KR102353101B1 - 방전가공기용 세척 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 방전가공할 때 35~65㎑로 초음파 분산하여 가공액 조 내부를 세척할 수 있게 구성함으로, 방전가공하면서 생긴 버나 먼지가 가공대상물에 부착하지 않게 하여 세척 작업이 쉽게 이루어지면서도 가공대상물의 가공 품질을 높일 수 있다. 또한, 55~65㎐ 대역의 압전세라믹 진동 소자를 추가함으로써, 초음파 분산기와 함께 세척 작업을 할 수 있을 뿐만 아니라 두께가 얇아 가공액 조 안에 쉽게 장착하거나 분리할 수 있어 유지보수에 유리하다. 그리고 지지대 주변에 세척에 주로 사용하는 35~45㎐의 주파수로 가진할 수 있는 초음파 세척기를 장착함으로, 그 장착 두께가 두꺼워지더라도 가공대상물과 간섭 없이 가진할 수 있을 뿐만 아니라 방전가공하지 않을 때는 강한 세척력으로 세척 효과를 높일 수 있다.

Description

방전가공기용 세척 장치{CLEANING APPARATUS FOR ELECTRIC DISCHARGE MACHINE}

본 발명은 방전가공기용 세척 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 방전가공할 때도 방전가공 헤드에 장착한 방전가공에 영향을 주지 않은 초음파(35~65㎑) 대역의 분산기로 가공액을 분산할 수 있게 구성함으로써, 방전가공할 때 발생한 이물 등이 가공물에 부착하는 것을 방지하여 세척 효과를 더욱 높일 수 있게 한 것이다.

일반적으로 방전가공은 크게 습식과 건식으로 나눌 수 있다. 습식은 가공조 안에 가공대상물이 잠기게 하고 그 안에서 방전가공이 이루어지게 하는 것이고, 건식은 방전가공하는 부분에 작업 유체를 분사하면서 작업이 이루어지게 한다. 특히, 습식 방전가공은 방전가공으로 생긴 버(Burr)나 가공대상물 등에 묻은 이물 등이 가공조를 오염시키므로, 아래의 (특허문헌 1) 내지 (특허문헌 3)과 같이, 세척장치를 갖춘다.

(특허문헌 1) 한국공개특허 제10-2013-0053798호

미세홀, 홈, 채널형상 가공에서 많은 장점을 가지고 있는 마이크로 방전가공을 이용해서 지름 80㎛ 이하의 난삭성 소재인 하이브리드 Ti₂AlN 소재의 가공하는 경우에 있어서 가공시간을 효율적으로 감소시키고 표면 조도를 향상하는 마이크로 방전가공에 전해연마를 이용해 전극을 가공하는 과정을 일체화시켜 수행함으로써 하이브리드 가공 공정을 실현하게 하는 장치 및 그 방법에 관한 것이다. 이를 위해 전극 가공을 위한 마이크로 전해연마 가공에 있어 효과적인 전압, 전류밀도, 전해액 농도와 온도를 조사하였다. 그리고 마이크로 방전가공을 위한 수조탱크 내부에 전해가공 수조와 전극 세척장치를 설치하여 마이크로 전해연마한 전극을 갈아 끼우는 과정 없이 바로 마이크로 방전가공을 수행할 수 있도록 일체형 구조로 설계 및 제작하여, 전극의 진직도를 유지하면서도 가공속도와 표면 조도를 증가시키는 효과적인 가공성능 향상이 이루어지도록 하였다.

(특허문헌 2) 한국등록특허 제10-1970384호

가공조 내의 오염에 의한 가동률 저하와 기능 저하를 방지하기 위해서, 가공조 내에서 방전 가공하는 와이어 방전 가공기는, 상기 가공조 내를 촬영하는 카메라와, 상기 카메라가 촬영한 화상에 기초하여 상기 가공조 내의 오염을 검출하는 판단 수단을 구비하고, 상기 판단 수단에 의해 상기 가공조 내의 오염을 검출한다.

(특허문헌 3) 한국등록특허 제10-2035064호

가공액 조나 가공액 탱크에 초음파 발생 소자를 장착하고, 와이어 방전가공하지 않을 때만 초음파를 발생하게 구성하므로, 이물 등을 제거하기 위한 목적으로 와이어 방전가공기의 작동을 멈추지 않고도 가공액 조나 가공액 탱크에 고착한 이물을 쉽고 신속하게 제거할 수 있다. 또한, 와이어 방전가공이 이루어지지 않을 때 초음파를 발생하여 고착한 이물을 제거하므로, 초음파를 이용하여 가공 중인 방전 가공물에 대한 세척과 이물 제거 효과를 높여 품질을 향상할 수 있다. 그리고 가공액 조나 가공액 탱크 내부 전체에 초음파를 전달할 수 있게 적어도 하나의 초음파 발생 소자를 배치하여, 방전 가공물에 간섭을 받지 않게 하면서도 가공액 탱크나 가공액 조 전체에 대해 세척 작용이 전해질 수 있다.

하지만, 이러한 종래의 세척장치는 다음과 같은 문제가 있다.

(1) 가공액 조 내부를 세척할 수는 있으나, 세척 효과가 떨어진다.

(2) 즉, 기존 세척장치는 방전가공을 할 때는 가공액 조의 세척이 이루어지지 않고, 방전가공을 하지 않거나 잠시 멈추었을 때만 가공액 조의 세척이 이루어진다.

(3) 이에, 통상 방전가공을 할 때는, 전극의 교환이나 방전가공한 가공대상물을 방전가공해야 할 새로운 방전가공물로 교환할 때처럼, 방전가공 중 일시적으로 방전가공하지 않는 시간이 짧다.

(4) 따라서, 방전가공을 잠시 멈추었을 때는 가공액 조에 남아있던 이물이나 버가 가공액 조 구석구석에 끼여 경화하거나, 가공액 조에서 부유하다가 가공대상물에 부착하여 가공대상물의 가공 품질을 떨어뜨리는 한 가지 요인으로 작용한다.

(5) 특히, 미세한 구멍이나 홈을 가공하는 방전가공에서는, 이러한 이물이나 버가 방전가공한 홈이나 구멍을 막아 방전가공 불량으로 이어질 수도 있다.

(6) 한편, 이러한 문제를 해결하기 위한 방법으로, 방전가공 후에 세척장치를 추가로 가동하기도 하나, 이는 다음과 같은 문제가 있다.

(7) 방전가공과 별도로 세척에 시간과 노력을 투자해야 한다.

(8) 이에, 방전가공기를 유지보수하는 데 필요한 비용이 많이 늘어날 뿐만 아니라 일정시간 방전가공한 뒤에는 반드시 세척 작업을 해야 함으로, 방전가공 시간이 줄어들어 생산성을 떨어뜨린다.

한국공개특허 제10-2013-0053798호 (공개일: 2013.05.24) 한국등록특허 제10-1970384호 (등록일: 2019.04.12) 한국등록특허 제10-2035064호 (등록일: 2019.10.16)

본 발명은 이러한 점을 고려한 것으로, 방전가공이 이루어지는 동안에도 방전가공에 영향을 주지 않는 주파수 대역(35~65㎑)으로 초음파 분산하여 가공액 조 내부를 세척할 수 있게 구성함으로, 별도로 세척작업을 할 필요가 없을 뿐만 아니라 방전가공 등으로 생긴 버나 먼지가 가공대상물에 부착하지 않게 하여 세척 작업이 쉽게 이루어지면서도 가공대상물의 가공 품질을 높일 수 있게 한 방전가공기용 세척 장치을 제공하는 데 그 목적이 있다.

또한, 본 발명은 지지대 안에 55~65㎐의 주파수로 가진할 수 있는 압전세라믹 진동 소자를 추가함으로써, 방전가공이 이루어지는 동안에도 세척 작업을 할 수 있을 뿐만 아니라 두께가 얇아 가공액 조 안에 가공대상물과 간섭 없이 편리하게 사용할 수 있고 또한, 쉽게 장착하거나 분리할 수 있어 유지보수에 유리한 방전가공기용 세척 장치을 제공하는 데 다른 목적이 있다.

그리고 본 발명은 지지대 주변에 세척에 주로 사용하는 35~45㎐의 주파수로 가진할 수 있는 초음파 진동기를 장착함으로, 그 장착 두께가 두꺼워지더라도 가공대상물과 간섭 없이 가진할 수 있을 뿐만 아니라 방전가공하지 않을 때는 강한 세척력으로 세척 효과를 높일 수 있게 한 방전가공기용 세척 장치을 제공하는 데 또 다른 목적이 있다.

본 발명에 따른 방전가공기용 세척 장치는, 가공액 조(100)에 안에 "ㄷ"자 또는 격자 형태로 구성한 지지대(110) 위에 올려 방전 가공물을 담근 다음 방전가공 헤드(120)를 제어하여 방전가공하는 방전가공기에서, 상기 방전가공 헤드(120)에는, 가공액 조(100)에 채운 가공액에 잠기도록 초음파 분산기(121)를 갖추되, 상기 초음파 분산기(121)는 방전가공할 때 35~65㎑로 함께 초음파를 발생하여 분산 작용하게 구성한 것을 특징으로 한다.

특히, 상기 가공액 조(100)의 내부 바닥에는, 상기 지지대(110) 내부에 위치하도록 장착하여 55~65㎐의 주파수를 가진하되, 방전가공할 때 함께 가진하는 적어도 하나의 제1초음파 진동기(111); 및 상기 지지대(110)와 가공액 조(100) 사이에 장착하여 35~45㎐의 주파수로 가진하되, 방전가공기를 일시 정지했을 때 상기 제1초음파 진동기(111)와 함께 가진하는 적어도 하나의 제2초음파 진동기(112);를 포함하여 구성한 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 제1초음파 진동기(111)는 압전세라믹 진동 소자인 것을 특징으로 하고, 상기 제2초음파 진동기(112)는 일반 세척용 진동 소자인 것을 특징으로 한다.

본 발명에 따른 방전가공기용 세척 장치는 다음과 같은 효과가 있다.

(1) 35~65㎑ 대역의 초음파 분산기를 이용하여 방전가공할 때도 초음파 분산할 수 있게 구성함으로, 가공액 조를 세척하려고 방전가공을 멈추지 않고서도 세척작업을 할 수 있어 방전가공 효율을 높일 수 있다.

(2) 또한, 이처럼 방전가공 중 초음파 분산기로 세척이 이루어지는 동안에도 방전가공에 영향을 주지 않은 주파수를 가진하여 세척 작업을 할 수 있음으로, 방전가공을 멈추지 않고도 세척 작업이 이루어질 수 있어 방전가공 효율을 더욱더 높일 수 있다.

(3) 이에, 방전가공 중에 생긴 버(Burr)나 가공액조에 이미 함유한 이물 등이 방전가공 중인 가공대상물에 부착하지 않게 하여 방전 가공 품질을 높일 수 있다.

(4) 또한, 이처럼 방전가공 중에 생긴 버나 이물 등이 방전가공기의 구성요소에 달라붙거나 고착화하지 않게 하여 세척 효과를 높이면서도 유지 보수 기간을 늘릴 수 있다.

(5) 방전가공 중 전극 교환과 같이 잠시 멈출 때는 방전가공할 때보다 낮은 주파수로 함께 초음파 분산과 가진하여 가공액 조 내부를 세척하므로, 세척 효과를 더욱 높일 수 있다.

(6) 이처럼 방전가공을 할 때 계속해서 초음파 분산과 가진을 통해 세척 작업이 이루어지므로, 버나 이물 등이 가공대상물이나 구성 요소 사이에 끼는 것을 미리 방지하여 쉽고 편리하게 세척작업을 할 수 있다.

(7) 특히, 방전가공은 오랜 시간 동안 계속해서 방전가공이 이루어지므로, 버나 이물 등이 가공대상물이나 가공액 조 내부, 특히 틈새나 이음새 등에 끼여서 늘어붙는 것을 방지하여 쉽게 세척할 수 있다.

[도 1]은 본 발명의 [실시예 1]에 따른 방전가공기용 세척 장치를 장착한 방전가공기를 보여주는 사시도이다.
[도 2]는 본 발명의 [실시예 1]에 따른 방전가공기용 세척 장치를 장착한 방전가공기를 보여주는 정면도이다.
[도 3]은 본 발명의 [실시예 1]에 따른 방전가공기용 세척 장치로 세척하는 과정을 보여주는 흐름도이다.
[도 4]는 본 발명의 [실시예 2]에 따른 방전가공기용 세척 장치를 장착한 방전가공기로, 내부 구성을 보여주기 위한 사시도이다.
[도 5]는 본 발명의 [실시예 2]에 따른 방전가공기용 세척 장치를 장착한 방전가공기를 보여주는 평면도이다.
[도 6]은 본 발명의 [실시예 2]에 따른 방전가공기용 세척 장치로 세척하는 방법을 보여주는 흐름도이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 안 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 최고의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 따라 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 한가지 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형례가 있을 수 있음을 이해하여야 한다.

본 발명의 [실시예 1] 따른 방전가공기용 세척 장치는, [도 1] 내지 [도 3]과 같이, 가공액 조(100) 안에 설치한 "ㄷ"자 또는 격자 형태로 구성한 지지대(110), 그리고 가공액 조(100) 위에서 실제 방전가공하는 방전가공 헤드(120)를 포함한다.

특히, 상기 방전가공 헤드(120)에는, 방전가공할 때 영향을 주지 않는 주파수 대역(35~65㎑)으로 초음파 분산하는 초음파 분산기(121)를 장착함으로써, 초음파 분산기(121)가 가공액에 잠긴 상태로 방전가공함에 따라 분산 효과를 통해 버(Burr)와 이물을 제거할 수 있게 한 것이다.

이하, 이러한 구성에 관해 첨부도면을 참조하여 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.

가. 가공액 조

가공액 조(100)는, [도 1] 및 [도 2]와 같이, 내부에 가공액을 공급받고, 방전가공할 대상물이 가공액에 잠기게 하여 방전가공할 수 있게 하는 일종의 용기이다. 이러한 가공액 조(100)는 외부에서 가공액을 공급받고, 때에 따라 공급받은 가공액을 외부로 배출하거나 가공액을 보충받을 수 있게 제작해야 함은 본 발명이 속한 기술분야의 종사자라면 누구든지 쉽게 알 수 있을 것이다.

이러한 가공액 조(100)에는, [도 1] 내지 [도 5]와 같이, 지지대(110)와 방전가공 헤드(120)를 포함한다.

1. 지지대

지지대(110)는, [도 1] 내지 [도 5]와 같이, 상술한 가공액 조(100) 안에 채운 가공액에 담그는 가공대상물을 지지하여 방전가공할 수 있게 구성한 통상의 기술로 제작한 것을 사용한다. 또한, 상기 지지대(110)는 때에 따라 가공대상물을 방전가공할 위치로 위치를 조절할 수 있게 슬라이딩 방식으로 구성할 수도 있다.

이때, 상기 지지대(110)는, [도 1] 내지 [도 5]와 같이 가공조 액(100) 안에서 평면 형상이 "ㄷ"자 되게 장착하거나, 격자 형태가 되게 장착하는 것이 바람직하다. 이는, 가공대상물이 작을 때는 지지대(110) 위에 판재 등을 올려놓고 그 위에서 방전가공이 이루어지게 하고, 가공대상물의 하부가 아래로 돌출한 것일 때는 간섭 없이 지지대(110) 위에 올려놓고 방전가공할 수 있게 하기 위함이다. 물론, 두 개가 서로 나란하게 위치하도록 지지대(110)를 구성하여 그 위에 방전가공물을 올려놓고 방전가공할 수 있게 구성할 수도 있다.

2. 방전가공 헤드

방전가공 헤드(120)는, [도 1] 및 [도 2]와 같이, 상술한 가공액 조(100), 바람직하게는 가공액 조(100)의 측면에 장착하고, 전극을 상술한 지지대(110)가 이루는 평면과 그 높이 방향으로 움직이면서 지지대(110) 위에 올려놓은 방전가공물에 대해 방전 가공이 이루어지게 하는 통상의 기술로 이루어진 헤드이다.

특히, 상기 방전가공 헤드(120)에는, [도 2]와 같이, 초음파 분산기(121)를 장착하되, 초음파 분산기(121)가 가공액 조(100) 안에서 가공액에 잠기게 한 다음 미리 정한 초음파 대역으로 초음파 분산할 수 있게 장착한다. 이때, 상기 초음파 분산기(121)는 35~65㎑ 대역에서 초음파 분산할 수 있게 구성함으로써, 방전가공에 영향을 주지 않으면서도 방전가공할 때 분산 효과를 통해 전극이나 가공물 그리고 가공액 조(100) 바닥 등에 달라붙는 이물과 버를 분리하여 제거할 수 있게 한다.

이처럼 이루어진 방전가공기용 세척 장치를 이용한 세척 방법을, [도 3]을 참조하여 설명하면 다음과 같다.

(세척 방법)

본 발명에 따른 방전가공기용 세척 장치를 이용한 세척 방법은, [도 3]과 같이, 방전가공이 이루어지는지 확인하고, 방전가공이 이루어질 때만 분산기를 작동한다. 이때, 상기 초음파 분산기는 계속해서 방전가공이 이루어지는 확인하여 방전가공이 완료되면 정지하고, 방전가공 중이면 계속해서 분산 작용을 하면서 이물이나 버가 전극이나 가공액 조 바닥 그리고 가공물 등에 달라붙지 않게 하여 쉽게 가공액과 함께 가공액 조 밖으로 배출할 수 있게 한다.

이상과 같이 본 발명은 방전가공 헤드에 초음파 분산기를 장착하고, 방전가공 중에도 방전가공에 영향을 주지 않는 주파수 대역에서 분산 작용을 할 수 있게 구성함으로, 세척 작업을 위해 별도로 시간을 내지 않아도 될 뿐만 아니라 분산 효과를 통해 방전가공 중에 발생한 버나 이물도 쉽고 깨끗하게 제거할 수 있게 된다. 게다가 가공대상물에 부착하거나 구성요소 사이에 끼는 것을 방지하여 방전가공품의 품질을 유지하면서도 쉽고 편리하게 유지 보수할 수 있게 된다.

본 발명의 [실시예 2]에 따른 방전가공기용 세척 장치는, [도 4] 내지 [도 6]과 같이, 상술한 [실시예 1]과 같은 구성이나 서로 다른 초음파를 가진하는 제1초음파 진동기(111)와 제2초음파 진동기(112)를 추가하여 구성한 것이다. 이에, 여기서는 추가 구성을 중심으로 설명하면 다음과 같다.

[실시예 2]는, [도 4] 내지 [도 6]과 같이, 가공조 액(100)에 제1초음파 진동기(111)와 제2초음파 진동기(112)를 추가하여 구성한 것이다. 이때, 상기 제1초음파 진동기(111)는 방전가공할 때 방전가공에 영향을 주지 않은 주파수 대역으로 가진하고, 상기 제2초음파 진동기(112)는 방전가공하는 중간에 소정의 주파수 대역에서 방전가공할 수 있게 구성함으로써, 방전가공에 영향을 주지 않으면서도 세척 효과를 더욱더 높일 수 있게 한 것이다. 이에 대해 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.

가. 제1초음파 진동기

제1초음파 진동기(111)는, [도 1] 내지 [도 5]와 같이, 상술한 지지대(110)로 둘러싸인 가공액 조(100) 바닥에 장착한다.

특히, 상기 제1초음파 진동기(111)는 방전가공할 때 방전가공에 영향을 주지 않는 주파수 대역인 55~65㎐로 초음파를 가진하게 한다. 또한, 상기 제1초음파 진동기(111)는 가능한 한 얇은 것을 사용하여 가공액 조(100) 바닥에서 위로 돌출하지 않게 함으로써, 방전가공물과의 간섭이 생기지 않게 하면서도 방전가공이 이루어질 때도 계속해서 초음파를 가진하여 세척 효과를 얻을 수 있게 한다.

이러한 제1초음파 진동기(111)로는 압전세라믹 진동 소자를 사용할 수 있다.

한편, 본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 제1초음파 진동기(111)는 적어도 세 개를 장착하되, 이웃한 두 개가 같은 간격이 되게 배치함으로써, 가공액 조(100) 안에서 균일한 가진 작용이 이루어지게 하여 안정적으로 방전 가공이 이루어지면서도 세척 작업이 함께 이루어질 수 있게 구성하는 것이 바람직하다.

나. 제2초음파 진동기

제2초음파 진동기(112)는, [도 4] 및 [도 5]와 같이, 상술한 가공액 조(100) 바닥에서 가공액 조(100)의 외벽과 지지대(110) 사이에 위치하도록 장착한다.

특히, 상기 제2초음파 진동기(112)는 35~45㎐의 주파수로 가진하여 세척 효과를 높이기 위한 것으로, 방전가공에 영향을 줄 수 있음으로, 방전가공이 일시적으로 정지한 때, 예를 들어서, 전극을 교환하거나, 가공대상물을 대체할 때처럼 실질적으로 방전가공 헤드(120)를 통해 방전가공이 이루어지지 않을 때, 상술한 제1초음파 진동기(111)와 함께 가진하여 세척 효과를 높일 수 있게 한다.

이러한 상기 제2초음파 진동기(112)는 지지대(110) 둘레에 장착함으로 가공대상물과의 간섭을 크게 고려하지 않아도 되므로, 일반 세척용 진동 소자를 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 바람직한 실시예에서, 상기 제2초음파 진동기(112)는 적어도 세 개를 장착하되, 이웃한 두 개가 같은 간격이 되게 배치함으로써, 가공액 조(100) 안에서 균일한 가진 작용이 이루어지게 하여 안정적으로 방전 가공이 이루어지면서도 세척 작업이 함께 이루어질 수 있게 구성하는 것이 바람직하다.

이상과 같이 본 발명은 제1초음파 진동기가 방전가공할 때도 가진하게 하고, 제2초음파 진동기는 방전가공이 일시 정지한 때 가진하게 구성함으로써, 방전가공 중에 발생한 버나 이물도 쉽고 깨끗하게 제거할 수 있을 뿐만 아니라 가공대상물에 부착하거나 구성요소 사이에 끼는 것을 방지하여 방전가공품의 품질을 유지하면서도 쉽고 편리하게 유지 보수할 수 있게 된다.

(세척 방법)

세척방법은, [도 6]과 같이, 상술한 세척장치를 이용하여 이루어진다. 이러한 세척 방법은 세척장치를 설명하면서 설명하였으며, 여기서는 그 과정에 따라 간략하게 설명한다.

가. 제1단계

제1단계는, [도 6]과 같이, 방전 가공을 하는 작업 중인지 확인하는 단계이다. 이는, 본 발명에 따른 세척 장치가 방전가공 중에도 계속해서 방전가공에 영향을 주지 않는 초음파로 가진하여 세척 작업이 이루어질 수 있게 하기 위함이다. 이에, 작업 중이면 제2단계를 수행하고, 작업 중이 아니면 대기한다.

나. 제2단계

제2단계는, [도 6]과 같이, 방전가공이 이루어질 때 제1초음파 진동기를 가진하여 세척 작업이 이루어지게 한다. 이때, 상기 제1초음파 진동기는 방전 가공에 영향을 주지 않는 55~65㎐의 주파수로 가진한다.

다. 제3단계

제3단계는, [도 6]과 같이, 방전가공기가 일시 정지 상태인가 확인하여 가진할 것을 결정하는 단계이다. 여기서, 일시 정지는 방전가공을 하다가 잠시 멈춘 상태로, 예를 들어서 전극을 교환하거나, 가공대상물을 교체하는 등 실질적으로 방전가공 헤드가 방전가공을 하고 있지 않은 상태를 말한다.

한편, 제3단계는, 이처럼 일시 정지상태인가를 확인하고, 만일 일시 정지 상태이면, 제1초음파 진동기와 제2초음파 진동기가 함께 작동하게 하여 세척 효과를 더욱더 높이고, 일지 정지 상태가 아니고 방전가공 중이면 방전가공에 영향을 주지 않는 제1초음파 진동기만 작동하게 제어한다.

라. 제4단계

제4단계는, [도 6]과 같이, 방전 가공이 마무리가 됐는지 확인하는 단계이다. 이때, 방전 가공이 마무리되었으면 작업을 끝내고 마무리가 되지 않았으면 상술한 제2단계로 되돌아가서 계속해서 방전 가공을 한다.

이상과 같이 본 발명은 방전 가공 중에는 계속해서 방전가공을 방해하지 않게 제1초음파 진동기로 세척 작업이 이루어지고, 또한 방전가공이 일시 정지한 때는 제1 및 제2초음파 진동기로 세척 작업이 이루어지므로, 세척 효과를 더욱더 높일 수 있게 된다.

100: 가공액 조
110: 지지대
111: 제1초음파 진동기
112: 제2초음파 진동기
120: 방전가공 헤드
121: 초음파 분산기

Claims (4)

1. 삭제
2. 가공액 조(100)에 안에 "ㄷ"자 또는 격자 형태로 구성한 지지대(110) 위에 올려 방전 가공물을 담근 다음 방전가공 헤드(120)를 제어하고,
   상기 방전가공 헤드(120)에는,
   가공액 조(100)에 채운 가공액에 잠기도록 초음파 분산기(121)를 갖추되, 상기 초음파 분산기(121)는 방전가공할 때 35~65㎑로 함께 초음파를 발생하여 분산 작용하게 구성한 것에 있어서,
   상기 가공액 조(100)의 내부 바닥에는,
   상기 지지대(110) 내부에 위치하도록 장착하여 55~65㎐의 주파수를 가진하되, 방전가공할 때 함께 가진하는 적어도 하나의 제1초음파 진동기(111); 및
   상기 지지대(110)와 가공액 조(100) 사이에 장착하여 35~45㎐의 주파수로 가진하되, 방전가공기를 일시 정지했을 때 상기 제1초음파 진동기(111)와 함께 가진하는 적어도 하나의 제2초음파 진동기(112);를 포함하여 구성한 것을 특징으로 하는 방전가공기용 세척 장치.
   
3. 제2항에서,
   상기 제1초음파 진동기(111)는 압전세라믹 진동 소자이고,
   상기 제2초음파 진동기(112)는 일반 세척용 진동 소자인 것을 특징으로 하는 방전가공기용 세척 장치.
   
4. 제2항에서,
   상기 제1초음파 진동기(111)와 상기 제2초음파 진동기(112)는,
   각각 적어도 세 개를 갖추되, 이웃한 두 개 사이의 간격이 같게 설치한 것을 특징으로 하는 방전가공기용 세척 장치.

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