KR101457164B1

KR101457164B1 - 코팅 조성물, 및 상기 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는조리용기

Info

Publication number: KR101457164B1
Application number: KR1020080056393A
Authority: KR
Inventors: 손종철; 김향기; 전기숙; 김태우; 주재만; 홍석원; 현종학; 오재종
Original assignee: 삼성전자 주식회사
Priority date: 2008-06-16
Filing date: 2008-06-16
Publication date: 2014-11-04
Also published as: EP2135850A1; KR20090130668A; EP2135850B1; US20090311514A1; US7695831B2

Abstract

본 발명은 코팅 조성물, 및 상기 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는 조리용기에 관한 것이다. 상세하게, 본 발명에 따른 코팅조성물은 SiO₂ 10~30중량%, P₂O₅10~30중량%, Al₂O₃10~30중량%, TiO₂ 1~20중량%, Na2O 7~15중량%, K₂O 7~15중량%, ZrO₂ 5~10중량%, BaO 2~5중량%, B₂O₃ 2~5중량%, MnO₂ 1~2중량% 및 밀착제를 포함하고, 상기 SiO₂, P₂O₅및 Al₂O₃는 무기유리질에서 구형체를 형성할 수 있다.

따라서 본 발명에 따르면 내열성, 내산성, 기계적 강도뿐만 아니라 조리기기에 영향을 주지 않는 비교적 낮은 온도에서 조리기기를 용이하게 세척할 수 있는 코팅 조성물, 그 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는 조리용기를 얻을 수 있다.

Description

코팅 조성물, 및 상기 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는 조리용기{COATING COMPOSITION, AND COOKING DEVICE OR COOKING RECEPTACLE COATED SAID CATING COMPOSITION}

본 발명은 코팅 조성물, 및 상기 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는 조리용기에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 내열성, 내산성, 기계적 강도 및 세척 용이성 모두를 만족하는 코팅 조성물, 및 상기 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는 조리용기에 관한 것이다.

법랑은 금속 표면에 유리질 유약을 피복시킨 것으로 금속의 강인성과 유리가 가진 내식성과 청결성을 겸비하도록 만들어지므로 조리기기 또는 조리용기에 이용된다.

일반적으로 조리기기 또는 조리용기에 사용되는 코팅재로는 PTFE(polytetrafluorethylene)등과 같은 테프론®(Teflon®)이 많이 사용된다. 테프론ㄾ은 표면 에너지가 낮아 음식물에 포함된 물이나 기름 등이 코팅면에 잘 묻지 않아 세척성이 뛰어난 장점이 있으나 내열성이 높지 못해서 250℃이상의 고온에서 사용하기 곤란하며 또한 기계적 강도가 작아서 세척시 주의해야 하고 여러 번 반복 사용시 코팅면의 비점착 특성이 저하되는 단점이 있다.

또한 코팅면에 부착된 오염물질을 제거하기 위해 SiO₂+Na₂O+MnO₂로 이루어진 촉매 법랑이 개발되었다. 이 촉매법랑은 기름이나 이물질을 법랑 내의 미세 공간으로 빨아들이는 원리를 이용한 것으로 촉매법랑은 이물질을 수용하기 위한 미세공간을 형성해야 하므로 그 표면이 매끄럽지 않고 표면 강도가 약하며 내마모성이 약하고 큰 충격에 촉매법랑이 박리되기 쉽고 오래 사용할 경우 이물질이 상기 미세공간 내에 쌓여 위생상 좋지 않는 문제점이 있다.

일반 유약은 유면, 광택, 피코팅층에의 밀착이 양호하나 내열성에 문제가 있다. 상세하게, 450℃이상의 온도에서 연속적으로 사용할 경우 법랑의 균열, 스커밍(scumming), 유약층의 소실 등 법랑의 유면에 치명적인 문제가 발생한다.

따라서 최근에는 열분해(pyrolitic) 법랑을 조리기기 중 특히 오븐의 내부 틀, 팬 및 오븐의 도어에 도포하여 세척 용이성을 달성하고 있다. 이 열분해 법랑은 오븐 청소시 충분한 열을 공급하여 오븐의 내부표면에 부착된 음식물 및 지방 찌꺼기를 태워 오염물질을 제거한다. 따라서 열분해 법랑은 오염물질 특히 지방 찌꺼기를 완전히 태울 수 있는 온도인 450~500℃까지 견딜 수 있는 내열성을 보유한다. 그러나 상기 열분해 법랑을 이용하기 위해서는 오븐의 모든 부품(오븐의 단열재 포함)이 상기 온도에서 견딜 수 있어야 한다. 또한 450~500℃까지 오븐 온도를 상승시킨다 하더라도 오븐 전체의 온도가 450~500℃까지 도달하지 못한다. 특히 구석진 곳이나 도어 근처는 상기 온도까지 도달하지 못하여 이 부분에는 여전히 오염 물질이 남아 있게 된다. 이 문제를 해결하기 위해 구석진 곳이나 도어 근처까지 450~500℃까지 상승시키기 위해서는 오븐 전체의 온도를 500℃ 이상의 고온으로 유기시킬 수 있으나, 이 경우에는 다른 오븐 부품이 고온으로 인한 이상(고장)이 발생하는 문제점이 또 발생한다.

[표 1] 종래법랑의 함량

성분	일반 법랑(중량%)	촉매 법랑(중량%)	열분해 법랑(중량%)
SiO₂	30~60	10~60	10~60
Na₂O	5~20	0~20	0~20
K₂O	0~20	0~20	0~20
CaO	0~10	0~10	0~5
BaO	0~10	0~10	0~5
MgO			0~5
B₂O₃		0~20	0~20
Al₂O₃	0~10		0~5
TiO₂	0~20		0~10
P₂O₅	0~10	0~10	0~5
Li₂O	0~10	0~10	0~10
Sb₂O₃		0~20
ZnO	0~5	0~20	0~5
ZrO₂	0~5		0~5
Co₂O₃	0~3		0~3
NiO	0~3		0~3
MnO₂	0~2	0~50	0~2
CuO	0~2		0~2

따라서 본 발명은 내열성, 내산성, 기계적 강도뿐만 아니라 조리기기의 부품에 영향을 주지 않는 비교적 낮은 온도에서 조리기기를 용이하게 세척할 수 있는 코팅 조성물, 그 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는 조리용기를 제공하고자 한다.

본 발명에 따른 코팅조성물은 SiO₂ 10~30중량%, P₂O₅10~30중량%, Al₂O₃10~30중량%, TiO₂ 1~20중량%, Na2O 7~15중량%, K₂O 7~15중량%, ZrO₂ 5~10중량%, BaO 2~5중량%, B₂O₃ 2~5중량%, MnO₂ 1~2중량% 및 밀착제를 포함하고, 상기 SiO₂, P₂O₅및 Al₂O₃는 무기유리질에서 구형체를 형성할 수 있다.
상기 밀착제는 Co₂O₃, NiO 및 CuO으로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 한다.
상기 조성물은 안정제로서 CaO 1~5중량%를 더 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 조리기기는 음식물이 조리되는 조리부를 가지는 본체 및 상기 조리부에 도포되는 코팅층을 포함하고, 상기 코팅층은 SiO₂ 10~30중량%, P₂O₅10~30중량%, Al₂O₃10~30중량%, TiO₂ 1~20중량%, Na2O 7~15중량%, K₂O 7~15중량%, ZrO₂ 5~10중량%, BaO 2~5중량%, B₂O₃ 2~5중량%, MnO₂ 1~2중량% 및 밀착제를 포함하는 코팅 조성물로 되고, 상기 SiO_2,P₂O₅및 Al₂O₃는 무기유리질에서 구형체를 형성하는 것을 특징으로 한다.
상기 밀착제는 Co₂O₃, NiO 및 CuO으로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 한다.
상기 코팅 조성물은 안정제로서 CaO 1~5중량%를 더 포함할 수 있다.
상기 조리부는 상기 본체의 내부에 마련되며, 상기 코팅층은 상기 조리부의 내벽에 도포될 수 있다.
상기 조리부는 상기 본체의 상부에 위치하며, 상기 코팅층은 상기 조리부의 상면에 도포될 수 있다.
상기 조리부는 금속인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 조리용기는 몸체 및 상기 몸체의 적어도 일부에 도포된 코팅층을 포함하고, 상기 코팅층은 SiO₂ 10~30중량%, P₂O₅10~30중량%, Al₂O₃10~30중량%, TiO₂ 1~20중량%, Na2O 7~15중량%, K₂O 7~15중량%, ZrO₂ 5~10중량%, BaO 2~5중량%, B₂O₃ 2~5중량%, MnO₂ 1~2중량% 및 밀착제를 포함하는 코팅 조성물로 되고, 상기 SiO_2,P₂O₅및 Al₂O₃는 무기유리질에서 구형체를 형성하는 것을 특징으로 한다.
상기 밀착제는 Co₂O₃, NiO 및 CuO으로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 한다.
상기 코팅 조성물은 안정제로서 CaO 1~5중량%를 더 포함할 수 있다.

삭제

따라서 본 발명에 따르면 내열성, 내산성, 기계적 강도뿐만 아니라 조리기기의 부품에 영향을 주지 않는 비교적 낮은 온도에서 조리기기를 용이하게 세척할 수 있는 코팅 조성물, 그 코팅 조성물이 코팅된 조리기기 또는 조리용기를 얻을 수 있다.

본 발명의 코팅 조성물은 SiO₂ 10~30중량%, P₂O₅10~30중량%, Al₂O₃10~30중량%, TiO₂ 1~20중량%, Na2O 7~15중량%, K₂O 7~15중량%, ZrO₂ 5~10중량%, BaO 2~5중량%, B₂O₃ 2~5중량%, MnO₂ 1~2중량% 및 밀착제를 포함한다.

본 발명의 특성은 법랑 표면의 무기유리질에 결합된 구형체(SiO₂+P₂O₅+Al₂O₃가 결합된 분자)에서 산소가 모든 면과 표면에서 오염물질의 산화작용을 최적의 상 태로 이끄는 점에 있다. 상기 구형체는 표면적이 크고 특히 잔존 찌꺼기가 남지 않아 성능과 수명을 연장시키며, 유리질의 표면계질은 조리기기 또는 조리용기가 가열될 때 산소를 저장하여 오염물질을 산화시키는데 도움을 준다. 특히 표면 계질에서 물과 산소가 반응하여 오염물질을 밀어내는 역할을 한다.

기존 법랑은 유리질의 기본성분인 SiO₂+B₂O₃+Na₂O의 일반적인 분자결합을 이루어 표면계질에서 산소결합을 하는데 한계가 있다.

본 발명의 코팅 조성물은 표면 유리질 결합 상태가 구형체의 분자상 공동구조로서, 산소를 저장하는 역할을 하며 산소는 투과시키면서 오염물질은 투과하지 못하도록 분자결합 상태를 만드는 것이다. 따라서 세척이 용이하고 사용횟수가 증가하여도 그 내구성이 저하되지 않는다.

이산화규소(SiO₂)는 산성 또는 염기성 용액과 반응하지 않는 등 내산성이 뛰어나다. 또한 고온에 견딜 수 있고 고온에서 팽창률이 아주 작아 급격한 열반화에 강하다.

표 1에서 보는 바와 같이, 본 발명의 코팅 조성물은 10~30중량%로, 일반 법랑, 촉매 법랑 및 열분해 법랑에 비해 SiO₂의 함량이 낮다. 본 발명은 SiO₂의 함량을 다른 법랑과는 달리 감소시키면서 내산성 강화를 위해 Al₂O₃를 사용한다.

P₂O₅는 분자상태에서 이중결합된 산소원자를 포함하므로, 불충분한 화학적 내구성을 가지며 강한 휘발성을 나타낸다. 따라서 오산화인은 구형체(SiO₂ + P₂O₅ + Al₂O₃가 결합된 분자)의 형태로 코팅층에의 오염물질의 부착을 저하하는 역할을 한다. 반면 오산화인은 인산 아연계, 인산 망간계 또는 인산 철계의 형태로 금속표면에 인산염피막을 만들어 발청을 억제하는 동시에 도료의 밀착을 좋게 할 수 있다.

본 발명에서는 인산 아연계를 사용하는 종래의 일반 법랑, 촉매 법랑 및 열분해 법랑과 달리, 인산 망간계를 사용한다. 이와 같은 인산 망간계는 치밀한 미립자로 된 피막이 요구되고 두꺼운 피막처리가 가능하여 내마멸성을 개선한다. 즉, 금속표면에 인산염피막을 형성하여 방청성, 내식성, 내고온 산화성 등의 화학적 성질을 향상시키는 동시에 경도 및 기계적 강도를 향상시킬 수 있다.

일반적으로 Al₂O₃는 최종 제조된 법랑층의 화학적 내구성과 기계적 성질에 영향을 미치는 성분이다. 상기에서 살펴본 바와 같이 SiO₂의 함량을 다른 법랑과는 달리 감소시키면서 내산성 강화를 위해 10~30중량%의 Al₂O₃를 사용한다. 뿐만 아니라 본 발명에서의 Al₂O₃는 구형체(SiO₂+P₂O₅+Al₂O₃가 결합된 분자)의 형태로서 조리물로부터 발생되는 찌꺼기가 코팅면에 부착되는 접착성을 방해하는 요소로 작용한다.

지르코니아는 높은 용융온도(약 2,700℃)를 갖는 내열성 재료로서 이외에도 낮은 열전도도, 산성에서 알칼리성 영역까지의 넓은 내화학 안정성을 가지며 낮은 열 팽창성, 고강도 및 고경도(7.0이상의 모스 경도)의 내마찰성 등 우수한 재료적 특성을 지닌다. ZrO₂를 소결체로 얻기 위해서는 CaO를 안정화제로 첨가하여 상온에서 안정한 정방(tetragonal)구조 또는 입방(cubic)구조가 되도록 하여 냉각 도중에 변태가 일어나지 않아 균열을 피할 수 있다.

산화티타늄은 고온에서 각종 무기산, 유기산, 알칼리, 가스 등에 의해 침식되지 않으며, 1800℃까지 용해되지 않는다.

조리기기 또는 조리용기와 코팅층과의 접착력을 향상시키기 위해 조리기기 또는 조리용기 표면의 조도(roughness)를 높이거나 밀착제로서 Co₂O₃, NiO 및 CuO로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상을 포함한다. 일반적으로 밀착제로서 알려진 Co₂O₃외에 NiO 및 CuO도 밀착제로 사용되는 것이 본 발명의 특징이다.

본 발명은 음식물이 조리되는 조리부를 가지는 본체 및 상기 조리부 위의 코팅층을 포함하는 조리기기로서, 상기 코팅층은 상기에서 설명한 코팅 조성물로 이루어진다. 이때, 조리부는 음식물에 노출되는 내벽 또는 상판으로, 금속 재질이다.

또한 본 발명은 몸체 및 상기 몸체의 전체 또는 일부 위에 도포된 코팅층을 포함하는 조리용기로서, 상기 코팅층은 상기에서 설명한 코팅 조성물로 이루어진다. 이때, 몸체는 금속 재질이다.

본 발명의 조리기기 또는 조리용기는 가스 레인지, 전기 레인지, 가스 오븐, 마이크로웨이브 오븐, 그릴 케이스의 내면, 그릴 팬, 트레이 등의 가정용 조리기기 또는 조리용기를 포함한다.

피코팅체인 조리기기 또는 조리용기의 기재는 금속으로, 인산염 처리강, 아연 인산염 처리강 등의 표면 처리강, 스테인리스강, 용융 알루미늄 도금강, 용융 알루미늄-아연 도금강, 탈탄 강판 등으로 된 것이어도 좋다.

도 1을 참조하여 본 발명에 따른 조리기기를 오븐을 예로서 구체적으로 설명한다.

상기 조리기기는 본체(10), 음식물을 조리하는 공간을 형성하는 조리부(50), 상기 조리부(50)를 개폐하기 위한 도어(20), 상기 조리기기를 제어하기 위한 제어부(미도시) 및 가열장치(미도시)를 포함한다.

상기 조리부(50)는 본체(10)의 내부에 형성되고, 상기 조리부의 내벽(51)은 음식물을 조리하는 공간을 형성하며, 음식물의 조리시에 음식물에 노출된다. 상기 조리부(50)의 내벽(51)은 상술한 코팅 조성물로 된 코팅층이 도포되어 있다.

또한, 상기 조리부(50)의 내부에는 음식물을 수용하는 트레이(80)가 설치될 수 있다. 상기 트레이(80)는 상기 트레이(80)를 가이드하는 랙(60)에 착탈가능하게 탑재된다. 한편, 상기 조리부(50)에는 상기 트레이(80)가 탑재되는 랙(60)이 설치 되고, 상기 랙(60)의 상면에 음식물이 직접 놓일 수 있다. 따라서, 상기 트레이(80) 및 랙(60)은 조리용기의 일예로서 상술한 코팅 조성물로 이루어진 코팅층이 도포될 수 있다.

또한, 상기 본체(10)의 전면에는 상기 본체(10)를 개폐하는 도어(20)가 힌지결합되어 있다.

또한 상기 조리기기 본체에는 음식물의 조리가 완료된 후 상기 조리부(50)의 내부를 청소하기 위하여 물 또는 스팀을 공급하는 수분공급장치(미도시)를 더 포함할 수 있다.

상기 수분공급장치는 물이 저장되는 물 저장부, 상기 물 저장부의 물을 상기 조리부 내로 이동시키는 펌프 및 상기 조리부의 내벽에 물을 분사하는 분사노즐을 포함한다. 또는 상기 수분공급장치는 물 저장부, 물을 가열하여 증기를 생성하는 히터, 및 증기를 조리부 내부로 분사하는 분사노즐을 포함할 수 있다.

상기 조리기기의 세척방법을 구체적으로 설명하면 다음과 같다.

조리기기의 내벽(51)에 고착된 오염물질을 제거하기 위해 상기 조리기기를 200~300℃로 가열한 후 상기 수분공급장치를 통해 물 또는 스팀을 분사한다. 상기 조리기기가 가열될 때 상기 코팅층의 유리질에 결합된 구형체(SiO₂+P₂O₅+Al₂O₃가 결합된 분자)에서 산소를 저장하여 오염물질을 산화시키고, 상기 수분공급장치에 의해 공급된 물 또는 스팀이 산소와 반응하여 오염물질을 밀어내는 역할을 하여 오염물질이 잘 떨어지게 한다.

상기 트레이(80) 또는 랙(80)에 고착된 오염물질은 일반적인 세척방법 외에 상기와 같은 방법으로도 제거할 수 있다.

도 2는 본 발명의 조리기기를 전기 레인지를 예로서 구체적으로 설명한다.

상기 조리기기는 본체(10') ,음식물을 조리하는 공간인 조리부(50'), 상기 조리기기를 제어하기 위한 제어부(미도시) 및 가열장치(미도시)를 포함한다.

상기 조리부(50')는 상기 본체(10')의 상부에 마련되며, 상기 조리부(50')의 외부 표면(51')은 음식물의 조리시에 음식물에 노출된다. 상기 조리부(50')의 외부 표면(51')은 상술한 코팅 조성물로 된 코팅층이 도포되어 있다.

상기와 같은 조리기기의 세척방법은 음식물을 조리, 가열한 후 남은 잔열을 이용하며, 음식물의 가열이 완료된 후 상기 조리부(50')의 외부 표면(51')에 물을 분사한다. 음식물이 가열되는 동안 상기 코팅층의 유리질에 결합된 구형체(SiO₂+P₂O₅+Al₂O₃가 결합된 분자)에서 산소를 저장하여 오염물질을 산화시키고, 상기 수분공급장치에 의해 공급된 물 또는 스팀이 산소와 반응하여 오염물질을 밀어내는 역할을 하여 오염물질이 잘 떨어지게 한다.

무기질 코팅(법랑) 조성물을 금속, 바람직하게는 탈탄 강판 표면에 적당량 도포 및 소성 처리 고정을 거쳐 생성된다. 법랑물은 SiO₂, Na₂O, K₂O, P₂O₅, ZrO₂, 알 루미나를 주성분으로 하는 무기유리질(frit)에 BaO, TiO₂ 등을 첨가하여 통상의 용융로를 이용하는 통상의 방법에 의해 용융시켰으며, 용융물을 냉수 중에 투입하여 급냉시켜 16㎛의 분말 입자로 만들어 법랑재를 만든다.

정전분체 방식의 법랑 코팅은 고압의 분사방식으로 금속에 분사하여 800℃ 이상의 소성로에서 건조하여 얻는 방식으로 금속과의 접착력이 우수하다.

[실시예 1]

각각 촉매법랑, 열분해 법랑 및 본 발명의 코팅 조성물이 코팅된 오븐 트레이를 준비하였다. 각 오븐 트레이에 간장, 케찹, 계란, 레몬쥬스, 우유, 육즙 및 쇼트닝으로 구성된 시약을 바른 후250℃에서 60분 동안 가열하였다. 그러고 나서 상온으로 냉각시켰다. 탄 시약이 눌러 붙은 촉매법랑 오븐 트레이, 열분해 법랑 오븐 트레이 및 본 발명의 코팅 오븐 트레이를 오븐에 넣고 가열한 후 스팀을 분사하여 제거되는 시점의 온도를 조사하였다. 또한 코팅 수명을 조사하기 위해 상기 과정을 50회 반복하였다. 그 결과를 표 2에 나타내었다.

[표 2]

구분	촉매법랑	열분해 법랑	본 발명의 코팅
가열온도	210℃	480~500℃	200~300℃
에너지 소비지수	100	300	100
수명	최대 25회세척주기	무제한	무제한

상기 표 2에서 보는 바와 같이 촉매법랑의 경우 210℃ 이상에서 오염물질이 용이하게 제거되었고, 열분해 법랑은 480~500℃ 이상이 되어야 비로소 오염물질이 제거되었다. 반면 본 발명의 코팅물은 200~300℃이상에서 오염물질이 스팀 분사에 의해 용이하게 제거되었다.

사용수명과 관련해서도, 촉매법랑의 경우 25회 초과 사용한 경우에는 법랑의 일부가 박리된 것을 관찰할 수 있었다.

따라서, 본 발명의 코팅은 열분해 법랑에 비해 200~300℃의 비교적 낮은 온도에서 가열하여 물이나 스팀으로 용이하게 오염물질을 제거할 수 있고 수명이 짧은 촉매법랑에 비해 우수하다.

[실시예 2]

금속면에 각각 일반 법랑 코팅, 테프론® 코팅 및 본 발명의 코팅을 한 후 각각의 연필경도와 코팅층을 가진 금속면이 물방울과 접촉하는 접촉각을 조사하고, 그 결과를 표 3에 나타냈다. 또한 상기 접촉각을 도 3 내지 5에 각각 나타냈다.

연필경도는 연필경도 시험의 측정조작을 5회 반복해서, 측정 중 1회라도 상처 등의 외견 이상이 인식되지 않는 경우, 그 시험시에 사용한 연필의 경도를 연필연도라 한다. 예를 들면, 5H의 연필을 사용하여 5회 시험을 한 후 1회라도 외견 이상이 생기지 않으면, 그 재료의 연필경도는 적어도 5H이다.

코팅층을 가진 금속면이 물방울과 접촉하는 접촉각은 세척용이성을 나타내는 지표로서 접촉각이 클수록 세척이 용이함을 나타낸다.

[표 3]

	연필경도	접촉각(°)
테프론®	B	110
	1B	109
	B	108
일반법랑	6H	22
	6H	21
	6H	20
본 발명의 코팅	6H	72
	6H	70
	6H	72
	6H	71

상기 표 3에서 보는 바와 같이 본 발명의 코팅은 경도가 크며, 접촉각도 켜서 내구성 등의 기계적 강도뿐만 아니라 세척용이성도 함께 만족함을 알 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 조리기기에 관한 일 예를 나타낸 사시도이다.

도 2는 본 발명에 따른 조리기기에 관한 다른 예를 나타낸 사시도이다.

도 3은 테프론 코팅층을 가지는 금속면이 물방울과 접촉하는 접촉각을 나타낸 것이다.

도 4는 일반법랑 코팅층을 가진 금속면이 물방울과 접촉하는 접촉각을 나타낸 것이다.

도 5는 본 발명에 따른 코팅층을 가진 금속면이 물방울과 접촉하는 접촉각을 나타낸 것이다.

Claims

SiO₂ 10~30중량%, P₂O₅10~30중량%, Al₂O₃10~30중량%, TiO₂ 1~20중량%, Na2O 7~15중량%, K₂O 7~15중량%, ZrO₂ 5~10중량%, BaO 2~5중량%, B₂O₃ 2~5중량%, MnO₂ 1~2중량% 및 밀착제를 포함하고,

상기 SiO₂, P₂O₅및 Al₂O₃는 무기유리질에서 구형체를 형성하는 것을 특징으로 하는 코팅조성물.
삭제
제 1항에 있어서,

상기 밀착제는 Co₂O₃, NiO 및 CuO으로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 코팅 조성물.
제 1항에 있어서,

상기 조성물은 안정제로서 CaO 1~5중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 코팅 조성물.
음식물이 조리되는 조리부를 가지는 본체 및

상기 조리부에 도포되는 코팅층을 포함하는 조리기기로서,

상기 코팅층은 SiO₂ 10~30중량%, P₂O₅10~30중량%, Al₂O₃10~30중량%, TiO₂ 1~20중량%, Na2O 7~15중량%, K₂O 7~15중량%, ZrO₂ 5~10중량%, BaO 2~5중량%, B₂O₃ 2~5중량%, MnO₂ 1~2중량% 및 밀착제를 포함하는 코팅 조성물로 되고,

상기 SiO_2,P₂O₅및 Al₂O₃는 무기유리질에서 구형체를 형성하는 것을 특징으로 하는 조리기기.
삭제
제5항에 있어서,

상기 밀착제는 Co₂O₃, NiO 및 CuO으로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 조리기기.
제5항에 있어서,

상기 코팅 조성물은 안정제로서 CaO 1~5중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조리기기.
제5항에 있어서,

상기 조리부는 상기 본체의 내부에 마련되며,

상기 코팅층은 상기 조리부의 내벽에 도포되는 것을 특징으로 하는 조리기기.
제5항에 있어서,

상기 조리부는 상기 본체의 상부에 위치하며,

상기 코팅층은 상기 조리부의 상면에 도포되는 것을 특징으로 하는 조리기기.
제5항, 제9항 및 제10항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 조리부는 금속인 것을 특징으로 하는 조리기기.
몸체 및

상기 몸체의 적어도 일부에 도포된 코팅층을 포함하는 조리용기로서,

상기 코팅층은 SiO₂ 10~30중량%, P₂O₅10~30중량%, Al₂O₃10~30중량%, TiO₂ 1~20중량%, Na2O 7~15중량%, K₂O 7~15중량%, ZrO₂ 5~10중량%, BaO 2~5중량%, B₂O₃ 2~5중량%, MnO₂ 1~2중량% 및 밀착제를 포함하는 코팅 조성물로 되고,

상기 SiO_2,P₂O₅및 Al₂O₃는 무기유리질에서 구형체를 형성하는 것을 특징으로 하는 조리용기.
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제12항에 있어서,

상기 밀착제는 Co₂O₃, NiO 및 CuO으로 이루어진 그룹에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 조리용기.
제12항에 있어서,

상기 코팅 조성물은 안정제로서 CaO 1~5중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조리용기.