JP2008023467A

JP2008023467A - Film washing device

Info

Publication number: JP2008023467A
Application number: JP2006199840A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Suzuki; 木理之鈴
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2006-07-21
Filing date: 2006-07-21
Publication date: 2008-02-07

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film washing device which prevents the reattachment of foreign matters during the washing of film, thereby enabling the manufacturing of a film roll with high purity. <P>SOLUTION: The film washing device 10 is provided with an unwinding part 12 from which a film 11 is unwound, a washing chamber 20 including washing parts 21, 22 to make float up the particles attached to the film 11 by jetting pressurized washing water and a rinsing chamber 30 including rinsing parts 31, 32 to make rinse the particles on the surface of the film 11 with rinse water. A drying chamber 50 includes drying parts 51, 52 and the winding part 13 winds the film 11 from the drying chamber 50. The washing chamber 20, rinsing chamber 30 and the drying chamber 50 are arranged sequentially in this order from the lower part to the upper part. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、フィルムの製造工程において用いられるフィルム洗浄装置に係り、とりわけディスプレイ液晶等に用いられ、高度な清浄性が要求されるプラスチックフィルムを洗浄するフィルム洗浄装置に関する。 The present invention relates to a film cleaning apparatus used in a film manufacturing process, and more particularly to a film cleaning apparatus used for a display liquid crystal or the like and cleaning a plastic film that requires high cleanliness.

近年、ディスプレイ等のエレクトロニクス関連分野においてプラスチックフィルムの利用が増加している。このようなフィルムのうち液晶に用いられるプラスチックフィルムは、例えば液晶分子の配向処理に使用されている（例えば特許文献１参照）。 In recent years, the use of plastic films is increasing in electronics-related fields such as displays. Among such films, plastic films used for liquid crystals are used, for example, for alignment treatment of liquid crystal molecules (see, for example, Patent Document 1).

また、このようなプラスチックフィルムは、基板フィルム上に液晶性高分子層を形成し、これを透光性基板上に転写して視野角改良板、位相差板または色保証板等の光学素子を製造する際にも使用されている（例えば特許文献２参照）。 In addition, such a plastic film is formed by forming a liquid crystalline polymer layer on a substrate film, and transferring the optical polymer layer onto a translucent substrate so that an optical element such as a viewing angle improving plate, a phase difference plate, or a color guarantee plate is obtained. It is also used when manufacturing (for example, see Patent Document 2).

このように、プラスチックフィルムの利用が増加してきているのに伴い、プラスチックフィルムに対する要求も高くなってきている。このような要求としては、例えば、耐熱性や耐薬品性のほか、フィルム表面の清浄性が挙げられる。このようにフィルム表面に高度な清浄性が要求されるのは、使用されるフィルム部材に異物や粉塵等のパーティクルが付着した場合、フィルムの特性に悪影響を与えるためである。 Thus, as the use of plastic films has increased, the demand for plastic films has increased. Examples of such requirements include heat resistance and chemical resistance, as well as film surface cleanliness. The reason why high cleanliness is required on the film surface in this way is that when particles such as foreign matter and dust adhere to the film member to be used, the characteristics of the film are adversely affected.

したがって、このような高度な清浄性が要求されるプラスチックフィルムは、クリーンルーム内において製造される必要がある。このようなフィルムの製造工程において、仮にフィルムに異物が混入していたり、フィルムに微細な粉塵が付着していたりすると、この異物や粉塵の上からフィルムに液晶性高分子層を塗布した後、液晶性高分子層の塗布ムラが生じる。仮に、このような異物や粉塵の大きさが数十μｍ〜数百μｍであっても、フィルムの塗布ムラは数ｍｍにも達するため、フィルム表面の異物や微細な粉塵を無視することはできない。 Therefore, such a plastic film that requires high cleanliness needs to be manufactured in a clean room. In the manufacturing process of such a film, if foreign matter is mixed in the film, or if fine dust adheres to the film, after applying the liquid crystalline polymer layer on the film from this foreign matter or dust, Uneven coating of the liquid crystalline polymer layer occurs. Even if the size of such foreign matter and dust is several tens of μm to several hundreds of μm, the coating unevenness of the film reaches several millimeters, so foreign matter and fine dust on the film surface cannot be ignored. .

また、フィルムはロール状に巻取られた状態で管理されており、この際巻きずれを防止するためにフィルムが固く巻き取られる場合がある。この場合、上述したような異物がフィルムに付着していると、巻き取られたロールのうち異物の部分が膨らみ、これによりその膨らんだ部分の前後のフィルムにもこの異物に対応する凹凸が残存する。このようにして、フィルムにわずかな異物が付着していても製品の歩留まりは悪化する。 Moreover, the film is managed in the state wound up by roll shape, and in this case, in order to prevent winding deviation, the film may be wound up tightly. In this case, when the foreign matter as described above adheres to the film, the foreign matter portion of the wound roll swells, and as a result, irregularities corresponding to the foreign matter remain in the film before and after the swelled portion. To do. In this way, the yield of products deteriorates even if a small amount of foreign matter adheres to the film.

ところで、フィルム表面の異物を除去する方法として、例えば特許文献３に示すように、プラスチックフィルムを超純水中に浸漬して洗浄する方法や、例えば特許文献４に示すように、クリーンルーム内において除電処理および振動工程を経由させ、これによりフィルム表面の異物を除去する方法が知られている。また特許文献５には、クリーンルーム内で水系または非水系の洗浄液を用いてフィルムを洗浄し、この洗浄後のフィルムに気体を吹き付け、これにより洗浄液を脱離させて異物を除去する方法が記載されている。 By the way, as a method of removing the foreign matter on the film surface, for example, as shown in Patent Document 3, a method of cleaning by immersing a plastic film in ultrapure water, or as shown in Patent Document 4, for example, in a clean room There is known a method for removing foreign substances on the film surface through a treatment and vibration process. Further, Patent Document 5 describes a method of cleaning a film using an aqueous or non-aqueous cleaning liquid in a clean room, and blowing a gas onto the cleaned film, thereby removing the cleaning liquid and removing foreign matters. ing.

このように、液体中にフィルムを浸漬させたり、エアまたは液体をフィルムに吹き付けたりすることにより、フィルムに付着している異物を一旦はフィルムから除去することができる。しかしながら、この場合、フィルムから離脱した異物自体が水槽内または装置内に拡散し、またはフィルムから離脱した異物がミスト中に取り込まれて水槽内または装置内に拡散する。したがって、一旦フィルム表面から離脱した異物のうちの一部は、ロール上に再付着し、この状態でフィルムが乾燥されて再付着した異物ごとフィルムが巻き取られる。 In this way, the foreign matter adhering to the film can be once removed from the film by immersing the film in the liquid or spraying air or liquid on the film. However, in this case, the foreign matter detached from the film itself diffuses into the water tank or the apparatus, or the foreign matter detached from the film is taken into the mist and diffuses into the water tank or the apparatus. Therefore, a part of the foreign matter once detached from the film surface is reattached on the roll, and in this state, the film is dried and the film is taken up together with the foreign matter reattached.

また、このような異物は、フィルムを連続で処理するに従ってその数が増加するため、フィルムロールの巻きメートル数が大きくなるほどクリーンルーム内の異物が増加し、クリーンルームの環境が汚される傾向がある。
特開平０６−１１００５９号公報特開平０７−ｌｌ３９９３号公報特許第３３５１４３１号公報特開２００１−１５１９１１号公報特開２００１−３００４５９号公報 Moreover, since the number of such foreign matters increases as the film is processed continuously, the foreign matter in the clean room tends to increase as the film roll winding meter increases, and the clean room environment tends to be contaminated.
Japanese Patent Laid-Open No. 06-110059 Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-ll3993 Japanese Patent No. 3351431 JP 2001-151911 A JP 2001-300459 A

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、フィルムの洗浄中にフィルムに異物が再付着することを防止し、高い清浄性を有するフィルムロールを製造することができるフィルム洗浄装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such points, and a film cleaning apparatus capable of preventing a foreign matter from reattaching to a film during film cleaning and producing a film roll having high cleanliness. The purpose is to provide.

本発明は、フィルムが巻き出される巻き出し部と、巻き出し部からのフィルムに対して加圧した洗浄水を噴射して、フィルムに付着したパーティクルを浮き出させる洗浄部を含む洗浄室と、洗浄室に連結され、洗浄部で洗浄水が噴射されたフィルム表面のパーティクルをリンス水により洗い流すリンス部を含むリンス室と、リンス室に連結され、リンス室からのフィルムを乾燥する乾燥部を含む乾燥室と、乾燥室からのフィルムを巻き取る巻き取り部とを備え、洗浄室、リンス室、および乾燥室は、この順で下方から上方へ順次配置されていることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 The present invention includes an unwinding unit from which the film is unwound, a cleaning chamber including a cleaning unit that jets cleaning water pressurized against the film from the unwinding unit and lifts particles adhering to the film, and cleaning A rinsing chamber including a rinsing portion that rinses away particles on the surface of the film, which is connected to the chamber and sprayed with cleaning water by the rinsing water, and a drying portion that is connected to the rinsing chamber and dries the film from the rinsing chamber. A film cleaning apparatus comprising: a chamber; and a winding unit for winding the film from the drying chamber, wherein the cleaning chamber, the rinsing chamber, and the drying chamber are sequentially arranged from the bottom to the top in this order. is there.

本発明は、洗浄室、リンス室、および乾燥室は、それぞれ外気から遮断され、洗浄室とリンス室、およびリンス室と乾燥室は、それぞれの間に設けられた通過孔を介して、互いに連通されていることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 In the present invention, the cleaning chamber, the rinsing chamber, and the drying chamber are each shielded from the outside air, and the cleaning chamber and the rinsing chamber, and the rinsing chamber and the drying chamber communicate with each other through a through hole provided between them. It is the film cleaning apparatus characterized by the above-mentioned.

本発明は、上方に設けられた乾燥室には、下方に向かって流出する加圧ガスを供給する加圧ガス供給部が接続されていることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 The present invention is the film cleaning apparatus, characterized in that a pressurization gas supply unit for supplying a pressurization gas flowing out downward is connected to the drying chamber provided above.

本発明は、下方に設けられた洗浄室には、洗浄室内を減圧吸引する減圧部が接続されていることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 The present invention is the film cleaning apparatus, characterized in that a vacuum chamber for vacuum suction of the cleaning chamber is connected to the cleaning chamber provided below.

本発明は、洗浄室の洗浄部、リンス室のリンス部、および乾燥室の乾燥部は、それぞれフィルムの表側およびフィルムの裏側に対応して２箇所ずつ設けられていることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 According to the present invention, the cleaning section of the cleaning chamber, the rinsing section of the rinsing chamber, and the drying section of the drying chamber are provided in two locations corresponding to the front side of the film and the back side of the film, respectively. Device.

本発明は、洗浄室、リンス室、および乾燥室は、各々フィルムを保持して搬送するガイドロールを含み、洗浄室の洗浄部、リンス室のリンス部、および乾燥室の乾燥部は、それぞれガイドロール近傍に設けられていることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 In the present invention, the cleaning chamber, the rinsing chamber, and the drying chamber each include a guide roll that holds and conveys the film, and the cleaning section of the cleaning chamber, the rinsing section of the rinsing chamber, and the drying section of the drying chamber each have a guide. The film cleaning apparatus is provided near a roll.

本発明は、洗浄室の洗浄部は、洗浄ノズルからなることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 The present invention is the film cleaning apparatus, wherein the cleaning section of the cleaning chamber includes a cleaning nozzle.

本発明は、乾燥室の乾燥部は、エアナイフからなることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 The present invention is the film cleaning apparatus, wherein the drying section of the drying chamber is composed of an air knife.

本発明は、フィルムが巻き出される巻き出し部と、巻き出し部からのフィルムに対して加圧した洗浄水を噴射して、フィルムに付着したパーティクルを浮き出させる洗浄部を含む洗浄室と、洗浄室に連結され、洗浄部で洗浄水が噴射されたフィルム表面のパーティクルをリンス水により洗い流すリンス部を含むリンス室と、リンス室に連結され、リンス部からのフィルムの乾燥を防ぐためにフィルム表面に保湿水を噴射する保湿部を含む保湿室と、保湿室に連結され、保湿室からのフィルムを乾燥する乾燥部を含む乾燥室と、乾燥室からのフィルムを巻き取る巻き取り部とを備え、洗浄室、リンス室、保湿室、および乾燥室は、この順で下方から上方へ順次配置されていることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 The present invention includes an unwinding unit from which the film is unwound, a cleaning chamber including a cleaning unit that jets cleaning water pressurized against the film from the unwinding unit and lifts particles adhering to the film, and cleaning A rinse chamber that includes a rinse section that rinses away particles on the film surface that has been sprayed with cleaning water by a rinse section, and a rinse chamber that is coupled to the rinse chamber and prevents the film from drying from the rinse section. A moisturizing chamber including a moisturizing unit for injecting moisturizing water, a drying chamber connected to the moisturizing chamber and including a drying unit for drying the film from the moisturizing chamber, and a winding unit for winding the film from the drying chamber, The film cleaning apparatus is characterized in that the cleaning chamber, the rinsing chamber, the moisturizing chamber, and the drying chamber are sequentially arranged from the bottom to the top in this order.

本発明は、洗浄室、リンス室、保湿室、および乾燥室は、それぞれ外気から遮断され、洗浄室とリンス室、リンス室と保湿室、および保湿室と乾燥室は、それぞれの間に設けられた間仕切りにより、互いに区画されていることを特徴とするフィルム洗浄装置である。 In the present invention, the cleaning room, the rinsing room, the moisturizing room, and the drying room are each shielded from the outside air, and the cleaning room and the rinsing room, the rinsing room and the moisturizing room, and the moisturizing room and the drying room are provided between them. The film cleaning apparatus is characterized by being partitioned from each other by a partition.

本発明によれば、洗浄室、リンス室、および乾燥室がこの順で下方から上方へ順次配置されていることにより、前工程（下方）でフィルム表面から除去されたパーティクルが、後工程（上方）に拡散せず、フィルムに異物が再付着することを防止することができ、これにより高い清浄性を有するフィルムロールを製造することができる。 According to the present invention, the cleaning chamber, the rinse chamber, and the drying chamber are sequentially arranged from the bottom to the top in this order, so that the particles removed from the film surface in the previous step (downward) It is possible to prevent the foreign matter from re-adhering to the film, thereby producing a film roll having high cleanliness.

また、本発明によれば、洗浄室、リンス室、および乾燥室は、それぞれ外気から遮断され、洗浄室とリンス室、およびリンス室と乾燥室は、それぞれの間に設けられた間仕切りにより互いに区画されていることにより、フィルム表面から除去されたパーティクルが隣接する室内に拡散するおそれがなく、フィルムに異物が再付着することを防止することができる。 According to the present invention, the cleaning chamber, the rinsing chamber, and the drying chamber are each shielded from the outside air, and the cleaning chamber and the rinsing chamber, and the rinsing chamber and the drying chamber are separated from each other by the partition provided between them. By doing so, there is no possibility that particles removed from the film surface will diffuse into the adjacent chamber, and foreign matter can be prevented from reattaching to the film.

さらに、本発明によれば、上方に設けられた乾燥室から下方へ向けて加圧ガスが供給され、また下方に設けられた洗浄室内が減圧吸引されていることにより、前工程（下方）でフィルム表面から除去されたパーティクルが、後工程（上方）に拡散することをより確実に防止することができる。 Furthermore, according to the present invention, the pressurized gas is supplied downward from the drying chamber provided above, and the cleaning chamber provided below is sucked under reduced pressure. It is possible to more reliably prevent the particles removed from the film surface from diffusing in the subsequent process (upward).

さらにまた、本発明によれば、洗浄室の洗浄部、リンス室のリンス部、および乾燥室の乾燥部が、それぞれフィルムの表側およびフィルムの裏側に対応して２箇所ずつ設けられていることにより、フィルムの両表面のパーティクルを確実に除去することができる。 Furthermore, according to the present invention, the cleaning section of the cleaning chamber, the rinsing section of the rinsing chamber, and the drying section of the drying chamber are provided in two locations corresponding to the front side of the film and the back side of the film, respectively. The particles on both surfaces of the film can be reliably removed.

さらにまた、洗浄室の洗浄部、リンス室のリンス部、および乾燥室の乾燥部が、それぞれガイドロール近傍に設けられていることにより、洗浄部からの洗浄水、リンス部からのリンス水、および乾燥部からのエアによりフィルムがばたつくことを防止することができる。 Furthermore, the cleaning part of the cleaning room, the rinsing part of the rinsing room, and the drying part of the drying room are provided in the vicinity of the guide roll, respectively, so that the cleaning water from the cleaning part, the rinsing water from the rinsing part, and It is possible to prevent the film from fluttering due to air from the drying section.

さらにまた、本発明によれば、乾燥室の乾燥部がエアナイフからなることにより、フィルムに熱的負荷等を与えることなくフィルム上のミスト等を除去することができる。 Furthermore, according to the present invention, since the drying section of the drying chamber is composed of an air knife, mist and the like on the film can be removed without applying a thermal load to the film.

さらにまた、本発明によれば、洗浄室、リンス室、保湿室、および乾燥室がこの順で下方から上方へ順次配置されていることにより、前工程（下方）でフィルム表面から除去されたパーティクルが、後工程（上方）に拡散せず、フィルムに異物が再付着することを防止することができ、これにより高い清浄性を有するフィルムロールを製造することができる。 Furthermore, according to the present invention, the cleaning chamber, the rinse chamber, the moisturizing chamber, and the drying chamber are sequentially arranged from the bottom to the top in this order, so that the particles removed from the film surface in the previous step (downward) However, it does not diffuse to the post-process (upward), and it is possible to prevent foreign matters from reattaching to the film, thereby producing a film roll having high cleanliness.

さらにまた、本発明によれば、洗浄室、リンス室、保湿室、および乾燥室は、それぞれ外気から遮断され、洗浄室とリンス室、リンス室と保湿室、および保湿室と乾燥室は、それぞれの間に設けられた間仕切りにより互いに区画されていることにより、フィルム表面から除去されたパーティクルが隣接する室内に拡散せず、フィルムに異物が再付着することを防止することができる。 Furthermore, according to the present invention, the cleaning chamber, the rinsing chamber, the moisture retention chamber, and the drying chamber are each shielded from the outside air, and the cleaning chamber and the rinse chamber, the rinse chamber and the moisture retention chamber, and the moisture retention chamber and the drying chamber are each Since the particles are separated from each other by the partition provided between the particles, the particles removed from the film surface do not diffuse into the adjacent chamber, and the foreign matter can be prevented from reattaching to the film.

以下、本発明の一実施の形態について、図１を参照して説明する。
ここで、図１は、本発明の一実施の形態を示す概略断面図である。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Here, FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the present invention.

まず、図１により、本実施の形態によるフィルム洗浄装置の概略について説明する。 First, the outline of the film cleaning apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

図１に示すように、フィルム洗浄装置１０は、フィルム１１が巻き出される巻き出し部１２と、巻き出し部１２からのフィルム１１に対して加圧した洗浄水を噴射して、フィルム１１に付着したパーティクルを浮き出させる洗浄部２１、２２を含む洗浄室２０と、洗浄室２０に連結され、洗浄部２１、２２で洗浄水が噴射されたフィルム１１表面のパーティクルをリンス水により洗い流すリンス部３１、３２を含むリンス室３０とを備えている。また、リンス室３０に保湿部４１、４２を含む保湿室４０が連結され、保湿室４０の保湿部４１、４２は、リンス部３１、３２からのフィルム１１の乾燥を防ぐためにフィルム１１表面にリンス水を噴射する。さらに、保湿室４０に乾燥部５１、５２を含む乾燥室５０が連結され、乾燥室５０の乾燥部５１、５２は、保湿室４０からのフィルム１１を乾燥させる。さらに、乾燥室５０にはクリーンなエアで満たされた搬送室１７が連結され、この搬送室１７内に巻き取り部１３が配置されている。この搬送室１７内の巻き取り部１３は、乾燥室５０からのフィルム１１を巻き取るものである。 As shown in FIG. 1, the film cleaning device 10 is attached to the film 11 by spraying the unwinding part 12 from which the film 11 is unwound and the pressurized washing water to the film 11 from the unwinding part 12. A cleaning chamber 20 that includes cleaning units 21 and 22 that make the particles lifted up, and a rinse unit 31 that is connected to the cleaning chamber 20 and rinses the particles on the surface of the film 11 sprayed with cleaning water by the cleaning units 21 and 22 with rinse water, And a rinsing chamber 30 including 32. Further, the moisturizing chamber 40 including the moisturizing portions 41 and 42 is connected to the rinsing chamber 30, and the moisturizing portions 41 and 42 of the moisturizing chamber 40 are rinsed on the surface of the film 11 in order to prevent the film 11 from drying from the rinsing portions 31 and 32. Spray water. Furthermore, the drying chamber 50 including the drying units 51 and 52 is connected to the moisturizing chamber 40, and the drying units 51 and 52 of the drying chamber 50 dry the film 11 from the moisturizing chamber 40. Further, a transfer chamber 17 filled with clean air is connected to the drying chamber 50, and a winding unit 13 is disposed in the transfer chamber 17. The winding unit 13 in the transfer chamber 17 winds up the film 11 from the drying chamber 50.

図１に示すように、これら洗浄室２０、リンス室３０、保湿室４０、および乾燥室５０は、この順で下方から上方へ順次配置されている。また、洗浄室２０、リンス室３０、保湿室４０、および乾燥室５０は、それぞれ外気から遮断されており、洗浄室２０とリンス室３０、リンス室３０と保湿室４０、および保湿室４０と乾燥室５０は、それぞれの間に設けられた間仕切り３３、４３、５３により、互いに区画されている。 As shown in FIG. 1, the cleaning chamber 20, the rinse chamber 30, the moisturizing chamber 40, and the drying chamber 50 are sequentially arranged from the bottom to the top in this order. Further, the cleaning chamber 20, the rinsing chamber 30, the moisturizing chamber 40, and the drying chamber 50 are shielded from the outside air, and the cleaning chamber 20, the rinsing chamber 30, the rinsing chamber 30, the moisturizing chamber 40, and the moisturizing chamber 40 are dried. The chamber 50 is partitioned from each other by partitions 33, 43, 53 provided between them.

すなわち、洗浄室２０は、巻き出し部１２からのフィルム１１が通過する通過孔２４を除いて外気から遮断されている。また、洗浄室２０とリンス室３０との間に間仕切り３３が設けられ、リンス室３０は、外気から遮断されるとともに、洗浄室２０からのフィルム１１が通過する通過孔３４を除いて洗浄室２０から遮断されている。さらに、リンス室３０と保湿室４０との間に間仕切り４３が設けられ、保湿室４０は、外気から遮断されるとともに、リンス室３０からのフィルム１１が通過する通過孔４４を除いてリンス室３０から遮断されている。さらにまた、保湿室４０と乾燥室５０との間に間仕切り５３が設けられ、乾燥室５０は、外気から遮断されるとともに、保湿室４０からのフィルム１１が通過する通過孔５４を除いて保湿室４０から遮断されている。このように、洗浄室２０とリンス室３０とは通過孔３４を介して連通され、リンス室３０と保湿室４０とは通過孔４４を介して連通され、保湿室４０と乾燥室５０とは通過孔５４を介して連通している。 That is, the cleaning chamber 20 is shielded from the outside air except for the passage hole 24 through which the film 11 from the unwinding portion 12 passes. In addition, a partition 33 is provided between the cleaning chamber 20 and the rinsing chamber 30, and the rinsing chamber 30 is blocked from the outside air and the cleaning chamber 20 except for the passage hole 34 through which the film 11 from the cleaning chamber 20 passes. It is cut off from. Further, a partition 43 is provided between the rinsing chamber 30 and the moisturizing chamber 40, and the moisturizing chamber 40 is blocked from the outside air, and the rinsing chamber 30 except for the passage hole 44 through which the film 11 from the rinsing chamber 30 passes. It is cut off from. Furthermore, a partition 53 is provided between the moisturizing chamber 40 and the drying chamber 50, and the drying chamber 50 is shielded from the outside air, and the moisturizing chamber except for the passage hole 54 through which the film 11 from the moisturizing chamber 40 passes. 40 is cut off. As described above, the cleaning chamber 20 and the rinsing chamber 30 communicate with each other through the passage hole 34, the rinsing chamber 30 and the moisture retaining chamber 40 communicate with each other through the passage hole 44, and the moisture retaining chamber 40 and the drying chamber 50 pass through. The holes 54 communicate with each other.

また、上方に設けられた乾燥室５０に加圧ガス供給部１４が接続され、この加圧ガス供給部１４が、乾燥室５０内に加圧ガスを供給する。また、洗浄室２０には、洗浄室２０内を減圧吸引する減圧部１５が接続されている。 The pressurized gas supply unit 14 is connected to a drying chamber 50 provided above, and the pressurized gas supply unit 14 supplies pressurized gas into the drying chamber 50. Further, the cleaning chamber 20 is connected to a decompression unit 15 that suctions the interior of the cleaning chamber 20 under reduced pressure.

すなわち、加圧ガス供給部１４から乾燥室５０内へ清浄な加圧ガスが送り込まれ、この加圧ガスは、乾燥室５０から通過孔５４を介して保湿室４０へと流れ、次に保湿室４０から通過孔４４を介してリンス室３０へと流れ、次にリンス室３０から通過孔３４を介して洗浄室２０へと流れ込む。一方、洗浄室２０内部は減圧部１５により減圧吸引されている。したがって、フィルム１１の各通過孔３４、４４、５４において、清浄なエアがフィルム１１の搬送方向（上方向）と逆の方向（下方向）へ流される。これにより、各通過孔３４、４４、５４を経由して次工程（上方）へパーティクルが流入することはなく、このためフィルム１１にパーティクルが再付着する２次汚染を確実に防ぐことができる。 That is, clean pressurized gas is sent from the pressurized gas supply unit 14 into the drying chamber 50, and this pressurized gas flows from the drying chamber 50 to the moisturizing chamber 40 through the passage hole 54, and then the moisturizing chamber. It flows from 40 through the passage hole 44 to the rinse chamber 30, and then flows from the rinse chamber 30 into the cleaning chamber 20 through the passage hole 34. On the other hand, the inside of the cleaning chamber 20 is sucked under reduced pressure by the pressure reducing unit 15. Therefore, clean air flows in the direction (downward) opposite to the transport direction (upward) of the film 11 in each of the passage holes 34, 44, 54 of the film 11. Thereby, particles do not flow into the next process (upward) via the respective through holes 34, 44, 54, and therefore secondary contamination in which particles re-adhere to the film 11 can be reliably prevented.

また、図１に示すように、巻き出し部１２と洗浄室２０との間に除電装置１６が設けられ、この除電装置１６によりフィルム１１が洗浄室２０に入る前にフィルム１１の除電処理が行なわれる。また、巻き取り部１３の近傍に除電装置１９が設けられ、フィルム１１が巻き取り部１３により巻き取られる前に、除電装置１９によりフィルム１１の除電処理が行なわれる。 Further, as shown in FIG. 1, a static elimination device 16 is provided between the unwinding unit 12 and the cleaning chamber 20, and the static elimination processing of the film 11 is performed by the static elimination device 16 before the film 11 enters the cleaning chamber 20. It is. Further, a static eliminating device 19 is provided in the vicinity of the winding unit 13, and before the film 11 is taken up by the winding unit 13, the static eliminating process of the film 11 is performed by the static eliminating device 19.

ところで、フィルム１１は、熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂からなっている。このうち熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂としては、例えば、ナイロン等のポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリケトン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリ（メタ）アクリレート、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール等が挙げられる。 Incidentally, the film 11 is made of a thermosetting resin or a thermoplastic resin. Among these, as a thermosetting resin, a polyimide, an epoxy resin, a phenol resin etc. are mentioned, for example. Examples of the thermoplastic resin include polyamide such as nylon, polyether imide, polyether ketone, polyether ether ketone (PEEK), polyketone, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, Examples thereof include polyesters such as polybutylene terephthalate, polyacetals, polycarbonates, poly (meth) acrylates, cellulose resins such as triacetyl cellulose, and polyvinyl alcohol.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について述べる。
まず、フィルムロール１１ａが巻き出し部１２に取り付けられる。この際、フィルムロール１１ａは一次包装がされた状態で外部からクリーンルーム内へ搬入される。次に、この包装が取り除かれた後に移動台車に載せられ、巻き出し部１２に取り付けられる。 Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described.
First, the film roll 11 a is attached to the unwinding unit 12. At this time, the film roll 11a is carried into the clean room from the outside in a primary packaged state. Next, after this packaging is removed, it is placed on the moving carriage and attached to the unwinding section 12.

その後、巻き出し部１２からのフィルム１１は洗浄室２０内へ通され、さらに図１に示すように、順次通過孔３４を介してリンス室３０、次に通過孔４４を介して保湿室４０、次に通過孔５４を介して乾燥室５０へ送られ、その後搬送室１７内に配置された巻き取り部１３において巻き取られる。
ここで、これら洗浄室２０、リンス室３０、保湿室４０、および乾燥室５０は、それぞれ洗浄工程、リンス工程、保湿工程、乾燥工程の４つの工程に対応している。 Thereafter, the film 11 from the unwinding section 12 is passed into the cleaning chamber 20, and as shown in FIG. 1, the rinsing chamber 30 is sequentially passed through the passage hole 34, and then the moisturizing chamber 40 is passed through the passage hole 44. Next, it is sent to the drying chamber 50 through the passage hole 54, and then wound up in the winding unit 13 disposed in the transfer chamber 17.
Here, the cleaning chamber 20, the rinsing chamber 30, the moisturizing chamber 40, and the drying chamber 50 correspond to four processes, that is, a cleaning process, a rinsing process, a moisturizing process, and a drying process, respectively.

次に、上述した各工程における作用を詳細に説明する。
洗浄工程
洗浄工程は、上述したように、洗浄室２０内において、洗浄部２１、２２により加圧した洗浄水を噴射して、フィルム１１に付着した異物、粉塵等のパーティクルを浮き出させる工程である。 Next, the effect | action in each process mentioned above is demonstrated in detail.
Cleaning process the washing step, as described above, in the cleaning chamber 20, by injecting pressurized washing water by washing unit 21, the foreign matter adhering to the film 11, is a step of stand out particles of dust .

まず、フィルム１１は、巻き出し部１２から通過孔２４を経由して洗浄室２０内へ供給される。このフィルム１１は、洗浄室２０内において、ガイドロール２５、２６、２７によりガイドされ、洗浄室２０に隣接するリンス室３０へ向けて搬送される。この間、洗浄部２１、２２により加圧した洗浄水がフィルム１１へ噴射される。 First, the film 11 is supplied from the unwinding part 12 into the cleaning chamber 20 via the passage hole 24. The film 11 is guided by guide rolls 25, 26, and 27 in the cleaning chamber 20, and is transported toward the rinse chamber 30 adjacent to the cleaning chamber 20. During this time, the cleaning water pressurized by the cleaning units 21 and 22 is sprayed onto the film 11.

洗浄部２１、２２は、洗浄ノズルからなり、それぞれフィルム１１の表側およびフィルム１１の裏側に対応して２箇所ずつ設けられている。このうち洗浄部２１はガイドロール２６近傍に設けられており、洗浄部２２はガイドロール２７近傍に設けられている。 The cleaning units 21 and 22 are composed of cleaning nozzles, and are provided at two locations corresponding to the front side of the film 11 and the back side of the film 11, respectively. Of these, the cleaning unit 21 is provided in the vicinity of the guide roll 26, and the cleaning unit 22 is provided in the vicinity of the guide roll 27.

すなわち、まずガイドロール２６近傍の洗浄部２１によりフィルム１１の片側の表面が洗浄される。その後、フィルム１１は、ガイドロール２７の方向へ搬送され、ガイドロール２７近傍の洗浄部２２により、洗浄部２１により洗浄された表面と反対側の表面を同様にして洗浄される。このように、洗浄部２１、２２により加圧した洗浄水をフィルム１１に対して噴射することにより、フィルム１１に付着したパーティクルを浮き出させることができる。 That is, first, the surface of one side of the film 11 is cleaned by the cleaning unit 21 in the vicinity of the guide roll 26. Thereafter, the film 11 is conveyed in the direction of the guide roll 27, and the surface opposite to the surface cleaned by the cleaning unit 21 is similarly cleaned by the cleaning unit 22 near the guide roll 27. In this way, by spraying the cleaning water pressurized by the cleaning units 21 and 22 onto the film 11, particles adhering to the film 11 can be raised.

これら洗浄部２１、２２は、それぞれガイドロール２６、２７とフィルム１１とが接触している箇所において、ガイドロール２６、２７とフィルム１１とが接触している側と反対側のフィルム１１表面に洗浄水を噴射するようになっている。このように、洗浄部２１、２２から洗浄水が噴射される位置は、ガイドロール２６、２７とフィルム１１とが接触している位置であるのが好ましい。この場合、ガイドロール２６、２７は、洗浄部２１、２２からの洗浄水が噴射されたフィルム１１を保持する保持機能を有する。一方、洗浄水が、ガイドロール２６、２７とフィルム１１とが接触していない位置に噴射されると、洗浄水の噴射によりフィルム１１がばたつくため、好ましくない。 These cleaning sections 21 and 22 clean the surface of the film 11 on the side opposite to the side where the guide rolls 26 and 27 and the film 11 are in contact with each other where the guide rolls 26 and 27 and the film 11 are in contact with each other. Water is jetted. Thus, it is preferable that the position where the cleaning water is jetted from the cleaning units 21 and 22 is a position where the guide rolls 26 and 27 and the film 11 are in contact with each other. In this case, the guide rolls 26 and 27 have a holding function of holding the film 11 on which the cleaning water from the cleaning units 21 and 22 is jetted. On the other hand, if the cleaning water is sprayed to a position where the guide rolls 26 and 27 and the film 11 are not in contact, the film 11 flutters due to the spraying of the cleaning water, which is not preferable.

また、洗浄部２１、２２はそれぞれ複数の噴射ノズルを有しており、これら複数の噴射ノズルは、それぞれガイドロール２６、２７の軸方向と平行に設けられ、フィルム１１の幅をカバーする長さに配列されている。 The cleaning units 21 and 22 each have a plurality of spray nozzles, and the plurality of spray nozzles are provided in parallel with the axial directions of the guide rolls 26 and 27, respectively, and have a length that covers the width of the film 11. Is arranged.

ところで、洗浄部２１、２２の噴射ノズルからの洗浄水の噴射方法は幾つか存在し、例えばパルスをかけて高圧で洗浄水を噴射する方法や、洗浄水と空気とを混合して噴射する方法などが用いられる。このうち、前者のパルスをかけて高圧で洗浄水を噴射する方法がより好ましい。 By the way, there are several methods of spraying cleaning water from the spray nozzles of the cleaning units 21 and 22, for example, a method of spraying cleaning water at a high pressure by applying a pulse, or a method of spraying mixed cleaning water and air. Etc. are used. Of these, the former method of spraying cleaning water at a high pressure by applying a pulse is more preferable.

また、洗浄部２１、２２の噴射ノズルから噴射された洗浄水は水膜を形成する。この水膜がフィルム１１に当たる角度は、フィルム１１表面と垂直な面に対して２０度〜６０度の角度をなすことが好ましい。一方、この角度が２０度未満であるかまたは６０度を超えると、洗浄水を噴射した際、噴射された洗浄水の水線が乱れて水線を直線に保持するのが難しくなる。この場合は、ガイドロール２６、２７にガイドされて上昇するフィルム１１に水滴が付着し、フィルム１１とともに搬送されるおそれがあるため、好ましくない。 Further, the cleaning water sprayed from the spray nozzles of the cleaning units 21 and 22 forms a water film. The angle at which the water film hits the film 11 is preferably 20 to 60 degrees with respect to a plane perpendicular to the surface of the film 11. On the other hand, if this angle is less than 20 degrees or exceeds 60 degrees, when the cleaning water is jetted, the water lines of the jetted washing water are disturbed and it becomes difficult to keep the water lines straight. In this case, water droplets may adhere to the film 11 that rises while being guided by the guide rolls 26 and 27 and may be transported together with the film 11.

なお、洗浄部２１、２２からの洗浄水は、純水からなるのが好ましい。 The cleaning water from the cleaning units 21 and 22 is preferably made of pure water.

リンス工程
リンス工程は、上述したように、リンス室３０内において、洗浄部２１、２２で洗浄水が噴射されたフィルム１１表面のパーティクルをリンス水により洗い流す工程である。 Rinsing Step The rinsing step is a step in which the particles on the surface of the film 11 on which the cleaning water is sprayed by the cleaning units 21 and 22 are rinsed off with the rinsing water in the rinsing chamber 30 as described above.

すなわち、リンス工程において、洗浄工程が終了した後に洗浄室２０からリンス室３０内へフィルム１１が搬入され、このフィルム１１表面に浮き出したパーティクル、またはフィルム１１に再付着したパーティクルをリンス水により洗い流される。 That is, in the rinsing step, the film 11 is carried into the rinsing chamber 30 from the cleaning chamber 20 after the cleaning step is completed, and the particles that have floated on the surface of the film 11 or particles that have reattached to the film 11 are washed away with rinsing water. .

まず、フィルム１１は、洗浄室２０から通過孔３４を経由してリンス室３０内へ送り込まれる。次にフィルム１１は、リンス室３０内において、ガイドロール３５、３６、３７によりガイドされ、リンス室３０に隣接する保湿室４０へ向けて搬送される。この間、リンス室３０内のリンス部３１、３２によりリンス水がフィルム１１へ噴射される。 First, the film 11 is fed into the rinse chamber 30 from the cleaning chamber 20 via the passage hole 34. Next, the film 11 is guided by the guide rolls 35, 36, and 37 in the rinsing chamber 30, and is conveyed toward the moisturizing chamber 40 adjacent to the rinsing chamber 30. During this time, rinse water is sprayed onto the film 11 by the rinse portions 31 and 32 in the rinse chamber 30.

このリンス部３１、３２は、それぞれフィルム１１の表側およびフィルム１１の裏側に対応して２箇所ずつ設けられている。このうちリンス部３１はガイドロール３６近傍に設けられており、リンス部３２はガイドロール３７近傍に設けられている。 The rinse portions 31 and 32 are provided at two locations corresponding to the front side of the film 11 and the back side of the film 11, respectively. Among these, the rinse part 31 is provided in the guide roll 36 vicinity, and the rinse part 32 is provided in the guide roll 37 vicinity.

すなわち、まずガイドロール３６近傍のリンス部３１は、フィルム１１の片側の表面にリンス水を噴射してパーティクルを洗い流す。その後、フィルム１１は、ガイドロール３７の方向へ搬送され、ガイドロール３７近傍のリンス部３２は、リンス部３１によりリンス水を噴射された表面と反対側の表面に対してリンス水を噴射する。この場合、ガイドロール３６、３７は、洗浄部３１、３２からの洗浄水が噴射されたフィルム１１を保持する保持機能を有する。 That is, first, the rinse part 31 near the guide roll 36 sprays rinse water on the surface of one side of the film 11 to wash away particles. Thereafter, the film 11 is conveyed in the direction of the guide roll 37, and the rinse part 32 in the vicinity of the guide roll 37 injects rinse water onto the surface opposite to the surface on which the rinse water is injected by the rinse part 31. In this case, the guide rolls 36 and 37 have a holding function for holding the film 11 on which the cleaning water from the cleaning units 31 and 32 is jetted.

これらリンス部３１、３２は、それぞれガイドロール３６、３７とフィルム１１とが接触している箇所において、ガイドロール３６、３７とフィルム１１とが接触している側と反対側のフィルム１１表面にリンス水を噴射するようになっている。 The rinse portions 31 and 32 are rinsed on the surface of the film 11 opposite to the side where the guide rolls 36 and 37 and the film 11 are in contact with each other at the locations where the guide rolls 36 and 37 and the film 11 are in contact with each other. Water is jetted.

なお、リンス水としては、純水または超純水を用いることが好ましいが、適宜、水素や酸素などの気体をリンス水内に混合させても良い。 In addition, although it is preferable to use pure water or ultrapure water as the rinse water, a gas such as hydrogen or oxygen may be appropriately mixed in the rinse water.

保湿工程
保湿工程は、上述したように、保湿室４０内において、リンス室３０のリンス部３１、３２からのフィルム１１の乾燥を防ぐためにフィルム１１表面に保湿水を噴射する工程である。 Moisturizing Step The moisturizing step is a step of spraying moisturizing water on the surface of the film 11 in order to prevent the film 11 from drying from the rinse portions 31 and 32 of the rinsing chamber 30 in the moisturizing chamber 40 as described above.

すなわち保湿工程は、リンス工程と同様に、フィルム１１表面に付着したパーティクルを保湿水によって洗い流すとともに、フィルム１１が乾燥室５０に入る前にフィルム１１表面が自然乾燥してミストの痕跡がフィルム１１上に残るのを防止する役割を果たす。 That is, in the moisturizing step, the particles adhering to the surface of the film 11 are washed away with moisturizing water, and the surface of the film 11 is naturally dried before the film 11 enters the drying chamber 50, so that traces of mist are formed on the film 11. It plays a role in preventing it from remaining in the room.

まず、フィルム１１は、リンス室３０から通過孔４４を経由して保湿室４０内へ送り込まれる。次にフィルム１１は、保湿室４０内において、ガイドロール４５、４６、４７によりガイドされ、保湿室４０に隣接する乾燥室５０へ向けて搬送される。この間、保湿部４１、４２により保湿水がフィルム１１へ噴射される。 First, the film 11 is fed into the moisturizing chamber 40 from the rinse chamber 30 via the passage hole 44. Next, the film 11 is guided by the guide rolls 45, 46, 47 in the moisturizing chamber 40 and is conveyed toward the drying chamber 50 adjacent to the moisturizing chamber 40. During this time, moisturizing water is sprayed onto the film 11 by the moisturizing units 41 and 42.

この保湿部４１、４２は、それぞれフィルム１１の表側およびフィルム１１の裏側に対応して２箇所ずつ設けられている。このうち保湿部４１はガイドロール４６近傍に設けられており、保湿部４２はガイドロール４７近傍に設けられている。 The moisturizing portions 41 and 42 are provided at two locations corresponding to the front side of the film 11 and the back side of the film 11, respectively. Among these, the moisturizing part 41 is provided in the vicinity of the guide roll 46, and the moisturizing part 42 is provided in the vicinity of the guide roll 47.

すなわち、まずガイドロール４６近傍の保湿部４１は、フィルム１１の片側の表面に保湿水を噴射する。その後、フィルム１１は、ガイドロール４７の方向へ搬送され、ガイドロール４７近傍の保湿部４２は、保湿部４１により保湿水を噴射された表面と反対側の表面に対して保湿水を噴射する。 That is, first, the moisturizing unit 41 in the vicinity of the guide roll 46 injects moisturizing water onto the surface of one side of the film 11. Thereafter, the film 11 is conveyed in the direction of the guide roll 47, and the moisturizing unit 42 in the vicinity of the guide roll 47 injects the moisturizing water onto the surface opposite to the surface on which the moisturizing unit 41 ejected the moisturizing water.

これら保湿部４１、４２は、それぞれガイドロール４６、４７とフィルム１１とが接触している箇所において、ガイドロール４６、４７とフィルム１１とが接触している側と反対側のフィルム１１表面に保湿水を噴射するようになっている。この場合、ガイドロール４６、４７は、洗浄部４１、４２からの洗浄水が噴射されたフィルム１１を保持する保持機能を有する。 These moisturizing portions 41 and 42 are moisturized on the surface of the film 11 opposite to the side where the guide rolls 46 and 47 and the film 11 are in contact with each other at the locations where the guide rolls 46 and 47 and the film 11 are in contact with each other. Water is jetted. In this case, the guide rolls 46 and 47 have a holding function for holding the film 11 on which the cleaning water from the cleaning units 41 and 42 is jetted.

なお、保湿水としては、リンス水と同じ液体を用いてもよく、またリンス水と異なる成分からなる液体を用いても良い。 As the moisturizing water, the same liquid as the rinsing water may be used, or a liquid made of a component different from the rinsing water may be used.

乾燥工程
乾燥工程は、上述したように、乾燥室５０内において、保湿室４０からのフィルム１１を乾燥させる工程である。 As described above, the drying process is a process of drying the film 11 from the moisturizing chamber 40 in the drying chamber 50.

すなわち乾燥工程は、洗浄工程、リンス工程、および保湿工程においてフィルム１１の洗浄に使用され、フィルム１１上に残存する液体を除去する工程である。 That is, the drying process is a process for removing the liquid remaining on the film 11 that is used for cleaning the film 11 in the cleaning process, the rinsing process, and the moisturizing process.

まず、フィルム１１は、保湿室４０から通過孔５４を経由して乾燥室５０内へ送り込まれる。次にフィルム１１は、乾燥室５０内において、ガイドロール５５、５６、５７によりガイドされ、乾燥室５０から搬送室１７内の巻き取り部１３へ向けて搬送される。この間、乾燥部５１、５２によりフィルム１１を乾燥させるためエアがフィルム１１へ噴射される。 First, the film 11 is fed into the drying chamber 50 from the moisturizing chamber 40 through the passage hole 54. Next, the film 11 is guided by the guide rolls 55, 56, and 57 in the drying chamber 50, and is transported from the drying chamber 50 toward the winding unit 13 in the transport chamber 17. During this time, air is sprayed onto the film 11 in order to dry the film 11 by the drying units 51 and 52.

この乾燥部５１、５２は、それぞれフィルム１１の表側およびフィルム１１の裏側に対応して２箇所ずつ設けられている。このうち乾燥部５１はガイドロール５６近傍に設けられており、乾燥部５２はガイドロール５７近傍に設けられている。 The drying sections 51 and 52 are provided at two locations corresponding to the front side of the film 11 and the back side of the film 11, respectively. Among these, the drying unit 51 is provided in the vicinity of the guide roll 56, and the drying unit 52 is provided in the vicinity of the guide roll 57.

すなわち、まずガイドロール５６近傍の乾燥部５１は、フィルム１１の片側の表面に、フィルム１１を乾燥させるためのエアを吹き付ける。その後、フィルム１１は、ガイドロール５７の方向へ搬送され、ガイドロール５７近傍の乾燥部５２は、乾燥部５１によりエアを吹き付けられた表面と反対側の表面に対してエアを吹き付ける。 That is, first, the drying unit 51 in the vicinity of the guide roll 56 blows air for drying the film 11 on one surface of the film 11. Thereafter, the film 11 is conveyed in the direction of the guide roll 57, and the drying unit 52 in the vicinity of the guide roll 57 blows air against the surface opposite to the surface blown by the drying unit 51.

これら乾燥部５１、５２は、それぞれガイドロール５６、５７とフィルム１１とが接触している箇所において、ガイドロール５６、５７とフィルム１１とが接触している側と反対側のフィルム１１表面にエアを吹き付けるようになっている。 These drying sections 51 and 52 are respectively provided with air on the surface of the film 11 on the opposite side of the side where the guide rolls 56 and 57 and the film 11 are in contact with each other. It comes to spray.

なお、フィルム１１に熱的負荷等を与えずにフィルム上の液体を除去できるように、乾燥部５１、５２は、エアナイフからなることが好ましい。また、乾燥部５１、５２からのエアはフィルターを通して無塵化したエアからなっている。 In addition, it is preferable that the drying parts 51 and 52 consist of an air knife so that the liquid on a film can be removed, without giving a thermal load etc. to the film 11. FIG. Moreover, the air from the drying parts 51 and 52 consists of the air made dust-free through the filter.

最後に、フィルム１１は、クリーンなエアで満たされた搬送室１７内へ送り込まれる。その後、巻き取り部１３がこのフィルム１１を巻き取ることにより、清浄度の高いフィルムロール１１ｂを得ることができる。 Finally, the film 11 is fed into the transfer chamber 17 filled with clean air. Then, the winding part 13 winds up this film 11, and can obtain the film roll 11b with a high cleanliness.

なお、上述した洗浄部２１、２２、リンス部３１、３２、および保湿部４１、４２から噴射される洗浄水、リンス水、および保湿水は、清浄度クラスが高ければ高いほど良い。また、乾燥部５１、５２からのエア、および洗浄室２０、リンス室３０、保湿室４０、乾燥室５０、および搬送室１７内部の空気も、清浄度クラスが高ければ高いほど良い。 In addition, the cleaning water, the rinse water, and the moisturizing water sprayed from the cleaning units 21 and 22, the rinsing units 31 and 32, and the moisturizing units 41 and 42 described above are better as the cleanliness class is higher. The higher the cleanliness class, the better the air from the drying units 51 and 52 and the air in the cleaning chamber 20, the rinsing chamber 30, the moisturizing chamber 40, the drying chamber 50, and the transfer chamber 17.

また、本実施の形態において、１つの洗浄室２０を経由してリンス室３０内へフィルム１１が搬送されるが、洗浄部２１、２２の洗浄度、またはフィルム１１の汚染の程度に応じて複数の洗浄室２０が設けられてもよい。また、リンス室３０や保湿室４０も、フィルム１１の汚染度に応じて複数設けられても良い。 In the present embodiment, the film 11 is transported into the rinsing chamber 30 via one cleaning chamber 20, and there are a plurality of films 11 depending on the degree of cleaning of the cleaning units 21 and 22 or the degree of contamination of the film 11. A cleaning chamber 20 may be provided. Also, a plurality of rinse chambers 30 and moisturizing chambers 40 may be provided according to the degree of contamination of the film 11.

一方、本実施の形態において、フィルム洗浄装置１０に保湿室４０が設けられていなくてもよい。この場合、洗浄室２０、リンス室３０、および乾燥室５０は、この順で下方から上方へ順次配置され、それぞれ外気から遮断される。また、洗浄室２０とリンス室３０、およびリンス室３０と乾燥室５０は、それぞれの間に設けられた間仕切りにより、互いに区画される。 On the other hand, in the present embodiment, the film cleaning device 10 may not be provided with the moisturizing chamber 40. In this case, the cleaning chamber 20, the rinsing chamber 30, and the drying chamber 50 are sequentially arranged from the bottom to the top in this order, and are each shielded from the outside air. Further, the cleaning chamber 20 and the rinsing chamber 30 and the rinsing chamber 30 and the drying chamber 50 are separated from each other by a partition provided between them.

このように、本実施の形態によれば、洗浄室２０、リンス室３０、保湿室４０、および乾燥室５０がこの順で下方から上方へ順次配置されていることにより、前工程（下方）でフィルム１１表面から除去されたパーティクルが、後工程（上方）に拡散せず、フィルム１１に異物が再付着することを防止することができる。これにより、ディスプレイ等に用いられる清浄性が高いフィルムロール１１ｂを製造することができる。 As described above, according to the present embodiment, the cleaning chamber 20, the rinsing chamber 30, the moisturizing chamber 40, and the drying chamber 50 are sequentially arranged from the lower side to the upper side in this order. The particles removed from the surface of the film 11 do not diffuse in the subsequent process (upward), and foreign matter can be prevented from reattaching to the film 11. Thereby, the highly clean film roll 11b used for a display etc. can be manufactured.

また、本実施の形態によれば、洗浄室２０、リンス室３０、保湿室４０、および乾燥室５０は、それぞれ外気から遮断され、洗浄室２０とリンス室３０、リンス室３０と保湿室４０、および保湿室４０と乾燥室５０は、それぞれの間に設けられた間仕切り３３、４３、５３により互いに区画されている。これにより、フィルム１１表面から除去されたパーティクルが隣接する室内に拡散せず、フィルム１１に異物が再付着することを防止することができる。 Further, according to the present embodiment, the cleaning chamber 20, the rinsing chamber 30, the moisturizing chamber 40, and the drying chamber 50 are each shielded from the outside air, and the cleaning chamber 20 and the rinsing chamber 30, the rinsing chamber 30 and the moisturizing chamber 40, The moisturizing chamber 40 and the drying chamber 50 are partitioned from each other by partitions 33, 43, and 53 provided between them. As a result, particles removed from the surface of the film 11 do not diffuse into the adjacent room, and foreign matter can be prevented from reattaching to the film 11.

さらに、本実施の形態によれば、上方に設けられた乾燥室５０から下方へ向けて加圧ガス供給部１４から加圧ガスが供給され、また下方に設けられた洗浄室２０内が減圧部１５により減圧吸引されている。これにより、前工程（下方）でフィルム１１表面から除去されたパーティクルが、後工程（上方）に拡散することをより確実に防止することができる。 Furthermore, according to the present embodiment, pressurized gas is supplied from the pressurized gas supply unit 14 downward from the drying chamber 50 provided above, and the inside of the cleaning chamber 20 provided below is a decompression unit. 15 is sucked under reduced pressure. Thereby, it can prevent more reliably that the particle removed from the film 11 surface at the front process (downward) diffuses into the back process (upward).

さらにまた、本実施の形態によれば、洗浄室２０の洗浄部２１、２２、リンス室３０のリンス部３１、３２、保湿室４０の保湿部４１、４２、および乾燥室５０の乾燥部５１、５２が、それぞれフィルム１１の表側およびフィルム１１の裏側に対応して各室内に２箇所ずつ設けられていることにより、フィルム１１の両表面のパーティクルを確実に除去することができる。 Furthermore, according to the present embodiment, the cleaning units 21 and 22 of the cleaning chamber 20, the rinse units 31 and 32 of the rinse chamber 30, the moisturizing units 41 and 42 of the moisturizing chamber 40, and the drying unit 51 of the drying chamber 50, 52 are provided in each chamber at two locations corresponding to the front side of the film 11 and the back side of the film 11, respectively, so that particles on both surfaces of the film 11 can be reliably removed.

さらにまた、洗浄室２０の洗浄部２１、２２、リンス室３０のリンス部３１、３２、保湿室４０の保湿部４１、４２、および乾燥室５０の乾燥部５１、５２が、それぞれガイドロール２６、２７、３６、３７、４６、４７、５６、５７近傍に設けられている。これにより、洗浄部２１、２２からの洗浄水、リンス部３１、３２からのリンス水、保湿部４１、４２からの保湿水および乾燥部５１、５２からのエアによりフィルム１１がばたつくことを防止することができる。 Furthermore, the cleaning units 21 and 22 of the cleaning chamber 20, the rinsing units 31 and 32 of the rinsing chamber 30, the moisturizing units 41 and 42 of the moisturizing chamber 40, and the drying units 51 and 52 of the drying chamber 50 are respectively connected to the guide roll 26, 27, 36, 37, 46, 47, 56, 57 are provided in the vicinity. This prevents the film 11 from fluttering due to the cleaning water from the cleaning units 21 and 22, the rinsing water from the rinsing units 31 and 32, the moisturizing water from the moisturizing units 41 and 42, and the air from the drying units 51 and 52. be able to.

さらにまた、本実施の形態によれば、乾燥室５０の乾燥部５１、５２がエアナイフからなることにより、フィルム１１に熱的負荷等を与えることなくフィルム１１上のミスト等を除去することができる。 Furthermore, according to the present embodiment, since the drying sections 51 and 52 of the drying chamber 50 are made of air knives, mist and the like on the film 11 can be removed without applying a thermal load to the film 11. .

本発明によるフィルム洗浄装置の一実施の形態を示す概略断面図。1 is a schematic sectional view showing an embodiment of a film cleaning apparatus according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

１０フィルム洗浄装置
１１フィルム
１２巻き出し部
１３巻き取り部
１４加圧ガス供給部
１５減圧部
１６、１９除電装置
１７搬送室
２０洗浄室
２１、２２洗浄部
２４通過孔
２５、２６、２７ガイドロール
３０リンス室
３１、３２リンス部
３３間仕切り
３４通過孔
３５、３６、３７ガイドロール
４０保湿室
４１、４２保湿部
４３間仕切り
４４通過孔
４５、４６、４７ガイドロール
５０乾燥室
５１、５２乾燥部
５３間仕切り
５４通過孔
５５、５６、５７ガイドロール DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Film cleaning apparatus 11 Film 12 Unwinding part 13 Winding part 14 Pressurized gas supply part 15 Depressurization part 16, 19 Static elimination apparatus 17 Transfer chamber 20 Cleaning room 21, 22 Cleaning part 24 Passing hole 25, 26, 27 Guide roll 30 Rinsing chambers 31, 32 Rinsing portion 33 Partition 34 Passing holes 35, 36, 37 Guide roll 40 Moisturizing chamber 41, 42 Moisturizing portion 43 Partition 44 Passing holes 45, 46, 47 Guide roll 50 Drying chamber 51, 52 Drying portion 53 Partition 54 Passing holes 55, 56, 57 Guide roll

Claims

フィルムが巻き出される巻き出し部と、
巻き出し部からのフィルムに対して加圧した洗浄水を噴射して、フィルムに付着したパーティクルを浮き出させる洗浄部を含む洗浄室と、
洗浄室に連結され、洗浄部で洗浄水が噴射されたフィルム表面のパーティクルをリンス水により洗い流すリンス部を含むリンス室と、
リンス室に連結され、リンス室からのフィルムを乾燥する乾燥部を含む乾燥室と、
乾燥室からのフィルムを巻き取る巻き取り部とを備え、
洗浄室、リンス室、および乾燥室は、この順で下方から上方へ順次配置されていることを特徴とするフィルム洗浄装置。 An unwinding part where the film is unwound,
A cleaning chamber including a cleaning unit that sprays pressurized cleaning water against the film from the unwinding unit and lifts particles adhering to the film, and
A rinsing chamber including a rinsing portion that is connected to the cleaning chamber and rinses the particles on the surface of the film on which the cleaning water is sprayed in the cleaning portion with rinsing water;
A drying chamber connected to the rinsing chamber and including a drying section for drying the film from the rinsing chamber;
A winding unit for winding the film from the drying chamber,
The film cleaning apparatus, wherein the cleaning chamber, the rinse chamber, and the drying chamber are sequentially arranged from the bottom to the top in this order.

洗浄室、リンス室、および乾燥室は、それぞれ外気から遮断され、洗浄室とリンス室、およびリンス室と乾燥室は、それぞれの間に設けられた通過孔を介して、互いに連通されていることを特徴とする請求項１に記載のフィルム洗浄装置。 The cleaning room, the rinsing room, and the drying room are each shielded from the outside air, and the cleaning room, the rinsing room, and the rinsing room and the drying room are in communication with each other through a passage hole provided between them. The film cleaning apparatus according to claim 1.

上方に設けられた乾燥室には、下方に向かって流出する加圧ガスを供給する加圧ガス供給部が接続されていることを特徴とする請求項２に記載のフィルム洗浄装置。 The film cleaning apparatus according to claim 2, wherein a pressurization gas supply unit that supplies a pressurization gas flowing out downward is connected to the drying chamber provided above.

下方に設けられた洗浄室には、洗浄室内を減圧吸引する減圧部が接続されていることを特徴とする請求項３に記載のフィルム洗浄装置。 The film cleaning apparatus according to claim 3, wherein a decompression unit that decompresses and sucks the cleaning chamber is connected to the cleaning chamber provided below.

洗浄室の洗浄部、リンス室のリンス部、および乾燥室の乾燥部は、それぞれフィルムの表側およびフィルムの裏側に対応して２箇所ずつ設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のフィルム洗浄装置。 5. The cleaning section of the cleaning chamber, the rinsing section of the rinsing chamber, and the drying section of the drying chamber are provided at two locations corresponding to the front side of the film and the back side of the film, respectively. The film cleaning apparatus according to any one of the above.

洗浄室、リンス室、および乾燥室は、各々フィルムを保持して搬送するガイドロールを含み、洗浄室の洗浄部、リンス室のリンス部、および乾燥室の乾燥部は、それぞれガイドロール近傍に設けられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のフィルム洗浄装置。 The cleaning chamber, the rinsing chamber, and the drying chamber each include a guide roll that holds and transports the film, and the cleaning section of the cleaning chamber, the rinse section of the rinsing chamber, and the drying section of the drying chamber are each provided near the guide roll. The film cleaning apparatus according to claim 1, wherein the film cleaning apparatus is provided.

洗浄室の洗浄部は、洗浄ノズルからなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載のフィルム洗浄装置。 The film cleaning apparatus according to claim 1, wherein the cleaning unit of the cleaning chamber includes a cleaning nozzle.

乾燥室の乾燥部は、エアナイフからなることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のフィルム洗浄装置。 The film cleaning apparatus according to claim 1, wherein the drying section of the drying chamber includes an air knife.

フィルムが巻き出される巻き出し部と、
巻き出し部からのフィルムに対して加圧した洗浄水を噴射して、フィルムに付着したパーティクルを浮き出させる洗浄部を含む洗浄室と、
洗浄室に連結され、洗浄部で洗浄水が噴射されたフィルム表面のパーティクルをリンス水により洗い流すリンス部を含むリンス室と、
リンス室に連結され、リンス部からのフィルムの乾燥を防ぐためにフィルム表面に保湿水を噴射する保湿部を含む保湿室と、
保湿室に連結され、保湿室からのフィルムを乾燥する乾燥部を含む乾燥室と、
乾燥室からのフィルムを巻き取る巻き取り部とを備え、
洗浄室、リンス室、保湿室、および乾燥室は、この順で下方から上方へ順次配置されていることを特徴とするフィルム洗浄装置。 An unwinding part where the film is unwound,
A cleaning chamber including a cleaning unit that sprays pressurized cleaning water against the film from the unwinding unit and lifts particles adhering to the film, and
A rinsing chamber including a rinsing portion that is connected to the cleaning chamber and rinses the particles on the surface of the film on which the cleaning water is sprayed in the cleaning portion with rinsing water;
A moisturizing chamber connected to the rinsing chamber and including a moisturizing portion for injecting moisturizing water onto the film surface to prevent drying of the film from the rinsing portion;
A drying chamber connected to the moisture chamber and including a drying section for drying the film from the moisture chamber;
A winding unit for winding the film from the drying chamber,
The film cleaning apparatus, wherein the cleaning chamber, the rinsing chamber, the moisturizing chamber, and the drying chamber are sequentially arranged from the bottom to the top in this order.

洗浄室、リンス室、保湿室、および乾燥室は、それぞれ外気から遮断され、洗浄室とリンス室、リンス室と保湿室、および保湿室と乾燥室は、それぞれの間に設けられた間仕切りにより、互いに区画されていることを特徴とする請求項９に記載のフィルム洗浄装置。 The cleaning room, the rinsing room, the moisturizing room, and the drying room are each shielded from the outside air, and the cleaning room and the rinsing room, the rinsing room and the moisturizing room, and the moisturizing room and the drying room are separated by a partition provided between them. The film cleaning apparatus according to claim 9, wherein the film cleaning apparatus is partitioned from each other.