KR102292371B1 - Chemical solution apparatus and chemical ejeting system - Google Patents

Chemical solution apparatus and chemical ejeting system Download PDF

Info

Publication number
KR102292371B1
KR102292371B1 KR1020190137482A KR20190137482A KR102292371B1 KR 102292371 B1 KR102292371 B1 KR 102292371B1 KR 1020190137482 A KR1020190137482 A KR 1020190137482A KR 20190137482 A KR20190137482 A KR 20190137482A KR 102292371 B1 KR102292371 B1 KR 102292371B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
chemical
storage
chemical solution
storage device
Prior art date
Application number
KR1020190137482A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210052765A (en
Inventor
김명진
김대성
최기훈
윤대건
이동화
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020190137482A priority Critical patent/KR102292371B1/en
Publication of KR20210052765A publication Critical patent/KR20210052765A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102292371B1 publication Critical patent/KR102292371B1/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/17Ink jet characterised by ink handling
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/17Ink jet characterised by ink handling
    • B41J2/175Ink supply systems ; Circuit parts therefor
    • B41J2/17503Ink cartridges
    • B41J2/17556Means for regulating the pressure in the cartridge
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/17Ink jet characterised by ink handling
    • B41J2/18Ink recirculation systems
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따르면, 약액 저장 장치는 약액이 저장되는 저장 부재 및 상기 저장 부재에 결합되고, 상기 약액의 수면보다 높은 높이에서 약액을 향하여 기체를 분사하는 침전 방지 유닛을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the chemical storage device includes a storage member in which a chemical solution is stored, and a precipitation prevention unit coupled to the storage member, and spraying a gas toward the chemical solution at a height higher than the water level of the chemical solution.

Description

약액 저장 장치 및 약액 토출 시스템{CHEMICAL SOLUTION APPARATUS AND CHEMICAL EJETING SYSTEM}Chemical storage device and chemical liquid discharge system {CHEMICAL SOLUTION APPARATUS AND CHEMICAL EJETING SYSTEM}

본 발명은 약액 저장 장치 및 약액 토출 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 처리하는데 사용되는 약액을 저장하는 약액 저장 장치 및 약액 토출 시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a chemical liquid storage device and a chemical liquid discharge system, and more particularly, to a chemical liquid storage device and a chemical liquid discharge system for storing a chemical used to process a substrate.

액정 디스플레이, 유기발광 디스플레이 등의 디스플레이 장치를 제조하기 위해 잉크젯 헤드 등의 약액 토출 장치를 구비하는 인쇄 장치가 널리 사용되고 있다. 잉크젯 헤드를 구비하는 인쇄 장치는 약액 토출 장치를 이용하여 기판 상에 잉크 등의 약액을 토출할 수 있도록 구성된다. 약액은 약액 토출 장치에 연결된 약액 저장 장치에 저장되 있다가, 약액 토출 장치로 공급된다.In order to manufacture display devices such as liquid crystal displays and organic light emitting displays, a printing apparatus having a chemical discharge device such as an inkjet head is widely used. A printing apparatus including an inkjet head is configured to discharge a chemical liquid such as ink onto a substrate by using the chemical liquid ejection apparatus. The chemical solution is stored in a chemical solution storage device connected to the chemical solution discharge device, and is supplied to the chemical solution discharge device.

한편, 약액 저장 장치 내에서 침전이 발생하는 등 약액이 고형화될 경우 약액 토출 장치에서 약액이 원활하게 토출되지 못함으로 인하여 불량이 발생할 수 있다. 이에, 잉크젯 헤드를 구비하는 인쇄 장치에서는 약액의 고형화를 방지하기 위한 별도 부재를 구비하여 약액의 고형화를 방지하고 있다. 그러나, 약액의 고형화 방지를 위한 별도 부재의 경우 다소 복잡한 구조를 갖는 것이 현실이다. On the other hand, when the chemical is solidified such as due to precipitation in the chemical storage device, a defect may occur because the chemical is not smoothly discharged from the chemical liquid discharging device. Accordingly, in the printing apparatus including the inkjet head, a separate member for preventing the solidification of the chemical is provided to prevent the solidification of the chemical. However, in the case of a separate member for preventing the solidification of the chemical, it is a reality to have a rather complicated structure.

특히, 약액이 사용되지 않고 대기 상태에 있을 동안 계속적으로 침전이 발생됨에 따라, 사용 하지 않는 대기 시간 동안 약액의 침전을 막아 줄 수 있어야 한다. In particular, as precipitation occurs continuously while the chemical is not in use and is in the standby state, it should be able to prevent the precipitation of the chemical during the waiting time when not in use.

이러한 문제를 해결하기 위하여 구동모터 등으로 회전되는 슬러지 와류용 임펠러(프로펠러 등) 등 침전 방지 부재를 약액에 침지시킨 상태로 구동함으로써 슬러지가 침전되지 않도록 유도하고 있다. 그러나, 임펠러는 형상이 비행기의 프로펠러와 흡사하게 형성되는 바, 액상에서 회전시키기에 적지 않은 구동력을 요구하여 구동모터의 대형화를 초래하고, 임펠러와의 높이차로 인해 슬러지의 침전이 계속됨은 물론, 특히 베어링 내부에 고형물 등이 침전되어 원활한 회전을 방해함으로써 회전축 및 구동모터를 포함한 장치의 파손을 일으키는 주요 원인이 되고 있다. 또한, 약액에 직접 침지된 상태에서 구동되므로, 약액이 오염되는 문제가 있다.In order to solve this problem, a sedimentation prevention member such as an impeller (propeller, etc.) for sludge vortex that is rotated by a driving motor is driven in a state immersed in a chemical solution to induce sludge not to settle. However, the impeller has a shape similar to that of a propeller of an airplane, and requires a considerable driving force to rotate in the liquid phase, resulting in an enlargement of the driving motor. Solids are deposited inside the bearing to prevent smooth rotation, which is the main cause of damage to the device including the rotating shaft and drive motor. In addition, since it is driven in a state directly immersed in the chemical, there is a problem in that the chemical is contaminated.

한국공개특허 제10-2005-0078427호Korean Patent Publication No. 10-2005-0078427

본 발명은 종래기술의 문제점을 해결하는 것을 목적으로 하는 것으로, 구체적으로는 약액에 침전 방지 부재를 침지시킴으로써 발생할 수 있는 약액 오염 문제를 해결하면서 침전 발생을 효과적으로 방지할 수 있는 약액 저장 장치 및 약액 토출 시스템을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and specifically, a chemical solution storage device capable of effectively preventing precipitation while solving a chemical solution contamination problem that may occur by immersing a precipitation prevention member in a chemical solution, and a chemical solution discharge device We want to provide a system.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 약액 저장 장치는 약액이 저장되는 저장 부재 및 상기 저장 부재에 결합되고, 상기 약액의 수면보다 높은 높이에서 약액을 향하여 기체를 분사하는 침전 방지 유닛을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the chemical storage device includes a storage member in which a chemical solution is stored, and a precipitation prevention unit coupled to the storage member, and spraying a gas toward the chemical solution at a height higher than the water level of the chemical solution.

한편, 상기 침전 방지 유닛은, 상기 저장 부재의 외부에 위치되고, 기체를 공급하는 기체 공급 부재, 상기 저장 부재를 관통하도록 설치되고, 상기 기체 공급 부재에서 공급된 기체를 저장 부재 내부를 향하여 분사하는 하나 이상의 제1 기체 분사 부재 및 상기 기체 공급 부재와 상기 제1 기체 분사 부재를 연결하고 상기 기체 공급 부재의 기체를 제1 기체 분사 부재로 공급하는 기체 이송 부재를 포함할 수 있다. On the other hand, the precipitation prevention unit is located outside the storage member, a gas supply member for supplying a gas, is installed to pass through the storage member, and injects the gas supplied from the gas supply member toward the inside of the storage member and at least one first gas distributing member and a gas transfer member connecting the gas supply member and the first gas distributing member and supplying the gas of the gas supply member to the first gas distributing member.

한편, 상기 저장 부재는 원통 형상이고, 상기 제1 기체 분사 부재는 분사된 기체가 상기 저장 부재의 내벽면을 따라서 이동되어 상기 약액의 표면에 소용돌이를 발생시키도록 상기 저장 부재의 내벽면의 가상의 접선 방향으로 기체를 분사할 수 있다.On the other hand, the storage member has a cylindrical shape, and the first gas ejection member has a virtual virtual surface of the inner wall surface of the storage member so that the injected gas is moved along the inner wall surface of the storage member to generate a vortex on the surface of the chemical solution. Gas can be sprayed in a tangential direction.

또한, 상기 기체 공급 부재에서 생성되는 기체는 질소 또는 CDA(clean dry air)일 수 있다. In addition, the gas generated by the gas supply member may be nitrogen or clean dry air (CDA).

상기 침전 방지 유닛은 상기 저장 부재의 내부에 위치되고, 상기 약액을 향하여 기체를 분사하는 제2 기체 분사 부재를 더 포함하고, 상기 제2 기체 분사 부재는 나선형 튜브일 수 있다. The precipitation prevention unit may be located inside the storage member and further include a second gas jetting member configured to jet gas toward the chemical solution, and the second gas jetting member may be a spiral tube.

상기 제2 기체 분사 부재의 높이는 조절 가능할 수 있다.The height of the second gas distributing member may be adjustable.

또한, 상기 저장 부재의 내부에 위치하고, 상기 저장 부재의 내부의 압력이 증가되는 것을 방지하는 압력 조절 유닛을 더 포함할 수 있다.In addition, the storage member may further include a pressure regulating unit positioned inside the storage member to prevent the internal pressure of the storage member from increasing.

또한, 본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 약액 토출 시스템은 상기 기재된 약액 저장 장치 및 상기 약액 저장 장치로부터 약액을 공급받아서 대상물로 약액을 토출하는 약액 토출 장치를 포함한다. Further, according to another embodiment of the present invention, the chemical solution discharging system includes the above-described chemical solution storage device and a chemical solution discharging device receiving the chemical solution from the chemical solution storage device and discharging the chemical solution to an object.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 약액의 수면을 향해 기체를 분사하는 침전 방지 유닛을 구비함으로써, 간단한 구조로 약액 오염 문제를 해결하면서 침전 발생을 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다.According to an embodiment of the present invention, by providing a precipitation prevention unit that jets gas toward the water surface of the chemical solution, it is possible to effectively prevent the occurrence of precipitation while solving the chemical contamination problem with a simple structure.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면 약액의 침전 방지를 위한 침전 방지 유닛에 베어링 등을 요구하지 않아 회전축 및 구동모터를 포함한 장치의 파손을 일으키지 않은 채 약액의 침전을 방지하는 효과를 얻을 수 있다. In addition, according to an embodiment of the present invention, it is possible to obtain the effect of preventing the precipitation of the chemical without causing damage to the device including the rotating shaft and the drive motor because a bearing, etc. is not required in the settling prevention unit for preventing the precipitation of the chemical. .

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. Effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 저장 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 도 1의 약액 저장 장치에서 제1 기체 분사 부재가 위치된 Ⅱ-Ⅱ'라인을 따라 취한 단면도이다.
도 3은 도 1의 약액 저장 장치에서 Ⅲ-Ⅲ'라인을 따라 취한 단면도이다.
도 4는 침전 방지 유닛의 변형예를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 약액 저장 장치를 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 약액 저장 장치를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 약액 저장 장치를 도시한 도면이다.
1 is a perspective view showing a chemical storage device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line II-II′ in which a first gas ejection member is positioned in the chemical storage device of FIG. 1 .
3 is a cross-sectional view taken along line III-III' in the chemical storage device of FIG. 1 .
4 is a view showing a modified example of the settling prevention unit.
5 is a view showing a chemical storage device according to a second embodiment of the present invention.
6 is a view showing a chemical storage device according to a third embodiment of the present invention.
7 is a view showing a chemical storage device according to a fourth embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly explain the present invention, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are given to the same or similar elements throughout the specification.

또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적인 실시예에서만 설명하고, 그 외의 다른 실시예에서는 대표적인 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.In addition, in various embodiments, components having the same configuration will be described using the same reference numerals only in the representative embodiment, and only configurations different from the representative embodiment will be described in other embodiments.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐만 아니라, 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"된 것도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is "connected" to another part, it includes not only the case where it is "directly connected" but also the case where it is "indirectly connected" with another member interposed therebetween. In addition, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical and scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. does not

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 저장 장치를 설명하기에 앞서, 약액 저장 장치가 설치될 수 있는 약액 토출 시스템을 설명하기로 한다.Before describing the chemical solution storage device according to an embodiment of the present invention, a chemical solution discharging system in which the chemical solution storage device can be installed will be described.

약액 토출 시스템은 약액 저장 장치와 약액 토출 장치를 포함한다. The chemical liquid discharge system includes a chemical liquid storage device and a chemical liquid discharge device.

약액 저장 장치는 약액을 저장하고 있다가, 약액 토출 장치로 공급한다. The chemical liquid storage device stores the chemical solution and supplies it to the chemical solution discharge device.

약액 토출 장치는 상기 약액 저장 장치로부터 약액을 공급받아서 대상물로 약액을 토출할 수 있다. 약액 토출 장치는 일례로 잉크젯 헤드를 다방향으로 이동시키면서, 기판에 잉크를 토출하는 장치일 수 있다. The chemical solution discharging device may receive the chemical solution from the chemical solution storage device and discharge the chemical solution to the object. The chemical discharging device may be, for example, a device discharging ink to a substrate while moving an inkjet head in multiple directions.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 저장 장치를 설명하기로 한다. Hereinafter, a chemical storage device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 저장 장치(100)는 저장 부재(110) 및 침전 방지 유닛(120)을 포함할 수 있다. 1 to 3 , the chemical storage device 100 according to the first embodiment of the present invention may include a storage member 110 and a sedimentation prevention unit 120 .

저장 부재(110)는 약액을 저장한다. 저장 부재(110)는 일례로 약액 토출 시스템에서 잉크젯 헤드로 공급되는 잉크를 저장하는 레저버(reservoir)일 수 있다.The storage member 110 stores the chemical solution. The storage member 110 may be, for example, a reservoir for storing ink supplied to an inkjet head in a chemical liquid discharging system.

저장 부재(110)는 일례로 후술할 침전 방지 유닛(120)에 의하여 약액의 상면에 유동이 원활하게 발생될 수 있도록 원통 형상일 수 있다. The storage member 110 may have a cylindrical shape so that the flow of the chemical can be smoothly generated on the upper surface of the chemical solution by the settling prevention unit 120 to be described later, for example.

침전 방지 유닛(120)은 저장 부재(110)에 결합되고, 약액의 수면보다 높은 높이에서 약액을 향하여 기체를 분사한다. 약액을 향하여 분사된 기체는 약액의 수면과 접촉되고, 약액의 상부는 기체가 이동되는 방향을 따라서 함께 유동될 수 있다. 그리고, 약액은 상부에서 발생된 유동에 의하여 하부에서도 유동이 발생될 수 있다. 이러한 유동은 약액이 전체적으로 교반되는 효과를 일으키며, 이로 인해 침전 발생이 방지될 수 있다.The settling prevention unit 120 is coupled to the storage member 110, and injects a gas toward the chemical at a height higher than the water level of the chemical. The gas injected toward the chemical may be in contact with the water surface of the chemical, and the upper portion of the chemical may flow together along the direction in which the gas moves. In addition, the chemical liquid may flow at the bottom due to the flow generated at the top. This flow causes an effect that the chemical liquid is agitated as a whole, whereby the occurrence of precipitation can be prevented.

이를 위한 침전 방지 유닛(120)은 일례로 기체 공급 부재(121), 제1 기체 분사 부재(122) 및 제1 기체 이송 부재(123)를 포함할 수 있다. For this purpose, the precipitation prevention unit 120 may include, for example, a gas supply member 121 , a first gas ejection member 122 , and a first gas transfer member 123 .

기체 공급 부재(121)는 저장 부재(110)의 외부에 위치되고, 기체를 제1 기체 공급 부재(122)로 공급하는 기체 공급원일 수 있다.The gas supply member 121 may be located outside the storage member 110 , and may be a gas supply source for supplying gas to the first gas supply member 122 .

제1 기체 분사 부재(122)는 저장 부재(110)를 좌우 방향으로 관통하여 저장 부재(110)의 내부로 기체가 분사되도록 설치될 수 있다. The first gas ejection member 122 may be installed so that the gas is injected into the storage member 110 by passing through the storage member 110 in the left and right directions.

보다 바람직하게는 도 3에 나타난 바와 같이, 제1 기체 분사 부재(122)는 분사된 기체가 저장 부재(110)의 내벽면을 따라서 이동되어 약액의 표면에 소용돌이를 발생시킬 수 있도록 형성될 수 있다. 즉, 제1 기체 분사 부재(122)로부터 기체가 분사되는 방향은 저장 부재(110)의 내벽면의 가상의 접선 방향일 수 있다. More preferably, as shown in FIG. 3 , the first gas ejection member 122 may be formed such that the ejected gas moves along the inner wall surface of the storage member 110 to generate a vortex on the surface of the chemical solution. . That is, the direction in which the gas is injected from the first gas injection member 122 may be a virtual tangential direction of the inner wall surface of the storage member 110 .

제1 기체 분사 부재(122)가 기체를 분사하는 각도는 약액에 유동이 원활하게 발생시킬 수 있을 정도이면 어느 각도이든 무방할 수 있으므로, 특정 각도로 한정하지는 않는다.The angle at which the first gas ejection member 122 injects the gas may be any angle as long as it is sufficient to smoothly generate a flow in the chemical, so it is not limited to a specific angle.

기체 공급 부재(121)에서 공급되는 기체는 질소 또는 CDA(Clean Dry Air)일 수 있다. The gas supplied from the gas supply member 121 may be nitrogen or clean dry air (CDA).

제1 기체 이송 부재(123)는 기체 공급 부재(121)와 제1 기체 분사 부재(122)를 연결하여, 기체 공급 부재(121)로부터 기체를 제1 기체 분사 부재(122)로 공급한다. The first gas transfer member 123 connects the gas supply member 121 and the first gas ejection member 122 to supply gas from the gas supply member 121 to the first gas ejection member 122 .

제1 기체 이송 부재(123)는 기체 공급 부재(121)로부터 저장 부재(110)로 일방향으로 기체를 전달할 수 있다. 본 발명의 약액 저장 부재(110)에서 기체 공급 부재(121)를 통해 공급된 기체가 제1 기체 이송 부재(123)를 통해 저장 부재(110) 좌우 방향으로 관통하여 설치되어 있는 제1 기체 분사 부재(122)를 통해 기체가 공급됨으로써, 약액의 침전을 방지할 수 있다. The first gas transfer member 123 may transfer gas from the gas supply member 121 to the storage member 110 in one direction. In the chemical storage member 110 of the present invention, the gas supplied through the gas supply member 121 passes through the storage member 110 in the left and right direction through the first gas transfer member 123, the first gas injection member is installed By supplying the gas through (122), it is possible to prevent the precipitation of the chemical.

이와 같은 침전 방지 유닛(120)은 제1 기체 분사 부재(122)를 사용하여 기체를 분사하는 것만으로 약액을 혼합시킬 수 있다. Such a precipitation prevention unit 120 may mix a chemical liquid only by spraying a gas using the first gas injection member 122 .

종래의 약액 저장 장치는 약액 내부에, 임펠라, 스터러(stirrer) 또는 마그네틱 바를 위치시킨 상태에서 약액을 혼합하므로, 약액이 오염될 수 있고, 회전축 및 구동모터를 포함한 장치가 파손될 수 있었다. 그러나, 본 발명의 제1 실시예에 따른 약액 저장 장치(100)는 종래의 약액 저장 장치와 다르게, 혼합을 위한 장치를 약액 내에 위치시키지 않고 약액을 혼합시킬 수 있으므로, 혼합을 위한 장치에서 생성되는 파편이나 이물질에 의하여 약액이 오염되는 것을 방지할 수 있다.The conventional chemical storage device mixes the chemical solution in a state in which an impeller, a stirrer, or a magnetic bar is positioned inside the chemical solution, so that the chemical solution may be contaminated, and the device including the rotating shaft and the driving motor may be damaged. However, the chemical solution storage device 100 according to the first embodiment of the present invention can mix the chemical solution without placing the device for mixing in the chemical solution, unlike the conventional chemical solution storage device, so that the It can prevent the chemical from being contaminated by debris or foreign substances.

도 4를 참조하면, 침전 방지 유닛(120)에 포함된 제1 기체 분사 부재(122)는 복수 개일 수 있다. 예를 들어, 제1 기체 분사 부재(122)는 2개 일 수 있다. 이때, 제1 기체 분사 부재(122)들 각각은 서로 마주보도록 배치될 수 있다. Referring to FIG. 4 , a plurality of first gas ejection members 122 included in the settling prevention unit 120 may be provided. For example, there may be two first gas distributing members 122 . In this case, each of the first gas ejection members 122 may be disposed to face each other.

이와 같이 각각의 제1 기체 분사 부재(122)에서 기체가 분사되는 경우는 하나의 제1 기체 분사 부재(122)에서 기체가 분사되는 경우와 비교하여 약액의 표면에서 유동이 더욱 원활하게 발생될 수 있다. 즉, 제1 기체 분사 부재(122)가 복수 개인 경우, 약액 내부 벽면을 따라 한쪽 방향으로 분사된 기체들 간에 회전력이 더해져 더 큰 소용돌이를 발생시킬 수 있게 된다. 이에, 약액의 침전을 보다 우수하게 방지할 수 있다. In this way, when the gas is injected from each of the first gas injection members 122 , the flow can be more smoothly generated on the surface of the chemical compared to the case where the gas is injected from one first gas injection member 122 . have. That is, when there are a plurality of first gas ejection members 122 , rotational force is added between the gases injected in one direction along the inner wall surface of the chemical to generate a larger vortex. Accordingly, it is possible to better prevent the precipitation of the chemical solution.

본 발명의 일 실시예에 따른 약액 저장 장치(100)를 사용할 경우, 약액이 저장 부재(110) 내에서 침전되는 것을 효과적으로 방지할 수 있고, 약액이 약액 저장 장치(100)에서 균일하게 혼합된 상태로 약액 토출 장치를 통하여 기판에 분사될 수 있다. 그러므로, 약액 저장 장치(100)는 종래의 약액 저장 장치와 비교하여 분사 특성이 더욱 향상될 수 있다. 또한, 약액이 기판에 균일하게 도포될 수 있으므로, 약액의 도포 상태의 균일성을 향상시킬 수 있다.When the chemical solution storage device 100 according to an embodiment of the present invention is used, it is possible to effectively prevent the chemical solution from precipitating in the storage member 110 , and the chemical solution is uniformly mixed in the chemical solution storage device 100 . may be sprayed onto the substrate through the chemical liquid discharging device. Therefore, the chemical liquid storage device 100 can further improve the injection characteristics compared to the conventional chemical storage device. In addition, since the chemical can be uniformly applied to the substrate, the uniformity of the application state of the chemical can be improved.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 약액 저장 장치(200)에 포함된 침전 방지 유닛(120)은 제2 기체 분사 부재(224)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5 , the precipitation prevention unit 120 included in the chemical liquid storage device 200 according to the second embodiment of the present invention may include a second gas ejection member 224 .

제2 기체 분사 부재(224)는 저장 부재(110)의 내부에 위치된다. 제2 기체 분사 부재(224)는 기체 공급 부재(121)로부터 공급된 기체를 저장 부재(110)의 약액의 표면에 분사한다. 제2 기체 분사 부재(224)의 자유단은 약액의 수면 상부에 위치하여 약액의 수면에 직접 기체를 공급할 수 있다. The second gas ejection member 224 is located inside the storage member 110 . The second gas distributing member 224 injects the gas supplied from the gas supply member 121 onto the surface of the chemical solution of the storage member 110 . The free end of the second gas ejection member 224 may be positioned above the water surface of the chemical liquid to directly supply gas to the water surface of the chemical liquid.

제2 기체 분사 부재(224)는 일례로 나선형 튜브일 수 있다. 나선형 튜브를 사용함으로써, 약액의 표면에 소용돌이를 직접적으로 발생시켜 침전 방지 효과를 보다 향상시킬 수 있다.The second gas ejection member 224 may be, for example, a spiral tube. By using the spiral tube, a vortex can be directly generated on the surface of the chemical solution, thereby further improving the anti-settling effect.

한편, 제2 기체 분사 부재(224)는 그 자유단이 약액의 수면으로부터 일정 거리에 위치하도록 높이를 조절 가능하게 형성될 수 있다. 즉, 약액의 사용으로 수면 높이가 낮아지는 경우, 이에 따라 제2 기체 분사 부재(224)도 높이를 조절할 수 있다. 제2 기체 분사 부재(224)의 높이 조절은 수동으로 할 수도 있고, 미도시한 구동부에 의해 승강되도록 구성할 수도 있다.On the other hand, the second gas ejection member 224 may be formed to be adjustable in height so that its free end is located at a predetermined distance from the water surface of the chemical. That is, when the height of the water surface is lowered by the use of the chemical, the height of the second gas ejection member 224 may be adjusted accordingly. The height of the second gas ejection member 224 may be adjusted manually or may be configured to be raised and lowered by a driving unit (not shown).

한편, 제2 기체 분사 부재(224)는 기체 공급 부재(121)와 연결될 수 있다. 이를 위하여, 제2 기체 분사 부재(224)는 제2 기체 이송 부재(225)에 의하여 기체 공급 부재(121)에 연결될 수 있다. 제2 기체 이송 부재(225)는 기체 공급 부재(121)의 기체를 제2 기체 분사 부재(224)로 공급한다. Meanwhile, the second gas distributing member 224 may be connected to the gas supply member 121 . To this end, the second gas distributing member 224 may be connected to the gas supply member 121 by the second gas conveying member 225 . The second gas transfer member 225 supplies the gas of the gas supply member 121 to the second gas ejection member 224 .

이와 같은 제2 기체 분사 부재(224)는 약액의 수면에 직접 기체를 유입시켜 기포가 발생되지 않도록 할 수 있을 뿐만 아니라, 약액 내부에 유동을 보다 원활히 발생시킬 수 있다. 즉, 본 발명의 제2 실시예에 따른 약액 저장 장치(200)는 전술한 실시예에 따른 약액 저장 장치(100, 도 1 참조)보다 약액의 침전을 더욱 효과적으로 방지할 수 있다.Such a second gas ejection member 224 may not only prevent bubbles from being generated by directly introducing gas into the water surface of the chemical solution, but also may more smoothly generate a flow inside the chemical solution. That is, the chemical solution storage device 200 according to the second embodiment of the present invention can more effectively prevent the chemical solution from precipitation than the chemical solution storage device 100 (refer to FIG. 1 ) according to the above-described embodiment.

도 6을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 약액 저장 장치(300)는 압력 조절 유닛(330)을 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 6 , the chemical storage device 300 according to the third embodiment of the present invention may further include a pressure control unit 330 .

압력 조절 유닛(330)은 저장 부재(110)의 내부의 압력이 증가되는 것을 방지할 수 있다. 이를 위한 압력 조절 유닛(330)은 배출 부재(331)와 기포 제거 부재(332)를 포함할 수 있다. The pressure adjusting unit 330 may prevent the internal pressure of the storage member 110 from being increased. For this purpose, the pressure control unit 330 may include a discharge member 331 and a bubble removal member 332 .

배출 부재(331)는 파이프 형상일 수 있고, 저장 부재(110)의 상측을 관통할 수 있다. 그리고, 배출 부재(331)는 저장 부재(110)의 내부에 상하방향으로 설치될 수 있다. 이를 위한 배출 부재(331)는 약액에 침전되도록 위치시키는 것이 바람직하다. 이는 배출 부재(331)가 약액을 외부로 배출시키게 하기 위함일 수 있다. The discharge member 331 may have a pipe shape and may pass through the upper side of the storage member 110 . In addition, the discharge member 331 may be installed in the interior of the storage member 110 in the vertical direction. For this purpose, the discharge member 331 is preferably positioned so as to be precipitated in the chemical solution. This may be for the discharge member 331 to discharge the chemical to the outside.

기포 제거 부재(332)는 배출 부재(331)에 결합되고, 저장 부재(110)의 외부에 위치될 수 있다. 기포 제거 부재(332)는 배출 부재(331)를 통하여 배출되는 약액에 포함된 기포를 제거할 수 있다.The bubble removing member 332 may be coupled to the discharge member 331 and located outside the storage member 110 . The bubble removing member 332 may remove bubbles included in the chemical discharged through the discharging member 331 .

이와 같은 압력 조절 유닛(330)은 약액에 포함된 기포를 제거하여 침전 방지 유닛(120)에 의하여 분사되는 기체에 의해 저장 부재(110) 내부의 압력이 증가되는 것을 방지함으로써, 저장 부재(110) 내부의 압력을 일정하게 유지시킬 수 있다. 또한, 압력 조절 유닛(330)은 약액 내부에 발생된 기포를 제거해 주는 역할도 할 수 있다. Such a pressure control unit 330 removes bubbles contained in the chemical solution and prevents the pressure inside the storage member 110 from increasing by the gas injected by the precipitation prevention unit 120, thereby preventing the storage member 110 from increasing. The internal pressure can be kept constant. In addition, the pressure control unit 330 may also serve to remove bubbles generated inside the chemical solution.

도 7을 참조하면, 본 발명의 제4 실시예에 따른 약액 저장 장치(400)는 전술한 제2 기체 분사 부재(224)와 압력 조절 유닛(330)을 포함할 수 있다. 이때, 나선형의 제2 기체 분사 부재(224)는 압력 조절 유닛(330)의 배출 부재(331)를 감싸도록 설치될 수 있다. 이로 인해 나선형의 제2 기체 분사 부재(224)의 기계적인 안정성을 향상시킬 수 있다. 즉, 고압으로 기체를 분사할 경우 나선형 튜브 형태의 제2 기체 분사 부재(224)에 흔들림이 발생하여 기체가 분사되는 방향이 일정하지 않을 수 있는데, 제2 기체 분사 부재(224)가 압력 조절 유닛(330)의 배출 부재(331)를 감싸도록 설치함으로써 배출 부재(331)가 지지대 역할을 하도록 할 수 있다.Referring to FIG. 7 , the chemical storage device 400 according to the fourth embodiment of the present invention may include the above-described second gas ejection member 224 and the pressure control unit 330 . In this case, the spiral second gas discharging member 224 may be installed to surround the discharge member 331 of the pressure adjusting unit 330 . Due to this, the mechanical stability of the spiral second gas ejection member 224 may be improved. That is, when the gas is sprayed at high pressure, the direction in which the gas is sprayed may not be constant because shaking occurs in the second gas injection member 224 in the form of a spiral tube. By installing so as to surround the discharge member 331 of the 330, the discharge member 331 may serve as a support.

이와 같은 본 발명의 제4 실시예에 따른 약액 저장 장치(400)는 기체 분사 부재(224)와 압력 조절 유닛(330)를 모두 포함함으로써, 약액의 유동을 증가시킬 수도 있고, 저장 부재(110) 내부의 압력이 증가되는 것을 방지할 수도 있다. As described above, the chemical liquid storage device 400 according to the fourth embodiment of the present invention includes both the gas ejection member 224 and the pressure control unit 330 , thereby increasing the flow of the chemical liquid, and the storage member 110 . It is also possible to prevent the internal pressure from increasing.

이상에서 본 발명의 여러 실시예에 대하여 설명하였으나, 지금까지 참조한 도면과 기재된 발명의 상세한 설명은 단지 본 발명의 예시적인 것으로서, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다.Although various embodiments of the present invention have been described above, the drawings and the detailed description of the described invention referenced so far are merely exemplary of the present invention, which are only used for the purpose of describing the present invention and are not intended to limit meaning or claim claims. It is not intended to limit the scope of the invention described in the scope.

그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.Therefore, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Accordingly, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

100, 200, 300, 400: 약액 저장 장치
110: 저장 부재
120: 침전 방지 유닛
121: 기체 공급 부재
122: 제1 기체 분사 부재
123: 제1 기체 이송 부재
224: 제2 기체 분사 부재
225: 제2 기체 이송 부재
330: 압력 조절 유닛
331: 배출 부재
332: 기포 제거 부재
100, 200, 300, 400: chemical storage device
110: storage member
120: sedimentation prevention unit
121: gas supply member
122: first gas injection member
123: first gas transfer member
224: second gas injection member
225: second gas transfer member
330: pressure regulating unit
331: discharge member
332: bubble removal member

Claims (9)

약액이 저장되는 저장 부재; 및
상기 저장 부재에 결합되고, 상기 약액의 수면보다 높은 높이에서 약액을 향하여 기체를 분사하는 침전 방지 유닛;
을 포함하고,
상기 침전 방지 유닛은,
상기 저장 부재의 외부에 위치되고, 기체를 공급하는 기체 공급 부재;
상기 저장 부재를 관통하도록 설치되고, 상기 기체 공급 부재에서 공급된 기체를 저장 부재 내부를 향하여 분사하는 하나 이상의 제1 기체 분사 부재;
상기 기체 공급 부재와 상기 제1 기체 분사 부재를 연결하고, 상기 기체 공급 부재의 기체를 제1 기체 분사 부재로 공급하는 기체 이송 부재; 및
상기 저장 부재의 내부에 위치되고, 상기 약액을 향하여 기체를 분사하는 제2 기체 분사 부재를 포함하고,
상기 제2 기체 분사 부재는 높이 조절이 가능하도록 형성된 약액 저장 장치.
a storage member for storing the chemical; and
a precipitation prevention unit coupled to the storage member and spraying a gas toward the chemical at a height higher than the water level of the chemical;
including,
The settling prevention unit,
a gas supply member positioned outside the storage member and supplying a gas;
one or more first gas ejection members installed to pass through the storage member and configured to inject the gas supplied from the gas supply member toward the interior of the storage member;
a gas transfer member connecting the gas supply member and the first gas ejection member and supplying the gas of the gas supply member to the first gas ejection member; and
It is located inside the storage member and includes a second gas ejecting member for ejecting gas toward the chemical,
The second gas injection member is a chemical storage device formed to be adjustable in height.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 저장 부재는 원통 형상이고,
상기 제1 기체 분사 부재는, 분사된 기체가 상기 저장 부재의 내벽면을 따라서 이동되어 상기 약액의 표면에 소용돌이를 발생시키도록 상기 저장 부재의 내벽면의 가상의 접선 방향으로 기체를 분사하는 약액 저장 장치.
According to claim 1,
The storage member has a cylindrical shape,
The first gas ejection member is a chemical liquid storage for injecting gas in an imaginary tangential direction of the inner wall surface of the storage member so that the injected gas is moved along the inner wall surface of the storage member to generate a vortex on the surface of the chemical liquid Device.
제1항에 있어서,
상기 기체 공급 부재에서 공급되는 기체는 질소 또는 CDA(clean dry air)인 약액 저장 장치.
According to claim 1,
The gas supplied from the gas supply member is nitrogen or CDA (clean dry air) of a chemical storage device.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제2 기체 분사 부재는 나선형 튜브인 약액 저장 장치.
According to claim 1,
wherein the second gas ejection member is a spiral tube.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 저장 부재에 내부에 위치하고, 상기 저장 부재의 내부의 압력이 증가되는 것을 방지하는 압력 조절 유닛을 더 포함하는 약액 저장 장치.
According to claim 1,
The chemical storage device further comprising a pressure regulating unit located inside the storage member and preventing an internal pressure of the storage member from increasing.
제1항에 따른 약액 저장 장치; 및
상기 약액 저장 장치로부터 약액을 공급받아서 대상물로 약액을 토출하는 약액 토출 장치;
를 포함하는 약액 토출 시스템.
The chemical storage device according to claim 1; and
a chemical solution discharging device receiving the chemical solution from the chemical solution storage device and discharging the chemical solution to the object;
A chemical liquid dispensing system comprising a.
KR1020190137482A 2019-10-31 2019-10-31 Chemical solution apparatus and chemical ejeting system KR102292371B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190137482A KR102292371B1 (en) 2019-10-31 2019-10-31 Chemical solution apparatus and chemical ejeting system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190137482A KR102292371B1 (en) 2019-10-31 2019-10-31 Chemical solution apparatus and chemical ejeting system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210052765A KR20210052765A (en) 2021-05-11
KR102292371B1 true KR102292371B1 (en) 2021-08-23

Family

ID=75914771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190137482A KR102292371B1 (en) 2019-10-31 2019-10-31 Chemical solution apparatus and chemical ejeting system

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102292371B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005268631A (en) * 2004-03-19 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd Laminated piezoelectric element, manufacturing method thereof, and ink jet recording head using same piezoelectric element
JP2006202795A (en) 2005-01-18 2006-08-03 Tokyo Electron Ltd Processing equipment and method
JP2008071864A (en) * 2006-09-13 2008-03-27 Renesas Technology Corp Method and device for manufacturing semiconductor device
JP2008168584A (en) 2007-01-15 2008-07-24 Fujifilm Corp Liquid ejector, image formation device and liquid discharge method

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050078427A (en) 2004-01-29 2005-08-05 엘지전자 주식회사 Ink circulation apparatus for ink jet printer and ink circulation method
KR20090048101A (en) * 2007-11-09 2009-05-13 세메스 주식회사 Chemical supply apparatus
KR20130070037A (en) * 2011-12-19 2013-06-27 (주)아인스 Canister for producing semiconductor

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005268631A (en) * 2004-03-19 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd Laminated piezoelectric element, manufacturing method thereof, and ink jet recording head using same piezoelectric element
JP2006202795A (en) 2005-01-18 2006-08-03 Tokyo Electron Ltd Processing equipment and method
JP2008071864A (en) * 2006-09-13 2008-03-27 Renesas Technology Corp Method and device for manufacturing semiconductor device
JP2008168584A (en) 2007-01-15 2008-07-24 Fujifilm Corp Liquid ejector, image formation device and liquid discharge method

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210052765A (en) 2021-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102057468B (en) Method for cleaning substrate and substrate cleaning apparatus
WO2011046151A1 (en) Liquid circulation system and inkjet printer
KR102292371B1 (en) Chemical solution apparatus and chemical ejeting system
JP4442911B2 (en) Substrate processing equipment
JP4357943B2 (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
KR101968139B1 (en) Discharging head cleanig method
CN1810389B (en) Device and method processing substrate
JP5053115B2 (en) Substrate processing apparatus and processing method
CN104051301A (en) Substrate processing appartus and standby method for ejection head
JP5130127B2 (en) Substrate processing apparatus and processing method
KR102501734B1 (en) Inkjet printing apparatus
JP2011126219A (en) Liquid spray device
KR19990023551A (en) Substrate Processing Equipment
JP2010212519A (en) Substrate cleaning device
KR102161798B1 (en) Substrate treating apparatus
KR20160006355A (en) Predischarging unit, Apparatus and Method for treating substrate with the unit
KR102217468B1 (en) Apparatus for dispensing droplet
JP2023120490A (en) Printing device and nozzle moisture retaining method
KR20150141457A (en) Head cleaning unit and substrate treating apparatus including the same
KR102232661B1 (en) Apparatus for treating substrate and method for cleaning head
KR102002449B1 (en) Fountain-type milk bubble removing device
KR101726832B1 (en) Chemical discharging unit and Apparatus for treating substrate with the unit
JP2023046650A (en) Printer and method for cleaning wiping member
JP2005166957A (en) Method and device for treating substrate
KR20170084814A (en) Apparatus and Method for treating residual chemical, and Inkjet Printer having the same

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant