KR102234552B1 - 법랑 조성물 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 청소 성능이 향상된 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기에 관한 것이다.
본 발명에 따른 법랑 조성물은 글라스 프릿 및 금속산화물 촉매를 포함하고, 상기 금속산화물 촉매는 단일계 금속산화물 및 이원계 금속산화물 가운데 1종 이상을 포함하여 상온에서 청소가 가능하고 내오염성이 우수하여 닭기름과 같은 오일류 오염물이 쉽게 제거되는 효과가 있다.

Description

법랑 조성물 및 이의 제조방법{COMPOSITION FOR ENAMEL, METHOD FOR PREPARATION THEREOF}
본 발명은 조리 기기 등에 사용되는 법랑 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
법랑(enamel)은 금속판의 표면에 유리질 유약을 도포시킨 것이다. 일반적인 법랑은 전자레인지와 오븐과 같은 조리기기 등에 사용된다.
전기오븐, 가스 오븐 등의 조리기구는 가열원을 이용하여 음식물을 조리하는 기기이다. 조리과정에서 발생한 오염물질 등이 조리기구의 캐비티(cavity) 내벽에 들러붙게 되므로, 상기 캐비티 내벽을 청소할 필요가 있다. 또한, 음식물의 조리는 고온을 수반하고, 상기 캐비티 내벽 등은 유기물질 및 알칼리 성분에 노출된다. 따라서, 캐비티 내벽 등의 청소를 용이하게 하기 위해서 법랑 조성물을 코팅하는 기술이 개발되고 있으며, 특히 60~90℃의 온도 범위에서 10~15분간의 시간으로 식용유, 소기름, 돼지기름, 닭기름 등과 같은 오일류 오염물에 대한 청소가 가능한 법랑 조성물이 잘 알려져 있다. 하지만, 상기 법랑 조성물은 여전히 높은 청소 온도를 필요로 하고 특히 닭기름과 같이 불포화지방산이 많이 함유된 오일(oil) 종류의 오염물은 완벽하게 제거되지 않는 문제점이 있다.
이에 따라, 보다 손쉽게 청소가 가능하도록 상온에서 청소가 가능하고 내오염성이 우수하여 닭기름과 같은 오일류 오염물이 쉽게 제거될 수 있는 법랑 조성물이 요구된다.
아울러, 법랑 조성물의 청소 성능을 개선하기 위해 값비싼 원료들이 사용되고 있어, 가장 저렴한 비용으로 청소 성능을 극대화할 필요가 있다.
또한, 고온 없이도 오염물의 제거가 용이한 청소 성능을 가지고, 가장 저렴한 비용으로 청소 성능을 극대화할 수 있는 법랑 조성물을 제조할 수 있는 간편한 제조 방법의 마련이 요구된다.
본 발명은 고온으로 온도를 올릴 필요가 없이 상온에서 청소가 가능하고 내오염성이 우수하여 닭기름과 같은 오일류 오염물이 쉽게 제거되는 법랑 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 저렴한 비용으로 청소 성능을 극대화할 수 있는 법랑 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 법랑 조성물에 포함되는 촉매 산화물을 간단하게 적용할 수 있는 법랑 조성물의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상온에서 청소가 가능하고 닭기름과 같은 오일류 오염물이 쉽게 제거되는 청소 성능을 갖는 법랑 조성물을 제공하기 위해, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 글라스 프릿; 및 금속산화물 촉매;를 포함하고, 상기 금속산화물 촉매는 단일계 금속산화물 및 이원계 금속산화물 가운데 1종 이상을 을 포함한다.
또한, 저렴한 비용으로 청소 성능을 극대화할 수 있는 법랑 조성물을 제공하기 위해, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 상기 글라스 프릿 90 ~ 98 중량%, 상기 금속산화물 촉매 2 ~ 10 중량%를 포함할 수 있다.
아울러, 촉매 산화물의 적용이 매우 용이하고도 간편한 법랑 조성물의 제조방법을 제공하기 위해, 본 발명에 따른 제조방법은 글라스 프릿을 마련하는 단계; 단일계 금속산화물 및 이원계 금속산화물 가운데 1종 이상을 포함하는 금속산화물 촉매를 마련하는 단계; 및 상기 글라스 프릿과 상기 금속산화물 촉매를 혼합하는 단계;를 포함한다.
본 발명에 따른 법랑 조성물은 글라스 프릿과 금속산화물 촉매를 포함하여, 고온으로 온도를 올릴 필요가 없이 상온에서 청소가 가능하고 내오염성이 우수하여 닭기름과 같은 오일류 오염물의 제거가 용이한 청소 성능을 구현할 수 있는 효과가 있다.
아울러, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 소량의 촉매가 포함될 수 있어 저렴한 비용으로 청소 성능을 극대화할 수 있는 효과가 있다.
더 나아가 본 발명은 글라스 프릿과 금속산화물 촉매를 서로 혼합하는 것으로 법랑 조성물을 제공할 수 있어, 간단한 방법으로 우수한 효과를 갖는 법랑 조성물을 제공할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 조리기기를 보인 정면도이다.
도 2는 도 1에 따른 조리기기의 캐비티 내면 일부를 확대한 단면도이다.
도 3은 도 1에 따른 조리기기의 도어 내면 일부를 확대한 단면도이다.
전술한 목적, 특징 및 장점은 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 상세한 설명을 생략한다. 이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. 이하, 본 발명에 따른 조성물, 그 제조방법 및 조리기기에 대해 상세히 설명하기로 한다.
<법랑 조성물>
본 발명에 따른 법랑 조성물은 글라스 프릿; 및 금속산화물 촉매;를 포함하고, 상기 금속산화물 촉매는 단일계 금속산화물 및 이원계 금속산화물 가운데 1종 이상을 포함한다.
다시 말해, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 글라스 프릿 재료로부터 제조되는 글라스 프릿과 별도의 금속산화물 촉매가 혼합된 조성물을 의미한다.
해당 기술분야에서 여러 가지 종류의 법랑 조성물이 공지되어 있고, 특히 조리 기기 내부를 비교적 저온에서 간편하게 청소할 수 있는 법랑 조성물이 알려져 있다. 그러나, 간편하게 청소가 가능한 기존의 법랑 조성물도 적어도 60~90℃의 온도 조건과 약 10~15분 정도의 청소 시간이 필요하였다. 그러나, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 글라스 프릿과 금속산화물 촉매 성분이 혼합된 구성을 가짐으로써 상온(대략 15 ~ 25℃) 조건에서 10분 내외의 시간 동안 손쉽게 청소가 가능한 이점이 있다.
아울러, 간편하게 청소가 가능한 기존의 법랑 조성물은 오일류 오염물 가운데 특히 닭기름이 완전하게 제거되지 않는 문제점이 있었다. 닭기름은 이중결합 숫자가 많은 불포화지방산을 많이 함유하고 있고 법랑 조성물 코팅 표면과 고착화가 용이한 오염물이다. 따라서 코팅 표면 청소 시 닭기름을 코팅 표면으로부터 제거하는 것은 상당히 어렵다. 그러나, 본 발명에 따른 법랑 조성물에 포함된 금속산화물 촉매 성분은 닭기름과 같은 오염물도 코팅 표면으로부터 들뜨게 만들 수 있다. 이로 인해, 금속산화물 촉매 성분을 포함한 본 발명에 따른 법랑 조성물은 기존의 법랑 조성물과 비교하여 닭기름 성분도 쉽게 제거할 수 있는 이점이 있다.
본 발명에 사용되는 금속산화물 촉매는, 단일계 금속산화물 및 이원계 금속산화물 가운데 1종 이상을 포함한다. 상기 금속산화물은 파우더 형태의 금속산화물이 이용될 수 있다.
상기 단일계 금속산화물은 법랑 조성물에 청소 성능을 부여할 수 있는 촉매로서 기능을 갖는 것이라면 특별히 제한되지 않지만, 본 발명에서는 Bi2O3, TiO2, V- 2O5, MnO, Fe2O3, CuO, ZnO, WO3, 및 MoO3 가운데 1종 이상을 포함할 수 있다. 앞서 언급한 바와 같이 파우더 형태의 금속산화물이 상기 글라스 프릿과 혼합될 수 있다.
상기 이원계 금속산화물 촉매는 법랑 조성물에 청소 성능을 부여할 수 있는 촉매로서 기능을 갖는 것이라면 특별히 제한되지 않지만, 본 발명에서는 Bi2O3, TiO2, V- 2O5, MnO, Fe2O3, CuO, ZnO, WO3, 및 MoO3 가운데 2종의 금속산화물이 합금화된 금속산화물이 사용될 수 있다. 본 발명에서는 법랑 조성물에 비교적 우수한 오염물질 제거 성능을 부여할 수 있는 Mo(몰리브덴)이 포함된 Cu-Mo 합금 금속산화물 또는 Bi-Mo 합금 금속산화물이 바람직하게 사용될 수 있다.
다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물에는 글라스 프릿이 포함된다. 상기 글라스 프릿은 유리를 구성하는 여러 성분들을 포함하는 글라스 프릿 재료를 소성하고 냉각하여 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 글라스 프릿의 성분은 통상 법랑 조성물에 사용되는 성분이라면 특별히 제한되지 않는다. 다만, 법랑 조성물에 내오염성 등 기본적인 성능을 부여하기 위해 하기 성분을 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명에 따른 글라스 프릿은, SiO2 15 중량% 내지 40 중량%,　B2O3 15 중량% 내지 40 중량%,　Na2O 8 중량% 내지 20 중량%,　K2O 3 중량% 내지 10 중량%,　Li2O 1 중량% 내지 3 중량%,　ZnO 15 중량% 내지 40 중량%,　NaF 1 중량% 내지 5 중량%, Co3O4 2 중량% 내지 6 중량%,　및 NiO 0.5 중량% 내지 3 중량%를 포함할 수 있다.
SiO2는 유리 구조를 형성하는 성분으로 유리 구조의 골격을 강화시켜, 법랑 조성물의 내구성을 향상시키는 효과가 있다. 상기 SiO2는 15~40 중량%의 범위에서 함유될 수 있다. 상기 SiO2가 40 중량%를 초과하면 다른 성분의 첨가를 방해하여 법랑의 기본적인 물성이 저하되는 문제가 생길 수 있다. SiO2가 15 중량% 미만이면 유리 조성이 붕괴되는 문제점이 발생될 수 있다.
B2O3은 유리 형성제로서 역할을 하며. 상기 글라스 프릿의 각 성분들이 균일하게 녹도록 하는 역할을 한다. 또한, B2O3은 상기 법랑 조성물의 열팽창 계수와 Fusion flow를 조절하여, 코팅성능을 향상시키는 역할을 한다. 상기 B2O3 -는 15~40 중량%의 범위에서 함유된다. 상기 B2O3가 40 중량%를 초과하면 다른 성분의 첨가를 방해하여 법랑의 기본적인 물성이 저하되는 문제가 생길 수 있다. B2O3가 15 중량% 미만이면 유리 조성이 붕괴되거나, 유리 조성물의 결정화가 발생될 수 있다.
Ⅰ 족계 산화물인 Li2O, Na2O, 및 K2O은 상기 법랑 조성물의 청소 성능을 향상시키는 역할을 한다. 상기 Li2O, Na2O, 및 K2O은 각각 1 중량% 내지 3 중량%, 8 중량% 내지 20 중량%, 3 중량% 내지 10 중량%가 글라스 프릿에 함유될 수 있다. 상기 Li2O, Na2O, 및 K2O 가 최대 함량을 초과하면 법랑 조성물의 열 물성이 저하될 수 있다. 또한, Li2O, Na2O, 및 K2O 가 최소 함량 미만이면 청소 기능이 저하되는 문제가 생길 수 있다.
또한 본 발명에 따른 글라스 프릿은 ZnO, Co3O4, NiO, NaF를 함유할 수 있고, 이들은 각각 15 중량% 내지 40 중량%, 2 중량% 내지 6 중량%, 0.5 중량% 내지 3 중량%, 1 중량% 내지 5 중량%가 함유될 수 있다. ZnO, Co3O4, NiO, NaF는 청소기능향상 및 법랑 코팅막의 표면 특성을 향상시킬 수 있다. 상기 각 성분들이 최대 함량을 초과하면 Fusion flow가 저하될 수 있다. 또한 상기 각 성분들이 최소 함량 미만이면 법랑 코팅막의 표면특성이 저하되어 코팅성능이 저하되는 문제가 생길 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 글라스 프릿은 앞서 언급하지 않은 다른 성분들이 필요에 따라 더 포함될 수 있음을 물론이다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 글라스 프릿과 금속산화물 촉매를 포함하고, 바람직하게는 상기 글라스 프릿 90 ~ 98 중량%, 상기 금속산화물 촉매 2 ~ 10 중량% 포함할 수 있다.
상기 금속산화물 촉매는 입자 형태로 법랑 코팅층의 표면에 분포하게 된다. 상기 촉매 입자는 법랑 코팅층 표면에 묻게 되는 오염물과 접촉하게 된다. 이에 따라 본 발명에 따른 법랑 조성물로 형성된 코팅층은 촉매를 포함하지 않는 법랑 코팅층과 비교하여 우수한 청소 성능을 갖는다.
상기 금속산화물 촉매는 법랑 조성물에 2 ~ 10 중량% 포함될 수 있다. 상기 금속산화물 촉매가 상기 법랑 조성물에 2 중량% 미만으로 포함되면 청소 성능 발현이 미비한 문제가 있고, 10 중량%를 초과하여 포함되면 법랑 조성물의 코팅 성능이 저하되는 등의 문제가 발생할 수 있다.
이처럼 본 발명에 따른 법랑 조성물은 글라스 프릿과 최소 함량의 금속산화물 촉매가 적절한 배합비로 포함되어 저비용으로도 우수한 청소 성능을 갖는다.
<법랑 조성물의 제조방법>
다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물의 제조방법은, 글라스 프릿을 마련하는 단계; 단일계 금속산화물 및 이원계 금속산화물 가운데 1종 이상을 포함하는 금속산화물 촉매를 마련하는 단계; 및 상기 글라스 프릿과 상기 금속산화물 촉매를 혼합하는 단계;를 포함한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 프릿 재료로부터 제조되는 글라스 프릿과 별도의 금속산화물 촉매가 혼합된 조성물을 의미한다. 본 발명에 따른 법랑 조성물은 상기 글라스 프릿과 상기 금속산화물 촉매를 혼합하는 방식으로 제조할 수 있어, 비교적 간단하게 청소 성능이 우수한 법랑 조성물을 제조할 수 있다.
먼저, 상기 글라스 프릿을 마련하는 단계는, 법랑 조성물의 주된 성분인 글라스 프릿 재료를 통해서 제조된 글라스 프릿을 마련하는 단계를 의미한다.
바람직하게는, 글라스 프릿 재료를 마련하고 멜팅하는 단계; 및 상기 멜팅된 글라스 프릿 재료를 퀀칭하여, 글라스 프릿을 형성하는 단계;를 포함하여 상기 글라스 프릿이 마련될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 글라스 프릿의 재료는 통상 법랑 조성물에 사용되는 성분이라면 특별히 제한되지 않는다. 다만, 법랑 조성물에 내오염성 등 기본적인 성능을 부여하기 위해 하기 성분을 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명에 따른 글라스 프릿은, SiO2 15 중량% 내지 40 중량%,　B2O3 15 중량% 내지 40 중량%,　Na2O 8 중량% 내지 20 중량%,　K2O 3 중량% 내지 10 중량%,　Li2O 1 중량% 내지 3 중량%,　ZnO 15 중량% 내지 40 중량%,　NaF 1 중량% 내지 5 중량%, Co3O4 2 중량% 내지 6 중량%,　및 NiO 0.5 중량% 내지 3 중량%를 포함할 수 있다.
각 성분들의 기능 및 함량 범위의 의의는 상술한 바와 같다.
다음으로, 본 발명에 따른 제조방법은 단일계 금속산화물 및 이원계 금속산화물 가운데 1종 이상을 포함하는 금속산화물 촉매를 마련하는 단계를 포함한다.
상술한 바와 같이, 상기 금속산화물 촉매는 파우더 형태의 금속산화물이 이용될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 단일계 금속산화물은 법랑 조성물에 청소 성능을 부여할 수 있는 촉매로서 기능을 갖는 것이라면 특별히 제한되지 않지만, 본 발명에서는 Bi2O3, TiO2, V- 2O5, MnO, Fe2O3, CuO, ZnO, WO3, 및 MoO3 가운데 1종 이상을 포함할 수 있다.
또한 상기 이원계 금속산화물 촉매는 상술한 바와 같이 법랑 조성물에 청소 성능을 부여할 수 있는 촉매로서 기능을 갖는 것이라면 특별히 제한되지 않지만, 본 발명에서는 Bi2O3, TiO2, V- 2O5, MnO, Fe2O3, CuO, ZnO, WO3, 및 MoO3 가운데 2종의 금속산화물이 합금화된 금속산화물이 사용될 수 있다.
아울러, 상기 이원계 금속산화물은 Bi2O3, TiO2, V- 2O5, MnO, Fe2O3, CuO, ZnO, WO3, 및 MoO3 가운데 2종의 금속산화물을 선택하고, 선택된 2종의 금속산화물을 500 ~ 1500 ℃ 에서 소성하고 이후 냉각하여 제조될 수 있다.
본 발명에서는 법랑 조성물에 비교적 우수한 오염물질 제거 성능을 부여할 수 있는 Mo(몰리브덴)이 포함된 Cu-Mo 합금 금속산화물 또는 Bi-Mo 합금 금속산화물이 바람직하게 사용될 수 있다
다음으로, 본 발명에 따른 제조방법은 상기 글라스 프릿과 상기 금속산화물 촉매를 혼합하는 단계;를 포함한다. 상기 혼합 방식은 특별히 제한되지 않는다. 바람직하게는 상기 글라스 프릿 90 ~ 98 중량%, 상기 금속산화물 촉매 2 ~ 10 중량% 를 혼합하여 법랑 조성물을 제조할 수 있다. 각 성분의 함량 범위 의의는 상술한 바와 같다.
<조리기기>
다음으로, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 상기 법랑 조성물을 코팅하고자 하는 대상 물체의 일 표면에 코팅될 수 있다. 상기 대상 물체는 금속 플레이트, 유리 플레이트, 조리기기의 일부, 또는 전부일 수 있다. 바람직하게는, 조리기기의 캐비티의 내면 또는 조리기기의 도어의 내면에 코팅될 수 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 조리기기(1)는, 조리실이 형성되는 캐비티(11), 상기 조리실을 선택적으로 개폐하는 도어(14), 상기 조리실에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원(13, 15, 16) 및 상기 캐비티(11)의 내면 또는 도어(14)의 내면에 코팅되는 본 발명에 따른 법랑 조성물에 의하여 형성되는 코팅층을 포함한다.
상기 캐비티(11)는 전면이 개구되는 육면체 형상으로 형성될 수 있다. 상기 가열원(13,15,16)은 상기 캐비티(11) 내부로 가열된 공기가 토출되도록 하는 컨벡션 어셈블리(13), 상기 캐비티(11)의 상부에 배치되는 상부 히터(15), 및 상기 캐비티(11)의 하부에 배치되는 하부 히터(16)를 포함할 수 있다. 상기 상부 히터(15) 및 상기 하부 히터(16)는 상기 캐비티(11)의 내부 또는 외부에 구비될 수 있다. 물론, 상기 가열원(13, 15,16)이 반드시 상기 컨벡션 어셈블리(13), 상부 히터(15) 및 하부 히터(16)를 포함하여야 하는 것은 아니다. 즉, 상기 가열원(13,15,16)은 상기 컨벡션 셈블리(13), 상부 히터(15) 및 하부 히터(16) 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.
한편, 도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 법랑 조성물은 건식 공정 또는 습식 공정에 의해 상기 조리기기(1)의 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 내면에 코팅될 수 있다. 상기 캐비티(11) 및 상기 도어(14)는 금속 플레이트로 형성될 수 있고, 본 발명에 따른 법랑 조성물을 이용한 상기 코팅층(17)(18)은 상기 금속 플레이트에 단일층으로 직접 코팅될 수 있다.
상기 건식 공정에서는 상기 법랑 조성물 재료가 유기 바인더에 분산되고, 혼합된 상기 법랑 조성물 재료와 유기 바인더가 볼 밀에서 밀링되어, 유리 프릿(frit)이 제조될 수 있다. 반면, 상기 습식 공정에서는 상기 법랑 조성물 재료가 물(H2O)과 안료(Pigment)에 분산되고, 혼합된 상기 법랑 조성물 재료와 물(H2O), 안료(Pigment)는 볼 밀에서 밀링되어, 유리 프릿(frit)이 제조될 수 있다.
이후, 상기 건식 공정 및 상기 습식 공정에 따른 상기 유리 프릿(frit)은 스프레이 방식에 의해, 상기 조리기기(1)의 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 내면에 도포될 수 있다. 상기 도포된 유리 프릿(frit)은 600~900℃의 온도범위에서 100~450초 동안 소성되어, 상기 조리기기(1)의 상기 캐비티(11)의 내면 또는 상기 도어(14)의 내면에 코팅될 수 있다.
이하, 실시예를 통해 본 발명의 구체적인 태양을 살펴보기로 한다.
<실시예>
<법랑 조성물의 제조>
1. 글라스 프릿 제조
하기 표 1에 기재된 조성비를 갖는 글라스 프릿을 제조하였다. 각 성분의 원재료들을 V-혼합기(V-mixer)에서 3시간 동안 충분히 혼합하였다. 혼합된 재료를 1300℃에서 1시간 30분 동안 충분히 용융시키고, 퀀칭 롤러(quenching roller)에서 급냉 시킨 후 유리 컬릿을 수득하였다.
상기 과정으로 수득한 유리 컬릿을 분쇄기(ball mill)로 초기 입도를 제어 후 젯밀을 이용하여 약 5시간 동안 분쇄 후 325 메쉬 시브(ASTM C285-88)에 통과시켜 입경을 45㎛이하로 제어하여, 글라스 프릿 제조예1을 제조하였다.
[표 1]
Figure 112018107976621-pat00001
2. 금속산화물 촉매 제조
CuO, MoO3 , Fe2O3, Bi2O3, V- 2O5 금속산화물 파우더를 각각 마련하여 단일계 금속 산화물 촉매를 준비하였다. 그리고, CuO 파우더와 MoO3 파우더를 각각 1:1의 중량비로 혼합하고 900℃에서 30분간 소성한 후 급냉시켜 Cu-Mo 이원계 합금 금속산화물 촉매를 준비하였다. 또한, Bi2O3 파우더와 MoO3 파우더를 각각 1:1의 중량비로 혼합하고 900℃에서 30분간 소성한 후 급냉시켜 Bi-Mo 이원계 합금 금속산화물 촉매를 준비하였다.
3. 법랑 조성물의 제조
상기 제조예 1에 따른 글라스 프릿과 금속산화물 촉매들을 서로 혼합하여 본 발명에 다른 법랑 조성물 실시예를 준비하였다. 비교예는 글라스 프릿 만으로 이루어진 법랑 조성물을 의미한다. 실시예와 비교예의 구성 성분은 하기 표 2와 같다.
[표 2]
Figure 112018107976621-pat00002
<법랑 조성물 시편 제조>
상기 실시예 1 내지 7과 비교예 1에 따른 법랑 조성물을 200×200(mm) 및 두께 1(mm)이하의 저탄소강 시트에 0.9 g을 올리고 얇게 펴주었다. 상기 시트를 750 ℃의 온도 조건에서 300초간 소성하여 각 시편을 제조하였다.
<실험예>
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 법랑 조성물 시편에 대해서 하기와 같이 청소 성능을 측정하였다.
청소성능의 측정방법은 금속 기판(100×100(mm))에 법랑 조성물이 코팅된 시편 표면에 오염물질로서 닭 기름 1g과 올리브 1g을 각각 얇게 브러쉬(Brush)로 바른 다음, 오염물이 도포된 시험체를 항온기 속에 넣고, 250℃와 285℃의 온도에서 1시간 동안 오염물을 고착화시켰다.
이후, 시험체를 자연 냉각하고, 경화 정도를 확인한 다음 상온수를 적신 후라이팬 전용 수세미로 3kgf 이하의 힘으로 경화된 오염물들을 닦았다. 지름 5cm의 바닥이 평탄한 봉을 사용하여 오염된 시편 표면에서 닦아지는 부분을 균일화 하였다. 이때 닦은 왕복 횟수를 측정하여 이를 청소 왕복 횟수로 정의하며, 청소성능평가 지표는 표3에 기재하였다. 아울러, 각 시편의 청소 성능은 표 4에 기재하였다.
[표 3]
Figure 112018107976621-pat00003
[표 4]
Figure 112018107976621-pat00004
본 발명에 따른 실시예들은 금속산화물 촉매가 코팅층 표면에 적절히 분포되어 청소 성능이 매우 향상되었음을 확인할 수 있다. 이와 비교하여, 금속산화물 촉매가 포함되지 않은 비교예는 실시예 대비 청소 성능이 불만족스러운 것으로 확인되었다.
이상과 같이 본 발명에 대해 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을 지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.
1 : 조리기기
11 : 캐비티
12 : 조리실
13 : 컨벡션 어셈블리
14 : 도어
15 : 상부 히터
16 : 하부 히터
17, 18 : 코팅층

Claims (14)

  1. 글라스 프릿; 및
    금속산화물 촉매;를 포함하고,
    상기 금속산화물 촉매는 이원계 금속산화물을 포함하고,
    상기 이원계 금속산화물은
    Cu-Mo 합금 금속산화물 또는 Bi-Mo 합금 금속산화물을 포함하고,
    상기 글라스 프릿 90 ~ 98 중량%, 상기 금속산화물 촉매 2 ~ 10 중량%를 포함하며,
    상기 이원계 금속산화물은 이종의 금속산화물이 소성되어 형성된,
    법랑 조성물.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 글라스 프릿은
    SiO2 15 중량% 내지 40 중량%,　
    B2O3 15 중량% 내지 40 중량%,　
    Na2O 8 중량% 내지 20 중량%,　
    K2O 3 중량% 내지 10 중량%,　
    Li2O 1 중량% 내지 3 중량%,　
    ZnO 15 중량% 내지 40 중량%,　
    NaF 1 중량% 내지 5 중량%,
    Co3O4 2 중량% 내지 6 중량%,　및
    NiO 0.5 중량% 내지 3 중량%를 포함하는
    법랑 조성물.
  7. 글라스 프릿을 마련하는 단계;
    이원계 금속산화물을 포함하는 금속산화물 촉매를 마련하는 단계; 및
    상기 글라스 프릿과 상기 금속산화물 촉매를 혼합하는 단계;를 포함하고,
    상기 이원계 금속산화물은
    Cu-Mo 합금 금속산화물 또는 Bi-Mo 합금 금속산화물을 포함하며,
    상기 글라스 프릿과 상기 금속산화물 촉매를 혼합하는 단계는,
    상기 글라스 프릿 90 ~ 98 중량%, 상기 금속산화물 촉매 2 ~ 10 중량%를 서로 혼합하고,
    상기 이원계 금속산화물은 이종의 금속산화물이 소성되어 형성된,
    법랑 조성물의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 글라스 프릿을 마련하는 단계는,
    글라스 프릿 재료를 마련하고 멜팅하는 단계; 및
    상기 멜팅된 글라스 프릿 재료를 퀀칭하여, 글라스 프릿을 형성하는 단계;를 포함하는
    법랑 조성물의 제조방법.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 제7항에 있어서,
    상기 글라스 프릿은
    SiO2 15 중량% 내지 40 중량%,　
    B2O3 15 중량% 내지 40 중량%,　
    Na2O 8 중량% 내지 20 중량%,　
    K2O 3 중량% 내지 10 중량%,　
    Li2O 1 중량% 내지 3 중량%,　
    ZnO 15 중량% 내지 40 중량%,　
    NaF 1 중량% 내지 5 중량%,
    Co3O4 2 중량% 내지 6 중량%,　및
    NiO 0.5 중량% 내지 3 중량%를 포함하는
    법랑 조성물의 제조방법.
  14. 조리실이 형성되는 캐비티;
    상기 조리실을 선택적으로 개폐하는 도어;
    상기 조리실에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원; 및
    상기 캐비티의 내면 또는 상기 도어의 내면에 코팅되는 제 1항의 법랑 조성물에 의하여 형성되는 코팅층을 포함하는,
    조리기기.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001303276A (ja) * 2000-04-28 2001-10-31 Kawasaki Steel Corp 琺瑯材
JP2003206417A (ja) * 2002-01-16 2003-07-22 Shinya Miyake コーティング組成物及びコーティング層形成方法

Family Cites Families (84)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2370367A (en) * 1967-06-27 1969-01-09 E. I. Dupont De Nemours And Company Catalytic coatings for cooking devices
US3547098A (en) 1968-03-22 1970-12-15 Ferro Corp Porcelain enamels for self-cleaning cooking oven
GB1300217A (en) 1970-04-10 1972-12-20 Ici Ltd Catalytic self-cleaning cooking oven
AR207684A1 (es) 1975-04-07 1976-10-22 Ferro Corp Composicion de frita volatilizable
JPS52127913A (en) * 1976-04-20 1977-10-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Product coated with an layer of selffcleaning type
JPS5436320A (en) * 1977-08-24 1979-03-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Articles having selffcleanable coated layer
JPS5477618A (en) 1977-12-01 1979-06-21 Ngk Frit Kk Patterning of enemel products
JPS54106529A (en) 1978-02-09 1979-08-21 Ngk Frit Kk Enamelled stainless products and preparation thereof
CA1154638A (en) 1978-03-15 1983-10-04 Kunio Kimura Method of forming porcelain enamels
JPS54153819A (en) * 1978-05-23 1979-12-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Heat cooking saucer
AU530955B2 (en) * 1978-10-16 1983-08-04 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Coated surfaces capable of decomposing oils
JPS5575740A (en) 1978-12-05 1980-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Cooking apparatus
JPS5678450A (en) * 1979-11-29 1981-06-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Self-cleaning coating layer
JPS58140342A (ja) 1982-02-08 1983-08-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 透明ほうろうフリツト
JPH0672031B2 (ja) 1987-03-17 1994-09-14 日本碍子株式会社 ほうろう製品
JPH07115884B2 (ja) 1987-03-17 1995-12-13 日本碍子株式会社 ほうろうフリツト
ZW13689A1 (en) 1988-11-19 1989-12-12 Johnson Matthey Plc Glass composition for use in glazes or enamels
US4877758A (en) 1988-12-22 1989-10-31 Chi-Vit Corporation Lead-free frit
DE4013139A1 (de) 1990-04-25 1991-10-31 Bayer Ag Selbstreinigende beschichtungen fuer ofenwandungen
DE4212691A1 (de) * 1992-04-16 1993-12-16 Merck Patent Gmbh Katalytisch wirksame Überzugsmasse
BG60393B1 (bg) 1993-08-06 1995-02-28 Гергана Пирлова емайл
GB9319971D0 (en) 1993-09-28 1993-11-17 Cookson Group Plc Cobalt glass compositions for coatings
CZ279603B6 (cs) 1993-11-03 1995-05-17 Vysoká Škola Chemicko-Technologická Křišťálové bezolovnaté sklo s indexem lomu vyšším než 1,52
CN1108626A (zh) 1994-09-24 1995-09-20 汪霖 铸铁搪瓷一次性烧成瓷釉
EP0729921A2 (de) 1995-03-02 1996-09-04 Bayer Ag Selbsttrübende Emailfritten für die Emaillierung von Aluminium oder Aluminiumlegierungen
JP3611160B2 (ja) 1997-02-10 2005-01-19 株式会社村田製作所 厚膜抵抗体ペースト
US6140767A (en) 1997-04-25 2000-10-31 Sarnoff Corporation Plasma display having specific substrate and barrier ribs
ES2172039T3 (es) 1998-01-12 2002-09-16 Ferro France Sarl Composicion de revestimiento catalitico de esmalte de porcelana.
JP3069790B1 (ja) 1999-09-08 2000-07-24 日本フエロー株式会社 陶磁器釉薬用フリットの製造方法
EP1160283A1 (en) 2000-05-29 2001-12-05 Ferro France S.A.R.L. Hybrid coating compositions
EP1167310A1 (en) 2000-06-28 2002-01-02 Ferro France S.A.R.L. Enamel composition
JP4556004B2 (ja) 2000-06-29 2010-10-06 奥野製薬工業株式会社 セラミックカラー組成物及び板ガラスの曲げ加工方法
ATE356094T1 (de) * 2000-09-22 2007-03-15 Ferro France Sarl Weissemail für aluminisierten oder galvanisierten stahl
HU222266B1 (hu) 2001-02-20 2003-05-28 Zománc Rt Alapzománc-bevonat előállítására alkalmas frittelegy
EP1256556A1 (en) 2001-05-09 2002-11-13 Ferro France S.A.R.L. Porcelain enamel composition
JP2002367510A (ja) 2001-06-12 2002-12-20 Asahi Glass Co Ltd ガラスフリット焼成方法
US6511931B1 (en) 2001-07-16 2003-01-28 Ferro Corporation Easy-to-clean matte acid resistant ground coat
US20040069764A1 (en) 2002-07-23 2004-04-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Heat cooking apparatus and self-cleaning functional material and manufacturing method thereof
KR100496458B1 (ko) 2002-09-02 2005-06-23 재단법인서울대학교산학협력재단 생체 흡수형 생체 활성 결정화 유리 및 그 제조 방법
JP2004269322A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Asahi Glass Co Ltd セラミックカラー組成物、セラミックカラーペースト、セラミックカラー層付きガラス板の製造方法
JP2004358846A (ja) 2003-06-05 2004-12-24 Nisshin Steel Co Ltd 琺瑯／光触媒複層被覆金属板
JP2005008974A (ja) 2003-06-20 2005-01-13 Jfe Steel Kk 琺瑯材およびその製造方法
DE102004026433A1 (de) 2004-05-29 2005-12-22 Schott Ag Nanoglaspulver und deren Verwendung
WO2006124415A2 (en) * 2005-05-12 2006-11-23 Ferro Corporation Porcelain enamel having a metallic appearance
RU2345964C2 (ru) 2007-04-03 2009-02-10 Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Южно-Российский государственный технический университет (Новочеркасский политехнический институт)" Фритта для цветной однослойной эмали
CN101067207A (zh) 2007-06-08 2007-11-07 东华大学 光催化自洁搪瓷的制备方法
CN101182119B (zh) 2007-11-09 2011-04-27 东华大学 一种低温无铅搪瓷釉组合物及其制备方法
KR101457164B1 (ko) 2008-06-16 2014-11-04 삼성전자 주식회사 코팅 조성물, 및 상기 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는조리용기
US8007930B2 (en) 2008-07-10 2011-08-30 Ferro Corporation Zinc containing glasses and enamels
FR2937235B1 (fr) 2008-10-16 2010-11-12 Seb Sa Articule culinaire comportant un revetement antiadhesif presentant des proprietes ameliorees d'adherence au support
CN101734858A (zh) 2008-11-07 2010-06-16 肖特股份有限公司 用于对玻璃或玻璃陶瓷涂以瓷釉、搪瓷和加以装饰的不含铅和镉的玻璃组合物
CN101519276A (zh) 2009-03-27 2009-09-02 上海应用技术学院 一种光催化自洁纳米二氧化钛搪瓷基板及其制备方法
KR101411074B1 (ko) 2009-04-20 2014-06-27 엘지전자 주식회사 조리기기 및 그의 제어방법
KR101695493B1 (ko) 2009-07-15 2017-01-11 엘지전자 주식회사 조리기기 및 제어방법
KR101411034B1 (ko) 2009-08-28 2014-06-30 엘지전자 주식회사 법랑용 조성물 및 그 법랑 조성물이 적용된 조리기기
US8778455B2 (en) 2010-04-27 2014-07-15 Ferro Corporation Enamel and ground coat compositions
CN102219383B (zh) 2011-04-12 2013-12-18 浙江开尔新材料股份有限公司 一种搪瓷釉料
US9296643B2 (en) 2012-05-10 2016-03-29 Lg Electronics Inc. Enamel composition, preparation method thereof, and cooking appliance including the same
KR101476501B1 (ko) 2012-05-10 2014-12-24 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기
KR101842222B1 (ko) 2013-03-21 2018-03-27 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기
KR101437219B1 (ko) 2012-05-10 2014-09-03 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기
KR101476500B1 (ko) 2012-05-10 2014-12-24 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기
KR101391166B1 (ko) 2012-07-25 2014-05-07 (주)밴엔지니어링 법랑 코팅층을 구비한 주방용품의 제조방법
JP6125318B2 (ja) 2013-05-14 2017-05-10 大阪ガスケミカル株式会社 溶射組成物および溶射被膜
JP6322825B2 (ja) 2014-07-29 2018-05-16 タカラスタンダード株式会社 ホーロー製品の製造方法及びホーロー製品
CN104891805B (zh) 2015-05-25 2017-04-05 广东美的厨房电器制造有限公司 搪瓷材料及其制备方法和应用
MX2018001563A (es) 2015-09-28 2018-05-22 Ferro Corp Esmalte hibrido pirolitico.
CN105621889B (zh) 2015-12-29 2018-11-23 广东美的厨房电器制造有限公司 同时具有吸波和远红外性能的搪瓷材料及其制备方法和应用
CN108059341A (zh) 2016-11-09 2018-05-22 刘书刚 氧化镧有色玻璃及其制备方法
KR20180089985A (ko) 2017-02-02 2018-08-10 엘지전자 주식회사 유리 조성물 및 조리기기
KR102216663B1 (ko) 2017-02-02 2021-02-17 엘지전자 주식회사 유리 조성물, 이의 제조방법 및 조리기기
KR102216709B1 (ko) 2017-02-02 2021-02-17 엘지전자 주식회사 유리 조성물, 이의 제조방법 및 조리기기
KR20180089986A (ko) 2017-02-02 2018-08-10 엘지전자 주식회사 유리 조성물 및 조리기기
JP6879035B2 (ja) 2017-04-28 2021-06-02 住友金属鉱山株式会社 導電性組成物、導体の製造方法及び電子部品の配線の形成方法
CN106957149A (zh) 2017-05-04 2017-07-18 钦州学院 搪瓷釉料
KR102024162B1 (ko) 2017-06-28 2019-09-23 엘지전자 주식회사 유리 조성물 및 조리기기
CN107513747A (zh) 2017-07-26 2017-12-26 贵州省兴仁县荣凯五金搪瓷制品有限公司 一种搪瓷涂层的制备方法
KR102519215B1 (ko) 2017-09-26 2023-04-06 엘지전자 주식회사 유리 조성물 및 조리기기
KR102577445B1 (ko) 2018-04-17 2023-09-11 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기
CN108675636A (zh) 2018-08-02 2018-10-19 张家港市沐和新材料技术开发有限公司 一种耐酸碱型搪瓷釉料的配方
KR102234551B1 (ko) 2018-11-09 2021-04-01 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기
KR102172416B1 (ko) 2019-02-22 2020-10-30 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기
KR102172459B1 (ko) 2019-02-22 2020-10-30 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기
KR102172418B1 (ko) 2019-02-22 2020-10-30 엘지전자 주식회사 법랑 조성물, 그 제조방법 및 조리기기

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001303276A (ja) * 2000-04-28 2001-10-31 Kawasaki Steel Corp 琺瑯材
JP2003206417A (ja) * 2002-01-16 2003-07-22 Shinya Miyake コーティング組成物及びコーティング層形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3647285B1 (en) 2023-07-26
US11261124B2 (en) 2022-03-01
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EP3647285A1 (en) 2020-05-06
KR20200049231A (ko) 2020-05-08

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