｍ）のシリコーン処理面を貼り合せた。以上のようにして、第１剥離フィルムを作製した。第１剥離フィルムの使用に際しては、粘着剤層からＰＥＴ剥離ライナーを除去した。 First, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube, a mixture containing 90 parts by mass of butyl acrylate (BA), 10 parts by mass of acrylic acid (AA), 0.2 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a polymerization initiator, and 234 parts by mass of ethyl acetate was stirred and reacted under a nitrogen atmosphere at 63°C for about 7 hours (polymerization reaction). As a result, a first polymer solution (solid concentration 30% by mass) containing a first acrylic polymer was obtained. Next, this polymer solution was diluted to 20% by mass with ethyl acetate. Next, 11 parts by mass of an epoxy crosslinking agent (product name "TETRAD-C", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) was added to the polymer solution per 100 parts by mass of the first acrylic polymer, and the solution was stirred at about 25°C for about 1 minute. As a result, a pressure-sensitive adhesive composition C1 was obtained. Next, the pressure-sensitive adhesive composition C1 was applied to one side of a polyethylene terephthalate (PET) substrate to form a coating film. Next, the coating film on the PET substrate was heated at 150°C for 60 seconds to form a 20 μm thick adhesive layer. Next, the silicone-treated surface of a PET release liner (25 μm thick) with one side silicone-treated was attached to the exposed surface of the adhesive layer. In this way, a first release film was produced. When using the first release film, the PET release liner was removed from the adhesive layer.
次に、ロールトゥロール方式で剥離フィルムを防汚層から剥離した（剥離工程）。本工程での剥離速度は１０ｍ/分とした。 Next, the release film was peeled off from the antifouling layer using a roll-to-roll method (peeling process). The peeling speed in this process was 10 m/min.
次に、防汚層の露出面に保護フィルムを貼り合わせた（第２貼合せ工程）。具体的には、ロールトゥロール方式の貼合せ装置により、片面に粘着面を有する第１保護フィルムの粘着面を、防汚層表面に貼り合わせた。使用装置において、貼合わせ圧力は０.２ＭＰａとした。第１保護フィルムとしては、第１剥離フィルムと同じものを用いた。 Next, a protective film was attached to the exposed surface of the antifouling layer (second attachment process). Specifically, a roll-to-roll attachment device was used to attach the adhesive surface of a first protective film having an adhesive surface on one side to the surface of the antifouling layer. The attachment pressure in the device used was 0.2 MPa. The first protective film was the same as the first release film.
以上のようにして、実施例１の光学フィルム（防汚層付き光学フィルム）を作製した。実施例１の光学フィルムは、透明基材フィルムと、ハードコート層と、密着層と、反射防止層と、防汚層と、保護フィルムとをこの順で備える。 In this manner, the optical film of Example 1 (optical film with an antifouling layer) was produced. The optical film of Example 1 comprises a transparent substrate film, a hard coat layer, an adhesion layer, an antireflection layer, an antifouling layer, and a protective film in this order.
〔実施例２〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例２の光学フィルムを製造した。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第２剥離フィルムを用い、第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第２保護フィルムを用いた。第２剥離フィルムは、以下のようにして作製した（第２保護フィルムとしては、第２剥離フィルムと同様に作製したものを用いた）。
Example 2
The optical film of Example 2 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following: In the first lamination step, a second release film was used instead of the first release film, and in the second lamination step, a second protective film was used instead of the first protective film. The second release film was produced as follows (the second protective film used was produced in the same manner as the second release film).
まず、バインダ分散液と、滑り剤分散液と、導電性ポリマー水溶液とを用意した。バインダ分散液は、東洋紡社製の「バイナロールＭＤ－１４８０」であり、バインダとしての飽和共重合ポリエステル樹脂の水分散液であり、ポリエステル樹脂濃度は２５質量％であある。滑り剤分散液は、滑り剤としてのカルナバワックスの水分散液である。導電性ポリマー水溶液は、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｋ社製の「Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ」であり、第１導電性ポリマーとしての０.５質量％のポリ(３,４－エチレンジオキシチオフェン)（ＰＥＤＴ）と、第２導電性ポリマーとしての０.８質量％のポリスチレンスルホネート(数平均分子量１５万)（ＰＳＳ）とを含む。次に、水とエタノールとの混合溶媒に、バインダ分散液を固形分量で１００質量部と、滑り剤分散液を固形分量で３０質量部と、導電性ポリマー水溶液を固形分量で５０質量部と、メラミン系架橋剤とを加え、約２０分間撹拌した。これにより、固形分濃度が約０.１５％のコーティング材を得た。また、片面にコロナ処理が施された透明なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ３８μｍ，幅３０ｃｍ，長さ４０ｃｍ）を用意した。そして、このＰＥＴフィルムのコロナ処理面に上述のコーティング材をバーコーターで塗布して塗膜を形成した。次に、ＰＥＴフィルム上の塗膜を、１３０℃で２分間加熱し、乾燥させた。このようにして、ＰＥＴフィルムの片面に厚さ１０ｎｍの透明なトップコート層を有する基材（トップコート付き基材）を作製した。 First, a binder dispersion, a slip agent dispersion, and a conductive polymer aqueous solution were prepared. The binder dispersion was "Binalol MD-1480" manufactured by Toyobo Co., Ltd., and was an aqueous dispersion of saturated copolymerized polyester resin as a binder, with a polyester resin concentration of 25% by mass. The slip agent dispersion was an aqueous dispersion of carnauba wax as a slip agent. The conductive polymer aqueous solution was "Baytron P" manufactured by H.C. Stark Co., Ltd., and contained 0.5% by mass of poly(3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDT) as a first conductive polymer and 0.8% by mass of polystyrene sulfonate (number average molecular weight 150,000) (PSS) as a second conductive polymer. Next, 100 parts by mass of the binder dispersion in terms of solid content, 30 parts by mass of the slip agent dispersion in terms of solid content, 50 parts by mass of the conductive polymer aqueous solution in terms of solid content, and a melamine-based crosslinking agent were added to a mixed solvent of water and ethanol, and the mixture was stirred for about 20 minutes. This resulted in a coating material with a solids concentration of approximately 0.15%. A transparent polyethylene terephthalate (PET) film (thickness 38 μm, width 30 cm, length 40 cm) with one side subjected to corona treatment was also prepared. The above-mentioned coating material was then applied to the corona-treated surface of this PET film with a bar coater to form a coating film. The coating film on the PET film was then heated at 130°C for 2 minutes and dried. In this way, a substrate (substrate with topcoat) was produced that had a transparent topcoat layer with a thickness of 10 nm on one side of the PET film.
一方、撹拌機、温度計、還流冷却器および窒素ガス導入管を備える反応容器内で、２－エチルヘキシルアクリレート１００質量部と、２－ヒドロキシエチルアクリレート４質量部と、２,２'－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０.１５質量部と、重合溶媒としてのトルエン２００質量部とを含む混合物を、７０℃で６時間、窒素雰囲気下にて撹拌し、反応させた（重合反応）。これにより、第２アクリルポリマーを含有する第２ポリマー溶液を得た。次に、この第２ポリマー溶液に、第２アクリルポリマー１００質量部あたり、イソシアネート架橋剤（品名「コロネートＬ」，東ソー社製）４質量部と、架橋触媒としてのジラウリン酸ジブチルスズ（１％酢酸エチル溶液）０.２質量部と、トルエンとを加えた後、当該溶液を、２５℃付近で約１分間、撹拌した。これにより、粘着剤組成物Ｃ２（固形分濃度２０質量％）を得た。次に、片面にシリコーン処理を施したＰＥＴ剥離ライナー（厚さ２５μｍ）のシリコーン処理面に、粘着剤組成物Ｃ２を塗布して塗膜を形成した。次に、ＰＥＴ剥離ライナー上の塗膜を、１５０℃で６０秒間加熱し、厚さ１５μｍの粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層の露出面に、上述のトップコート付き基材における、トップコート層が設けられていない面を、貼り合わせた後、５０℃および相対湿度１５％の環境下で、３日間養生（エージング）した。以上のようにして、第２剥離フィルム（第２保護フィルム）を作製した。このフィルムの使用に際しては、粘着剤層からＰＥＴ剥離ライナーを除去した。
Meanwhile, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube, a mixture containing 100 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 4 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 0.15 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN), and 200 parts by mass of toluene as a polymerization solvent was stirred and reacted under a nitrogen atmosphere at 70°C for 6 hours (polymerization reaction). This resulted in a second polymer solution containing a second acrylic polymer. Next, 4 parts by mass of an isocyanate crosslinking agent (product name: "Coronate L", manufactured by Tosoh Corporation), 0.2 parts by mass of dibutyltin dilaurate (1% ethyl acetate solution) as a crosslinking catalyst, and toluene were added to this second polymer solution per 100 parts by mass of the second acrylic polymer, and the solution was stirred at around 25°C for about 1 minute. This resulted in a pressure-sensitive adhesive composition C2 (solid content concentration 20% by mass). Next, the adhesive composition C2 was applied to the silicone-treated surface of a PET release liner (thickness 25 μm) that had been silicone-treated on one side to form a coating film. The coating film on the PET release liner was then heated at 150° C. for 60 seconds to form an adhesive layer with a thickness of 15 μm. Next, the exposed surface of the adhesive layer was bonded to the surface of the above-mentioned topcoat-coated substrate that did not have a topcoat layer, and then aged (aged) for 3 days in an environment of 50° C. and
〔実施例３〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例３の光学フィルムを製造した。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第３剥離フィルムを用い、第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第３保護フィルムを用いた。第３剥離フィルムは、粘着剤組成物Ｃ２の代わりに粘着剤組成物Ｃ３を用いたこと以外は、上述の第２剥離フィルムと同様にして作製した。粘着剤組成物Ｃ３は、固形分濃度を２０質量％から２５質量％に変えたこと以外は粘着剤組成物Ｃ２と同様にして、調製した。第３保護フィルムとしては、第３剥離フィルムと同様に作製したものを用いた。
Example 3
The optical film of Example 3 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following. In the first lamination step, the third release film was used instead of the first release film, and in the second lamination step, the third protective film was used instead of the first protective film. The third release film was produced in the same manner as the above-mentioned second release film, except that the adhesive composition C3 was used instead of the adhesive composition C2. The adhesive composition C3 was prepared in the same manner as the adhesive composition C2, except that the solid content concentration was changed from 20% by mass to 25% by mass. As the third protective film, one produced in the same manner as the third release film was used.
〔実施例４〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例４の光学フィルムを製造した。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第４剥離フィルムを用い、第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第４保護フィルムを用いた。第４剥離フィルムは、以下のようにして作製した（第４保護フィルムとしては、第４剥離フィルムと同様に作製したものを用いた）。
Example 4
The optical film of Example 4 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following: In the first lamination step, a fourth release film was used instead of the first release film, and in the second lamination step, a fourth protective film was used instead of the first protective film. The fourth release film was produced as follows (the fourth protective film used was produced in the same manner as the fourth release film).
まず、撹拌機、温度計、還流冷却器および窒素ガス導入管を備える反応容器内で、ブチルアクリレート（ＢＡ）９０質量部と、アクリル酸（ＡＡ）１０質量部と、２－ヒドロキシエチルアクリレート（２ＨＥＡ）０.１質量部と、重合開始剤としての２,２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０.２質量部と、所定量の酢酸エチルとを含む混合物を、５５℃で約８時間、窒素雰囲気下にて撹拌し、反応させた（重合反応）。これにより、第３アクリルポリマー（重量平均分子量２２０万）を含有する第３ポリマー溶液を得た。次に、このポリマー溶液に、第３アクリルポリマー１００質量部あたり、イソシアネート架橋剤（品名「コロネートＬ」，東ソー社製）０.８質量部と、シランカップリング剤（品名「ＫＢＭ４０３」，信越化学工業社製）０.２質量部とを加えて混合した。これにより、粘着剤組成物Ｃ４を得た。次に、片面にシリコーン処理を施した剥離ライナーとしての第１ＰＥＴフィルム（品名「ＭＲＦ３８」，厚さ３８μｍ，三菱化学ポリエステルフィルム社製）のシリコーン処理面に、粘着剤組成物Ｃ４を塗布して塗膜を形成した。次に、第１ＰＥＴフィルム上の塗膜を、１５５℃で６０秒間加熱し、厚さ２３μｍの粘着剤層を形成した。次に、粘着剤層の露出面に、シリコーン処理が施されていない第２ＰＥＴフィルム（厚さ３８μｍ）を基材として貼り合わせた。以上のようにして、第４剥離フィルムを作製した。第４剥離フィルムの使用に際しては、粘着剤層から、剥離ライナーとしての第１ＰＥＴフィルムを除去した。 First, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a nitrogen gas inlet tube, a mixture containing 90 parts by mass of butyl acrylate (BA), 10 parts by mass of acrylic acid (AA), 0.1 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA), 0.2 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) as a polymerization initiator, and a predetermined amount of ethyl acetate was stirred and reacted in a nitrogen atmosphere at 55°C for about 8 hours (polymerization reaction). This resulted in a third polymer solution containing a third acrylic polymer (weight average molecular weight 2.2 million). Next, 0.8 parts by mass of an isocyanate crosslinking agent (product name "Coronate L", manufactured by Tosoh Corporation) and 0.2 parts by mass of a silane coupling agent (product name "KBM403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were added and mixed per 100 parts by mass of the third acrylic polymer to this polymer solution. This resulted in the production of a pressure-sensitive adhesive composition C4. Next, the adhesive composition C4 was applied to the silicone-treated surface of a first PET film (product name "MRF38", thickness 38 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) serving as a release liner with one side silicone-treated to form a coating film. Next, the coating film on the first PET film was heated at 155°C for 60 seconds to form an adhesive layer with a thickness of 23 μm. Next, a second PET film (thickness 38 μm) that was not silicone-treated was attached as a substrate to the exposed surface of the adhesive layer. In this manner, a fourth release film was produced. When using the fourth release film, the first PET film serving as a release liner was removed from the adhesive layer.
〔実施例５〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例５の光学フィルムを製造した。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第５剥離フィルムを用い、第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第５保護フィルムを用いた。第５剥離フィルムとしては、東レフィルム加工社製の「トレファン ＢＳ ＭＳ０６」（粘着剤層付き樹脂フィルム）を用いた。第５保護フィルムとしては、第５剥離フィルムと同様のものを用いた。
Example 5
The optical film of Example 5 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following: In the first lamination step, a fifth release film was used instead of the first release film, and in the second lamination step, a fifth protective film was used instead of the first protective film. As the fifth release film, "TORAYFAN BS MS06" (a resin film with an adhesive layer) manufactured by Toray Advanced Film Co., Ltd. was used. As the fifth protective film, the same film as the fifth release film was used.
〔実施例６〕
防汚層形成工程で形成した防汚層の厚さを１０ｎｍに代えて５.７ｎｍとしたこと以外は、実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例６の光学フィルムを製造した。
Example 6
An optical film of Example 6 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except that the thickness of the antifouling layer formed in the antifouling layer-forming step was 5.7 nm instead of 10 nm.
〔実施例７〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例７の光学フィルムを製造した。スパッタ成膜工程中の第２低屈折率層の形成において、成膜気圧を０.２５Ｐａに代えて０.５Ｐａとした。防汚層形成工程（真空蒸着法）において、蒸着源の加熱温度を２６０℃に代えて２７０℃とし、且つ、形成する防汚層の厚さを１０ｎｍに代えて１６.１ｎｍとした。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第２剥離フィルムを用いた。第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第２保護フィルムを用いた。
Example 7
The optical film of Example 7 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following: In the formation of the second low refractive index layer during the sputtering film formation process, the film formation pressure was 0.5 Pa instead of 0.25 Pa. In the anti-stain layer formation process (vacuum deposition method), the heating temperature of the deposition source was 270° C. instead of 260° C., and the thickness of the anti-stain layer formed was 16.1 nm instead of 10 nm. In the first lamination process, a second release film was used instead of the first release film. In the second lamination process, a second protective film was used instead of the first protective film.
〔実施例８〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例８の光学フィルムを製造した。スパッタ成膜工程中の第２低屈折率層の形成において、成膜気圧を０.２５Ｐａに代えて０.５Ｐａとした。防汚層形成工程（真空蒸着法）において、蒸着源の加熱温度を２６０℃に代えて２４５℃とし、且つ、形成する防汚層の厚さを１０ｎｍに代えて１６.８ｎｍとした。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第２剥離フィルムを用いた。第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第２保護フィルムを用いた。
Example 8
The optical film of Example 8 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following: In the formation of the second low refractive index layer during the sputtering film formation process, the film formation pressure was 0.5 Pa instead of 0.25 Pa. In the anti-stain layer formation process (vacuum deposition method), the heating temperature of the deposition source was 245° C. instead of 260° C., and the thickness of the anti-stain layer formed was 16.8 nm instead of 10 nm. In the first lamination process, a second release film was used instead of the first release film. In the second lamination process, a second protective film was used instead of the first protective film.
〔実施例９〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例９の光学フィルムを製造した。スパッタ成膜工程中の第２低屈折率層の形成において、成膜気圧を０.２５Ｐａに代えて０.５Ｐａとした。スパッタ成膜工程と防汚層形成工程との間に、下地層前処理工程を実施した。具体的には、形成された反射防止層の表面を、ロールトゥロール方式のプラズマ処理装置により、真空雰囲気下でプラズマ処理（処理ガスは酸素ガス，放電電力は５０Ｗ）した。防汚層形成工程（真空蒸着法）において、蒸着源の加熱温度を２６０℃に代えて２７０℃とし、且つ、形成する防汚層の厚さを１０ｎｍに代えて１６.３ｎｍとした。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第２剥離フィルムを用いた。第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第２保護フィルムを用いた。
Example 9
The optical film of Example 9 was manufactured in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following: In the formation of the second low refractive index layer during the sputtering film formation process, the film formation pressure was changed from 0.25 Pa to 0.5 Pa. Between the sputtering film formation process and the antifouling layer formation process, a base layer pretreatment process was carried out. Specifically, the surface of the formed antireflection layer was plasma-treated (treatment gas: oxygen gas, discharge power: 50 W) in a vacuum atmosphere by a roll-to-roll type plasma treatment device. In the antifouling layer formation process (vacuum deposition method), the heating temperature of the deposition source was changed from 260° C. to 270° C., and the thickness of the formed antifouling layer was changed from 10 nm to 16.3 nm. In the first lamination process, a second release film was used instead of the first release film. In the second lamination process, a second protective film was used instead of the first protective film.
〔実施例１０〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、実施例１０の光学フィルムを製造した。スパッタ成膜工程中の第２低屈折率層の形成において、成膜気圧を０.２５Ｐａに代えて０.５Ｐａとした。防汚層形成工程（真空蒸着法）において、蒸着源の加熱温度を２６０℃に代えて２７０℃とし、且つ、形成する防汚層の厚さを１０ｎｍに代えて１７.０ｎｍとした。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第３剥離フィルムを用いた。第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第３保護フィルムを用いた。
Example 10
The optical film of Example 10 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following: In the formation of the second low refractive index layer during the sputtering film formation process, the film formation pressure was changed from 0.25 Pa to 0.5 Pa. In the antifouling layer formation process (vacuum deposition method), the heating temperature of the deposition source was changed from 260° C. to 270° C., and the thickness of the antifouling layer formed was changed from 10 nm to 17.0 nm. In the first lamination process, a third release film was used instead of the first release film. In the second lamination process, a third protective film was used instead of the first protective film.
〔比較例１〕
次のこと以外は実施例１の光学フィルムと同様にして、比較例１の光学フィルムを製造した。第１貼合せ工程において、第１剥離フィルムの代わりに第６剥離フィルムを用い、第２貼合せ工程において、第１保護フィルムの代わりに第６保護フィルムを用いた。第６剥離フィルムとしては、フタムラ化学社製の「ＦＳＡ０２０」（粘着剤層付き樹脂フィルム）を用いた。第６保護フィルムとしては、第６剥離フィルムと同様のものを用いた。
Comparative Example 1
The optical film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as the optical film of Example 1, except for the following. In the first lamination step, a sixth release film was used instead of the first release film, and in the second lamination step, a sixth protective film was used instead of the first protective film. As the sixth release film, "FSA020" (a resin film with an adhesive layer) manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd. was used. As the sixth protective film, the same film as the sixth release film was used.
〈粘着力の評価〉
実施例１～１０および比較例１の各製造方法において防汚層に貼り合わされた剥離フィルムが防汚層に対して示す粘着力を調べた。具体的には、まず、光学フィルム製造過程において、第１貼合せ工程後のワークフィルム（剥離フィルム付き光学フィルム）から、フィルム片（５０ｍｍ×１００ｍｍ）を切り出した。次に、フィルム片における透明基材フィルム側の面を、所定の粘着剤層を介してガラス板に貼り付けた（この粘着剤層は、上述の粘着剤組成物Ｃ４から形成された粘着剤層である）。これにより、測定試料を得た。次に、測定試料から剥離フィルムを剥離する剥離試験を実施し、剥離強度を粘着力（Ｎ/５０ｍｍ）として測定した。本測定には、引張試験機（品名「オートグラフ ＡＧ-Ｘ plus」，島津製作所製）を使用した。本測定では、測定温度を２５℃とし、防汚層表面に対する剥離フィルムの剥離角度を１８０°とし、剥離フィルムの引張速度を３０ｃｍ/分とし、剥離長さを５０ｍｍとした。その結果を表１に示す。各光学フィルムにおいて、防汚層に対する保護フィルムの粘着力は、防汚層に対する剥離フィルムの測定粘着力と同様であると考えられる。
<Evaluation of Adhesive Strength>
The adhesive strength of the release film laminated to the antifouling layer in each of the manufacturing methods of Examples 1 to 10 and Comparative Example 1 was examined. Specifically, first, in the optical film manufacturing process, a film piece (50 mm x 100 mm) was cut out from the work film (optical film with release film) after the first lamination step. Next, the surface of the film piece facing the transparent substrate film was attached to a glass plate via a predetermined adhesive layer (this adhesive layer is an adhesive layer formed from the above-mentioned adhesive composition C4). This resulted in a measurement sample. Next, a peel test was performed to peel the release film from the measurement sample, and the peel strength was measured as adhesive strength (N/50 mm). For this measurement, a tensile tester (product name "Autograph AG-X plus", manufactured by Shimadzu Corporation) was used. In this measurement, the measurement temperature was 25°C, the peel angle of the release film to the antifouling layer surface was 180°, the pulling speed of the release film was 30 cm/min, and the peel length was 50 mm. The results are shown in Table 1. For each optical film, the adhesion of the protective film to the antifouling layer is expected to be similar to the measured adhesion of the release film to the antifouling layer.
〈防汚層のＦ強度比〉
実施例１～１０および比較例１の各製造方法における第１貼合せ工程前の防汚層のＦ強度比Ｒ０と、剥離工程後の防汚層のＦ強度比Ｒ１とを、測定した。また、製造された光学フィルムから保護フィルムを除去した後の防汚層のＦ強度比Ｒ２も、測定した。Ｆ強度比とは、測定対象膜について所定条件での蛍光Ｘ線分析によって得られるフッ素（Ｆ）のＸ線強度（Ｆ強度）の、フッ素原子を４.９６質量％含む標準サンプルとしてのガラスについて同条件での蛍光Ｘ線分析によって得られるフッ素（Ｆ）のＸ線強度に対する比率である。本測定には、走査型蛍光Ｘ線分析装置（品名「ＺＳＸ ＰｒｉｍｕｓＩＩ」，リガク社製）を使用した。本測定では、LGC Standards社製の「XRF-PF3」を標準サンプルとし、測定径：３０ｍｍ、測定線：Ｆ－Ｋα、フィルタ：ＯＵＴ、スリット：標準、分光結晶：ＲＸ３５（リガク社製）、検出器：ＰＣ、ＰＨＡ：１００－３００、ピーク角度：３８．７９４ｄｅｇ.(２０sec)、Ｂ.Ｇ.角度：４３.０００ｄｅｇ.(１０ｓｅｃ)の条件で、表面層中のフッ素原子強度及び標準サンプル中のフッ素原子強度をそれぞれ測定した。Ｆ強度比Ｒ０,Ｒ１,Ｒ２、Ｆ強度比Ｒ０に対するＦ強度比Ｒ１の比率（Ｒ１／Ｒ０）、および、Ｆ強度比Ｒ１に対するＦ強度比Ｒ２の比率（Ｒ２／Ｒ１）を表１に示す。Ｆ強度比の比率（Ｒ１／Ｒ０）には、第１貼合せ工程前の防汚層の厚さＴ０に対する、剥離工程後の防汚層の厚さＴ１の比率（Ｔ１／Ｔ０）が反映されている。すなわち、Ｆ強度比の比率（Ｒ１／Ｒ０）と厚さ比率（Ｔ１／Ｔ０）とは同じである。また、Ｆ強度比の比率（Ｒ２／Ｒ１）には、剥離工程前の防汚層の厚さＴ１に対する、保護フィルム除去後の防汚層の厚さＴ２の比率（Ｔ２／Ｔ１）が反映されている。すなわち、Ｆ強度比の比率（Ｒ２／Ｒ１）と厚さ比率（Ｔ２／Ｔ１）とは同じである。
<F intensity ratio of antifouling layer>
In each of the manufacturing methods of Examples 1 to 10 and Comparative Example 1, the F intensity ratio R 0 of the antifouling layer before the first lamination step and the F intensity ratio R 1 of the antifouling layer after the peeling step were measured. In addition, the F intensity ratio R 2 of the antifouling layer after removing the protective film from the manufactured optical film was also measured. The F intensity ratio is the ratio of the X-ray intensity (F intensity) of fluorine (F) obtained by X-ray fluorescence analysis under specified conditions for the measurement target film to the X-ray intensity of fluorine (F) obtained by X-ray fluorescence analysis under the same conditions for glass as a standard sample containing 4.96 mass% fluorine atoms. For this measurement, a scanning X-ray fluorescence analyzer (product name "ZSX Primus II", manufactured by Rigaku Corporation) was used. In this measurement, the "XRF-PF3" manufactured by LGC Standards was used as the standard sample, and the fluorine atom intensity in the surface layer and the fluorine atom intensity in the standard sample were measured under the following conditions: measurement diameter: 30 mm, measurement line: F-Kα, filter: OUT, slit: standard, analyzing crystal: RX35 (manufactured by Rigaku Corporation), detector: PC, PHA: 100-300, peak angle: 38.794 deg. (20 sec), B.G. angle: 43.000 deg. (10 sec). Table 1 shows the F intensity ratios R 0 , R 1 , and R 2 , the ratio of the F intensity ratio R 1 to the F intensity ratio R 0 (R 1 /R 0 ), and the ratio of the F intensity ratio R 2 to the F intensity ratio R 1 (R 2 /R 1 ). The F intensity ratio ratio ( R1 /R0) reflects the ratio (T1/ T0 ) of the thickness T1 of the antifouling layer after the peeling step to the thickness T0 of the antifouling layer before the first bonding step . That is, the F intensity ratio ratio ( R1 / R0 ) and the thickness ratio ( T1 / T0 ) are the same. In addition, the F intensity ratio ratio ( R2 / R1 ) reflects the ratio ( T2 / T1 ) of the thickness T2 of the antifouling layer after the protective film is removed to the thickness T1 of the antifouling layer before the peeling step . That is, the F intensity ratio ratio ( R2 / R1 ) and the thickness ratio ( T2 / T1 ) are the same.
〈透明外観性〉
実施例１～１０および比較例１の各製造方法における第２貼合せ工程後に、防汚層の透明外観性を評価した。具体的には、まず、防汚層表面において、白濁部分が形成されて色むらが生じているかどうかを、保護フィルム越しに目視観察によって確認した。目視観察では、防汚層表面に対する仰角約２０°の方向からの観察を実施した。そして、防汚層の透明外観性について、色むらが生じていない場合を“良”と評価し、色むらが生じている場合を“不良”と評価した。その結果を表１に示す。
<Transparent appearance>
After the second lamination step in each of the manufacturing methods of Examples 1 to 10 and Comparative Example 1, the transparent appearance of the antifouling layer was evaluated. Specifically, first, whether or not a cloudy part was formed on the surface of the antifouling layer and color unevenness occurred was confirmed by visual observation through the protective film. In the visual observation, observation was performed from a direction at an elevation angle of about 20° to the surface of the antifouling layer. Then, the transparent appearance of the antifouling layer was evaluated as "good" when no color unevenness occurred, and as "poor" when color unevenness occurred. The results are shown in Table 1.
〈防汚耐久性〉
実施例１～１０および比較例１における各光学フィルムの防汚層の耐久性を、次のようにして調べた。まず、光学フィルムから保護フィルムを除去した後に防汚層表面の水接触角を測定し、次に、防汚層表面に対して消しゴム摺動試験を実施し、その後に、防汚層表面の水接触角を再び測定した。消しゴム摺動試験前後の各水接触角の測定においては、まず、光学フィルムの防汚層表面に、約１μＬの純水の滴下によって水滴を形成した。次に、防汚層表面上の水滴の表面と防汚層表面とがなす角度を測定した。測定には、接触角計（品名「ＤＭｏ－５０１」，協和界面科学社製）を使用した。消しゴム摺動試験では、Ｍｉｎｏａｎ社製の消しゴム（Φ６ｍｍ）を使用し、防汚層表面に対する消しゴムの荷重を１ｋｇ／６ｍｍΦとし、防汚層表面上の消しゴムの摺動距離（往復動における片道）を２０ｍｍとし、消しゴムの摺動速度を４０往復/分とし、防汚層表面に対して消しゴムを往復動させる回数は３０００往復とした。
<Anti-stain durability>
The durability of the antifouling layer of each optical film in Examples 1 to 10 and Comparative Example 1 was examined as follows. First, the protective film was removed from the optical film, and then the water contact angle of the antifouling layer surface was measured. Next, an eraser sliding test was performed on the antifouling layer surface, and then the water contact angle of the antifouling layer surface was measured again. In measuring each water contact angle before and after the eraser sliding test, first, a water droplet was formed on the antifouling layer surface of the optical film by dropping about 1 μL of pure water. Next, the angle formed between the surface of the water droplet on the antifouling layer surface and the antifouling layer surface was measured. For the measurement, a contact angle meter (trade name "DMo-501", manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used. In the eraser sliding test, an eraser (Φ6 mm) manufactured by Minoan was used, the load of the eraser on the antifouling layer surface was 1 kg/6 mmΦ, the sliding distance of the eraser on the antifouling layer surface (one way in reciprocating motion) was 20 mm, the sliding speed of the eraser was 40 reciprocations/min, and the eraser was reciprocated 3,000 times against the antifouling layer surface.
防汚層表面において、消しゴム摺動試験を経ることによる水接触角の低下の程度は、防汚性低下の程度を示す。防汚層の防汚耐久性について、消しゴム摺動試験を経ることによる水接触角の低下が１５°未満である場合を“優”と評価し、１５°以上２０°未満である場合を“良”と評価し、２０°以上である場合を“不良”と評価した。その結果を表１に示す。 On the surface of the antifouling layer, the degree of decrease in water contact angle due to the eraser sliding test indicates the degree of decrease in antifouling properties. Regarding the antifouling durability of the antifouling layer, a decrease in water contact angle due to the eraser sliding test of less than 15° was evaluated as "excellent", a decrease of 15° or more but less than 20° was evaluated as "good", and a decrease of 20° or more was evaluated as "poor". The results are shown in Table 1.
Ｆ 光学フィルム（防汚層付き光学フィルム）
Ｄ 厚さ方向
１１ 透明基材フィルム
１２ ハードコート層
１３ 密着層
１４ 反射防止層
１４ａ 第１高屈折率層
１４ｂ 第１低屈折率層
１４ｃ 第２高屈折率層
１４ｄ 第２低屈折率層
１５ 防汚層
１５ａ 表面
１６ 剥離フィルム
１６ａ 粘着面
１７ 保護フィルム
１７ａ 粘着面
１８ 無機酸化物下地層
F Optical film (optical film with antifouling layer)
Claims (6)
透明基材フィルムの厚さ方向一方面側に防汚層を形成する防汚層形成工程と、
前記防汚層に、粘着面を有する剥離フィルムの前記粘着面を貼り合わせる第１貼合せ工程と、
前記剥離フィルムを前記防汚層から剥離する剥離工程と、
前記防汚層に、粘着面を有する保護フィルムの前記粘着面を貼り合わせる第２貼合せ工程とを含み、
前記防汚層に対する前記剥離フィルムの粘着力が０.００８Ｎ/５０ｍｍ以上である、防汚層付き光学フィルムの製造方法。 A method for producing an optical film with an antifouling layer by a roll-to-roll process, comprising the steps of:
an antifouling layer forming step of forming an antifouling layer on one surface of a transparent substrate film in a thickness direction;
a first bonding step of bonding an adhesive surface of a release film having an adhesive surface to the antifouling layer;
a peeling step of peeling the release film from the antifouling layer;
a second bonding step of bonding an adhesive surface of a protective film having an adhesive surface to the antifouling layer,
A method for producing an optical film with an antifouling layer, wherein the adhesive strength of the release film to the antifouling layer is 0.008 N/50 mm or more.
前記保護フィルムが、前記防汚層側に粘着面を有し、当該粘着面で前記防汚層に貼着しており、
前記保護フィルムを備える状態での前記防汚層の厚さに対する、前記保護フィルムを除去した後の前記防汚層の厚さの比率が、０.９以上１.０以下である、防汚層付き光学フィルム。 A transparent substrate film, an antifouling layer, and a protective film are provided in this order,
the protective film has an adhesive surface on the antifouling layer side and is attached to the antifouling layer by the adhesive surface,
An optical film with an antifouling layer, wherein a ratio of a thickness of the antifouling layer after removing the protective film to a thickness of the antifouling layer with the protective film is 0.9 or more and 1.0 or less.
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