KR102493919B1 - Holding apparatus and optical apparatus - Google Patents

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캐논 가부시끼가이샤
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Abstract

수평 방향의 팽창량에 대해 중력 방향의 팽창량이 매우 작아지는 경우에도, 온도 변화에 대해 보유 지지 대상물의 위치 결정 정밀도의 관점에서 유리한 보유 지지 장치를 제공한다.
보유 지지 장치는, 물체를 둘러싸는 구조체와, 상기 물체를 보유 지지하는 보유 지지 부재와, 상기 구조체의 내벽에 마련된 베이스 부재와, 상기 베이스 부재의 상부에 탑재되어서, 상기 보유 지지 부재를 지지하는 지지 부재를 갖는다. 상기 베이스 부재의 상기 지지 부재를 지지하는 면에는, 상기 물체에 대해 수평 방향의 외측을 향하여 높이가 높아지는 제1 경사면이 형성되어 있고, 상기 지지 부재의 상기 보유 지지 부재를 지지하는 면에는, 상기 지지 부재가 상기 제1 경사면에 탑재된 상태에 있어서 상기 물체에 대해 수평 방향의 외측을 향하여 높이가 높아지는 제2 경사면이 형성되어 있고, 상기 지지 부재는 상기 제1 경사면을 따라 미끄럼 이동 가능하고, 상기 보유 지지 부재는 상기 제2 경사면을 따라 미끄럼 이동 가능하다. 보유 지지 장치는, 상기 지지 부재 및 상기 보유 지지 부재의 미끄럼 이동에 의해 상기 물체의 위치 어긋남을 허용 범위 내로 유지한다.An advantageous holding device is provided from the viewpoint of positioning accuracy of an object to be held with respect to temperature change even when the amount of expansion in the gravitational direction is very small compared to the amount of expansion in the horizontal direction.
The holding device includes a structure surrounding an object, a holding member holding the object, a base member provided on an inner wall of the structure, and a support mounted on top of the base member to support the holding member. have an absence A first inclined surface is formed on a surface of the base member that supports the support member and increases in height toward the outside in a horizontal direction with respect to the object, and on a surface of the support member that supports the holding member, a first inclined surface is formed. In a state in which the member is mounted on the first inclined surface, a second inclined surface is formed that increases in height toward the outside in a horizontal direction with respect to the object, the support member is slidable along the first inclined surface, and the holding member is slidable along the first inclined surface. The supporting member is slidable along the second inclined surface. The holding device maintains the positional displacement of the object within an allowable range due to the sliding movement of the holding member and the holding member.

Description

보유 지지 장치 및 광학 장치{HOLDING APPARATUS AND OPTICAL APPARATUS}HOLDING APPARATUS AND OPTICAL APPARATUS

본 발명은 물체를 보유 지지하는 보유 지지 장치 및 광학 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a holding device and an optical device for holding an object.

반도체 노광 장치나 액정 노광 장치 등의 정밀 기기에 있어서, 구성 요소끼리의 상대적인 위치에 대해서는 높은 정밀도가 요구된다. 그 중에서도, 광학 소자에 대해서는 특히 높은 위치 정밀도가 요구된다. 또한 근년에는, 반도체 노광 장치나 액정 노광 장치 등에 있어서는 장치의 대형화가 현저하고, 그러한 대형화에 수반되는 위치 정밀도의 유지가 엄격하게 요구된다.In precision equipment such as a semiconductor exposure device and a liquid crystal exposure device, high precision is required for the relative positions of constituent elements. Especially, high positional accuracy is requested|required about an optical element especially. In recent years, in a semiconductor exposure apparatus, a liquid crystal exposure apparatus, etc., the size of the apparatus is significantly increased, and maintenance of positional accuracy accompanying such an enlargement is strictly required.

반도체 노광 장치나 액정 노광 장치 등은 일반적으로 클린룸 내에서 예를 들어 23℃ 부근에서 사용된다. 그러나, 노광 장치 중에서 조명 광학계나 투영 광학계 등의 광이 통과하는 광로 부근에서는 온도가 높아진다. 조명 광학계의 광원부는, 수은 램프 등을 사용하기 때문에, 특히 온도가 높아진다. 예를 들어, 수은 램프에 있어서의 집광용 타원 미러는, 가동 중은 100℃ 정도까지 온도가 상승한다. 즉, 수은 램프의 타원 미러는, 가동과 가동 정지가 행해질 때마다 약 23℃ 내지 100℃의 범위에서 온도 변화가 반복된다.A semiconductor exposure device or a liquid crystal exposure device is generally used in a clean room at around 23°C, for example. However, in the exposure apparatus, the temperature rises in the vicinity of an optical path through which light such as an illumination optical system and a projection optical system passes. Since the light source part of the illumination optical system uses a mercury lamp or the like, the temperature is particularly high. For example, the condensing elliptical mirror in a mercury lamp rises in temperature by about 100°C during operation. That is, the temperature change of the elliptical mirror of the mercury lamp is repeated in the range of about 23° C. to 100° C. whenever operation and shutdown are performed.

이러한 온도 변화의 반복은, 구성 요소의 선팽창 계수에 따른 열팽창을 초래하여, 광학 소자의 위치 관계에 어긋남을 발생시킨다. 위치 관계의 어긋남을 적게 하기 위해서 저열팽창재인 인바나 세라믹스 등을 사용하는 경우가 있지만, 대형화된 부품을 저열팽창재로 제작하면 비용면에서 불리해진다. 많은 구성 요소에는, 비용이나 중량을 고려하여, 알루미늄이나 강재 등의 재질이 선택되는 경우가 많기 때문에, 부품의 대형화에 수반되는 열팽창이 야기하는 위치 관계의 어긋남을 적게 할 연구가 필요하다.Repetition of such temperature changes causes thermal expansion according to the linear expansion coefficient of the constituent elements, causing deviations in the positional relationship of the optical elements. In order to reduce the displacement of the positional relationship, invar ceramics, which is a low thermal expansion material, may be used, but manufacturing large-sized parts with a low thermal expansion material is disadvantageous in terms of cost. Since materials such as aluminum and steel are often selected for many components in consideration of cost and weight, it is necessary to reduce the deviation in positional relationship caused by thermal expansion accompanying the enlargement of parts.

특허문헌 1에서는, 높은 위치 정밀도의 요구를 만족시키기 위하여, 열팽창에 의한 위치 관계의 어긋남을 적게 하는 기구가 제안되어 있다. 특허문헌 1에서는, 광학 소자를 보유 지지하는 보유 지지 부재가, 구조체의 탑재부에 3점 받침으로 탑재되어 있다. 그 탑재부는 경사면을 갖고, 그 경사면은 열에 의한 중력 방향의 팽창량과 수평 방향의 팽창량을 고려한 경사각으로 되어 있다. 열팽창에 의한 위치 관계의 어긋남을 이 경사면으로 릴리프함으로써, 온도 변화의 전후에 있어서의 광학 소자의 위치 어긋남을 방지하고 있다.In Patent Literature 1, in order to satisfy the demand for high positional accuracy, a mechanism for reducing the shift in positional relationship due to thermal expansion is proposed. In Patent Literature 1, a holding member for holding an optical element is mounted as a three-point support on a mounting portion of a structure. The mounting portion has an inclined surface, and the inclined surface has an inclined angle considering the amount of expansion in the gravitational direction and the amount of expansion in the horizontal direction due to heat. By relieving the displacement of the positional relationship due to thermal expansion with this inclined surface, the displacement of the optical element before and after the temperature change is prevented.

일본 특허 제5506473호 공보Japanese Patent No. 5506473

장치의 대형화에 수반하여 광학 소자의 직경이 커지는 한편, 직경과는 수직인 방향의 두께는 두꺼워지지 않고, 광학 소자의 직경에 대해 두께가 매우 얇은 경우를 생각한다. 이 경우, 수평 방향(직경의 방향)의 팽창량에 대해 중력 방향(두께 방향)의 팽창량은 매우 작다. 그 때문에, 중력 방향의 팽창량과 수평 방향의 팽창량을 고려하여 경사면의 각도가 일의적으로 결정되는 특허문헌 1에서는, 경사면의 각도가 얕아져 버린다. 경사면의 각도가 얕아지면, 3군데의 경사면의 마찰 오차에 의해 마찰이 강한 방향으로 광학 소자의 위치 어긋남이 발생될 가능성이 높아진다.Consider a case where the diameter of the optical element increases with the size of the device, but the thickness in the direction perpendicular to the diameter does not increase, and the thickness is very small relative to the diameter of the optical element. In this case, the expansion amount in the gravitational direction (thickness direction) is very small with respect to the expansion amount in the horizontal direction (diameter direction). Therefore, in Patent Document 1 in which the angle of the inclined surface is uniquely determined by considering the amount of expansion in the gravitational direction and the amount of expansion in the horizontal direction, the angle of the inclined surface becomes shallow. When the angle of the inclined surface becomes shallow, the possibility that the positional displacement of the optical element occurs in the direction of strong friction due to the friction error of the three inclined surfaces increases.

본 발명은 예를 들어 수평 방향의 팽창량에 대해 중력 방향의 팽창량이 매우 작아지는 경우에도, 온도 변화에 대해 보유 지지 대상물의 위치 결정 정밀도의 점에서 유리한 보유 지지 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a holding device that is advantageous in terms of positioning accuracy of an object to be held with respect to temperature change even when the amount of expansion in the gravitational direction is very small compared to the amount of expansion in the horizontal direction, for example.

본 발명의 일 측면에 의하면, 물체를 보유 지지하는 보유 지지 장치로서, 상기 물체를 둘러싸는 구조체와, 상기 물체를 보유 지지하는 보유 지지 부재와, 상기 구조체의 내벽에 마련된 베이스 부재와, 상기 베이스 부재의 상부에 탑재되어, 상기 보유 지지 부재를 지지하는 지지 부재를 가지며, 상기 베이스 부재의 상기 지지 부재를 지지하는 면에는 상기 물체에 대해 수평 방향의 외측을 향하여 높이가 높아지는 제1 경사면이 형성되어 있으며, 상기 지지 부재의 상기 보유 지지 부재를 지지하는 면에는 상기 지지 부재가 상기 제1 경사면에 탑재된 상태에서 상기 물체에 대해 수평 방향의 외측을 향해 높이가 높아지는 제2 경사면이 형성되어 있으며, 상기 지지 부재는 상기 제1 경사면을 따라 미끄럼 이동 가능하며, 상기 보유 지지 부재는 상기 제2 경사면을 따라 미끄럼 이동 가능하고, 상기 지지 부재 및 상기 보유 지지 부재의 미끄럼 이동에 의해 상기 물체의 위치 어긋남을 허용 레벨로 유지하는 것을 특징으로 하는 보유 지지 장치가 제공된다.According to one aspect of the present invention, there is provided a holding device for holding an object, comprising a structure surrounding the object, a holding member for holding the object, a base member provided on an inner wall of the structure, and the base member. is mounted on the upper part of and has a support member for supporting the holding member, and a first inclined surface is formed on the surface of the base member supporting the support member to increase in height toward the outside in the horizontal direction with respect to the object, , A surface of the support member supporting the holding member is formed with a second inclined surface that increases in height toward the outside in a horizontal direction with respect to the object in a state in which the supporting member is mounted on the first inclined surface, and the supporting member is mounted on the first inclined surface. The member is slidable along the first inclined surface, the holding member is slidable along the second inclined surface, and the positional displacement of the object by the sliding movement of the supporting member and the holding member is permitted to a level A holding device characterized in that for holding is provided.

본 발명에 따르면, 예를 들어 수평 방향의 팽창량에 대해 중력 방향의 팽창량이 매우 작아지는 경우에도, 온도 변화에 대해 보유 지지 대상물의 위치 결정 정밀도의 점에서 유리한 보유 지지 장치를 제공할 수 있다.According to the present invention, for example, even when the amount of expansion in the gravitational direction is very small compared to the amount of expansion in the horizontal direction, it is possible to provide a holding device that is advantageous in terms of positioning accuracy of the object to be held with respect to temperature change.

도 1은 실시 형태에서의 보유 지지 장치의 구성을 도시하는 도면.
도 2는 물체의 위치 및 수평 상태가 유지되는 상태를 설명하는 도면.
도 3은 보유 지지 장치에 있어서의 미끄럼 이동 기구의 구성예를 도시하는 도면.
도 4는 보유 지지 장치에 있어서의 미끄럼 이동 기구의 다른 구성예를 도시하는 도면.
도 5는 제1 경사면과 제2 경사면의 경사 각도를 상이하게 하는 양태를 설명하는 도면.
도 6은 실시 형태에서의 광학 장치의 구성을 도시하는 도면.1 is a diagram showing the configuration of a holding device in an embodiment;
2 is a view explaining a state in which the position of an object and a horizontal state are maintained;
Fig. 3 is a diagram showing a configuration example of a sliding mechanism in the holding device.
Fig. 4 is a diagram showing another configuration example of a sliding mechanism in the holding device.
Fig. 5 is a view explaining an aspect in which the inclination angles of the first inclined surface and the second inclined surface are made different;
Fig. 6 is a diagram showing the configuration of an optical device in an embodiment;

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 실시 형태는 본 발명의 실시의 구체예를 나타내는 것에 지나지 않는 것이며, 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 실시 형태 중에서 설명되고 있는 특징의 조합 모두가 본 발명의 과제 해결을 위하여 필수인 것이라고는 할 수 없다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail with reference to drawings. In addition, the following embodiment only shows the specific example of implementation of this invention, and this invention is not limited to the following embodiment. In addition, it cannot be said that all combinations of features described in the following embodiments are essential for solving the problems of the present invention.

<제1 실시 형태><First Embodiment>

도 1은, 제1 실시 형태에서의 보유 지지 장치(100)의 구성을 도시하는 도면이다. 보유 지지 장치(100)는, 보유 지지 대상물인 물체(101)를 열부하가 발생해도 위치 어긋남이 허용 범위 내가 되도록 보유 지지하는 보유 지지 장치이다. 또한, 본 명세서 및 첨부 도면에서는, 수평 방향을 XY 평면으로 하는 XYZ 좌표계에 있어서 방향을 나타낸다. 도 1의 (a)는, 보유 지지 장치(100)의 평면도이며, 도 1의 (b)는, C-C' 선을 따르는 단면도이다.1 is a diagram showing the configuration of a holding device 100 in the first embodiment. The holding device 100 is a holding device that holds an object 101 as an object to be held so that the positional displacement is within an allowable range even when a thermal load occurs. In addition, in this specification and accompanying drawings, directions are shown in the XYZ coordinate system in which the horizontal direction is the XY plane. Fig. 1 (a) is a plan view of the holding device 100, and Fig. 1 (b) is a cross-sectional view taken along line C-C'.

보유 지지 장치(100)는, 물체(101)를 둘러싸는 구조체(110)를 갖고, 이 구조체(110)의 내벽에는, 베이스 부재(103)가 마련되어 있다. 베이스 부재(103)는, 구조체(110)와는 별체여도 되고, 구조체(110)와 일체적으로 구성되어 있어도 된다. 물체(101)는, 보유 지지 부재(106)에 의해 보유 지지되어 있다. 실시 형태에 있어서, 보유 지지 부재(106)는 물체(101)의 에지부를 복수의 개소로 보유 지지하는 복수의 보유 지지 부재를 포함할 수 있다. 복수의 보유 지지 부재는, 예를 들어 물체(101)의 외주를 따라서 등간격으로 배치된 복수(예를 들어 3개)의 보유 지지 부재로서 구현화된다. 베이스 부재(103)도, 지지 부재(102)를 통하여 복수의 보유 지지 부재를 지지하는 복수의 베이스 부재를 포함할 수 있다. 이 때 복수의 보유 지지 부재는, 복수의 보유 지지 부재에 대응하는 위치에 배치된다. 보유 지지 부재(106)는, 지지 부재(102)에 의해 지지되어 있고, 지지 부재(102)는 베이스 부재(103) 상에 탑재되어 있다.The holding device 100 has a structure 110 surrounding an object 101, and a base member 103 is provided on an inner wall of the structure 110. The base member 103 may be a separate body from the structure 110 or may be formed integrally with the structure 110 . The object 101 is held by the holding member 106 . In the embodiment, the holding member 106 may include a plurality of holding members holding the edge portion of the object 101 at a plurality of locations. The plurality of holding members are embodied as a plurality (for example, three) of holding members arranged at equal intervals along the outer circumference of the object 101 , for example. The base member 103 may also include a plurality of base members that support a plurality of holding members via the support member 102 . At this time, the plurality of holding members are disposed at positions corresponding to the plurality of holding members. The holding member 106 is supported by the supporting member 102 , and the supporting member 102 is mounted on the base member 103 .

물체(101)는, 렌즈, 미러 등의 광학 소자일 수 있다. 지지 부재(102)는, 물체(101)를 둘러싸는 환형 부재일 수 있다. 물체(101)가 렌즈, 미러 등인 경우에는, 지지 부재(102)는 도 1의 (a)에 도시된 바와 같이, 물체(101)를 둘러싸고 물체(101)를 수용하는 경통으로 구성되어 있어도 된다. 물체(101)의 위치 및 수평 상태는, 물체(101)의 보유 지지에 필요한 부품의 부품 정밀도로 보증된 위치 및 수평 상태 또는 조정 후의 위치 및 수평 상태를 기준으로 한다.The object 101 may be an optical element such as a lens or a mirror. The support member 102 may be an annular member surrounding the object 101 . When the object 101 is a lens, mirror, or the like, the support member 102 may be configured as a lens barrel that surrounds the object 101 and accommodates the object 101, as shown in FIG. 1(a). The position and horizontal state of the object 101 are based on the position and horizontal state guaranteed by the parts accuracy of the parts necessary for holding the object 101 or the position and horizontal state after adjustment.

베이스 부재(103)의 지지 부재(102)를 지지하는 면에는, 물체(101)에 대해 수평 방향의 외측을 향하여 높이가 높아지는 제1 경사면(105)이 형성되어 있다. 지지 부재(102)의, 보유 지지 부재(106)를 지지하는 면에는, 지지 부재(102)가 제1 경사면(105)에 탑재된 상태에 있어서 물체(101)의 수평 방향의 외측을 향하여 높이가 높아지는 제2 경사면(104)이 형성되어 있다. 또한, 지지 부재(102)는, 제1 경사면(105)을 따라 미끄럼 이동 가능하고, 보유 지지 부재(106)는, 제2 경사면(104)을 따라 미끄럼 이동 가능하다.On the surface of the base member 103 supporting the support member 102, a first inclined surface 105 is formed that increases in height toward the outside in the horizontal direction with respect to the object 101. The surface of the supporting member 102 that supports the holding member 106 has a height toward the outside in the horizontal direction of the object 101 in a state where the supporting member 102 is mounted on the first inclined surface 105. A second inclined surface 104 that rises is formed. Further, the support member 102 can slide along the first inclined surface 105 , and the holding member 106 can slide along the second inclined surface 104 .

또한, 보유 지지 부재(106)는, 물체(101)를 지지 부재(102) 상에서 직접 미끄럼 이동시키는 것을 피하기 위해서 물체(101)와 지지 부재(102) 사이에 개재되어 있다. 지지 부재(102)의 제2 경사면(104) 및 보유 지지 부재(106)의 하면의 적어도 한쪽에는, 원활한 미끄럼 이동을 실현하기 위한 표면 처리가 실시되어 있으면 된다. 물체(101)를 지지 부재(102) 상에서 직접 미끄럼 이동시키는 것이 가능한 경우는, 보유 지지 부재(106)는 필수적이지 않다. 마찬가지로, 지지 부재(102)의 제1 경사면(105) 및 베이스 부재(103)의 상면의 적어도 한쪽에도, 원활한 미끄럼 이동을 실현하기 위한 표면 처리가 실시되어 있으면 된다.Further, the holding member 106 is interposed between the object 101 and the supporting member 102 to avoid sliding the object 101 directly on the supporting member 102 . At least one of the second inclined surface 104 of the support member 102 and the lower surface of the holding member 106 may be subjected to surface treatment for realizing smooth sliding. When the object 101 can be directly slid on the support member 102, the holding member 106 is not essential. Similarly, at least one of the first inclined surface 105 of the supporting member 102 and the upper surface of the base member 103 may also be subjected to surface treatment to realize smooth sliding.

보유 지지 장치(100)는, 열부하가 부여되어 지지 부재(102)가 열팽창한 경우에도, 물체(101)의 위치 어긋남을 허용 범위 내에 수용하고, 그것에 의해 물체(101)의 수평 상태를 유지한다. 본 실시 형태에 있어서, 물체(101)에는, 유리나 세라믹스 등 저열팽창재가 사용되어, 물체(101)의 열팽창이 물체(101)의 위치 및 수평 상태의 필요 정밀도에 대해 매우 작은 것으로 한다. 보유 지지 부재(106)는, 물체(101)를 작은 범위로 보유 지지하는 것이 바람직하다. 그 때문에 보유 지지 부재(106)의 열팽창은, 물체(101)의 위치 및 수평 상태의 필요 정밀도에 대해 매우 작은 것으로 한다. 베이스 부재(103)도 또한, 열 용량이 크기 때문에 온도 상승이 적고, 베이스 부재(103)의 열팽창도, 물체(101)의 위치 및 수평 상태의 필요 정밀도에 대해 매우 작은 것으로 한다.The holding device 100 accommodates the displacement of the object 101 within an allowable range even when the supporting member 102 thermally expands due to a thermal load, thereby maintaining the horizontal state of the object 101 . In this embodiment, a low thermal expansion material such as glass or ceramic is used for the object 101, and the thermal expansion of the object 101 is very small relative to the required accuracy of the position and horizontal state of the object 101. The holding member 106 preferably holds the object 101 in a small range. For this reason, the thermal expansion of the holding member 106 is set to be very small relative to the required accuracy of the position and horizontal state of the object 101. Since the base member 103 also has a large heat capacity, the temperature rise is small, and the thermal expansion of the base member 103 is also very small for the required precision of the position and horizontal state of the object 101.

도 2를 참조하여, 보유 지지 장치(100)에 열부하가 부여되어도 물체(101)의 위치 및 수평 상태가 유지되는 상태를 설명한다. 도 2의 (a)는 도 1의 (b)와 동일한 상태를 나타내고 있다. 물체(101) 및 보유 지지 장치(100)는 축 대칭인 형상을 갖고, 보유 지지도 축 대칭이기 때문에, 수평면 내의 형상의 변화도 축 대칭으로 발생된다. 보유 지지 장치(100)에 열부하가 부여된 경우, 지지 부재(102)는 수평 방향으로 열팽창하지만, 베이스 부재(103)의 열팽창은 매우 작기 때문에, 지지 부재(102)는, 베이스 부재(103)의 제1 경사면(105)을 따라 상방으로 변형 또는 이동한다. 그것에 수반하여, 열팽창이 매우 작은 물체(101)와 보유 지지 부재(106)는, 보유 지지 부재(106)와 물체(101)의 자중에 의해, 지지 부재(102)의 제2 경사면(104)을 따라, 지지 부재(102)가 제1 경사면(105)을 따라 상승된 양과 대략 동등량 분만큼 하강하도록 미끄럼 이동한다. 이렇게, 보유 지지 부재(106)(즉 물체(101))는, 지지 부재(102)가 열팽창에 의해 변형 또는 이동해도 그 높이를 일정하게 유지한다. 이에 따라, 열팽창에 의한 물체(101)의 위치 어긋남을 허용 범위 내에 수용하고, 그 결과로서 물체(101)의 수평 상태 어긋남을 허용 범위 내에 억제할 수 있다. 본 실시 형태와 같이, 지지 부재(102)의 열팽창이 물체(101)의 위치 및 수평 상태의 필요 정밀도에 영향을 주는 주요인인 경우, 제1 경사면(105)과 제2 경사면(104)은 동일한 경사 각도를 가지면 된다.Referring to Fig. 2, a state in which the position and horizontal state of the object 101 is maintained even when a heat load is applied to the holding device 100 will be described. Fig. 2(a) shows the same state as Fig. 1(b). Since the object 101 and the holding device 100 have axially symmetrical shapes, and the holding is also axially symmetrical, the change in shape in the horizontal plane also occurs axially. When a thermal load is applied to the holding device 100, the supporting member 102 thermally expands in the horizontal direction, but the thermal expansion of the base member 103 is very small, so the supporting member 102 is It deforms or moves upward along the first inclined surface 105 . As a result, the object 101 and the holding member 106, whose thermal expansion is very small, move the second inclined surface 104 of the holding member 102 by the weight of the holding member 106 and the object 101. Accordingly, the support member 102 slides down along the first inclined surface 105 by an amount substantially equal to the amount raised. In this way, the holding member 106 (that is, the object 101) maintains a constant height even if the holding member 102 deforms or moves due to thermal expansion. In this way, positional displacement of the object 101 due to thermal expansion can be accommodated within an allowable range, and as a result, horizontal displacement of the object 101 can be suppressed within the allowable range. As in the present embodiment, when the thermal expansion of the support member 102 is the main factor influencing the required accuracy of the position and horizontal state of the object 101, the first inclined surface 105 and the second inclined surface 104 are inclined at the same angle. You have to have an angle.

물체(101)의 대형화에 수반하여 지지 부재(102)의 직경도 마찬가지로 대형화되지만, 중량이나 스페이스의 관계에서 중력 방향으로 두께가 취해지지 않는 경우가 있다. 특허문헌 1(일본 특허 제5506473호 공보)의 경우, 중력 방향의 팽창량과 수평 방향의 팽창량을 고려하여 경사면의 각도가 일의적으로 정해지기 때문에, 수평 방향의 팽창량에 대해 중력 방향의 팽창량이 매우 작아지는 경우는, 일의적으로 결정되는 경사면의 각도가 얕아져 버린다. 경사면의 각도가 얕아지면, 마찰 등에 의해 위치 어긋남, 나아가서는 수평 상태 어긋남이 발생될 가능성이 있다. 본 실시 형태에서는, 제1 경사면(105)과 제2 경사면(104)의 경사 각도는 지지 부재(102)의 직경이나 두께로 일의적으로 결정될 일은 없기 때문에, 제1 경사면(105)과 제2 경사면(104)의 마찰 등을 고려한 임의의 경사 각도로 설정할 수 있다. 그 때문에, 수평 방향의 팽창량에 대해 중력 방향의 팽창량이 매우 작아지는 경우에도, 물체(101)의 위치 어긋남을 허용 범위 내에 억제할 수 있다.As the size of the object 101 increases, the diameter of the supporting member 102 similarly increases, but there are cases where the thickness does not take the direction of gravity in relation to weight or space. In the case of Patent Document 1 (Japanese Patent No. 5506473), since the angle of the slope is uniquely determined in consideration of the amount of expansion in the gravitational direction and the amount of expansion in the horizontal direction, the expansion in the gravitational direction is relative to the amount of expansion in the horizontal direction. When the amount is very small, the uniquely determined angle of the slope becomes shallow. When the angle of the inclined surface becomes shallow, there is a possibility that positional displacement and consequently horizontal displacement may occur due to friction or the like. In this embodiment, since the angle of inclination between the first inclined surface 105 and the second inclined surface 104 is not uniquely determined by the diameter or thickness of the supporting member 102, the first inclined surface 105 and the second inclined surface (104) can be set to an arbitrary inclination angle considering friction and the like. Therefore, even when the amount of expansion in the gravitational direction is very small compared to the amount of expansion in the horizontal direction, the displacement of the object 101 can be suppressed within the allowable range.

제1 경사면(105)과 제2 경사면(104)의 경사 각도는, 온도 변화에 관계 없이 일정하기 때문에, 보유 지지 장치(100)는, 환경 온도가 변화하는 경우에도, 물체(101)의 위치 및 수평 상태를 항상 일정하게 유지할 수 있다.Since the inclination angle of the first inclined surface 105 and the second inclined surface 104 is constant regardless of temperature change, the holding device 100 maintains the position and position of the object 101 even when the environmental temperature changes. The horizontal state can always be maintained.

제1 경사면(105)을 따르는 지지 부재(102)의 미끄럼 이동 및 제2 경사면(104)을 따르는 보유 지지 부재(106)의 미끄럼 이동을, 보다 확실하고 또한 원활하게 행하기 위한 구성예를, 도 3 및 도 4에 도시한다. 도 3 및 도 4는, 도 1의 (b)와 마찬가지의 상태를 나타내고 있다. 도 3에 있어서, 베이스 부재(103)의 제1 경사면(105)에는, 제1 경사면(105)의 경사 방향을 따라서 연장하는 제1 가이드부(31)가 배치되어 있다. 또한, 지지 부재(102)의, 제1 경사면(105)과 대향하는 면에는, 제1 가이드부(31)에 안내되어 미끄럼 이동하는 제1 미끄럼 이동 부재(32)가 마련되어 있다. 또한, 도 3의 예에서는, 지지 부재(102)의 제2 경사면(104)에는, 제2 경사면(104)의 경사 방향을 따라서 연장하는 제2 가이드부(33)가 배치되어 있다. 또한, 보유 지지 부재(106)의 제2 경사면(104)과 대향하는 면에는, 제2 가이드부(33)에 안내되어 미끄럼 이동하는 제2 미끄럼 이동 부재(34)가 마련되어 있다. 또한, 도 3의 예에서는, 제1 가이드부(31)와 제1 미끄럼 이동 부재(32)의 조와, 제2 가이드부(33)와 제2 미끄럼 이동 부재(34)의 조가 마련되어 있지만, 어느 조만이 마련되어 있어도 된다.A configuration example for more reliably and smoothly performing the sliding movement of the support member 102 along the first inclined surface 105 and the sliding movement of the holding member 106 along the second inclined surface 104 is shown in FIG. 3 and Fig. 4. 3 and 4 show a state similar to FIG. 1(b). In FIG. 3 , a first guide portion 31 extending along the inclined direction of the first inclined surface 105 is disposed on the first inclined surface 105 of the base member 103 . Further, on a surface of the supporting member 102 facing the first inclined surface 105, a first sliding member 32 that is guided by the first guide portion 31 and slides is provided. In addition, in the example of FIG. 3 , the second guide portion 33 extending along the inclined direction of the second inclined surface 104 is disposed on the second inclined surface 104 of the supporting member 102 . Further, on a surface of the holding member 106 facing the second inclined surface 104, a second sliding member 34 that is guided by the second guide portion 33 and slides is provided. In addition, in the example of FIG. 3, although the set of the 1st guide part 31 and the 1st sliding member 32, and the set of the 2nd guide part 33 and the 2nd sliding member 34 are provided, only which set may be provided.

물체(101)의 수평 상태는, 예를 들어 물체(101) 및 보유 지지 부재(106)의 자중, 제1 경사면(105)의 경사 각도, 제2 경사면(104)의 경사 각도, 제1 가이드부(31)의 미끄럼 이동성, 제2 가이드부(33)의 미끄럼 이동성으로 결정된다. 그 때문에, 제1 가이드부(31) 및 제2 가이드부(33)는, 마찰이 적고 직선 안내가 가능한 부재이면 된다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 가이드부(31) 및 제2 가이드부(33)에는 리니어 가이드를 사용할 수 있다.The horizontal state of the object 101 is, for example, the weight of the object 101 and the holding member 106, the angle of inclination of the first inclined surface 105, the angle of inclination of the second inclined surface 104, and the first guide portion. (31) and the sliding property of the second guide portion 33 are determined. Therefore, the 1st guide part 31 and the 2nd guide part 33 should just be a member with little friction and a linear guide possible. For example, as shown in FIG. 3 , linear guides may be used for the first guide part 31 and the second guide part 33 .

또한, 가이드부와 미끄럼 이동 부재의 배치 관계는 반대여도 된다. 예를 들어, 도 4에 도시된 바와 같이, 베이스 부재(103)의 제1 경사면(105)에 제1 미끄럼 이동 부재(32)가 마련되고, 지지 부재(102)의, 제1 경사면(105)과 대향하는 면에 제1 가이드부(31)가 배치되어도 된다. 도 4의 예에서는, 제1 가이드부(31) 및 제2 가이드부(33)는 V자 홈에 의해 구성되고, 제1 미끄럼 이동 부재(32) 및 제2 미끄럼 이동 부재(34)는 볼로 구성된다. 또는, 한쪽을 리니어 가이드, 다른 쪽을 V자 홈 등으로 구성해도 된다. 도 4에 도시되는 V자형 홈에 볼을 배치하는 구성은, V자형 홈이 볼을 2점으로 받기 때문에, 이 구성을 물체(101)의 3군데에서 행함으로써, 자유도를 과부족 없이 구속할 수 있고, 변형을 물체(101)에 전달하지 않는 보유 지지를 실현할 수 있다.In addition, the arrangement|positioning relationship of a guide part and a sliding member may be reversed. For example, as shown in FIG. 4 , the first sliding member 32 is provided on the first inclined surface 105 of the base member 103, and the first inclined surface 105 of the support member 102 The 1st guide part 31 may be arrange|positioned on the surface facing . In the example of FIG. 4 , the first guide portion 31 and the second guide portion 33 are constituted by V-shaped grooves, and the first sliding member 32 and the second sliding member 34 are constituted by balls. do. Alternatively, one side may be configured with a linear guide and the other side with a V-shaped groove or the like. The structure of arranging the ball in the V-shaped groove shown in FIG. 4 is that the V-shaped groove receives the ball at two points, so by performing this configuration in three places of the object 101, the degree of freedom can be restrained without excessive or insufficient , it is possible to realize holding that does not transmit deformation to the object 101.

전술한 바와 같이, 지지 부재(102)의 열팽창이 물체(101)의 위치 및 수평 상태의 필요 정밀도에 영향을 주는 주요인인 경우, 제1 경사면(105)과 제2 경사면(104)은 동일 경사 각도를 가지면 된다. 그러나, 보유 지지 부재(106)나 베이스 부재(103)의 열팽창이 물체(101)의 위치 어긋남 허용 범위에 대해 영향을 미치는 경우도 있을 수 있다. 그러한 경우에는, 보유 지지 부재(106)나 베이스 부재(103)의 열팽창을 고려하여, 제1 경사면(105)과 제2 경사면(104)에는 다른 경사 각도를 갖게 해도 된다.As described above, when the thermal expansion of the supporting member 102 is the main factor influencing the required accuracy of the position and horizontal state of the object 101, the first inclined surface 105 and the second inclined surface 104 have the same inclination angle. should have However, there may be cases where the thermal expansion of the holding member 106 or the base member 103 affects the allowable range of displacement of the object 101. In such a case, taking thermal expansion of the holding member 106 and the base member 103 into consideration, you may give the 1st inclined surface 105 and the 2nd inclined surface 104 different inclination angles.

도 5를 사용하여 설명한다. 예를 들어, 장치에 열부하가 부여되면, 예를 들어 이하의 3개의 열팽창 작용에 의해, 물체(101)의 위치 어긋남 허용 범위에 대해 영향이 미친다고 하자. 도 5의 (a)는 그러한 영향이 미치지 않는 상태를 나타내고 있다.It is demonstrated using FIG. 5. For example, suppose that when a thermal load is applied to the device, the following three thermal expansion actions affect the permissible range of displacement of the object 101, for example. Fig. 5(a) shows a state in which such influence is not exerted.

(1) 지지 부재(102)가 수평 방향 및 중력 방향(Z 방향)으로 열팽창한다.(1) The support member 102 thermally expands in the horizontal direction and the gravitational direction (Z direction).

(2) 베이스 부재(103)의 지지 부재(102)를 보유 지지하고 있는 부분에 열부하가 걸리고, 그 부분이 수평 방향과 중력 방향으로 열팽창한다.(2) A thermal load is applied to the portion of the base member 103 holding the support member 102, and the portion thermally expands in the horizontal direction and the gravitational direction.

(3) 보유 지지 부재(106)가 중력 방향으로 열팽창한다.(3) The holding member 106 thermally expands in the direction of gravity.

도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, 지지 부재(102)는, 베이스 부재(103)의 수평 방향의 열팽창과 지지 부재(102)의 수평 방향의 열팽창만큼, 베이스 부재(103)의 제1 경사면(105)을 따라 상방으로 변형되기 때문에, 반중력 방향으로 위치 어긋남한다. 그 외에도, 베이스 부재(103)의 중력 방향의 열팽창과, 지지 부재(102)의 중력 방향의 열팽창과, 보유 지지 부재(106)의 중력 방향의 열팽창만큼, 물체(101)는 반중력 방향으로 위치가 어긋날 수 있다. 물체(101)는, 지지 부재(102)가 베이스 부재(103)의 제1 경사면(105)을 따라 상방으로 변형되어 위치가 어긋난 만큼과, 베이스 부재(103), 지지 부재(102), 보유 지지 부재(106) 각각이 중력 방향으로 열팽창하여 위치가 어긋난 만큼, 중력 방향으로 하강할 필요가 있다. 그 때문에, 제2 경사면(104)의 경사 각도는, 베이스 부재(103)의 수평 방향으로 열팽창한 만큼과, 베이스 부재(103), 지지 부재(102), 보유 지지 부재(106) 각각이 중력 방향으로 열팽창하여 위치가 어긋난 만큼을 고려한 각도만큼 제1 경사면(105)보다도 급하게 되어 있다.As shown in (b) of FIG. 5 , the support member 102 is equal to the thermal expansion of the base member 103 in the horizontal direction and the thermal expansion of the support member 102 in the horizontal direction, the first portion of the base member 103 Since it is deformed upward along the inclined surface 105, it is displaced in the anti-gravity direction. In addition, as much as the thermal expansion of the base member 103 in the gravitational direction, the thermal expansion of the support member 102 in the gravitational direction, and the thermal expansion of the holding member 106 in the gravitational direction, the object 101 is positioned in the anti-gravity direction. may be out of sync The object 101 is determined by the extent to which the support member 102 is deformed upward along the first inclined surface 105 of the base member 103 and is displaced, and the base member 103, the support member 102, and the holding Each of the members 106 needs to descend in the direction of gravity by the amount of displacement caused by thermal expansion in the direction of gravity. Therefore, the inclination angle of the second inclined surface 104 is determined by the amount of thermal expansion of the base member 103 in the horizontal direction, and the base member 103, the supporting member 102, and the holding member 106, respectively, in the gravitational direction. It is steeper than the first inclined surface 105 by an angle considering the displacement due to thermal expansion.

이와 같이, 제1 경사면(105)과 제2 경사면(104)에는 다른 경사 각도를 갖게 할 수도 있다. 이 때, 제1 경사면(105)과 제2 경사면(104)의 각도 차는, 보유 지지 부재(106), 지지 부재(102) 및 베이스 부재(103) 각각의 열팽창량에 기초하여 설정될 수 있다. 이에 의해, 물체(101)는, 베이스 부재(103), 지지 부재(102), 보유 지지 부재(106) 각각의 열팽창에 의한 위치 어긋남을 허용 범위 내에 억제할 수 있고, 그 결과, 물체(101)의 수평 상태를 유지할 수 있다.In this way, the first inclined surface 105 and the second inclined surface 104 may have different inclination angles. At this time, the angle difference between the first inclined surface 105 and the second inclined surface 104 can be set based on the amount of thermal expansion of each of the holding member 106, the supporting member 102, and the base member 103. As a result, the object 101 can suppress positional displacement due to thermal expansion of the base member 103, the support member 102, and the holding member 106 within an allowable range, and as a result, the object 101 can be maintained in a horizontal state.

<제2 실시 형태><Second Embodiment>

다음에, 전술한 보유 지지 장치를 이용한 광학 장치의 실시 형태를 설명한다. 이 실시 형태에서의 광학 장치는, 광학 소자와, 전술한 보유 지지 장치를 갖고, 보유 지지 장치는, 전술한 보유 지지 대상물인 물체로서 광학 소자를 보유 지지하는 것이다.Next, an embodiment of an optical device using the holding device described above will be described. The optical device in this embodiment has an optical element and the holding device described above, and the holding device holds the optical element as an object that is the object to be held.

도 6은, 본 실시 형태에서의 광학 장치의 일례인 광원 장치(400)의 구성을 도시하는 도면이다. 광원 장치(400)는, 광원(407)과, 광원(407)으로부터의 광을 소정 방향으로 반사시키는 광학 소자로서의 리플렉터를 갖는다. 본 실시 형태에 있어서, 광원(407)은, 예를 들어 수은 램프나 할로겐 램프일 수 있다. 또한, 리플렉터는, 타원 미러(401a)와 구면 미러(401b)를 포함할 수 있다.6 is a diagram showing the configuration of a light source device 400 as an example of an optical device in this embodiment. The light source device 400 has a light source 407 and a reflector as an optical element that reflects light from the light source 407 in a predetermined direction. In this embodiment, the light source 407 can be, for example, a mercury lamp or a halogen lamp. In addition, the reflector may include an elliptical mirror 401a and a spherical mirror 401b.

구면 미러(40lb)는, 광원(407)의 전극간에 있는 휘점이 반사 구면의 중심이 되도록 배치된다. 구면 미러(40lb)는, 광원(407)으로부터의 광을 반사시켜서 광원의 휘점으로 일단 되돌려, 그대로 음측 전극(409a)과 양측 전극(409b) 사이를 통과시켜, 타원 미러(401a)로 유도한다. 타원 미러(401a)는, 광원(407)의 음측 전극(409a)과 양측 전극(409b) 사이에 있는 휘점이 반사 타원면의 제1 초점이 되도록 배치된다. 타원 미러(401a)는, 광원(407)으로부터의 광과 구면 미러(40lb)로부터 반사된 광을 제2 촛점에 집광시킨다.The spherical mirror 401b is arranged so that the bright spot between the electrodes of the light source 407 is the center of the reflective spherical surface. The spherical mirror 401b reflects the light from the light source 407, once returns it to the bright spot of the light source, passes it as it is between the negative electrode 409a and the both electrodes 409b, and guides it to the elliptical mirror 401a. The elliptical mirror 401a is arranged such that a bright spot between the negative side electrode 409a and both side electrodes 409b of the light source 407 is the first focal point of the reflection ellipsoid. The elliptical mirror 401a condenses the light from the light source 407 and the light reflected from the spherical mirror 401b to a second focal point.

이들 타원 미러(401a) 및 구면 미러(40lb)는 각각 도시된 바와 같이, 보유 지지 장치(100)에 의해 보유 지지된다. 또한, 타원 미러(401a)를 보유 지지하는 보유 지지 장치(100)는, 구동 기구(408) 상에 설치되어 있다. 구동 기구(408)는, 보유 지지 장치(100)를 통하여 타원 미러(401)를 중력 방향으로 이동시키고, 그것에 의해 제2 촛점에서의 광의 집광 정도를 변화시킬 수 있다.These elliptical mirrors 401a and spherical mirrors 401b are each held by the holding device 100, as shown. In addition, the holding device 100 holding the elliptical mirror 401a is installed on the driving mechanism 408 . The driving mechanism 408 can move the elliptical mirror 401 in the direction of gravity via the holding device 100, thereby changing the condensing degree of light at the second focal point.

보유 지지 장치(100)가 구면 미러(40lb)를 보유 지지함으로써, 광원(407)에 의해 열부하가 부여되었다고 해도, 구면 미러(40lb)의 위치 어긋남을 허용 범위 내에 억제할 수 있다. 이에 의해, 반사된 광을 음측 전극(409a)과 양측 전극(409b)에 닿지 않고 통과시킬 수 있다.By holding the spherical mirror 40lb in the holding device 100, even if a heat load is applied by the light source 407, positional displacement of the spherical mirror 40lb can be suppressed within an allowable range. Accordingly, the reflected light can be passed without reaching the negative side electrode 409a and the both side electrodes 409b.

또한, 보유 지지 장치(100)가 타원 미러(401a)를 보유 지지함으로써, 광원(407)에 의해 열부하가 부여되었다고 해도, 타원 미러(401a)의 위치 어긋남을 허용 범위 내에 억제할 수 있다. 이에 의해, 광원(407)으로부터의 광과 구면 미러(40lb)로부터 반사된 광을, 정밀도 양호하게 제2 촛점에 집광시킬 수 있다.In addition, since the holding device 100 holds the elliptical mirror 401a, even if a heat load is applied by the light source 407, the displacement of the elliptical mirror 401a can be suppressed within an allowable range. This makes it possible to converge the light from the light source 407 and the light reflected from the spherical mirror 401b to the second focal point with good accuracy.

이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대해 설명했지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않고, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these embodiment, A various deformation|transformation and change are possible within the scope of the summary.

100: 보유 지지 장치
101: 물체
102: 지지 부재
103: 베이스 부재
106: 보유 지지 부재
110: 구조체100: holding device
101: object
102: support member
103: base member
106: holding member
110: structure

Claims (10)

물체를 보유 지지하는 보유 지지 장치이며,
상기 물체를 둘러싸는 구조체와,
상기 물체를 보유 지지하는 보유 지지 부재와,
상기 구조체의 내벽에 마련된 베이스 부재와,
상기 베이스 부재의 상부에 탑재되어서, 상기 보유 지지 부재를 지지하는 지지 부재를 갖고,
상기 베이스 부재의 상기 지지 부재를 지지하는 면에는, 상기 물체에 대해 수평 방향의 외측을 향하여 높이가 높아지는 제1 경사면이 형성되어 있고,
상기 지지 부재의 상기 보유 지지 부재를 지지하는 면에는, 상기 지지 부재가 상기 제1 경사면에 탑재된 상태에 있어서 상기 물체에 대해 수평 방향의 외측을 향하여 높이가 높아지는 제2 경사면이 형성되어 있고,
상기 지지 부재는 상기 제1 경사면을 따라 미끄럼 이동 가능하고, 상기 보유 지지 부재는 상기 제2 경사면을 따라 미끄럼 이동 가능하고,
상기 지지 부재 및 상기 보유 지지 부재의 미끄럼 이동에 의해 상기 물체의 위치 어긋남을 허용 범위 내로 유지하는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.A holding device for holding and holding an object,
A structure surrounding the object;
a holding member for holding and holding the object;
A base member provided on an inner wall of the structure;
a support member mounted on top of the base member and supporting the holding member;
A first inclined surface is formed on a surface of the base member supporting the support member to increase in height toward the outside in a horizontal direction with respect to the object,
A second inclined surface is formed on a surface of the supporting member supporting the holding member, the height of which increases toward the outside in a horizontal direction with respect to the object in a state in which the supporting member is mounted on the first inclined surface,
the support member is slidable along the first inclined surface and the holding member is slidable along the second inclined surface;
A holding device characterized in that a positional displacement of the object is kept within an allowable range by the sliding movement of the supporting member and the holding member. 제1항에 있어서,
상기 지지 부재가 상기 제1 경사면을 따라 미끄럼 이동함에 수반하여, 상기 보유 지지 부재는, 해당 보유 지지 부재와 상기 물체의 자중에 의해 상기 제2 경사면을 따라 미끄럼 이동함으로써 상기 물체의 높이를 일정하게 유지하는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.According to claim 1,
As the support member slides along the first inclined surface, the holding member slides along the second inclined surface by the weight of the holding member and the object to keep the height of the object constant. A holding device characterized by doing. 제2항에 있어서,
상기 지지 부재는 열팽창에 의한 변형에 의해 상기 제1 경사면을 따라 미끄럼 이동하는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.According to claim 2,
The holding device characterized in that the supporting member slides along the first inclined surface by deformation due to thermal expansion. 제1항에 있어서,
상기 보유 지지 부재는 상기 물체를 복수의 개소에서 보유 지지하는 복수의 보유 지지 부재를 포함하고,
상기 베이스 부재는, 상기 지지 부재를 통해 상기 복수의 보유 지지 부재를 지지하는 복수의 베이스 부재를 포함하고,
상기 지지 부재는, 상기 물체를 둘러싸는 환형 부재인 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.According to claim 1,
the holding member includes a plurality of holding members holding the object at a plurality of locations;
The base member includes a plurality of base members that support the plurality of holding members via the supporting member,
The holding device characterized in that the holding member is an annular member surrounding the object. 제1항에 있어서,
상기 베이스 부재의 상기 제1 경사면에 마련되고, 해당 제1 경사면의 경사 방향을 따라서 연장하는 제1 가이드부와,
상기 지지 부재의 상기 제1 경사면과 대향하는 면에 마련되고, 상기 제1 가이드부에 안내되어 미끄럼 이동하는 제1 미끄럼 이동 부재를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.According to claim 1,
A first guide part provided on the first inclined surface of the base member and extending along the inclined direction of the first inclined surface;
The holding device characterized by further comprising a first sliding member provided on a surface of the supporting member facing the first inclined surface and sliding while being guided by the first guide portion. 제1항에 있어서,
상기 지지 부재의 상기 제2 경사면에 마련되고, 해당 제2 경사면의 경사 방향을 따라서 연장하는 제2 가이드부와,
상기 보유 지지 부재의 상기 제2 경사면과 대향하는 면에 마련되고, 상기 제2 가이드부에 안내되어 미끄럼 이동하는 제2 미끄럼 이동 부재를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.According to claim 1,
a second guide part provided on the second inclined surface of the support member and extending along the inclined direction of the second inclined surface;
The holding device characterized by further comprising a second sliding member provided on a surface of the holding member facing the second inclined surface and sliding while being guided by the second guide portion. 제1항에 있어서,
상기 제1 경사면과 상기 제2 경사면은 동일한 경사 각도를 갖는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.According to claim 1,
The holding device according to claim 1, wherein the first inclined surface and the second inclined surface have the same inclined angle. 제1항에 있어서,
상기 제1 경사면과 상기 제2 경사면은 다른 경사 각도를 갖고, 상기 제1 경사면과 상기 제2 경사면의 각도 차는, 상기 보유 지지 부재, 상기 지지 부재 및 상기 베이스 부재 각각의 열팽창량에 기초하여 설정되는 것을 특징으로 하는, 보유 지지 장치.According to claim 1,
The first inclined surface and the second inclined surface have different inclination angles, and an angle difference between the first inclined surface and the second inclined surface is set based on the amount of thermal expansion of each of the holding member, the supporting member, and the base member. Characterized in that, the holding device. 광학 소자와,
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 보유 지지 장치를 갖고,
상기 보유 지지 장치는, 상기 물체로서 상기 광학 소자를 보유 지지하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.an optical element;
A holding device according to any one of claims 1 to 8,
The optical device characterized in that the holding device holds the optical element as the object. 제9항에 있어서,
상기 광학 장치는, 광원과, 상기 광원으로부터의 광을 소정 방향으로 반사시키는 리플렉터를 갖는 광원 장치이며,
상기 보유 지지 장치는, 상기 광학 소자로서 상기 리플렉터를 보유 지지하는 것을 특징으로 하는, 광학 장치.According to claim 9,
The optical device is a light source device having a light source and a reflector for reflecting light from the light source in a predetermined direction;
The optical device characterized in that the holding device holds the reflector as the optical element.
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