KR102452755B1 - Transparent electrode forming piezoelectric film and pressure sensor - Google Patents

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모토키 하이시
다카노부 야노
히로시 벳푸
노리토시 기소
도모타케 나시키
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (1) 은, 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 적층체를 포함하는 압전 필름 (13) 과, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 에 적층된 제 1 투명 전극 (14) 을 구비한다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 은 불소 수지를 함유한다. 불소 수지는, 불화비닐리덴의 중합체, 또는 (불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌) 중 2 종류 이상의 공중합체이다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 은, 불소 수지의 용액을 제 1 기재 필름 (11) 에 도포 및 건조시켜 얻어진다. 본 발명의 압전 필름에 의해서, 헤이즈값이 작고, 전광선 투과율이 높은 투명 전극 형성 압전 필름을 실현한다.The transparent electrode-forming piezoelectric film (1) of the present invention is laminated on a piezoelectric film (13) including a laminate of a first base film (11) and a coating layer (12) having piezoelectricity, and a coating layer (12) having piezoelectricity A first transparent electrode 14 is provided. The coating layer 12 having piezoelectricity contains a fluororesin. The fluororesin is a polymer of vinylidene fluoride or a copolymer of two or more of (vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene). The coating layer 12 having piezoelectricity is obtained by applying and drying a solution of a fluororesin to the first base film 11 . The piezoelectric film of the present invention realizes a transparent electrode-forming piezoelectric film having a small haze value and high total light transmittance.

Description

투명 전극 형성 압전 필름 및 압력 센서Transparent electrode forming piezoelectric film and pressure sensor

본 발명은 투명 전극 형성 압전 필름 및 압력 센서에 관한 것이다.The present invention relates to a piezoelectric film forming a transparent electrode and a pressure sensor.

일반적으로, 터치 패널에서는, 터치 패널의 표면에 터치하는 손가락 혹은 펜의 표면 상의 2 차원 위치를 검출한다 (이후, 「손가락 혹은 펜」을 간단히 「손가락」이라고 하고, 손가락 혹은 펜의 터치 패널의 표면 상의 2 차원 위치를 「손가락의 XY 좌표」라고 한다.). 이 경우, 손가락이 터치하는 압력은 검출할 수 없다 (이후, 손가락이 터치하는 압력의 크기를, Z 축 방향으로 잡는 것으로 생각하여, 「손가락의 Z 좌표」라고 한다.). 즉, 손가락이 터치하는 압력 (손가락의 Z 좌표) 의 대소에 관계없이, 검출되는 것은 손가락의 터치 위치인 XY 좌표뿐이다.In general, in a touch panel, a two-dimensional position on the surface of a finger or pen touching the surface of the touch panel is detected (hereinafter, "finger or pen" is simply referred to as "finger", and the surface of the touch panel of a finger or pen is referred to as "finger"). The two-dimensional position of the image is referred to as "the XY coordinates of the finger"). In this case, the pressure touched by the finger cannot be detected (hereafter, the magnitude of the pressure touched by the finger is considered to be held in the Z-axis direction, and is referred to as "the Z-coordinate of the finger"). That is, regardless of the magnitude of the pressure (Z coordinate of the finger) touched by the finger, only the XY coordinate, which is the touch position of the finger, is detected.

그러나, 터치 패널에서 사용되는 어플리케이션에 따라서는, 손가락이 터치하는 압력 (손가락의 Z 좌표) 의 식별도 필요한 경우가 있다. 통상적인 정전 용량식 터치 패널에서는, 손가락이 닿음으로써, 닿은 위치가 선택됨과 동시에, 닿은 위치에 있는 명령이 실행된다. 정전 용량식 터치 패널의 감도가 매우 높은 경우에는, 손가락이 정전 용량식 터치 패널에 가까워진 것만으로 (손가락이 닿지 않아도), 손가락에 가장 가까운 위치가 선택됨과 동시에, 그 위치에 있는 명령이 실행된다. 그러나, 예를 들어, 공작 기계의 조작 패널 등에서, 잘못된 명령의 실행이 허용되지 않을 경우에는, 선택과 실행이 분리되어 있는 것이 바람직하다. 즉, 손가락이 닿음으로써 (혹은 손가락이 가까워짐으로써) 명령이 선택되지만, 그것만으로는 명령은 실행되지 않고, 다음에 손가락으로 압력을 가함으로써, 비로소 명령이 실행되는 것이 오동작을 방지하기 위해서 바람직하다.However, depending on the application used in the touch panel, identification of the pressure that the finger touches (the Z coordinate of the finger) is also required in some cases. In a typical capacitive touch panel, when a finger touches, a touched position is selected and, at the same time, a command at the touched position is executed. When the sensitivity of the capacitive touch panel is very high, the position closest to the finger is selected just by bringing the finger close to the capacitive touch panel (even if the finger does not touch), and the command at that position is executed. However, it is preferable that selection and execution are separated, for example, in the case where the execution of an erroneous instruction is not permitted, in the operation panel of a machine tool or the like. That is, it is preferable to prevent a malfunction that a command is selected when a finger touches (or a finger approaches), but the command is not executed by itself, and that the command is executed only by next applying pressure with the finger.

이와 같은 손가락이 터치하는 압력 (손가락의 Z 좌표) 도 검출할 수 있는 터치 패널이, 예를 들어, 특허문헌 1 (일본 공개특허공보 2010-26938) 에 기재되어 있다. 특허문헌 1 의 터치 패널에서는, 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층의 양면에, 투명 전극이 적층된 적층체가 사용된다. 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층의 두께는 20 ㎛ ∼ 300 ㎛ 이다.The touch panel which can also detect the pressure (Z coordinate of a finger) touched by such a finger is described in patent document 1 (Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-26938), for example. In the touch panel of Patent Document 1, a laminate in which transparent electrodes are laminated on both surfaces of a piezoelectric layer containing a polyvinylidene fluoride-ethylene tetrafluoride copolymer is used. The thickness of the piezoelectric layer containing the polyvinylidene fluoride-ethylene tetrafluoride copolymer is 20 µm to 300 µm.

특허문헌 1 의 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층은, 캐스팅법 혹은 압출법으로 제조한다고 기재되어 있기 때문에, 자립된 필름 (다른 필름에 적층되어 있지 않은 필름) 으로 생각된다. 특허문헌 1 에, 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층의 헤이즈값 (흐림값) 은 5 % ∼ 7 %, 전광선 투과율은 95 % 로 기재되어 있다.Since it is described that the piezoelectric layer containing the polyvinylidene fluoride-ethylene tetrafluoride copolymer in Patent Document 1 is produced by a casting method or an extrusion method, it is considered to be a self-supporting film (a film not laminated on another film). . In Patent Document 1, it is described that the haze value (cloudiness value) of the piezoelectric layer containing the polyvinylidene fluoride-ethylene tetrafluoride copolymer is 5% to 7%, and the total light transmittance is 95%.

그러나, 특허문헌 1 의 실시예의 헤이즈값, 전광선 투과율은, 투명 전극이 적층되기 전인, 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층 단독의 값이다. 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층의 양면에 투명 전극이 적층된 적층체에서는, 전광선 투과율이 저하된다고 생각되지만, 그 측정치는 기재되어 있지 않다.However, the haze value and total light transmittance of the Example of Patent Document 1 are the values of the piezoelectric layer alone containing the polyvinylidene fluoride-ethylene tetrafluoride copolymer before the transparent electrode is laminated. In a laminate in which transparent electrodes are laminated on both sides of a piezoelectric layer containing a polyvinylidene fluoride-ethylene tetrafluoride copolymer, it is thought that the total light transmittance is lowered, but the measured value is not described.

본원 발명자의 실험에 의하면, 터치 패널의 배면에 있는 디스플레이 화상의 시인성은, 적어도 헤이즈값과 전광선 투과율의 영향을 수용한다. 특허문헌 1 의 폴리불화비닐리덴-사불화에틸렌 공중합체를 함유하는 압전체층의 양면에 투명 전극이 적층된 적층체에서는, 헤이즈값과 전광선 투과율의 어느 하나, 혹은 양자에 의해서, 터치 패널의 배면에 있는 디스플레이 화상의 시인성이 저하할 우려가 있다.According to the experiment of this inventor, the visibility of the display image in the back surface of a touchscreen accommodates the influence of a haze value and total light transmittance at least. In the laminate in which transparent electrodes are laminated on both sides of the piezoelectric layer containing the polyvinylidene fluoride-ethylene tetrafluoride copolymer of Patent Document 1, depending on either or both of the haze value and the total light transmittance, There exists a possibility that the visibility of the displayed image may fall.

일본 공개특허공보 2010-26938호Japanese Patent Laid-Open No. 2010-26938

본원 발명자의 실험에 의하면, 터치 패널의 배면에 있는 디스플레이 화상의 시인성의 저하에 대해서는, 전광선 투과율보다 헤이즈값 쪽의 영향이 크다. 그래서, 본 발명의 목적은, 헤이즈값이 작고, 추가로, 전광선 투과율이 높은 투명 전극 형성 압전 필름을 실현하는 것이다.According to the experiment of the present inventors, about the fall of the visibility of the display image in the back surface of a touchscreen, the influence of the haze value side is larger than the total light transmittance. Therefore, an object of the present invention is to realize a transparent electrode-forming piezoelectric film having a small haze value and a high total light transmittance.

(1) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 포함하는 압전 필름과, 압전성을 갖는 코팅층의, 제 1 기재 필름과 반대측의 표면에 구비된, 적어도 1 층의 제 1 투명 전극을 구비한다.(1) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention includes a piezoelectric film including a laminate of a first base film and a coating layer having piezoelectricity, and a coating layer having piezoelectricity, provided on the surface opposite to the first base film, and at least one layer of a first transparent electrode.

(2) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 1 기재 필름의, 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 제 2 투명 전극을 구비한다.(2) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one second transparent electrode on the surface of the first base film opposite to the piezoelectric coating layer.

(3) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 1 기재 필름의, 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에, 추가로, 다음의 순서로 구비된, 적어도 1 층의 투명 점착층, 적어도 1 층의 제 2 투명 전극, 적어도 1 층의 제 2 기재 필름을 구비한다.(3) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further comprises at least one transparent adhesive layer provided in the following order on the surface of the first base film on the opposite side to the piezoelectric coating layer, A 2nd transparent electrode of at least 1 layer, and a 2nd base film of at least 1 layer are provided.

(4) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 2 투명 전극과 제 2 기재 필름 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한다.(4) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the second transparent electrode and the second base film.

(5) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층과 제 1 투명 전극 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한다.(5) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the coating layer having piezoelectricity and the first transparent electrode.

(6) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층의 두께가 0.5 ∼ 10 ㎛, 광학 조정층의 두께가 80 ∼ 160 ㎚, 제 1 투명 전극의 두께가 20 ㎚ 이상이다.(6) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further has a thickness of a coating layer having piezoelectricity of 0.5 to 10 µm, an optical adjustment layer of 80 to 160 nm, and a thickness of the first transparent electrode of 20 nm or more. .

(7) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층의 굴절률이 1.40 ∼ 1.50, 광학 조정층의 굴절률이 1.50 ∼ 1.70, 제 1 투명 전극의 굴절률이 1.90 ∼ 2.10 이다.(7) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, the refractive index of the coating layer having piezoelectricity is 1.40 to 1.50, the refractive index of the optical adjustment layer is 1.50 to 1.70, and the refractive index of the first transparent electrode is 1.90 to 2.10.

(8) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한다.(8) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the first base film and the piezoelectric coating layer.

(9) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 1 기재 필름 또는 제 2 기재 필름의, 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에 구비된 적어도 1 층의 안티 블로킹층을 구비한다.(9) The transparent electrode forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one anti-blocking layer provided on the surface opposite to the piezoelectric coating layer of the first base film or the second base film.

(10) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 포함하는 압전 필름과, 제 1 기재 필름의, 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에 구비된 적어도 1 층의 제 1 투명 전극을 구비한다.(10) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention includes a piezoelectric film including a laminate of a first base film and a coating layer having piezoelectricity, and at least provided on the surface of the first base film opposite to the coating layer having piezoelectricity A first transparent electrode is provided in one layer.

(11) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층의, 제 1 기재 필름과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 제 2 투명 전극을 구비한다.(11) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one second transparent electrode on the surface of the coating layer having piezoelectricity on the opposite side to the first base film.

(12) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 압전성을 갖는 코팅층의, 제 1 기재 필름과 반대측의 표면에, 추가로, 다음의 순서로 구비된, 적어도 1 층의 투명 점착층, 적어도 1 층의 제 2 투명 전극, 적어도 1 층의 제 2 기재 필름을 구비한다.(12) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further comprises at least one transparent adhesive layer provided on the surface opposite to the first base film of the coating layer having piezoelectricity in the following order, A 2nd transparent electrode of at least 1 layer, and a 2nd base film of at least 1 layer are provided.

(13) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 2 투명 전극과 제 2 기재 필름 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한다.(13) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the second transparent electrode and the second base film.

(14) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한다.(14) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the first base film and the piezoelectric coating layer.

(15) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 1 기재 필름과 제 1 투명 전극 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한다.(15) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the first base film and the first transparent electrode.

(16) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름은, 추가로, 제 2 기재 필름의, 제 2 투명 전극과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 안티 블로킹층을 구비한다.(16) The transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention further includes at least one anti-blocking layer on the surface of the second base film on the opposite side to the second transparent electrode.

(17) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 압전성을 갖는 코팅층이 불소 수지를 함유한다.(17) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, the coating layer having piezoelectricity contains a fluororesin.

(18) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 불소 수지가, 불화비닐리덴의 중합체, 또는 (불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌) 중 2 종 이상의 공중합체이다.(18) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, the fluororesin is a polymer of vinylidene fluoride or a copolymer of two or more of (vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene).

(19) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 불소 수지가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체로서, 공중합체에 함유되는 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 몰비가, 전체를 100 으로 하여 (50 ∼ 85) : (50 ∼ 15) 의 범위이다.(19) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, the fluororesin is a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene, and the molar ratio of vinylidene fluoride and trifluoroethylene contained in the copolymer is the total. 100, (50 to 85): (50 to 15).

(20) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 불소 수지가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체로서, 공중합체에 함유되는 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 몰비가, 전체를 100 으로 하여 (63 ∼ 65) : (27 ∼ 29) : (10 ∼ 6) 의 범위이다.(20) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, the fluororesin is a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene, and vinylidene fluoride and trifluoroethylene contained in the copolymer. The molar ratio of to chlorotrifluoroethylene is in the range of (63 to 65): (27 to 29): (10 to 6) with the total being 100.

(21) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 압전성을 갖는 코팅층이, 불소 수지의 용액을 제 1 기재 필름에 도포 및 건조시켜 얻어지는 코팅층이다.(21) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, the coating layer having piezoelectricity is a coating layer obtained by applying and drying a solution of a fluororesin to the first base film.

(22) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 압전성을 갖는 코팅층의 두께가 0.5 ㎛ ∼ 20 ㎛ 이다.(22) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, the thickness of the coating layer having piezoelectricity is 0.5 µm to 20 µm.

(23) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 제 1 투명 전극 및 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자가, 패터닝되어 있다.(23) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, either or both of the first transparent electrode and the second transparent electrode are patterned.

(24) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 제 1 투명 전극 및 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자가, 인듐을 함유한다.(24) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, either or both of the first transparent electrode and the second transparent electrode contain indium.

(25) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 제 1 투명 전극 및 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자가, 인듐주석 산화물 (Indium Tin Oxide : ITO) 을 함유한다.(25) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, either or both of the first transparent electrode and the second transparent electrode contain indium tin oxide (ITO).

(26) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 제 1 투명 전극 및 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자의 두께가, 15 ㎚ ∼ 50 ㎚ 이다.(26) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, either or both of the first transparent electrode and the second transparent electrode have a thickness of 15 nm to 50 nm.

(27) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 제 1 투명 전극 및 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자가, 결정질이다.(27) In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, either or both of the first transparent electrode and the second transparent electrode are crystalline.

(28) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 기재 필름의 재료가, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 시클로올레핀 코폴리머, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리노르보르넨 중 적어도 1 종에서 선택된다.(28) In the transparent electrode forming piezoelectric film of the present invention, the material of the base film is polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, cycloolefin copolymer, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, It is selected from at least 1 sort(s) of polyimide, polyamide, polystyrene, and polynorbornene.

(29) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 헤이즈값이 5 % 이하이다.(29) In the piezoelectric film with transparent electrode of the present invention, the haze value is 5% or less.

(30) 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 전광선 투과율이 82 % 이상이다.(30) In the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention, the total light transmittance is 82% or more.

(31) 본 발명의 압력 센서는, 상기한 투명 전극 형성 압전 필름을 구비한다.(31) The pressure sensor of the present invention includes the above-described piezoelectric film with transparent electrode.

본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름에 있어서는, 압전체층이 코팅에 의해서 형성되기 때문에, 압전체층의 두께가, 종래의 자립된 필름으로 이루어지는 압전체층보다 얇다. 그 때문에, 압전체층에 의한 헤이즈값의 상승과 전광선 투과율의 저하가, 자립된 필름으로 이루어지는 압전체 필름보다 적다. 그 효과에 의해서, 헤이즈값이 작고, 추가로, 전광선 투과율이 높은 투명 전극 형성 압전 필름이 실현된다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름을, 터치 패널의 Z 좌표 검출용 압전 필름으로서 사용하면, 터치 패널의 배면에 있는 디스플레이의 시인성이 양호하여, Z 좌표 (손가락의 압압력) 검출 기능을 갖는 터치 패널을 실현할 수 있다.In the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention, since the piezoelectric layer is formed by coating, the thickness of the piezoelectric layer is thinner than that of the conventional piezoelectric layer made of a self-supporting film. Therefore, the haze value increase and the total light transmittance decrease due to the piezoelectric layer are smaller than those of the piezoelectric film made of the self-supporting film. By this effect, a transparent electrode-forming piezoelectric film having a small haze value and a high total light transmittance is realized. When the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention is used as a piezoelectric film for Z coordinate detection of a touch panel, the visibility of the display on the back surface of the touch panel is good, and the touch panel having a Z coordinate (pressure pressure of the finger) detection function can be realized

도 1 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 1 예의 모식도
도 2 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예의 모식도
도 3 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 3 예의 모식도
도 4 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 4 예의 모식도
도 5 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 5 예의 모식도
도 6 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 6 예의 모식도
도 7 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 7 예의 모식도
도 8 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 8 예의 모식도
도 9 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 9 예의 모식도
도 10 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 10 예의 모식도
도 11 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 11 예의 모식도
도 12 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 12 예의 모식도
도 13 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 13 예의 모식도
도 14 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 14 예의 모식도
도 15 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 15 예의 모식도
도 16 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 16 예의 모식도
도 17 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 17 예의 모식도
도 18 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 18 예의 모식도
도 19 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 19 예의 모식도
도 20 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 20 예의 모식도
도 21 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 21 예의 모식도
도 22 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 22 예의 모식도
도 23 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 23 예의 모식도
도 24 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 24 예의 모식도
도 25 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 25 예의 모식도
도 26 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 26 예의 모식도
도 27 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 27 예의 모식도
도 28 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 28 예의 모식도
도 29 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 29 예의 모식도
도 30 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 30 예의 모식도
도 31 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 31 예의 모식도
도 32 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 32 예의 모식도
도 33 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 33 예의 모식도
도 34 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 34 예의 모식도
도 35 는, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 35 예의 모식도
1 is a schematic diagram of a first example of a piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
Fig. 2 is a schematic diagram of a second example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
3 is a schematic diagram of a third example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
Fig. 4 is a schematic diagram of a fourth example of a piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
5 is a schematic diagram of a fifth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
6 is a schematic diagram of a sixth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
Fig. 7 is a schematic diagram of a seventh example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
Fig. 8 is a schematic diagram of an eighth example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
Fig. 9 is a schematic diagram of a ninth example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
Fig. 10 is a schematic diagram of a tenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
11 is a schematic diagram of an eleventh example of a piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
12 is a schematic diagram of a twelfth example of a piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
13 is a schematic diagram of a thirteenth example of a piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
14 is a schematic diagram of a fourteenth example of a piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
15 is a schematic diagram of a fifteenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
16 is a schematic diagram of a sixteenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
17 is a schematic diagram of a seventeenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
18 is a schematic diagram of an 18th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
19 is a schematic diagram of a 19th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
20 is a schematic diagram of a twentieth example of a piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
21 is a schematic diagram of a twenty-first example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
22 is a schematic diagram of a 22nd example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
23 is a schematic diagram of a 23rd example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
24 is a schematic diagram of a 24th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
25 is a schematic diagram of a 25th example of a piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
26 is a schematic diagram of a 26th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
Fig. 27 is a schematic diagram of a 27th example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
Fig. 28 is a schematic diagram of a 28th example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
29 is a schematic diagram of a 29th example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
30 is a schematic diagram of a thirtieth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
31 is a schematic diagram of a 31st example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
32 is a schematic diagram of a 32nd example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
33 is a schematic diagram of a 33rd example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention;
34 is a schematic diagram of a 34th example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;
Fig. 35 is a schematic diagram of a 35th example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention;

[투명 전극 형성 압전 필름의 기본 구성][Basic composition of piezoelectric film with transparent electrode]

도 1 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 1 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (101) 은, 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 적층체로 이루어지는 압전 필름 (13) 을 포함한다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 에는, 적어도 1 층의 제 1 투명 전극 (14) 이 적층되어 있다. 적어도 1 층의 제 1 투명 전극 (14) 이란, 제 1 투명 전극 (14) 이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다. 제 1 투명 전극 (14) 은 패터닝되어 있어도 된다. 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 도시하지 않은 접착 용이층이 적층되어 있어도 된다 (접착 용이층에 대해서는 이후의 예에 공통된다).1 is a schematic diagram of a first example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 101 of the present invention includes a piezoelectric film 13 composed of a laminate of a first base film 11 and a coating layer 12 having piezoelectricity. At least one first transparent electrode 14 is laminated on the coating layer 12 having piezoelectricity. The first transparent electrode 14 of at least one layer means that the first transparent electrode 14 may be a multilayer film of two or more layers. The 1st transparent electrode 14 may be patterned. An easily bonding layer (not shown) may be laminated|stacked between the 1st base film 11 and the coating layer 12 which has piezoelectricity (it is common to a subsequent example about an easily bonding layer).

도 2 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (102) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (101) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 제 2 투명 전극 (15) 이 적층된 것이다. 적어도 1 층의 제 2 투명 전극 (15) 이란, 제 2 투명 전극 (15) 이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다. 제 2 투명 전극 (15) 은 패터닝되어 있어도 된다. 제 1 기재 필름 (11) 과 제 2 투명 전극 (15) 사이에, 적어도 1 층의 투명 점착층을 구비해도 된다. 적어도 1 층의 투명 점착층이란, 투명 점착층이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다.Fig. 2 shows a schematic diagram of a second example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 102 of the present invention has at least one second transparent electrode 15 on the surface opposite to the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode forming piezoelectric film 101 of the present invention. it is laminated. At least one layer of the second transparent electrode 15 means that the second transparent electrode 15 may be a multilayer film of two or more layers. The 2nd transparent electrode 15 may be patterned. Between the 1st base film 11 and the 2nd transparent electrode 15, you may provide at least 1 layer of transparent adhesive layers. The at least one transparent adhesive layer means that the transparent adhesive layer may be a multilayer film of two or more layers.

도 3 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 3 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (103) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (101) 의 제 1 기재 필름 (11) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에, 추가로, 적어도 1 층의 투명 점착층 (21), 적어도 1 층의 제 2 투명 전극 (15), 적어도 1 층의 제 2 기재 필름 (17) 이 적층된 것이다. 적어도 1 층의 투명 점착층 (21) 이란, 투명 점착층 (21) 이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다. 적어도 1 층의 제 2 투명 전극 (15) 이란, 제 2 투명 전극 (15) 이 2 층 이상의 다층막이어도 된다는 의미이다. 적어도 1 층의 제 2 기재 필름 (17) 이란, 제 2 기재 필름 (17) 이 2 층 이상의 다층 필름이어도 된다는 의미이다.3 is a schematic diagram showing a third example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 103 of the present invention is provided on the surface opposite to the coating layer 12 having piezoelectricity of the first base film 11 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 101 of the present invention, further, at least The transparent adhesive layer 21 of one layer, the 2nd transparent electrode 15 of at least 1 layer, and the 2nd base film 17 of at least 1 layer are laminated|stacked. The at least one transparent adhesive layer 21 means that the transparent adhesive layer 21 may be a multilayer film of two or more layers. At least one layer of the second transparent electrode 15 means that the second transparent electrode 15 may be a multilayer film of two or more layers. The at least one layer of the second base film 17 means that the second base film 17 may be a multilayer film of two or more layers.

도 4 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 4 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (104) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (103) 의 제 2 투명 전극 (15) 과 제 2 기재 필름 (17) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다. 언더 코트층 (18) (혹은 앵커 코트층) 은, 투명 전극 형성 압전 필름의, 각 층간의 밀착성을 높이는 기능이 있다. 광학 조정층 (19) (Index matching layer) (굴절률 조정층이라고도 한다) 은, 투명 전극 형성 압전 필름의 광의 반사율을 조정하는 기능이 있다. 광학 조정층 (19) 은 2 층 이상의 다층막이어도 된다. 안티 블로킹층 (20) 은, 거듭 적층된, 혹은 권회된 투명 전극 형성 압전 필름끼리가 압착 (블로킹) 되는 것을 방지하는 기능이 있다. 안티 블로킹층 (20) 은 2 층 이상의 다층막이어도 된다.4 is a schematic diagram of a fourth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 104 of the present invention includes an undercoat layer 18, optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated. The undercoat layer 18 (or anchor coat layer) has a function of increasing the adhesiveness between the layers of the piezoelectric film with a transparent electrode. The optical adjustment layer 19 (Index matching layer) (it is also referred to as a refractive index adjustment layer) has a function of adjusting the reflectance of the light of a transparent electrode formation piezoelectric film. The optical adjustment layer 19 may be a multilayer film of two or more layers. The anti-blocking layer 20 has a function of preventing pressure-bonding (blocking) of the stacked or wound transparent electrode-forming piezoelectric films. The anti-blocking layer 20 may be a multilayer film of two or more layers.

도 5 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 5 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (105) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (101) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 제 1 투명 전극 (14) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.5 is a schematic diagram of a fifth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 105 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first transparent electrode 14 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode forming piezoelectric film 101 of the present invention, optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

예를 들어, 도 5 에 있어서 광학 조정층 (19) 을 사용하는 경우에 대해서 설명한다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께로서 0.5 ∼ 10 ㎛, 광학 조정층 (19) 의 두께로서 80 ∼ 160 ㎚, 제 1 투명 전극 (14) 의 두께로서 20 ㎚ 이상을 일례로서 들 수 있다. 또, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 굴절률로서 1.40 ∼ 1.50, 광학 조정층 (19) 의 굴절률로서 1.50 ∼ 1.70, 제 1 투명 전극 (14) 의 굴절률로서 1.90 ∼ 2.10 을 일례로서 들 수 있다. 또, 기재 필름 (11) 의 두께를 2 ∼ 100 ㎛, 굴절률을 1.50 ∼ 1.70 으로 한다. 이상의 두께와 굴절률로 함으로써, 제 1 투명 전극 (14) 과 광학 조정층 (19) 의 반사율차가 2.0 % 이하로 되어 외관이 양호해진다.For example, the case where the optical adjustment layer 19 is used in FIG. 5 is demonstrated. As a thickness of the coating layer 12 which has piezoelectricity, 0.5-10 micrometers, 80-160 nm as a thickness of the optical adjustment layer 19, and 20 nm or more as a thickness of the 1st transparent electrode 14 are mentioned as an example. Moreover, 1.40-1.50 as a refractive index of the coating layer 12 which has piezoelectricity, 1.50-1.70 as a refractive index of the optical adjustment layer 19, and 1.90-2.10 as a refractive index of the 1st transparent electrode 14 are mentioned as an example. Moreover, the thickness of the base film 11 shall be 2-100 micrometers, and the refractive index shall be 1.50-1.70. By setting it as the above thickness and refractive index, the reflectance difference of the 1st transparent electrode 14 and the optical adjustment layer 19 becomes 2.0 % or less, and an external appearance becomes favorable.

또한, 도 2 의 압전 필름 (102) 에 있어서, 기재 필름 (11) 과 제 2 투명 전극 (15) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층을 적층해도 된다.In addition, in the piezoelectric film 102 of FIG. 2, between the base film 11 and the 2nd transparent electrode 15, any of the undercoat layer 18, the optical adjustment layer 19, and the anti-blocking layer 20 You may laminate at least one layer among them.

도 6 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 6 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (106) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (102) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 제 1 투명 전극 (14) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.6 is a schematic diagram of a sixth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 106 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first transparent electrode 14 and the coating layer 12 having piezoelectric properties of the transparent electrode forming piezoelectric film 102 of the present invention; At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 7 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 7 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (107) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (103) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 제 1 투명 전극 (14) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.7 is a schematic diagram of a seventh example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 107 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first transparent electrode 14 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 103 of the present invention; At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 8 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 8 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (108) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (104) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 제 1 투명 전극 (14) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.8 is a schematic diagram of an eighth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 108 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first transparent electrode 14 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode forming piezoelectric film 104 of the present invention, optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 9 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 9 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (109) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (101) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.Fig. 9 is a schematic diagram showing a ninth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 109 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 101 of the present invention, an optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 10 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 10 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (110) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (102) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.10 is a schematic diagram of a tenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 110 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode forming piezoelectric film 102 of the present invention, optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 11 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 11 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (111) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (103) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.11 is a schematic diagram of an eleventh example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 111 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 103 of the present invention, optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 12 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 12 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (112) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (104) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.12 is a schematic diagram of a twelfth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 112 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode forming piezoelectric film 104 of the present invention, an optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 13 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 13 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (113) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (105) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.13 is a schematic diagram of a thirteenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 113 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode forming piezoelectric film 105 of the present invention, an optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 14 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 14 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (114) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (106) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.Fig. 14 is a schematic diagram of a fourteenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 114 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode forming piezoelectric film 106 of the present invention, optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 15 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 15 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (115) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (107) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.Fig. 15 is a schematic diagram showing a fifteenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 115 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 of the transparent electrode forming piezoelectric film 107 of the present invention and the piezoelectric coating layer 12, and optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 16 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 16 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (116) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (108) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 의 어느 것 중 적어도 1 층이 적층된 것이다.Fig. 16 is a schematic diagram of a sixteenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 116 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode forming piezoelectric film 108 of the present invention, optical At least one of the adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 17 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 17 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (117) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (101) 의 제 1 기재 필름 (11) 의, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (20) 이 적층된 것이다.17 is a schematic diagram of a seventeenth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 117 of the present invention comprises at least one layer on the surface of the first base film 11 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 101 of the present invention, opposite to the coating layer 12 having piezoelectricity. The anti-blocking layer 20 is laminated.

도 18 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 18 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (118) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (103) 의 제 2 기재 필름 (17) 의, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (20) 이 적층된 것이다.18 is a schematic diagram of an 18th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 118 of the present invention comprises at least one layer on the surface opposite to the piezoelectric coating layer 12 of the second base film 17 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 103 of the present invention. The anti-blocking layer 20 is laminated.

도 19 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 19 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (119) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (104) 의 제 2 기재 필름 (17) 의, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (20) 이 적층된 것이다.19 is a schematic diagram of a 19th example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 119 of the present invention comprises at least one layer on the surface opposite to the piezoelectric coating layer 12 of the second base film 17 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 104 of the present invention. The anti-blocking layer 20 is laminated.

도 20 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 20 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (120) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (105) 의 제 1 기재 필름 (11) 의, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (20) 이 적층된 것이다.20 is a schematic diagram of a twentieth example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 120 of the present invention comprises at least one layer on the surface opposite to the piezoelectric coating layer 12 of the first base film 11 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 105 of the present invention. The anti-blocking layer 20 is laminated.

도 21 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 21 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (121) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (107) 의 제 2 기재 필름 (17) 의, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (20) 이 적층된 것이다.21 is a schematic diagram of a twenty-first example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 121 of the present invention comprises at least one layer on the surface opposite to the piezoelectric coating layer 12 of the second base film 17 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 107 of the present invention. The anti-blocking layer 20 is laminated.

도 22 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 22 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (122) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (108) 의 제 2 기재 필름 (17) 의, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (20) 이 적층된 것이다.22 is a schematic diagram of a 22nd example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 122 of the present invention comprises at least one layer on the surface of the second base film 17 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 108 of the present invention, opposite to the piezoelectric coating layer 12. The anti-blocking layer 20 is laminated.

도 23 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 23 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (123) 은, 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 적층체를 포함하는 압전 필름 (13) 을 구비한다. 제 1 기재 필름 (11) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 제 1 투명 전극 (14) 이 적층되어 있다.23 is a schematic diagram of a 23rd example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode formation piezoelectric film 123 of the present invention includes a piezoelectric film 13 including a laminate of a first base film 11 and a coating layer 12 having piezoelectricity. On the surface of the 1st base film 11 on the opposite side to the coating layer 12 which has piezoelectricity, the 1st transparent electrode 14 of at least 1 layer is laminated|stacked.

도 24 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 24 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (124) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (123) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 제 2 투명 전극 (15) 이 적층된 것이다.24 is a schematic diagram of a 24th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 124 of the present invention is formed on the surface opposite to the first base film 11 of the coating layer 12 having piezoelectric properties of the transparent electrode-forming piezoelectric film 123 of the present invention, at least one layer. The 2nd transparent electrode 15 is laminated|stacked.

도 25 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 25 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (125) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (123) 의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 반대측의 표면에, 추가로, 적어도 1 층의 투명 점착층 (21), 적어도 1 층의 제 2 투명 전극 (15), 적어도 1 층의 제 2 기재 필름 (17) 이 적층된 것이다.25 is a schematic diagram of a 25th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 125 of the present invention is provided on the surface opposite to the first base film 11 of the coating layer 12 having piezoelectricity of the transparent electrode-forming piezoelectric film 123 of the present invention, further, at least The transparent adhesive layer 21 of one layer, the 2nd transparent electrode 15 of at least 1 layer, and the 2nd base film 17 of at least 1 layer are laminated|stacked.

도 26 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 26 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (126) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (125) 의 제 2 투명 전극 (15) 과 제 2 기재 필름 (17) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.26 is a schematic diagram of a 26th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 126 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the second transparent electrode 15 and the second base film 17 of the transparent electrode forming piezoelectric film 125 of the present invention; At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 27 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 27 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (127) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (123) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.27 is a schematic diagram of a 27th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 127 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 of the transparent electrode forming piezoelectric film 123 of the present invention and the piezoelectric coating layer 12, At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 28 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 28 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (128) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (124) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.28 is a schematic diagram of a 28th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 128 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 of the transparent electrode forming piezoelectric film 124 of the present invention and the piezoelectric coating layer 12, At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 29 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 29 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (129) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (125) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.29 is a schematic diagram of a 29th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film 129 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the piezoelectric coating layer 12 of the transparent electrode-forming piezoelectric film 125 of the present invention; At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 30 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 30 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (130) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (126) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.30 is a schematic diagram of a thirtieth example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 130 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 of the transparent electrode forming piezoelectric film 126 of the present invention and the piezoelectric coating layer 12, At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 31 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 31 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (131) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (123) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 제 1 투명 전극 (14) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.Fig. 31 is a schematic diagram of a 31st example of the piezoelectric film with a transparent electrode of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 131 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the first transparent electrode 14 of the transparent electrode forming piezoelectric film 123 of the present invention; At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 32 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 32 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (132) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (124) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 제 1 투명 전극 (14) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.32 is a schematic diagram of a 32nd example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 132 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the first transparent electrode 14 of the transparent electrode forming piezoelectric film 124 of the present invention; At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 33 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 33 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (133) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (125) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 제 1 투명 전극 (14) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.33 is a schematic diagram of a 33rd example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 133 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the first transparent electrode 14 of the transparent electrode forming piezoelectric film 125 of the present invention; At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 34 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 34 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (134) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (126) 의 제 1 기재 필름 (11) 과 제 1 투명 전극 (14) 사이에, 언더 코트층 (18), 광학 조정층 (19) 및 안티 블로킹층 (20) 중 어느 것이 적어도 1 층 적층된 것이다.34 is a schematic diagram of a 34th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 134 of the present invention includes an undercoat layer 18 between the first base film 11 and the first transparent electrode 14 of the transparent electrode forming piezoelectric film 126 of the present invention; At least one of the optical adjustment layer 19 and the anti-blocking layer 20 is laminated.

도 35 에 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 35 예의 모식도를 나타낸다. 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (135) 은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름 (125) 의 제 2 기재 필름 (17) 의, 제 2 투명 전극 (15) 과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 안티 블로킹층 (20) 이 적층된 것이다.35 is a schematic diagram of a 35th example of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode forming piezoelectric film 135 of the present invention is at least one layer on the surface opposite to the second transparent electrode 15 of the second base film 17 of the transparent electrode forming piezoelectric film 125 of the present invention. of the anti-blocking layer 20 is laminated.

[기재 필름][base film]

제 1 기재 필름 (11) 및 제 2 기재 필름 (17) 은, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 시클로올레핀 코폴리머, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리노르보르넨 등의 고분자 필름으로 이루어진다. 제 1 기재 필름 (11) 및 제 2 기재 필름 (17) 의 재료는 이것들에 한정되는 경우는 없지만, 투명성, 내열성 및 기계 특성이 우수한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 가 바람직하다.The first base film 11 and the second base film 17 are, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, cycloolefin copolymer, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate. , polyimide, polyamide, polystyrene, polynorbornene, and the like. Although the material of the 1st base film 11 and the 2nd base film 17 is not limited to these, Polyethylene terephthalate (PET) excellent in transparency, heat resistance, and a mechanical characteristic is preferable.

제 1 기재 필름 (11) 및 제 2 기재 필름 (17) 의 두께는, 바람직하게는 10 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이지만, 이것에 한정되는 경우는 없다. 단, 제 1 기재 필름 (11) 및 제 2 기재 필름 (17) 의 두께가 10 ㎛ 미만이면, 취급이 곤란해질 우려가 있다. 또 제 1 기재 필름 (11) 및 제 2 기재 필름 (17) 의 두께가 200 ㎛ 를 초과하면, 투명 전극 형성 압전 필름 (101 ∼ 135) 을 권회하여 롤로 하기가 어려워질 우려가 있다. 또 제 1 기재 필름 (11) 및 제 2 기재 필름 (17) 의 두께가 200 ㎛ 를 초과하면, 투명 전극 형성 압전 필름 (101 ∼ 135) 을 터치 패널 등에 실장했을 때에 두께가 지나치게 두꺼워질 우려가 있다.Although the thickness of the 1st base film 11 and the 2nd base film 17 becomes like this. Preferably they are 10 micrometers - 200 micrometers, but is not limited to this. However, there exists a possibility that handling may become difficult as the thickness of the 1st base film 11 and the 2nd base film 17 is less than 10 micrometers. Moreover, when the thickness of the 1st base film 11 and the 2nd base film 17 exceeds 200 micrometers, there exists a possibility that it may become difficult to wind the transparent electrode formation piezoelectric films 101-135 and set it as a roll. Moreover, when the thickness of the 1st base film 11 and the 2nd base film 17 exceeds 200 micrometers, when the transparent electrode formation piezoelectric film 101-135 is mounted on a touch panel etc., there exists a possibility that the thickness may become too thick. .

[압전성을 갖는 코팅층][Coating layer having piezoelectricity]

압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료는, 제 1 기재 필름 (11) 의 표면에 박막상으로 코팅하는 것이 가능하고, 코팅 후의 박막이 압전성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 경우는 없다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 은, 폴링 (분극 처리) 을 행하지 않아도 압전성을 나타내는 것이 바람직하지만, 폴링 후에 압전성을 나타내는 것이어도 된다.The material of the coating layer 12 having piezoelectricity can be coated in the form of a thin film on the surface of the first base film 11, and is not particularly limited as long as the thin film after coating has piezoelectricity. The coating layer 12 having piezoelectricity preferably exhibits piezoelectricity even without poling (polarization treatment), but may exhibit piezoelectricity after poling.

폴링 (분극 처리) 으로서 비접촉식의 폴링과 접촉식의 폴링이 있다. 비접촉식의 폴링에서는, 예를 들어, 코팅층 (12) 을 코로나 방전 처리함으로써 코팅층 (12) 을 분극시킨다. 접촉식의 폴링에서는, 예를 들어, 2 장의 금속판으로 코팅층 (12) 을 사이에 끼우고, 2 장의 금속판 사이에 전압을 인가하여 코팅층 (12) 을 분극시킨다.As the poling (polarization treatment), there are contactless poling and contact poling. In the non-contact poling, for example, the coating layer 12 is polarized by corona discharge treatment. In contact-type poling, for example, the coating layer 12 is sandwiched by two metal plates, and a voltage is applied between the two metal plates to polarize the coating layer 12 .

압전성을 갖는 코팅층 (12) 은, 예를 들어, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료를 용매에 용해시켜 용액으로 하고, 바 코터나 그라비아 코터 등의 이미 알려진 코팅 장치에 의해서 기재 필름의 표면에 얇고 일정하게 코팅하고, 그 후 건조시켜 얻어진다.The coating layer 12 having piezoelectricity is made by dissolving the material of the coating layer 12 having piezoelectricity in a solvent to make a solution, and is thinly applied to the surface of the base film by a known coating device such as a bar coater or a gravure coater. It is obtained by constant coating and then drying.

[압전성을 갖는 코팅층의 재료][Material of coating layer having piezoelectricity]

압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료는, 예를 들어, 불소 수지를 함유하는 재료가 바람직하게 사용된다. 불소 수지를 함유하는 재료를 구체적으로 예시하면, 불화비닐리덴의 중합체, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체, 헥사플루오로프로필렌과 비닐리덴플로라이드의 공중합체, 퍼플루오로비닐에테르와 비닐리덴플로라이드의 공중합체, 테트라플루오로에틸렌과 비닐리덴플로라이드의 공중합체, 헥사플루오로프로필렌옥사이드와 비닐리덴플로라이드의 공중합체, 헥사플루오로프로필렌과 테트라플루오로에틸렌과 비닐리덴플로라이드의 공중합체를 들 수 있다. 이들 폴리머는, 단독으로도 혼합체로도 사용할 수 있다.As the material of the coating layer 12 having piezoelectricity, for example, a material containing a fluororesin is preferably used. Specific examples of the material containing the fluororesin include a polymer of vinylidene fluoride, a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene, a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene, and hexafluoro A copolymer of ropropylene and vinylidene fluoride, a copolymer of perfluorovinyl ether and vinylidene fluoride, a copolymer of tetrafluoroethylene and vinylidene fluoride, a copolymer of hexafluoropropylene oxide and vinylidene fluoride and a copolymer of hexafluoropropylene, tetrafluoroethylene, and vinylidene fluoride. These polymers can be used individually or as a mixture.

불소 수지를 함유하는 재료는, 바람직하게는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체, 혹은, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체이다. 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체를 2 원계 공중합체라고 하는 것으로 한다. 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체를 3 원계 공중합체라고 하는 것으로 한다.The material containing the fluororesin is preferably a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene or a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene. A copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene is referred to as a binary copolymer. A copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene is referred to as a ternary copolymer.

불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 를, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료로 사용할 경우, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 몰비는, 전체를 100 으로 하여 (50 ∼ 85) : (50 ∼ 15) 의 범위가 적절하다.When a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene (binary copolymer) is used as a material for the coating layer 12 having piezoelectricity, the molar ratio of vinylidene fluoride and trifluoroethylene is 100 ( 50-85): The range of (50-15) is suitable.

또, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 를, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료로 사용할 경우, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 몰비는, 전체를 100 으로 하여 (63 ∼ 65) : (27 ∼ 29) : (10 ∼ 6) 의 범위가 적절하다.Further, when a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene (a ternary copolymer) is used as a material for the coating layer 12 having piezoelectric properties, vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene are used. The molar ratio of trifluoroethylene is preferably in the range of (63 to 65): (27 to 29): (10 to 6) with the total being 100.

[압전성을 갖는 코팅층의 두께][Thickness of coating layer having piezoelectricity]

압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 한정되는 경우는 없지만, 후술하는 광학 특성을 고려하면, 0.5 ㎛ ∼ 20 ㎛ 가 바람직하고, 0.5 ㎛ ∼ 10 ㎛ 가 보다 바람직하며, 0.5 ㎛ ∼ 5 ㎛ 가 더욱 바람직하다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 0.5 ㎛ 미만이면, 형성된 막이 불완전하게 될 우려가 있다. 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 20 ㎛ 를 초과하면, 광학 특성 (헤이즈값 및 전광선 투과율) 이 부적절해질 우려가 있다.Although the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is not limited, in consideration of the optical properties to be described later, preferably 0.5 µm to 20 µm, more preferably 0.5 µm to 10 µm, furthermore 0.5 µm to 5 µm desirable. If the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is less than 0.5 mu m, there is a fear that the formed film becomes incomplete. When the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity exceeds 20 µm, there is a fear that the optical properties (haze value and total light transmittance) become inadequate.

[투명 전극][Transparent Electrode]

제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 가시광역 (380 ㎚ ∼ 780 ㎚) 에서 광 투과성을 가지며, 또한, 도전성을 갖는 것이면, 그 구성 및 재료가 특별히 한정되는 경우는 없다. 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 예를 들어, 금속의 도전성 산화물 (예를 들어, 인듐 산화물) 을 주성분으로 하는 투명 박막, 또는 주금속 (예를 들어, 인듐) 과 1 종 이상의 불순물 금속 (예를 들어, 주석) 을 함유하는 복합 금속 산화물을 주성분으로 하는 투명 박막이다.If the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 have light transmittance in the visible light region (380 nm to 780 nm) and have conductivity, the configuration and material thereof are not particularly limited. . The first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 are, for example, a transparent thin film mainly composed of a metal conductive oxide (eg, indium oxide), or a main metal (eg, indium). It is a transparent thin film which has as a main component the complex metal oxide which contains and 1 or more types of impurity metal (for example, tin).

제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 으로서, 예를 들어, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물 (ITO : Indium Tin Oxide), 인듐아연 산화물 (IZO : Indium Zinc Oxide), 인듐갈륨아연 산화물 (IGZO : Indium Gallium Zinc Oxide) 등의 인듐계 복합 산화물이 사용되지만, 저비저항이나 투과 색상의 관점에서, 인듐주석 산화물 (ITO) 이 특히 바람직하다.As the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15, for example, indium oxide, indium tin oxide (ITO: Indium Tin Oxide), indium zinc oxide (IZO: Indium Zinc Oxide), indium gallium zinc oxide Although indium-type composite oxides, such as (IGZO: Indium Gallium Zinc Oxide) are used, indium tin oxide (ITO) is especially preferable from a viewpoint of a low resistivity and transmission color.

인듐계 복합 산화물은, 가시광역에 투과율이 80 % 이상으로 높으며, 또한, 단위 면적당 표면 저항값이 30 Ω/□ ∼ 1000 Ω/□ (ohms per square) 로 낮은 특징이 있다. 인듐계 복합 산화물의 단위 면적당 표면 저항값은, 300 Ω/□ 이하가 바람직하고, 150 Ω/□ 이하가 보다 바람직하다.The indium-based composite oxide has a high transmittance of 80% or more in the visible light region, and a low surface resistance value of 30 Ω/□ to 1000 Ω/□ (ohms per square) per unit area. 300 Ω/square or less is preferable and, as for the surface resistance value per unit area of an indium-type composite oxide, 150 ohms/square or less is more preferable.

제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 에는, 추가로 티탄 Ti, 마그네슘 Mg, 알루미늄 Al, 금 Au, 은 Ag, 구리 Cu 등의 불순물 금속 원소가 함유되어 있어도 된다. 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 스퍼터링법, 진공 증착법 등에 의해서 형성되지만, 제법이 이것에 한정되는 경우는 없다.The first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 may further contain impurity metal elements such as titanium Ti, magnesium Mg, aluminum Al, gold Au, silver Ag, copper Cu and the like. Although the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 are formed by the sputtering method, the vacuum vapor deposition method, etc., a manufacturing method is not limited to this.

제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 을 인듐주석 산화물 (ITO) 로 형성하는 경우, 인듐주석 산화물 (ITO) 중의 산화주석 (SnO2) 의 양은, 산화인듐 (In2O3) 과 산화주석 (SnO2) 의 합계량에 대해서, 0.5 중량% ∼ 15 중량% 인 것이 바람직하고, 3 중량% ∼ 15 중량% 인 것이 보다 바람직하며, 5 중량% ∼ 13 중량% 인 것이 더욱 바람직하다. 산화주석 (SnO2) 이 0.5 중량% 미만이면, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 표면 저항값이 높아질 우려가 있다. 산화주석 (SnO2) 이 15 중량% 를 초과하면, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 면내의 표면 저항값의 균일성이 상실될 우려가 있다.When the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 are formed of indium tin oxide (ITO), the amount of tin oxide (SnO 2 ) in indium tin oxide (ITO) is indium oxide (In 2 O 3 ) ) and tin oxide (SnO 2 ), preferably 0.5 wt% to 15 wt%, more preferably 3 wt% to 15 wt%, still more preferably 5 wt% to 13 wt% . When tin oxide (SnO2) is less than 0.5 weight%, there exists a possibility that the surface resistance value of the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 may become high. When tin oxide (SnO2) exceeds 15 weight%, there exists a possibility that the uniformity of the surface resistance value in plane of the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 may be lost.

저온에서 형성된, 예를 들어, 인듐주석 산화물 (ITO) 로 이루어지는 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은 비정질이고, 이것을 가열 처리함으로써 비정질에서 결정질로 전화시킬 수 있다. 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 결정질로 전화되면 그 표면 저항값이 낮아진다. 그 때문에, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은 결정질인 것이 바람직하다. 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 을 결정질로 전화시킬 때의 열처리 조건은, 80 ℃ ∼ 200 ℃ 가 적절하지만, 생산성의 관점에서는, 140 ℃ 이하, 30 분 이하가 바람직하다.The first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 formed at a low temperature and made of, for example, indium tin oxide (ITO) are amorphous, and can be converted from amorphous to crystalline by heat-treating them. As for the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15, the surface resistance value will become low when it is converted into crystalline. Therefore, it is preferable that the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 are crystalline. The heat treatment conditions for converting the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 into crystalline form are preferably 80°C to 200°C, but from the viewpoint of productivity, 140°C or less and 30 minutes or less are preferable. .

제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 두께는, 15 ㎚ ∼ 50 ㎚ 인 것이 바람직하다. 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 두께가 15 ㎚ 를 밑돌면, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 표면 저항값이 상승할 우려가 있다. 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 두께가 50 ㎚ 를 초과하면, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 전광선 투과율의 저하나, 내부 응력의 상승에 의한 크랙 발생이 우려된다. 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 2 층 이상의 투명 도전막이 적층된 적층막이어도 된다.It is preferable that the thickness of the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 is 15 nm - 50 nm. When the thickness of the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 is less than 15 nm, there exists a possibility that the surface resistance value of the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 may rise. When the thickness of the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 exceeds 50 nm, the fall of the total light transmittance of the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15, or an increase in internal stress There is concern about the occurrence of cracks due to The 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 may be a laminated|multilayer film in which the transparent conductive film of two or more layers was laminated|stacked.

제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 폴리에틸렌디옥시티오펜 (PEDOT : PSS), 폴리피롤, 폴리아닐린 등의 도전성 고분자의 박막이어도 된다. 또 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 선 직경이 5 ㎛ ∼ 10 ㎛ 정도인 은이나 구리의 극세 금속선이 투명 필름 상에 망목상 (網目狀) 으로 형성된 도전성 극세망이어도 된다. 혹은, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 카본 나노 파이버, 은 나노 와이어, 그라펜 등을 포함하는 박막이어도 된다.The 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 may be thin films of conductive polymers, such as polyethylenedioxythiophene (PEDOT:PSS), a polypyrrole, and polyaniline. Further, in the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15, an ultra-fine metal wire of silver or copper having a wire diameter of about 5 µm to 10 µm is formed in a network shape on a transparent film. may be Alternatively, the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 may be thin films made of carbon nanofibers, silver nanowires, graphene, or the like.

[투명 점착층][Transparent adhesive layer]

투명 점착층 (21) 은 광학 투명 점착제로 이루어지는 것이 바람직하다. 예를 들어, 광학 투명 점착제의 시트를 사용하여 투명 점착층 (21) 을 형성할 수 있다. 투명 점착층 (21) 대신에 투명 접착층을 사용할 수도 있다. 그 경우, 투명 접착층은 광학 투명 접착제로 이루어지는 것이 바람직하다. 예를 들어, 액상의 광학 투명 접착제를 도포하고, 자외선을 조사하고 경화시켜, 투명 접착층을 형성할 수 있다. 투명 점착층 (21) 혹은 투명 접착층의 굴절률은, 그 양측에 적층된 재료의 각각의 굴절률의 중간적인 값인 것이 바람직하다. 그와 같이 투명 점착층 (21) 혹은 투명 접착층의 굴절률을 선택함으로써, 투명 점착층 (21) 혹은 투명 접착층과, 그 양측에 적층된 재료의 계면에 있어서의 광의 반사를 억제할 수 있다.It is preferable that the transparent adhesive layer 21 consists of an optically transparent adhesive. For example, the transparent adhesive layer 21 can be formed using a sheet of an optically transparent adhesive. A transparent adhesive layer may be used instead of the transparent adhesive layer 21 . In that case, it is preferable that the transparent adhesive layer consists of an optically transparent adhesive agent. For example, a transparent adhesive layer can be formed by applying a liquid optically transparent adhesive, irradiating and curing with ultraviolet rays. It is preferable that the refractive index of the transparent adhesive layer 21 or the transparent adhesive layer is an intermediate value of each refractive index of the material laminated|stacked on the both sides. By selecting the refractive index of the transparent adhesive layer 21 or the transparent adhesive layer as described above, reflection of light at the interface between the transparent adhesive layer 21 or the transparent adhesive layer and the material laminated on both sides thereof can be suppressed.

[투명 전극 형성 압전 필름의 광학 특성][Optical Characteristics of Piezoelectric Film with Transparent Electrode]

일반적으로, 헤이즈값이 커져도, 광은 흡수되지 않고 산란하는 경우가 있기 때문에, 전광선 투과율은 저하되지 않는 경우가 있다. 그러나, 전광선 투과율은 저하되지 않아도, 헤이즈값이 커짐에 따라서, 디스플레이 화상의 시인성은 저하된다. 그 때문에 전광선 투과율의 값만으로는, 디스플레이 화상의 시인성은 판단할 수 없다. 본원 발명자의 실험에 의하면, 투명 전극 형성 압전 필름의 배면에 있는 디스플레이의 화상을 명료하게 시인하기 위해서, 투명 전극 형성 압전 필름의 헤이즈값은, 5 % 이하가 바람직하고, 4 % 이하가 보다 바람직하며, 3 % 이하가 더욱 바람직하고, 2 % 이하가 특히 바람직하고, 1 % 이하가 가장 바람직하다. 투명 전극 형성 압전 필름의 전광선 투과율은 82 % 이상이 바람직하고, 85 % 이상이 보다 바람직하며, 86 % 이상이 더욱 바람직하고, 88 % 이상이 특히 바람직하다. 투명 전극 형성 압전 필름의 헤이즈값이 5 % 를 초과했을 경우, 혹은, 전광선 투과율이 82 % 미만이 되었을 경우, 디스플레이의 화상을 명료하게 시인할 수 없게 될 우려가 있다.Generally, even if a haze value becomes large, since light may be scattered without being absorbed, a total light transmittance may not fall. However, even if the total light transmittance does not fall, the visibility of a display image falls as a haze value becomes large. Therefore, the visibility of a display image cannot be judged only by the value of a total light transmittance. According to the experiments of the present inventors, in order to clearly view the image of the display on the back side of the transparent electrode-forming piezoelectric film, the haze value of the transparent electrode-forming piezoelectric film is preferably 5% or less, more preferably 4% or less, , 3% or less is more preferable, 2% or less is particularly preferable, and 1% or less is most preferable. The total light transmittance of the transparent electrode-forming piezoelectric film is preferably 82% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 86% or more, and particularly preferably 88% or more. When the haze value of the piezoelectric film with a transparent electrode exceeds 5 %, or when the total light transmittance is less than 82 %, there exists a possibility that the image of a display may become difficult to visually visually recognize.

실시예Example

[실시예 1][Example 1]

[압전 필름][Piezoelectric Film]

실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 압전 필름 (13) 은, 제 1 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 표면에, 먼저 도시하지 않은 접착 용이층을 형성하고, 다음으로 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 의 용액을 코팅하여 제작되었다. 제 1 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 두께는 23 ㎛ 였다.The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 1 has the structure of the 2nd Example 102 of the transparent electrode formation piezoelectric film of this invention. The piezoelectric film 13 contained in the transparent electrode formation piezoelectric film of Example 1 first forms an adhesion-facilitating layer (not shown) on the surface of the 1st base film 11 (polyethylene terephthalate film), then fluorination It was prepared by coating a solution of a copolymer (binary copolymer) of vinylidene and trifluoroethylene. The thickness of the 1st base film 11 (polyethylene terephthalate film) was 23 micrometers.

압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 제작함에 있어서, 먼저, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 를 상온의 메틸에틸케톤에 초음파에 의해서 용해시키고, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 의 용액을 제조하였다. 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 에 함유되는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 몰비는 75/25 였다.In preparing the coating layer 12 having piezoelectricity, first, a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene (binary copolymer) is dissolved in methyl ethyl ketone at room temperature by ultrasonication, and vinylidene fluoride and trifluoro A solution of a copolymer of roethylene (binary copolymer) was prepared. The molar ratio of vinylidene fluoride and trifluoroethylene contained in the copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene (binary copolymer) was 75/25.

다음으로 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 의 용액을, 바 코터에 의해서, 제 1 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 표면에 코팅하였다. 다음으로, 제 1 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 및 미건조된 코팅층을, 60 ℃, 5 분간의 건조 조건에서 건조시켜, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 얻었다. 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께는 5 ㎛ 였다.Next, a solution of a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene (binary copolymer) was coated on the surface of the first base film 11 (polyethylene terephthalate film) with a bar coater. Next, the first base film 11 (polyethylene terephthalate film) and the undried coating layer were dried at 60° C. under drying conditions for 5 minutes to obtain a coating layer 12 having piezoelectricity. The thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 5 µm.

[투명 전극][Transparent Electrode]

압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 적층된 제 1 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 을 스퍼터 장치에 세트하고, 스퍼터링법에 의해서, 두께 25 ㎚ 의 인듐주석 산화물 (ITO) 로 이루어지는 제 1 투명 전극 (14) 을, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 표면에 성막하였다. 이 때, 아르곤 가스 : 산소 가스의 압력비가 99 : 1 이고, 전체 가스압이 0.3 ㎩ 인 스퍼터링 분위기로 하고, 전력 밀도 1.0 W/㎠ 의 전력을 투입하여, 10 중량% 의 산화주석과 90 중량% 의 산화인듐의 소결체로 이루어지는 인듐주석 산화물 타깃을 스퍼터링하고, 제 1 투명 전극 (14) 을 성막하였다.The first base film 11 (polyethylene terephthalate film) on which the coating layer 12 having piezoelectricity is laminated is set in a sputtering apparatus, and the first transparent first made of indium tin oxide (ITO) having a thickness of 25 nm by sputtering The electrode 14 was formed into a film on the surface of the coating layer 12 which has piezoelectricity. At this time, the pressure ratio of argon gas:oxygen gas is 99:1, the total gas pressure is 0.3 Pa in a sputtering atmosphere, and electric power with a power density of 1.0 W/cm 2 is applied, and 10 wt% of tin oxide and 90 wt% of The indium tin oxide target which consists of a sintered compact of indium oxide was sputtered, and the 1st transparent electrode 14 was formed into a film.

다음으로, 제 1 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 표면에, 제 1 투명 전극 (14) 과 동일한 성막 조건에서, 제 2 투명 전극 (15) 을 성막하였다. 이와 같이 하여 투명 전극 형성 압전 필름을 제작하였다. 이 단계에서는, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은 비정질이었다.Next, on the surface of the 1st base film 11 (polyethylene terephthalate film), on the film-forming conditions similar to the 1st transparent electrode 14, the 2nd transparent electrode 15 was formed into a film. In this way, a piezoelectric film with a transparent electrode was produced. At this stage, the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 were amorphous.

[투명 전극의 결정화][Crystallization of Transparent Electrode]

제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 이 비정질인 투명 전극 형성 압전 필름을, 가열 오븐에서 80 ℃, 12 시간 가열하여, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 결정화 처리를 행하고, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 이 결정질인 투명 전극 형성 압전 필름을 얻었다. 결정화 후의 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 표면 저항값은 각각 150 Ω/□ 였다.A transparent electrode-forming piezoelectric film in which the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 are amorphous is heated in a heating oven at 80° C. for 12 hours, and the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 are ), to obtain a transparent electrode-forming piezoelectric film in which the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 are crystalline. The surface resistance value of the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 after crystallization was 150 ohms/square, respectively.

[실시예 2][Example 2]

실시예 2 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 1 예 (101) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 2 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 압전 필름 (13) 은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 압전 필름 (13) 과 동일하게 하여 제작되었다. 실시예 2 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14) 은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14) 과 동일하게 하여 성막되고, 제 1 투명 전극 (14) 을 결정화하는 공정까지 실시되었다.The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 2 has the structure of the 1st example 101 of the transparent electrode formation piezoelectric film of this invention. The piezoelectric film 13 contained in the transparent electrode formation piezoelectric film of Example 2 was carried out similarly to the piezoelectric film 13 contained in the transparent electrode formation piezoelectric film of Example 1, and was produced. The first transparent electrode 14 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 2 was formed in the same manner as the first transparent electrode 14 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1, and the first transparent The process of crystallizing the electrode 14 was also implemented.

[실시예 3][Example 3]

실시예 3 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 23 예 (123) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 3 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 압전 필름 (13) 은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 압전 필름 (13) 과 동일하게 하여 제작되었다. 실시예 3 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14) 은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14) 과 동일하게 하여 성막되고, 제 1 투명 전극 (14) 을 결정화하는 공정까지 실시되었다.The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 3 has the structure of the 23rd Example (123) of the transparent electrode formation piezoelectric film of this invention. The piezoelectric film 13 contained in the transparent electrode formation piezoelectric film of Example 3 was carried out similarly to the piezoelectric film 13 contained in the transparent electrode formation piezoelectric film of Example 1, and was produced. The first transparent electrode 14 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 3 was formed in the same manner as the first transparent electrode 14 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1, and the first transparent The process of crystallizing the electrode 14 was also implemented.

[실시예 4][Example 4]

실시예 4 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 4 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 1 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 1 과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 4 has the structure of the 2nd Example 102 of the transparent electrode formation piezoelectric film of this invention. A transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 4 was produced in the same manner as in Example 1, except that the coating layer 12 having piezoelectricity had a thickness of 1 µm.

[실시예 5][Example 5]

실시예 5 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 5 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 10 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 5 has the configuration of the second example (102) of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 5 was produced in the same manner as the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1, except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity was 10 µm.

[실시예 6][Example 6]

실시예 6 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 6 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 20 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 6 has the structure of the 2nd example 102 of the transparent electrode formation piezoelectric film of this invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 6 was produced in the same manner as the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1, except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity was 20 µm.

[실시예 7][Example 7]

실시예 7 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 25 예 (125) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 7 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14), 제 1 기재 필름 (11), 압전성을 갖는 코팅층 (12) 은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14), 제 1 기재 필름 (11), 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 동일하게 하여 제작되어 제 1 투명 전극 (14) 을 결정화하는 공정까지 실시되었다.The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 7 has the structure of the 25th example (125) of the transparent electrode formation piezoelectric film of this invention. The first transparent electrode 14, the first base film 11, and the coating layer 12 having piezoelectric properties included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 7 are the first transparent electrodes included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1 1 It carried out similarly to the 1st transparent electrode 14, the 1st base film 11, and the coating layer 12 which has piezoelectricity, and it carried out even the process of crystallizing the 1st transparent electrode 14.

실시예 7 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 2 투명 전극 (15), 제 2 기재 필름 (17) 은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14), 제 1 기재 필름 (11) 과 동일하게 하여 제작되고, 제 2 투명 전극 (15) 을 결정화하는 공정까지 실시되었다.The second transparent electrode 15 and the second base film 17 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 7 are the first transparent electrode 14 and the second base film 17 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1 1 It carried out similarly to the base film 11, and was produced, and it carried out even the process of crystallizing the 2nd transparent electrode 15.

마지막으로, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 제 2 투명 전극 (15) 을, 투명 점착층 (21) 을 사용하여 첩합 (貼合) 하여 고정시켰다. 이로써 제 1 투명 전극 (14), 제 1 기재 필름 (11), 압전성을 갖는 코팅층 (12), 투명 점착층 (21), 제 2 투명 전극 (15), 제 2 기재 필름 (17) 이 이 순서로 적층되어 이루어지는, 실시예 7 의 투명 전극 형성 압전 필름이 얻어졌다. 투명 점착층 (21) 으로서, 아크릴계 점착제 (닛토 덴코 주식회사 제조) 를 사용하였다.Finally, the coating layer 12 having piezoelectricity and the second transparent electrode 15 were bonded and fixed using the transparent adhesive layer 21 . Accordingly, the first transparent electrode 14, the first base film 11, the coating layer 12 having piezoelectricity, the transparent adhesive layer 21, the second transparent electrode 15, and the second base film 17 are performed in this order. A transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 7, laminated with , was obtained. As the transparent adhesive layer 21, an acrylic adhesive (manufactured by Nitto Denko Corporation) was used.

[실시예 8][Example 8]

실시예 8 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 3 예 (103) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 8 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14), 압전성을 갖는 코팅층 (12), 제 1 기재 필름 (11) 은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14), 압전성을 갖는 코팅층 (12), 제 1 기재 필름 (11) 과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 8 has the structure of the 3rd Example (103) of the transparent electrode formation piezoelectric film of this invention. The first transparent electrode 14, the coating layer 12 having piezoelectricity, and the first base film 11 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 8 are the first transparent electrodes included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1 1 It carried out similarly to the transparent electrode 14, the coating layer 12 which has piezoelectricity, and the 1st base film 11, and was produced.

실시예 8 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 2 투명 전극 (15), 제 2 기재 필름 (17) 은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14), 제 1 기재 필름 (11) 과 동일하게 하여 제작되고, 제 2 투명 전극 (15) 을 결정화하는 공정까지 실시되었다.The second transparent electrode 15 and the second base film 17 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 8 are the first transparent electrode 14 and the second base film 17 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1 1 It carried out similarly to the base film 11, and was produced, and it carried out even the process of crystallizing the 2nd transparent electrode 15.

마지막으로, 제 1 기재 필름 (11) 과 제 2 투명 전극 (15) 을, 투명 점착층 (21) 을 사용하여 첩합하여 고정시켰다. 이로써, 제 1 투명 전극 (14), 압전성을 갖는 코팅층 (12), 제 1 기재 필름 (11), 투명 점착층 (21), 제 2 투명 전극 (15), 제 2 기재 필름 (17) 이 이 순서로 적층되어 이루어지는, 실시예 8 의 투명 전극 형성 압전 필름이 얻어졌다. 투명 점착층 (21) 으로서, 아크릴계 점착제 (닛토 덴코 주식회사 제조) 를 사용하였다.Finally, the 1st base film 11 and the 2nd transparent electrode 15 were bonded and fixed using the transparent adhesion layer 21. As shown in FIG. Accordingly, the first transparent electrode 14, the coating layer 12 having piezoelectricity, the first base film 11, the transparent adhesive layer 21, the second transparent electrode 15, and the second base film 17 are The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 8, which is laminated|stacked in order, was obtained. As the transparent adhesive layer 21, an acrylic adhesive (manufactured by Nitto Denko Corporation) was used.

[실시예 9][Example 9]

실시예 9 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 9 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 이, 결정화 처리를 실시하지 않았기 때문에 비정질이고, 두께가 각각 20 ㎚ 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 9 has the configuration of the second example (102) of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 9 was amorphous because the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 were not subjected to crystallization treatment, and each had a thickness of 20 nm. It carried out similarly to the transparent electrode formation piezoelectric film of Example 1, and produced it.

[실시예 10][Example 10]

실시예 10 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 10 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 의 두께가 각각 40 ㎚ 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 10 has the configuration of the second example 102 of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 10 was the same as that of the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1, except that the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 each had a thickness of 40 nm. was made by

[실시예 11][Example 11]

실시예 11 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 11 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 이, 결정화 처리를 실시하지 않았기 때문에 비정질인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 11 has the structure of the 2nd Example 102 of the transparent electrode formation piezoelectric film of this invention. The transparent electrode formation piezoelectric film of Example 11 was the transparent electrode formation piezoelectric film of Example 1, except that the 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 were amorphous because crystallization treatment was not performed. It was produced in the same manner as the film.

[실시예 12][Example 12]

실시예 12 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 12 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 재료가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 인 것을 제외하고는, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 12 has the configuration of the second example (102) of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 12, except that the material of the coating layer 12 having piezoelectricity was a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene (ternary copolymer) , was produced in the same manner as the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1.

압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 제작함에 있어서, 먼저, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 를 상온의 메틸이소부틸케톤에 초음파에 의해서 용해시키고, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 의 용액을 제조하였다. 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 에 함유되는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 몰비는, 64.2/27.1/8.7 이었다.In preparing the coating layer 12 having piezoelectricity, first, a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene (tertiary copolymer) is dissolved in methyl isobutyl ketone at room temperature by ultrasonication. , A solution of a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene (ternary copolymer) was prepared. The molar ratio of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene contained in the copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene (ternary copolymer) is 64.2/27.1/8.7 It was.

다음으로 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 의 용액을, 바 코터에 의해서, 제 1 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 의 표면에 코팅하였다. 다음으로, 제 1 기재 필름 (11) (폴리에틸렌테레프탈레이트 필름) 및 미건조의 코팅층을, 60 ℃, 5 분간의 건조 조건에서 건조시켜, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 얻었다. 건조 후의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께는 1 ㎛ 였다.Next, a solution of a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene (tertiary copolymer) was applied to the surface of the first base film 11 (polyethylene terephthalate film) with a bar coater. coated. Next, the first base film 11 (polyethylene terephthalate film) and the undried coating layer were dried under drying conditions at 60° C. for 5 minutes to obtain a coating layer 12 having piezoelectricity. The thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity after drying was 1 µm.

[실시예 13][Example 13]

실시예 13 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 13 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 5 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 12 의 투명 전극 형성 압전 필름과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 13 has the configuration of the second example (102) of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. A transparent electrode formation piezoelectric film of Example 13 was produced in the same manner as the transparent electrode formation piezoelectric film of Example 12, except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity was 5 µm.

[실시예 14][Example 14]

실시예 14 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 제 2 예 (102) 의 구성으로 이루어진다. 실시예 14 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 10 ㎛ 인 것을 제외하고는, 실시예 12 의 투명 전극 형성 압전 필름과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 14 has the configuration of the second example (102) of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention. The transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 14 was produced in the same manner as the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 12, except that the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity was 10 µm.

[비교예 1][Comparative Example 1]

비교예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름은, 자립된 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 의 필름의 일면을 제 1 투명 전극으로, 타면을 제 2 투명 전극으로 협지하여 적층한 구성으로 이루어진다. 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 의 필름 두께는 40 ㎛ 였다. 두께 40 ㎛ 의 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 의 필름은, 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 를 상온의 메틸이소부틸케톤에 초음파에 의해서 용해시킨 용액을, 건조 후의 두께가 40 ㎛ 가 되도록, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 코팅하고, 건조 후, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 벗겨내어 제작되었다. 비교예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 및 제 2 투명 전극은, 실시예 1 의 투명 전극 형성 압전 필름에 포함되는 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 과 동일하게 하여 제작되었다.The transparent electrode-forming piezoelectric film of Comparative Example 1 was laminated by sandwiching one side of a self-supporting vinylidene fluoride polymer (polyvinylidene fluoride) film with the first transparent electrode and the other side with the second transparent electrode. The film thickness of the polymer of vinylidene fluoride (polyvinylidene fluoride) was 40 mu m. A film of a vinylidene fluoride polymer (polyvinylidene fluoride) having a thickness of 40 µm is a solution obtained by dissolving a vinylidene fluoride polymer (polyvinylidene fluoride) in methyl isobutyl ketone at room temperature by ultrasonic waves, and the thickness after drying is It coated on the surface of a polyethylene terephthalate film so that it might be set to 40 micrometers, and after drying, the polyethylene terephthalate film was peeled and produced. The first transparent electrode and the second transparent electrode included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Comparative Example 1 were the first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 included in the transparent electrode-forming piezoelectric film of Example 1 was produced in the same way as

Figure 112018118247499-pct00001
Figure 112018118247499-pct00001

표 1 에 본 발명의 압전 필름의 실시예와 비교예의 구성, 압전성을 갖는 층의 종류와 몰비와 두께, 제 1 및 제 2 투명 전극 상태 (결정성) 와 두께, 투명 전극이 없을 때와 있을 때의 전광선 투과율, 투명 전극이 있을 때의 헤이즈값을 나타낸다. 표 1 중, VDF 는 불화비닐리덴, TrFE 는 트리플루오로에틸렌, CTFE 는 클로로트리플루오로에틸렌을 나타낸다. P( ) 는 공중합체를 나타낸다. 따라서, 「P(VDF-TrFE)」는, 「불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체」라는 의미이다. 또, 「P(VDF-TrFE-CTFE)」는, 「불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체」라는 의미이다. PVDF 는 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 를 의미한다.Table 1 shows the composition of Examples and Comparative Examples of the piezoelectric film of the present invention, the type and molar ratio and thickness of the piezoelectric layer, the state (crystallization) and thickness of the first and second transparent electrodes, and when there is no transparent electrode shows the total light transmittance of and haze value when there is a transparent electrode. In Table 1, VDF represents vinylidene fluoride, TrFE represents trifluoroethylene, and CTFE represents chlorotrifluoroethylene. P( ) represents a copolymer. Therefore, "P(VDF-TrFE)" means "a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene." In addition, "P(VDF-TrFE-CTFE)" means "a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene." PVDF means a polymer of vinylidene fluoride (polyvinylidene fluoride).

실시예 1 과 실시예 2 를 비교하면, 제 2 투명 전극 (15) 을 적층했을 경우, 전광선 투과율은 작아지지만, 헤이즈값은 변화되지 않는 것을 알 수 있다.When Example 1 and Example 2 are compared, when the 2nd transparent electrode 15 is laminated|stacked, although total light transmittance becomes small, it turns out that haze value does not change.

실시예 2 와 실시예 3 을 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 과 제 1 기재 필름 (11) 의 적층 순서가 역전되어도, 전광선 투과율 및 헤이즈값은 변화되지 않는 것을 알 수 있다.When Example 2 and Example 3 are compared, even if the lamination order of the coating layer 12 which has piezoelectricity and the 1st base film 11 is reversed, it turns out that a total light transmittance and a haze value do not change.

실시예 1 과 실시예 4 를 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 1/5 로 되어도, 전광선 투과율 및 헤이즈값은 변화되지 않는 것을 알 수 있다.Comparing Example 1 and Example 4, it turns out that even if the thickness of the coating layer 12 which has piezoelectricity becomes 1/5, the total light transmittance and haze value do not change.

실시예 1 과 실시예 5 를 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 2 배로 되어도, 전광선 투과율 및 헤이즈값은 변화되지 않는 것을 알 수 있다.Comparing Example 1 and Example 5, it turns out that even if the thickness of the coating layer 12 which has piezoelectricity is doubled, a total light transmittance and a haze value do not change.

실시예 1 과 실시예 6 을 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 4 배로 되었을 경우, 전광선 투과율은 변화되지 않지만, 헤이즈값은 커지는 것을 알 수 있다.Comparing Example 1 and Example 6, it can be seen that when the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is quadrupled, the total light transmittance does not change, but the haze value becomes large.

실시예 1 과 실시예 7 을 비교하면, 투명 점착층 (21) 과 제 2 기재 필름 (17) 을 적층해도, 전광선 투과율 및 헤이즈값은 변화되지 않는 것을 알 수 있다.When Example 1 and Example 7 are compared, even if it laminates|stacks the transparent adhesion layer 21 and the 2nd base film 17, it turns out that a total light transmittance and a haze value do not change.

실시예 7 과 실시예 8 을 비교하면, 제 1 기재 필름 (11) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 적층 순서가 역전되어도, 전광선 투과율 및 헤이즈값은 변화되지 않는 것을 알 수 있다.Comparing Example 7 and Example 8, even if the lamination order of the 1st base film 11 and the coating layer 12 which has piezoelectricity is reversed, it turns out that a total light transmittance and a haze value do not change.

실시예 1 과 실시예 9 를 비교하면, 두께 25 ㎚ 의 결정질의 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 두께 20 ㎚ 의 비정질의 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 보다, 전광선 투과율이 높은, 그러나 헤이즈값은 동등하다는 것을 알 수 있다.Comparing Example 1 and Example 9, the crystalline first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 having a thickness of 25 nm are the amorphous first transparent electrode 14 and the second transparent electrode 15 having a thickness of 20 nm. It turns out that the total light transmittance is higher than the transparent electrode 15, but the haze value is equal.

실시예 1 과 실시예 10 을 비교하면, 결정질의 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 이 두꺼워졌을 때, 전광선 투과율은 저하되지만, 헤이즈값은 변화되지 않는 것을 알 수 있다.Comparing Example 1 and Example 10, when the crystalline 1st transparent electrode 14 and the 2nd transparent electrode 15 became thick, the total light transmittance fell, but it turns out that the haze value does not change.

실시예 10 과 실시예 11 을 비교하면, 두께 40 ㎚ 의 결정질의 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 과 두께 25 ㎚ 의 비정질의 제 1 투명 전극 (14) 및 제 2 투명 전극 (15) 은, 전광선 투과율 및 헤이즈값에 대해서 동등하다는 것을 알 수 있다.Comparing Example 10 and Example 11, a crystalline first transparent electrode 14 and a second transparent electrode 15 having a thickness of 40 nm and an amorphous first transparent electrode 14 and a second transparent electrode 15 having a thickness of 25 nm are compared. It turns out that the electrode 15 is equivalent about a total light transmittance and haze value.

실시예 4 와 실시예 12 를 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 얇을 경우, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 일 때에는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 일 때와 비교하여, 전광선 투과율 및 헤이즈값에 대해서 동등하다는 것을 알 수 있다.Comparing Example 4 and Example 12, when the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is thin, the coating layer 12 having piezoelectricity is a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene ( In the case of a ternary copolymer), compared with the case of a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene (binary copolymer), it can be seen that the total light transmittance and haze value are equivalent.

실시예 1 과 실시예 13 을 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 얇지 않을 경우, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 일 때에는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 일 때와 비교하여, 전광선 투과율은 변함없지만, 헤이즈값은 커지는 것을 알 수 있다.Comparing Example 1 and Example 13, when the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is not thin, the coating layer 12 having piezoelectricity is a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene. In the case of (ternary copolymer), compared with the case of the copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene (binary copolymer), it turns out that although the total light transmittance does not change, haze value becomes large.

실시예 5 와 실시예 14 를 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 두꺼울 경우, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 일 때에는, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 일 때와 비교하여, 전광선 투과율은 변함없지만, 헤이즈값은 커지는 것을 알 수 있다.Comparing Example 5 and Example 14, when the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity is thick, the coating layer 12 having piezoelectricity is a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene ( In the case of a ternary copolymer), compared with the case of a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene (binary copolymer), it is understood that the total light transmittance is unchanged, but the haze value is increased.

실시예 12 ∼ 실시예 14 를 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체 (3 원계 공중합체) 일 때, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 두꺼워짐에 따라서, 전광선 투과율은 변화되지 않지만, 헤이즈값은 커지는 것을 알 수 있다. 그러나 실시예 12 ∼ 실시예 14 의 전광선 투과율 및 헤이즈값은 모두 문제 없는 레벨이다.Comparing Examples 12 to 14, when the coating layer 12 having piezoelectricity is a copolymer (tertiary copolymer) of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene, the coating layer having piezoelectricity ( 12) It turns out that although the total light transmittance does not change as this thickness increases, the haze value becomes large. However, the total light transmittance and haze value of Examples 12 to 14 are all satisfactory levels.

실시예 1, 실시예 4, 실시예 5 를 비교하면, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체 (2 원계 공중합체) 일 때에는, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 이 두꺼워져도, 전광선 투과율 및 헤이즈값은 변화되지 않는 것을 알 수 있다.Comparing Examples 1, 4, and 5, when the coating layer 12 having piezoelectricity is a copolymer (binary copolymer) of vinylidene fluoride and trifluoroethylene, the coating layer 12 having piezoelectricity ) becomes thick, it turns out that a total light transmittance and a haze value do not change.

실시예 1, 실시예 4, 실시예 5, 실시예 9 ∼ 실시예 11 과, 비교예 1 을 비교하면, 자립된 불화비닐리덴의 중합체 (폴리불화비닐리덴) 의 필름을 사용한 투명 전극 형성 압전 필름은, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 을 사용한 투명 전극 형성 압전 필름과 비교하여, 전광선 투과율은 동일한 정도이지만, 헤이즈값은 현저하게 크다. 비교예 1 로부터, 헤이즈값이 커져도, 전광선 투과율이 저하된다고는 할 수 없는 것을 알 수 있다.Comparing Examples 1, 4, 5, 9 to 11, and Comparative Example 1, a transparent electrode-forming piezoelectric film using a film of a self-supporting polymer of vinylidene fluoride (polyvinylidene fluoride) Compared with the transparent electrode formation piezoelectric film using the coating layer 12 which has silver and piezoelectricity, the total light transmittance is about the same, but a haze value is remarkably large. From the comparative example 1, even if a haze value becomes large, it turns out that it cannot be said that a total light transmittance falls.

[측정 방법][How to measure]

[두께][thickness]

1 ㎛ 미만의 막의 두께는, 투과형 전자 현미경 (히타치 제작소 제조 H-7650) 을 사용하여, 단면을 관찰하여 측정하였다. 1 ㎛ 를 초과하는 막 혹은 필름의 두께는, 막후계 (Peacock 사 제조 디지털 다이얼 게이지 DG-205) 를 사용하여 측정하였다.The thickness of the film of less than 1 µm was measured by observing the cross section using a transmission electron microscope (H-7650, manufactured by Hitachi, Ltd.). The film or the film thickness exceeding 1 µm was measured using a film thickness meter (DG-205 digital dial gauge manufactured by Peacock).

[헤이즈값, 전광선 투과율][Haze value, total light transmittance]

헤이즈값, 전광선 투과율은, Direct Reading Haze Computer (Suga Test Instruments 사 제조 HGM-ZDP) 를 사용하여 측정하였다.The haze value and the total light transmittance were measured using Direct Reading Haze Computer (HGM-ZDP manufactured by Suga Test Instruments).

[실시예 15 ∼ 20][Examples 15 to 20]

또, 도 5 에 있어서, 압전성을 갖는 코팅층 (12), 광학 조정층 (19), 제 1 투명 전극 (14) 의 두께 및 굴절률을 측정하였다. 압전 필름 (13) 은 상기 실시예와 마찬가지로, PET 필름에 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체를 코팅한 것이다.Moreover, in FIG. 5, the thickness and refractive index of the coating layer 12 which have piezoelectricity, the optical adjustment layer 19, and the 1st transparent electrode 14 were measured. The piezoelectric film 13 is obtained by coating a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene on a PET film as in the above embodiment.

광학 조정층 (19) 은 아래의 표 2 에 나타내는 바와 같이, 굴절률이 1.54, 1.62, 1.7 인 경우가 있다. 굴절률에 따라서 제조 방법이 상이하기 때문에 굴절률별로 설명한다. 굴절률이 1.54 인 경우, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 일방의 면에, 멜라민 수지 : 알키드 수지 : 유기 실란 축합물의 중량비 2 : 2 : 1 의 열 경화형 수지 (광의 굴절률 n = 1.54) 에 의해서, 두께가 120 ㎚ 인 광학 조정층 (19) 을 형성하였다.The optical adjustment layer 19 may have a refractive index of 1.54, 1.62, and 1.7, as shown in Table 2 below. Since the manufacturing method is different depending on the refractive index, it will be described for each refractive index. When the refractive index is 1.54, on one surface of the coating layer 12 having piezoelectricity, a thermosetting resin (refractive index of light n = 1.54) of a weight ratio of melamine resin: alkyd resin: organosilane condensate of 2: 2: 1 An optical adjustment layer 19 having a value of 120 nm was formed.

굴절률이 1.62 인 경우, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 일방의 면에, 자외선 경화성 수지 47 질량부, 산화지르코니아 입자 (메디안경 40 ㎚) 57 질량부 및 PGME 를 함유한 광학 조정 조성물 (JSR 사 제조, 「오프스타 Z7412」, 고형분 12 질량%) 을 그라비아 코터를 사용하여 도포하고, 무풍 상태 (0.1 m/s 미만) 에서 즉시 60 ℃ 에서 1 분간 가열 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프로, 적산 광량 250 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하고 경화 처리를 실시하였다. 이 방법에 의해서, 두께 90, 120, 또는 150 ㎚ 이고, 굴절률 1.62 의 광학 조정층 (19) 을, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 상에 형성하였다.When the refractive index is 1.62, on one surface of the coating layer 12 having piezoelectricity, 47 parts by mass of an ultraviolet curable resin, 57 parts by mass of zirconia particles (median diameter 40 nm), and an optical adjusting composition containing PGME (manufactured by JSR Corporation) . Then, it hardened by irradiating the ultraviolet-ray of 250 mJ/cm<2> of accumulated light quantity with a high-pressure mercury-vapor lamp. By this method, the optical adjustment layer 19 having a thickness of 90, 120, or 150 nm and having a refractive index of 1.62 was formed on the coating layer 12 having piezoelectricity.

굴절률이 1.7 인 경우, 멜라민 수지, 알키드 수지 및 유기 실란 축합물로 이루어지는 열 경화형 수지 (중량비로, 멜라민 수지 : 알키드 수지 : 유기 실란 축합물 = 2 : 2 : 1) 에 TiO2 (굴절률 = 2.35) 의 미립자를 혼합한 수지 조성물을 조제하였다. 이 때, 상기 수지 조성물의 굴절률이 1.70 이 되도록 TiO2 미립자의 혼합량을 조정하였다. 그리고, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 상에 상기 수지 조성물을 도공하고, 이것을 경화시켜, 두께 150 ㎚ 의 광학 조정층 (19) (굴절률 1.70) 을 형성하였다.When the refractive index is 1.7, a thermosetting resin consisting of a melamine resin, an alkyd resin and an organosilane condensate (by weight, melamine resin: alkyd resin: organosilane condensate = 2: 2: 1) in TiO 2 (refractive index = 2.35) The resin composition which mixed the microparticles|fine-particles of was prepared. At this time, the mixing amount of TiO 2 microparticles|fine-particles was adjusted so that the refractive index of the said resin composition might be set to 1.70. And the said resin composition was coated on the coating layer 12 which has piezoelectricity, this was hardened, and the 150-nm-thick optical adjustment layer 19 (refractive index 1.70) was formed.

또, 제 1 투명 전극 (14) 은, 인듐주석 산화물을 스퍼터링에 의해서 성막하였다. 또한, 도 5 에는 도시하지 않았지만, 제 1 기재 필름 (11) 에 있어서의 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 반대면에 안티 블로킹 기능을 갖는 하드 코트층을 형성하였다.Moreover, as for the 1st transparent electrode 14, indium tin oxide was formed into a film by sputtering. Moreover, although not shown in FIG. 5, the hard-coat layer which has an anti-blocking function was formed in the opposite surface of the coating layer 12 which has piezoelectricity in the 1st base film 11. As shown in FIG.

그 결과를 표 2 에 나타내는데, 「제 1 층」이 압전성을 갖는 코팅층 (12), 「제 2 층」이 광학 조정층 (19), 「제 3 층」이 제 1 투명 전극 (14) 이다. 각 실시예는, 상기와 같이 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께가 0.5 ∼ 10 ㎛, 광학 조정층 (19) 의 두께가 80 ∼ 160 ㎚, 제 1 투명 전극 (14) 의 두께가 20 ㎚ 이상으로 되어 있다. 또, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 굴절률이 1.40 ∼ 1.50, 광학 조정층 (19) 의 굴절률이 1.50 ∼ 1.70, 제 1 투명 전극 (14) 의 굴절률이 1.90 ∼ 2.10 으로 되어 있다. 제 1 투명 전극 (14) 과 광학 조정층 (19) 의 반사율차는 2 % 이하로서, 외관은 양호했다.The results are shown in Table 2, the "first layer" is the coating layer 12 having piezoelectricity, the "second layer" is the optical adjustment layer 19, and the "third layer" is the first transparent electrode 14. In each Example, the thickness of the coating layer 12 having piezoelectricity as described above is 0.5 to 10 µm, the thickness of the optical adjustment layer 19 is 80 to 160 nm, and the thickness of the first transparent electrode 14 is 20 nm or more. is made of Moreover, the refractive index of the coating layer 12 which has piezoelectricity is 1.40-1.50, the refractive index of the optical adjustment layer 19 is 1.50-1.70, and the refractive index of the 1st transparent electrode 14 is 1.90-2.10. The reflectance difference between the 1st transparent electrode 14 and the optical adjustment layer 19 was 2 % or less, and the external appearance was favorable.

또한, 필요에 따라서 제 1 투명 전극 (14) 은 에칭되어 원하는 전극 등이 된다. 상기 굴절률을 구할 때, 광학 조정층 (19) 의 굴절률은 제 1 투명 전극 (14) 을 에칭에 의해서 제거한 부분을 사용하였다. 그 때문에, 각 굴절률로부터 공기와 제 1 투명 전극 (14), 공기와 광학 조정층 (19) 의 반사율을 구함으로써, 반사율차를 구하였다.Moreover, the 1st transparent electrode 14 is etched as needed, and becomes a desired electrode etc. When calculating the said refractive index, the refractive index of the optical adjustment layer 19 used the part which removed the 1st transparent electrode 14 by etching. Therefore, the reflectance difference was calculated|required by calculating|requiring the reflectance of air, the 1st transparent electrode 14, and air, and the optical adjustment layer 19 from each refractive index.

[비교예 2 ∼ 3][Comparative Examples 2-3]

실시예 15 ∼ 20 에 대한 비교예로서, 광학 조정층 (19) 이 없는 경우 (비교예 2) 와 광학 조정층 (19) 의 굴절률이 1.5 보다 작은 경우 (비교예 3) 를 행하였다. 광학 조정층 (19) 이 없는 경우, 반사율차는 제 1 투명 전극 (14) 과 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 차이다. 반사율차가 2 % 보다 커져, 외관이 나빠졌다.As a comparative example with respect to Examples 15-20, the case where there was no optical adjustment layer 19 (Comparative Example 2) and the case where the refractive index of the optical adjustment layer 19 was smaller than 1.5 (Comparative example 3) was performed. In the absence of the optical adjustment layer 19, the difference in reflectance is the difference between the first transparent electrode 14 and the coating layer 12 having piezoelectricity. The reflectance difference became larger than 2 %, and an external appearance worsened.

또한, 굴절률이 1.46 인 경우 (비교예 3) 의 광학 조정층 (19) 은, 실리카 졸 (콜코트 (주) 제도, 콜코트 P) 을, 고형분 농도 2 % 가 되도록 에탄올로 희석하고, 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 일방 위에, 실리카 코트법에 의해서 도포하고, 그 후, 150 ℃ 에서 2 분간 건조, 경화시켜, 두께가 120 ㎚ 인 층 (SiO2 막, 광의 굴절률 1.46) 을 형성하여 광학 조정층 (19) 으로 하였다. 비교예에 있어서 다른 구성의 제조 방법은 실시예와 동일하다.Further, in the optical adjustment layer 19 in the case of a refractive index of 1.46 (Comparative Example 3), silica sol (Colcoat Co., Ltd., Colcoat P) was diluted with ethanol so as to have a solid content concentration of 2%, and piezoelectricity was obtained. On one side of the coating layer 12 having, it is applied by the silica coating method, and then dried and cured at 150° C. for 2 minutes to form a layer with a thickness of 120 nm (SiO 2 film, refractive index of light 1.46), and optical adjustment layer (19). In the comparative example, the manufacturing method of the other structure is the same as that of an Example.

Figure 112018118247499-pct00002
Figure 112018118247499-pct00002

압전성을 갖는 코팅층 (12) 상에 제 1 투명 전극 (14) 을 구비함으로써, 투명 전극 (14) 에 의해서 황색 또는 갈색으로 정색 (呈色) 하여 외관을 해치는 경우가 있다. 상기 실시예와 같이 광학 조정층 (19) 을 형성하고, 투명 전극 (14), 광학 조정층 (19), 압전성을 갖는 코팅층 (12) 의 두께 및 굴절률을 상기 서술한 값의 범위가 되도록 조절함으로써, 표 2 와 같이 반사율차를 작게 할 수 있어, 외관을 해치지 않는 것을 알 수 있었다. 압전 필름 (13) 에 광학 조정층 (19) 과 투명 전극 (14) 을 적층한 구성을 디스플레이의 전면에 배치해도 디스플레이의 외관을 잘 해치지 않는 것을 알 수 있었다.By providing the 1st transparent electrode 14 on the coating layer 12 which has piezoelectricity, it may color yellow or brown by the transparent electrode 14, and may spoil an external appearance. By forming the optical adjustment layer 19 as in the above embodiment, and adjusting the thickness and refractive index of the transparent electrode 14, the optical adjustment layer 19, and the coating layer 12 having piezoelectricity to be in the range of the above-mentioned values, , it turned out that the reflectance difference can be made small as shown in Table 2, and an external appearance is not impaired. It turned out that even if it arrange|positions the structure which laminated|stacked the optical adjustment layer 19 and the transparent electrode 14 on the piezoelectric film 13 on the front surface of a display, the external appearance of a display is not impaired easily.

본 발명의 투명 전극 형성 압전 필름의 이용에 제한은 없고, 특히 터치 패널의 Z 좌표 (손가락이 터치하는 압력) 검출용 압전 필름으로서 바람직하게 사용된다.The use of the transparent electrode-forming piezoelectric film of the present invention is not limited, and it is particularly preferably used as a piezoelectric film for detecting the Z coordinate (pressure touched by a finger) of a touch panel.

101 ∼ 135 : 압전 필름
11 : 제 1 기재 필름
12 : 압전성을 갖는 코팅층
13 : 압전 필름
14 : 제 1 투명 전극
15 : 제 2 투명 전극
17 : 제 2 기재 필름
18 : 언더 코트층
19 : 광학 조정층
20 : 안티 블로킹층
21 : 투명 점착층
101 to 135: piezoelectric film
11: first base film
12: coating layer having piezoelectricity
13: piezoelectric film
14: first transparent electrode
15: second transparent electrode
17: second base film
18: undercoat layer
19: optical adjustment layer
20: anti-blocking layer
21: transparent adhesive layer

Claims (31)

제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 포함하는 압전 필름과,
상기 압전성을 갖는 코팅층의, 상기 제 1 기재 필름과 반대측의 표면에 구비된, 적어도 1 층의 제 1 투명 전극과,
상기 제 1 기재 필름의, 상기 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 제 2 투명 전극을 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
A piezoelectric film comprising a laminate of a first base film and a coating layer having piezoelectricity;
A first transparent electrode of at least one layer provided on the surface of the coating layer having the piezoelectricity, on the opposite side to the first base film, and;
A transparent electrode forming piezoelectric film comprising at least one second transparent electrode on a surface of the first base film opposite to the piezoelectric coating layer.
제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 포함하는 압전 필름과,
상기 압전성을 갖는 코팅층의, 상기 제 1 기재 필름과 반대측의 표면에 구비된, 적어도 1 층의 제 1 투명 전극과,
상기 제 1 기재 필름의, 상기 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에, 추가로, 다음의 순서로 구비된, 적어도 1 층의 투명 점착층, 적어도 1 층의 제 2 투명 전극, 적어도 1 층의 제 2 기재 필름을 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
A piezoelectric film comprising a laminate of a first base film and a coating layer having piezoelectricity;
A first transparent electrode of at least one layer provided on the surface of the coating layer having the piezoelectricity, on the opposite side to the first base film, and;
On the surface of the first base film opposite to the piezoelectric coating layer, at least one transparent adhesive layer, at least one transparent adhesive layer, at least one second transparent electrode, and at least one layer are provided in the following order. 2 A transparent electrode formation piezoelectric film provided with a base film.
제 2 항에 있어서,
상기 제 2 투명 전극과 상기 제 2 기재 필름 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
3. The method of claim 2,
A transparent electrode formation piezoelectric film comprising at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the second transparent electrode and the second base film.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층과 상기 제 1 투명 전극 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A transparent electrode formation piezoelectric film comprising at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the coating layer having piezoelectricity and the first transparent electrode.
제 4 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층의 두께가 0.5 ∼ 10 ㎛, 광학 조정층의 두께가 80 ∼ 160 ㎚, 제 1 투명 전극의 두께가 20 ㎚ 이상인 투명 전극 형성 압전 필름.
5. The method of claim 4,
A transparent electrode-forming piezoelectric film having a thickness of 0.5 to 10 µm, an optical adjustment layer of 80 to 160 nm, and a thickness of the first transparent electrode of 20 nm or more of the piezoelectric coating layer.
제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 포함하는 압전 필름과,
상기 압전성을 갖는 코팅층의, 상기 제 1 기재 필름과 반대측의 표면에 구비된, 적어도 1 층의 제 1 투명 전극을 구비하고,
상기 압전성을 갖는 코팅층과 상기 제 1 투명 전극 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비하고,
상기 압전성을 갖는 코팅층의 굴절률이 1.40 ∼ 1.50, 광학 조정층의 굴절률이 1.50 ∼ 1.70, 제 1 투명 전극의 굴절률이 1.90 ∼ 2.10 인 투명 전극 형성 압전 필름.
A piezoelectric film comprising a laminate of a first base film and a coating layer having piezoelectricity;
and a first transparent electrode of at least one layer provided on the surface of the coating layer having the piezoelectricity, on the opposite side to the first base film,
At least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer is provided between the coating layer having piezoelectricity and the first transparent electrode,
The refractive index of the coating layer having the piezoelectric property is 1.40 to 1.50, the refractive index of the optical adjustment layer is 1.50 to 1.70, and the refractive index of the first transparent electrode is 1.90 to 2.10.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 기재 필름과 상기 압전성을 갖는 코팅층 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A transparent electrode formation piezoelectric film comprising at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the first base film and the coating layer having piezoelectricity.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 기재 필름 또는 제 2 기재 필름의, 상기 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에 구비된 적어도 1 층의 안티 블로킹층을 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
A transparent electrode-forming piezoelectric film having at least one anti-blocking layer provided on a surface of the first base film or the second base film opposite to the piezoelectric coating layer.
제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 포함하는 압전 필름과,
상기 제 1 기재 필름의, 상기 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에 구비된 적어도 1 층의 제 1 투명 전극과,
상기 압전성을 갖는 코팅층의, 상기 제 1 기재 필름과 반대측의 표면에, 적어도 1 층의 제 2 투명 전극을 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
A piezoelectric film comprising a laminate of a first base film and a coating layer having piezoelectricity;
A first transparent electrode of at least one layer provided on the surface of the first base film opposite to the coating layer having piezoelectricity;
A transparent electrode-forming piezoelectric film comprising at least one second transparent electrode on a surface of the coating layer having piezoelectricity on the opposite side to the first base film.
제 1 기재 필름과 압전성을 갖는 코팅층의 적층체를 포함하는 압전 필름과,
상기 제 1 기재 필름의, 상기 압전성을 갖는 코팅층과 반대측의 표면에 구비된 적어도 1 층의 제 1 투명 전극과,
상기 압전성을 갖는 코팅층의, 상기 제 1 기재 필름과 반대측의 표면에, 추가로, 다음의 순서로 구비된, 적어도 1 층의 투명 점착층, 적어도 1 층의 제 2 투명 전극, 적어도 1 층의 제 2 기재 필름을 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
A piezoelectric film comprising a laminate of a first base film and a coating layer having piezoelectricity;
A first transparent electrode of at least one layer provided on the surface of the first base film opposite to the coating layer having piezoelectricity;
On the surface of the coating layer having piezoelectricity, on the opposite side to the first base film, at least one transparent adhesive layer, at least one transparent adhesive layer, at least one second transparent electrode, and at least one layer are provided in the following order. 2 A transparent electrode formation piezoelectric film provided with a base film.
제 10 항에 있어서,
상기 제 2 투명 전극과 상기 제 2 기재 필름 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
11. The method of claim 10,
A transparent electrode formation piezoelectric film comprising at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the second transparent electrode and the second base film.
제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 기재 필름과 상기 압전성을 갖는 코팅층 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 9 to 11,
A transparent electrode formation piezoelectric film comprising at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the first base film and the coating layer having piezoelectricity.
제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 기재 필름과 상기 제 1 투명 전극 사이에 언더 코트층, 광학 조정층 및 안티 블로킹층 중 어느 것을 적어도 1 층 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 9 to 11,
A transparent electrode formation piezoelectric film comprising at least one of an undercoat layer, an optical adjustment layer, and an anti-blocking layer between the first base film and the first transparent electrode.
제 10 항에 있어서,
상기 제 2 기재 필름의, 상기 제 2 투명 전극과 반대측의 표면에 적어도 1 층의 안티 블로킹층을 구비한 투명 전극 형성 압전 필름.
11. The method of claim 10,
A transparent electrode formation piezoelectric film comprising at least one anti-blocking layer on a surface of the second base film opposite to the second transparent electrode.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층이 불소 수지를 함유하는 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 3 and 9 to 11,
A transparent electrode-forming piezoelectric film in which the coating layer having the piezoelectric properties contains a fluororesin.
제 15 항에 있어서,
상기 불소 수지가, 불화비닐리덴의 중합체, 또는 (불화비닐리덴, 트리플루오로에틸렌, 클로로트리플루오로에틸렌) 중 2 종 이상의 공중합체인 투명 전극 형성 압전 필름.
16. The method of claim 15,
The transparent electrode forming piezoelectric film wherein the fluororesin is a polymer of vinylidene fluoride or a copolymer of two or more of (vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene).
제 16 항에 있어서,
상기 불소 수지가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌의 공중합체로서, 상기 공중합체에 함유되는 상기 불화비닐리덴과 상기 트리플루오로에틸렌의 몰비가, 전체를 100 으로 하여 (50 ∼ 85) : (50 ∼ 15) 의 범위인 투명 전극 형성 압전 필름.
17. The method of claim 16,
The fluororesin is a copolymer of vinylidene fluoride and trifluoroethylene, wherein the molar ratio of the vinylidene fluoride and trifluoroethylene contained in the copolymer is 100 (50 to 85): ( 50 to 15), the transparent electrode forming piezoelectric film.
제 16 항에 있어서,
상기 불소 수지가, 불화비닐리덴과 트리플루오로에틸렌과 클로로트리플루오로에틸렌의 공중합체로서, 상기 공중합체에 함유되는 상기 불화비닐리덴과 상기 트리플루오로에틸렌과 상기 클로로트리플루오로에틸렌의 몰비가, 전체를 100 으로 하여 (63 ∼ 65) : (27 ∼ 29) : (10 ∼ 6) 의 범위인 투명 전극 형성 압전 필름.
17. The method of claim 16,
The fluororesin is a copolymer of vinylidene fluoride, trifluoroethylene, and chlorotrifluoroethylene, and the molar ratio of the vinylidene fluoride, trifluoroethylene and chlorotrifluoroethylene contained in the copolymer is , (63 to 65): (27 to 29): (10 to 6) with the total being 100, the transparent electrode formation piezoelectric film.
제 16 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층이, 상기 불소 수지의 용액을 상기 제 1 기재 필름에 도포 및 건조시켜 얻어지는 코팅층인 투명 전극 형성 압전 필름.
17. The method of claim 16,
A piezoelectric film with a transparent electrode, wherein the coating layer having piezoelectricity is a coating layer obtained by applying and drying a solution of the fluororesin to the first base film.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 압전성을 갖는 코팅층의 두께가 0.5 ㎛ ∼ 20 ㎛ 인 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 3 and 9 to 11,
A transparent electrode-forming piezoelectric film having a thickness of the coating layer having the piezoelectric property of 0.5 µm to 20 µm.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 투명 전극 및 상기 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자가, 패터닝되어 있는 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 3 and 9 to 11,
Any one or both of the said 1st transparent electrode and the said 2nd transparent electrode is a transparent electrode formation piezoelectric film which is patterned.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 투명 전극 및 상기 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자가, 인듐을 함유하는 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 3 and 9 to 11,
One or both of the first transparent electrode and the second transparent electrode contains indium.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 투명 전극 및 상기 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자가, 인듐주석 산화물 (Indium Tin Oxide : ITO) 을 함유하는 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 3 and 9 to 11,
Any one or both of the said 1st transparent electrode and the said 2nd transparent electrode contains indium tin oxide (Indium Tin Oxide: ITO), a transparent electrode formation piezoelectric film.
제 23 항에 있어서,
상기 제 1 투명 전극 및 상기 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자의 두께가, 15 ㎚ ∼ 50 ㎚ 인 투명 전극 형성 압전 필름.
24. The method of claim 23,
The thickness of any one or both of the said 1st transparent electrode and the said 2nd transparent electrode is 15 nm - 50 nm of a transparent electrode formation piezoelectric film.
제 22 항에 있어서,
상기 제 1 투명 전극 및 상기 제 2 투명 전극 중 어느 하나, 혹은 양자가, 결정질인 투명 전극 형성 압전 필름.
23. The method of claim 22,
Any one or both of the said 1st transparent electrode and the said 2nd transparent electrode is a crystalline transparent electrode formation piezoelectric film.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재 필름의 재료가, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 시클로올레핀 코폴리머, 폴리카보네이트, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리스티렌, 폴리노르보르넨 중 적어도 1 종에서 선택되는 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 3 and 9 to 11,
The material of the base film is selected from among polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, cycloolefin copolymer, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, polyamide, polystyrene, and polynorbornene. A transparent electrode-forming piezoelectric film selected from at least one type.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
헤이즈값이 5 % 이하인 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 3 and 9 to 11,
A piezoelectric film with a transparent electrode having a haze value of 5% or less.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
전광선 투과율이 82 % 이상인 투명 전극 형성 압전 필름.
12. The method according to any one of claims 1 to 3 and 9 to 11,
A transparent electrode-forming piezoelectric film having a total light transmittance of 82% or more.
제 1 항 내지 제 3 항 및 제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 투명 전극 형성 압전 필름을 구비한 압력 센서.A pressure sensor provided with the transparent electrode formation piezoelectric film in any one of Claims 1-3 and 9-11. 삭제delete 삭제delete
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