KR102239195B1 - Cleaning unit and apparatus for dispensing droplet having the same - Google Patents

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KR102239195B1 KR1020190073240A KR20190073240A KR102239195B1 KR 102239195 B1 KR102239195 B1 KR 102239195B1 KR 1020190073240 A KR1020190073240 A KR 1020190073240A KR 20190073240 A KR20190073240 A KR 20190073240A KR 102239195 B1 KR102239195 B1 KR 102239195B1
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Abstract

세정 유닛은 노즐로부터 기판으로 약액을 토출하기 직전에 상기 기판 상에 파티클이 잔류하는 가를 확인할 수 있게 상기 노즐로부터 약액이 토출되는 토출 지점을 기준으로 상기 토출 지점보다 선행하는 노즐 전단부에 배치되면서 상기 노즐 전단부로부터 상기 기판을 향하도록 연장되는 구조를 갖는 파티클 확인부를 세정하도록 구비될 수 있고, 상기 파티클 확인부를 수용하는 수용 몸체부, 상기 수용 몸체부에 수용되는 상기 파티클 확인부에 세정력을 제공하는 세정부로 이루어질 수 있다.The cleaning unit is disposed at the front end of the nozzle prior to the discharge point based on the discharge point at which the chemical solution is discharged from the nozzle so as to check whether particles remain on the substrate immediately before discharging the chemical solution from the nozzle to the substrate. It may be provided to clean the particle identification portion having a structure extending toward the substrate from the front end of the nozzle, the receiving body portion accommodating the particle identification portion, and providing a cleaning power to the particle identification portion accommodated in the receiving body portion. It can be made of a cleaning unit.

Description

세정 유닛 및 이를 포함하는 약액 토출 장치{CLEANING UNIT AND APPARATUS FOR DISPENSING DROPLET HAVING THE SAME}A cleaning unit and a chemical liquid discharge device including the same TECHNICAL FIELD

본 발명은 세정 유닛 및 이를 포함하는 약액 토출 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 약액의 토출시 기판 상에 파티클이 잔류하는 가를 확인하도록 노즐 전단부에 구비되는 파티클 확인부를 세정하기 위한 세정 유닛 및 이를 포함하는 약액 토출 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning unit and a chemical liquid discharge device including the same. In more detail, the present invention relates to a cleaning unit for cleaning a particle identification unit provided at a front end of a nozzle to check whether particles remain on a substrate when a chemical solution is discharged, and a chemical liquid discharge device including the same.

유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에서는 기판에 약액을 토출하는 공정을 수행할 수 있다. 기판에 약액을 토출하는 공정의 예로서는 기판에 포토레지스트를 토출하는 공정, 기판에 현상액을 토출하는 공정 등을 들 수 있다.In manufacturing a display device such as an organic EL device, a process of discharging a chemical solution to a substrate can be performed. Examples of the step of discharging the chemical solution onto the substrate include a step of discharging a photoresist onto the substrate, a step of discharging a developer onto the substrate, and the like.

기판에 약액을 토출하는 공정은 기판에 약액을 토출하는 노즐, 특히 슬릿 노즐을 구비하는 약액 토출 장치를 사용함에 의해 달성할 수 있을 것이다.The process of discharging the chemical liquid to the substrate may be achieved by using a nozzle for discharging the chemical liquid to the substrate, in particular, a chemical liquid discharging apparatus having a slit nozzle.

언급한 약액 토출 장치를 사용하는 약액의 토출에서는 기판에 파티클이 잔류할 경우 토출 불량이 발생하기 때문에 약액의 토출에 앞서 기판에 파티클이 잔류하는 가를 확인해야 한다. 이에, 노즐 선단부에 부착되는 댐퍼 구조를 갖는 파티클 확인부를 사용하여 약액이 토출되기 직전에 파티클의 잔류를 확인하면서 약액의 토출을 수행하고 있다.In the case of discharging the chemical liquid using the aforementioned chemical liquid discharging device, if particles remain on the substrate, discharging defects occur. Therefore, it is necessary to check whether particles remain on the substrate before discharging the chemical liquid. Accordingly, the chemical liquid is discharged while checking the residual particles just before the chemical liquid is discharged by using a particle identification unit having a damper structure attached to the tip of the nozzle.

파티클 확인부를 지속적으로 사용할 경우 파티클 확인부에는 파티클이 축적될 수 있고, 이를 제거하지 않을 경우 기판에 손상을 가하거나 또는 약액의 토출시 얼룩 등과 같은 불량을 유발할 수 있다.If the particle check unit is continuously used, particles may accumulate in the particle check unit, and if the particle check unit is not removed, it may damage the substrate or cause defects such as stains when discharging the chemical.

종래에는 파티클 확인부를 세정하기 위한 유닛이 별도로 마련되어 있지 않기 때문에 필요시 수작업을 통하여 파티클 확인부를 세정하고 있으나, 파티클 확인부에 대한 육안 확인이 어렵기 때문에 파티클 확인부를 용이하게 세정하지 못하는 단점이 있다.Conventionally, since a separate unit for cleaning the particle identification portion is not provided, the particle identification portion is cleaned manually if necessary, but there is a disadvantage in that it is not easy to clean the particle identification portion because it is difficult to visually check the particle identification portion.

본 발명의 일 과제는 약액의 토출시 기판 상에 파티클이 잔류하는 가를 확인하도록 노즐 전단부에 구비되는 파티클 확인부를 세정하기 위한 세정 유닛을 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a cleaning unit for cleaning a particle identification unit provided at a front end of a nozzle to check whether particles remain on a substrate when a chemical solution is discharged.

본 발명의 다른 과제는 약액의 토출시 기판 상에 파티클이 잔류하는 가를 확인하도록 노즐 전단부에 구비되는 파티클 확인부를 세정하기 위한 세정 유닛을 포함하는 약액 토출 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a chemical liquid discharging apparatus including a cleaning unit for cleaning a particle identification unit provided at a front end of a nozzle to check whether particles remain on a substrate when the chemical liquid is discharged.

상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛은 노즐로부터 기판으로 약액을 토출하기 직전에 상기 기판 상에 파티클이 잔류하는 가를 확인할 수 있게 상기 노즐로부터 약액이 토출되는 토출 지점을 기준으로 상기 토출 지점보다 선행하는 노즐 전단부에 배치되면서 상기 노즐 전단부로부터 상기 기판을 향하도록 연장되는 구조를 갖는 파티클 확인부를 세정하도록 구비될 수 있고, 상기 파티클 확인부를 수용하는 수용 몸체부, 상기 수용 몸체부에 수용되는 상기 파티클 확인부에 세정력을 제공하는 세정부로 이루어질 수 있다.The cleaning unit according to exemplary embodiments for achieving the object of the present invention is to discharge the chemical liquid from the nozzle so as to check whether particles remain on the substrate immediately before discharging the chemical liquid from the nozzle to the substrate. A receiving body portion that is disposed at a front end of the nozzle that precedes the discharge point based on a point and is provided to clean a particle identification portion having a structure extending from the front end of the nozzle toward the substrate, and accommodates the particle identification portion , It may be made of a cleaning unit that provides cleaning power to the particle identification unit accommodated in the receiving body.

실시예들에 있어서, 상기 세정부는 상기 파티클 확인부와 접촉함에 의해 세정이 이루어지는 패드 구조를 갖도록 구비될 수 있다.In embodiments, the cleaning unit may be provided to have a pad structure in which cleaning is performed by contacting the particle identification unit.

실시예들에 있어서, 상기 세정부는 상기 파티클 확인부를 향하여 유체를 분사함에 의해 세정이 이루어지는 분사 구조를 갖도록 구비될 수 있다.In embodiments, the cleaning unit may be provided to have a spray structure in which cleaning is performed by spraying a fluid toward the particle identification unit.

실시예들에 있어서, 상기 노즐이 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖는 슬릿 노즐이고, 상기 파티클 확인부가 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖도록 구비될 때, 상기 세정 유닛은 상기 파티클 확인부의 길이 방향을 따라 이동하면서 상기 파티클 확인부에 대한 세정을 수행할 수 있다.In embodiments, when the nozzle is a slit nozzle having a structure extending along a longitudinal direction, and the particle checking unit is provided to have a structure extending along the longitudinal direction of the slit nozzle, the cleaning unit checks the particles. While moving along the length direction of the negative, it is possible to perform cleaning on the particle identification part.

실시예들에 있어서, 상기 세정 유닛은 상기 파티클 확인부와 함께 상기 약액의 토출이 이루어지는 상기 노즐의 토출구를 세정할 수 있도록 구비될 수 있다.In embodiments, the cleaning unit may be provided to clean the discharge port of the nozzle through which the chemical liquid is discharged together with the particle checking unit.

상기 본 발명의 다른 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치는 노즐, 파티클 확인부, 세정 유닛을 포함할 수 있다. 상기 노즐은 기판에 약액을 토출하도록 구비될 수 있다. 상기 파티클 확인부는 상기 노즐로부터 기판으로 약액을 토출하기 직전에 상기 기판 상에 파티클이 잔류하는 가를 확인할 수 있게 상기 노즐로부터 약액이 토출되는 토출 지점을 기준으로 상기 토출 지점보다 선행하는 노즐 전단부에 배치되면서 상기 노즐 전단부로부터 상기 기판을 향하도록 연장되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 상기 세정 유닛은상기 파티클 확인부를 세정하도록 구비되되, 상기 파티클 확인부를 수용하는 수용 몸체부와, 상기 수용 몸체부에 수용되는 상기 파티클 확인부에 세정력을 제공하는 세정부로 이루어질 수 있다.A chemical liquid discharge device according to exemplary embodiments for achieving another object of the present invention may include a nozzle, a particle identification unit, and a cleaning unit. The nozzle may be provided to discharge a chemical solution to the substrate. The particle check unit is disposed at the front end of the nozzle prior to the discharge point based on the discharge point at which the chemical solution is discharged from the nozzle so as to check whether particles remain on the substrate immediately before discharging the chemical solution from the nozzle to the substrate. It may be provided to have a structure extending toward the substrate from the front end of the nozzle. The cleaning unit is provided to clean the particle checking part, and may include a receiving body part accommodating the particle checking part, and a cleaning part providing cleaning power to the particle checking part accommodated in the receiving body part.

실시예들에 있어서, 상기 노즐이 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖는 슬릿 노즐이고, 상기 파티클 확인부가 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖도록 구비될 때, 상기 세정 유닛은 상기 파티클 확인부의 길이 방향을 따라 이동하면서 상기 파티클 확인부에 대한 세정을 수행할 수 있다.In embodiments, when the nozzle is a slit nozzle having a structure extending along a longitudinal direction, and the particle checking unit is provided to have a structure extending along the longitudinal direction of the slit nozzle, the cleaning unit checks the particles. While moving along the length direction of the negative, it is possible to perform cleaning on the particle identification part.

실시예들에 있어서, 상기 세정 유닛은 상기 파티클 확인부와 함께 상기 약액의 토출이 이루어지는 상기 노즐의 토출구를 세정할 수 있도록 구비될 수 있다.In embodiments, the cleaning unit may be provided to clean the discharge port of the nozzle through which the chemical liquid is discharged together with the particle checking unit.

예시적인 실시예들에 따르면, 노즐 선단부에 부착되는 파티클 확인부를 세정하기 위한 세정 유닛을 별도로 구비함으로써 육안으로 확인이 어려운 파티클 확인부에 대한 세정을 보다 효율적으로 수행할 수 있을 것이다.According to exemplary embodiments, by separately providing a cleaning unit for cleaning the particle identification portion attached to the tip of the nozzle, it is possible to more efficiently clean the particle identification portion that is difficult to check with the naked eye.

이에, 본 발명은 파티클 확인부의 세정을 안정적으로 수행함으로써 파티클 세정부에 의해 발생하는 공정 불량 등을 최소화할 수 있을 것이고, 그 결과 디스플레이 소자의 제조에 따른 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있을 것이다.Accordingly, the present invention can minimize process defects caused by the particle cleaning unit by stably performing the cleaning of the particle identification unit, and as a result, it is expected to improve the process reliability according to the manufacturing of the display device.

다만, 본 발명의 과제 및 효과는 상기 언급한 바에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the subject and effect of the present invention are not limited to those mentioned above, and may be variously extended without departing from the spirit and scope of the present invention.

도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 2는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛에서의 세정부를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 5는 도 2의 세정 유닛을 사용하여 슬릿 노즐을 세정하는 상황을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.1 is a schematic diagram for explaining a chemical liquid discharging apparatus according to exemplary embodiments of the present invention.
2 is a schematic diagram illustrating a cleaning unit according to exemplary embodiments of the present invention.
3 and 4 are schematic views illustrating a cleaning unit in a cleaning unit according to exemplary embodiments of the present invention.
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a situation in which a slit nozzle is cleaned using the cleaning unit of FIG. 2.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.In the present invention, various modifications may be made and various forms may be obtained, and exemplary embodiments will be described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific form disclosed, it should be understood to include all changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing each drawing, similar reference numerals have been used for similar components. Terms such as first and second may be used to describe various constituent elements, but the constituent elements should not be limited by the terms. These terms are only used for the purpose of distinguishing one component from another component. The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, terms such as "comprise" or "consist of" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, elements, parts, or a combination of one or more other features described in the specification. It is to be understood that the possibility of the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof is not preliminarily excluded.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein including technical or scientific terms have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. Does not.

그리고 첨부한 도면들을 참조하여 예시적인 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.In addition, exemplary embodiments will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals are used for the same constituent elements in the drawings, and duplicate descriptions for the same constituent elements are omitted.

도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이고, 도 2는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.1 is a schematic view for explaining a chemical liquid discharging apparatus according to exemplary embodiments of the present invention, and FIG. 2 is a schematic view for explaining a cleaning unit according to exemplary embodiments of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조시 기판(11)에 포토레지스트, 현상액 등과 같은 약액을 토출하는 공정에 적용할 수 있는 것이다.1 and 2, the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments is used in a process of discharging a chemical liquid such as a photoresist and a developer to the substrate 11 when manufacturing a display device such as an organic EL device. It is applicable.

예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 노즐(13), 스테이지(15), 갠트리(17), 베이스(19)와 더불어 파티클 확인부(21) 및 세정 유닛(23)을 포함할 수 있다.The chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments may include a particle identification unit 21 and a cleaning unit 23 in addition to the nozzle 13, the stage 15, the gantry 17, and the base 19. I can.

노즐(13)은 기판(11)에 약액을 토출하도록 구비될 수 있다. 그리고 노즐(13) 단부에는 약액의 토출시 기판(11)을 향하여 약액을 토출하는 토출구(29)가 구비될 수 있다.The nozzle 13 may be provided to discharge a chemical solution to the substrate 11. In addition, a discharge port 29 for discharging the chemical liquid toward the substrate 11 may be provided at an end of the nozzle 13.

특히, 포토레지스트, 현상액 등과 같은 약액의 토출을 위한 노즐(13)일 경우에는 슬릿 노즐일 수 있다.In particular, in the case of the nozzle 13 for discharging a chemical solution such as a photoresist or a developer, it may be a slit nozzle.

이에, 본 발명의 약액 토출 장치(100)는 언급한 노즐(13)을 사용하여 스캔 방식으로 기판(11) 상에 포토레지스트, 현상액 등과 같은 약액을 토출할 수 있다.Accordingly, the chemical liquid discharging apparatus 100 of the present invention may discharge a chemical liquid such as a photoresist or a developer on the substrate 11 in a scan manner using the nozzle 13 mentioned above.

스테이지(15)는 약액의 토출시 기판(11)을 지지하도록 구비될 수 있다. 특히, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)에서의 스테이지(15)는 기판(11)의 지지시 기판(11)을 부상시킬 수 있도록 구비될 수 있다. 이에, 스테이지(15)는 기판(11)에 약액의 토출시 기판(11) 이면을 향하여 부상력을 제공할 수 있는 부상 스테이지로 이루어질 수 있다.The stage 15 may be provided to support the substrate 11 when the chemical liquid is discharged. In particular, the stage 15 in the chemical liquid discharging apparatus 100 according to exemplary embodiments may be provided to float the substrate 11 when the substrate 11 is supported. Accordingly, the stage 15 may be formed of a floating stage capable of providing a floating force toward the rear surface of the substrate 11 when the chemical solution is discharged to the substrate 11.

따라서 본 발명의 약액 토출 장치(100)는 기판(11)을 부상시킨 상태에서 노즐(13)을 사용하여 스캔 방식으로 기판(11) 상에 약액을 토출할 수 있다.Accordingly, the chemical liquid discharging apparatus 100 of the present invention can discharge the chemical liquid onto the substrate 11 in a scanning manner using the nozzle 13 while the substrate 11 is floating.

그리고 기판(11)을 토출 영역으로 반입시키는 반입 구간 및 기판(11)을 토출 영역으로 반출시키는 반출 구간에 구비되는 스테이지(15)는 기판(11) 이면으로 에어를 제공하는 부상 스테이지일 수 있고, 기판(11)에 약액을 토출하는 토출 영역에 구비되는 스테이지(15)는 기판(11)이 부상되는 높이를 보다 정밀하게 제어해야 하기 때문에 기판(11) 이면으로 에어와 함께 진공을 제공하는 부상 스테이지일 수 있다.And the stage 15 provided in the carry-in section for carrying the substrate 11 into the discharge area and the carry-in section for carrying the substrate 11 to the discharge area may be a floating stage that provides air to the back surface of the substrate 11, The stage 15 provided in the discharge area for discharging the chemical solution to the substrate 11 needs to more precisely control the height at which the substrate 11 is floated, so a floating stage that provides a vacuum with air to the back surface of the substrate 11 Can be

갠트리(17)는 노즐(13)을 지지하도록 구비될 수 있다. 즉, 갠트리(17)는 약액의 토출시 기판(11)을 향하여 약액을 토출할 수 있게 노즐(13)을 지지하도록 구비될 수 있다.The gantry 17 may be provided to support the nozzle 13. That is, the gantry 17 may be provided to support the nozzle 13 so that the chemical liquid can be discharged toward the substrate 11 when the chemical liquid is discharged.

베이스(19)는 스테이지(15), 갠트리(17) 등과 같은 부재를 지지하도록 구비될 수 있다.The base 19 may be provided to support a member such as the stage 15 and the gantry 17.

그리고 약액의 토출시 기판(11) 상에 파티클이 잔류할 경우 토출 불량이 발생할 수 있다.In addition, when particles remain on the substrate 11 when the chemical is discharged, a discharge failure may occur.

이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 도 2에서와 같이 약액의 토출시 노즐(13)로부터 약액이 토출되는 토출 지점을 기준으로 토출 지점보다 선행하는 노즐(13) 전단부에 파티클 확인부(21)를 구비할 수 있다. 특히, 파티클 확인부(21)는 노즐(13) 전단부로부터 기판(11)을 향하도록 연장되는 구조로 이루어지게 구비될 수 있다.Thus, the chemical liquid discharge device 100 according to exemplary embodiments is the front end of the nozzle 13 that precedes the discharge point based on the discharge point at which the chemical liquid is discharged from the nozzle 13 when the chemical liquid is discharged, as shown in FIG. 2. The particle check unit 21 may be provided. In particular, the particle identification unit 21 may be provided to have a structure extending toward the substrate 11 from the front end of the nozzle 13.

따라서 본 발명의 약액 토출 장치(100)는 언급한 바와 같이 노즐(13) 전단부에 구비되는 파티클 확인부(21)를 사용함으로써 노즐(13)로부터 약액이 토출되기 바로 직전에 기판(11)에 파티클이 잔류하는 가를 확인할 수 있다.Therefore, the chemical liquid discharging apparatus 100 of the present invention uses the particle identification part 21 provided at the front end of the nozzle 13, as mentioned above, to the substrate 11 immediately before the chemical liquid is discharged from the nozzle 13. You can check whether particles remain.

그리고 파티클 확인부(21)를 지속적으로 사용할 경우 파티클 확인부(21)에는 파티클이 축적될 수 있다.In addition, when the particle checking unit 21 is continuously used, particles may accumulate in the particle checking unit 21.

이에, 예시적인 실시예들에서는 세정 유닛(23)을 구비하고, 세정 유닛(23)을 사용하여 파티클 확인부(21)를 세정하도록 할 수 있다.Accordingly, in exemplary embodiments, the cleaning unit 23 may be provided, and the particle identification unit 21 may be cleaned using the cleaning unit 23.

세정 유닛(21)은 수용 몸체부(25), 세정부(27)로 이루어질 수 있는데, 수용 몸체부(25)는 파티클 확인부(21), 특히 파티클 확인부(21)의 연장되는 부분을 수용하도록 구비될 수 있고, 세정부(27)는 수용 몸체부(25)에 수용되는 파티클 확인부(21)에 세정력을 제공하도록 구비될 수 있다.The cleaning unit 21 may include a receiving body portion 25 and a cleaning portion 27, wherein the receiving body portion 25 accommodates a particle identification portion 21, in particular, an extended portion of the particle identification portion 21. The cleaning unit 27 may be provided to provide cleaning power to the particle identification unit 21 accommodated in the receiving body unit 25.

따라서 세정 유닛(23)을 사용하는 파티클 확인부(21)에 대한 세정은 수용 몸체부(25)에 파티클 확인부(21)의 연장되는 부분을 수용시킨 상태에서 세정부(27)를 사용하여 파티클 확인부(21)에 세정력을 가함에 의해 달성될 수 있다.Therefore, cleaning of the particle identification unit 21 using the cleaning unit 23 is performed by using the cleaning unit 27 in a state in which the extended portion of the particle identification unit 21 is accommodated in the receiving body 25. It can be achieved by applying a cleaning power to the confirmation unit 21.

언급한 세정 유닛(23)은 파티클 확인부(21) 뿐만 아니라 약액의 토출이 이루어지는 노즐(13)의 토출구(29)를 세정하도록 구비될 수도 있다.The aforementioned cleaning unit 23 may be provided to clean not only the particle identification unit 21 but also the discharge port 29 of the nozzle 13 through which the chemical liquid is discharged.

이에, 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛(23)의 사용시 노즐(13)의 토출구(29)에 대한 세정 주기와 파티클 확인부(21)에 대한 세정 주기를 서로 동일하게 적용할 경우 노즐(13)의 토출구(29) 및 파티클 확인부(21)에 대한 유지 보수를 통합적으로 관리할 수 있을 것이다.Thus, when the cleaning unit 23 according to exemplary embodiments is used, when the cleaning cycle for the discharge port 29 of the nozzle 13 and the cleaning cycle for the particle checking unit 21 are the same, the nozzle 13 ) Of the discharge port 29 and the particle confirmation unit 21 may be managed in an integrated manner.

도 3 및 도 4는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛에서의 세정부를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.3 and 4 are schematic diagrams for explaining a cleaning unit in a cleaning unit according to exemplary embodiments of the present invention.

먼저 도 3을 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛(23)은 파티클 확인부(21)의 연장되는 부분에 접촉하는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 즉, 도 3에서의 세정 유닛(23)에서의 세정부(27)는 파티클 확인부(21)에 접촉함에 의해 파티클 확인부(21)를 세정할 수 있는 구조를 갖도록 구비될 수 있는 것이다.First, referring to FIG. 3, the cleaning unit 23 according to exemplary embodiments may be provided to have a structure in contact with an extended portion of the particle identification unit 21. That is, the cleaning unit 27 in the cleaning unit 23 in FIG. 3 may be provided to have a structure capable of cleaning the particle identification unit 21 by contacting the particle identification unit 21.

따라서 도 3에서의 세정 유닛(23)은 파티클 확인부(21)와 접촉함에 의해 세정이 이루어지는 패드 구조(31)를 갖도록 구비될 수 있다.Accordingly, the cleaning unit 23 in FIG. 3 may be provided to have a pad structure 31 in which cleaning is performed by contacting the particle identification unit 21.

그리고 도 4를 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛(23)은 파티클 확인부(21)의 연장되는 부분에 비접촉하는 구조를 갖도록 구비될 수 있다. 즉, 도 4에서의 세정 유닛(23)에서의 세정부(27)는 파티클 확인부(21)에 비접촉함에도 불구하고 파티클 확인부(21)를 세정할 수 있는 구조를 갖도록 구비될 수 있는 것이다.And referring to FIG. 4, the cleaning unit 23 according to exemplary embodiments may be provided to have a structure that does not contact the extended portion of the particle identification unit 21. That is, the cleaning unit 27 in the cleaning unit 23 in FIG. 4 may be provided to have a structure capable of cleaning the particle identification unit 21 despite non-contact with the particle identification unit 21.

따라서 도 4에서의 세정 유닛(23)은 파티클 확인부(21)를 향하여 유체를 분사함에 의해 세정이 이루어지는 분사 구조(41, 43)를 갖도록 구비될 수 있다. 언급한 분사 구조(41, 43)는 파티클 확인부를 향하여 신너를 분사하는 구조(41) 및 에어를 분사하는 구조(43)로 이루어질 수 있다.Accordingly, the cleaning unit 23 in FIG. 4 may be provided to have spray structures 41 and 43 in which cleaning is performed by spraying a fluid toward the particle identification unit 21. The aforementioned injection structures 41 and 43 may include a structure 41 for injecting a thinner toward the particle identification unit and a structure 43 for injecting air.

도 5는 도 2의 세정 유닛을 사용하여 슬릿 노즐을 세정하는 상황을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.5 is a schematic view for explaining a situation in which a slit nozzle is cleaned using the cleaning unit of FIG. 2.

도 5을 참조하면, 언급한 바와 같이 노즐(13)이 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖는 슬릿 노즐일 수 있고, 이 경우 파티클 확인부(21) 또한 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.Referring to FIG. 5, as mentioned, the nozzle 13 may be a slit nozzle having a structure extending along the length direction. In this case, the particle identification unit 21 also has a structure extending along the length direction of the slit nozzle. It can be provided to have.

이에, 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛(23)은 파티클 확인부(21)의 길이 방향을 따라 이동하면서 파티클 확인부(21)에 대한 세정을 수행하도록 구비될 수 있다. 그리고 언급한 세정 유닛(23)에 대한 이동은 리니어 모터 등과 같은 부재를 사용함에 의해 달성할 수 있다.Accordingly, the cleaning unit 23 according to exemplary embodiments may be provided to perform cleaning on the particle checking part 21 while moving along the length direction of the particle checking part 21. And the movement with respect to the mentioned cleaning unit 23 can be achieved by using a member such as a linear motor or the like.

언급한 바와 같이 예시적인 실시예들에 따르면, 노즐(13) 선단부에 부착되는 파티클 확인부(21)를 세정하기 위한 세정 유닛(23)을 별도로 구비함으로써 육안으로 확인이 어려운 파티클 확인부(21)에 대한 세정을 보다 효율적으로 수행할 수 있을 것이고, 나아가 노즐(13)의 토출구(29)에 대한 세정까지도 함께 수행하도록 함으로써 약액 토출 장치(100)에 대한 관리까지도 통합적으로 수행할 수 있을 것이다.As mentioned, according to exemplary embodiments, a particle identification portion 21 that is difficult to check with the naked eye by separately provided with a cleaning unit 23 for cleaning the particle identification portion 21 attached to the tip of the nozzle 13 It will be possible to perform the cleaning more efficiently, and furthermore, by performing the cleaning of the discharge port 29 of the nozzle 13 together, even the management of the chemical liquid discharge device 100 can be performed in an integrated manner.

본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 세정 유닛 및 약액 토출 장치는 기판 상에 포토레지스트, 현상액 등과 같은 약액의 토출에 적용할 수 있기에 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에 보다 적극적으로 적용할 수 있을 것이다.Since the cleaning unit and the chemical liquid discharge device according to the exemplary embodiments of the present invention can be applied to the discharge of a chemical liquid such as a photoresist and a developer on a substrate, it can be more actively applied to the manufacture of a display device such as an organic EL device. There will be.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention described in the following claims. You will understand that you can.

11 : 기판 13 : 노즐
14 : 제어부 15 : 스테이지
17 : 갠트리 19 : 베이스
21 : 파티클 확인부 23 : 세정 유닛
25 : 수용 몸체부 27 : 세정부
29 : 토출구 31 : 패드 구조
41 : 신너 분사 구조
43 : 에어 분사 구조
100 : 약액 토출 장치11: substrate 13: nozzle
14: control unit 15: stage
17: gantry 19: base
21: particle confirmation unit 23: cleaning unit
25: receiving body portion 27: washing portion
29: discharge port 31: pad structure
41: thinner injection structure
43: air injection structure
100: chemical liquid discharge device

Claims (8)

노즐로부터 기판으로 약액을 토출하기 직전에 상기 기판 상에 파티클이 잔류하는 가를 확인할 수 있게 상기 노즐로부터 약액이 토출되는 토출 지점을 기준으로 상기 토출 지점보다 선행하는 노즐 전단부에 배치되면서 상기 노즐 전단부로부터 상기 기판을 향하도록 연장되는 구조를 갖는 파티클 확인부를 세정하도록 구비되되,
상기 파티클 확인부를 수용하는 수용 몸체부; 및
상기 수용 몸체부에 수용되는 상기 파티클 확인부에 세정력을 제공하는 세정부로 이루어지고,
상기 파티클 확인부를 사용함에 따라 상기 파티클 확인부에 축적되는 파티클이 제거될 수 있게 상기 파티클 확인부를 세정하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.Immediately before discharging the chemical liquid from the nozzle to the substrate, the nozzle front part is disposed at the nozzle front end that precedes the discharge point based on the discharge point where the chemical liquid is discharged from the nozzle so as to check whether particles remain on the substrate. It is provided to clean the particle identification unit having a structure extending toward the substrate from,
A receiving body portion accommodating the particle identification portion; And
Consisting of a cleaning unit that provides cleaning power to the particle identification unit accommodated in the receiving body unit,
And cleaning the particle identification portion so that particles accumulated in the particle identification portion may be removed as the particle identification portion is used. 제1 항에 있어서,
상기 세정부는 상기 파티클 확인부와 접촉함에 의해 세정이 이루어지는 패드 구조를 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.The method of claim 1,
And the cleaning unit is provided to have a pad structure in which cleaning is performed by contacting the particle identification unit. 제1 항에 있어서,
상기 세정부는 상기 파티클 확인부를 향하여 유체를 분사함에 의해 세정이 이루어지는 분사 구조를 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.The method of claim 1,
The cleaning unit, characterized in that the cleaning unit is provided to have a spray structure in which cleaning is performed by spraying a fluid toward the particle identification unit. 제1 항에 있어서,
상기 노즐이 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖는 슬릿 노즐이고, 상기 파티클 확인부가 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖도록 구비될 때,
상기 세정 유닛은 상기 파티클 확인부의 길이 방향을 따라 이동하면서 상기 파티클 확인부에 대한 세정을 수행하는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.The method of claim 1,
When the nozzle is a slit nozzle having a structure extending along the longitudinal direction, and the particle identification unit is provided to have a structure extending along the longitudinal direction of the slit nozzle,
The cleaning unit, wherein the cleaning unit performs cleaning on the particle identification unit while moving along a length direction of the particle identification unit. 제1 항에 있어서,
상기 세정 유닛은 상기 파티클 확인부와 함께 상기 약액의 토출이 이루어지는 상기 노즐의 토출구를 세정할 수 있도록 구비되는 것을 특징으로 하는 세정 유닛.The method of claim 1,
And the cleaning unit is provided to clean the discharge port of the nozzle through which the chemical liquid is discharged together with the particle checking unit. 기판에 약액을 토출하도록 구비되는 노즐;
상기 노즐로부터 기판으로 약액을 토출하기 직전에 상기 기판 상에 파티클이 잔류하는 가를 확인할 수 있게 상기 노즐로부터 약액이 토출되는 토출 지점을 기준으로 상기 토출 지점보다 선행하는 노즐 전단부에 배치되면서 상기 노즐 전단부로부터 상기 기판을 향하도록 연장되는 구조를 갖는 파티클 확인부; 및
상기 파티클 확인부의 세정과 함께 상기 노즐이 토출구를 세정하도록 구비되되, 상기 파티클 확인부를 수용하는 수용 몸체부와, 상기 수용 몸체부에 수용되는 상기 파티클 확인부에 세정력을 제공하는 세정부로 이루어지고, 상기 파티클 확인부를 사용함에 따라 상기 파티클 확인부에 축적되는 파티클이 제거될 수 있게 상기 파티클 확인부를 세정하도록 구비되는 세정 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.A nozzle provided to discharge a chemical solution onto the substrate;
Immediately before discharging the chemical liquid from the nozzle to the substrate, the nozzle front end while being disposed in the nozzle front end preceding the discharge point based on the discharge point where the chemical liquid is discharged from the nozzle so as to check whether particles remain on the substrate A particle identification unit having a structure extending from the unit toward the substrate; And
The nozzle is provided to clean the discharge port along with the cleaning of the particle checking part, and comprising a receiving body part accommodating the particle checking part, and a cleaning part providing cleaning power to the particle checking part accommodated in the receiving body part, And a cleaning unit provided to clean the particle identification portion so that particles accumulated in the particle identification portion may be removed as the particle identification portion is used. 제6 항에 있어서,
상기 노즐이 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖는 슬릿 노즐이고, 상기 파티클 확인부가 상기 슬릿 노즐의 길이 방향을 따라 연장되는 구조를 갖도록 구비될 때,
상기 세정 유닛은 상기 파티클 확인부의 길이 방향을 따라 이동하면서 상기 파티클 확인부에 대한 세정을 수행하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.The method of claim 6,
When the nozzle is a slit nozzle having a structure extending along the longitudinal direction, and the particle identification unit is provided to have a structure extending along the longitudinal direction of the slit nozzle,
The cleaning unit is a chemical liquid discharging device, characterized in that for cleaning the particle identification portion while moving along the longitudinal direction of the particle identification portion. 제6 항에 있어서,
상기 세정 유닛은 상기 파티클 확인부와 함께 상기 약액의 토출이 이루어지는 상기 노즐의 토출구를 세정할 수 있도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.The method of claim 6,
And the cleaning unit is provided to clean the discharge port of the nozzle through which the chemical liquid is discharged together with the particle checking unit.
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