KR102217419B1 - Touch Sensor for Touch Screen Panel, Manufacturing Method of Cover for Touch Screen Panel and Touch Screen Panel comprising the Cover Film - Google Patents

Touch Sensor for Touch Screen Panel, Manufacturing Method of Cover for Touch Screen Panel and Touch Screen Panel comprising the Cover Film Download PDF

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KR102217419B1 KR1020140050091A KR20140050091A KR102217419B1 KR 102217419 B1 KR102217419 B1 KR 102217419B1 KR 1020140050091 A KR1020140050091 A KR 1020140050091A KR 20140050091 A KR20140050091 A KR 20140050091A KR 102217419 B1 KR102217419 B1 KR 102217419B1
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Abstract

본 발명은 터치 스크린 패널용 터치 센서, 그 제조방법 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널에 관한 것으로, 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하는 터치 감지용 회로전극을 투명기재에 도전성 페이스트를 소성하고, 식각하여 형성함으로써, 제조 과정이 간단하고 제조 비용을 절감한다. The present invention relates to a touch sensor for a touch screen panel, a method of manufacturing the same, and a touch screen panel including the same, and is formed by firing a conductive paste on a transparent substrate and etching a touch sensing circuit electrode for sensing a touch in the touch screen panel. By doing so, the manufacturing process is simple and manufacturing cost is reduced.

Description

터치 스크린 패널용 터치 센서, 그 제조방법 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널{Touch Sensor for Touch Screen Panel, Manufacturing Method of Cover for Touch Screen Panel and Touch Screen Panel comprising the Cover Film} A touch sensor for a touch screen panel, a manufacturing method thereof, and a touch screen panel including the same.

본 발명은 터치 스크린 패널용 터치 센서에 관한 것이며, 보다 구체적으로는, 도전성 페이스트를 이용하여 터치 감지용 회로전극을 형성한 터치 센서, 그 제조방법 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널에 관한 것이다. The present invention relates to a touch sensor for a touch screen panel, and more specifically, to a touch sensor in which a circuit electrode for sensing a touch is formed using a conductive paste, a method of manufacturing the same, and a touch screen panel including the same.

일반적으로 터치 스크린 패널은 투명 필름에 투명 전극이 구비된 터치 센서를 커버 유리(Cover Glass)에 합착하여 제작되고 있다.In general, a touch screen panel is manufactured by bonding a touch sensor including a transparent electrode on a transparent film to a cover glass.

상기 터치 센서는, 투명 필름에 전극 재료, 즉, 일 예로 ITO(Indium Tin Oxide)를 일면에 코팅하고, 에칭 공정으로 센싱 전극을 형성하여 제조된다.The touch sensor is manufactured by coating a transparent film with an electrode material, that is, for example, indium tin oxide (ITO) on one surface, and forming a sensing electrode through an etching process.

도 1을 참고하면, 상기 터치 스크린 패널(1)은 디스플레이 패널(1a)에 투명 접착층(1b)을 이용하여 두 개의 터치 센서(1c) 및 상기 터치 센서(1c)를 커버하는 강화유리(1d)가 차례로 적층되는 구조를 가진다.Referring to FIG. 1, the touch screen panel 1 uses a transparent adhesive layer 1b on a display panel 1a to cover two touch sensors 1c and a tempered glass 1d covering the touch sensor 1c. Has a structure in which are sequentially stacked.

즉, 통상적인 터치 스크린 패널은 ITO 센싱 전극이 필름기재에 형성된 터치 스크린 패널용 터치 센서 2개와, 강화유리(1d)를 사용하는 GFF방식이 주로 사용되고 있다. 상기 2개의 센서에는 각각 X축 센서 또는 Y축 센서가 형성된다. That is, in a typical touch screen panel, two touch sensors for a touch screen panel in which an ITO sensing electrode is formed on a film substrate and a GFF method using tempered glass 1d are mainly used. Each of the two sensors is provided with an X-axis sensor or a Y-axis sensor.

그러나, 필름기재에 ITO로 센싱 전극을 형성하는 종래의 터치 스크린 패널용 터치 센서는 13인치 이상의 화면에서 ITO(Indium Tin Oxide) 전극의 높은 저항으로 터치 속도 저하와 멀티 터치 구현에 어려움이 있었다.However, the conventional touch sensor for a touch screen panel, which forms a sensing electrode with ITO on a film substrate, suffers from a decrease in touch speed and difficulty in implementing a multi-touch due to the high resistance of an indium tin oxide (ITO) electrode on a screen of 13 inches or more.

또한, ITO(Indium Tin Oxide)의 주재료인 인듐은 희귀 원소로 고갈되고 있으며, 한정된 매장량에 의해 가격이 비싸 터치 스크린 패널의 제조 비용을 증대시키는 원인이 되고 있다. In addition, indium, which is the main material of ITO (Indium Tin Oxide), is depleted as a rare element, and is expensive due to limited reserves, which increases the manufacturing cost of the touch screen panel.

또한, ITO(Indium Tin Oxide) 전극은 높은 공정온도로 연성 기판의 적용에 어려움이 있고, 취약한 기계적 성질로 인해 크랙 발생이 빈번하여 플렉서블 디스플레이에 사용하기 부적합한 문제점이 있다.In addition, the ITO (Indium Tin Oxide) electrode has a problem in that it is difficult to apply a flexible substrate due to a high process temperature, and cracks are frequently generated due to its weak mechanical properties, making it unsuitable for use in a flexible display.

또한, 건식증착시 에칭 공정에 의한 폐수가 배출되어 환경오염을 유발하고, OLED 적용 시 유기층으로 인듐이 확산되는 문제점이 있다. In addition, during dry deposition, wastewater is discharged from the etching process, causing environmental pollution, and there is a problem in that indium is diffused into the organic layer when OLED is applied.

특히, 13인치 이상의 대면적 터치 스크린 패널에서 ITO(Indium Tin Oxide) 전극은 높은 저항으로 전력 소모가 과다한 문제가 있다.In particular, in a 13-inch or larger large-area touch screen panel, an ITO (Indium Tin Oxide) electrode has a problem of excessive power consumption due to high resistance.

또한, AgNW(Silver nano Wire)를 투명 필름의 전면에 형성하고, 에칭으로 투명 전극을 형성하여 터치 센서를 제조할 수 있는데, AgNW(Silver nano Wire)을 사용하여 투명 전극을 형성하는 경우 낮은 저항으로 터치 속도는 우수하나 투명도가 낮은 문제점이 있다.In addition, AgNW (Silver Nano Wire) can be formed on the entire surface of a transparent film and a transparent electrode can be formed by etching to manufacture a touch sensor. In the case of forming a transparent electrode using AgNW (Silver Nano Wire), a low resistance is required. Although the touch speed is excellent, there is a problem with low transparency.

또한, 종래의 터치 센서는 대부분 노광, 현상, 에칭 등의 공정을 거치게 되며, 이 때 투명 필름의 기재 상에 스크래치 등의 손상이 발생되고, 이러한 손상에 의한 광학적 열화가 발생되는 문제점이 있다.In addition, most of the conventional touch sensors undergo processes such as exposure, development, and etching, and at this time, damage such as scratches occurs on the substrate of the transparent film, and optical deterioration due to such damage has a problem.

또한, 종래 터치 스크린 패널은 X축 센서와 Y축 센서가 각각 투명 필름에 형성된 두 개의 터치 센서(1c)를 포함하므로 제조공정이 복잡하며, 제조원가가 많이 소요되고 두께를 슬림화하는 데 한계가 있는 문제점이 있었다. In addition, since the conventional touch screen panel includes two touch sensors 1c in which the X-axis sensor and the Y-axis sensor are each formed on a transparent film, the manufacturing process is complicated, manufacturing cost is high, and there is a limitation in reducing the thickness. There was this.

국내특허공개 제2013-0131647호 '전극-윈도우 일체형 터치 스크린 패널 및 그 터치 스크린 패널을 포함한 터치 스크린 디스플레이 장치'(2013.12.04 공개)Korean Patent Publication No. 2013-0131647'An electrode-window integrated touch screen panel and a touch screen display device including the touch screen panel' (published on Dec. 4, 2013)

본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 안출한 것으로, 안정적인 터치 속도와 멀티 터치를 통해 제품의 신뢰성을 확보할 수 있고, 제조 원가를 줄인 터치 스크린 패널용 터치 센서, 그 제조방법 및 이를 포함하는 터치 스크린 패널을 제공하는 데 그 목적이 있다.The present invention was devised in consideration of the above points, and a touch sensor for a touch screen panel that can secure product reliability through a stable touch speed and multi-touch, and reduces manufacturing cost, a manufacturing method thereof, and a touch including the same Its purpose is to provide a screen panel.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서는, 투명기재;A touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes: a transparent substrate;

상기 투명기재에 구비되며, 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극을 포함하며, It is provided on the transparent material and includes a touch sensing circuit electrode formed to sense a touch on the touch screen panel,

상기 터치 감지용 회로전극은, 도전성 페이스트를 소성하여 형성한 것을 특징으로 한다.The circuit electrode for touch sensing is characterized in that it is formed by firing a conductive paste.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로전극은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부; 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부가 상기 투명기재에서 동일면에 형성될 수 있다. In the present invention, the touch sensing circuit electrode includes: an X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a horizontal direction; And a Y-axis sensing circuit part including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in a longitudinal direction, and the X-axis sensing circuit part and the Y-axis sensing circuit part may be formed on the same surface of the transparent substrate.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로전극은, 상기 투명기재의 양면 중 어느 한면에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부; 및 상기 투명기재의 양면 중 어느 다른 한면에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함할 수 있다.In the present invention, the touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes provided on one of both surfaces of the transparent substrate and spaced apart in a transverse direction; And a Y-axis sensing circuit unit including a plurality of Y-axis electrodes provided on the other side of both surfaces of the transparent material and spaced apart in a longitudinal direction.

본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서는, 상기 터치 감지용 회로전극에 적층되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층;을 더 포함할 수 있다. The touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may further include an antireflection layer that is stacked on the touch sensing circuit electrode to prevent reflection of light.

본 발명에서 상기 반사 방지층은, 상기 투명기재의 일면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 하나와 상기 투명기재의 사이에 배치되는 제1반사 방지층; 및 상기 투명기재의 타면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 다른 하나에 적층되는 제2반사 방지층을 포함할 수 있다. In the present invention, the anti-reflection layer is provided on one surface of the transparent material, and the first anti-reflection layer is disposed between the transparent substrate and one of the X-axis sensing circuit unit and the Y-axis sensing circuit unit; And a second antireflection layer provided on the other surface of the transparent material and stacked on the other one of the X-axis sensing circuit part and the Y-axis sensing circuit part.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, In addition, the method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention for achieving the above object,

투명기재에 도전성 페이스트로 터치 스크린 패널에서 터치를 감지할 수 있는 터치 감지용 회로전극을 형성하는 단계; 및Forming a touch sensing circuit electrode capable of sensing a touch on a touch screen panel with a conductive paste on a transparent substrate; And

상기 터치 감지용 회로전극을 소성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 한다.And firing the touch sensing circuit electrode.

본 발명의 일 실시 예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 상기 터치 감지용 회로전극을 식각하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may further include etching the circuit electrode for touch sensing.

본 발명에서 상기 식각하는 단계는, 상기 터치 감지용 회로전극에 포토레지스트층를 적층 형성하는 과정; 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 포토레지스트층 중 터치 감지용 회로패턴에 대응되는 커버패턴을 형성하는 과정; 및 In the present invention, the etching may include forming a photoresist layer on the touch sensing circuit electrode; Exposing and developing the photoresist layer to form a cover pattern corresponding to the touch sensing circuit pattern among the photoresist layers; And

상기 커버패턴에 의해 커버된 상기 터치 감지용 회로전극을 식각하는 과정을 포함할 수 있다. It may include a process of etching the touch sensing circuit electrode covered by the cover pattern.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로 전극을 형성하는 단계는, 도전성 페이스트를 스크린 인쇄하여 형성할 수 있다. In the present invention, the step of forming the touch sensing circuit electrode may be formed by screen printing a conductive paste.

본 발명의 일 실시 예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 상기 투명기재 또는 상기 터치 감지용 회로전극에 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention may further include forming an antireflection layer for preventing reflection of light on the transparent substrate or the circuit electrode for touch sensing.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로전극을 형성하는 단계는, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 상기 기재의 동일면에 형성할 수 있다. In the present invention, the forming of the circuit electrode for touch sensing includes an X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a horizontal direction and a Y-axis sensing circuit unit including a plurality of Y-axis electrodes spaced in a longitudinal direction. It can be formed on the same side of the substrate.

본 발명에서 상기 터치 감지용 회로전극을 형성하는 단계는, 상기 투명기재의 한면에 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부와 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부 중 어느 하나를 인쇄하는 제1회로전극 형성과정; 및 상기 투명기재의 다른 한면에 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부 또는 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부 중 다른 하나를 인쇄하는 제2회로전극 형성과정;을 포함할 수 있다. In the present invention, the step of forming the circuit electrode for touch sensing includes an X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a transverse direction on one surface of the transparent material and a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in a longitudinal direction. Forming a first circuit electrode for printing any one of the Y-axis sensing circuit units; And a second circuit for printing the other one of the X-axis sensing circuit unit including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the transverse direction on the other side of the transparent material or the Y-axis sensing circuit unit including a plurality of Y-axis electrodes spaced in the longitudinal direction. It may include; electrode formation process.

본 발명에서 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는, 상기 제1회로전극형성 과정 이전에 상기 투명기재의 한면에 빛의 반사를 방지하는 제1반사 방지층을 형성하는 과정; 및 상기 제2회로전극 형성과정 후 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 다른 하나에 빛의 반사를 방지하는 제2반사 방지층을 형성하는 과정을 포함할 수 있다. In the present invention, the forming of the anti-reflection layer may include: forming a first anti-reflection layer on one surface of the transparent substrate before forming the first circuit electrode; And forming a second anti-reflection layer for preventing reflection of light on the other of the X-axis sensing circuit unit and the Y-axis sensing circuit unit after forming the second circuit electrode.

본 발명에서 상기 반사 방지층을 형성하는 단계는, 흑화된 도전성 페이스트로 스크린 인쇄하여 반사 방지층을 형성하여 상기 소성하는 단계에서 상기 터치 감지용 회로전극과 함께 소성할 수 있다. In the present invention, the step of forming the anti-reflection layer may include screen printing with a blackened conductive paste to form an anti-reflection layer and fire together with the touch sensing circuit electrode in the firing step.

또한, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널은, In addition, the touch screen panel according to an embodiment of the present invention for achieving the above object,

화면을 출력하는 디스플레이 패널유닛; A display panel unit that outputs a screen;

상기 디스플레이 패널유닛의 화면을 커버하여 보호하는 터치스크린 패널 커버기재; 및A touch screen panel cover substrate covering and protecting the screen of the display panel unit; And

상기 디스플레이 패널유닛과 상기 터치스크린 패널 커버기재의 사이에 개재되며 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극을 포함하며,A touch sensing circuit electrode interposed between the display panel unit and the touch screen panel cover substrate and formed to sense a touch on the touch screen panel,

상기 터치 감지용 회로전극은, 도전성 페이스트를 소성하여 형성한 것을 특징으로 한다.The circuit electrode for touch sensing is characterized in that it is formed by firing a conductive paste.

본 발명에서 상기 도전성 페이스트는 은분말과, 폴리머레진, 솔벤트를 포함한 은페이스트일 수 있고, 상기 은페이스트는 은분말 73wt% ~ 88wt%, 폴리머레진 5.9wt% ~ 9.5wt%, 솔벤트 5.7wt% ~ 18.0wt%를 포함할 수 있다. In the present invention, the conductive paste may be a silver paste including silver powder, polymer resin, and solvent, and the silver paste may be 73wt% to 88wt% silver powder, 5.9wt% to 9.5wt% polymer resin, and 5.7wt% solvent to It may contain 18.0wt%.

본 발명은 센싱용 회로전극을 도전성 페이스트로 인쇄하여 형성하므로 제조 과정이 간단하고 제조 비용을 절감하는 효과가 있다.In the present invention, since the sensing circuit electrode is formed by printing a conductive paste, the manufacturing process is simple and the manufacturing cost is reduced.

본 발명은 연성 기판에 비저항 특성과 투과도가 우수한 센싱용 회로전극을 형성하여 플렉시블 디스플레이에 안정적으로 적용이 가능하고, 플렉시블 디스플레이의 안정적인 터치 속도와 멀티 터치를 통해 제품의 신뢰성을 확보하는 효과가 있다.The present invention has an effect of stably applying to a flexible display by forming a sensing circuit electrode having excellent resistivity and transmittance on a flexible substrate, and securing product reliability through a stable touch speed and multi-touch of the flexible display.

도 1은 종래 터치 스크린 패널의 일 예를 도시한 도면
도 2는 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서의 일 실시 예를 도시한 단면도
도 3은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서의 일 실시 예를 도시한 사시도
도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서의 다른 실시 예를 도시한 단면도
도 6 내지 도 10은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널의 실시 예를 도시한 개략도
도 11은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법의 일 실시 예를 도시한 공정도
도 12는 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법의 일 실시 예를 도시한 개략도
도 13은 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법의 다른 실시 예를 도시한 공정도
도 14는 본 발명에 따른 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법의 다른 실시 예를 도시한 개략도
1 is a view showing an example of a conventional touch screen panel
2 is a cross-sectional view showing an embodiment of a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
3 is a perspective view showing an embodiment of a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
4 and 5 are cross-sectional views showing another embodiment of a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
6 to 10 are schematic diagrams showing an embodiment of a touch screen panel according to the present invention
11 is a process chart showing an embodiment of a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
12 is a schematic diagram showing an embodiment of a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
13 is a process chart showing another embodiment of a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention
14 is a schematic diagram showing another embodiment of a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to the present invention

본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 여기서, 반복되는 설명, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능, 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다. 본 발명의 실시형태는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다.The present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings as follows. Here, repeated descriptions, well-known functions that may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, and detailed descriptions of configurations are omitted. Embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those with average knowledge in the art. Accordingly, the shapes and sizes of elements in the drawings may be exaggerated for clearer explanation.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 센서를 도시한 단면도이며, 도 2를 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서는, 투명기재(10) 및 상기 투명기재(10)에 구비되며, 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극(20)을 포함한다.2 is a cross-sectional view showing a touch sensor according to an embodiment of the present invention, and referring to FIG. 2, the touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes a transparent substrate 10 and the transparent substrate. It is provided in (10) and includes a touch sensing circuit electrode 20 formed to sense a touch on the touch screen panel.

상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 도전성 페이스트를 소성하여 형성한다.The circuit electrode 20 for touch sensing is formed by firing a conductive paste.

상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 사람의 눈으로 인식이 불가한 미세한 폭을 가지도록 형성되며, 15㎛ 이하에서 바람직하게는 3㎛ 이하의 선폭을 가지는 것을 일 예로 한다.The circuit electrode 20 for touch sensing is formed to have a fine width that cannot be recognized by the human eye, and has a line width of less than 15 μm and preferably less than 3 μm.

상기 도전성 페이스트는, 도전성 금속분말과 바인더를 포함한다. 도전성 금속분말은 은, 구리, 알루미늄, 니켈 중 선택된 1종 또는 선택된 2종 이상의 혼합물일 수 있다.The conductive paste contains a conductive metal powder and a binder. The conductive metal powder may be one selected from silver, copper, aluminum, and nickel, or a mixture of two or more selected.

상기 도전성 페이스트는 은분말과, 폴리머레진, 솔벤트를 포함한 은페이스트인 것이 바람직하다. 상기 은페이스트는 은분말 73wt% ~ 88wt%, 폴리머레진 5.9wt% ~ 9.5wt%, 솔벤트 5.7wt% ~ 18.0wt%를 포함한다.The conductive paste is preferably a silver paste containing silver powder, polymer resin, and solvent. The silver paste contains 73wt% ~ 88wt% silver powder, 5.9wt% ~ 9.5wt% polymer resin, and 5.7wt% ~ 18.0wt% solvent.

상기 은페이스트는 0.35wt% ~ 2.90wt%의 분산제를 더 포함할 수도 있다.The silver paste may further contain a dispersant of 0.35wt% to 2.90wt%.

상기 폴리머레진은 폴리에스테르계를 포함하며, 분자량이 25,000인 것을 일 예로 한다. The polymer resin includes a polyester-based, for example, a molecular weight of 25,000.

상기 은분말은 입자크기가 50nm ~ 5㎛인 것을 일 예로 하고, 바람직하게 0.5 ~ 1.2㎛이다. 상기 은 분말은 입자크기가 작아야 인쇄시 이동이 잘되고 소성시 은 분말끼리 붙어 저항이 낮아지므로 5㎛초과의 은분말에서는 저항을 30Ω 이하, 바람직하게는 23Ω 이하로 구현하기 어려운 문제점이 있다.The silver powder is an example of a particle size of 50nm ~ 5㎛, preferably 0.5 ~ 1.2㎛. Since the silver powder has a small particle size, it is difficult to achieve a resistance of 30Ω or less, preferably 23Ω or less in silver powders exceeding 5 μm, since it is difficult to move well during printing and decrease resistance when silver powders stick together during firing.

본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서는, 상기 투명기재(10)와 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 사이에 개재되거나 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 적층되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층(30);을 더 포함한다. The touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention is interposed between the transparent substrate 10 and the circuit electrode 20 for touch sensing, or stacked on the circuit electrode 20 for touch sensing to light It further includes an anti-reflection layer 30 to prevent reflection of the.

상기 반사 방지층(30)은 상기 터치 감지용 회로전극(20)과 대응되는 형상으로 형성되어 상기 투명기재(10)에 적층 형성된다. 또한, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은 상기 반사 방지층(30)에 적층 형성된다. 즉, 상기 반사 방지층(30)과 상기 터치 감지용 회로전극(20)은 상기 투명기재(10)에 차례로 적층 형성될 수 있다. The anti-reflection layer 30 is formed in a shape corresponding to the circuit electrode 20 for touch sensing, and is laminated on the transparent substrate 10. In addition, the touch sensing circuit electrode 20 is stacked on the anti-reflection layer 30. That is, the anti-reflection layer 30 and the touch sensing circuit electrode 20 may be sequentially stacked on the transparent substrate 10.

상기 터치 감지용 회로전극(20)은 상기 투명기재(10)에 적층 형성되고, 상기 반사 방지층(30)은 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 적층될 수 있다. 즉, 상기 터치 감지용 회로전극(20)과 상기 반사 방지층(30)은 상기 투명기재(10)에 차례로 적층 형성될 수 있다. The touch sensing circuit electrode 20 may be stacked on the transparent substrate 10, and the antireflection layer 30 may be stacked on the touch sensing circuit electrode 20. That is, the touch sensing circuit electrode 20 and the anti-reflection layer 30 may be sequentially stacked on the transparent substrate 10.

상기 반사 방지층(30)은, 30%이하의 반사율을 가지는 검은색 계열의 색상을 가지는 것이 바람직하며, 30% 이상의 반사율을 가지는 경우 눈부심이 발생하여 터치 스크린 패널의 시인성을 저하시키는 문제점이 있다.The antireflection layer 30 preferably has a black color having a reflectance of 30% or less, and when it has a reflectance of 30% or more, there is a problem in that glare occurs, thereby reducing the visibility of the touch screen panel.

상기 반사 방지층(30)은, 흑화된 도전성 잉크 또는 흑화된 도전성 페이스트로 소성되어 형성될 수 있고, 카본블랙잉크, 카본블랙페이스트, 탄소나노튜브잉크, 탄소나노튜브페이스트, 도전성 잉크에 흑화제를 혼합한 것, 도전성 페이스트에 흑화제를 혼합한 것을 포함할 수 있다. 상기 흑화된 도전성 잉크 또는 상기 흑화된 도전성 페이스트는 도전성 물질로 구리(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al) 등을 포함한 것을 일 예로 하며, 상기 흑화제는 카본블랙(Carbon Black) 또는 탄소나노튜브인 것을 일 예로 하고 도전성 잉크 또는 도전성 페이스트를 검은색 계열의 색상을 형성하는 어떠한 것도 적용이 가능함을 밝혀둔다. The antireflection layer 30 may be formed by firing with blackened conductive ink or blackened conductive paste, and a blackening agent is mixed with carbon black ink, carbon black paste, carbon nanotube ink, carbon nanotube paste, and conductive ink. It may include a mixture of a blackening agent and a conductive paste. The blackened conductive ink or the blackened conductive paste is an example of a conductive material including copper (Cu), silver (Ag), aluminum (Al), and the like, and the blackening agent is carbon black or carbon nano As an example, it is assumed that it is a tube, and it is revealed that any of the conductive ink or conductive paste forming a black-based color can be applied.

또한, 상기 반사 방지층(30)은, 상기 회로홈의 내부에 도전성 물질을 진공 증착하여 형성된 것일 수 있다. 상기 도전성 물질은 구리(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al) 등의 금속 또는, 구리, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 중 적어도 두개가 혼합된 합금인 것을 일 예로 한다. In addition, the antireflection layer 30 may be formed by vacuum depositing a conductive material inside the circuit groove. The conductive material is a metal such as copper (Cu), nickel (Ni), chromium (Cr), tungsten (W), molybdenum (Mo), and aluminum (Al), or among copper, nickel, chromium, tungsten, molybdenum, and aluminum. As an example, it is an alloy in which at least two are mixed.

또한, 상기 반사 방지층(30)은, 산화층 또는 질화층일 수 있으며, 상기 산화층은 산화티타늄(TiO2), 산화크롬(CrO2), 산화구리(CuO), 산화니켈(NiO), 산화알루미늄(Al2O3), 산화은(AgO) 등인 것을 일 예로 하고, 상기 질화층은, 질화티타늄(TiN) 또는 질화구리(CuN) 등인 것을 일 예로 한다.In addition, the anti-reflection layer 30 may be an oxide layer or a nitride layer, and the oxide layer is titanium oxide (TiO 2 ), chromium oxide (CrO 2 ), copper oxide (CuO), nickel oxide (NiO), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silver oxide (AgO), etc. As an example, the nitride layer is made of titanium nitride (TiN) or copper nitride (CuN).

상기 반사 방지층(30)은, 10nm의 두께를 가지며 구리를 열증착하여 형성된 것을 일 예로 한다. 구리를 열증착하면 검은색 계열의 색상을 가지게 되어 반사율이 30% 이하로 형성된 상기 반사 방지층(30)을 형성할 수 있다. As an example, the antireflection layer 30 has a thickness of 10 nm and is formed by thermally depositing copper. When copper is thermally evaporated, the antireflection layer 30 may be formed to have a black color, and thus have a reflectance of 30% or less.

상기 반사 방지층(30)은 상기 500Å ~ 5,000Å의 두께로 상기 투명기재(10)에 형성되는 것을 일 예로 한다. As an example, the anti-reflection layer 30 is formed on the transparent substrate 10 to a thickness of 500 Å to 5,000 Å.

상기 반사 방지층(30)은 기설정된 반사율 이하를 가지는 도전성 물질로 빛의 난반사를 방지하여 눈부심이 발생되는 것을 방지하고, 터치 스크린 패널의 시인성을 확보할 수 있도록 한다.The antireflection layer 30 is a conductive material having a predetermined reflectivity or less, and prevents diffuse reflection of light, thereby preventing glare from occurring and ensuring visibility of the touch screen panel.

상기 투명기재(10)는, 투명 PI필름일 수 있고, PEN(Polyethylene Naphthalate) 필름, PET(Polyethylene Terephthalate) 필름, PC(Polycarbonate)필름, PSS(Poly styrene sulfonate) 필름 중 하나일 수도 있고, 이외의 엔지니어링 플라스틱 등 투명재질의 필름을 사용할 수 있다.The transparent substrate 10 may be a transparent PI film, and may be one of a polyethylene naphthalate (PEN) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polycarbonate (PC) film, and a polystyrene sulfonate (PSS) film. Films of transparent materials such as engineering plastics can be used.

또한, 상기 투명기재(10)는, 강화유리일 수도 있고, 필름기재의 표면에 경도를 증대시키는 강화코팅층을 형성한 강화코팅 필름일 수도 있다. 상기 필름기재는 투명 PI필름일 수 있고, PEN(Polyethylene Naphthalate) 필름, PET(Polyethylene Terephthalate) 필름, PC(Polycarbonate)필름, PSS(Poly styrene sulfonate) 필름 중 하나일 수도 있고, 이외에도 합성수지 재질의 필름으로 강화코팅이 가능한 어떠한 것으로도 변형실시될 수 있음을 밝혀둔다.In addition, the transparent substrate 10 may be a tempered glass, or may be a reinforced coating film in which a reinforcing coating layer for increasing hardness is formed on the surface of the film substrate. The film substrate may be a transparent PI film, and may be one of a PEN (Polyethylene Naphthalate) film, a PET (Polyethylene Terephthalate) film, a PC (Polycarbonate) film, and a PSS (Poly styrene sulfonate) film. It should be noted that the reinforcement coating can be modified to anything possible.

상기 강화코팅층은, 실리콘(Si) 또는 세라믹(Ceramic)을 포함한 레진으로 코팅 형성되거나, 진공증착을 통한 코팅층일 수도 있는 것을 일 예로 하며, 이외에도 상기 필름기재(11)의 일면의 경도를 증대시켜 스크래치와 크랙에 대한 내구성을 증대시키는 어떠한 코팅층으로도 변형 실시될 수 있음을 밝혀둔다.The reinforcing coating layer may be formed by coating with a resin including silicon (Si) or ceramic, or may be a coating layer through vacuum deposition, and in addition, by increasing the hardness of one side of the film substrate 11 to scratch It should be noted that it can be modified with any coating layer that increases durability against cracks and cracks.

상기 강화코팅층은, 0.3mm이하의 두께를 가져 플렉시블 가능하도록 하여 플렉시블 터치 스크린 패널에 적용 가능하도록 하는 것이 바람직하다.It is preferable that the reinforcing coating layer has a thickness of 0.3 mm or less so that it is flexible and applicable to a flexible touch screen panel.

상기 투명기재(10)는, 터치스크린 패널에서 디스플레이 패널유닛(40)의 화면을 커버하여 보호하는 터치스크린 패널 커버기재(11)일 수 있고, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)는 상기한 강화유리 또는 강화코팅 필름인 것이 바람직하다.The transparent substrate 10 may be a touch screen panel cover substrate 11 that covers and protects the screen of the display panel unit 40 from the touch screen panel, and the touch screen panel cover substrate 11 is reinforced as described above. It is preferably a glass or a tempered coating film.

상기 투명기재(10)는 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)로 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 일면에 직접 터치 감지용 회로전극(20)을 일체로 형성하여 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화한다.The transparent substrate 10 is the touch screen panel cover substrate 11, and the touch sensing circuit electrode 20 is integrally formed on one surface of the touch screen panel cover substrate 11 to reduce the thickness of the touch screen panel. And, the weight of the touch screen panel is reduced.

이 때, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 일면은 터치 스크린 패널에서 안쪽면 즉, 디스플레이 패널유닛(40)을 향하는 면이고, 상기 디스플레이 패널유닛(40)에 장착 시 외부로 노출되는 면 즉, 바깥측을 향하는 표면과 반대측면이 된다.At this time, one surface of the touch screen panel cover material 11 is an inner surface of the touch screen panel, that is, a surface facing the display panel unit 40, and a surface exposed to the outside when mounted on the display panel unit 40, that is, , It becomes the side opposite to the surface facing outward.

도 3을 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 터치를 감지할 수 있는 회로 형상으로 형성되며, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 또는 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)인 것을 일 예로 한다. Referring to FIG. 3, the touch sensing circuit electrode 20 is formed in a circuit shape capable of sensing a touch, and includes a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a horizontal direction, or a vertical X-axis sensing circuit unit 21 As an example, it is the Y-axis sensing circuit unit 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the direction.

상기 투명기재(10)는, 제1투명기재(12)와 제2투명기재(13)를 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 제1투명기재(12)에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 제2투명기재(13)에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하는 것을 일 예로 한다.The transparent substrate 10 includes a first transparent substrate 12 and a second transparent substrate 13, and the circuit electrode 20 for touch sensing is provided on the first transparent substrate 12 and is horizontally An X-axis sensing circuit part 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a direction, and a Y-axis sensing circuit part 22 provided on the second transparent substrate 13 and including a plurality of Y-axis electrodes spaced in a longitudinal direction. Included is an example.

횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극과 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극은은 트레이스 전극을 통해 외부 회로와 연결되고, 상기 외부 회로의 일 예로 정전식 멀티터치 콘트롤부가 있으며, 상기 정전식 멀티터치 콘트롤부는 해당 전자기기의 메인 프로세스와 전기적으로 연결된다. A plurality of X-axis electrodes spaced apart in the transverse direction and a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction are connected to an external circuit through a silver trace electrode, and an example of the external circuit includes a capacitive multi-touch control unit. The multi-touch control unit is electrically connected to the main process of the electronic device.

상기 X축 전극 및 상기 Y축 전극은 마름모 형상의 메탈 메쉬형상으로 형성된 복수의 터치센서 전극이 전기적으로 연결된 형태를 가지는 것을 일 예로 한다.As an example, the X-axis electrode and the Y-axis electrode have a form in which a plurality of touch sensor electrodes formed in a rhombus-shaped metal mesh shape are electrically connected.

도 4를 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 투명기재(10)의 양면 중 어느 한면에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 투명기재(10)의 양면 중 어느 다른 한면에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하는 것을 일 예로 한다.Referring to FIG. 4, the touch sensing circuit electrode 20 is provided on one of both surfaces of the transparent substrate 10 and includes a plurality of X-axis electrodes spaced apart from each other in the transverse direction. And a Y-axis sensing circuit unit 22 including a plurality of Y-axis electrodes provided on one of both surfaces of the transparent substrate 10 and spaced apart in a longitudinal direction.

상기 반사 방지층(30)은, 상기 투명기재(10)의 일면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 하나와 상기 투명기재(10)의 사이에 배치되는 제1반사 방지층(31); 및 상기 투명기재(10)의 타면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나에 적층되는 제2반사 방지층(32)을 포함한다. The anti-reflection layer 30 is provided on one surface of the transparent material 10, and is disposed between one of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 and the transparent material 10 A first anti-reflection layer 31; And a second anti-reflection layer 32 provided on the other surface of the transparent substrate 10 and stacked on the other one of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22.

상기 투명기재(10)의 양면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 각각 구비되어 재료비를 절감하고, 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다. The X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 are respectively provided on both sides of the transparent material 10 to reduce material cost, reduce the thickness of the touch screen panel, and reduce the weight of the touch screen panel. It can be lightened.

도 5를 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 투명기재(10)에서 동일면에 형성된다. Referring to FIG. 5, the touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit part 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a horizontal direction and a Y-axis sensing circuit part including a plurality of Y-axis electrodes spaced in a longitudinal direction. 22, and the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 are formed on the same surface of the transparent substrate 10.

상기 투명기재(10)의 양면 중 어느 한면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 함께 형성되어 재료비를 절감하고, 광학 특성이 향상됨과 동시에 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다.The X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 are formed together on either side of the transparent substrate 10 to reduce material cost, improve optical properties, and reduce the thickness of the touch screen panel. It is slimmer, and the weight of the touch screen panel can be reduced.

한편, 도 6 내지 도 10을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 화면을 출력하는 디스플레이 패널유닛(40); 및 상기 디스플레이 패널유닛(40)의 화면을 커버하여 보호하는 터치스크린 패널 커버기재(11); 상기 디스플레이 패널유닛(40)과 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 개재되며 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극(20)을 포함한다.Meanwhile, referring to FIGS. 6 to 10, a touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes: a display panel unit 40 for outputting a screen; And a touch screen panel cover substrate 11 covering and protecting the screen of the display panel unit 40. And a touch sensing circuit electrode 20 interposed between the display panel unit 40 and the touch screen panel cover substrate 11 and formed to sense a touch on the touch screen panel.

상기 터치스크린 패널 커버기재(11)는 투명기재(10)로 강화유리일 수도 있고, 필름기재의 표면에 경도를 증대시키는 강화코팅층을 형성한 강화코팅 필름인 것을 일 예로 하며, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은 도전성 페이스트로 소성하여 형성되고, 이에 대한 실시 예는 상기에서 기재하여 설명한 바, 중복 기재로 생략함을 밝혀둔다. The touch screen panel cover material 11 may be a tempered glass with a transparent substrate 10, or a reinforced coating film formed with a reinforced coating layer that increases hardness on the surface of the film substrate, and the touch sensing circuit The electrode 20 is formed by sintering with a conductive paste, and an embodiment thereof is described above and is omitted as a redundant description.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 터치 감지용 회로전극에서 상기 터치 스크린 패널 커버기재의 외측을 향하는 측에 형성되며 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층(30);을 더 포함한다.The touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes an antireflection layer 30 formed on a side facing the outside of the touch screen panel cover material in the touch sensing circuit electrode and preventing reflection of light. .

즉, 상기 반사 방지층(30)은 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)와 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 사이에 개재되어 빛의 반사를 방지하며, 상기 반사 방지층(30)에 대한 실시 예는 상기에서 기재하여 설명한 바, 중복 기재로 생략함을 밝혀둔다. That is, the antireflection layer 30 is interposed between the touch screen panel cover substrate 11 and the touch sensing circuit electrode 20 to prevent reflection of light, and the antireflection layer 30 As described above, it should be noted that the description is omitted as a duplicate description.

더 상세하게 도 6을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 디스플레이 패널유닛(40)과 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 제1투명기재(12)와 제2투명기재(13)를 더 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은 상기 제1투명기재(12)에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 제2투명기재(13)에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하는 것을 일 예로 한다.Referring to FIG. 6 in more detail, the touch screen panel according to an embodiment of the present invention includes a first transparent base material disposed to be spaced apart between the display panel unit 40 and the touch screen panel cover base 11 12 and a second transparent substrate 13, wherein the touch sensing circuit electrode 20 is provided on the first transparent substrate 12 and includes a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the transverse direction. An example is to include an axis sensing circuit unit 21 and a Y axis sensing circuit unit 22 including a plurality of Y axis electrodes provided on the second transparent substrate 13 and spaced apart in a longitudinal direction.

상기 디스플레이 패널유닛(40)과 상기 터치스크린 패널 커버기재(11), 상기 디스플레이 패널유닛(40)과 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 제1투명기재(12)와 제2투명기재(13)는 투명 접착층(50)으로 서로 부착되며, 상기 투명 접착층(50)은 OCA(Optically Clear Adhesive) 필름인 것을 일 예로 한다.The display panel unit 40 and the touch screen panel cover substrate 11, the first transparent substrate 12 disposed to be spaced apart between the display panel unit 40 and the touch screen panel cover substrate 11 The second transparent substrate 13 is attached to each other by a transparent adhesive layer 50, and the transparent adhesive layer 50 is an OCA (Optically Clear Adhesive) film as an example.

또한, 도 7을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재(10)를 더 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)와 상기 투명기재(10) 중 어느 한 측에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)와 상기 투명기재(10) 중 다른 한 측에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하는 것을 일 예로 한다.In addition, referring to FIG. 7, the touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes a transparent substrate 10 disposed to be spaced apart between the touch screen panel cover substrate 11, and the touch sensing The circuit electrode 20 is provided on either side of the touch screen panel cover substrate 11 and the transparent substrate 10 and includes a plurality of X-axis electrodes spaced apart from each other in the transverse direction. And a Y-axis sensing circuit unit 22 including a plurality of Y-axis electrodes disposed on the other side of the touch screen panel cover material 11 and the transparent material 10 and spaced apart in a longitudinal direction. .

상기 터치 스크린 패널의 일면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 하나가 구비되고, 상기 투명기재(10)의 일면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나가 구비된다. One of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 is provided on one surface of the touch screen panel, and the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 21 are provided on one surface of the transparent substrate 10. The other one of the axis sensing circuit units 22 is provided.

상기 터치스크린 패널 커버기재(11)는 일면에 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 하나가 일체로 구비되어 재료비를 절감하고, 높은 투명도를 제공하며 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다.The touch screen panel cover material 11 is integrally provided with one of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 on one surface, thereby reducing material cost, providing high transparency, and The thickness can be reduced and the weight of the touch screen panel can be reduced.

또한, 도 8을 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 일면에 구비되는 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함할 수 있다.In addition, referring to FIG. 8, the touch sensing circuit electrode 20 includes an X-axis sensing circuit unit including a plurality of transversely spaced X-axis electrodes provided on one surface of the touch screen panel cover substrate 11 ( 21) and a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction may be included.

상기 터치 감지용 회로전극은, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 일면에 함께 형성되어 재료비를 절감하고, 광학 특성을 향상시키며, 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다. In the touch sensing circuit electrode, the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 are formed together on one surface of the touch screen panel cover substrate 11 to reduce material cost and improve optical properties. In addition, the thickness of the touch screen panel can be reduced, and the weight of the touch screen panel can be reduced.

또한, 도 9를 참고하면, 상기 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재(10)를 더 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 투명기재(10)에서 동일면에 형성될 수 있다. In addition, referring to FIG. 9, the touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes a transparent substrate 10 disposed to be spaced apart between the touch screen panel cover substrate 11, and the touch The sensing circuit electrode 20 includes an X-axis sensing circuit part 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the transverse direction and a Y-axis sensing circuit part 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced in the longitudinal direction. In addition, the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 may be formed on the same surface of the transparent substrate 10.

상기 터치 감지용 회로전극은, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 투명기재(10)에서 동일면에 형성되어 재료비를 절감하고, 광학 특성을 향상시키며, 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다. In the circuit electrode for touch sensing, the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 are formed on the same surface in the transparent substrate 10 to reduce material cost, improve optical properties, and provide a touch screen The thickness of the panel can be reduced, and the weight of the touch screen panel can be reduced.

또한, 도 10을 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 패널은, 상기 터치스크린 패널 커버기재(11)의 사이에 이격되게 배치되는 투명기재(10)를 더 포함하고, 상기 터치 감지용 회로전극(20)은, 상기 투명기재(10)의 일면에 구비되며 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 상기 투명기재(10)의 타면에 구비되며 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함할 수 있다.In addition, referring to FIG. 10, the touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes a transparent substrate 10 disposed to be spaced apart between the touch screen panel cover substrate 11, and the touch sensing The circuit electrode 20 for use is provided on one side of the transparent material 10 and is provided on the other side of the transparent material 10 and the X-axis sensing circuit 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the transverse direction. It may include a Y-axis sensing circuit 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction.

상기 반사 방지층(30)은, 상기 투명기재(10)의 일면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 하나와 상기 투명기재(10)의 사이에 배치되는 제1반사 방지층(31); 및 상기 투명기재(10)의 타면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나에 적층되는 제2반사 방지층(32)을 포함한다. The anti-reflection layer 30 is provided on one surface of the transparent material 10, and is disposed between one of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 and the transparent material 10 A first anti-reflection layer 31; And a second anti-reflection layer 32 provided on the other surface of the transparent substrate 10 and stacked on the other one of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22.

상기 반사 방지층(30)은 빛의 반사를 방지하기 위해 터치 스크린 패널에서 터치 스크린 커버기재 측에 배치되어야 하므로, 상기 투명기재(10)의 양면에 각각 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 구비되는 경우 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 상기 디스플레이 패널유닛(40)을 향하는 측에 상기 제1반사 방지층(31)이 배치되도록 하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 터치스크린 패널 커버기재(11)를 향하는 측에 상기 제2반사 방지층(32)이 배치되도록 한다.The anti-reflection layer 30 has to be disposed on the touch screen cover substrate side of the touch screen panel in order to prevent light reflection, so the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y-axis are respectively on both sides of the transparent substrate 10. When the sensing circuit part 22 is provided, the first anti-reflection layer 31 is disposed on a side of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 facing the display panel unit 40, and , The second anti-reflection layer 32 is disposed on a side of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 facing the touch screen panel cover material 11.

상기 투명기재(10)의 양면에는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 각각 구비되어 재료비를 절감하고, 터치 스크린 패널의 두께를 슬림화하고, 터치 스크린 패널의 무게를 경량화할 수 있다. The X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 are respectively provided on both sides of the transparent material 10 to reduce material cost, reduce the thickness of the touch screen panel, and reduce the weight of the touch screen panel. It can be lightened.

상기 터치 감지용 회로전극은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 포함하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 상기 투명기재(10)에서 동일면에 형성된다. The touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit part 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a horizontal direction and a Y-axis sensing circuit part 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced in a longitudinal direction, , The X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 are formed on the same surface of the transparent substrate 10.

도 11 및 도 12를 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 투명기재(10)에 도전성 페이스트로 터치 스크린 패널에서 터치를 감지할 수 있는 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200); 및 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 소성하는 단계(S300)를 포함한다. 11 and 12, a touch sensor manufacturing method for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention is a touch sensing circuit capable of detecting a touch on a touch screen panel with a conductive paste on a transparent substrate 10. Forming the electrode 20 (S200); And firing the touch sensing circuit electrode 20 (S300).

상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)는, 도전성 페이스트를 스크린 인쇄하여 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 것이 바람직하며, 상기 스크린 인쇄는 경화속도가 빠르고 접착성 및 굴곡성이 우수하므로 미세 패턴 형성에 적합하며, 기설계된 터치 감지용 회로 패턴을 저렴한 비용으로 형성할 수 있다.In the step of forming the touch sensing circuit electrode 20 (S200), it is preferable to screen-print a conductive paste to form the touch sensing circuit electrode 20, and the screen printing has a fast curing speed and adhesion and Since it has excellent flexibility, it is suitable for fine pattern formation, and a predesigned touch sensing circuit pattern can be formed at low cost.

상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)는, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 및 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22)를 상기 기재의 동일면에 형성할 수 있다. The step of forming the touch sensing circuit electrode 20 (S200) includes an X-axis sensing circuit unit 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a horizontal direction and a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in a longitudinal direction. The Y-axis sensing circuit part 22 may be formed on the same surface of the substrate.

또한, 본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)를 더 포함하는 것이 바람직하다.In addition, in the method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention, an antireflection layer 30 for preventing reflection of light is formed on the transparent substrate 10 or the circuit electrode 20 for touch sensing. It is preferable to further include a step (S100).

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 상기 터치 감지용 회로전극(20)를 형성하는 단계 이전에 상기 투명기재(10)에 반사 방지층(30)을 형성하는 것을 일 예로 한다. The step of forming the antireflection layer 30 (S100) is an example of forming the antireflection layer 30 on the transparent substrate 10 before the step of forming the circuit electrode 20 for touch sensing.

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 진공 증착으로 상기 반사 방지층(30)을 형성할 수 있고, 상기 진공증착은 열증착(Evaporation), 이빔(ebeam)증착, 레이저(laser) 증착, 스퍼터링(Sputtering), 아크이온플레이팅(Arc Ion Plating), 스퍼터링(Sputtering) 중 어느 하나이며, 타겟재료로 구리, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 등의 금속 또는, 구리, 니켈, 크롬, 텅스텐, 몰리브덴, 알루미늄 중 적어도 두개가 혼합된 합금을 사용하는 것을 일 예로 한다.In the step of forming the antireflection layer 30 (S100), the antireflection layer 30 may be formed by vacuum deposition, and the vacuum deposition is performed by evaporation, ebeam deposition, and laser. Evaporation, sputtering, arc ion plating, sputtering, and a target material such as copper, nickel, chromium, tungsten, molybdenum, aluminum or other metal, copper, nickel, chromium As an example, an alloy in which at least two of tungsten, molybdenum, and aluminum are mixed is used.

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 상기 산화층 또는 질화층을 형성하는 과정을 포함할 수 있다.The step of forming the antireflection layer 30 (S100) may include forming the oxide layer or the nitride layer on the transparent substrate 10 or the circuit electrode 20 for touch sensing.

상기 산화층 또는 질화층을 형성하는 과정은, 티타늄, 크롬, 구리, 니켈, 알루미늄, 은 등의 금속 또는 탄소 등과 같은 타겟재료를 산소 가스 분위기 또는 질소 가스 분위기 상에서 스퍼터링하여 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 산화층 또는 질화층을 형성할 수 있다.In the process of forming the oxide layer or the nitride layer, a target material such as metal such as titanium, chromium, copper, nickel, aluminum, silver, or carbon is sputtered in an oxygen gas atmosphere or a nitrogen gas atmosphere, and the transparent substrate 10 or the An oxide layer or a nitride layer may be formed on the circuit electrode 20 for touch sensing.

상기 산화층 또는 질화층을 형성하는 과정은, 산화티타늄(TiO2), 산화크롬(CrO2), 산화구리(CuO), 산화니켈(NiO), 산화알루미늄(Al2O3), 산화은(AgO) 등의 산화체를 타겟재료로 스퍼터링하여 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 산화층을 형성할 수 있고, 질화티타늄(TiN) 또는 질화구리(CuN) 등의 질화체를 타겟재료로 스퍼터링하여 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 질화층을 형성할 수 있다.The process of forming the oxide or nitride layer may include titanium oxide (TiO 2 ), chromium oxide (CrO 2 ), copper oxide (CuO), nickel oxide (NiO), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), and silver oxide (AgO). An oxide layer such as titanium nitride (TiN) or copper nitride (CuN) may be formed on the transparent substrate 10 or the circuit electrode 20 for touch sensing by sputtering an oxide material such as a target material. A nitride layer may be formed on the transparent substrate 10 or the circuit electrode 20 for touch sensing by sputtering with a target material.

이는, 상기 산화층 또는 상기 질화층을 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 강하고 견고하게 부착시킬 수 있도록 하며, 상기 투명기재(10) 또는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 상기 산화층 또는 상기 질화층을 기설정된 두께로 정확하게 형성하기 용이하다.This allows the oxide layer or the nitride layer to be strongly and firmly attached to the transparent substrate 10 or the touch sensing circuit electrode 20, and the transparent substrate 10 or the touch sensing circuit electrode 20 ), it is easy to accurately form the oxide layer or the nitride layer to a predetermined thickness.

상기 산화층 또는 상기 질화층은 반사율이 30% 이하로써, 전극의 반사에 의한 눈부심을 방지하며, 상기 터치 감지용 회로전극(20)과 상기 투명기재(10)와의 부착력을 강화시킨다. The oxide layer or the nitride layer has a reflectance of 30% or less, preventing glare due to reflection of the electrode, and enhancing adhesion between the touch sensing circuit electrode 20 and the transparent material 10.

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 흑화된 도전성 페이스트로 스크린 인쇄하여 반사 방지층(30)을 형성하여 상기 소성하는 단계(S300)에서 상기 터치 감지용 회로전극(20)과 함께 소성하는 것이 바람직하다.In the step of forming the anti-reflection layer 30 (S100), the anti-reflection layer 30 is formed by screen printing with a blackened conductive paste, together with the touch sensing circuit electrode 20 in the firing step (S300). It is preferable to fire.

상기 반사 방지층(30)을 형성하는 흑화된 도전성 페이스트는 상기 소성하는 과정에서 상기 도전성 페이스트와 함께 소성되어 전극의 저항을 낮춘다.The blackened conductive paste forming the antireflection layer 30 is fired together with the conductive paste in the firing process to lower the resistance of the electrode.

상기 반사 방지층(30)은 빛의 반사를 방지할 뿐만 아니라 상기 투명기재(10)와 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 부착력을 증대시키므로 상기 투명기재(10)와 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 사이에 개재되는 것이 바람직하다. The anti-reflection layer 30 not only prevents reflection of light, but also increases the adhesion between the transparent substrate 10 and the circuit electrode 20 for touch sensing, so that the transparent substrate 10 and the circuit electrode for touch sensing ( It is preferable to be interposed between 20).

상기 흑화된 도전성 페이스트는 상기에서 기재한 바, 중복 기재로 생략함을 밝혀둔다.It should be noted that the blackened conductive paste has been described above and omitted as a duplicate description.

상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)와 상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는 도전성 페이스트를 이용한 스크린 인쇄를 통해 각각 동일한 터치 감지용 회로 패턴을 형성하여 상기 투명기재(10)에 적층 형성하여 제조 과정을 단순화하고 제조 비용을 절감한다. 또한, 상기 터치 감지용 회로전극(20) 및 상기 반사 방지층(30)을 형성하기 위해 상기 투명기재(10)의 한면에 도전성 페이스트로 인쇄되는 면적을 최소화하여 제조 비용을 더 절감할 수 있게 한다.The step of forming the circuit electrode 20 for touch sensing (S200) and the step of forming the anti-reflection layer 30 (S100) include forming the same circuit pattern for touch sensing through screen printing using a conductive paste. By laminating and forming the transparent substrate 10, the manufacturing process is simplified and manufacturing cost is reduced. In addition, in order to form the touch sensing circuit electrode 20 and the anti-reflection layer 30, an area printed with a conductive paste on one side of the transparent substrate 10 is minimized, thereby further reducing manufacturing cost.

상기 소성하는 단계(S300)는, 상기 투명기재(10)의 전위점(Tg) 이하이고, 200℃ ~ 600 ℃로 소성하는 것을 일 예로 한다. 상기 소성하는 단계(S300)는, 상기 투명기재(10)에 따라 온도를 조절하여 상기 투명기재(10)의 손상이나 변형없이 상기 도전성 페이스트가 소성되어 기설정된 저항값 이하의 터치 감지용 회로전극(20)으로 형성될 수 있도록 한다.The firing step (S300) is equal to or less than the potential point (Tg) of the transparent substrate 10, and firing at 200°C to 600°C is an example. In the firing step (S300), the conductive paste is sintered without damage or deformation of the transparent substrate 10 by adjusting the temperature according to the transparent substrate 10, and the touch sensing circuit electrode ( 20) to be formed.

일 예로, 상기 투명기재(10)가 폴리이미드(PI) 필름인 경우 200℃ ~ 450℃의 온도에서 소성하는 것이 바람직하다.For example, when the transparent substrate 10 is a polyimide (PI) film, it is preferable to fire at a temperature of 200°C to 450°C.

본 발명의 일 실시예에 의한 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법은, 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 식각하는 단계(S400)를 더 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel according to an embodiment of the present invention further includes a step (S400) of etching the circuit electrode 20 for touch sensing.

상기 식각하는 단계(S400)는 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 식각하여 선폭을 줄임으로써 사람의 눈으로 인식이 불가한 미세한 폭을 가지도록 형성한다.In the etching step (S400), the circuit electrode 20 for touch sensing is etched to reduce the line width, thereby forming a small width that cannot be recognized by the human eye.

상기 식각하는 단계(S400)는 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 식각하여 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 선폭이 15㎛ 이하에서 바람직하게는 3㎛ 이하의 선폭을 가지도록 한다.In the etching step (S400), the circuit electrode 20 for touch sensing is etched so that the line width of the circuit electrode 20 for touch sensing is less than 15 μm and preferably less than 3 μm.

이는 스크린 인쇄를 통해 도전성 페이스트로 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 데 있어 선폭을 최소화하는 데 제한이 있어 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)에서 기설계된 터치 감지용 회로패턴의 선폭보다 더 큰 선폭으로 형성한 후 상기 식각하는 단계(S400)에서 기설계된 터치 감지용 회로패턴의 선폭으로 형성하여 시인성을 확보하는 것이다.This is because there is a limit to minimizing the line width in forming the touch sensing circuit electrode 20 with a conductive paste through screen printing, and thus the predesigned touch in the step (S200) of forming the touch sensing circuit electrode 20 After forming a line width larger than the line width of the sensing circuit pattern, it is formed with the line width of the touch sensing circuit pattern previously designed in the etching step S400 to secure visibility.

상기 식각하는 단계(S400)는, 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 포토레지스트층(2)를 적층 형성하는 과정(S410); 상기 포토레지스트층(2)을 노광 및 현상하여 상기 포토레지스트층(2) 중 터치 감지용 회로패턴에 대응되는 커버패턴(2a)을 형성하는 과정(S420); 상기 커버패턴(2a)에 의해 커버된 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 식각하는 과정(S430)을 포함할 수 있다.The etching step (S400) may include forming a photoresist layer (2) on the touch sensing circuit electrode (20) (S410); Exposing and developing the photoresist layer 2 to form a cover pattern 2a corresponding to a circuit pattern for touch sensing among the photoresist layer 2 (S420); The process of etching the touch sensing circuit electrode 20 covered by the cover pattern 2a (S430) may be included.

또한, 상기 식각하는 단계(S400)는, 식각된 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 적층된 커버패턴(2a)을 제거하는 과정(S440)을 더 포함할 수 있다.In addition, the etching step S400 may further include removing the cover pattern 2a stacked on the etched touch sensing circuit electrode 20 (S440).

더 상세하게, 상기 커버패턴(2a)을 형성하는 과정(S420)은 상기 포토레지스트층(2)에 상기 터치 감지용 회로패턴에 대응되는 패턴구멍이 형성된 마스크(3)로 상기 포토레지스트 층을 커버한 후 노광하여 빛이 가해진 부분만 경화시켜 현상액에 의해 용해되지 않도록 변화시키고, 빛이 가해지지 않은 부분은 현상액에 의해 용해되도록 한 것이다. 즉, 상기 포토레지스트층(2)에서 상기 패턴구멍에 대응되는 부분 즉, 커버패턴(2a)만 남기고 나머지 부분은 상기 현상액에 의해 용해되어 제거된다. In more detail, the process of forming the cover pattern 2a (S420) covers the photoresist layer with a mask 3 in which a pattern hole corresponding to the circuit pattern for touch sensing is formed in the photoresist layer 2 After exposure, only the part to which the light was applied is cured so that it is not dissolved by the developer, and the part to which the light is not applied is dissolved by the developer. That is, in the photoresist layer 2, only the portion corresponding to the pattern hole, that is, the cover pattern 2a remains, and the remaining portion is dissolved and removed by the developer.

상기 포토레지스트층(2)은, 드라이 필름 또는 포토레지스트액을 도포하여 형성된 것일 수 있다.The photoresist layer 2 may be formed by applying a dry film or a photoresist solution.

상기 포토레지스트층(2)은 스프레잉, 코터, 그라비아 및 전기방사로 형성할 수 있다.The photoresist layer 2 may be formed by spraying, coater, gravure, and electrospinning.

상기 전기방사는 전기방사 감광층을 1 ~ 10㎛로 형성한다. 상기 전기 방사는 전기방사용 노즐과, 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 상기 전기전원을 인가한 상태에서 상기 전기방사용 노즐로 감광성 고분자 용액을 압축공기와 분사하여 상기 터치 감지용 회로전극(20)의 상에 전기방사 감광층을 형성한다.The electrospinning forms an electrospinning photosensitive layer with a thickness of 1 to 10 μm. The electrospinning is performed by spraying a photosensitive polymer solution with compressed air through the electrospinning nozzle and the electrospinning nozzle while the electric power is applied to the touch sensing circuit electrode 20, and the touch sensing circuit electrode ( 20) An electrospinning photosensitive layer is formed on the top.

상기 전기 방사는 분사되는 감광성 고분자에 전하가 포함되므로, 상기 감광성 고분자 용액이 분사되면서 응집되지 않고 분산이 원활하여 5㎛ 이하의 박막으로 전기방사 감광층을 형성할 수 있다. Since the electrospinning includes electric charges in the photosensitive polymer to be sprayed, the photosensitive polymer solution is not aggregated while being sprayed, and dispersion is smooth, so that the electrospinning photosensitive layer can be formed with a thin film of 5 μm or less.

또한, 상기 전기 방사는 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 전기 전원을 인가한 상태로 상기 터치 감지용 회로전극(20) 상에 전기방사 감광층을 형성하므로, 상기 감광성 고분제 용액이 방사되면서 생성된 감광제 섬유가 전위차에 의해 상기 터치 감지용 회로전극(20)에 균일하게 도포되고, 강하게 부착되어 도포된다.In addition, the electrospinning is performed by forming an electro-radiation photosensitive layer on the touch-sensing circuit electrode 20 while electric power is applied to the touch-sensing circuit electrode 20, so that the photosensitive polymer solution is radiated. The resulting photoresist fiber is uniformly applied to the touch sensing circuit electrode 20 by a potential difference, and is strongly attached and applied.

전기 방사로 전기방사 감광층을 형성한 경우 전기 방사로 도포된 상기 전기방사 감광층을 경화시켜야 하며, 상기 전기방사 감광층을 자외선(UV) 경화, 레이저(Laser) 경화, 이빔(ebeam) 경화 등의 방법으로 경화한다.When the electrospinning photosensitive layer is formed by electrospinning, the electrospinning photosensitive layer applied by electrospinning must be cured, and the electrospinning photosensitive layer is cured with ultraviolet rays (UV), laser curing, ebeam curing, etc. It is hardened by the method of

한편, 도 13 및 도 14를 참고하면, 상기 터치 감지용 회로전극(20)을 형성하는 단계(S200)는, 상기 투명기재(10)의 한면에 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21)와 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22) 중 어느 하나를 인쇄하는 제1회로전극 형성과정(S210); 상기 투명기재(10)의 다른 한면에 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부(21) 또는 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나를 인쇄하는 제2회로전극 형성과정(S220);을 포함한다.Meanwhile, referring to FIGS. 13 and 14, the step of forming the touch sensing circuit electrode 20 (S200) includes a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the transverse direction on one side of the transparent substrate 10. A first circuit electrode forming process (S210) of printing any one of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced apart in the longitudinal direction; Among the X-axis sensing circuit part 21 including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in the transverse direction on the other side of the transparent substrate 10 or the Y-axis sensing circuit part 22 including a plurality of Y-axis electrodes spaced in the longitudinal direction. And a second circuit electrode forming process (S220) of printing the other one.

상기 제1회로전극 형성과정(S210)과, 상기 제2회로전극 형성과정(S220)은 도전성 페이스트로 스크린 인쇄를 통해 상기 투명기재(10)의 양면에 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)를 각각 형성한다.In the forming of the first circuit electrode (S210) and the forming of the second circuit electrode (S220), the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y are formed on both sides of the transparent substrate 10 through screen printing with a conductive paste. Each of the axis sensing circuit units 22 is formed.

또한, 상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는, 상기 제1회로전극 형성과정(S210) 이전에 상기 투명기재(10)의 한면에 빛의 반사를 방지하는 제1반사 방지층(31)을 형성하는 과정(S110); 및 상기 제2회로전극 형성과정(S220) 후 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 하나에 빛의 반사를 방지하는 제2반사 방지층(32)을 형성하는 과정(S230)을 포함한다.In addition, the step of forming the anti-reflection layer 30 (S100) may include a first anti-reflection layer 31 for preventing reflection of light on one surface of the transparent substrate 10 before forming the first circuit electrode (S210). ) Forming a process (S110); And forming a second anti-reflection layer 32 that prevents reflection of light on the other one of the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y-axis sensing circuit unit 22 after forming the second circuit electrode (S220). It includes (S230).

상기 제1반사 방지층(31)을 형성하는 과정(S110)과 상기 제2반사 방지층(32)을 형성하는 과정(S230)은 흑화된 도전성 페이스트로 스크린 인쇄를 통해 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)에 각각 대응되는 형상으로 상기 제1반사 방지층(31)과 상기 제2반사 방지층(32)을 각각 형성하는 것이 바람직하다.The process of forming the first anti-reflection layer 31 (S110) and the process of forming the second anti-reflection layer 32 (S230) include the X-axis sensing circuit part 21 and the X-axis sensing circuit part 21 through screen printing with a blackened conductive paste. It is preferable to form the first anti-reflection layer 31 and the second anti-reflection layer 32 in a shape corresponding to each of the Y-axis sensing circuit unit 22.

상기 반사 방지층(30)은 빛의 반사를 방지하기 위해 터치 스크린 패널에서 터치 스크린 커버기재 측에 배치되어야 하므로, 상기 투명기재(10)의 양면에 각각 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)가 구비되는 경우 상기 반사 방지층(30)을 형성하는 단계(S100)는 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 어느 한측과 상기 투명기재(10)와의 사이에 상기 제1반사 방지층(31)이 형성되도록 하고, 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22) 중 다른 한측에 상기 제2반사 방지층(32)이 적층되도록 형성한다. The anti-reflection layer 30 has to be disposed on the touch screen cover substrate side of the touch screen panel in order to prevent light reflection, so the X-axis sensing circuit unit 21 and the Y-axis are respectively on both sides of the transparent substrate 10. When the sensing circuit part 22 is provided, the step of forming the anti-reflection layer 30 (S100) includes either side of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22, and the transparent substrate 10 The first anti-reflection layer 31 is formed between and, and the second anti-reflection layer 32 is stacked on the other side of the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22. .

상기 식각하는 단계(S400)는, 상기 투명기재(10)의 양면에 형성된 상기 X축 센싱회로부(21)와 상기 Y축 센싱회로부(22)를 각각 식각하며, 그 방법은 상기에서 기재한 바 중복 기재로 생략함을 밝혀둔다.In the etching step (S400), the X-axis sensing circuit part 21 and the Y-axis sensing circuit part 22 formed on both sides of the transparent substrate 10 are respectively etched, and the method is repeated as described above. It should be noted that the description is omitted.

본 발명은 센싱용 회로전극을 도전성 페이스트로 인쇄하여 형성하므로 제조 과정이 간단하고 제조 비용을 절감하는 효과가 있다.In the present invention, since the sensing circuit electrode is formed by printing a conductive paste, the manufacturing process is simple and the manufacturing cost is reduced.

본 발명은 연성 기판에 비저항 특성과 투과도가 우수한 센싱용 회로전극을 형성하여 플렉시블 디스플레이에 적용이 안정적으로 적용이 가능하고, 플렉시블 디스플레이의 안정적인 터치 속도와 멀티 터치를 통해 제품의 신뢰성을 확보하는 효과가 있다.The present invention forms a sensing circuit electrode with excellent resistivity and transmittance on a flexible substrate so that it can be applied stably to a flexible display, and has the effect of securing product reliability through a stable touch speed and multi-touch of the flexible display. have.

이와 같은 본 발명의 기본적인 기술적 사상의 범주 내에서, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서는 다른 많은 변형이 가능함은 물론이고, 본 발명의 권리범위는 첨부한 특허청구 범위에 기초하여 해석되어야 할 것이다.Within the scope of the basic technical idea of the present invention, many other modifications are possible for those of ordinary skill in the art, as well as the scope of the present invention to be interpreted based on the appended claims. will be.

10 : 투명기재 11 : 터치스크린 패널 커버기재
12 : 제1투명기재 13 : 제2투명기재
20 : 터치 감지용 회로전극 21 : X축 센싱회로부
22 : Y축 센싱회로부 30 : 반사 방지층
31 : 제1반사 방지층 32 : 제2반사 방지층
40 : 디스플레이 패널유닛 50 : 투명 접착층
10: transparent material 11: touch screen panel cover material
12: first transparent substrate 13: second transparent substrate
20: circuit electrode for touch sensing 21: X-axis sensing circuit part
22: Y-axis sensing circuit part 30: anti-reflection layer
31: first anti-reflection layer 32: second anti-reflection layer
40: display panel unit 50: transparent adhesive layer

Claims (25)

투명기재;
상기 투명기재에 구비되며, 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극; 및
상기 터치 감지용 회로전극에 대응되게 형성되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층; 을 포함하며,
상기 터치 감지용 회로전극은, 횡방향으로 이격된 복수의 X축 전극을 포함한 X축 센싱회로부와, 종방향으로 이격된 복수의 Y축 전극을 포함한 Y축 센싱회로부를 포함하고,
상기 터치 감지용 회로전극은 도전성 페이스트를 소성하여 형성하며,
상기 투명기재의 일면에 0.3mm이하의 두께를 갖는 플렉시블 가능한 강화코팅층이 형성되고,
상기 반사 방지층은 30%이하의 반사율을 갖는 검은색 계열의 색상을 갖고, 상기 터치 감지용 회로전극과 대응되는 형상으로 형성되며,
상기 터치 감지용 회로전극의 상기 X축 센싱회로부는, 상기 투명기재의 양면 중 어느 한 면에, 상기 Y축 센싱회로부는 상기 투명기재의 양면 중 어느 다른 면에 3㎛ 이하의 선폭을 갖도록 형성되며,
상기 터치 감지용 회로전극은 50nm~5㎛의 입자크기를 가지는 73wt%~88wt% 은 분말과, 0.35wt%~2.9wt% 분산제, 분자량이 25,000인 폴리에스테르계의 5.9wt%~9.5wt% 폴리머레진, 5.7wt%~18.0wt% 솔벤트를 포함하는 도전성 페이스트로 인쇄하여 200℃~600℃ 온도에서 소성한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.
Transparent substrate;
A touch sensing circuit electrode provided on the transparent material and formed to sense a touch on a touch screen panel; And
An antireflection layer formed to correspond to the touch sensing circuit electrode to prevent reflection of light; Including,
The touch sensing circuit electrode includes an X-axis sensing circuit part including a plurality of X-axis electrodes spaced apart in a horizontal direction, and a Y-axis sensing circuit part including a plurality of Y-axis electrodes spaced in a vertical direction,
The touch sensing circuit electrode is formed by firing a conductive paste,
A flexible reinforcing coating layer having a thickness of 0.3 mm or less is formed on one side of the transparent substrate,
The anti-reflection layer has a black color with a reflectance of 30% or less, and is formed in a shape corresponding to the circuit electrode for touch sensing,
The X-axis sensing circuit part of the touch sensing circuit electrode is formed to have a line width of 3 μm or less on one of both surfaces of the transparent material, and the Y-axis sensing circuit part on any other surface of both surfaces of the transparent material. ,
The circuit electrode for touch sensing is 73wt%~88wt% silver powder having a particle size of 50nm~5㎛, 0.35wt%~2.9wt% dispersant, 5.9wt%~9.5wt% polyester polymer having a molecular weight of 25,000 Resin, a touch sensor for a touch screen panel, characterized in that printed with a conductive paste containing 5.7wt% ~ 18.0wt% solvent and fired at a temperature of 200 ℃ ~ 600 ℃.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 반사 방지층은 상기 터치 감지용 회로전극에 적층되어 상기 터치 감지용 회로전극과 함께 소성된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.
The method of claim 1,
The anti-reflection layer is laminated on the circuit electrode for touch sensing and fired together with the circuit electrode for touch sensing.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 반사 방지층은,
상기 투명기재의 일면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 하나와 상기 투명기재의 사이에 배치되는 제1반사 방지층; 및
상기 투명기재의 타면에 구비되며, 상기 X축 센싱회로부와 상기 Y축 센싱회로부 중 다른 하나에 적층되는 제2반사 방지층을 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.
The method of claim 1,
The anti-reflection layer,
A first anti-reflection layer provided on one surface of the transparent material and disposed between one of the X-axis sensing circuit unit and the Y-axis sensing circuit unit and the transparent material; And
A touch sensor for a touch screen panel, comprising: a second anti-reflection layer provided on the other surface of the transparent material and stacked on the other one of the X-axis sensing circuit unit and the Y-axis sensing circuit unit.
제4항 또는 제6항에 있어서,
상기 반사 방지층은, 흑화된 도전성 잉크 또는 흑화된 도전성 페이스트로 소성되어 형성된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.
The method according to claim 4 or 6,
The antireflection layer is a touch sensor for a touch screen panel, characterized in that formed by firing with blackened conductive ink or blackened conductive paste.
제4항 또는 제6항에 있어서,
상기 반사 방지층은, 도전성 물질을 진공 증착하여 형성된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.
The method according to claim 4 or 6,
The anti-reflection layer is a touch sensor for a touch screen panel, characterized in that formed by vacuum deposition of a conductive material.
제4항 또는 제6항에 있어서,
상기 반사 방지층은, 구리를 열증착하여 형성된 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.
The method according to claim 4 or 6,
The antireflection layer is a touch sensor for a touch screen panel, characterized in that formed by thermally depositing copper.
제4항 또는 제6항에 있어서,
상기 반사 방지층은, 산화층 또는 질화층인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.
The method according to claim 4 or 6,
The anti-reflection layer is an oxide layer or a nitride layer, characterized in that the touch sensor for a touch screen panel.
제1항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로전극은 메탈 메쉬 구조인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서.
The method of claim 1,
The touch sensing circuit electrode is a touch sensor for a touch screen panel, characterized in that the metal mesh structure.
투명기재에 도전성 페이스트로 터치 스크린 패널에서 터치를 감지할 수 있는 터치 감지용 회로전극을 형성하는 단계;
상기 터치 감지용 회로전극을 식각하는 단계;
상기 터치 감지용 회로전극을 소성하는 단계; 및
상기 투명기재 또는 상기 터치 감지용 회로전극에 대응되게 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층을 형성하는 단계를 포함고,
상기 식각하는 단계는,
상기 터치 감지용 회로전극에 포토레지스트층을 적층 형성하는 과정;
상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 포토레지스트층 중 터치 감지용 회로패턴에 대응되는 커버패턴을 형성하는 과정; 및
상기 커버패턴에 의해 커버된 상기 터치 감지용 회로전극을 식각하는 과정을 포함하고,
상기 투명기재는 일면에 0.3mm이하의 두께를 갖는 플렉시블 가능한 강화코팅층이 형성되고,
상기 반사 방지층은 30%이하의 반사율을 갖는 검은색 계열의 색상을 갖고, 상기 터치 감지용 회로전극과 대응되는 형상으로 형성되며,
상기 터치 감지용 회로전극은 상기 투명기재의 양면 중 어느 한 면에 X축 센싱회로부, 상기 상기 투명기재의 양면 중 어느 다른 면에 Y축 센싱회로부를 3㎛ 이하의 선폭을 갖도록 형성되며,
상기 터치 감지용 회로전극은 50nm~5㎛의 입자크기를 가지는 73wt%~88wt% 은 분말과, 0.35wt%~2.9wt% 분산제, 분자량이 25,000인 폴리에스테르계의 5.9wt%~9.5wt% 폴리머레진, 5.7wt%~18.0wt% 솔벤트를 포함하는 도전성 페이스트로 인쇄하여 200℃~600℃ 온도에서 소성한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.
Forming a touch sensing circuit electrode capable of sensing a touch on a touch screen panel with a conductive paste on a transparent substrate;
Etching the touch sensing circuit electrode;
Firing the touch sensing circuit electrode; And
Including the step of forming an anti-reflection layer for preventing the reflection of light corresponding to the transparent substrate or the circuit electrode for the touch sensing,
The etching step,
Forming a photoresist layer on the touch sensing circuit electrode;
Exposing and developing the photoresist layer to form a cover pattern corresponding to the touch sensing circuit pattern among the photoresist layers; And
And etching the touch sensing circuit electrode covered by the cover pattern,
The transparent substrate has a flexible reinforcing coating layer having a thickness of 0.3 mm or less on one side,
The anti-reflection layer has a black color with a reflectance of 30% or less, and is formed in a shape corresponding to the circuit electrode for touch sensing,
The touch sensing circuit electrode is formed to have an X-axis sensing circuit portion on one of both surfaces of the transparent substrate and a Y-axis sensing circuit portion on any other surface of the transparent substrate to have a line width of 3 μm or less,
The circuit electrode for touch sensing is 73wt%~88wt% silver powder having a particle size of 50nm~5㎛, 0.35wt%~2.9wt% dispersant, 5.9wt%~9.5wt% polyester polymer having a molecular weight of 25,000 Resin, a method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel, characterized in that printing with a conductive paste containing 5.7wt% ~ 18.0wt% solvent and firing at a temperature of 200 ℃ ~ 600 ℃.
삭제delete 삭제delete 제12항에 있어서,
상기 터치 감지용 회로 전극을 형성하는 단계는,
도전성 페이스트를 스크린 인쇄하여 터치 감지용 회로 전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.
The method of claim 12,
Forming the touch sensing circuit electrode,
A method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel, comprising screen printing a conductive paste to form a circuit electrode for touch sensing.
삭제delete 제12항에 있어서,
상기 반사 방지층을 형성하는 단계는, 진공 증착으로 상기 반사 방지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.
The method of claim 12,
In the forming of the antireflection layer, the method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel, characterized in that forming the antireflection layer by vacuum deposition.
제12항에 있어서,
상기 반사 방지층을 형성하는 단계는,
상기 투명기재 또는 상기 터치 감지용 회로전극에 산화층 또는 질화층을 형성하는 과정을 포함한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.
The method of claim 12,
Forming the anti-reflection layer,
A method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel, comprising forming an oxide layer or a nitride layer on the transparent substrate or the touch sensing circuit electrode.
제12항에 있어서,
상기 반사 방지층을 형성하는 단계는,
흑화된 도전성 페이스트로 스크린 인쇄하여 반사 방지층을 형성하여 상기 소성하는 단계에서 상기 터치 감지용 회로전극과 함께 소성하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널용 터치 센서 제조 방법.
The method of claim 12,
Forming the anti-reflection layer,
A method of manufacturing a touch sensor for a touch screen panel, comprising screen printing with a blackened conductive paste to form an antireflection layer and firing together with the touch sensing circuit electrode in the firing step.
화면을 출력하는 디스플레이 패널유닛;
상기 디스플레이 패널유닛의 화면을 커버하여 보호하는 터치스크린 패널 커버기재;
상기 디스플레이 패널유닛과 상기 터치스크린 패널 커버기재의 사이에 개재되며 터치 스크린 패널에서 터치를 감지하도록 형성된 터치 감지용 회로전극; 및
상기 터치 감지용 회로전극에 대응되게 형성되어 빛의 반사를 방지하는 반사 방지층;을 포함하며,
상기 터치 감지용 회로전극은, 청구항 제12항의 방법으로 형성한 것을 특징으로 하는 터치 스크린 패널.
A display panel unit that outputs a screen;
A touch screen panel cover substrate covering and protecting the screen of the display panel unit;
A touch sensing circuit electrode interposed between the display panel unit and the touch screen panel cover substrate and formed to sense a touch on the touch screen panel; And
Includes; an antireflection layer formed to correspond to the circuit electrode for touch sensing to prevent reflection of light,
The touch sensing circuit electrode is a touch screen panel, characterized in that formed by the method of claim 12.
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