KR102240149B1 - 금속 스트립을 코팅하는 방법 및 코팅 장치 - Google Patents
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- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 294
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 294
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 99
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims abstract description 10
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 14
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 10
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 7
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- IHQKEDIOMGYHEB-UHFFFAOYSA-M sodium dimethylarsinate Chemical class [Na+].C[As](C)([O-])=O IHQKEDIOMGYHEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C2/003—Apparatus
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C2/003—Apparatus
- C23C2/0034—Details related to elements immersed in bath
- C23C2/00342—Moving elements, e.g. pumps or mixers
- C23C2/00344—Means for moving substrates, e.g. immersed rollers or immersed bearings
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
- C23C2/16—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
- C23C2/18—Removing excess of molten coatings from elongated material
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/34—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
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Abstract
본 발명은 코팅 장치를 이용하여 금속 스트립을 코팅하는 방법에 관한 것이다. 상기 코팅 장치 내에서, 상기 금속 스트립은 맨 먼저 액체 코팅제를 가진 코팅 컨테이너를 통과하고 그 다음에 상기 금속 스트립의 표면으로부터 과도한 코팅제를 제거하는 스트리핑 노즐 장치를 통과한다. 스트리핑 노즐 장치를 통과한 후, 상기 금속 스트립은 통상적으로 상기 금속 스트립의 양쪽 넓은 측면에 복수의 자석을 가진 스트립 안정화 장치를 통과한다. 형상 조절 편차가 상기 금속 스트립의 결정된 실제 형상과 상기 금속 스트립의 지정된 원하는 형상 사이의 차이로서 결정되고 이 형상 조절 편차는 상기 금속 스트립의 실제 형상을 원하는 형상으로 변형시키기 위해서 상기 스트립 안정화 장치의 자석을 활성화시키는데 사용된다. 상기 형상 조절 편차에 기초하여 상기 금속 스트립에 모멘트, 특히, 굽힘 모멘트를 발생시키는 대안적인 가능성으로서, 상기 스트립 안정화 장치(130)의 자석이 상기 금속 스트립의 각각의 반대쪽 넓은 측면에 배치된 자석에 대하여 가로지르는 위치로 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로 이동된다.
Description
본 발명은 코팅 장치를 이용하여 금속 스트립을 코팅하는 방법에 관한 것이다. 상기 코팅 장치 내에서, 상기 금속 스트립은 처음에 액체 코팅 매체, 예를 들어, 아연을 가진 코팅 컨테이너를 통과하고, 그 다음에 상기 금속 스트립의 표면으로부터 과도한 아연을 제거하는 스트리핑 노즐 장치를 통과한다. 스트리핑 노즐 장치를 통과한 후, 상기 금속 스트립은 통상적으로 상기 금속 스트립의 2개의 넓은 측면에 복수의 자석을 가진 스트립 안정화 장치를 통과한다.
이러한 종류의 코팅 장치는, 예를 들면, WO2016/078803 A1으로부터 알려져 있다.
종래 기술의 용융 아연 도금 설비에서는, 아연 코팅 두께가 상기 금속 스트립의 길이에 걸쳐서 뿐만 아니라, 상기 금속 스트립의 폭에 걸쳐서 쉽게 변한다. 이런 경우에 코팅 레이어 두께는 10g/m2 까지 달라진다. 최소 레이어 두께가 보장되어야 하기 때문에, 평균 레이어 두께는 금속 스트립의 모든 구역이 한계값보다 위에 있도록 조절할 수 있어야 한다. 아연의 소비량을 줄이기 위해서, 변동 범위를 가능한 한 작게 유지시키기 위한 요청이 있다.
종래 기술의 용융 아연 도금 설비에서는, 아연 코팅 두께가 상기 금속 스트립의 길이에 걸쳐서 뿐만 아니라, 상기 금속 스트립의 폭에 걸쳐서 쉽게 변한다. 이런 경우에 코팅 레이어 두께는 10g/m2 까지 달라진다. 최소 레이어 두께가 보장되어야 하기 때문에, 평균 레이어 두께는 금속 스트립의 모든 구역이 한계값보다 위에 있도록 조절할 수 있어야 한다. 아연의 소비량을 줄이기 위해서, 변동 범위를 가능한 한 작게 유지시키기 위한 요청이 있다.
유럽 특허 명세서 EP 1 794 339 B1도 이러한 목적을 추구한다. 상기 금속 스트립 폭과 길이에 걸쳐서 균일한 아연 코팅을 얻기 위해서, 상기 유럽 특허 명세서는 바람직하게는 레이어 두께, 스트립 진동, 스트립 형상 그리고 스트립 위치결정의 균형잡힌 조절(co-ordinated regulation)을 제공한다. 스트립 안정화 장치라고도 하는, 진동 조절 장치는 상기 금속 스트립의 진동을 감쇠시킨다. 상기 진동 조절 장치는 자석 쌍들을 포함하고 있고, 상기 자석 쌍들은 바람직하게는 상기 금속 스트립 폭에 걸쳐서 쌍들로 배치되어 있으며 상기 금속 스트립을 위치시키는 세팅 요소(setting element)로서 사용된다. 각각의 자석 쌍은 바람직하게는 거리 측정용 센서와 발생하는 진동 형상에 따라서 상기 금속 스트립 폭에 걸쳐서 변화하는 힘이 상기 금속 스트립에 작용될 수 있도록 하는 조절기를 구비하고 있다. 또한, 상기 금속 스트립 형상 및 스트립 위치 조절기는 상기 금속 스트립 폭에 걸쳐서 상기 금속 스트립에 작용하는 평균 힘이 변화하도록 상기 금속 스트립의 느린 움직임을 감쇠시킨다. 이 경우에, 각각의 자석 쌍은 상기 조절기의 도움으로, 특히 전기적으로 각각 조절된다. 각각의 조절기는 조절기들 서로 간의 상호작용을 고려하는 중첩식 조절기(superimposed regulator)의 도움으로 공동 작용할 수 있게 된다. 바람직한 형태의 실시례에 있어서, 적어도 하나의 자석의 위치는 상기 금속 스트립으로부터의 자석의 간격이 변경될 수 있도록 변할 수 있다. 상기 금속 스트립으로부터 자석의 거리가 짧을수록, 상기 금속 스트립에 작용하는 원하는 힘을 가하기 위해서 요구되는 전류나 전기 에너지는 점점 더 작아진다. 코팅 처리의 개시시에, 금속 스트립의 진폭이 여전히 비교적 크면, 금속 스트립의 진동의 진폭이 보다 작은 코팅 방법의 정상 상태(steady state)에서보다 더 큰 금속 스트립으로부터의 자석의 간격이 요구된다.
상기 유럽 특허 명세서로부터 알려진 자석들이 나란히 놓인 배치형태의 경우에는 원칙적으로 순수한 장력만 상기 금속 스트립에 가해진다. 이러한 순수한 장력을 통하여 상기 금속 스트립 위치의 편차, 다시 말해서, 상기 금속 스트립을 가로지르는 양 방향에 있어서의 상기 금속 스트립의 실제 위치의 변화를 처리할 수 있다. 상기한 바와 같이, 금속 스트립의 움직임과 상기 금속 스트립의 실제 위치는 이런 식으로 충분히 영향을 받을 수 있다.
하지만, 예를 들어, U자 형상, S자 형상 또는 W자 형상과 같은 스트립 곡률에 대한 보상을 제공하기 위해서, 모멘트가 상기 스트립에 작용되어야 한다. EP 1 794 339 B1에 따르면, 이것은 상위의 공동작용식 조절기(superordinate co-ordinated regulator)도 각각의 자석과 관련된 각각의 하위의 조절 회로(subordinate regulating circuit)들 사이의 결합을 고려하는 식으로 발생한다. 다시 말해서, 이런 식으로 인접한 코일들 또는 코일 쌍들 사이의 힘 효과가 고려될 수 있다. 힘과 간격은 모멘트를 발생시키고, 그 결과 바람직하게는 스트립의 임의의 곡률에 대응하는, 물결 형상의 스트립에서의 반작용 만곡(counter bending)이 발생될 수 있다.
본 발명은 스트립을 코팅하는 알려진 방법 및 코팅 장치에 있어서 상기 스트립에 모멘트를 발생시키는 대안적인 가능성을 제공하는 목적을 가지고 있다.
이 목적은 청구항 1에 한정된 방법에 의해서 달성된다. 이 방법은 상기 스트립 안정화 장치의 자석의 제어가, 상기 복수의 자석 중의 적어도 하나가 형상 조절 차이(shape regulation difference)에 따라 금속 스트립의 반대쪽 넓은 측면에 있는 상기 복수의 자석 중의 적어도 하나에 대하여 금속 스트립의 폭 방향으로 오프셋되고 상기 금속 스트립의 실제 형상의 오목부와 적어도 대략적으로 마주 보는 이동된 위치로 변위되도록 수행되는 것을 특징으로 한다.
이와 같이, 본 발명에 따르면, 금속 스트립의 두 개의 넓은 측면에서 반대쪽에 있는 각각의 자석에 대하여, 종래 기술로부터 알려져 있는 쌍별 배치(pairwise arrangement)가 배제되고 (이전의) 자석 쌍의 각각의 자석이 상기 금속 스트립의 폭 방향으로 서로에 대해서 오프셋되도록 배치되어 있다. 자석들이 쌍을 이루어 나란히 배치된 경우에는 두 개의 자석의 반대방향의 힘이 일직선으로 작용하므로 어떠한 토크도 발생시키지 않는 반면에, 본 발명에 따라 (이전의) 자석 쌍의 각각의 코일이 폭 방향으로 오프셋되어 있으면 반대 방향으로 작용하는 힘들 간의 차이를 발생시키고, 이것에 의해 상기 금속 스트립에 원하는 모멘트가 발생된다. 이런 식으로, 상기 반작용 만곡(counter bending)이 발생되고 이에 따라 물결 형상의 금속 스트립이 반듯하게 펴져서 평평한 금속 스트립으로 변환될 수 있다.
본 발명에 따르면, 복수의 자석 중의 적어도 몇 개가 금속 스트립의 실제 형상의 오목부와 적어도 대략적으로 마주 보도록 금속 스트립의 폭 방향으로 이동된다. 이러한 배치형태에서는, 반대 방향의 장력이 서로에 대해 일정 간격을 두고 금속 스트립에 작용하므로 상기 금속 스트립에 있어서의 곡률 또는 물결 형상을 제거하는 원하는 굽힘 모멘트를 발생시킨다.
본 명세서에서 "스트립"이라는 표현과 "금속 스트립"이라는 표현은 같은 뜻으로 사용된다. 본 명세서에서 "폭 방향으로 변위된다"는 표현은, 금속 스트립의 폭 방향의 성분을 가지고 있는 이동이기만 하면 공간에서의 자석의 모든 원하는 이동을 포함한다.
본 명세서에서 "스트립"이라는 표현과 "금속 스트립"이라는 표현은 같은 뜻으로 사용된다. 본 명세서에서 "폭 방향으로 변위된다"는 표현은, 금속 스트립의 폭 방향의 성분을 가지고 있는 이동이기만 하면 공간에서의 자석의 모든 원하는 이동을 포함한다.
본 명세서에서 "하류"라는 표현은 금속 스트립의 운반 방향으로의 이동을 의미한다. 반대로, "상류"라는 표현은 금속 스트립의 운반 방향의 반대 방향으로의 이동을 의미한다.
제1 실시례에 따르면, 상기 실제 형상 외에, 스트리핑 노즐 장치 내에서 금속 스트립의 실제 위치도 결정될 수 있고, 상기 형상 조절 차이 외에, 스트리핑 노즐 장치 구역에서의 금속 스트립의 실제 위치와 금속 스트립의 예정된 목표 위치 사이의 차이로 위치 조절 차이가 결정될 수도 있고, 그리고 금속 스트립의 반대쪽 넓은 측면에 있는 자석에 대한 상기 적어도 하나의 자석의 금속 스트립의 폭 방향으로의 변위가 상기 위치 조절 차이에 따라 상기 금속 스트립이 자신의 실제 위치로부터 예정된 목표 위치로 이동되도록 수행될 수도 있다.
다른 실시례에 따르면, 폭 방향으로 보았을 때 하나의 자석 쌍 또는 복수의 자석 쌍이 스트립 안정화 장치의 슬롯의 중심 또는 금속 스트립의 중심에 대하여 고정된 위치에 대칭적으로 배치되어 있고, 각각의 자석 쌍의 두 개의 자석은 서로 대향하여 금속 스트립의 두 개의 넓은 측면에 배치되어 있다. 한 개의 고정된 자석 쌍만 제공되는 경우, "대칭적"이라는 표현은 상기 자석 쌍이 상기 중심에 배치되어 있는 것을 의미한다. 상기 고정된 자석 쌍이 기준 위치를 형성하거나 고정된 자석 쌍들이 기준 위치를 한정한다. 본 발명에 따르면, 고정된 자석 쌍에 인접해 있는 자석들 중의 적어도 몇 개는 적어도 하나의 고정된 자석 쌍에 대하여 금속 스트립의 폭 방향으로 변위될 수 있거나 이동될 수 있다.
따라서, 특히, 자석 쌍을 형성하는 두 개의 다른 자석이, 금속 스트립의 왼쪽 가장자리 또는 오른쪽 가장자리 구역에서, 금속 스트립의 상기 가장자리로부터 더 큰 간격을 가지는 상기 자석 쌍의 자석이 그 중심이 상기 가장자리의 레벨에 있는 상태에서 변위되어 있고 금속 스트립의 상기 가장자리로부터 더 작은 간격을 가지는 상기 자석 쌍의 자석이 폭 방향으로 보았을 때 - 금속 스트립의 상기 가장자리로부터 더 큰 간격을 가지는 자석에 대하여 - 금속 스트립의 중심쪽으로 약간의 거리만큼 - 오프셋되게 배치되도록 변위될 수 있다. 이 방법은 금속 스트립의 왼쪽 가장자리에 뿐만아니라 금속 스트립의 오른쪽 가장자리에도 권장된다. 또한, 상기 방법의 경우에는, 자석 쌍의 두 개의 자석이 폭 방향으로 서로에 대해 오프셋되어 있으므로 자석 쌍의 두 개의 자석이 나란히 배치되지 않는다. 상기한 바와 같이, 상기 방법은 특히 금속 스트립의 가장자리 구역에 대해 권장되는데, 그 이유는 종래의 반대 위치에 배치된 자석 쌍의 자석들에 의해 또는 인접한 자석 쌍들 사이의 힘 작용에 의해, 종종 크게 변하는 곳에서, 금속 스트립의 곡률에 대한 충분한 보상을 종종 제공할 수 없기 때문이다. 본 발명에 따라 자석 쌍의 각각의 자석이 서로에 대해 폭 방향으로 오프셋되는 것이 이러한 특수한 경우의 사용에 훨씬 더 효과적이다.
본 명세서에서 "오목부(trough)"라는 표현은, 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석의 간격 사이의 차이가 - 각각의 경우에 금속 스트립의 동일 위치를 가정함 - 특히 최대 상태에서, 영보다 큰 상황을 나타낸다. 이것은 오목부가 있는 경우의 자석과 금속 스트립 사이의 간격이 금속 스트립이 자신의 목표 형상을 가지는 경우의 자석과 금속 스트립 사이의 간격보다 더 큰 것을 의미한다. 상기 오목부는 자석에 의해 또는 적어도 두 개의 자석에 의해서 금속 스트립에 가해지는 굽힘 모멘트에 의해 작용된 장력에 의해 편평하게 펴질 수 있다.
자석에 의해서 장력뿐만 아니라, 누르는 힘도 금속 스트립에 가해질 수 있다는 것을 알아야 한다.
금속 스트립의 실제 형상이 대칭적인 물결 형상인 경우에 상기 금속 스트립의 중심에 대하여 폭 방향으로 대칭적으로 자석이 이동되는 것이 바람직하다.
폭 방향으로의 자석의 변위가 이용가능한 자석의 갯수에 따라 수행될 수 있다. 이용가능한 자석의 갯수가 보다 많은 경우에는 금속 스트립에 작용하는 힘의 보다 정교한 분해(finer resolution)가 가능하고, 이것에 의해 상기 물결 형상에 대한 보상이 보다 정밀하게 제공될 수 있다.
폭 방향으로의 자석의 변위가 각각의 자석에 의해서 발생될 수 있는 금속 스트립에 작용하는 힘에 따라 수행될 수도 있다. 이것은 금속 스트립에 발생된 모멘트가 힘과 간격의 곱(product)이라는 사실을 기초 지식으로 하여 이용할 수 있다. 이러한 기초 지식을 바탕으로, 발생된 힘 또는 자석들의 서로로부터의 간격 또는 발생된 힘과 자석들의 서로로부터의 간격의 선택가능한 적절한 조절에 의해서 특정의 원하는 크기의 모멘트가 발생될 수 있다.
코일은 공급된 전류에 따라 금속 스트립에 작용하는 힘의 가변적인 조절을 가능하게 하기 때문에, 상기 자석은 바람직하게는 전자기 코일의 형태로 구성되어 있다. 본 발명에 따라 청구되어 있는, 금속 스트립의 폭 방향으로의 각각의 자석의 적절한 변위에 의해 금속 스트립의 위치와 형상에 영향을 미치는 것 외에, 코일에 대한 적절한 작용에 의해 또는 코일에 적절한 전류를 공급하는 것에 의해 자석의 위치와 형상에 영향을 미치는 것이 추가적으로 수행될 수도 있다. 구체적으로는, 본 발명에 따르면, 상기 코일 중의 적어도 하나가, 전류 전도 코일로 인해 금속 스트립에 작용하는 힘에 의해서 금속 스트립이 스트리핑 노즐 장치의 중심에 있는 자신의 목표 위치로 이동되어 거기에서 안정화되고, 및/또는 금속 스트립의 실제 형상이 가능한 한 가장 목표 형상에 맞게 되도록 하는 전류를 공급받는다.
본 발명에 따르면, 금속 스트립의 폭 방향으로의 각각의 자석의 변위와 코일에 대한 적절한 전류의 선택에 대한 상기한 가능성 외에도, 교정 롤러(correction roller)의 위치결정과 조정 또한 스트리핑 노즐 장치에서의 금속 스트립의 형상과 위치에 영향을 미치는 다른 가능성을 제공한다. 구체적으로는, 본 발명에 따르면 스트립 안정화 장치가 자신의 동작 한계 내에서만 작동되도록 상기 교정 롤러가 스트리핑 노즐 장치의 상류에 위치되어 조정되는 것이 청구되어 있다. 다시 말해서, 교정 롤러의 적절한 위치결정과 조정을 통하여, 교정을 달성하기 위해 상기 스트립 안정화 장치의 자석이 자신의 동작 한계를 벗어난 전류로 작동될 필요가 없도록 금속 스트립의 형상 및/또는 위치에 대한 교정의 필요성이 작게 되도록 스트리핑 노즐 장치의 슬롯에서의 금속 스트립의 위치 및/또는 형상을 미리 조정하는 가능성이 있다. 또한, 실제 형상을 목표 형상으로 조정하기 위한 교정에 대한 남은 필요성 및/또는 금속 스트립의 실제 형상을 자신의 목표 형상으로 조정하는 것에 대한 남은 필요성이 본 발명에 따르면 폭 방향으로의 각각의 자석의 적절한 변위에 위해서 뿐만아니라 상기 자석들에 각각 적절한 전류를 공급하는 것에 의해서 수행된다.
상기 문단에 기재되어 있는 것과 같이, 상기 교정 롤러는 자석이 이동하기 전에도, 그리고 코팅 프로세스가 진행중인 동안에도 적절하게 이동될 수 있다. 또한, 상기 교정 롤러는 단지 금속 스트립의 위치와 형상을 미리 조정하기 위해서만 위치되고 조정될 수 있는 것은 아니다. 오히려, 상기 교정 롤러는 스트립 안정화 장치에서 금속 스트립에 작용하는 힘이 예정된 한계값을 초과하는 경우에 상기 힘이 다시 목표 범위 내에 들어가도록 자동적으로 위치되고 조정될 수도 있다. 이것은 특히 제품 변경의 경우에, 다시 말해서, 다른 두께를 가진 스트립으로 또는 다른 항복 강도를 가진 다른 물질로의 변경의 경우에 필요하다. 또한, 상기 교정 롤러는 일방적인(unilateral) 또는 변화없는(monotonic) 힘의 도입을 보장하기 위해서 자석에 한정된 작용 방향의 힘을 부여하도록 자동적으로 이동될 수 있다.
마지막으로, 본 발명에 따르면, 폭 방향으로 자석의 이동된 위치, 코일에 작용하는 전류 및/또는 교정 롤러(140)의 위치와 조정이 데이터 뱅크에 저장된다. 이 경우에, 상기 저장은, 바람직하게는 금속 스트립의 강 종류(steel category), 금속 스트립의 항복 강도, 금속 스트립의 두께, 금속 스트립의 폭, 코팅 장치를 통과하는 동안의 금속 스트립의 온도에 따라 및/또는 금속 스트립이 통과하는 동안의 코팅 컨테이너 내의 코팅 매체의 온도에 따라 분류되어 수행된다. 이러한 데이터의 저장을 통하여, 특히 코팅될 새로운 스트립의 폭 방향으로의 자석의 이동된 위치를 통하여, 장래의 코팅 프로세스의 경우에 보다 양호한 시작값이 결정될 수 있다.
상기 목적은 또한 청구항 20 내지 청구항 24에 따른 코팅 장치에 의해 달성된다. 이 코팅 장치의 장점은 본 발명에 따른 방법에 관하여 상기한 장점과 일치한다.
본 발명에 따른 방법의 다른 바람직한 실시례는 종속항에 기재되어 있다.
네 개의 도면에 설명이 수반되어 있다:
도 1은 코팅 장치를 나타내고 있고;
도 2는 상기 스트립의 알려진 실제 형상과 알려진 목표 형상을 나타내고 있고;
도 3은 상기 스트립의 알려진 실제 위치와 목표 위치를 나타내고 있고; 그리고
도 4는 상기 스트립의 폭 방향에 있어서의 본 발명에 따른 자석의 움직임을 나타내고 있다.
도 1은 코팅 장치를 나타내고 있고;
도 2는 상기 스트립의 알려진 실제 형상과 알려진 목표 형상을 나타내고 있고;
도 3은 상기 스트립의 알려진 실제 위치와 목표 위치를 나타내고 있고; 그리고
도 4는 상기 스트립의 폭 방향에 있어서의 본 발명에 따른 자석의 움직임을 나타내고 있다.
본 발명에 따른 코팅 장치와 본 발명에 따른 방법이 상기한 도면과 관련하여 실시례의 형태로 아래에 상세하게 설명되어 있다. 모든 도면에서 동일한 기술적 요소는 동일한 참고 번호로 표시되어 있다.
도 1은 금속 스트립(200)을 코팅하는 코팅 장치(100)를 나타내고 있다. 코팅 장치(100)는 액체 코팅 매체(112), 예를 들어, 아연으로 채워진 코팅 컨테이너(110)를 포함하고 있다. 금속 스트립(200)는 코팅 컨테이너 속에 담궈지고 액체 코팅 매체가 담겨 있는 코팅 컨테이너 내에서 포트 롤러(pot roller)(150)의 도움으로 방향이 바뀐다. 그 다음에 금속 스트립(200)은 교정 롤러(140)를 지나도록 안내되고 그 다음에 스트리핑 노즐 장치(120)의 슬롯을 통과하고 그 다음에 스트립 안정화 장치(130)의 슬롯을 통과한다. 스트리핑 노즐 장치(120) 내에서 상기 스트립은 과도한 액체 코팅 매체를 제거하기 위해서 바람직하게는 양 측면에서 공기 흐름의 작용을 받는다.
상기 스트립 안정화 장치(130)는 상기 스트립 또는 스트립 안정화 장치의 두 개의 넓은 측면에 배치된 복수의 자석(132)으로 이루어져 있다. 넓은 측면당 자석(132)의 갯수가 홀수, 예를 들어, 다섯 개 또는 일곱 개이다. 이들 복수의 자석(132)은 통상적으로 전자기 코일의 형태로 구성되어 있다. 코팅 장치(100)는 본 발명에 따라 자석(132)을 상기 금속 스트립의 폭 방향(R)으로 변위시키거나 이동시키고 각각의 자석에 공급된 전류(I)를 조절하기 위한 액추에이터(136)를 제어하는 제어 장치(160)를 추가적으로 포함하고 있다. 또한, 상기 제어 장치는 교정 롤러(140)를 배치시키고 조정하기 위한 액추에이터(146)를 제어하는 출력부를 가질 수 있다. 상기 자석에 대한 전류의 조절뿐만 아니라 상기 액추에이터(136, 146)의 제어는 바람직하게는 상기 금속 스트립의 폭 방향을 가로질러서 배치된 거리 센서의 측정 신호에 따라 이루어진다. 상기 거리 센서는 기준 위치에 대하여, 예를 들어, 상기 스트립 안정화 장치의 틈새 또는 슬롯에 대하여 폭 방향으로 상기 금속 스트립의 간격의 분포를 감지한다. 이런 식으로, 금속 스트립의 실제 형상 및/또는 실제 위치가 감지된다. 대체 실시형태로서, 상기 금속 스트립의 실제 형상을 감지하기 위한 별개의 형상 센서(170)와 상기 금속 스트립의 실제 위치를 감지하기 위한 별개의 위치 센서(180)가 제공될 수 있다.
스트리핑 노즐 장치(120) 내에서의 금속 스트립의 실제 위치 및/또는 실제 형상의 결정은 스트리핑 노즐 장치(120)와 스트립 안정화 장치(130)의 사이에서 또는 스트립 안정화 장치(130) 내에서 또는 스트립 안정화 장치(130)의 상류에서 상기 금속 스트립의 위치 및/또는 형상을 측정하고 이어서 각각 측정된 상기 금속 스트립의 위치 및/또는 형상으로부터 상기 스트리핑 노즐 장치 내에서의 상기 금속 스트립의 실제 위치 및/또는 실제 형상에 대한 최종적인 결론을 도출하는 것에 의해서 수행된다. 이 경우에, 상기 스트립 안정화 장치(130) 내에서의 상기 금속 스트립의 실제 위치 및/또는 실제 형상의 결정은 상기 금속 스트립의 폭에 걸쳐서 상기 스트립 안정화 장치의 자석으로부터 상기 금속 스트립의 간격을 측정하는 것에 의해서 수행된다.
도 2는 금속 스트립(200)의 가능한 원하지 않은 실제 형상에 대한 상이한 예들, 구체적으로는 U자 형상, S자 형상 그리고 W자 형상의 단면으로 기복이 있는 금속 스트립을 나타내고 있다. 이에 대하여, 도 2의 하부 부분에는 금속 스트립(200)의 원하는 목표 형상을 나타내고 있다. 금속 스트립(200)의 목표 형상이 금속 스트립의 직사각형 단면 또는 평편도(planarity)를 나타낸다. 따라서, 금속 스트립의 목표 형상은 곧은 형태 또는 평면 형태이다.
도 3은 스트리핑 노즐 장치(120)의 슬롯(122)에서 금속 스트립(200)의 상이한 원하지 않은 실제 위치를 나타내고 있다. 상이한 실제 위치는 파선으로 표시되어 있는 반면에, 목표 위치(SL)는 연속 실선으로 표시되어 있다. 구체적으로는, 상기 목표 위치는 금속 스트립(200)이 상기 슬롯(122)의 측면으로부터 일정한 간격을 가지고 있다는 사실에 의해서 구별된다. 이에 대하여, 목표 위치(SL)에 대한 제1 원하지 않은 실제 위치(I1)에서는 금속 스트립이 각도 α만큼 비틀리거나 회전될 수 있다. 금속 스트립의 제2 원하지 않은 실제 위치(I2)는 금속 스트립이 상기 슬롯의 넓은 측면으로부터 더 이상 동일한 간격을 가지지 않도록 금속 스트립이 목표 위치(SL)에 대하여 평행하게 변위되어 있는 것이다. 최종적으로, 금속 스트립의 통상적인 제3 원하지 않은 실제 위치는, 스트리핑 노즐 장치(120)의 슬롯(122)의 좁은 측면으로부터의 금속 스트립의 간격이 더 이상 동일하지 않도록 위치 I3에서는 금속 스트립이 목표 위치(SL)에 대해 길이 방향으로 변위되어 있는 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 방법을 나타내고 있다. 금속 스트립의 폭에 걸쳐서 스트리핑 노즐 장치(120) 내에서의 금속 스트립(200)의 실제 형상의 결정 후에, 예를 들어, 도 2의 상부에 도시된 유형의 실제 형상이 통상적으로 도 2의 하부에 도시된 상기 금속 스트립의 예정된 목표 형상과 비교된다. 형상에 있어서의 편차가 형상 조절 차이를 형성하고 상기 스트립 안정화 장치(130)의 자석(132)들은 상기 형상 조절 차이에 따라 상기 스트립의 실제 형상이 상기 스트립의 목표 형상으로 변환되도록 제어된다. 이 경우에, 본 발명에 따르면 상기 스트립 안정화 장치(130)의 자석(132)들 중의 적어도 몇 개가 상기 금속 스트립의 각각의 반대쪽 넓은 측면에 배치된 자석에 대하여 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로 이동된 위치로 변위된다. 이러한 이동된 위치가 도 4에 하나의 예로서 도시되어 있다.
상기 실제 형상 외에, 스트리핑 노즐 장치(120) 내에서의 금속 스트립(200)의 실제 위치도 결정될 수 있다. 이 실제 위치의 원하지 않은 표시는 도 3과 관련하여 위에 이미 제공되어 있다. 상기 형상 조절 차이 외에, 스트리핑 노즐 장치(120) 구역에서의 금속 스트립의 실제 위치와 예정된 목표 위치(SL) 사이의 차이로 위치 조절 차이도 유사하게 결정될 수 있다. 금속 스트립(200)의 반대쪽 넓은 측면에 있는 자석(132-B)에 대한 적어도 하나의 자석(132-A)의 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로의 변위가 상기 위치 조절 차이에 따라 상기 금속 스트립이 자신의 실제 위치로부터 예정된 목표 위치(SL)로 이동되도록 상응하게 수행될 수 있다.
일반적으로, 전류가 흐르는, 다시 말해서, 작동중인(active), 자석(132)들 중의 적어도 몇 개는, 단부 위치라고도 칭하는, 자신들의 이동된 위치에서, 상기 자석들이, 도 4에 도시되어 있는 바와 같이, 금속 스트립(200)의 실제 형상의 오목부(trough)와 적어도 대략적으로 마주 보도록 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로 이동되는 것은 가능하다. 이 방법의 장점은, 상이한 방향으로 작용하는 각각의 코일의 힘이 서로로부터 일정 간격을 두고 작용하고 그 결과, 특히, 횡방향 곡률 또는 원하지 않은 물결 형상에 대한 보상을 제공하기 위해서 금속 스트립(200)에 대한 토크 또는 굽힘 모멘트가 발생될 수 있다는 것이다. 코일의 상기 힘(F)에 의해 발생된 굽힘 모멘트는 참고 기호 M으로 도 4에 표시되어 있다.
도 4는 가능한 이동된 위치에 대한 특정 실시례를 나타내고 있다. 구체적으로는, 이 실시례에서 자석 쌍(132-3-A, 132-3-B)이 폭 방향(R)으로 보았을 때 금속 스트립(200)의 중심에 고정된 위치에 배치되어 있다. 이 자석 쌍의 두 개의 자석은 금속 스트립(200)의 두 개의 넓은 측면(A, B)에 서로 반대쪽에 있다. 이에 대하여, 나머지 코일 또는 자석은 각각의 자석(132-1, 132-2, 132-4, 132-5)이 정반대 쪽에 있는 자석 쌍들의 형태로 배치되어 있지 않다. 이들 나머지 자석은 상기 금속 스트립의 다른 측면에 있는 자석에 대하여 상기 금속 스트립의 폭 방향(R)으로 변위되거나 오프셋되도록 배치되어 있다.
구체적으로는, 두 개의 다른 자석(132-1-A, 132-1-B)이 왼쪽 자석 쌍을 형성하고, 상기 왼쪽 자석 쌍은, 상기 금속 스트립의 왼쪽 가장자리로부터 더 큰 간격(dl1)을 가지는 상기 왼쪽 자석 쌍의 자석(132-1-B)이 그 중심이 상기 왼쪽 가장자리의 레벨에 있는 상태에서 변위되어 있고 상기 금속 스트립의 왼쪽 가장자리로부터 더 작은 간격(dl2)을 가지는 상기 왼쪽 자석 쌍의 자석(132-1-A)이 상기 금속 스트립의 왼쪽 가장자리로부터 더 큰 간격(dl1)을 가지는 자석(132-1-B)에 대하여 - 고정된 자석 쌍(132-3-A, 132-3-B)쪽으로, 다시 말해서, 상기 금속 스트립의 중심쪽으로 약간의 거리로 - 변위되도록 배치되는 식으로, 금속 스트립(200)의 왼쪽 가장자리 구역에서 변위되어 있다. 왼쪽 코일 쌍의 두 개의 부분 코일(132-1-A, 132-1-B)의 오프셋된 배치형태를 통하여, 도 4에 표시된 토크가 반시계방향으로 금속 스트립(200)의 왼쪽 가장자리 구역에 작용되고, 이로 인해 그 장소에서 금속 스트립의 횡방향 곡률(transverse curvature)이 없어질 수 있다.
대체 실시형태로서 또는 추가적으로 오른쪽 자석 쌍(132-5-A, 132-5-B)이 제공될 수 있고, 상기 오른쪽 자석 쌍은, 금속 스트립(200)의 오른쪽 가장자리 구역에서 금속 스트립(200)의 오른쪽 가장자리로부터 더 큰 간격(dr1)을 가지는 상기 오른쪽 자석 쌍의 부분 자석(132-5-B)이 그 중심이 상기 오른쪽 가장자리의 레벨에 있는 상태에서 변위되어 있는 식으로 변위되어 있다. 또한, 상기 금속 스트립의 오른쪽 가장자리로부터 더 작은 간격(dr2)을 가지는 상기 오른쪽 자석 쌍의 부분 자석(132-5-A)이 상기 금속 스트립의 오른쪽 가장자리로부터 더 큰 간격을 가지는 자석에 대하여 - 금속 스트립(200)의 중심쪽으로 약간의 거리로 - 오프셋되어 있다. 이 경우에는, 도 4에서 상기 부분 코일에 의해서 발생되고 서로로부터 일정 간격을 두고 금속 스트립(200)에 작용하는 장력(F)이 금속 스트립(200)에 시계방향으로 굽힘 모멘트(M)를 발생시킨다. 그 결과, 물결 형상에 대한 보상이 제공될 수 있고, 이것은 도 4에서 오른쪽 가장자리에 추가적으로 도시되어 있다.
상기 오른쪽 자석 쌍, 왼쪽 자석 쌍 또는 중간 자석 쌍에 속하지 않는 나머지 자석(132-2-A, 132-2-B, 132-4-A, 132-4-B)은 바람직하게는, 도 4에 도시되어 있는 바와 같이, 각각 상기 금속 스트립의 실제 형상의 오목부와 적어도 대략적으로 마주 보도록 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로 이동되고, 이로 인해서 굽힘 모멘트의 발생에 의한 상기한 유리한 효과가 달성된다.
마찬가지로 도 4에서 볼 수 있는 것과 같이, 특히 상기 금속 스트립의 대칭적인 원하지 않은 실제 형상의 경우에, 폭 방향으로의 자석의 상기 변위가 발생되면, 도 4에 도시된 자석의 대칭적인 배치형태, 특히 고정된 자석 쌍(132-3-A, 132-3-B)에 대한 대칭적인 배치형태가 만들어진다.
100 코팅 장치
110 코팅 컨테이너
112 코팅 매체
120 스트리핑 노즐 장치
122 스트리핑 노즐 장치의 슬롯
130 스트립 안정화 장치
132 자석
136 액추에이터
140 교정 롤러
150 포트 롤러
160 제어 장치
170 형상 센서
180 위치 센서
200 금속 스트립
dl1 간격
dl2 간격
dr1 간격
dr2 간격
F 힘
I1 경사진 세팅
I2 평행한 변위
I3 오프셋
M 굽힘 모멘트
R 폭 방향
SL 목표 위치
α 각도
110 코팅 컨테이너
112 코팅 매체
120 스트리핑 노즐 장치
122 스트리핑 노즐 장치의 슬롯
130 스트립 안정화 장치
132 자석
136 액추에이터
140 교정 롤러
150 포트 롤러
160 제어 장치
170 형상 센서
180 위치 센서
200 금속 스트립
dl1 간격
dl2 간격
dr1 간격
dr2 간격
F 힘
I1 경사진 세팅
I2 평행한 변위
I3 오프셋
M 굽힘 모멘트
R 폭 방향
SL 목표 위치
α 각도
Claims (24)
- 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법으로서, 상기 코팅 장치(100) 내에서 금속 스트립(200)이 액체 코팅 매체(112)를 가진 코팅 컨테이너(110)를 통과하고, 그 다음에 스트리핑 노즐 장치(120)의 슬롯을 통과하고, 그 다음에 금속 스트립(200)의 두 개의 넓은 측면에 복수의 자석(132)을 가진 스트립 안정화 장치(130)의 슬롯을 통과하고,
금속 스트립(200)의 폭에 걸쳐서 스트리핑 노즐 장치(120) 내에서 금속 스트립(200)의 실제 형상을 결정하는 단계;
스트리핑 노즐 장치(120) 구역에서의 금속 스트립(200)의 실제 형상과 금속 스트립(200)의 예정된 목표 형상의 차이로 형상 조절 차이를 결정하는 단계; 그리고
금속 스트립(200)의 상기 실제 형상이 금속 스트립(200)의 상기 목표 형상으로 변환되도록 세팅 요소로서 상기 스트립 안정화 장치의 자석(132)을 제어하는 단계;
를 포함하는 상기 방법에 있어서,
상기 스트립 안정화 장치의 자석을 제어하는 단계가, 금속 스트립(200)의 하나의 넓은 측면에 있는 상기 복수의 자석 중의 적어도 하나(132-A)가 상기 형상 조절 차이에 따라 금속 스트립(200)의 반대쪽 넓은 측면에 있는 상기 복수의 자석 중의 적어도 하나(132-B)에 대하여 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로 오프셋되고 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-A)의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-A)의 간격 사이의 차이가 최대인 위치를 마주 보는 이동된 위치로 변위되도록 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항에 있어서,
상기 실제 형상 외에, 스트리핑 노즐 장치(120) 내에서 금속 스트립(200)의 실제 위치가 결정되고;
상기 형상 조절 차이 외에, 스트리핑 노즐 장치(120) 구역에서의 금속 스트립(200)의 실제 위치와 금속 스트립(200)의 예정된 목표 위치 사이의 차이로 위치 조절 차이가 결정되고; 그리고
금속 스트립(200)의 반대쪽 넓은 측면에 있는 자석(132-B)에 대한 금속 스트립(200)의 하나의 넓은 측면에 있는 상기 적어도 하나의 자석(132-A)의 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로의 변위가 상기 위치 조절 차이에 따라 상기 금속 스트립이 자신의 실제 위치로부터 예정된 목표 위치로 이동되도록 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
금속 스트립(200)의 폭 방향으로 보았을 때 하나의 자석 쌍 또는 복수의 자석 쌍(132-3-A; 132-3-B)이 스트립 안정화 장치(130)의 슬롯의 중심 또는 금속 스트립(200)의 중심에 대하여 고정된 위치에 대칭적으로 배치되어 있고, 각각의 자석 쌍의 두 개의 자석은 서로 대향하도록 금속 스트립(200)의 두 개의 넓은 측면(A, B)에 배치되어 있고; 그리고
적어도 하나의 고정된 자석 쌍에 인접해 있는 자석(132-1, 132-2, 132-4, 132-5) 중의 적어도 몇 개는 자신들의 이동된 위치에서 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-1-A, 132-2-A, 132-4-A, 132-5-A)의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-1-A, 132-2-A, 132-4-A, 132-5-A)의 간격 사이의 차이가 최대인 위치를 마주 보도록 상기 고정된 자석 쌍에 대하여 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로 변위되어 있는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
적어도 하나의 자석의 폭 방향(R)으로의 변위가 상기 금속 스트립의 중심에 대하여 대칭적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
두 개의 다른 자석(132-1-A; 132-1-B)이 왼쪽 자석 쌍을 형성하고, 상기 왼쪽 자석 쌍이, 상기 금속 스트립(200)의 왼쪽 가장자리로부터 더 큰 간격(dl1)을 가지는 상기 왼쪽 자석 쌍의 자석(132-1-B)이 그 중심이 상기 왼쪽 가장자리의 레벨에 있는 상태에서 변위되어 있고 상기 금속 스트립(200)의 왼쪽 가장자리로부터 더 작은 간격(dl2)을 가지는 상기 왼쪽 자석 쌍의 자석(132-1-A)이 금속 스트립(200)의 폭 방향으로 보았을 때 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-1-A)의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-1-A)의 간격 사이의 차이가 최대인 위치를 마주 보도록 상기 금속 스트립의 중심쪽으로 오프셋되게 배치되도록, 금속 스트립(200)의 왼쪽 가장자리 구역에서 변위되어 있거나; 또는
두 개의 다른 자석(132-5-A; 132-5-B)이 오른쪽 자석 쌍을 형성하고, 상기 오른쪽 자석 쌍이, 상기 금속 스트립(200)의 오른쪽 가장자리로부터 더 큰 간격(dr1)을 가지는 상기 오른쪽 자석 쌍의 자석(132-5-B)이 그 중심이 상기 오른쪽 가장자리의 레벨에 있는 상태에서 변위되어 있고 상기 금속 스트립(200)의 오른쪽 가장자리로부터 더 작은 간격(dr2)을 가지는 상기 오른쪽 자석 쌍의 자석(132-5-A)이 금속 스트립(200)의 폭 방향으로 보았을 때 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-5-A)의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-5-A)의 간격 사이의 차이가 최대인 위치를 마주 보도록 상기 금속 스트립의 중심쪽으로 오프셋되게 배치되도록, 금속 스트립(200)의 오른쪽 가장자리 구역에서 변위되어 있거나; 또는
두 개의 다른 자석(132-1-A; 132-1-B)이 왼쪽 자석 쌍을 형성하고, 상기 왼쪽 자석 쌍이, 상기 금속 스트립(200)의 왼쪽 가장자리로부터 더 큰 간격(dl1)을 가지는 상기 왼쪽 자석 쌍의 자석(132-1-B)이 그 중심이 상기 왼쪽 가장자리의 레벨에 있는 상태에서 변위되어 있고 상기 금속 스트립(200)의 왼쪽 가장자리로부터 더 작은 간격(dl2)을 가지는 상기 왼쪽 자석 쌍의 자석(132-1-A)이 금속 스트립(200)의 폭 방향으로 보았을 때 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-1-A)의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-1-A)의 간격 사이의 차이가 최대인 위치를 마주 보도록 상기 금속 스트립의 중심쪽으로 오프셋되게 배치되도록, 금속 스트립(200)의 왼쪽 가장자리 구역에서 변위되어 있고;
두 개의 다른 자석(132-5-A; 132-5-B)이 오른쪽 자석 쌍을 형성하고, 상기 오른쪽 자석 쌍이, 상기 금속 스트립(200)의 오른쪽 가장자리로부터 더 큰 간격(dr1)을 가지는 상기 오른쪽 자석 쌍의 자석(132-5-B)이 그 중심이 상기 오른쪽 가장자리의 레벨에 있는 상태에서 변위되어 있고 상기 금속 스트립(200)의 오른쪽 가장자리로부터 더 작은 간격(dr2)을 가지는 상기 오른쪽 자석 쌍의 자석(132-5-A)이 금속 스트립(200)의 폭 방향으로 보았을 때 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-5-A)의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-5-A)의 간격 사이의 차이가 최대인 위치를 마주 보도록 상기 금속 스트립의 중심쪽으로 오프셋되게 배치되도록, 금속 스트립(200)의 오른쪽 가장자리 구역에서 변위되어 있는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제5항에 있어서,
상기 오른쪽 자석 쌍, 왼쪽 자석 쌍 또는 중간 자석 쌍에 속하지 않는 나머지 자석(132-2-A, 132-2-B, 132-4-A, 132-4-B)은 각각 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-2-A, 132-4-A)의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-2-A, 132-4-A)의 간격 사이의 차이가 최대인 위치를 마주 보도록 금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로 이동되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
스트리핑 노즐 장치(120) 내에서의 금속 스트립(200)의 실제 위치, 실제 형상, 또는 실제 위치 및 실제 형상의 결정이,
스트리핑 노즐 장치(120)와 스트립 안정화 장치(130)의 사이에서 또는 스트립 안정화 장치(130) 내에서 또는 스트립 안정화 장치(130)의 하류에서 금속 스트립(200)의 위치, 형상, 또는 위치 및 형상을 측정함으로써
그리고
측정된 금속 스트립(200)의 위치, 형상, 또는 위치 및 형상으로부터 스트리핑 노즐 장치(120) 내에서의 금속 스트립(200)의 실제 위치, 실제 형상, 또는 실제 위치 및 실제 형상에 대한 결론을 도출함으로써
수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제7항에 있어서,
스트립 안정화 장치(130) 내에서의 금속 스트립(200)의 실제 위치, 실제 형상, 또는 실제 위치 및 실제 형상의 결정이, 금속 스트립(200)의 폭에 걸쳐서 스트립 안정화 장치(130)의 자석으로부터 상기 금속 스트립의 간격을 측정함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로의 자석(132)의 변위가 금속 스트립(200)의 넓은 측면의 각각에 있는 이용가능한 자석(132)의 갯수에 따라 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
금속 스트립(200)의 폭 방향(R)으로의 자석(132)의 변위가 각각의 자석에 의해서 발생될 수 있는 금속 스트립(200)에 작용하는 힘(F)에 따라 수행되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
자석(132)이 전자기 코일의 형태로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제11항에 있어서,
상기 코일 중의 적어도 하나가, 전류 전도 코일을 통하여 상기 금속 스트립에 작용하는 힘(F)으로 인해 상기 금속 스트립이 스트리핑 노즐 장치(120)의 중심에 있는 자신의 목표 위치로 이동되어 거기에서 안정화되거나, 또는
상기 금속 스트립의 실제 형상이 가능한 한 가장 목표 형상에 맞게 되거나, 또는
전류 전도 코일을 통하여 상기 금속 스트립에 작용하는 힘(F)으로 인해 상기 금속 스트립이 스트리핑 노즐 장치(120)의 중심에 있는 자신의 목표 위치로 이동되어 거기에서 안정화되고, 상기 금속 스트립의 실제 형상이 가능한 한 가장 목표 형상에 맞게 되도록,
전류를 공급받는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 스트립 안정화 장치와 상기 스트립 안정화 장치의 자석이 스트립 안정화 장치와 스트립 안정화 장치의 자석의 동작 한계 내에서 작동될 수 있도록 교정 롤러(140)가 상기 스트리핑 노즐 장치의 상류에 위치되어 조정되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
금속 스트립(200)의 실제 형상이 상기 금속 스트립의 S자 형상 또는 U자 형상 또는 W자 형상의 단면을 나타내는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
금속 스트립(200)의 목표 형상이 곧은 형태 또는 평면 형태인 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
금속 스트립(200)의 실제 위치가 스트리핑 노즐 장치(120)의 슬롯(122)에서의 목표 위치(SL)에 대한 금속 스트립(200)의 경사진 세팅(l1) 또는 평행한 변위(l2) 또는 오프셋(l3)을 나타내는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
금속 스트립(200)의 목표 위치(SL)가 스트리핑 노즐 장치(120)의 슬롯(122)에서의 중심 위치를 나타내는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
폭 방향(R)으로 자석의 이동된 위치, 코일에 작용하는 전류, 또는 교정 롤러(140)의 위치와 조정이, 금속 스트립(200)의 강 종류, 상기 금속 스트립의 항복 강도, 상기 금속 스트립의 두께, 상기 금속 스트립의 폭, 상기 금속 스트립의 온도에 따라 또는 금속 스트립(200)이 통과하는 동안의 코팅 컨테이너(110) 내의 코팅 매체(112)의 온도에 따라 분류된, 데이터 뱅크에 저장되는 것을 특징으로 하는 코팅 장치(100)를 이용하여 금속 스트립(200)을 코팅하는 방법. - 코팅 매체(110)로 금속 스트립을 코팅하는 코팅 장치(100)로서,
액체 코팅 매체로 채워진 코팅 컨테이너(110);
스트리핑 노즐 장치(120);
자신의 슬롯의 두 개의 넓은 측면에 복수의 자석(132)을 가진 스트립 안정화 장치(130);
스트리핑 노즐 장치(120)의 슬롯에서 금속 스트립(200)의 실제 형상, 실제 위치, 또는 실제 형상 및 실제 위치를 감지하는 적어도 하나의 센서(170, 180); 그리고
스트리핑 노즐 장치(120) 구역에서의 금속 스트립(200)의 실제 형상과 금속 스트립(200)의 예정된 목표 형상 사이의 차이로 형상 조절 차이를 결정하고 자석 액추에이터(136)에 의해 자석(132)을 제어하는 제어 장치(160);
를 포함하는 금속 스트립을 코팅하는 코팅 장치(100)에 있어서,
제어 장치(160)와 자석 액추에이터(136)가 상기 금속 스트립의 하나의 넓은 측면에 있는 상기 복수의 자석 중의 적어도 하나(132-A)를 상기 형상 조절 차이에 따라 상기 금속 스트립의 반대쪽 넓은 측면에 있는 상기 복수의 자석 중의 적어도 하나(132-B)에 대하여 상기 금속 스트립의 폭 방향으로 오프셋시키고 실제 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-A)의 간격과 목표 형상인 상태의 금속 스트립으로부터의 자석(132-A)의 간격 사이의 차이가 최대인 위치를 마주 보는 이동된 위치로 변위시키도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 코팅하는 코팅 장치(100). - 제19항에 있어서,
제어 장치(160)와 자석 액추에이터(136)가 또한 적어도 하나의 자석(132)을 금속 스트립(200)의 위치 조절 차이에 따라 금속 스트립(200)의 폭 방향으로 변위시키도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 코팅하는 코팅 장치(100). - 제19항 또는 제20항에 있어서,
제어 장치(160)는 또한 상기 스트립 안정화 장치가 스트립 안정화 장치의 동작 한계 내에서 작동되도록, 상기 스트리핑 노즐 장치의 상류에 위치되는 교정 롤러(140)의 액추에이터(146)를 제어하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 코팅하는 코팅 장치(100). - 제19항 또는 제20항에 있어서,
제어 장치(160)는 또한 금속 스트립(200)의 실제 형상, 실제 위치, 또는 실제 형상 및 실제 위치에 따라 목표 형상과 목표 위치가 달성되도록 적어도 하나의 자석(132)을 통하여 전류(I)를 조절하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 코팅하는 코팅 장치(100). - 제19항 또는 제20항에 있어서,
넓은 측면당 자석(132)의 갯수가 홀수인 것을 특징으로 하는 금속 스트립을 코팅하는 코팅 장치(100). - 삭제
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102016216131 | 2016-08-26 | ||
| DE102016216131.8 | 2016-08-26 | ||
| DE102016222230.9A DE102016222230A1 (de) | 2016-08-26 | 2016-11-11 | Verfahren und Beschichtungseinrichtung zum Beschichten eines Metallbandes |
| DE102016222230.9 | 2016-11-11 | ||
| PCT/EP2017/070872 WO2018036908A1 (de) | 2016-08-26 | 2017-08-17 | Verfahren und beschichtungseinrichtung zum beschichten eines metallbandes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20190039164A KR20190039164A (ko) | 2019-04-10 |
| KR102240149B1 true KR102240149B1 (ko) | 2021-04-14 |
Family
ID=61166960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020197005562A KR102240149B1 (ko) | 2016-08-26 | 2017-08-17 | 금속 스트립을 코팅하는 방법 및 코팅 장치 |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11255009B2 (ko) |
| EP (1) | EP3504352B1 (ko) |
| JP (1) | JP6733047B2 (ko) |
| KR (1) | KR102240149B1 (ko) |
| CN (1) | CN109790613B (ko) |
| AU (1) | AU2017317465B2 (ko) |
| BR (1) | BR112019003801B1 (ko) |
| CA (1) | CA3034334C (ko) |
| DE (1) | DE102016222230A1 (ko) |
| ES (1) | ES2812818T3 (ko) |
| HU (1) | HUE052043T2 (ko) |
| MX (1) | MX2019002188A (ko) |
| MY (1) | MY191187A (ko) |
| PL (1) | PL3504352T3 (ko) |
| PT (1) | PT3504352T (ko) |
| RU (1) | RU2713523C1 (ko) |
| WO (1) | WO2018036908A1 (ko) |
| ZA (1) | ZA201900688B (ko) |
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-
2016
- 2016-11-11 DE DE102016222230.9A patent/DE102016222230A1/de not_active Withdrawn
-
2017
- 2017-08-17 MX MX2019002188A patent/MX2019002188A/es unknown
- 2017-08-17 CA CA3034334A patent/CA3034334C/en active Active
- 2017-08-17 RU RU2019108451A patent/RU2713523C1/ru active
- 2017-08-17 BR BR112019003801-9A patent/BR112019003801B1/pt active IP Right Grant
- 2017-08-17 WO PCT/EP2017/070872 patent/WO2018036908A1/de active Search and Examination
- 2017-08-17 KR KR1020197005562A patent/KR102240149B1/ko active IP Right Grant
- 2017-08-17 HU HUE17754711A patent/HUE052043T2/hu unknown
- 2017-08-17 PT PT177547114T patent/PT3504352T/pt unknown
- 2017-08-17 JP JP2019511444A patent/JP6733047B2/ja active Active
- 2017-08-17 ES ES17754711T patent/ES2812818T3/es active Active
- 2017-08-17 CN CN201780052557.1A patent/CN109790613B/zh active Active
- 2017-08-17 AU AU2017317465A patent/AU2017317465B2/en active Active
- 2017-08-17 EP EP17754711.4A patent/EP3504352B1/de active Active
- 2017-08-17 MY MYPI2019000884A patent/MY191187A/en unknown
- 2017-08-17 US US16/327,876 patent/US11255009B2/en active Active
- 2017-08-17 PL PL17754711T patent/PL3504352T3/pl unknown
-
2019
- 2019-02-01 ZA ZA201900688A patent/ZA201900688B/en unknown
-
2021
- 2021-10-29 US US17/514,049 patent/US20220049339A1/en active Pending
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA201900688B (en) | 2019-10-30 |
| PL3504352T3 (pl) | 2020-11-30 |
| CN109790613A (zh) | 2019-05-21 |
| MY191187A (en) | 2022-06-06 |
| US11255009B2 (en) | 2022-02-22 |
| US20190194791A1 (en) | 2019-06-27 |
| BR112019003801A2 (pt) | 2019-05-21 |
| EP3504352B1 (de) | 2020-06-24 |
| HUE052043T2 (hu) | 2021-04-28 |
| KR20190039164A (ko) | 2019-04-10 |
| AU2017317465A1 (en) | 2019-03-07 |
| BR112019003801B1 (pt) | 2022-09-20 |
| WO2018036908A1 (de) | 2018-03-01 |
| JP6733047B2 (ja) | 2020-07-29 |
| DE102016222230A1 (de) | 2018-03-01 |
| CA3034334A1 (en) | 2018-03-01 |
| JP2019525008A (ja) | 2019-09-05 |
| PT3504352T (pt) | 2020-09-01 |
| US20220049339A1 (en) | 2022-02-17 |
| AU2017317465B2 (en) | 2019-10-10 |
| ES2812818T3 (es) | 2021-03-18 |
| MX2019002188A (es) | 2019-06-06 |
| EP3504352A1 (de) | 2019-07-03 |
| RU2713523C1 (ru) | 2020-02-05 |
| CA3034334C (en) | 2022-04-26 |
| CN109790613B (zh) | 2021-08-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |