KR102344677B1

KR102344677B1 - Etching Apparatus For Laser Block Of Ring Laser Gyroscope

Info

Publication number: KR102344677B1
Application number: KR1020200058567A
Authority: KR
Inventors: 주태수; 윤지현
Original assignee: 주식회사 조은텍
Priority date: 2020-05-15
Filing date: 2020-05-15
Publication date: 2021-12-29
Also published as: KR20210141199A

Abstract

본 발명은 에칭액을 이용하여 레이저 빔이 진행하는 레이저 블록의 도관 내부를 에칭하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치에 관한 것이다.
본 발명은 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록을 수용하기 위한 내부 공간을 제공하는 공정 챔버, 레이저 블록의 도관으로 외부 공기가 유입되지 않도록 밀폐시키고 에칭액을 주입하여 도관 표면을 매끄럽게 다듬질하는 에칭 공정을 수행하는 공정 기구를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope that uses an etching solution to etch the inside of a conduit of a laser block through which a laser beam travels.
The present invention is a process chamber providing an internal space for accommodating the laser block of the ring laser gyroscope, sealing the conduit of the laser block so that external air does not enter, and injecting an etchant to perform an etching process to smooth the surface of the conduit It is characterized in that it comprises a process tool.

Description

링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치{Etching Apparatus For Laser Block Of Ring Laser Gyroscope}Laser Block Etching Apparatus For Laser Block Of Ring Laser Gyroscope

본 발명은 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 에칭액을 이용하여 레이저 빔이 진행하는 레이저 블록의 도관 내부를 에칭하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope, and more particularly, to a laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope that uses an etching solution to etch the inside of a conduit of a laser block through which a laser beam travels.

링 레이저 자이로스코프(ring laser gyroscope)는 회전각을 검출하는 센서로서 광학식이 가지는 정밀함과 견고성으로 관성 항법을 비롯한 운동 제어를 필요로 하는 여러 분야에서 기존의 기계식 자이로스코프를 대체해 오고 있다. A ring laser gyroscope is a sensor that detects a rotation angle, and has replaced the existing mechanical gyroscope in various fields that require motion control including inertial navigation due to the precision and robustness of the optical type.

링 레이저 자이로스코프는 3개 또는 그 이상의 반사경으로 이루어진 고리형 공진기를 구성하고, He-Ne 가스를 봉입하여 방전시킴으로써 서로 반대방향(시계방향 및 반시계방향)으로 진행하는 레이저빔이 동시에 발진시키면, 사낙(Sagnac) 효과에 의해 공진기의 회전각에 비례하여 두 레이저의 주파수 차이가 발생하는 원리를 이용한다. 이와 관련하여 한국등록특허 제10-1707187호, 한국등록특허 제10-2027525호, 한국등록특허 제10-0058220호에 링 레이저 자이로스코프의 기본 원리를 개시하고 있다. 예를 들어 특허문헌(한국등록특허 제10-1707187호)에서 도 1에 도시된 바와 같이, 레이저 블록(11)은 링 레이저 자이로스코프(10) 내에 장착되며, 링 레이저의 경로는 블록(11)의 각 모서리상에 모서리 미러(12, 14, 16, 18)를 장착함으로써 형성된다. 링 레이저 도관은 미러(12~18) 사이의 블록(11) 내에 형성된 채널(20, 22, 24, 26)로 구성된다. 링 레이저 도관은 가스의 레이저 주파수 및 광학 공동(cavity)의 공정 주파수에 의해 결정된 주파수의 역-전달 레이저 빔을 발생시키기에 적합한, 헬륨-네온과 같은 레이저 이득 매질을 포함한다. 도관은 채널(20, 22, 24, 26) 내의 전자기(electromagnet) 에너지의 역-전달 레이저 빔을 유지하기 위한 크기로 된다. 링 레이저는 도관의 이득영역에서 전기적 방전에 의해 여기된다. 이러한 전기적 방전은 링 레이저 도관으로 개방되는 캐소드(30)와, 이 링 레이저 도관으로 개방되고 캐소드(30)에 대하여 도관 주위에 대칭적으로 배치된 2개의 애노드(32, 34) 사이에서 발생된다. 캐소드(30)는 보조채널(36)을 통하여 채널(20)에 연결되며, 애노드(32, 34)는 각각 보조채널(38, 40)을 통하여 링 레이저 채널(22, 26)에 각각 결합된 도전성 전극으로 구성된다.A ring laser gyroscope consists of a ring resonator composed of three or more reflecting mirrors, and by enclosing and discharging He-Ne gas, when laser beams traveling in opposite directions (clockwise and counterclockwise) oscillate at the same time, It uses the principle that the frequency difference between the two lasers is generated in proportion to the rotation angle of the resonator due to the Sagnac effect. In this regard, the basic principle of the ring laser gyroscope is disclosed in Korean Patent No. 10-1707187, Korean Patent No. 10-2027525, and Korean Patent No. 10-0058220. For example, as shown in FIG. 1 in the patent document (Korean Patent No. 10-1707187), the laser block 11 is mounted in the ring laser gyroscope 10, and the path of the ring laser is the block 11 formed by mounting edge mirrors 12, 14, 16, 18 on each edge of The ring laser conduit consists of channels 20 , 22 , 24 , 26 formed in block 11 between mirrors 12 - 18 . The ring laser conduit comprises a laser gain medium, such as helium-neon, suitable for generating a reverse-transferring laser beam of a frequency determined by the laser frequency of the gas and the processing frequency of the optical cavity. The conduits are sized to maintain a back-transmitting laser beam of electromagnet energy in channels 20 , 22 , 24 , 26 . The ring laser is excited by an electrical discharge in the gain region of the conduit. This electrical discharge is generated between a cathode 30 which opens into a ring laser conduit and two anodes 32 , 34 which open into this ring laser conduit and are symmetrically disposed about the conduit with respect to the cathode 30 . The cathode 30 is connected to the channel 20 through an auxiliary channel 36, and the anodes 32 and 34 are conductively coupled to the ring laser channels 22 and 26 through the auxiliary channels 38 and 40, respectively. composed of electrodes.

한국등록특허 제10-1707187호(2017년02월09일 등록)Korean Patent Registration No. 10-1707187 (Registered on February 09, 2017) 한국등록특허 제10-2027525호(2019년09월25일 등록)Korean Patent No. 10-2027525 (registered on September 25, 2019) 한국등록특허 제10-0058220호(1993년01월12일 등록)Korean Patent Registration No. 10-0058220 (Registered on January 12, 1993)

없음none

상기와 같은 링 레이저 자이로스코프에 장착되는 레이저 블록 제조 시 블록 몸체에 구멍을 뚫어 도관을 형성한다. 비어 있는 공간으로 링 레이저 도관에 에칭액을 주입하여 도관의 표면을 매끄럽게 다듬질하는 에칭 공정을 이용한다. 에칭 공정에서 설계값에 따라 이전 구멍 뚫기 공정에서 가공된 도관의 원형을 유지하면서 거칠기가 적은 표면을 생성함으로써 높은 치수 정밀도를 충족시키는 것이 요구된다.When manufacturing a laser block mounted on a ring laser gyroscope as described above, a hole is punched in the block body to form a conduit. An etching process is used to smooth the surface of the conduit by injecting an etchant into the ring laser conduit into an empty space. In the etching process, it is required to meet the high dimensional accuracy by creating a surface with low roughness while maintaining the original shape of the conduit machined in the previous drilling process according to the design value.

본 발명의 목적은 에칭액을 이용하여 레이저 블록의 도관 내부를 에칭하는 링 레이저 자이로스코프의 자이로 블록 에칭 장치를 제공함에 있다. It is an object of the present invention to provide a gyro block etching apparatus of a ring laser gyroscope that etches the inside of a conduit of a laser block using an etching solution.

본 발명의 다른 목적은 복수개 레이저 블록에 대한 에칭 공정 시 작업 편의성을 향상시킬 수 있는 링 레이저 자이로스코프의 자이로 블록 에칭 장치를 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a gyro block etching apparatus of a ring laser gyroscope capable of improving operation convenience during an etching process for a plurality of laser blocks.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치는, 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록을 수용하기 위한 내부 공간을 제공하는 공정 챔버; 상기 레이저 블록의 도관으로 외부 공기가 유입되지 않도록 밀폐시키고, 에칭액을 주입하여 도관 표면을 매끄럽게 다듬질하는 에칭 공정을 수행하는 공정 기구;를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope, comprising: a process chamber providing an internal space for accommodating a laser block of a ring laser gyroscope; and a process device for sealing the conduit of the laser block so that external air is not introduced, and performing an etching process for smoothing the conduit surface by injecting an etching solution.

또한 상기 공정 기구는 레이저 블록의 위치를 결정해주는 고정 지그, 고정 지그를 관통하여 각각 설치되고 에칭액을 주입 또는 배출하는 주입호스 커플링 및 배출호스 커플링을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the process mechanism is characterized in that it includes a fixing jig for determining the position of the laser block, an injection hose coupling and a discharge hose coupling which are respectively installed through the fixing jig and inject or discharge the etching solution.

또한 상기 주입호스 커플링 및 배출호스 커플링은 일측에 나사부가 형성되고 타측에 연결호스가 결합되며 내부에 유로가 형성된 호스 조인트를 각각 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, the injection hose coupling and the discharge hose coupling are characterized in that each having a hose joint in which a threaded part is formed on one side, a connection hose is coupled to the other side, and a flow path is formed therein.

또한 상기 레이저 블록은 도관에 연통되는 복수의 설치홈이 형성되고, 상기 주입호스 커플링과 배출호스 커플링 중 어느 하나가 복수의 설치홈에 빠짐없이 결합되며, 상기 호스 조인트의 단부에 기밀 유지를 위한 패킹이 결합된 것을 특징으로 한다.In addition, the laser block is formed with a plurality of installation grooves communicating with the conduit, any one of the injection hose coupling and the discharge hose coupling is coupled to the plurality of installation grooves without omission, and airtight maintenance at the end of the hose joint It is characterized in that the packing for the combination is combined.

또한 상기 공정 기구는 상기 공정 챔버의 내측면에 고정된 브라켓, 브라켓에 설치되고 전방으로 돌출된 봉형상의 지지대를 포함하고, 상기 고정 지그는 고리 형상의 지그 몸체, 지그 몸체 외측에 돌출된 연결구를 구비하되, 상기 연결구에는 지지대가 끼워지는 통공이 형성되며, 상기 고정 지그는 지지대의 길이 방향을 따라 전진 또는 후퇴 이동할 수 있는 것을 특징으로 한다.In addition, the process apparatus includes a bracket fixed to the inner surface of the process chamber, a rod-shaped support installed on the bracket and protruding forward, and the fixing jig includes a ring-shaped jig body and a connector protruding outside the jig body However, a through hole through which the support is fitted is formed in the connector, and the fixing jig is characterized in that it can move forward or backward in the longitudinal direction of the support.

또한 상기 공정 기구는 레이저 블록의 유동을 제한하는 블록 권취부를 포함하고, 상기 블록 권취부는 축중심에 돌출 형성된 걸이봉, 축중심에서 수직 방향으로 연장된 날개편을 구비하며, 상기 날개편의 단부에 형성된 체결구가 상기 지지대에 착탈 가능하게 결합되는 것을 특징으로 한다.In addition, the process mechanism includes a block winding for restricting the flow of the laser block, and the block winding includes a hanging rod protruding from the center of the shaft, and a blade extending in the vertical direction from the center of the shaft, formed at the end of the blade. It is characterized in that the fastener is detachably coupled to the support.

또한 상기 레이저 블록은 몸체 중심에 전동기가 결합되는 결합공이 뚫려 있고, 상기 레이저 블록은 결합공을 통하여 상기 걸이봉에 끼워지며, 상기 걸이봉은 길이 방향으로 적층되는 레이저 블록의 개수에 대응하여 봉의 길이를 형성하는 것을 특징으로 한다.In addition, the laser block has a coupling hole to which an electric motor is coupled in the center of the body, the laser block is fitted to the hanging rod through the coupling hole, and the hanging rod is the length of the rod corresponding to the number of laser blocks stacked in the longitudinal direction. characterized by forming.

또한 상기 에칭액은 에칭 원료와 순수를 혼합하여 제조하며, 상기 에칭 원료와 순수를 개별적으로 저장하는 보관 용기와 혼합된 에칭액을 저장하는 혼합 용기를 일정 온도로 유지하기 위한 보관 케이스, 상기 레이저 블록의 에칭 공정에 사용된 에칭액을 보관하는 폐용액 보관용기를 포함하며, 상기 혼합 용기와 상기 주입호스 커플링의 연결 호스 사이에 설치된 펌프 및 밸브를 구동하여 에칭액을 레이저 블록의 도관으로 주입하고, 상기 폐용액 보관용기와 상기 배출호스 커플링의 연결 호스 사이에 설치된 펌프 및 밸브를 구동하여 레이저 블록의 도관에 채워졌던 에칭액과 찌꺼기 및 불순물을 폐용액 보관용기에 회수하는 것을 특징으로 한다.In addition, the etchant is prepared by mixing the etching raw material and the pure water, and a storage container for separately storing the etching raw material and the pure water and a storage case for maintaining the mixing vessel for storing the mixed etchant at a constant temperature, etching of the laser block It includes a waste solution storage container for storing the etching solution used in the process, and drives the pump and valve installed between the mixing container and the connecting hose of the injection hose coupling to inject the etching solution into the conduit of the laser block, and the waste solution It is characterized in that by driving a pump and a valve installed between the storage container and the connection hose of the discharge hose coupling, the etching solution, residues and impurities filled in the conduit of the laser block are recovered to the waste solution storage container.

또한 상기 에칭 원료는 황산과 불산 중 적어도 어느 하나를 사용하고, 상기 펌프 및 밸브의 작동을 제어하는 제어부가 에칭 원료 선택, 에칭액의 주입 시기 및 배출 시기, 에칭 공정 시간을 설정하여 에칭 공정을 제어하는 것을 특징으로 한다.In addition, the etching raw material uses at least one of sulfuric acid and hydrofluoric acid, and the control unit controlling the operation of the pump and valve controls the etching process by selecting the etching material, setting the injection and discharge time of the etching solution, and the etching process time characterized in that

또한 상기 공정 챔버의 내부 공간에 연결되고 배기팬을 이용하여 배기하는 배기 후드를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, it characterized in that it includes an exhaust hood connected to the inner space of the process chamber and exhausted using an exhaust fan.

본 발명은 공정 챔버의 내부 공간에 레이저 블록을 정렬시키고, 공정 기구를 이용하여 레이저 블록의 도관으로 외부 공기가 유입되지 않도록 밀폐시킨 상태에서 에칭액을 주입하여 도관 표면을 매끄럽게 다듬질하는 에칭 공정을 수행할 수 있다.The present invention aligns the laser block in the internal space of the process chamber, and injects an etching solution in a sealed state so that external air does not flow into the conduit of the laser block using a process tool to perform an etching process to smooth the conduit surface. can

본 발명은 블록 권취부에 복수개 레이저 블록을 적층하고, 고정 지그를 이동함으로써 복수개 레이저 블록에 대한 에칭 공정을 수행할 수 있어 낱개 단위로 레이저 블록을 에칭하는 방식에 비하여 작업 편의성을 향상할 수 있고 에칭 공정 시간을 단축할 수 있다.The present invention can perform an etching process for a plurality of laser blocks by stacking a plurality of laser blocks on the block winding and moving a fixing jig, so that work convenience can be improved compared to the method of etching laser blocks individually. The process time can be shortened.

도 1은 링 레이저 자이로스코프의 기본 원리를 나타내는 도면,
도 2는 본 발명에 따른 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치의 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 링 레이저 자이로스코프의 제어블록도,
도 4는 본 발명에 따른 공정 챔버의 정면도,
도 5는 본 발명에 따른 공정 기구의 구성을 설명하기 위한 분해 사시도,
도 6은 본 발명에 따른 블록 권취부에 적층된 복수개 레이저 블록에 대한 에칭 공정을 설명하기 위한 사용 예시도.1 is a diagram showing the basic principle of a ring laser gyroscope;
2 is a perspective view of a laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope according to the present invention;
3 is a control block diagram of a ring laser gyroscope according to the present invention;
4 is a front view of a process chamber according to the present invention;
5 is an exploded perspective view for explaining the configuration of a process mechanism according to the present invention;
6 is an exemplary view for explaining the etching process for a plurality of laser blocks stacked on the block winding according to the present invention.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명함으로써 본 발명을 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다. 또한 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Hereinafter, the present invention will be described by describing embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals in each figure indicate like elements. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related well-known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. Also, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치(100)는 함체 형상의 본체(101)에 레이저 블록(LB)의 에칭 공정이 이루어지는 공정 챔버(102)가 마련된다. As shown in FIG. 2 , in the laser block etching apparatus 100 of the ring laser gyroscope according to the present invention, the process chamber 102 in which the etching process of the laser block LB is performed is provided in the body 101 of the enclosure shape. do.

실시예에서 복수개 공정 챔버(102)가 기능상 동일한 구성을 채택하여 본체(101)에 수평 방향으로 배치하였으나, 설치 환경이 협소한 장소에서는 작은 크기의 본체에 단일 챔버를 적용할 수도 있다. In the embodiment, a plurality of process chambers 102 are arranged in the horizontal direction on the main body 101 by adopting the same functional configuration, but a single chamber may be applied to the main body of a small size in a narrow installation environment.

본체(101)에 공정 챔버(102) 뿐만 아니라 후술하는 펌프와 밸브 등의 구성품이 설치되는 기계실(104)을 포함할 수 있다. 본체(101) 상부에 배기 후드(105)가 설치된다. 배기 후드(105)는 배기팬(106)과 배기 덕트(108)를 포함한다. 배기 덕트(108)의 일측은 각각의 공정 챔버(102)에 형성된 배기 구멍에 연결되고, 배기 덕트(108) 내부에 설치된 배기팬(106)을 작동시키고 댐퍼(미도시)를 개방 시 공정 챔버(102)에 잔류하는 오염 공기를 외부로 배출할 수 있다. 배기팬(106)을 사용하지 않는 경우 댐퍼 손잡이(107)를 이용하여 댐퍼(미도시)를 폐쇄시킬 수 있고, 이에 따라 외부 공기가 공정 챔버(102)로 유입되는 것을 방지할 수 있다.The main body 101 may include a machine room 104 in which components such as a pump and a valve, which will be described later, are installed as well as the process chamber 102 . An exhaust hood 105 is installed on the upper body 101 . The exhaust hood 105 includes an exhaust fan 106 and an exhaust duct 108 . One side of the exhaust duct 108 is connected to the exhaust hole formed in each process chamber 102, operates the exhaust fan 106 installed inside the exhaust duct 108, and opens the damper (not shown) in the process chamber ( 102) can be discharged to the outside of the polluted air remaining. When the exhaust fan 106 is not used, the damper (not shown) may be closed using the damper handle 107 , thereby preventing external air from flowing into the process chamber 102 .

공정 챔버(102)는 레이저 블록(LB)이 수용되는 내부 공간(CH)을 제공한다. 이 내부 공간(CH)에서 레이저 블록(LB)에 대한 에칭 공정이 이루어질 수 있도록 공정 기구(130)가 설치된다.The process chamber 102 provides an internal space CH in which the laser block LB is accommodated. A process device 130 is installed so that an etching process for the laser block LB can be performed in the inner space CH.

챔버 도어(103)가 공정 챔버(102)에 회동 가능하게 설치되고, 이 챔버 도어(103)를 이용하여 내부 공간(CH)을 개폐할 수 있다.The chamber door 103 is rotatably installed in the process chamber 102 , and the internal space CH can be opened and closed by using the chamber door 103 .

공정 기구(130)는 레이저 블록(LB)의 도관으로 외부 공기가 유입되지 않도록 밀폐시키고 에칭액을 주입하여 도관 표면을 매끄럽게 다듬질한다. 이러한 에칭 공정은 본체(101) 일측에 설치된 조작 패널(110)을 통하여 사용자에 의해 입력되는 사용자 명령에 따라 후술하는 제어부(120)가 전반적인 동작을 제어하게 된다.The process device 130 seals the conduit of the laser block LB so that external air is not introduced, and injects an etching solution to smooth the conduit surface. In this etching process, the control unit 120 to be described later controls the overall operation according to a user command input by the user through the operation panel 110 installed on one side of the main body 101 .

공정 기구(130)는 고정 지그(151), 주입호스 커플링(161~164), 배출호스 커플링(165~167), 블록 권취부(180)를 포함할 수 있다.The process device 130 may include a fixing jig 151 , an injection hose coupling 161 to 164 , a discharge hose coupling 165 to 167 , and a block winding unit 180 .

본체(101)와 분리된 장소에 보관 케이스(190)가 설치될 수 있다.The storage case 190 may be installed in a place separated from the main body 101 .

보관 케이스(190)는 에칭 원료와 순수(純水)를 각각 저장하는 보관 용기(192, 194, 196), 에칭 원료와 순수를 혼합하여 제조한 에칭액을 저장하는 혼합 용기(198)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 보관 용기(192)는 에칭 원료로서 황산을 저장하고, 제2 보관 용기(194)는 에칭 원료로서 불산을 저장하며, 제3 보관 용기(196)는 순수(純水)를 저장할 수 있다.The storage case 190 may include storage containers 192, 194, 196 for storing etching raw materials and pure water, respectively, and a mixing container 198 for storing an etching solution prepared by mixing etching raw materials and pure water. have. For example, the first storage container 192 stores sulfuric acid as an etching raw material, the second storage container 194 stores hydrofluoric acid as an etching raw material, and the third storage container 196 stores pure water. can be saved

보관 케이스(190)는 보관 용기(192, 194, 196)와 혼합 용기(198)에 저장된 에칭 원료와 순수를 일정 온도로 유지하기 위하여 단열재를 포함할 수 있으며, 케이스 내부에 매설된 히터(미도시)를 작동시킬 수 있다.The storage case 190 may include an insulating material to maintain the etching raw material and pure water stored in the storage containers 192 , 194 , and 196 and the mixing container 198 at a constant temperature, and a heater (not shown) embedded in the case. ) can work.

도 3을 참고하여, 제어부(120)는 공정 챔버(102)에서 레이저 블록(LB)에 대한 에칭 공정을 수행하기 위한 전반적인 동작을 제어하는데, 예를 들어 제1 내지 제5 펌프(201, 203, 205, 207, 209)와 제1 내지 제5 밸브(202, 204, 206, 208, 210)의 작동을 제어할 수 있다. 여기서 제1 내지 제5 밸브(202, 204, 206, 208, 210)는 개도 조절이 가능한 전자 밸브로서 솔레노이드 밸브를 채택할 수 있다.Referring to FIG. 3 , the controller 120 controls the overall operation for performing the etching process on the laser block LB in the process chamber 102 , for example, the first to fifth pumps 201 , 203 , 205 , 207 , and 209 and the first to fifth valves 202 , 204 , 206 , 208 , and 210 may be controlled. Here, the first to fifth valves 202 , 204 , 206 , 208 , and 210 may employ a solenoid valve as a solenoid valve capable of adjusting the opening degree.

제1 펌프(201)는 제1 보관용기(192)와 혼합용기(198) 사이를 연결하는 공급 호스(191)의 중도에 설치되고, 제어부(120)의 제어 명령에 따라 황산을 펌핑하여 개방된 제1 밸브(202)를 경유하여 혼합용기(198)로 압송할 수 있다. 제2 펌프(203)는 제2 보관용기(194)와 혼합용기(198) 사이를 연결하는 공급 호스(193)의 중도에 설치되고, 제어부(120)의 제어 명령에 따라 불산을 펌핑하여 개방된 제2 밸브(204)를 경유하여 혼합용기(198)로 압송할 수 있다. 제3 펌프(205)는 제3 보관용기(196)와 혼합용기(198) 사이를 연결하는 공급 호스(195)의 중도에 설치되고, 제어부(120)의 제어 명령에 따라 순수를 펌핑하여 개방된 제3 밸브(206)를 경유하여 혼합용기(198)로 압송할 수 있다. 제4 펌프(207)는 혼합용기(198)와 제1 내지 제4 주입호스 커플링(161~164) 사이를 연결하는 연결 호스(197)의 중도에 설치되고, 제어부(120)의 제어 명령에 따라 에칭액을 펌핑하여 개방된 제4 밸브(208)를 경유하여 제1 내지 제4 주입호스 커플링(161~164)으로 각각 압송할 수 있다. 제5 펌프(209)는 폐용액 보관용기(200)와 제1 내지 제3 배출호스 커플링(165~167) 사이를 연결하는 연결 호스(201)의 중도에 설치되고, 제어부(120)의 제어 명령에 따라 레이저 블록(LB)의 도관에 대한 에칭 공정에 사용된 에칭액, 찌꺼기, 드릴링 가공시 사용된 윤활유 등의 불순물을 펌핑하여 개방된 제5 밸브(210)를 경유하여 폐용액 보관용기(200)로 각각 압송할 수 있다. The first pump 201 is installed in the middle of the supply hose 191 connecting between the first storage container 192 and the mixing container 198, and is opened by pumping sulfuric acid according to the control command of the controller 120. The pressure may be transferred to the mixing vessel 198 via the first valve 202 . The second pump 203 is installed in the middle of the supply hose 193 connecting between the second storage container 194 and the mixing container 198, and is opened by pumping hydrofluoric acid according to the control command of the controller 120. The pressure may be transferred to the mixing vessel 198 via the second valve 204 . The third pump 205 is installed in the middle of the supply hose 195 connecting between the third storage container 196 and the mixing container 198, and pumps pure water according to the control command of the control unit 120 to open it. The pressure may be transferred to the mixing vessel 198 via the third valve 206 . The fourth pump 207 is installed in the middle of the connecting hose 197 connecting between the mixing vessel 198 and the first to fourth injection hose couplings 161 to 164, and is Accordingly, the etching solution may be pumped to the first to fourth injection hose couplings 161 to 164 via the opened fourth valve 208, respectively. The fifth pump 209 is installed in the middle of the connection hose 201 connecting the waste solution storage container 200 and the first to third discharge hose couplings 165 to 167, and is controlled by the control unit 120 . According to the command, the waste solution storage container 200 through the opened fifth valve 210 by pumping impurities such as the etching solution used in the etching process for the conduit of the laser block LB, the residue, and the lubricant used during the drilling process. ) can be compressed individually.

제어부(120)는 에칭 공정과 병행하여 배기팬(106)을 구동시킴으로써 공정 챔버(102)의 공기를 외부로 배기하는 배기 공정을 수행할 수 있다. 또한 제어부(120)는 에칭 공정이 완료된 후 일정 시간 동안 배기 공정을 독립적으로 수행할 수 있다. 에칭 공정과 배기 공정의 활성화 여부는 사전 프로그램된 제어 프로그램에 따라 설정되며, 필요시 조작 패널(110)을 통해 제어 프로그램을 변경하여 다시 설정할 수 있다.The controller 120 may perform an exhaust process of exhausting air from the process chamber 102 to the outside by driving the exhaust fan 106 in parallel with the etching process. Also, the controller 120 may independently perform the exhaust process for a predetermined time after the etching process is completed. Whether the etching process and the exhaust process are activated is set according to a pre-programmed control program, and if necessary, the control program can be changed and set again through the operation panel 110 .

제어부(120)는 제어 프로그램에 따라 에칭액을 제조하기 위한 에칭 원료 선택, 에칭액의 주입 시기 및 배출 시기, 에칭 공정 시간을 제어할 수 있다. 에칭 원료의 종류에 따라 세정용 에칭액과 식각용 에칭액을 선택적으로 제조하고, 해당 에칭액을 사용한 에칭 공정 시간은 일정 범위(10초 내지 300초)에서 설정할 수 있다. 예를 들어 황산과 순수를 설정된 배합 비율에 따라 혼합한 세정용 에칭액을 제조시 제1 펌프(201) 및 제3 펌프(205)의 작동과 제1 밸브(202) 및 제3 밸브(206)의 작동을 제어함으로써 혼합 용기(198)에서 세정용 에칭액을 제조할 수 있다. 초기 에칭 공정에서 세정용 에칭액을 주입하여 레이저 블록(LB)의 도관에 남아 있는 찌꺼기, 불순물을 제거할 수 있다. 다른 예로서 황산과 불산 및 순수를 설정된 배합 비율에 따라 혼합한 식각용 에칭액을 제조시 제1 내지 제3 펌프(201)(203)(205)와 제1 내지 제 3밸브(202)(204)(206)의 작동을 제어함으로써 혼합 용기(198)에서 식각용 에칭액을 제조할 수 있다. 초기 에칭 공정이 완료된 후 식각용 에칭액을 주입하여 레이저 블록(LB)의 도관 표면을 매끄럽게 다듬질하는 에칭 공정을 수행할 수 있다. 이러한 에칭 공정은 연속 공정, 불연속 공정으로 크게 구분할 수 있다. 연속 공정은 식각용 에칭액을 이용한 에칭 공정에서 제1 내지 제4 주입호스 커플링(161~164)을 경유하는 주입 동작과 제1 내지 제3 배출호스 커플링(165~167)을 경유하는 배출 동작이 동시에 진행되어 에칭액 주입과 배출이 동시에 이루어지게 된다. 불연속 공정은 제1 내지 제4 주입호스 커플링(161~164)을 경유하는 주입 시 제5 밸브(210)는 폐쇄시킴으써 식각용 에칭액이 레이저 블록(LB)의 도관 내부에 채워져 정체된 상태가 유지된다. The controller 120 may control selection of an etching raw material for manufacturing an etching solution, injection timing and discharge timing of the etching solution, and etching process time according to a control program. An etching solution for cleaning and an etching solution for etching are selectively prepared according to the type of etching raw material, and the etching process time using the etching solution can be set in a certain range (10 seconds to 300 seconds). For example, when preparing a cleaning etchant in which sulfuric acid and pure water are mixed according to a set mixing ratio, the operation of the first pump 201 and the third pump 205 and the operation of the first valve 202 and the third valve 206 are performed. By controlling the operation, it is possible to prepare a cleaning etchant in the mixing vessel 198 . Residues and impurities remaining in the conduit of the laser block LB may be removed by injecting a cleaning etchant in the initial etching process. As another example, when preparing an etching solution in which sulfuric acid, hydrofluoric acid and pure water are mixed according to a set mixing ratio, the first to third pumps 201, 203, 205 and the first to third valves 202 and 204 By controlling the operation of 206, it is possible to prepare an etchant for etching in the mixing vessel 198. After the initial etching process is completed, an etching process for smoothing the conduit surface of the laser block LB by injecting an etching solution may be performed. The etching process may be roughly divided into a continuous process and a discontinuous process. The continuous process includes an injection operation via the first to fourth injection hose couplings 161 to 164 and a discharge operation via the first to third exhaust hose couplings 165 to 167 in an etching process using an etching solution. This proceeds at the same time, so that the etching solution injection and discharge are performed at the same time. In the discontinuous process, when the first to fourth injection hose couplings 161 to 164 are injected, the fifth valve 210 is closed, so that the etching solution for the etching is filled inside the conduit of the laser block LB, so that the stagnant state is maintain.

에칭 공정 완료 시 순수를 이용한 후처리 공정을 수행할 수 있다. 후처리 공정에서 제3 보관용기(196)의 순수를 혼합 용기(198)로 공급하고 이 혼합 용기(198)의 순수를 펌핑하여 제1 내지 제4 주입호스 커플링(161~164)을 경유하는 주입 동작과 제1 내지 제3 배출호스 커플링(165~167)을 경유하는 배출 동작을 동시 수행하여 레이저블록(LB)의 도관을 깨끗하게 세정할 수 있다. When the etching process is completed, a post-treatment process using pure water may be performed. In the post-treatment process, the pure water of the third storage container 196 is supplied to the mixing container 198, and the pure water of the mixing container 198 is pumped through the first to fourth injection hose couplings 161 to 164. By simultaneously performing the injection operation and the discharge operation via the first to third discharge hose couplings 165 to 167, it is possible to cleanly clean the conduit of the laser block LB.

도 4와 도 5를 참고하면, 공정 챔버(102)는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록(LB)을 수용하기 위한 내부 공간(CH)을 제공한다. 내부 공간(CH)에는 레이저 블록(LB)의 도관으로 에칭액을 주입하여 도관 표면을 매끄럽게 다듬질하는 에칭 공정을 수행하는 공정 기구(130)가 설치된다.4 and 5 , the process chamber 102 provides an internal space CH for accommodating the laser block LB of the ring laser gyroscope. A process device 130 is installed in the inner space CH to perform an etching process for smoothing the surface of the conduit by injecting an etching solution into the conduit of the laser block LB.

공정 기구(130)는 레이저 블록(LB)의 위치를 결정해 주는 고정 지그(151), 고정 지그(151)를 관통하여 각각 설치되는 주입호스 커플링(161~164)과 배출호스 커플링(165~167)을 포함할 수 있다.The process mechanism 130 includes a fixing jig 151 that determines the position of the laser block LB, an injection hose coupling 161 to 164 and an exhaust hose coupling 165 that are respectively installed through the fixing jig 151 . 167) may be included.

고정 지그(151)는 고리 형상의 지그 몸체(152), 지그 몸체(152) 외측에 돌출된 연결구(153)를 포함한다. 연결구(153)에 통공(154)이 형성되고, 통공(154)을 통해 봉 형상의 지지대(140)가 결합되어 지그 몸체(152)를 브라켓(150)에 고정시킬 수 있다. 브라켓(150)은 공정 챔버(120)의 내측면에 용접 또는 볼트 등의 체결부재를 이용하여 고정 설치할 수 있다. 지지대(140) 단부에 직경이 확장되어 형성된 스토퍼(141)가 설치된다. 스토퍼(141)는 나사 결합으로 체결시 지지대(140)에 착탈 가능하다. The fixing jig 151 includes a ring-shaped jig body 152 and a connector 153 protruding outside the jig body 152 . A through hole 154 is formed in the connector 153 , and the rod-shaped support 140 is coupled through the through hole 154 to fix the jig body 152 to the bracket 150 . The bracket 150 may be fixedly installed on the inner surface of the process chamber 120 by using a fastening member such as welding or bolts. A stopper 141 formed by expanding a diameter at an end of the support 140 is installed. The stopper 141 is detachable from the support 140 when fastened by screwing.

레이저 블록(LB)은 몸체 중심에 전동기가 결합되는 결합공이 뚫려 있고, 몸체 외측면에 도관에 연통되는 복수개 설치홈이 형성되어 있다. 여기서 복수개 설치홈은 블록 모서리 상에 설치되는 반사경들이 결합되는 4개 설치홈, 캐소드가 결합되는 1개 설치홈, 캐소드를 기준으로 서로 마주보는 애노드들이 결합되는 2개 설치홈으로 이루어진다.The laser block (LB) has a coupling hole to which an electric motor is coupled in the center of the body, and a plurality of installation grooves communicating with the conduit are formed on the outer surface of the body. Here, the plurality of installation grooves is composed of four installation grooves to which the reflectors installed on the corner of the block are coupled, one installation groove to which the cathode is coupled, and two installation grooves to which the anodes facing each other are coupled with respect to the cathode.

지그 몸체(152) 외측면에 사방으로 배치되는 주입호스 커플링(161~164)과 배출호스 커플링(165~167)이 개별적으로 끼움 결합되도록 복수개 나사홈이 형성될 수 있다. A plurality of screw grooves may be formed so that the injection hose couplings 161 to 164 and the discharge hose couplings 165 to 167 disposed in all directions on the outer surface of the jig body 152 are individually fitted.

지그 몸체(152) 중앙에 레이저 블록(LB)이 위치하는 경우, 레이저 블록(LB)의 설치홈들과 지그 몸체(152)의 나사홈들이 서로 대응하여 정렬되고, 이렇게 정렬된 상태에서 복수개 주입호스 커플링(161~164)과 배출호스 커플링(165~167)을 개별적으로 결합시킬 수 있다. When the laser block LB is located in the center of the jig body 152, the installation grooves of the laser block LB and the screw grooves of the jig body 152 are aligned to correspond to each other, and in this aligned state, a plurality of injection hoses The couplings 161 to 164 and the exhaust hose couplings 165 to 167 can be individually coupled.

복수개 주입호스 커플링(161~164)은 결합 위치가 다를 뿐 동일한 구성으로 구현할 수 있다. 복수개 주입호스 커플링(161~164)은 내부 유로가 형성된 호스 조인트(172)를 구비한다. 각각의 호스 조인트(172) 일측은 혼합 용기(198)에 결합된 연결 호스(197)를 통하여 에칭액을 공급받는다. 연결 호스(197)는 혼합 용기(198)의 출구에서 복수개 분기되어 해당 주입호스 커플링(161~164)에 결합될 수 있다. 호스 조인트(172) 일측에 나사부(173)가 형성된다. 나사부(173)는 지그 몸체(152)의 나사홈에 끼워져 나사 결합된다. 호스 조인트(172)는 레이저 블록(LB)의 설치홈에 끼워진다. 주입되는 에칭액이 누설되지 않도록 호스 조인트(172)의 단부에 기밀 유지를 위한 패킹(173)이 결합되어 있다. The plurality of injection hose couplings 161 to 164 may be implemented in the same configuration except for a different coupling position. The plurality of injection hose couplings 161 to 164 are provided with a hose joint 172 having an internal flow path. One side of each hose joint 172 is supplied with an etching solution through a connection hose 197 coupled to the mixing vessel 198 . A plurality of connection hoses 197 may be branched from the outlet of the mixing vessel 198 and coupled to the corresponding injection hose couplings 161 to 164 . A threaded portion 173 is formed on one side of the hose joint 172 . The screw portion 173 is screwed into the screw groove of the jig body 152 . The hose joint 172 is fitted into the installation groove of the laser block LB. A packing 173 for airtight maintenance is coupled to the end of the hose joint 172 so that the injected etching solution does not leak.

복수개 배출호스 커플링(165~167) 역시 결합 위치가 다를 뿐 기능상 동일한 구성으로 구현할 수 있는데, 내부 유로가 형성된 호스 조인트(172)를 구비하며, 기밀 유지를 위하여 호스 조인트(172)의 단부에 패킹(173)이 결합되어 있다.A plurality of discharge hose couplings 165 to 167 can also be implemented with the same functional configuration except for a different coupling position. (173) is combined.

공정 기구(130)는 레이저 블록(LB)의 유동을 제한하는 블록 권취부(180)를 포함할 수 있다.The process tool 130 may include a block winding 180 that restricts the flow of the laser block LB.

블록 권취부(180)는 축중심에 돌출 형성된 걸이봉(184), 축중심에서 수직 방향으로 연장된 날개편(181)을 구비한다. 날개편(181)은 지지대(140)에 대응하여 복수개 형성할 수 있고, 지지대(140) 위치에 대응하여 바람개비 형상으로 형성될 수 있다. 날개편(181) 단부에는 지지대(140)에 착탈하기 위한 체결구(182)가 형성된다. 체결구(182)는 일측이 개구된 끼움홈(183)이 형성된다. 날개편(181)이 지지대(140)에 가까이 접근한 상태에서 시계 방향으로 돌리면 끼움홈(183)이 지지대(140)에 끼워짐으로써 체결구(182)가 지지대(140)에 결합된다. 체결구(182)는 스토퍼(141)에 의해 걸려져서 이탈을 방지하게 된다. 날개편(181)을 반시계 방향으로 돌리면 끼움홈(183)이 지지대(140)에서 빠져나옴에 따라 블록 권취부(180)가 분리된다.The block winding unit 180 includes a hanging rod 184 protruding from the center of the axis, and a wing piece 181 extending in the vertical direction from the center of the axis. A plurality of wing pieces 181 may be formed to correspond to the support 140 , and may be formed in a pinwheel shape corresponding to the position of the support 140 . A fastener 182 for attaching and detaching to the support 140 is formed at the end of the wing piece 181 . The fastener 182 is formed with a fitting groove 183 having one side open. When the wing piece 181 is rotated clockwise while approaching the support 140 close to the support 140 , the fitting groove 183 is fitted to the support 140 , so that the fastener 182 is coupled to the support 140 . The fastener 182 is caught by the stopper 141 to prevent separation. When the wing piece 181 is turned counterclockwise, the block winding unit 180 is separated as the fitting groove 183 comes out of the support 140 .

걸이봉(184)은 원통 형상으로 형성할 수 있다. 걸이봉(184)은 레이저 블록(LB)의 몸체 중앙에 형성된 결합공에 끼워진다. 도 4에 도시된 바와 같이 블록 권취부(180)의 걸이봉(184)에 레이저 블록(LB)을 결합한 상태로 지그 몸체(152) 측으로 이동시킨다. 이에 따라 레이저 블록(LB)이 지그 몸체(152)의 중앙에 정렬되면 날개편(181)을 시계 방향으로 돌려 지지대(140)에 결합시킨다. 이후 복수개 주입호스 커플링과 배출호스 커플링을 레이저 블록(LB)의 설치홈에 개별적으로 결합함으로써 레이저 블록(LB)의 도관은 밀폐됨에 따라 외부 공기가 유입되는 것을 방지할 수 있다.Hanging rod 184 may be formed in a cylindrical shape. The hanging rod 184 is fitted into the coupling hole formed in the center of the body of the laser block (LB). As shown in FIG. 4 , the laser block LB is coupled to the hanging rod 184 of the block winding unit 180 and moved toward the jig body 152 side. Accordingly, when the laser block LB is aligned in the center of the jig body 152 , the wing piece 181 is rotated clockwise to be coupled to the support 140 . Thereafter, by individually coupling the plurality of injection hose couplings and the exhaust hose couplings to the installation groove of the laser block LB, the conduit of the laser block LB is sealed, thereby preventing the inflow of external air.

레이저 블록(LB)은 블록 권취부(180)에 유동이 억제될 뿐만 아니라 복수개 주입호스 커플링(161~164) 및 배출호스 커플링(165~167)에 의해 기밀 유지가 안정적으로 이루어지므로 에칭액의 주입 또는 배출 과정에서 흔들림이 최소화되어 에칭 공정이 충실하게 진행될 수 있다.In the laser block LB, the flow of the block winding unit 180 is suppressed, and airtightness is stably maintained by the plurality of injection hose couplings 161 to 164 and the exhaust hose couplings 165 to 167, so that the etchant Since shaking is minimized during the injection or discharge process, the etching process can be performed faithfully.

도 6에 도시된 바와 같이, 블록 권취부(180)의 걸이봉(184)은 길이 방향으로 연장 형성되어 복수개 레이저 블록(B)의 결합공을 통해 끼워질 수 있다. 이에 따라 블록 권취부(180)에 복수개 레이저 블록(LB)을 적층하여 장착시키고, 고정 지그(151)의 지그몸체(152)를 이동함으로써 복수개 레이저 블록(LB)에 대한 에칭 공정을 수행할 수 있다. 여기서 지지대(140)는 길이 방향으로 연장 형성되어 있어, 연결구(153)에 의해 결합된 지그 몸체(152)가 전진 또는 후퇴 이동할 수 있다. 이와 같이 낱개 단위로 레이저 블록(LB)을 에칭하는 방식에 비하여 작업 편의성을 향상할 수 있고 에칭 공정 시간을 단축할 수 있다.As shown in FIG. 6 , the hanging rod 184 of the block winding unit 180 is formed to extend in the longitudinal direction and may be fitted through the coupling holes of the plurality of laser blocks (B). Accordingly, the plurality of laser blocks LB may be stacked and mounted on the block winding unit 180 , and the etching process may be performed on the plurality of laser blocks LB by moving the jig body 152 of the fixing jig 151 . . Here, the support 140 is formed to extend in the longitudinal direction, so that the jig body 152 coupled by the connector 153 can move forward or backward. In this way, compared to the method of etching the laser block LB individually, it is possible to improve work convenience and shorten the etching process time.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 즉, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The above description of the present invention is for illustration, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. That is, all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention.

100 : 에칭 장치 101 : 본체
102 : 공정 챔버 103 : 챔버 도어
104 : 기계실 105 : 배기 후드
110 : 조작 패널 120 : 제어부
130 : 공정 기구 140 : 지지대
141 : 스토퍼 150 : 브라켓
151 : 고정 지그 152 : 지그 몸체
153 : 연결구 154 : 통공
161~164 : 주입호스 커플링 165~167 : 배출호스 커플링
172 : 호스 조인트 173 : 나사부
180 : 블록 권취부 181 : 날개편
182 : 체결구 183 : 끼움홈
184 : 걸이봉 185 : 핸들
190 : 보관 케이스 192 : 제1 보관용기
194 : 제2 보관용기 196 : 제3 보관용기
198 : 혼합용기 200 : 폐용액 보관용기
201, 203, 205, 207, 209 : 제1 내지 제5 펌프
202, 204, 206, 208, 210 : 제1 내지 제5 밸브100: etching device 101: body
102: process chamber 103: chamber door
104: machine room 105: exhaust hood
110: operation panel 120: control unit
130: process mechanism 140: support
141: stopper 150: bracket
151: fixed jig 152: jig body
153: connector 154: through hole
161~164: injection hose coupling 165~167: exhaust hose coupling
172: hose joint 173: threaded part
180: block winding 181: wing piece
182: fastener 183: fitting groove
184: hanging rod 185: handle
190: storage case 192: first storage container
194: second storage container 196: third storage container
198: mixing container 200: waste solution storage container
201, 203, 205, 207, 209: first to fifth pumps
202, 204, 206, 208, 210: first to fifth valves

Claims

링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록을 수용하기 위한 내부 공간을 제공하는 공정 챔버;
상기 레이저 블록의 도관으로 외부 공기가 유입되지 않도록 밀폐시키고, 에칭액을 주입하여 도관 표면을 매끄럽게 다듬질하는 에칭 공정을 수행하는 공정 기구를 포함하되,
상기 공정 기구는 상기 레이저 블록의 위치를 결정해 주는 고정 지그와, 상기 고정 지그를 관통하여 각각 설치되는 복수개의 주입호스 커플링과 복수개의 배출호스 커플링을 포함하고,
상기 주입호스 커플링 및 배출호스 커플링은 각각 내부 유로가 형성된 호스 조인트를 구비하고, 상기 호스 조인트는 주입되는 에칭액이 누설되지 않도록 단부에 기밀 유지를 위한 패킹이 결합되며,
상기 레이저 블록은 상기 도관에 연통되는 복수의 설치홈이 형성되고,
상기 고정 지그에 상기 레이저 블록이 위치하는 경우 레이저 블록의 상기 설치홈들 각각에 상기 호스 조인트가 상기 고정 지그를 관통하여 결합되는 것을 특징으로 하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치.a process chamber providing an interior space for receiving a laser block of a ring laser gyroscope;
Including a process tool for sealing the conduit of the laser block so that external air is not introduced, and performing an etching process for smoothing the conduit surface by injecting an etching solution,
The process mechanism includes a fixing jig for determining the position of the laser block, and a plurality of injection hose couplings and a plurality of discharge hose couplings respectively installed through the fixing jig,
The injection hose coupling and the discharge hose coupling each include a hose joint having an internal flow path, and the hose joint is coupled to an end of the hose joint for sealing airtightness so that the injected etchant does not leak,
The laser block is formed with a plurality of installation grooves communicating with the conduit,
When the laser block is located in the fixing jig, the laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope, characterized in that the hose joint is coupled to each of the installation grooves of the laser block through the fixing jig.

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제1항에 있어서,
상기 주입호스 커플링 및 배출호스 커플링은 일측에 나사부가 형성되고 타측에 연결호스가 결합되는 것을 특징으로 하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치.According to claim 1,
The injection hose coupling and the discharge hose coupling is a laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope, characterized in that a threaded portion is formed on one side and a connection hose is coupled to the other side.

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제1항에 있어서,
상기 공정 기구는 상기 공정 챔버의 내측면에 고정된 브라켓, 브라켓에 설치되고 전방으로 돌출된 봉형상의 지지대를 포함하고,
상기 고정 지그는 고리 형상의 지그 몸체, 지그 몸체 외측에 돌출된 연결구를 구비하되, 상기 연결구에는 지지대가 끼워지는 통공이 형성되며,
상기 고정 지그는 지지대의 길이 방향을 따라 전진 또는 후퇴 이동할 수 있는 것을 특징으로 하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치.According to claim 1,
The process apparatus includes a bracket fixed to the inner surface of the process chamber, a rod-shaped support installed on the bracket and protruding forward,
The fixing jig has a ring-shaped jig body and a connector protruding outside the jig body, wherein the connector has a through hole through which the support is fitted,
The fixing jig is a laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope, characterized in that it can move forward or backward along the longitudinal direction of the support.

제5항에 있어서,
상기 공정 기구는 레이저 블록의 유동을 제한하는 블록 권취부를 포함하고,
상기 블록 권취부는 축중심에 돌출 형성된 걸이봉, 축중심에서 수직 방향으로 연장된 날개편을 구비하며,
상기 날개편의 단부에 형성된 체결구가 상기 지지대에 착탈 가능하게 결합되는 것을 특징으로 하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치.6. The method of claim 5,
The process tool comprises a block winding that restricts the flow of the laser block;
The block winding unit includes a hanging rod protruding from the center of the axis, and a wing piece extending in the vertical direction from the center of the axis,
A laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope, characterized in that a fastener formed at an end of the wing piece is detachably coupled to the support.

제6항에 있어서,
상기 레이저 블록은 몸체 중심에 전동기가 결합되는 결합공이 뚫려 있고,
상기 레이저 블록은 결합공을 통하여 상기 걸이봉에 끼워지며,
상기 걸이봉은 길이 방향으로 적층되는 레이저 블록의 개수에 대응하여 봉의 길이를 형성하는 것을 특징으로 하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치.7. The method of claim 6,
The laser block has a coupling hole through which an electric motor is coupled in the center of the body,
The laser block is inserted into the hanging rod through the coupling hole,
The ring laser gyroscope laser block etching apparatus, characterized in that the hanging rod forms the length of the rod corresponding to the number of laser blocks stacked in the longitudinal direction.

제3항에 있어서,
상기 에칭액은 에칭 원료와 순수를 혼합하여 제조하며,
상기 에칭 원료와 순수를 개별적으로 저장하는 보관 용기와 혼합된 에칭액을 저장하는 혼합 용기를 일정 온도로 유지하기 위한 보관 케이스, 상기 레이저 블록의 에칭 공정에 사용된 에칭액을 보관하는 폐용액 보관용기를 포함하며,
상기 혼합 용기와 상기 주입호스 커플링의 연결 호스 사이에 설치된 펌프 및 밸브를 구동하여 에칭액을 레이저 블록의 도관으로 주입하고, 상기 폐용액 보관용기와 상기 배출호스 커플링의 연결 호스 사이에 설치된 펌프 및 밸브를 구동하여 레이저 블록의 도관에 채워졌던 에칭액과 찌꺼기 및 불순물을 폐용액 보관용기에 회수하는 것을 특징으로 하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치.4. The method of claim 3,
The etching solution is prepared by mixing an etching raw material and pure water,
A storage container for separately storing the etching raw material and pure water, a storage case for maintaining a mixing container for storing the mixed etching solution at a constant temperature, and a waste solution storage container for storing the etching solution used in the etching process of the laser block and
A pump and a valve installed between the mixing container and the connection hose of the injection hose coupling are driven to inject the etching solution into the conduit of the laser block, and a pump installed between the waste solution storage container and the connection hose of the discharge hose coupling, and A laser block etching device of a ring laser gyroscope, characterized in that by driving a valve, the etching solution, residues and impurities filled in the conduit of the laser block are recovered to the waste solution storage container.

제8항에 있어서,
상기 에칭 원료는 황산과 불산 중 적어도 어느 하나를 사용하고,
상기 펌프 및 밸브의 작동을 제어하는 제어부가 에칭 원료 선택, 에칭액의 주입 시기 및 배출 시기, 에칭 공정 시간을 설정하여 에칭 공정을 제어하는 것을 특징으로 하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치.9. The method of claim 8,
The etching raw material uses at least one of sulfuric acid and hydrofluoric acid,
A laser block etching apparatus of a ring laser gyroscope, characterized in that the control unit for controlling the operation of the pump and the valve controls the etching process by selecting the etching raw material, setting the injection time and discharge time of the etching solution, and the etching process time.

제1항에 있어서,
상기 공정 챔버의 내부 공간에 연결되고 배기팬을 이용하여 배기하는 배기 후드를 포함하는 것을 특징으로 하는 링 레이저 자이로스코프의 레이저 블록 에칭 장치.According to claim 1,
and an exhaust hood connected to the inner space of the process chamber and exhausted using an exhaust fan.