KR102211261B1 - Ｃ-자일로사이드 화합물, 조성물 및 피부의 탈색소를 위한 그의 용도 - Google Patents

Ｃ-자일로사이드 화합물, 조성물 및 피부의 탈색소를 위한 그의 용도 Download PDF

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Abstract

C-자일로사이드 화합물, 조성물 및 피부의 탈색소를 위한 그의 용도. 본 발명은 하기 화학식 (I) 의 화합물을 포함하는 피부 탈색소 조성물에 관한 것이다:
Figure 112015070104619-pct00076

여기에서:
- 화학식 (I) 의 화합물은 자일로스 유도체임.

Description

Ｃ-자일로사이드 화합물, 조성물 및 피부의 탈색소를 위한 그의 용도 {C-XYLOSIDE COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND USE THEREOF TO DEPIGMENT THE SKIN}
본 발명은 피부의 표백 (bleaching) 및 탈색소 (depigmenting) 를 위한 하나 이상의 C-자일로사이드 화합물의 미용 또는 약학적 용도, 특히 피부과적 용도, 및 또한 특정 신규한 C-자일로사이드 화합물, 이를 포함하는 조성물 및 피부의 표백 및/또는 탈색소를 위한 그의 용도에 관한 것이다.
인간 피부의 색은 많은 인자, 특히 계절, 인종 및 성별에 따라 좌우되고; 주로 멜라닌형성세포에 의해 생산되는 멜라닌의 본질 및 농도에 의해 결정된다. 멜라닌형성세포는 특별한 세포기관, 멜라노솜에 의해 멜라닌을 합성하는 특수화된 세포이다. 또한, 일부 사람들은 일생의 다양한 시기에 피부에서, 더욱 특히 손에서, 더 어두운 및/또는 더 착색된 반점의 출현을 보며, 이는 피부 불균일성을 초래한다. 이들 반점은 또한 피부 표면에 위치하는 케라틴형성세포 내의 높은 농도의 멜라닌으로 인한 것이다.
임신 또는 에스트로-프로게스테론 피임 동안 발생하는 특발성 흑피증 ("임신 마스크" 또는 기미) 과 같은 멜라닌형성세포 과활성으로 인한 부위 과색소침착, 양성 멜라닌형성세포 과활성 및 증식으로 인한 국부 과색소침착, 예컨대 화학선 검버섯으로 알려진 노인성 색소 반점, 및 아마도 광감작 또는 병변후 흉터형성에 의해 야기되는 우발성 과색소침착을 치료하기 위해, 양호한 효능을 갖는 무해한 국소 탈색소 물질의 사용이 가장 특히 추구된다. 후자의 상태 (피부에 더 흰색 외관을 제공하는 흉터를 초래할 수 있는 흉터형성) 에서, 손상된 피부를 재색소침착하는 능력에 지장이 있는 경우, 남은 정상 피부 부위는 완전히 탈색소되어 피부에 전체적으로 균일한 흰색 색조를 제공한다.
피부 색소침착의 형성, 즉, 멜라닌의 형성의 메카니즘은 특히 복잡하고 도식적으로 하기 주된 단계를 수반한다:
티로신 ---> 도파 ---> 도파퀴논 ---> 도파크롬 ---> 멜라닌
티로시나제 (모노페놀 디히드록실 페닐알라닌: 산소 산화환원효소 EC 1.14.18.1) 는 이러한 반응 시퀀스에 관여하는 본질적 효소이다. 그것은 특히 그것의 히드록실라제 활성에 의해 티로신을 도파 (디히드록시페닐알라닌) 로 전환하는 반응, 및 그것의 옥시다제 활성에 의해 도파를 도파퀴논으로 전환하는 반응을 촉진한다. 이러한 티로시나제는 그것이 특정 생물학적 인자의 작용 하에 성숙한 형태일 때에만 작용한다.
멜라닌형성이 일어나는 표피 멜라닌형성세포의 생활력에 직접 작용하는 경우에, 및/또는 멜라닌형성에 관여하는 효소 중 하나를 저해함으로써, 또는 자신을 멜라닌 합성 사슬의 화학 화합물 중 하나의 구조 유사체로서 삽입함으로써 (이 사슬은 그 후 차단될 수 있고, 따라서 탈색소를 보장함) 멜라닌 생합성의 단계 중 하나를 방해하는 경우에 물질은 탈색소작용한다고 인정된다.
탈색소제로서 가장 널리 사용되는 물질은 더욱 특히 히드로퀴논 및 그의 유도체, 특히 그의 에테르 예컨대 히드로퀴논 모노메틸 에테르 및 모노에틸 에테르이다. 특정 효능을 가짐에도 불구하고, 이들 화합물은 불행하게도 그들의 사용을 어렵게, 또는 심지어는 위험하게 만들 수 있는 독성으로 인해 부작용에서 자유롭지 않다. 이러한 독성은 세포를 살해함으로써 멜라닌형성의 근본 메카니즘에 개입하고, 이는 그 후 그들의 생물학적 환경을 파괴하고, 결과적으로 피부가 그들을 비우는 것을 강제하여, 독소를 생산하는 사실로부터 발생한다.
따라서, 히드로퀴논은 멜라닌형성세포에 세포독성인 특별히 자극성인 화합물이고, 그것의 완전한 또는 부분적 대체가 많은 저자에 의해 구상되어 왔다.
따라서 멜라닌형성의 메카니즘에 관여하지 않으나 티로시나제의 상류에서 그것의 활성화를 방지함으로써 작용하고, 결과적으로 훨씬 덜 독성인 물질이 탐색되어 왔다. 티로시나제의 활성 자리에 존재하는 구리를 착화시키는 코지산이 이러한 효소의 활성화의 저해인자로서 흔히 사용된다. 불행하게도, 이러한 화합물은 용액 중에서 불안정적이고, 이는 조성물의 제조를 다소 복잡하게 만든다.
C-글리코시드는 이미 EP 1 774 990 에서 피부의 탈색소에 관해 기술되었다.
공지된 물질만큼 작용이 효율적이지만 결점을 갖지 않는, 즉, 피부에 비-자극성, 비-독성 및/또는 비-알레르기유발성인 동시에 조성물 중에서 안정적인, 또는 대안적으로는 작용이 강화되어 더 적은 양으로 사용될 수 있으므로 관찰되는 부작용을 상당히 감소시키는, 특히 인간 피부를 위한, 신규한 표백제에 대한 필요가 존재한다.
이와 관련하여, 출원인은 놀랍게도 예상외로 특정 C-자일로사이드 화합물이, 심지어는 낮은 농도에서도, 양호한 탈색소 활성을 가지면서도, 세포독성이 아니라는 것을 발견했다.
더욱 정확하게는, 본 발명의 하나의 주제는 따라서 피부, 체모 또는 두발을 탈색소, 라이트닝 (lightening) 및/또는 표백하는 미용 방법으로서, 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 하나 이상의 하기 화학식 (I) 의 화합물, 및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 예컨대 수화물, 및 그의 입체이성질체를 포함하는 조성물을 피부, 체모 또는 두발에 적용하는 것을 포함하는 방법이다:
Figure 112015070104619-pct00001
여기에서:
- 화학식 (I) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
- Y 는 1 내지 5 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼 또는 헤테로사이클을 나타내고;
- X = -OR'; (=O); NRbRc; NHORd 이고;
- R' 는
* 수소 원자,
* 포화 선형 C1-C18 알킬 라디칼,
* 불포화 선형 C2-C18 알킬 라디칼,
* 포화 또는 불포화 분지형 C3-C18 알킬 라디칼,
* 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 라디칼,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C2-C18, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 아실 라디칼을 나타내고;
R a 는
- 수소 원자,
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼,
- 선형 또는 분지형 C2-C18 아실 또는 선형 또는 분지형 C2-C18 알케닐카르보닐 라디칼을 나타내고,
-
Y 가 2 내지 5 개의 기 (ORa) 로 치환된 페닐 라디칼 또는 헤테로사이클을 나타낼 때, 2 개의 인접 기 ORa 는 함께 2 가 라디칼 -O-CH2-O 을 형성할 수 있고,
단, X = OH 일 때, 화합물은 이러한 OH 를 보유하는 탄소에 알파인 에틸렌 이중 결합을 포함하지 않고;
R b 는
- 수소 원자,
- 선형 C2-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼 또는 라디칼 -CH(Z1)-CO2Z2 을 나타내고, 여기에서
Z1 은 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 임의로 =NH, -NH2, -N(T)2, =O, -OH, -OT, -SH, -ST, -CO2T, 페닐, -OH 또는 -OT 로 치환된 페닐,
Figure 112015070104619-pct00002
로부터 선택되는 하나 이상의 기로 치환되고/거나,
기 -NH-, -N-(COT)- 또는 -S- 로 개입되고, 여기에서 T 는 선형 또는 분지형 C1-C6 또는 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고,
Z2 는 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼을 나타내고;
R c 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환되고;
R d 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C18 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환됨.
본 발명의 목적을 위해, 용어 "헤테로사이클" 은 O, S 및 N 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는, 방향족 라디칼을 포함하는, 포화 또는 불포화 5- 내지 10-원 시클릭 탄화수소계 라디칼을 나타낸다. 바람직하게는, 헤테로사이클은 피리딘, 피리미딘 또는 인돌 라디칼, 더욱 바람직하게는 피리딘 또는 인돌을 나타낸다.
본 발명에 따른 화학식 (I) 의 화합물은 인간 피부를 효율적으로 탈색소 및/또는 라이트닝할 수 있다. 본 발명에 따른 화학식 (I) 의 화합물은 특히 갈색빛 색소침착 반점 또는 노화 반점을 보유하는 개체의 피부에, 또는, 예를 들어 자외선에의 노출 후에, 멜라닌형성에 의해 야기되는 갈색빛 색의 출현을 방지하기를 원하는 개체의 피부에 적용하기 위해 의도된다.
본 발명에 따른 화학식 (I) 의 화합물은 또한 체모, 속눈썹, 두발, 및 또한 입술 및/또는 손발톱을 탈색소 및/또는 라이트닝하는 것을 가능하게 할 수 있다.
본 발명의 주제는 따라서 또한 인간 피부, 체모 및/또는 두발의 탈색소, 라이트닝 및/또는 표백을 위한 미용 방법으로서, 이전에 기재된 조성물의 피부에 대한 적용을 포함하는 방법이다. 본 발명의 방법은 특히 갈색빛 색소침착 반점 및/또는 노화 반점의 제거, 및/또는 태닝된 피부의 라이트닝에 적합하다.
본 발명의 주제는 또한, 특히 색소침착 반점 또는 노화 반점의 제거를 위한, 피부, 체모, 속눈썹 또는 두발, 및 또한 입술 및/또는 손발톱, 바람직하게는 피부의 표백 및/또는 탈색소제로서의 및/또는 항-태닝제로서의 이전에 기재된 화학식 (I) 의 화합물의 미용 용도이다.
화학식 (I) 의 화합물 중에서, 일부가 선행 기술로부터 공지되었다.
문헌 "Separation of α,β-anomers of C-glycosides by medium-pressure liquid chromatography"; Sepu 1988, 6(5), 페이지 301-3 은 화합물 2-데옥시-2-(2-(4-메톡시페닐)에틸)-D-글루코스 (CAS 121285-89-0) 및 2-데옥시-2-(2-(4-메톡시페닐)에틸)-L-글루코스 (CAS 121285-90-3) 를 기재한다.
문헌 "Reaction of unsubstituted aldoses with p-methoxybenzoylmethylenephosphorane"; Zhurnal Obshchei Khimii 1968, 38(5), 페이지 1046-8 은 화합물 2-데옥시-2-(2-옥소-2-(4-메톡시페닐)에틸)-L-푸코스 (CAS 20880-40-4), 2-데옥시-2-(2-옥소-2-(4-메톡시페닐)에틸)-D-자일로스 (CAS 20869-22-1) 및 2-데옥시-2-(2-옥소-2-(4-메톡시페닐)에틸)-L-자일로스 (CAS 20869-24-3) 를 기재한다.
문헌 "Interaction of partially screened aldoses with p-methoxybenzoylmethylenephosphorane"; Zhurnal Obshchei Khimii 1969, 39(1), 페이지 119-22 는 화합물 2-데옥시-2-(2-옥소-2-(4-메톡시페닐)에틸)-D-말토스 (CAS 24461-52-7) 및 2-데옥시-2-(2-옥소-2-(4-메톡시페닐)에틸)-L-말토스 (CAS 24461-51-6) 를 기재한다.
따라서 본 발명의 주제는 또한 하기 화학식 (II) 내지 (V) 의 화합물이다:
화학식 (II) 의 화합물
Figure 112015070104619-pct00003
여기에서:
- 화학식 (II) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
- Y 는 1 내지 5 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 헤테로사이클을 나타내고;
- X = -OR'; (=O); NRbRc; NHORd 이고;
- R' 는
* 수소 원자,
* 포화 선형 C1-C18 알킬 라디칼,
* 불포화 선형 C2-C18 알킬 라디칼,
* 포화 또는 불포화 분지형 C3-C18 알킬 라디칼,
* 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 라디칼,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C2-C18, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 아실 라디칼을 나타내고;
R a 는
- 수소 원자,
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼,
- 선형 또는 분지형 C2-C18 아실 또는 선형 또는 분지형 C2-C18 알케닐카르보닐 라디칼을 나타내고;
R b 는
- 수소 원자,
- 선형 C2-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼 또는 라디칼 -CH(Z1)-CO2Z2 을 나타내고, 여기에서
Z 1 은 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 임의로 =NH, -NH2, -N(T)2, =O, -OH, -OT, -SH, -ST, -CO2T, 페닐, -OH 또는 -OT 로 치환된 페닐,
Figure 112015070104619-pct00004
로부터 선택되는 하나 이상의 기로 치환되고/거나,
기 -NH-, -N-(COT)- 또는 -S- 로 개입되고, 여기에서 T 는 선형 또는 분지형 C1-C6 또는 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고,
Z 2 는 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼을 나타내고;
R c 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환되고;
R d 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C18 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환됨;
및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 예컨대 수화물, 및 그의 입체이성질체.
본 발명의 목적을 위해, 용어 "헤테로사이클" 은 O, S 및 N 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는, 방향족 라디칼을 포함하는, 포화 또는 불포화 5- 내지 10-원 시클릭 탄화수소계 라디칼을 나타낸다. 바람직하게는, 헤테로사이클은 피리딘, 피리미딘 또는 인돌 라디칼, 더욱 바람직하게는 피리딘 또는 인돌을 나타낸다.
화학식 (III) 의 신규한 화합물:
Figure 112015070104619-pct00005
여기에서:
- 화학식 (III) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
- Y 는 1 내지 5 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
- X = -OR"; NRbRc; NHORd 이고;
- R' 는
* 수소 원자,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C18, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 알킬 라디칼,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C18, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 아실 라디칼을 나타내고;
- R" 는
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C18, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 알킬 라디칼,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C18, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 아실 라디칼을 나타내고;
R a 는
- 수소 원자,
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼,
- 선형 또는 분지형 C1-C18 아실 또는 선형 또는 분지형 C2-C18 알케닐카르보닐 라디칼을 나타내고,
Y 가 2 내지 5 개의 기 (ORa) 로 치환된 페닐 라디칼을 나타낼 때, 2 개의 인접 기 ORa 는 함께 2 가 라디칼 -O-CH2-O 을 형성할 수 있고;
R b 는
- 수소 원자,
- 선형 C2-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼 또는 라디칼 -CH(Z1)-CO2Z2 을 나타내고, 여기에서
Z1 은 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 임의로 =NH, -NH2, -N(T)2, =O, -OH, -OT, -SH, -ST, -CO2T, 페닐, -OH 또는 -OT 로 치환된 페닐,
Figure 112015070104619-pct00006
로부터 선택되는 하나 이상의 기로 치환되고/거나,
기 -NH-, -N-(COT)- 또는 -S- 로 개입되고, 여기에서 T 는 선형 또는 분지형 C1-C6 또는 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고,
Z2 는 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼을 나타내고;
R c 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환되고;
R d 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C18 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환됨;
및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 예컨대 수화물, 및 그의 입체이성질체.
화학식 (IV) 의 신규한 화합물:
Figure 112015070104619-pct00007
여기에서:
- 화학식 (IV) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
- Y 는 1 내지 5 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
- X = -OH; (=O) 이고;
- R' 는
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C18, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 알킬 라디칼,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C18, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C5 또는 C6 아실 라디칼을 나타내고;
R a 는
- 수소 원자,
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼,
- 선형 또는 분지형 C1-C18 아실 또는 선형 또는 분지형 C2-C18 알케닐카르보닐 라디칼을 나타내고,
Y 가 2 내지 5 개의 기 (ORa) 로 치환된 페닐 라디칼을 나타낼 때, 2 개의 인접 기 ORa 는 함께 2 가 라디칼 -O-CH2-O 을 형성할 수 있고,
단, X = OH 일 때, 화합물은 이러한 OH 를 보유하는 탄소에 알파인 에틸렌 이중 결합을 포함하지 않고;
R b 는
- 수소 원자,
- 선형 C2-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼 또는 라디칼 -CH(Z1)-CO2Z2 을 나타내고, 여기에서
Z 1 은 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 임의로 =NH, -NH2, -N(T)2, =O, -OH, -OT, -SH, -ST, -CO2T, 페닐, -OH 또는 -OT 로 치환된 페닐,
Figure 112015070104619-pct00008
로부터 선택되는 하나 이상의 기로 치환되고/거나,
기 -NH-, -N-(COT)- 또는 -S- 로 개입되고, 여기에서 T 는 선형 또는 분지형 C1-C6 또는 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고,
Z 2 는 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼을 나타내고;
R c 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환되고;
R d 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C18 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환됨;
및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 예컨대 수화물, 및 그의 입체이성질체,
하기 화합물은 배제됨:
Figure 112015070104619-pct00009
.
화학식 (V) 의 신규한 화합물:
Figure 112015070104619-pct00010
여기에서:
- 화학식 (V) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
- Y 는 1 내지 5 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
- X = -OH; (=O) 이고;
- R' 는 수소 원자를 나타내고;
R a 는
-
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼,
- 선형 C1-C18 또는 분지형 C3-C18 아실 또는 선형 또는 분지형 C2-C18 알케닐카르보닐 라디칼을 나타내고,
단, X = OH 일 때, 화합물은 이러한 OH 를 보유하는 탄소에 알파인 에틸렌 이중 결합을 포함하지 않고,
Y 가 2 내지 5 개의 기 (ORa) 로 치환된 페닐 라디칼을 나타낼 때, 2 개의 인접 기 ORa 는 함께 2 가 라디칼 -O-CH2-O 을 형성할 수 있고;
R b 는
- 수소 원자,
- 선형 C2-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼 또는 라디칼 -CH(Z1)-CO2Z2 을 나타내고, 여기에서
Z1 은 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 임의로 =NH, -NH2, -N(T)2, =O, -OH, -OT, -SH, -ST, -CO2T, 페닐, -OH 또는 -OT 로 치환된 페닐,
Figure 112015070104619-pct00011
로부터 선택되는 하나 이상의 기로 치환되고/거나,
기 -NH-, -N-(COT)- 또는 -S- 로 개입되고, 여기에서 T 는 선형 또는 분지형 C1-C6 또는 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고,
Z2 는 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼을 나타내고;
R c 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환되고;
R d 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C18 또는 분지형 C3-C18 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C18 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환됨;
및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 예컨대 수화물, 및 그의 입체이성질체,
하기 화합물은 배제됨:
Figure 112015070104619-pct00012
.
본 발명의 주제는 또한, 특히 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 화학식 (II) 내지 (V) 로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는 조성물, 특히 미용 조성물이다.
본 발명의 맥락에서, 용어 "알킬" 은 포화 또는 불포화 탄화수소계 사슬을 의미한다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 알킬 기 중에서, 특히 메틸, 에틸, 이소프로필, n-프로필, n-부틸, t-부틸, 이소부틸, sec-부틸, 펜틸, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, n-노닐, n-데실, n-도데실, n-테트라데실, n-헥사데실, n-헵타데실, n-옥타데실, 알릴 및 올레일 기가 언급될 수 있다.
본 발명의 맥락에서, 용어 "시클릭 알킬 라디칼" 은 포화 시클릭 탄화수소계 라디칼 또는 시클로알킬, 또는 불포화 시클릭 탄화수소계 라디칼 또는 시클로알케닐을 나타낸다. 본 발명에서 사용하기에 적합한 시클릭 알킬 라디칼 중에서, 특히 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로펜테닐 및 시클로헥세닐 기가 언급될 수 있다.
본 발명에서 기재된 화합물의 비-치료적 사용에 허용가능한 염은 상기 화합물의 관습적 비-독성 염, 예컨대 유기 또는 무기 산으로부터 형성된 것을 포함한다. 언급될 수 있는 예는 무기 산, 예컨대 황산, 염산, 브롬화수소산 또는 인산의 염을 포함한다. 하나 이상의 카르복시산, 술폰산 또는 인산 기를 포함할 수 있는, 유기 산의 염이 또한 언급될 수 있다. 그들은 선형, 분지형 또는 시클릭 지방족 산, 또는 대안적으로는 방향족 산일 수 있다. 이들 산은 O 및 N 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를, 예를 들어 히드록실 기 형태로, 또한 포함할 수 있다. 특히 프로피온산, 아세트산, 시트르산, 타르타르산, 메탄술폰산 및 숙신산이 언급될 수 있다.
화학식 (I) 내지 (V) 의 화합물이 산성 기를 포함할 때, 산 기(들)의 중화는 무기 염기, 예컨대 LiOH, NaOH, KOH, Ca(OH)2, NH4OH, Mg(OH)2 또는 Zn(OH)2 로; 또는 유기 염기 예컨대 1 차, 2 차 또는 3 차 알킬아민, 예를 들어 트리에틸아민 또는 부틸아민으로 수행될 수 있다. 이러한 1 차, 2 차 또는 3 차 알킬아민은 하나 이상의 질소 및/또는 산소 원자를 포함할 수 있고, 따라서, 예를 들어, 하나 이상의 알코올 관능기를 포함할 수 있다; 특히 2-아미노-2-메틸프로판올, 트리에탄올아민, 2-디메틸아미노프로판올 및 2-아미노-2-(히드록시메틸)-1,3-프로판디올이 언급될 수 있다. 또한 라이신 또는 3-(디메틸아미노)프로필아민이 언급될 수 있다.
본 발명에서 기재된 화합물의 비-치료적 용도에 허용가능한 용매화합물은 관습적 용매화합물 예컨대 상기 화합물의 제조의 최종 단계 동안 용매의 존재로 인해 형성되는 것을 포함한다. 예로서, 물 또는 선형 또는 분지형 알코올, 예컨대 에탄올 또는 이소프로판올의 존재로 인한 용매화합물이 언급될 수 있다.
바람직한 화학식 (I) 의 화합물은 하기와 같은 것이다:
- 화학식 (I) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
- Y 는 1 내지 5 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼 또는 헤테로사이클을 나타내고;
- X = -OR'; (=O); NRbRc; NHORd 이고;
- R' 는
* 수소 원자,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C12, 또는 포화 시클릭 C5 또는 C6 알킬 라디칼,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C6, 또는 포화 시클릭 C5 또는 C6 아실 라디칼을 나타내고;
R a 는
- 수소 원자,
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼,
- 선형 또는 분지형 C1-C6 아실 라디칼을 나타내고,
Y 가 2 내지 5 개의 기 (ORa) 로 치환된 페닐 라디칼 또는 헤테로사이클을 나타낼 때, 2 개의 인접 기 ORa 는 함께 2 가 라디칼 -O-CH2-O 을 형성할 수 있고,
단, X = OH 일 때, 화합물은 이러한 OH 를 보유하는 탄소에 알파인 에틸렌 이중 결합을 포함하지 않고;
R b 는
- 수소 원자,
- 선형 C2-C12 또는 분지형 C3-C12 알킬 라디칼, 또는 라디칼 -CH(Z1)-CO2Z2 을 나타내고, 여기에서
Z1 은 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 임의로 =NH, -NH2, -N(T)2, =O, -OH, -OT, -SH, -ST, -CO2T, 페닐, -OH 또는 -OT 로 치환된 페닐,
Figure 112015070104619-pct00013
로부터 선택되는 하나 이상의 기로 치환되고/거나,
-NH-, -N-(COT)- 또는 -S- 로 개입되고, 여기에서 T 는 선형 C1-C6 또는 시클릭 C5-C6 알킬 라디칼을 나타내고,
Z2 는 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼을 나타내고;
R c 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼, 또는 선형 또는 분지형 불포화 C3-C4 탄화수소계 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환되고;
R d 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C12 또는 분지형 C3-C12 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환됨;
및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 예컨대 수화물, 및 그의 입체이성질체.
본 발명의 목적을 위해, 용어 "헤테로사이클" 은 O, S 및 N 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는, 방향족 라디칼을 포함하는, 포화 또는 불포화 5- 내지 10-원 시클릭 탄화수소계 라디칼을 나타낸다. 바람직하게는, 헤테로사이클은 피리딘, 피리미딘 또는 인돌 라디칼, 더욱 바람직하게는 피리딘 또는 인돌을 나타낸다.
특히 바람직한 화학식 (II) 의 화합물은 하기와 같은 것이다:
- 화학식 (I) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
- Y 는 1 내지 3 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼 또는 헤테로사이클을 나타내고;
- X = -OR'; (=O); NRbRc; NHORd 이고;
- R' 는
* 수소 원자,
* 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화 C1-C4 알킬 라디칼,
* 선형 또는 분지형 C1-C6 아실 라디칼을 나타내고;
R a 는
- 수소 원자,
- 선형 또는 분지형 C1-C4 알킬 라디칼,
- 선형 또는 분지형 C1-C6 아실 라디칼을 나타내고,
Y 가 2 또는 3 개의 기 (ORa) 로 치환된 페닐 라디칼 또는 헤테로사이클을 나타낼 때, 2 개의 인접 기 ORa 는 함께 2 가 라디칼 -O-CH2-O 을 형성할 수 있고,
단, X = OH 일 때, 화합물은 이러한 OH 를 보유하는 탄소에 알파인 에틸렌 이중 결합을 포함하지 않고;
R b 는
- 수소 원자,
- 선형 C2-C8 또는 분지형 C3-C8 알킬 라디칼, 또는 라디칼 -CH(Z1)-CO2Z2 을 나타내고, 여기에서
Z1 은 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6, 또는 포화 또는 불포화 시클릭 C3-C6 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 임의로 =NH, -NH2, -N(T)2, =O, -OH, -OT, -SH, -ST, -CO2T, 페닐, -OH 또는 -OT 로 치환된 페닐,
Figure 112015070104619-pct00014
로부터 선택되는 하나 이상의 기로 치환되고/거나,
기 -NH-, -N-(COT)- 또는 -S- 로 개입되고, 여기에서 T 는 선형 C1-C6 또는 시클릭 C5-C6 알킬 라디칼을 나타내고,
Z2 는 수소 원자 또는 선형 또는 분지형 C1-C6 알킬 라디칼을 나타내고;
R c 는
- 수소 원자,
- 페닐 기로 임의로 치환된 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고;
R d 는
- 수소 원자,
- 선형 C1-C4 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 상기 라디칼은 페닐 기로 임의로 치환됨;
및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 예컨대 수화물, 및 그의 입체이성질체.
본 발명의 목적을 위해, 용어 "헤테로사이클" 은 O, S 및 N 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는, 방향족 라디칼을 포함하는, 포화 또는 불포화 5- 내지 10-원 시클릭 탄화수소계 라디칼을 나타낸다. 바람직하게는, 헤테로사이클은 피리딘, 피리미딘 또는 인돌 라디칼, 더욱 바람직하게는 피리딘 또는 인돌을 나타낸다.
더욱 특히 바람직한 화학식 (I) 의 화합물은 하기이다:
화합물 1. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(4-히드록시-3-메톡시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
Figure 112015070104619-pct00015
화합물 2. 4-(4-히드록시-3-메톡시페닐)-1-[(3R,4S,5R)-3,4,5-트리히드록시테트라히드로-2H-피란-2-일]부탄-2-온
Figure 112015070104619-pct00016
화합물 3. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(4-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
Figure 112015070104619-pct00017
화합물 4. 4-(4-히드록시페닐)-1-[(3R,4S,5R)-3,4,5-트리히드록시테트라히드로-2H-피란-2-일]부탄-2-온
Figure 112015070104619-pct00018
화합물 5. (3R,4S,5R)-2-[2-(벤질아미노)-4-(4-히드록시-3-메톡시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
Figure 112015070104619-pct00019
화합물 6. 에틸 {[3-(4-히드록시-3-메톡시페닐)-1-{[(3R,4S,5R)-3,4,5-트리히드록시테트라히드로-2H-피란-2-일]메틸}프로필]아미노}(페닐)아세테이트
Figure 112015070104619-pct00020
화합물 7. (3E)-4-페닐-1-[(3R,4S,5R)-3,4,5-트리히드록시테트라히드로-2H-피란-2-일]부트-3-엔-2-온
Figure 112015070104619-pct00021
화합물 8. (3E)-4-(4-히드록시-3,5-디메톡시페닐)-1-[(3R,4S,5R)-3,4,5-트리히드록시테트라히드로-2H-피란-2-일]부트-3-엔-2-온
Figure 112015070104619-pct00022
화합물 9. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(2-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
Figure 112015070104619-pct00023
화합물 10. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(3-히드록시-4-메톡시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
Figure 112015070104619-pct00024
화합물 11. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(2,4-디-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
Figure 112015070104619-pct00025
화합물 12. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(3-에톡시-4-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
Figure 112015070104619-pct00026
화합물 13. 5,9-안히드로-1,2,4-트리데옥시-1-피리딘-3-일-D-자일로노니톨
Figure 112015070104619-pct00027
화합물 14. (3R,4S,5R)-2-[(2E)-2-(메톡시이미노)-4-페닐부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
Figure 112015070104619-pct00028
화합물 15. 5,9-안히드로-1,2,4-트리데옥시-7-O-펜타노일-1-페닐-D-자일로논-3-울로스
Figure 112015070104619-pct00029
화합물 16. 5,9-안히드로-1,2,4-트리데옥시-1-(3,4,5-트리메톡시페닐)-D-자일로노니톨
Figure 112015070104619-pct00030
화합물 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15 및 16 은 본 발명의 또다른 주제를 구성하는 신규한 화합물이다.
본 발명의 주제는 또한, 특히 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 화합물 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15 및 16 으로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함하는 조성물, 특히 미용 조성물이다.
화합물 13 은 화학식 (II) 의 바람직한 화합물이다.
화합물 5, 6 및 14 는 화학식 (III) 의 바람직한 화합물이다.
화합물 15 는 화학식 (IV) 의 바람직한 화합물이다.
화합물 16 은 화학식 (V) 의 바람직한 화합물이다.
화학식 (I) 의 화합물은 특허 출원 EP 2 376 510 에 제시된 일반적 절차에 따라 합성될 수 있다.
a.) 신규한 화합물의 일반적 합성 방법
화학식 (II) 의 화합물의 일반적 합성 방법
Figure 112015070104619-pct00031
C-글리코시드 A (이의 합성은 특허 출원 EP 1 345 919 에 기재되어 있음) 는 유기 염기 (예: NaOMe) 의 존재 하에 이러한 염기와 화합성인 극성 용매 (예: MeOH) 중에서 1 내지 2 당량의 알데히드와 반응된다. 반응 매질은 1-20 시간 동안 실온에서 교반되어 알돌화 산물 B 가 형성된다.
산물 B 는 그 후 2 회 연속 환원에 적용된다. 첫번째는 촉매적 수소화 (예: Pd/C / H2) 에 의한 이중 결합의 환원으로 C 를 초래하고, 두번째는 하이드리드 (예: NaBH4) 에 의한 카르보닐의 환원으로 D 를 초래한다. D 는 또한 2 개의 환원 단계를 조합함으로써 (예: Ru/C/H2) B 로부터 단일 단계로 수득될 수 있다.
화합물 E 는 예를 들어 용매 예컨대 아세토니트릴 중에서 알콕시아민 NH2-OR 과 화합물 C 의 단순 반응을 통해 수득될 수 있다. 화합물 F 는 표준 환원성 알킬화를 통해 수득될 수 있다.
화합물 G 는 저온에서 화합물 C 의 고리의 OH 관능기 중 하나의 선택적 아실화에 뒤이어, 하이드리드 (예: NaBH4) 에 의한 카르보닐의 환원에 의해 수득될 수 있다.
대안적으로는, 화합물 B 는 먼저 케톤 관능기의 환원에 적용되어 C' 를 초래하고, 그에 뒤이어 C' 의 이중 결합의 환원에 적용되어 화합물 D 를 초래할 수 있다.
화학식 (III, IV, V) 의 화합물의 일반적 합성 방법
Figure 112015070104619-pct00032
본 발명의 또다른 주제는, 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 위에 정의된 화학식 (I) 에 해당하는 하나 이상의 C-자일로사이드 유도체를 포함하는 조성물에 관한 것이다. 특히, 본 발명의 조성물은 피부에 대한 국소 적용에 적합하다. 생리적으로 허용가능한 매질은 바람직하게는 미용적으로 또는 피부과적으로 허용가능한 매질, 즉, 불쾌한 냄새, 색 또는 외관을 갖지 않고, 사용자에게 어떠한 수용할 수 없는 자통 (stinging), 팽팽함 (tautness) 또는 발적 (redness) 도 야기하지 않는 매질일 것이다.
용어 "생리적으로 허용가능한 매질" 은 인간 케라틴 재료 예컨대 피부, 점막, 손발톱, 체모, 속눈썹, 두피 및/또는 두발과 화합성인 매질을 의미한다.
본 발명에 따른 조성물은 미용 또는 약학적 적용, 특히 피부과적 적용을 위해 의도될 수 있다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 미용 적용을 위해 의도된다.
본 발명의 맥락에서 사용될 수 있는 화학식 (I) 의 화합물의 양은 원하는 효과에 따라 명백히 좌우된다.
예로서, 이러한 양은, 예를 들어, 조성물의 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.01 중량% 내지 5 중량%, 특히 0.1 중량% 내지 3 중량%, 특히 0.1 중량% 내지 2 중량% 범위일 수 있다.
조성물은 그때 고려되는 적용에서 통상적으로 사용되는 임의의 성분을 포함할 수 있다.
특히 물, 용매, 광물, 동물 및/또는 식물 기원의 오일, 왁스, 색소, 충전제, 계면활성제, 미용 또는 피부과적 활성제, UV-스크리닝제, 중합체, 겔화제 및 보존제가 언급될 수 있다.
말할 필요 없이, 통상의 기술자는 본 발명에 따른 화합물의 유리한 특성이 고려되는 첨가에 의해 악영향을 받지 않거나, 실질적으로 받지 않도록 이러한 또는 이들 임의적 부가적 화합물(들), 및/또는 그의 양을 조심스럽게 선택할 것이다.
본 발명에 따른 조성물은 화장품 및 피부과에서 통상적으로 사용되는 임의의 생약 형태일 수 있다; 그것은 특히, 임의로 겔화된, 수성 또는 수성-알코올성 용액, 로션 유형의 분산물, 임의로 2-상 분산물, 수중유 또는 유중수 또는 다중 에멀전, 수성 겔, 소구체를 이용한 수상 중 오일의 분산물 (이들 소구체는 중합체 나노입자 예컨대 나노구체 및 나노캡슐, 또는, 더 양호하게는, 이온성 및/또는 비이온성 유형의 지질 소포체일 수 있음) 형태일 수 있다.
본 발명의 조성물이 에멀전일 때, 지방상의 비율은 조성물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 80 중량%, 바람직하게는 조성물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 50 중량% 범위일 수 있다. 에멀전 형태의 조성물에 사용되는 오일, 유화제 및 임의적 조유화제는 당해 기술분야에서 관습적으로 사용되는 것으로부터 선택된다. 유화제 및 조유화제는 조성물에 가능하게는 조성물의 총 중량에 대해 0.3 중량% 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.5 중량% 내지 20 중량% 범위의 비율로 존재한다.
이러한 조성물은 다소 유체일 수 있고, 백색 또는 유색 크림, 연고, 밀크, 로션, 세럼, 페이스트 또는 폼의 외관을 가질 수 있다. 그것은 임의로 피부에 에어로졸 형태로 적용될 수 있다. 그것은 또한 고체 형태, 예를 들어 스틱 형태일 수 있다. 그것은 관리 제품으로서 및/또는 메이크업 제품으로서 사용될 수 있다.
이러한 조성물은 얼굴, 손, 발, 주된 해부학적 폴드 (fold) 또는 신체용 클렌징, 보호, 치료 또는 관리 크림 (예를 들어 데이 크림, 나이트 크림, 메이크업-제거 크림, 파운데이션 크림 또는 항태양 크림); 플루이드 파운데이션, 메이크업-제거 밀크, 보호 또는 관리 바디 밀크 또는 항태양 밀크; 피부관리 로션, 겔 또는 폼, 예컨대 클렌징 로션을 구성할 수 있다.
본 발명의 하나의 유리한 양상에서, 사용되는 조성물은 하나 이상의 박리제, 및/또는 하나 이상의 진정제, 및/또는 하나 이상의 유기 광보호제 및/또는 하나 이상의 무기 광보호제를 또한 포함할 수 있다.
용어 "박리제" 는 하기 작용을 할 수 있는 임의의 화합물을 의미한다:
- 낙설을 촉진함으로써 직접 박리에 대해 작용할 수 있는 화합물, 예컨대 β-히드록시산, 특히 살리실산 및 그의 유도체 (5-n-옥타노일살리실산을 포함); α-히드록시산, 예컨대 글리콜산, 시트르산, 락트산, 타르타르산, 말산 또는 만델산; 우레아; 겐티스산; 올리고푸코스; 신남산; 사포라 자포니카 (Saphora japonica) 의 추출물; 레스베라트롤; 또는
-　코르네오데스모솜의 붕괴 또는 박리에 관여하는 효소, 글리코시다제, 각질층 키모트립신 효소 (SCCE) 또는 기타 프로테아제 (트립신, 키모트립신-유사) 에 대해 작용할 수 있는 화합물. 하기 무기염 킬레이트제가 언급될 수 있다: EDTA; N-아실-N,N',N'-에틸렌디아민트리아세트산; 아미노술폰산 화합물, 특히 (N-2-히드록시에틸피페라진-N-2-에탄)술폰산 (HEPES); 2-옥소티아졸리딘-4-카르복시산 (프로시스테인) 유도체; 글라이신 유형의 알파-아미노 산의 유도체 (EP 0 852 949 에 기재됨, 및 또한 BASF 에 의해 상표명 Trilon M 하에 판매되는 나트륨 메틸 글라이신 디아세테이트); 꿀; 당 유도체 예컨대 O-옥타노일-6-D-말토스 및 N-아세틸글루코사민.
본 발명에 따른 조성물에서 사용될 수 있는 진정제로서, 하기가 언급될 수 있다: 펜타시클릭 트리테르펜 및 이를 함유하는 식물 추출물 (예: 감초 (Glycyrrhiza glabra)), 예를 들어 β-글리시레틴산 및 그의 염 및/또는 유도체 (글리시레틴산 모노글루쿠로니드, 스테아릴 글리시레티네이트, 3-스테아로일옥시글리시레틴산), 우르솔산 및 그의 염, 올레아놀산 및 그의 염, 베툴린산 및 그의 염, 모란 (Paeonia suffruticosa) 및/또는 작약 (lactiflora) 의 추출물, 살리실산 염, 특히 아연 살리실레이트, Codif 사로부터의 피코사카라이드, 라미나리아 사카리나 (Laminaria saccharina) 의 추출물, 카놀라유, 비사볼올 및 카모마일의 추출물, 알란토인, SEPPIC 로부터의 Sepivital EPC (비타민 E 및 C 의 인산 디에스테르), 오메가-3 불포화 오일 예컨대 사향 장미 오일, 블랙커런트 오일, 에키엄 (ecchium) 오일, 어유, 플랑크톤 추출물, 카프릴로일글라이신, SEPPIC 로부터의 Seppicalm VG (나트륨 팔미토일프롤린 및 님페아 알바 (Nymphea alba)), 피게움 (Pygeum) 의 추출물, 보스웰리아 세라타 (Boswellia serrata) 의 추출물, 센티페다 쿠닝하미 (Centipeda cunninghami) 의 추출물, 해바라기 (Helianthus annuus) 의 추출물, 아마 (Linum usitatissimum) 의 추출물, 토코트리에놀, 콜라 니티다 (Cola nitida) 의 추출물, 정향의 추출물, 분홍바늘꽃 (Epilobium angustifolium) 의 추출물, 알로에 베라, 바코파 모니에라 (Bacopa moniera) 의 추출물, 피토스테롤, 코르티손, 히드로코르티손, 인도메타신 및 베타메타손.
유기 광보호제는 특히 UVA-스크리닝제, UVB-스크리닝제 및 혼합된 UVA-UVB 스크리닝제, 및 그들의 혼합물로부터 선택된다.
UVA-스크리닝제
본 발명에 따른 UVA-스크리닝제(들)은 하기 스크리닝제로부터 선택될 수 있다.
1) 소수성 UVA-스크리닝제
디벤조일메탄 유도체:
- 특히 상표명 Parsol 1789 하에 DSM Nutritional Products, Inc. 에 의해 판매되는 부틸메톡시디벤조일메탄;
- 이소프로필디벤조일메탄;
아미노벤조페논:
- 특히 상표명 Uvinul A+ 하에 BASF 에 의해 판매되는 n-헥실 2-(4-디에틸아미노-2-히드록시벤조일)벤조에이트;
안트라닐산 유도체:
- 특히 상표명 Neo Heliopan MA 하에 Symrise 에 의해 판매되는 멘틸 안트라닐레이트;
4,4-디아릴부타디엔 유도체:
- 1,1-디카르복시-(2,2'-디메틸프로필)-4,4-디페닐부타디엔;
메로시아닌 유도체:
- 옥틸 5-N,N-디에틸아미노-2-페닐술포닐-2,4-펜타디에노에이트.
2) 수용성 UVA-스크리닝제
- 캄포르 유도체 예컨대 명칭 Mexoryl SX 하에 Chimex 에 의해 생산되는 테레프탈일리덴디캄포르술폰산;
- 특허 EP 669 323, 및 US 2 463 264 에 기재된 비스-벤조아졸일 유도체, 더욱 특히 상표명 Neo Heliopan AP 하에 Symrise 에 의해 판매되는 화합물 이나트륨 페닐디벤즈이미다조테트라술포네이트.
바람직한 구현예에 따르면, 상기 하나 이상의 UVA-스크리닝제는 하기로부터 선택된다:
소수성 디벤조일메탄 유도체 및 수용성 캄포르 유도체, 및 그들의 혼합물.
더욱 특히, 상기 하나 이상의 UVA-스크리닝제는 부틸 메톡시디벤조일메탄, 테레프탈일리덴디캄포르술폰산, 및 그들의 혼합물로부터 선택된다. 바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 상기 하나 이상의 UVA-스크리닝제가 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 특히 2 중량% 내지 15 중량% 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 한다.
UVB-스크리닝제
본 발명에 따른 UVB-스크리닝제(들)은 하기 스크리닝제로부터 선택될 수 있다.
1) 소수성 UVB-스크리닝제
파라 -아미노벤조에이트:
- 에틸 PABA;
- 에틸 디히드록시프로필 PABA;
- 에틸헥실 디메틸 PABA (ISP 로부터의 Escalol 507).
살리실산 유도체:
- 특히 명칭 Eusolex HMS 하에 Rona/EM Industries 에 의해 판매되는 호모살레이트;
- 특히 명칭 Neo Heliopan OS 하에 Symrise 에 의해 판매되는 에틸헥실 살리실레이트;
- 특히 명칭 Dipsal 하에 Scher 에 의해 판매되는 디프로필렌 글리콜 살리실레이트;
- 명칭 Neo Heliopan TS 하에 Symrise 에 의해 판매되는 TEA 살리실레이트.
신나메이트
- 특히 상표명 Parsol MCX 하에 DSM Nutritional Products, Inc. 에 의해 판매되는 에틸헥실 메톡시신나메이트;
- 이소프로필 메톡시신나메이트;
- 특히 상표명 Neo Heliopan E 1000 하에 Symrise 에 의해 판매되는 이소아밀 메톡시신나메이트;
- 디이소프로필 메틸신나메이트;
- 신녹세이트;
- 글리세릴 에틸헥사노에이트 디메톡시신나메이트.
β,β'-디페닐아크릴레이트 유도체:
- 특히 상표명 Uvinul N539 하에 BASF 에 의해 판매되는, 옥토크릴렌;
- 특히 상표명 Uvinul N35 하에 BASF 에 의해 판매되는, 에토크릴렌.
벤질리덴캄포르 유도체:
- 명칭 Mexoryl SD 하에 Chimex 에 의해 제조되는, 3-벤질리덴캄포르;
- 특히 명칭 Eusolex 6300 하에 Merck 에 의해 판매되는 메틸벤질리덴캄포르;
- 명칭 Mexoryl SW 하에 Chimex 에 의해 제조되는, 폴리아크릴아미도메틸벤질리덴캄포르.
트리아진 유도체:
- 특히 상표명 Uvinul T150 하에 BASF 에 의해 판매되는 에틸헥실트리아존;
- 특히 상표명 Uvasorb HEB 하에 Sigma 3V 에 의해 판매되는 디에틸헥실부트아미도트리아존;
- 2,4,6-트리스(디네오펜틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진;
- 2,4,6-트리스(디이소부틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진;
- 2,4-비스(디네오펜틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-6-(n-부틸 4'-아미노벤조에이트)-s-트리아진;
- 2,4-비스(n-부틸 4'-아미노벤조에이트)-6-(아미노프로필트리실록산)-s-트리아진;
- 특허 US 6 225 467, 특허 출원 WO 2004/085 412 (화합물 6 및 9 참고) 또는 문헌 "Symmetrical Triazine Derivatives" IP.COM Journal, IP.COM Inc West Henrietta, NY, US (2004 년 9 월 20 일) 에 기재된 대칭적 트리아진 스크리닝제, 특히 2,4,6-트리스-(디페닐)-1,3,5-트리아진 (특히 2,4,6-트리스(디페닐-4-일-1,3,5-트리아진) 및 2,4,6-트리스(테르페닐)-1,3,5-트리아진, 뒤의 2 개의 스크리닝제는 Beiersdorf 출원 WO 06/035 000, WO 06/034 982, WO 06/034 991, WO 06/035 007, WO 2006/034 992, WO 2006/034 985 에 기재되어 있음).
이미다졸린 유도체:
- 에틸헥실 디메톡시벤질리덴 디옥소이미다졸린 프로피오네이트.
벤잘말로네이트 유도체:
- 벤잘말로네이트 관능기를 보유하는 폴리오르가노실록산, 예를 들어, 특히 상표명 Parsol SLX 하에 DSM Nutritional Products, Inc. 에 의해 판매되는, Polysilicone-15;
- 디네오펜틸 4'-메톡시벤잘말로네이트.
2) 수용성 UVB-스크리닝제
하기 p-아미노벤조산 (PABA) 유도체:
- PABA,
- 글리세릴 PABA, 및
- 특히 상표명 Uvinul P25 하에 BASF 에 의해 판매되는 PEG-25 PABA,
- 특히 상표명 Eusolex 232 하에 Merck 에 의해 판매되는 페닐벤즈이미다졸 술폰산,
- 페룰산,
- 살리실산,
- DEA 메톡시신나메이트,
- 명칭 Mexoryl SL 하에 Chimex 에 의해 생산되는 벤질리덴캄포르술폰산,
- 명칭 Mexoryl SO 하에 Chimex 에 의해 생산되는 캄포르벤즈알코늄 메토술페이트.
하나의 바람직한 구현예에 따르면, 본 발명에 따른 조성물에 포함되는 하나 이상의 UVB-스크리닝제는 소수성 UVB-스크리닝제이다.
특히, 상기 하나 이상의 소수성 UVB-스크리닝제는 살리실산 유도체, 신나메이트, β,β'-디페닐아크릴레이트 유도체, 트리아진 유도체, 및 그들의 혼합물로부터 선택된다.
바람직하게는, 하나 이상의 UVB-스크리닝제는 에틸헥실 살리실레이트, 에틸헥실 메톡시신나메이트, 옥토크릴렌, 에틸헥실 트리아존, 및 그들의 혼합물로부터 선택된다.
바람직하게는, 본 발명에 따른 조성물은 상기 하나 이상의 UVB-스크리닝제가 조성물의 총 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량%, 특히 5 중량% 내지 15 중량%, 바람직하게는 7 중량% 내지 10 중량% 범위의 함량으로 존재하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 특정 변형예에 따르면, 본 발명에서 사용되는 상기 유기 스크리닝 시스템은 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 함유하거나 심지어는 그것으로 이루어진다.
유리하게는, 본 발명에서 사용되는 상기 유기 스크리닝 시스템은 하나 이상의 UVA-스크리닝제, 하나 이상의 UVB-스크리닝제 및 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제를 함유한다.
혼합된 UVA- 및 UVB-스크리닝제
상기 하나 이상의 혼합된 UVA-UVB-스크리닝제는 하기 스크리닝제로부터 선택될 수 있다.
1) 소수성 혼합된 UVA- 및 UVB-스크리닝제
벤조페논 유도체:
- 특히 상표명 Uvinul 400 하에 BASF 에 의해 판매되는 벤조페논-1;
- 특히 상표명 Uvinul D50 하에 BASF 에 의해 판매되는 벤조페논-2;
- 특히 상표명 Uvinul M40 하에 BASF 에 의해 판매되는 벤조페논-3 또는 옥시벤존;
- 특히 상표명 Helisorb 11 하에 Norquay 에 의해 판매되는 벤조페논-6;
- 특히 상표명 Spectra-Sorb UV-24 하에 American Cyanamid 에 의해 판매되는 벤조페논-8;
- 벤조페논-10;
- 벤조페논-11;
- 벤조페논-12.
페닐벤조트리아졸 유도체:
- 특히 명칭 Silatrizole 하에 Rhodia Chimie 에 의해 판매되는 또는 명칭 Meroxyl XL 하에 Chimex 사에 의해 제조되는 드로메트리아졸 트리실록산;
- 고체 형태로 특히 상표명 Mixxim BB/100 하에 Fairmount Chemical 에 의해 판매되는, 또는 미분 형태로 수성 분산물로서 특히 상표명 Tinosorb M 하에 Ciba Specialty Chemicals 에 의해 판매되는, 메틸렌비스(벤조트리아졸일)테트라메틸부틸페놀.
비스-레소르시닐 트리아진 유도체:
- 특히 상표명 Tinosorb S 하에 Ciba-Geigy 에 의해 판매되는 비스(에틸헥실옥시페놀)메톡시페닐트리아진.
벤즈옥사졸 유도체:
- 특히 명칭 Uvasorb K2A 하에 Sigma 3V 에 의해 판매되는, 2,4-비스[5-(1-디메틸프로필)벤즈옥사졸-2-일-(4-페닐)이미노]-6-(2-에틸헥실)이미노-1,3,5-트리아진.
2) 수용성 혼합된 UVA- 및 UVB-스크리닝제
하나 이상의 술폰산 라디칼을 포함하는 벤조페논 유도체, 예컨대
- 특히 상표명 Uvinul MS 40 하에 BASF 에 의해 판매되는 벤조페논-4,
- 벤조페논-5, 및
- 벤조페논-9.
광물 광보호제는 코팅된 또는 코팅되지 않은 산화 금속 색소 (다양한 크기의), 예를 들어 티타늄 옥시드 (비결정질 또는 결정질 금홍석 및/또는 예추석 형태), 철 옥시드, 아연 옥시드, 지르코늄 옥시드 또는 세륨 옥시드 (이들은 모두 그 자체로 공지된 UV-광보호제임) 로부터 선택된다. 더욱이, 관습적 코팅제는 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트이다. 그러한 코팅된 또는 코팅되지 않은 산화 금속 색소는 특히 특허 출원 EP-518 772 및 EP-518 773 에 기재되어 있다.
광보호제는, 존재하는 경우, 조성물의 총 중량에 대해 0.1 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 조성물의 총 중량에 대해 0.2 중량% 내지 15 중량% 로 존재한다.
하기 실시예는 본 발명의 범위를 제한하지 않으면서 본 발명을 설명한다. 화합물은, 경우에 따라, 화학명으로 또는 CTFA (국제 화장품 원료집) 명칭으로 언급된다.
실시예 1 : 화합물 11 의 합성
Figure 112015070104619-pct00033
화합물 C 의 합성:
화합물 A (418 ㎎) 를 3 당량의 리튬 히드록시드의 존재 하에 iPrOH/H2O (40/10 ㎖) 의 혼합물 중에서 교반한다. 매질을 50℃ 에서 30 분 동안 가열하고, 그 후 화합물 B (4.9 g) 를 첨가한다. 온도를 2 시간 동안 유지한다. 실온으로 냉각시킨 후에, 반응 매질을 진공 하에 농축시킨 후 크로마토그래피에 의해 실리카의 칼럼 (95/5 디클로로메탄/메탄올) 에서 정제한다. 중간체 화합물 C 가 특성분석되지 않은 불순물과의 혼합물로서 수득된다.
화합물 D 의 합성
1.1 g 의 선행 단계에서 수득된 화합물 C 를 15 ㎖ 의 MeOH 에 용해시킨다. 나트륨 보로하이드라이드 (2 당량) 를 점진적으로 첨가한다. 기체 발생의 종료 후에, 20 ㎖ 의 아세톤을 첨가한다. 그 후 반응 매질을 Dowex 50WX8 수지를 통해 및 그 후 Amberlite IRA 743 수지를 통해 통과시킨다. 여과물을 진공 하에 농축시키고, 수득된 미가공 잔류물을 에틸 아세테이트에 용해시킨 후 포화 NaCl 용액으로 2 회 세정한다. 유기상을 수집한 후 진공 하에 농축시킨다. 그에 따라 화합물 D 가 노란색 분말 형태로 수득된다. 화합물 D 를 추가 정제 없이 다음 단계에서 사용한다.
화합물 11 의 합성
화합물 D 를 시클로헥센/EtOH, 8 ㎖/8 ㎖ 의 50/50 혼합물에 용해시키고, 그 후 235 ㎎ 의 10% Pd/C 를 첨가한다. 혼합물을 2 시간 동안 환류시킨다. 반응 매질을 셀라이트 층을 통해 여과한 후 실리카 크로마토그래피 칼럼 (80/20 디클로로 메탄/메탄올) 에서 정제한다. 화합물 11 이 베이지색 분말 형태로 29% 의 수율로 수득된다. NMR 스펙트럼 및 질량 스펙트럼은 화합물 11 의 구조에 부합한다.
실시예 2 : 화합물 10 의 합성
Figure 112015070104619-pct00034
화합물 C' 의 합성:
화합물 A (4 g) 를 27 ㎖ 의 물 중 3.5 당량의 나트륨 히드록시드의 존재 하에 EtOH/H2O (40/10 ㎖) 의 혼합물 중에서 교반한다. 매질을 50℃ 에서 30 분 동안 가열하고, 그 후 화합물 B' (3.84 g) 를 첨가한다. 온도를 2 시간 동안 유지한다. 실온으로 냉각시킨 후에, 반응 매질을 진공 하에 농축시킨 후 크로마토그래피에 의해 실리카의 칼럼 (95/5 디클로로메탄/메탄올) 에서 정제한다. 중간체 화합물 C' 가 특성분석되지 않은 불순물과의 혼합물로서 38% (2.6 g) 의 수율로 수득된다.
화합물 D' 의 합성
선행 단계에서 수득된 1.87 g 의 화합물 C' 를 50 ㎖ 의 에탄올과 17 ㎖ 의 물 및 13 ㎖ 의 시클로헥센에 용해시킨다. 500 ㎎ 의 Pd/C 를 첨가하고, 반응 매질을 18 시간 동안 환류시킨다. 냉각 후에, 혼합물을 셀라이트를 통해 여과하고, 에탄올로 세정한다. 농축 후에, 회색 고체 형태의 미가공 산물을 다음 단계에 추가 정제 없이 사용한다.
화합물 10 의 합성:
선행 단계에서 수득된 화합물 D' 를 120 ㎖ 의 에탄올 및 20 ㎖ 의 메탄올에 용해시킨다. 나트륨 보로하이드라이드 (2 당량, 460 ㎎) 를 점진적으로 첨가한다. 기체 발생의 종료 후에, 20 ㎖ 의 아세톤, 그에 뒤이어 암모늄 클로리드 포화 수용액을 첨가한다. 농축 후에 수득된 미가공 산물을 그 후 크로마토그래피에 의해 실리카의 칼럼에서 80/20 디클로로메탄/메탄올 혼합물로 용리하여 정제하여 1.58 g 의 화합물 10 으로 확인되는 베이지색 꿀이 부분입체이성질체의 혼합물 형태로 수득된다.
실시예 3 : 멜라닌형성에 대한 활성의 입증
생물학적 시험은 실시예 1 의 화합물 11 의 탈색소 활성을 입증했다.
실시예 1 로부터의 화합물의 멜라닌형성에 대한 조정 효과를 특허 FR-A-2 734 825, 및 또한 R. Schmidt, P. Krien 및 M. Regnier 에 의한 논문, Anal. Biochem., 235(2), 113-18, 1996 에 기재된 방법에 따라 측정했다. 이러한 시험을 케라틴형성세포 및 멜라닌형성세포의 공배양물에 대해 수행한다.
시험 화합물에 대해 하기를 확인했다:
- 세포독성, 류신의 통합을 추정함으로써,
- 멜라닌 합성에 대한 저해 활성, 대조군 (대조군은 시험 화합물 없이 수행된 시험에 해당함) 의 100% 에 대한 티오우라실의 통합 대 류신의 통합의 비율을 추정함으로써. IC50 값 (멜라닌 합성의 50% 가 저해되는 농도) 을 확인했다.
시험을 또한 공지된 탈색소 화합물인 알부틴 및 코지산으로 수행했다.
결과가 하기 표에 수집되어 있다:
Figure 112015070104619-pct00035
화합물 11 은 코지산 및 알부틴보다 더 높은 탈색소 활성을 갖는다.
생 진피를 포함하는 전체 재구성된 피부의 모델에서 색소침착에 대한 화합물 1 의 활성의 입증
화합물 1 의 활성을 특허 FR 2 928 654 에 기재된 재구성된 피부의 전체 모델에 대해 특허 FR 2 930 644 에 기재된 방법에 따라 평가했다.
화합물 1 을 출현기 (emersion phase) 의 두번째 날로부터 시작하여 16 일의 기간 동안 배양 배지에 첨가했다. 색소침착을 출현기의 네번째 날로부터 시작하여 14 일의 기간 동안 첨가된 포스콜린으로 유도했다 (색소침착된 양성 대조군 조건).
분자의 독성 효과의 부재를 조직학 (재구성된 피부의 형태학) 에 의해 및 멜라닌형성세포의 수의 정량화에 의해 (TRP1 라벨링 및 표피 소엽 (epidermal leaflet) 에 대한 도파의 반응) 확인했다.
화합물 1 은 하기 파라미터에 대한 탈색소 활성을 보였다:
휘도 (피부의 밝기) 휘도 값이 높을수록, 피부 샘플이 더 밝음:
화합물 1 에 대한 휘도의 6 포인트의 유의한 증가 (양성 대조군 L 값 = 63, 1 mM 의 분자 1 로 처리한 경우의 L 값 = 69)
폰타나 마손 (멜라닌 입자의 은 염색) 으로 염색된 절편에 대한 이미지 분석에 의한 멜라닌의 정량화: 화합물 1 에 의한 멜라닌 양의 60% 감소 (양성 대조군 = 100 % 의 임의적 값, 1 mM 의 화합물 1 = 39.48%).
실시예 4 : 화합물 13 의 합성
Figure 112015070104619-pct00036
화합물 C" 의 합성:
화합물 A (1 g) 를 30 ㎖ 의 에탄올 중에서 교반했다. 매질을 60℃ 에서 30 분 동안 가열한 후, 화합물 B" (0.54 ㎖) 를 첨가했다. 그 후 에탄올 (5.21 mmol) 중 20% 의 1.8 ㎖ 의 나트륨 에톡시드를 서서히 첨가했다. 혼합물을 1 시간 동안 60℃ 에서 그후 7 시간 동안 실온으로 냉각시키면서 반응되게 놔뒀다.
화합물 A 의 총 소모를 체크한 후에, 반응 매질을 진공 하에 농축시킨 후 크로마토그래피에 의해 실리카의 칼럼 (95/5 디클로로메탄/메탄올) 에서 정제했다. 중간체 화합물 C" 가 특성분석되지 않은 불순물과의 혼합물로서 28% (2.6 g) 의 수율로 수득되었다. NMR 특성분석은 예상된 산물과 부합했다.
화합물 D" 의 합성:
0.4 g 의 선행 단계에서 수득된 화합물 C" 를 20 ㎖ 의 에탄올 및 5 ㎖ 의 시클로헥센에 용해시켰다. 500 ㎎ 의 Pd/C 를 첨가하고, 반응 매질을 4 시간 동안 환류시켰다.
출발 재료의 총 소멸을 체크한 후에, 매질을 여과지를 통해 여과하여 촉매를 제거하고, 그 후 회전 증발기에서 농축시켰다.
0.2 g 의 화합물 D" 가 무색 페이스트 형태로 50% 의 수율로 회수되었다. NMR 특성분석은 예상된 산물과 부합했다.
화합물 13 의 합성:
0.2 g 의 화합물 D" (0.71 mmol) 를 둥근 바닥 플라스크 내의 10 ㎖ 의 에탄올에 용해시켰다. 0.2 g 의 나트륨 보로하이드라이드 과립 (5.3 mmol) 을 첨가하고, 혼합물을 실온에서 3 시간 동안 반응되게 놔두었다.
출발 재료의 총 소멸을 체크한 후에, 매질을 회전 증발기에서 농축시킨 후 실리카에서 정제했다.
50 ㎎ 의 화합물 13 이 베이지색 고체 형태로 25% 의 수율로 회수되었다. NMR 특성분석은 예상된 산물과 부합했다.
조성물 실시예
실시예 A:
유중수 (W/O) 크림:
옥틸도데칸올 1%
마그네슘 스테아레이트 4%
천연 비즈왁스 5%
소르비탄 세스퀴올레에이트 4.5%
글리세릴 모노스테아레이트 및 디스테아레이트 및
칼륨 스테아레이트 1.0%
액체 페트롤륨 젤리 22%
호호바 오일 4%
화합물 1 2.5%
보존제 0.4%
향료 0.6%
물 충분량 100%
실시예 B:
하기 (중량%) 를 포함하는 수중유 에멀전 유형의 얼굴 관리 표백 크림을 제조한다:
화합물 1 3%
글리세릴 스테아레이트 2%
Polysorbate 60 (ICI 로부터의 Tween 60) 1%
스테아르산 1.4%
트리에탄올아민 0.7%
카르보머 0.4%
셰어 버터의 액체 분획 12%
퍼히드로스쿠알렌 12%
항산화제 0.05%
향료, 보존제 충분량
물 충분량 100%
실시예 C:
하기 (중량%) 를 포함하는 피부 탈색소 겔을 제조한다:
화합물 11 (실시예 1) 2%
히드록시프로필셀룰로스 (Hercules 로부터의 Klucel H) 1%
항산화제 0.05%
이소프로판올 40%
향료, 보존제 충분량
물 충분량 100%

Claims (18)

  1. 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 하나 이상의 화학식 (I) 의 화합물, 및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 또는 수화물, 및 그의 입체이성질체를 포함하는 조성물을 피부, 체모 또는 두발에 적용하는 것을 포함하는, 피부, 체모 또는 두발을 탈색소 (depigmenting), 라이트닝 (lightening) 및/또는 표백 (bleaching) 하는 미용 방법:
    Figure 112020055916743-pct00037

    여기에서:
    - 화학식 (I) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
    - Y 는 1 내지 5 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
    - X = -OR' 이고;
    - R' 는
    * 수소 원자,
    * 포화 선형 C1-C4 알킬 라디칼, 또는
    * 포화 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고;
    Ra 는
    - 수소 원자,
    - 선형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고,
    단, X = OH 일 때, 화합물은 이러한 OH 를 보유하는 탄소에 알파인 에틸렌 이중 결합을 포함하지 않음.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 피부, 체모 또는 두발을 탈색소, 라이트닝 및/또는 표백하는 미용 방법:
    화합물 1. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(4-히드록시-3-메톡시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112020055916743-pct00041

    화합물 3. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(4-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112020055916743-pct00043

    화합물 9. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(2-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112020055916743-pct00049

    화합물 10. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(3-히드록시-3-메톡시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112020055916743-pct00050

    화합물 11. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(2,4-디-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112020055916743-pct00051

    화합물 12. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(3-에톡시-4-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112020055916743-pct00052

    화합물 16. 5,9-안히드로-1,2,4-트리데옥시-1-(3,4,5-트리메톡시페닐)-D-자일로노니톨
    Figure 112020055916743-pct00056
    .
  5. 제 1 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물이 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 피부, 체모 또는 두발을 탈색소, 라이트닝 및/또는 표백하는 미용 방법:
    화합물 11. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(2,4-디-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112018107140051-pct00057

    화합물 12. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(3-에톡시-4-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112018107140051-pct00058
    .
  6. 제 1 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물이 조성물의 총 중량에 대해 0.001 중량% 내지 10 중량%, 또는 0.01 중량% 내지 5 중량%, 또는 0.1 중량% 내지 2 중량% 범위의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는, 피부, 체모 또는 두발을 탈색소, 라이트닝 및/또는 표백하는 미용 방법.
  7. 제 1 항 및 제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (I) 의 화합물이 피부, 체모 또는 두발의 표백, 라이트닝 및/또는 탈색소제로서 사용되는 것을 특징으로 하는, 피부, 체모 또는 두발을 탈색소, 라이트닝 및/또는 표백하는 미용 방법.
  8. 하기 화학식 (II) 의 C-자일로사이드 화합물:
    Figure 112020055916743-pct00059

    여기에서:
    - 화학식 (II) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
    - Y 는 1 내지 3 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 피리딘을 나타내고;
    - X = -OR' 이고;
    R' 는
    * 수소 원자,
    * 포화 선형 C1-C4 알킬 라디칼, 또는
    * 포화 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고;
    Ra 는
    - 수소 원자,
    - 선형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타냄;
    및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 또는 수화물, 및 그의 입체이성질체.
  9. 하기 화학식 (III) 의 C-자일로사이드 화합물:
    Figure 112020055916743-pct00061

    여기에서:
    - 화학식 (III) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
    - Y 는 1 내지 3 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
    - X = -OR" 이고;
    - R' 는
    * 수소 원자,
    * 포화 선형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 포화 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고;
    - R" 는
    * 포화 선형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 포화 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고;
    Ra 는
    - 수소 원자,
    - 선형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타냄;
    및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 또는 수화물, 및 그의 입체이성질체.
  10. 하기 화학식 (IV) 의 C-자일로사이드 화합물:
    Figure 112020055916743-pct00063

    여기에서:
    - 화학식 (IV) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
    - Y 는 1 내지 3 개의 기 (ORa) 로 임의로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
    - X = -OH 이고;
    - R' 는
    * 포화 선형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 포화 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고;
    Ra 는
    - 수소 원자,
    - 선형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고,
    단, X = OH 일 때, 화합물은 이러한 OH 를 보유하는 탄소에 알파인 에틸렌 이중 결합을 포함하지 않음;
    및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 또는 수화물, 및 그의 입체이성질체.
  11. 하기 화학식 (V) 의 C-자일로사이드 화합물:
    Figure 112020055916743-pct00065

    여기에서:
    - 화학식 (V) 의 화합물은 자일로스 유도체이고;
    - Y 는 1 내지 5 개의 기 (ORa) 로 치환된 페닐 라디칼을 나타내고;
    - X = -OH 이고;
    - R' 는 수소 원자를 나타내고;
    Ra 는
    - 선형 C1-C4 알킬 라디칼 또는 분지형 C3-C4 알킬 라디칼을 나타내고,
    단, X = OH 일 때, 화합물은 이러한 OH 를 보유하는 탄소에 알파인 에틸렌 이중 결합을 포함하지 않음;
    및 또한 그의 미용적으로 허용가능한 염, 그의 용매화합물 또는 수화물, 및 그의 입체이성질체.
  12. 하기 화학식 13 또는 16 의 C-자일로사이드 화합물:
    화합물 13. 5,9-안히드로-1,2,4-트리데옥시-1-피리딘-3-일-D-자일로노니톨
    Figure 112020055916743-pct00072

    화합물 16. 5,9-안히드로-1,2,4-트리데옥시-1-(3,4,5-트리메톡시페닐)-D-자일로노니톨
    Figure 112020055916743-pct00075
    .
  13. 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 제 8 항에 청구된 하나 이상의 화학식 (II) 의 C-자일로사이드 화합물을 포함하는 조성물.
  14. 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 제 9 항에 청구된 하나 이상의 화학식 (III) 의 C-자일로사이드 화합물을 포함하는 조성물.
  15. 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 제 10 항에 청구된 하나 이상의 화학식 (IV) 의 C-자일로사이드 화합물을 포함하는 조성물.
  16. 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 제 11 항에 청구된 하나 이상의 화학식 (V) 의 C-자일로사이드 화합물을 포함하는 조성물.
  17. 생리적으로 허용가능한 매질 중에, 제 12 항에 청구된 하나 이상의 C-자일로사이드 화합물을 포함하는 조성물.
  18. 피부, 체모 또는 두발을 탈색소 (depigmenting), 라이트닝 (lightening) 및/또는 표백 (bleaching) 하기 위한 미용 조성물로서, 하기 화학식 11 의 C-자일로사이드 화합물을 포함하는 미용 조성물:
    화합물 11. (3R,4S,5R)-2-[2-히드록시-4-(2,4-디-히드록시페닐)부틸]테트라히드로-2H-피란-3,4,5-트리올
    Figure 112020055916743-pct00077
    .
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