KR102182155B1 - 이방성 색소막의 제조 방법, 그 제조 방법에 의해 제조된 이방성 색소막, 그 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자, 및 그 광학 소자를 포함하는 액정 소자 - Google Patents

이방성 색소막의 제조 방법, 그 제조 방법에 의해 제조된 이방성 색소막, 그 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자, 및 그 광학 소자를 포함하는 액정 소자 Download PDF

Info

Publication number
KR102182155B1
KR102182155B1 KR1020167002515A KR20167002515A KR102182155B1 KR 102182155 B1 KR102182155 B1 KR 102182155B1 KR 1020167002515 A KR1020167002515 A KR 1020167002515A KR 20167002515 A KR20167002515 A KR 20167002515A KR 102182155 B1 KR102182155 B1 KR 102182155B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
anisotropic dye
dye film
film
composition
forming
Prior art date
Application number
KR1020167002515A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20160065072A (ko
Inventor
고지 야마우치
미노루 도리고에
마사아키 모리
다케루 나카오
Original Assignee
미쯔비시 케미컬 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 미쯔비시 케미컬 주식회사 filed Critical 미쯔비시 케미컬 주식회사
Publication of KR20160065072A publication Critical patent/KR20160065072A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102182155B1 publication Critical patent/KR102182155B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface

Abstract

본 발명은, 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포할 때, 막 두께의 불균일이나 도포 줄무늬의 발생을 억제하여 균일한 도포막을 얻을 수 있는, 특정 형상의 립을 갖는 다이를 제공하는 것을 과제로 한다. 기판 상에 다이 코터를 사용하여 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포하는 공정을 포함하는 이방성 색소막을 제조하는 방법으로서, 상기 다이 코터는, 다이 코터의 진행 방향측에 위치하는 프론트 립과, 상기 진행 방향과는 반대측에 위치하는 리어 립을 갖고, 양 립은 각각 기판과 대향하는 립 하단면을 갖고, 상기 프론트 립의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 A, 상기 리어 립의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 B 라고 하면, A ＞ B 이고, 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도가 10 cP 이상인 것을 특징으로 하는 이방성 색소막의 제조 방법에 의해 상기 과제를 해결한다.

Description

이방성 색소막의 제조 방법, 그 제조 방법에 의해 제조된 이방성 색소막, 그 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자, 및 그 광학 소자를 포함하는 액정 소자{METHOD FOR MANUFACTURING ANISOTROPIC DYE FILM, ANISOTROPIC DYE FILM MANUFACTURED BY SAID MANUFACTURING METHOD, OPTICAL ELEMENT INCLUDING SAID ANISOTROPIC DYE FILM, AND LIQUID CRYSTAL ELEMENT INCLUDING SAID OPTICAL ELEMENT}
본 발명은 다이를 사용한 이방성 색소막의 제조 방법, 그 제조 방법에 의해 제조된 이방성 색소막, 그 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자, 및 그 광학 소자를 포함하는 액정 소자에 관한 것이다.
액정 디스플레이 (LCD) 에서는, 표시에 있어서의 선광성이나 복굴절성을 제어하기 위해 직선 편광막이나 원 편광막이 사용되고 있다. 또, 유기 EL 디스플레이 등의 발광형 표시 소자나 터치 패널 등의 입출력 소자에 있어서도, 외광의 반사 방지를 위해 원 편광막이 사용되고 있다.
이들 편광막 (이하,「이방성 색소막」이라고 칭하는 경우가 있다) 의 형성 기술에는, 폴리비닐알코올 등의 고분자 필름에 이색성 물질 (요오드나 색소) 을 함침하여 연신하는 방법 (이하,「연신법」이라고 칭하는 경우가 있다) 과, 액정성 색소를 도포하여 제조하는 방법 (이하,「도포법」이라고 칭하는 경우가 있다) 의 2 종류가 있다. 연신법에서는, 편광막 성형에 상기와 같은 복잡한 공정이 필요하고, 또한 편광막을 LCD 의 광학 소자 (편광 소자) 로서 사용하기 위해서는 편광막을 유리 기판에 접착하는 공정이 필요하다. 또, 편광막의 제조뿐만 아니라, 접착제나 접착 공정의 기술도 필요하기 때문에 일반적으로는 고비용이다. 한편 도포법에서는, 유리 기판 등에 액정성 색소를 직접 도포하는 공정뿐이기 때문에, 간편하게 편광막을 얇게 하는 것이 가능하여 일반적으로는 저비용이다.
도포법으로는, 예를 들어, 막 두께의 불균일이나 도포 줄무늬의 발생 억제, 도포 속도의 향상을 목적으로 하여, 프리 스팬법을 이용하여 편광막을 연속으로 제조하는 방법이 개시되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조). 또, 편광막의 이색비 및 막의 균일성을 향상시키는 것을 목적으로 하여, 도포액의 점도를 특정한 값 이하로 하는 것이 개시되어 있다 (특허문헌 2 참조). 또한, 편광막의 이색비를 향상시키는 것을 목적으로 하여, 도포 속도를 빠르게 하는 것이 개시되어 있다 (특허문헌 3 참조).
한편, 폴리머를 함유하는 고점도의 도포액을 기재 필름 상에 도포하고, 외관 불량이 없는 균일한 막 두께의 피복을 형성하는 것을 목적으로 하여, 다이 코터에 있어서의 도포 프론트측의 분위기를 감압으로 하는 방법이 개시되어 있다 (특허문헌 4 참조).
또, 컬러 필터 용도로서, 유리 등의 딱딱한 기판 상에 용이하게 토출할 수 있고, 균일한 막 두께를 얻는 것을 목적으로 하여, 특정한 형상의 다이 코터를 사용하는 것이 개시되어 있다 (특허문헌 5 참조).
일본 공개특허공보 2007-61755호 일본 공개특허공보 2007-93938호 국제 공개 2009/022494호 팜플렛 일본 공개특허공보 2008-714호 일본 공개특허공보 평9-131559호
그러나, 상기 특허문헌 1 ∼ 5 에서는, 이방성 색소막의 편광 성능 등을 향상시키는 것을 목적으로 하여, 이방성 색소막 형성용 조성물을 다이 코터를 사용하여 도포할 때에 사용하는 다이의 형상 및 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도 등의 제조 방법에 관하여 검토는 이루어져 있지 않다.
편광막의 편광 성능을 향상시키는 방법으로서, 특허문헌 2 및 3 의 방법이 예시되어 있지만, 여전히 편광 성능의 향상은 충분하지 않았다. 또한, 특허문헌 3 과 같이 도포 속도를 빠르게 한 경우, 액 끊김이 일어나기 쉬워지고, 도포 결함이 발생하기 쉬운 것을 본 발명자는 알아내었다.
한편, 특허문헌 4 에는 다이 코터를 사용한 도포 방법이 개시되어 있고, 특허문헌 5 에는 다이의 형상에 관하여 개시되어 있다. 그러나, 이방성 색소막 용도 이외에 적합한 방법으로서 개시되어 있는 것으로, 이방성 색소막에 특유의 과제에 관하여 검토되어 있지 않아, 특허문헌 4 및 5 를 이방성 색소막의 제조 방법으로 전용하는 것은 곤란하다. 또, 특허문헌 1 및 4 에 개시된 방법에서는, 연속 도포법에만 사용할 수 있어 매엽법에 적용할 수 없었다.
본 발명은, 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포할 때, 편광 성능이 우수하고, 또한 막 두께의 불균일이나 도포 줄무늬의 발생을 억제하여 균일한 도포막을 얻을 수 있는, 특정 형상의 립을 갖는 다이 및 특정한 이방성 색소막 형성용 조성물을 사용한 이방성 색소막의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
후술하는 습식 성막법에 의해 이방성 색소막을 얻기 위해서는, 이방성 색소막 형성용 조성물에 함유되는 색소가 회합된 색소 칼럼을 배향시킬 필요가 있다. 그러나, 이방성 색소막 형성용 조성물 특유의 유동성, 배향성 등의 특성이 있기 때문에, 단순히 다이 코터를 사용한 것만으로는, 이방성 색소의 높은 유동 배향성을 얻을 수 없다.
통상적으로, 다이 코터를 사용하여 얇은 막을 도포하는 경우, 진행 방향과는 반대측에 위치하는 리어 립 (이하, 하류측 립이라고 표현하는 경우가 있다) 의 하단면에 있어서의 진행 방향을 따른 길이를, 진행 방향측에 위치하는 프론트 립 (이하, 상류측 립이라고 표현하는 경우가 있다) 의 하단면에 있어서의 진행 방향을 따른 길이보다 길게 함으로써, 기판 계면과의 전단력을 강하게 하는 것이 알려져 있다. 한편, 도포시의 리어 립의 액이 고인 곳 (이하, 리어 또는 프론트 립의 액이 고인 곳을, 도포 비트라고 표현하는 경우가 있다) 에는, 순환 흐름에 의한 소용돌이가 발생하는 것이 알려져 있다.
본 발명자의 검토에 의하면, 순환 흐름에 의한 소용돌이는, 기판 계면과의 전단력에 의한 이방성 색소막 형성용 조성물의 배향을 교란하기 때문에, 리어 립의 길이를 길게 해도 전단력에 의한 배향은 촉진되지 않고, 오히려 저해되는 경향이 있었다.
한편, 다이 코터를 사용한 도포에서는, 도포 개시시에 다이 슬롯 중에 균일하게 도포액이 충전되고, 또한 다이 립 부분과 도포면 사이에 적당한 액량을 갖는 것이, 막 두께의 불균일이나 도포 줄무늬 등의 도포 결손을 발생시키지 않기 위해 중요하다. 특히 매엽법의 경우에는, 도포하는 모든 기판에 도포 개시부가 있기 때문에, 도포 개시시의 다이 코터 및 도포액의 액량의 조정이 중요해진다.
본 발명자들은, 상기 지견에 기초하여 추가로 검토를 진행하여, 높은 배향성을 갖고, 편광 성능이 우수하고, 막 두께의 불균일이나 도포 줄무늬의 발생을 억제하여 균일한 이방성 색소막을 얻는 방법을 검토한 결과, 이방성 색소막 형성용 조성물의 도포에 사용하는 특정한 형상의 다이 및 특정한 이방성 색소막 형성용 조성물을 사용함으로써, 이것을 달성할 수 있는 것에 상도하여 본 발명을 완성시켰다.
본 발명의 제 1 실시양태는, 기판 상에 다이 코터를 사용하여 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포하는 공정을 포함하는 이방성 색소막을 제조하는 방법으로서, 상기 다이 코터는, 다이 코터의 진행 방향측에 위치하는 프론트 립과, 상기 진행 방향과는 반대측에 위치하는 리어 립을 갖고, 양 립은 각각 기판과 대향하는 립 하단면을 갖고, 상기 프론트 립의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 A, 상기 리어 립의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 B 라고 하면, A ＞ B 이고, 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도가 10 cP 이상인 것을 특징으로 하는 이방성 색소막의 제조 방법이다.
상기 제조 방법은, 상기 B 가 0.03 ㎜ 이상, 2 ㎜ 이하인 것이 바람직하다.
또, 상기 제조 방법은, 이방성 색소막 형성용 조성물이 아조 화합물 및 용매를 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 제 2 실시양태는, 상기 제조 방법에 의해 얻어진 이방성 색소막이다.
본 발명의 제 3 실시양태는, 상기 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자이다.
본 발명의 제 4 실시양태는, 상기 광학 소자를 포함하는 액정 소자이다.
본 발명의 제조 방법에 의해 편광 성능이 우수한 이방성 색소막을 얻을 수 있다. 또, 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포할 때, 막 두께의 불균일이나 도포 줄무늬의 발생을 억제하여 균일한 이방성 색소막을 얻을 수 있다.
도 1 은, 다이 립 부분의 확대도이다.
도 2 는, 다이 코터의 구체적 실시양태를 나타내는 모식도이다.
이하, 본 발명에 대해 구체적인 양태를 나타내면서 상세하게 설명하지만, 본 발명은 예시하는 구체적 양태에 한정되지 않는 것은 말할 것도 없다.
본 발명의 제 1 실시양태는, 기판 상에 다이 코터를 사용하여 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포하는 공정을 포함하는 이방성 색소막을 제조하는 방법으로서, 상기 다이 코터는, 다이 코터의 진행 방향측에 위치하는 프론트 립과, 상기 진행 방향과는 반대측에 위치하는 리어 립을 갖고, 양 립은 각각 기판과 대향하는 립 하단면을 갖고, 상기 프론트 립의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 A, 상기 리어 립의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 B 라고 하면, A ＞ B 이고, 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도가 10 cP 이상인 것을 특징으로 하는 이방성 색소막의 제조 방법에 관한 것이다.
본 실시양태에 관련된 제조 방법에 의해 높은 배향성을 갖고, 편광 성능이 우수하고, 막 두께의 불균일이나 도포 줄무늬의 발생을 억제하여 균일한 이방성 색소막을 얻을 수 있는 이유는 확실하지 않지만, 이하와 같이 추측된다.
리어 립의 하단면에 있어서의 진행 방향을 따른 길이 B 에 대해, 프론트 립의 하단면에 있어서의 진행 방향을 따른 길이 A 를 A ＞ B 로 한 경우, 리어 립의 도포 비트에 발생하는 소용돌이가 저감된다. 한편으로, 다이 슬롯부로부터 유출되는 이방성 색소막 형성용 조성물은, 슬롯 폭 (예를 들어, 50 ㎛ 이상) 으로부터, 이방성 색소막 형성용 조성물의 도포막 두께 (예를 들어, 수 ㎛) 까지 늘어날 때에 큰 신장 변형을 수용한다. 또, 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도가 특정한 값 이상임으로써, 이 신장 변형에 의한 응력이 유효하게 작용한다. 요컨대, 기판 계면과의 전단력을 강하게 하지 않아도, 양호한 배향 상태가 얻어진다.
또, A ＞ B 임으로써, 리어 립의 도포 비트가 적량이 되고, 또한 리어 립의 도포 비트가 프론트 립의 도포 비트에 대해 적량이 되는 점에서, 리어 립의 도포 비트가 과잉으로 체류되지 않아, 도포면에 적용하는 도포액을 적량으로 유지할 수 있다. 이 성질에 의해 기판에 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포할 때, 막 두께의 불균일이나 도포 줄무늬의 발생을 억제하여 균일한 도포막을 얻을 수 있다.
(이방성 색소막)
이방성 색소막은, 막의 두께 방향 및 임의의 직교하는 면 내 2 방향의 입체 좌표계에 있어서의 합계 3 방향에서 선택되는 임의의 2 방향에 있어서의 전자기학적 성질에 이방성을 갖는 광학막이다. 전자기학적 성질로는, 흡수, 굴절 등의 광학적 성질, 저항, 용량 등의 전기적 성질 등을 들 수 있다. 흡수, 굴절 등의 광학적 이방성을 갖는 막으로는, 예를 들어, 직선 편광층, 원 편광층, 위상차막, 도전 이방성막 등이 있다. 본 실시형태에 있어서의 이방성 색소막은, 이방성 색소막 이외에도 위상차막, 도전 이방성막으로서도 바람직하게 사용하는 것이 가능하다.
본 실시양태에 의해 얻어지는 이방성 색소막의 가시광 파장 영역에 있어서의 투과율은 바람직하게는 25 ％ 이상이다. 35 ％ 이상이 더욱 바람직하고, 40 ％ 이상이 특히 바람직하다. 또, 상한은 특별히 없으며, 용도에 따른 상한이면 되는데, 예를 들어 편광도를 높게 하는 경우에는 50 ％ 이하인 것이 바람직하다. 투과율이 특정 값 이상임으로써, 하기 광학 소자로서 유용하고, 특히 컬러 표시에 사용하는 액정 디스플레이용의 광학 소자로서 유용하다.
본 실시양태에 의해 얻어지는 이방성 색소막을 편광 소자로서 사용하는 경우에는, 이방성 색소막의 배향 특성은 이색비를 사용하여 나타낼 수 있다. 이색비는 8 이상이면 편광 소자로서 기능하지만, 바람직하게는 25 이상이고, 30 이상이 더욱 바람직하고, 35 이상이 특히 바람직하다. 또, 이색비는 높을수록 바람직하고, 상한은 없다. 이색비가 특정 값 이상임으로써, 하기에 서술하는 광학 소자, 특히 편광 소자로서 유용하다.
본 실시양태에서 말하는 이색비 (D) 란, 이방성 색소가 일정하게 배향되어 있는 경우, 이하의 식으로 나타낸다.
D ＝ Az/Ay
여기서, Az 는 이방성 색소막에 입사된 광의 편광 방향이 이방성 색소의 배향 방향에 평행한 경우에 관측되는 흡광도이고, Ay 는 그 편광 방향이 수직인 경우에 관측되는 흡광도이다. 각각의 흡광도는 동일한 파장의 것을 사용하면 특별히 제한 없이, 목적에 따라 어느 파장을 선택해도 되지만, 이방성 색소막의 배향의 정도를 나타내는 경우에는, 이방성 색소막의 극대 흡수 파장에 있어서의 값을 사용하는 것이 바람직하다.
본 실시양태에 의해 얻어지는 이방성 색소막을 편광 소자로서 사용하는 경우에는, 이방성 색소막의 배향 특성을 편광도로 나타낼 수 있다. 편광도는, 단체 투과율이 36 ％ 이상이며, 통상적으로 95 ％ 이상이고, 98 ％ 이상이 바람직하고, 99 ％ 이상이 더욱 바람직하다. 또, 편광도는 높을수록 바람직하고, 최대값은 100 ％ 이다. 편광도가 상기에 나온 수치 이상임으로써, 하기 광학 소자, 특히 편광 소자로서 유용하다.
각각의 투과율은 동일한 파장의 것을 사용하면 특별히 제한 없이, 목적에 따라 어느 파장을 선택해도 되지만, 이방성 색소막의 배향의 정도를 나타내는 경우에는, 이방성 색소막의 극대 흡수 파장에 있어서의 값을 사용하는 것이 바람직하다.
구체적으로는, JIS Z 8701 에 의해 Tz 및 Ty 의 D65 광원 2 °시야에 있어서의 자극값 Y 로부터 이방성 색소막의 흡수축 방향의 편광에 대한 시감도 보정 투과율 및 이방성 색소막의 편광축 방향의 편광에 대한 시감도 보정 투과율을 산출하고, 하기 식에 의해 편광도를 산출할 수 있다.
편광도 (P) (％) ＝ {(Yy － Yz)/(Yy ＋ Yz)}1/2 × 100
Yz : 이방성 색소막의 흡수축 방향의 편광에 대한 시감도 보정 투과율
Yy : 이방성 색소막의 편광축 방향의 편광에 대한 시감도 보정 투과율
본 실시양태에 의해 얻어지는 이방성 색소막의 막 두께는, 건조 막 두께로서 바람직하게는 10 ㎚ 이상, 더욱 바람직하게는 50 ㎚ 이상이다. 한편, 바람직하게는 30 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 1 ㎛ 이하이다. 이방성 색소막의 막 두께가 적당한 범위에 있음으로써, 막 내에서 분자의 균일한 배향 및 균일한 막 두께가 얻어지는 경향이 있다.
본 실시양태에 있어서, 이방성 색소막에는 불용화 처리를 실시해도 된다. 불용화란, 이방성 색소막 중의 화합물의 용해성을 저하시킴으로써, 그 화합물의 이방성 색소막으로부터의 용출을 제어하여, 막의 안정성을 높이는 처리 공정을 의미한다. 구체적으로는, 예를 들어 적은 가수의 이온을 그것보다 큰 가수의 이온으로 치환하는 (예를 들어, 1 가의 이온을 다가의 이온으로 치환하는) 처리나, 이온기를 복수 갖는 유기 분자나 폴리머로 치환하는 처리를 들 수 있다. 이와 같은 처리 방법으로는, 예를 들어, 호소다 유타카 저「이론 제조 염색 화학」(기보당, 1957년) 435 ∼ 437 페이지 등에 기재되어 있는 처리 공정 등의 공지된 방법을 이용할 수 있다.
바람직하게는, 얻어진 이방성 색소막을 일본 공개특허공보 2007-241267호 등에 기재된 방법으로 처리하고, 물에 대해 불용성의 이방성 색소막으로 하는 것이 후공정의 용이함 및 내구성 등의 면에서 바람직하다.
(이방성 색소막 형성용 조성물)
이방성 색소막의 형성에 사용되는 이방성 색소막 형성용 조성물은, 막을 형성하였을 때에 상기 이방성을 발현하고, 후술하는 성질을 갖고 있으면 특별히 한정되지 않는다. 본 실시양태에서는, 도포에 의해 기판 상에 이방성 색소막을 성막하는 점에서, 이와 같은 이방성 재료와 용제를 함유하는 이방성 색소막 형성용 조성물을 사용한다.
(이방성 색소막 형성용 조성물의 점도)
본 실시양태에 있어서의 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도는 10 cP 이상이면 특별히 한정되지 않는다. 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도는, 함유되는 색소, 용매, 첨가물 등의 특성에 맞추어 얻어지는 이방성 색소막의 편광 성능이 원하는 값이 되도록 적절히 조정할 수 있다.
본 실시양태에 있어서의 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도는, 통상적으로 10 cP 이상이고, 바람직하게는 15 cP 이상, 더욱 바람직하게는 20 cP 이상, 특히 바람직하게는 25 cP 이상이다. 또, 바람직하게는 100 cP 이하, 더욱 바람직하게는 80 cP 이하, 특히 바람직하게는 60 cP 이하이다. 상기 범위임으로써, 특정한 다이 코터를 사용하였을 때의 이방성 색소막 형성용 조성물이 받는 신장 변형에 의한 응력이 유효하게 작용하여, 높은 배향성을 갖고, 편광 성능이 우수한 이방성 색소막을 얻을 수 있는 경향이 있다.
측정 점도는, 레오 미터 VAR-50 (REOLOGICA 사 제조), 패러렐 플레이트 (직경 40 ㎜, 갭 0.8 ㎜) 를 사용하고, 측정 온도를 25 ℃ 로 하고, 전단 속도 1000 s-1 로 5 초간 프리쉐어를 실시한 후, 전단 속도를 1000 s-1 에서 100 s-1 까지 180 초 동안 변화시켜, 전단 속도 소인 측정에 있어서의 값을 가리킨다.
본 실시양태에 있어서의 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도를 조정하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 색소, 용매, 첨가물 등의 첨가량 및 조합 등에 따라 조정할 수 있다.
본 실시양태에 있어서의 이방성 색소막 형성용 조성물의 pH 는 7 미만인 것이 기판 표면의 젖음성 개선의 관점에서 바람직하다. 도포 스텝은, 매엽 방식으로 실시해도 되고, 롤·투·롤 방식으로 실시해도 되지만, 전술한 바와 같이 매엽 방식으로 실시하는 경우에 본 실시양태는 바람직하게 적용된다.
이방성 색소막 형성용 조성물은, 조성물로서 액정상의 상태인 것이 용제가 증발된 후에 형성되는 이방성 색소막을 고배향도로 형성하는 관점에서 바람직하다. 또한, 본 실시양태에 있어서 액정상의 상태라는 것은,「액정의 기초와 응용」(마츠모토 쇼우이치·츠노다 이치로 저, 1991) 의 1 ∼ 16 페이지에 기재되어 있는 상태를 가리킨다. 특히 3 페이지에 기재되어 있는 네마틱상이 바람직하다.
재료로는, 이방성 색소막을 형성할 수 있는 것이면 되고, 색소나 투명 재료를 들 수 있다.
또, 이방성 색소막 형성용 조성물에는, 필요에 따라 바인더 수지, 모노머, 경화제 및 첨가제 등이 배합되어도 된다. 이방성 색소막 형성용 조성물의 양태로는 용액상이어도 되고, 겔상이어도 된다. 이방성 색소막 형성용 조성물은, 용제 중에 색소 등이 용해 또는 분산되어 있는 상태여도 된다.
(색소)
색소에 대해서는 통상적으로 이색성 색소가 사용된다. 이색성 색소로는, 액정을 발현하는 색소 및 서모트로픽 액정을 발현하는 색소 등을 들 수 있으며, 어떤 것을 사용해도 된다.
본 실시양태에 있어서, 색소는 배향 제어를 위해 액정상을 갖는 색소인 것이 바람직하다. 여기서, 액정상을 갖는 색소란, 용제 중에서 리오트로픽 액정성을 나타내는 색소를 의미하며, 이방성 색소막 형성용 조성물로 하였을 때에 액정상을 발현하고 있어도 되고, 발현하고 있지 않아도 되지만, 전술한 바와 같이 액정상의 상태인 것이 바람직하다.
또, 색소는, 이방성 색소막 형성용 조성물이 액정상을 발현하기 위해, 및 후술하는 습식 성막법에 제공하기 위해, 물이나 유기 용매에 가용인 것이 바람직하고, 특히 수용성인 것이 바람직하다. 더욱 바람직한 것은,「유기 개념도-기초와 응용」(코다 요시오, 산쿄 출판, 1984년) 에서 정의되는 무기성 값이 유기성 값보다 작은 화합물이다. 또, 염형을 취하지 않는 유리 (遊離) 의 상태에서, 그 분자량이 200 이상인 것이 바람직하고, 300 이상인 것이 특히 바람직하고, 또 1500 이하인 것이 바람직하고, 1200 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 수용성이란, 실온에서 화합물이 물에 통상적으로 0.1 질량％ 이상, 바람직하게는 1 질량％ 이상 용해되는 것을 말한다.
본 실시양태에서는, 색소는 1 종만을 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 2 종류 이상 조합하는 경우, 이방성 색소막 형성용 조성물이 액정상을 발현하기 위해서는, 적어도 1 종이 액정상을 발현하는 색소이면 된다.
색소로서, 구체적으로는 아조계 색소, 스틸벤계 색소, 시아닌계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 축합 다환계 색소 (페릴렌계, 옥사진계) 등을 들 수 있다.
예를 들어, 일본 공개특허공보 2006-079030호, 일본 공개특허공보 2010-168570호, 일본 공개특허공보 2007-302807호, 일본 공개특허공보 2008-081700호, 일본 공개특허공보 평09-23012호, 일본 공개특허공보 2007-272211호, 일본 공개특허공보 2007-186428호, 일본 공개특허공보 2008-69300호, 일본 공개특허공보 2009-169341호, 일본 공개특허공보 2009-161722호, 일본 공개특허공보 2009-173849호, 일본 공개특허공보 2010-039154호, 일본 공개특허공보 2010-180314호, 일본 공개특허공보 2010-266769호, 일본 공개특허공보 2011-012152호, 일본 공개특허공보 2011-016922호, 일본 공개특허공보 2010-100059호, 일본 공개특허공보 2011-141331호, 그리고 일본 공표특허공보 평08-511109호, 일본 공표특허공보 2001-504238호 및 일본 공개특허공보 2006-48078호 등에 기재된 색소를 들 수 있다.
또한, 이들 색소 중에서도, 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도를 본 실시양태의 범위로 하기 쉽고, 또 이방성 색소막 중에서 높은 분자 배열을 취할 수 있기 때문에, 아조계 색소가 바람직하다. 아조계 색소란, 아조기를 적어도 1 개 이상 갖는 색소를 말한다. 그 1 분자 중의 아조기의 수는 2 이상이 바람직하고, 6 이하가 바람직하다. 또, 4 이하가 더욱 바람직하다. 아조기가 적당한 수임으로써, 파장 분산성이 낮고, 가시 영역에 광역으로 흡수를 갖는 색조가 얻어지고, 또 제조가 용이해지는 경향이 있다.
아조계 색소 중에서도, 유리산의 형태로 이하 식 (A) 의 구조를 갖는, 디스아조, 트리스아조 및 테트라키스아조의 각 색소가 파장 분산성이 낮고, 가시 영역에 광역으로 흡수를 갖는 색조가 얻어지는 점에서 바람직하다.
[화학식 1]
Figure 112016009470179-pct00001
상기 식 (A) 에 있어서, E1 은 임의의 유기기를 나타내고, R20 및 R21 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타내고, p 및 q 는 각각 독립적으로 1 이상, 5 이하의 정수이고, 또한 p ＋ q 가 2 이상, 6 이하를 나타낸다.
또한 상기 식 (A) 의 구조 중에서도, 유리산의 형태로 이하 식 (B) 의 구조를 갖는 디스아조, 트리스아조 및 테트라키스아조의 각 색소가 파장 분산성이 낮고, 가시 영역에 광역으로 흡수를 갖는 색조가 얻어지고, 또한 이방성 색소막으로 한 경우에 높은 이색성이 얻어지는 점에서 특히 바람직하다.
[화학식 2]
Figure 112016009470179-pct00002
상기 식 (B) 에 있어서, E2 는 임의의 유기기를 나타내고, R22 및 R23 은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다.
본 실시양태에 있어서의 색소는 유리산의 형태인 채로 사용해도 되고, 산기의 일부가 염형을 취하고 있는 것이어도 된다. 또, 염형의 색소와 유리산형의 색소가 혼재되어 있어도 된다. 또, 제조시에 염형으로 얻어진 경우에는 그대로 사용해도 되고, 원하는 염형으로 변환해도 된다. 염형의 교환 방법으로는, 공지된 방법을 임의로 사용할 수 있으며, 예를 들어 이하의 방법을 들 수 있다.
1) 염형으로 얻어진 색소의 수용액에 염산 등의 강산을 첨가하고, 색소를 유리산의 형태로 산석 (酸析) 시킨 후, 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화리튬 수용액) 으로 색소 산성기를 중화하고 염 교환하는 방법.
2) 염형으로 얻어진 색소의 수용액에 원하는 카운터 이온을 갖는 대과잉의 중성염 (예를 들어, 염화리튬) 을 첨가하고, 염석 케이크의 형태로 염 교환을 실시하는 방법.
3) 염형으로 얻어진 색소의 수용액을, 강산성 양이온 교환 수지로 처리하고, 색소를 유리산의 형태로 산석시킨 후, 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화리튬 수용액) 으로 색소 산성기를 중화하고 염 교환하는 방법.
4) 미리 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화리튬 수용액) 으로 처리한 강산성 양이온 교환 수지에 염형으로 얻어진 색소의 수용액을 작용시키고, 염 교환을 실시하는 방법.
또, 본 실시양태에 있어서의 색소가 갖는 산성기가 유리산형이 될지, 염형이 될지는 색소의 pKa 와 색소 수용액의 pH 에 의존한다.
상기 염형의 예로는, Na, Li, K 등의 알칼리 금속의 염, 알킬기 혹은 하이드록시알킬기로 치환되어 있어도 되는 암모늄의 염, 또는 유기 아민의 염을 들 수 있다. 유기 아민의 예로서, 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민, 하이드록시 치환된 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민, 카르복시 치환된 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민 등을 들 수 있다. 이들 염형의 경우, 그 종류는 1 종류에 한정되지 않고 복수종 혼재되어 있어도 된다.
또, 색소는 단독으로 사용할 수 있지만, 이들의 2 종 이상을 병용해도 되고, 또 배향을 저하시키지 않을 정도로 상기 예시 색소 이외의 색소를 배합하여 사용할 수도 있다. 이로써 각종 색상을 갖는 이방성 색소막을 제조할 수 있다.
다른 색소를 배합하는 경우의 배합용 색소의 예로는, C. I. Direct Yellow 12, C. I. Direct Yellow 34, C. I. Direct Yellow 86, C. I. Direct Yellow 142, C. I. Direct Yellow 132, C. I. Acid Yellow 25, C. I. Direct Orange 39, C. I. Direct Orange 72, C. I. Direct Orange 79, C. I. Acid Orange 28, C. I. Direct Red 39, C. I. Direct Red 79, C. I. Direct Red 81, C. I. Direct Red 83, C. I. Direct Red 89, C. I. Acid Red 37, C. I. Direct Violet 9, C. I. Direct Violet 35, C. I. Direct Violet 48, C. I. Direct Violet 57, C. I. Direct Blue 1, C. I. Direct Blue 67, C. I. Direct Blue 83, C. I. Direct Blue 90, C. I. Direct Green 42, C. I. Direct Green 51, C. I. Direct Green 59 등을 들 수 있다.
(용매)
용매로는, 상기 화합물을 용해 또는 분산시키는 것이면 특별히 제한은 없다. 특히, 색소가 용매 중에서 리오트로픽 액정과 같은 회합 상태를 형성하기 쉬운 점에서, 물, 수혼화성이 있는 유기 용제, 혹은 이들의 혼합물이 적합하다. 유기 용제의 구체예로는, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올, 글리세린 등의 알코올류, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜 등의 글리콜류, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류 등의 단독 또는 2 종 이상의 혼합 용제를 들 수 있다.
상기 중에서도, 색소의 방향족 고리 등의 유기성이 높은 부분끼리에서의 회합을 촉진시키는 점에서, 물, 메탄올 및 에탄올이 바람직하고, 물이 특히 바람직하다.
이방성 색소막 형성용 조성물 중의 색소의 농도로는, 성막 조건에 따라 다르기도 하지만, 바람직하게는 0.01 질량％ 이상, 더욱 바람직하게는 0.1 질량％ 이상이고, 바람직하게는 50 질량％ 이하, 더욱 바람직하게는 30 질량％ 이하이다. 색소 농도가 과도하게 낮으면, 조성물 중에서의 색소의 회합이 불충분해져, 얻어지는 이방성 색소막에 있어서 충분한 이색비 등의 이방성을 얻을 수 없고, 과도하게 높으면, 점도가 높아져 균일한 박막 도포가 어려워지거나, 이방성 색소막 형성용 조성물 중에서 이방성 재료가 석출되거나 하는 경우가 있다.
이방성 색소막 형성용 조성물에는, 추가로 필요에 따라 계면 활성제, 레벨링제, 커플링제, pH 조정제 등의 첨가제를 배합할 수 있다. 첨가제에 의해 젖음성, 도포성 등을 향상시킬 수 있는 경우가 있다.
계면 활성제로는, 아니온성, 카티온성 및 논이온성 중 어느 것도 사용할 수 있다. 그 첨가 농도는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 첨가한 효과를 얻기 위해 충분하고, 또한 분자의 배향을 저해하지 않는 양으로서, 이방성 색소막 형성용 조성물 중의 농도로서 통상적으로 0.01 질량％ 이상이 바람직하고, 0.1 질량％ 이상이 더욱 바람직하다. 또, 5 질량％ 이하가 바람직하고, 1 질량％ 이하가 더욱 바람직하고, 0.5 질량％ 이하가 특히 바람직하다.
또, 이방성 색소막 형성용 조성물 중에서의 이방성 재료의 조염이나 응집 등의 불안정성을 억제하는 등의 목적을 위해, 공지된 산/알칼리 등의 pH 조정제 등을 이방성 색소막 형성용 조성물의 구성 성분의 혼합 전후 혹은 혼합 중 중 어느 시기에 첨가해도 된다. 또한, 상기 이외의 첨가제로서 "Additive for Coating", Edited by J. Bieleman, Willey-VCH (2000) 에 기재된 공지된 첨가제를 사용할 수도 있다.
(기판)
본 실시형태에 있어서의 기판으로는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 양호한 표면 성상, 접촉각 특성과 흡수 특성을 갖는 기판인 것이 바람직하다. 그와 같은 기판을 형성하는 기재로는, 예를 들어, 유리 등의 무기 재료 ; 트리아세테이트계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 트리아세틸셀룰로오스계 수지, 노르보르넨계 수지, 고리형 폴리올레핀계 수지 또는 우레탄계 수지 등의 고분자 재료 등을 들 수 있다. 이들은 1 종을 단독으로, 또는 2 종 이상을 병용해도 된다. 특히 기판은 고분자 재료를 함유하는 고분자 기재를 포함하는 기판인 것이 바람직하다.
기판의 흡수율로는, 통상적으로 5 ％ 이하, 바람직하게는 3 ％ 이하, 보다 바람직하게는 1 ％ 이하이다. 흡수율이 과도하게 크면, 도포법으로 색소 등의 이방성 재료의 막을 형성할 때에 기판이 흡습되어 기판이 휘고, 도포 결함이 발생하기 쉬워지는 경우가 있다. 또, 도포법으로 이방성 색소막이 형성된 후에 기판이 팽윤되어 광학 결함이 발생하는 경우가 있다.
또한, 본 실시형태에 있어서의「흡수율」이란, ASTM D570 의 시험 방법을 사용하여, 23 ℃ 의 물에 4 시간 침지시켰을 때의 중량 변화율을 측정한 값이다.
기판의 이방성 색소막이 형성되는 면에는, 이방성 색소막에 함유되는 색소 등의 이방성 재료를 보다 양호하게 일정 방향으로 배향시키는 관점에서, 미리 배향 처리층 등을 형성할 수 있다. 배향 처리층의 형성 방법에 대해서는「액정 편람」(마루젠 주식회사, 2000년 10월 30일 발행) 226 페이지 ∼ 239 페이지 등에 기재된 공지된 방법에 따를 수 있다.
또, 기판의 형상으로는, 일정 치수의 필름상 (매엽상) 이어도 되고, 연속 필름상 (롤상) 이어도 된다. 또, 기판의 막 두께로는, 통상적으로 0.01 ㎜ 이상, 바람직하게는 0.02 ㎜ 이상이고, 통상적으로 3 ㎜ 이하, 바람직하게는 2 ㎜ 이하이다.
기판의 전광선 투과율로는, 통상적으로 80 ％ 이상, 바람직하게는 85 ％ 이상, 보다 바람직하게는 90 ％ 이상이다. 또한, 본 실시형태에 있어서의「전광선 투과율」이란, 적분구색 측정 장치를 사용하여 측정되는 것으로, 확산 투과광과 평행 광선 투과광을 합친 값이다.
(다이)
도 1 은, 다이 (101) 의 선단 부분인 다이 립의 확대도이고, 도 2 에 나타내는 다이 (101) 의 a-a' 방향의 절단면을 나타내는 도면이다. 도 1 에 있어서는, 다이 (101) 에 의해 화살표 (D) 의 방향을 향하여 도포를 실시하고, 진행 방향측이 프론트 (상류) 이다. 본 실시양태에 있어서의 다이 (101) 는, 프론트측 다이 (101a) 와 리어측 다이 (101b) 를 구비한다. 이들 프론트측 다이 (101a) 와 리어측 다이 (101b) 의 내면은, 소정 간격을 두고 대향하여 배치되고, 이방성 색소막 형성용 조성물 (103) 을 토출하는 슬롯 (106) 을 형성하고 있다.
상기한 바와 같이, 본 실시양태에 있어서의 다이 (101) 는 그 선단 부분에 있어서, 다이 코터의 진행 방향측에 위치하는 프론트 립 (102a) 과, 상기 진행 방향과는 반대측에 위치하는 리어 립 (102b) 을 갖고, 양 립은 각각 기판과 대향하는 립 하단면을 갖고, 상기 프론트 립 (102a) 의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 A, 상기 리어 립 (102b) 의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 B 라고 하면, A ＞ B 가 되도록 설계된다.
(A)
A 의 길이는 통상적으로 0.5 ㎜ 이상이고, 바람직하게는 0.7 ㎜ 이상이고, 보다 바람직하게는 1 ㎜ 이상이다. 한편, 통상적으로 2.5 ㎜ 이하이고, 바람직하게는 2.0 ㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 1.5 ㎜ 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.2 ㎜ 이하이다.
이들 범위임으로써, 립부와 도포면의 액량을 적당히 유지하고, 립부의 도포 개시시 및 도포 중의 액 확산 (액 이어짐) 을 양호하게 하여, 도포액 부족에 의한 도포 중의 도포 줄무늬의 발생을 방지하는 경향이 있다.
(B)
B 의 길이는 통상적으로 0.03 ㎜ 이상이고, 바람직하게는 0.05 ㎜ 이상이고, 보다 바람직하게는 0.1 ㎜ 이상이다. 하한이 이들 범위임으로써, 립부의 손상을 막고, 손상되었을 때의 흠집이나 그 흠집에 부착된 티끌, 도포액 거품 등에 의해 줄무늬가 발생하는 것을 방지하는 경향이 있다.
한편, 통상적으로 2 ㎜ 이하이고, 바람직하게는 1 ㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5 ㎜, 더욱 바람직하게는 0.3 ㎜ 이하이다. 상한이 이들 범위임으로써, 리어 립의 도포 비트에 발생하는 소용돌이의 저감, 다이 슬롯부로부터 유출되는 이방성 색소막 형성용 조성물이 신장 변형을 얻을 수 있어, 립부에 대한 이방성 색소막 형성용 조성물의 젖음 확산이 향상되는 경향이 있다.
(A 및 B 의 관계)
A 및 B 의 길이는, A ＞ B 이면 특별히 한정되지 않고, 그 길이의 비 및 차이도 특별히 한정되지 않는다.
A 및 B 의 길이의 차이는 바람직하게는 0.1 ㎜ 이상이고, 보다 바람직하게는 0.3 ㎜ 이상이다. 한편, 바람직하게는 2.0 ㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 1.5 ㎜ 이하이다.
또, A 및 B 의 길이의 비 (A/B) 는 바람직하게는 2 이상이고, 보다 바람직하게는 5 이상, 더욱 바람직하게는 10 이상이다. 한편, 바람직하게는 30 이하이고, 보다 바람직하게는 25 이하이다.
이들 범위임으로써, 리어 립 및 프론트 립의 도포 비트의 액량이 적당하게 유지되고, 리어 립의 도포 비트에 발생하는 소용돌이의 저감, 다이 슬롯부로부터 유출되는 이방성 색소막 형성용 조성물이 신장 변형을 얻을 수 있어, 립부의 도포 개시시 및 도포 중의 액 확산 (액 이어짐) 의 향상 및 립부에 대한 이방성 색소막 형성용 조성물의 젖음 확산의 향상이 얻어지는 경향이 있다.
또, 슬롯 폭은 통상적으로 10 ㎛ 이상이고, 바람직하게는 30 ㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 50 ㎛ 이상이다. 한편, 통상적으로 0.5 ㎜ 이하이고, 바람직하게는 0.3 ㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.1 ㎜ 이하이다.
이들 범위임으로써, 이방성 색소막 형성용 조성물이 수용하는 신장 변형에 의한 응력이 유효하게 작용하여, 높은 배향성을 갖고, 편광 성능이 우수한 이방성 색소막을 얻을 수 있는 경향이 있다. 또, 이방성 색소막의 막 두께 분포가 양호해지고, 또한 이물질에 의한 폐색이나 도포 줄무늬를 억제할 수 있는 경향이 있다.
본 실시양태에 있어서의 다이는, 이방성 색소막 형성용 조성물과의 젖음성을 개선시키기 위해, 이방성 색소막 형성용 조성물과 접하는 면 (슬롯을 구성하는 면, 립면 등) 에 대해, 플라즈마나 산성 수용액 등으로 처리하는 방법, 이방성 색소막 형성용 조성물과 접하는 면에 젖음성을 개선시키는 막을 형성하는 방법, 이방성 색소막 형성용 조성물과 접하는 면이 도포면의 진행 방향으로 평행이 되도록 이방성 색소막 형성용 조성물과 접하는 면을 연마하는 방법 등을 조합해도 된다.
기판면과 평행이란, 완전한 평행뿐만 아니라, 다소의 각도의 편차를 갖는 대략 평행을 포함한다. 허용되는 각도의 편차는 통상적으로 5 °이하, 바람직하게는 3 °이하, 보다 바람직하게는 1 °이하, 더욱 바람직하게는 0.5 °이다.
프론트 립과 리어 립은 기판면으로부터의 거리가 동등한 것이 바람직하지만, 상이해도 된다. 그 경우, 균일한 도포막을 얻기 위한 다이 코터의 속도를 보다 크게 할 수 있기 때문에, 프론트 립과 기판면의 거리는, 리어 립과 기판면의 거리보다 짧아도 된다. 프론트 립과 기판면의 거리가, 리어 립과 기판면의 거리에 대해 짧은 경우, 그 차이는 통상적으로 0.1 ㎜ 이하이고, 바람직하게는 0.05 ㎜ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.01 ㎜ 이하이다. 여기서 거리란, 립의 기판측의 면과 기판면 사이의 최단 부분의 길이를 말한다.
또, 프론트 립 및 리어 립과 기판면의 거리는, 상기와 같이 상이해도 되지만, 다이 립 및 기판의 표면 요철에 의한 양자의 충돌이나, 그 표면 요철에 의한 도포액의 흐트러짐 등을 방지하여 균일한 도포막을 얻기 위해, 각각 독립적으로 바람직하게는 0.01 ㎜ 이상, 보다 바람직하게는 0.03 ㎜ 이상, 더욱 바람직하게는 0.05 ㎜ 이상이다.
한편, 프론트 립 및 리어 립과 기판면의 거리는 가능한 한 작은 편이 도포 속도를 크게 할 수 있기 때문에, 각각 독립적으로 바람직하게는 0.3 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 0.2 ㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 0.1 ㎜ 이하이다. 여기서 거리란, 립과 기판면 사이의 최단 부분의 길이를 말한다.
(다이 코터)
본 실시양태에 있어서의 다이 코터는, 상기 다이를 포함하는 다이 코터이다. 본 실시양태에 있어서의 다이 코터는, 매엽 방식의 것이어도 되고, 롤·투·롤 방식의 것이어도 된다. 이하, 매엽 방식에 사용하는 다이 코터의 구성에 대해 도 2 를 사용하여 설명한다.
도 2 는, 다이 코터의 일 양태를 나타내는 사시도이다. 다이 코터 (100) 는, 기판 (S) 에 도포액으로서의 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포하기 위한 장치로, 액정 소자를 구성하는 광학 소자가 포함하는 이방성 색소막의 형성에 이용된다. 다이 코터 (100) 는, 기판 (S) 을 적재하기 위한 도포 테이블 (105) 과, 도포 테이블 (105) 상의 기판 (S) 에 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포하는 다이 (101) 와, 다이 (101) 를 이동시키는 다이 구동 기구 (108a 및 108b) 를 구비하고 있다. 도포 테이블 (105) 의 소정의 위치에 기판 (S) 은 적재된다. 다이 (101) 는, 대향하는 2 개의 다이 블록 사이에 심 (도시 생략) 이 협지되어 이루어진다. 2 개의 다이 블록 및 심에 의해 슬롯이 형성되고, 슬롯을 경유하여 다이의 선단의 토출구 (104) 로부터 이방성 색소막 형성용 조성물을 토출한다.
다이 구동 기구에는, 다이 (101) 를 유지하는 유지부 (108a) 와, 유지부 (108a) 를 도면 안쪽 방향으로 왕복 구동 가능한 구동부 (108b) 가 형성되어 있다. 유지부 (108a) 는, 이방성 색소막 형성용 조성물을 토출하는 토출구가 기판 (S) 과 일정한 간격을 유지하도록 다이 (101) 를 유지한다. 덧붙여, 도시되지 않지만, 토출구와 기판 (S) 의 간격을 적절히 변경할 수 있는 위치 결정 기구를 갖는다.
구동부 (108b) 는, 각종 모터, 인코더 등에 의해 구성되고, 유지부 (108a) 를 구동시킴으로써, 다이 (101) 를 도면 안쪽 방향으로 이동시킨다. 이와 같이 하여, 다이 (101) 는 기판 (S) 상에 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포한다.
(이방성 색소막의 제조 방법)
본 실시양태의 제조 방법은 후술하는 도포 스텝을 갖는 것이지만, 그 밖의 스텝을 갖고 있어도 된다. 그 밖의 스텝으로는, 예를 들어, 세정 스텝, 공급 스텝을 들 수 있다. 또, 액정 소자를 제조할 때에는, 기판 상에 배향막이나 보호막 등의 다른 막을 형성하는 스텝, 형성된 막을 건조시키는 건조 스텝 등을 들 수 있다.
(도포 스텝)
도포 스텝에서는, 이방성 색소막 형성용 조성물을 기판 상에 도포하고, 이방성 색소막을 형성하는 스텝이다. 하기 광학 소자의 구체적 양태 중 하나가 편광 소자이며, 편광 소자는 이방성 색소막을 포함하는 것이다. 편광 소자는, 이방성 색소막만으로 이루어지는 경우도 있을 수 있는 한편, 편광 성능을 향상시키거나, 기계적 강도를 향상시키는 등의 목적으로 다른 막 등을 갖고 있어도 된다.
본 실시양태에 있어서의 도포 스텝은, 습식 성막법에 의해 이방성 색소막을 성막하는 스텝이다. 습식 성막법이란, 이방성 색소막 형성용 조성물을 기판 상에 어떠한 수법에 의해 적용하고, 용제가 건조되는 과정을 거쳐 색소 등을 기판 상에서 배향·적층시키는 방법이다. 본 실시양태에서는, 적용 수단으로서 다이 코터를 사용한다. 습식 성막법에서는 이방성 색소막 형성용 조성물이 기판 상에 형성되면, 이미 이방성 색소막 형성용 조성물 중에서, 또는 용제가 건조되는 과정에서 색소 자체가 자기 회합됨으로써 미소 면적에서의 배향이 일어난다. 이 상태에 외장 (外場) 을 부여함으로써, 매크로한 영역에서 일정 방향으로 배향시켜 원하는 성능을 갖는 이방성 색소막을 얻을 수 있다. 이 점에서, 이른바 폴리비닐알코올 (PVA) 필름 등을, 색소를 함유하는 용액으로 염색하고 연신하여, 연신 공정만으로 색소를 배향시키는 것을 원리로 하는 방법과는 상이하다. 또한, 여기서 외장이란, 미리 기판 상에 실시된 배향 처리층의 영향, 전단력, 신장 변형, 자기장 등을 들 수 있고, 이들을 단독으로 사용해도 되고, 복수 조합하여 사용해도 된다.
또, 이방성 색소막 형성용 조성물을 기판 상에 도포하는 과정, 외장을 부여하여 배향시키는 과정, 용제를 건조시키는 과정은 순차적으로 실시해도 되고, 동시에 실시해도 된다.
이방성 색소막의 배향 방향은 통상적으로 도포 방향과 일치하지만, 도포 방향과 상이해도 된다. 또한, 본 실시양태에 있어서 이방성 색소막의 배향 방향이란, 예를 들어, 이방성 색소막이면 편광의 투과축 또는 흡수축이고, 위상차막이면 진상축 또는 지상축이다.
이방성 색소막 형성용 조성물을 연속적으로 도포할 때의, 이방성 색소막 형성용 조성물의 다이 코터에 대한 공급 방법, 공급 간격은 특별히 한정되지 않지만, 도포액의 공급 조작이 번잡해지거나, 도포액의 개시시와 정지시에 도포막 두께의 변동을 일으키거나 하는 경우가 있기 때문에, 이방성 색소막의 막 두께가 얇을 때에는, 특히 연속적으로 이방성 색소막 형성용 조성물을 다이 코터에 공급하면서 도포하는 것이 바람직하다.
또, 본 실시양태에 있어서, 이방성 색소막 형성용 조성물의 도포는, 친액 부분 및/또는 발액 부분을 형성하는 처리를 실시한 기판 전체에 연속적으로 도포해도 되고, 부분적으로 도포해도 된다.
본 실시양태에서 사용하는 다이 코터는, 상기 서술한 바와 같이, 다이의 선단이 소정의 A 및 B 로 규정됨으로써, 도포 리어측에 도포액이 과잉으로 체류되지 않아, 도포면에 적용하는 도포액을 적량으로 유지할 수 있다. 그리고 이 적량 상태는 도포 중에도 안정적이기 때문에, 기판에 결함을 일으키지 않고 도포 속도를 향상시킬 수 있다. 따라서, 도포하는 이방성 색소막 형성용 조성물에 대한 전단력을 올릴 수 있기 때문에, 배향성이 향상되고, 도포 후의 이방성 색소막의 편광 성능이 향상된다.
이 때, 다이 코터의 속도는, 양산 등의 생산성 및 편광성 발현의 관점에서, 바람직하게는 5 ㎜/s 이상이고, 보다 바람직하게는 7 ㎜/s 이상이고, 더욱 바람직하게는 10 ㎜/s 이상이고, 특히 바람직하게는 15 ㎜/s 이상이다.
한편, 이방성막 형성용 조성물을 기판 상에 균일하게 도포하는 관점에서, 바람직하게는 200 ㎜/s 이하이고, 보다 바람직하게는 150 ㎜/s 이하이고, 더욱 바람직하게는 100 ㎜/s 이하이다.
또한, 이방성 색소막 형성용 조성물의 도포 온도로는, 통상적으로 0 ℃ 이상 80 ℃ 이하, 바람직하게는 40 ℃ 이하이다. 또, 이방성 색소막 형성용 조성물의 도포시의 습도는, 바람직하게는 10 ％RH 이상, 더욱 바람직하게는 30 ％RH 이상이고, 바람직하게는 80 ％RH 이하이다.
본 발명의 제 2 실시양태는, 상기 제조 방법에 의해 얻어진 이방성 색소막이다. 본 실시양태에 관련된 이방성 색소막의 설명은, 상기 제 1 실시양태에 기재한 이방성 색소막에 대한 설명이 원용된다.
본 발명의 제 3 실시양태는, 상기 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자이다.
(광학 소자)
본 실시양태에 있어서의 광학 소자는, 광 흡수의 이방성을 이용하여 직선 편광, 원 편광, 타원 편광 등을 얻는 편광 소자, 위상차 소자, 굴절 이방성이나 전도 이방성 등의 기능을 갖는 소자이다. 이러한 기능은, 막 형성 프로세스와 기판이나 유기 화합물 (색소나 투명 재료) 을 함유하는 조성물의 선택에 의해 적절히 조정할 수 있다. 본 실시양태에서는 편광 소자로서 사용하는 것이 바람직하다.
(편광 소자)
광학 소자 중 편광 소자는, 기판 상에 이방성 색소막 형성용 조성물을 적층하여 얻어지는 것이다. 그 밖에도 어떤 막 (층) 을 갖는 것이어도 된다. 예를 들어, 배향막의 표면에 이방성 색소막 형성용 조성물을 형성함으로써 제조할 수 있다. 본 실시양태에 있어서의 편광 소자에 있어서는, 배향막, 이방성 색소막 이외에 필요에 따라 오버 코트층, 점착층 혹은 반사 방지층, 배향막, 위상차 필름으로서의 기능, 휘도 향상 필름으로서의 기능, 반사 필름으로서의 기능, 반투과 반사 필름으로서의 기능, 확산 필름으로서의 기능 등의 광학 기능을 갖는 층 등, 여러 가지 기능을 갖는 층을 도포나 첩합 (貼合) 등에 의해 적층 형성하여, 적층체로서 사용해도 된다. 이들 광학 기능을 갖는 층은, 예를 들어 이하의 같은 방법에 의해 형성할 수 있다.
위상차 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 예를 들어 일본 공개특허공보 평2-59703호, 일본 공개특허공보 평4-230704호 등에 기재된 연신 처리를 실시하거나, 일본 공개특허공보 평7-230007호 등에 기재된 처리를 실시하거나 함으로써 형성할 수 있다.
또, 휘도 향상 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 예를 들어 일본 공개특허공보 2002-169025호나 일본 공개특허공보 2003-29030호에 기재된 바와 같은 방법으로 미세공을 형성하는 것, 혹은 선택 반사의 중심 파장이 상이한 2 층 이상의 콜레스테릭 액정층을 중첩함으로써 형성할 수 있다.
반사 필름 또는 반투과 반사 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 증착이나 스퍼터링 등으로 얻어진 금속 박막을 사용하여 형성할 수 있다. 확산 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 상기 보호층에 미립자를 함유하는 수지 용액을 코팅함으로써 형성할 수 있다.
또, 위상차 필름이나 광학 보상 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 디스코틱 액정성 화합물, 네마틱 액정성 화합물 등의 액정성 화합물을 도포하여 배향시킴으로써 형성할 수 있다.
본 실시양태에 있어서의 이방성 색소막을 LCD 나 OLED 등의 각종 표시 소자에 이방성 색소막 등으로서 사용하는 경우에는, 이들 표시 소자를 구성하는 전극 기판 등의 표면에 직접 이방성 색소막을 형성하거나, 이방성 색소막을 형성한 기판을 이들 표시 소자의 구성 부재로서 사용하거나 할 수 있다.
편광 소자는, 유리 등의 고내열성 기판 상에 직접 형성함으로써 고내열성의 편광 소자를 얻을 수 있다는 점에서, 액정 디스플레이나 유기 일렉트로 루미네선스 디스플레이뿐만 아니라, 액정 프로젝터나 차재용 표시 패널 등, 고내열성이 요구되는 용도에도 바람직하게 사용할 수 있다.
본 발명의 제 4 실시양태는, 상기 광학 소자를 포함하는 액정 소자이다.
(액정 소자)
본 실시양태의 액정 소자는, 통상적으로 2 장의 기판에 의해 액정 재료를 협지하여 이루어진다. 액정 소자의 기본 구성은, 예를 들어, 주식회사 공업 조사회「플랫 패널 디스플레이 대사전」(우치다 타츠오, 우치이케 헤이주 감수, 2001년 12월 25일 발행) 의 45 페이지의 도 1 에 나타나 있는 바와 같다. 즉, 본 실시양태의 액정 소자는, 대향하여 배치되는 1 쌍의 기판과, 각 기판의 내측에 형성되는 1 쌍의 배향막 (액정 재료를 배향시키는 배향층) 과, 기판 사이 (액정 셀) 에 개재 장착되는 액정층 (액정 재료를 갖는 층) 과, 액정층에 전계를 인가하는 전극 (예를 들어 ITO 전극 등) 을 적어도 구비하여 이루어지고, 전극에 의해 액정층에 전계를 인가하여 액정의 배열을 변화시킴으로써, 광의 투과·차단을 제어하는 것이다.
액정 소자의 구체적인 표시 방식으로는, 주식회사 공업 조사회「플랫 패널 디스플레이 대사전」(우치다 타츠오, 우치이케 헤이주 감수, 2001년 12월 25일 발행) 의 54 페이지 내지 83 페이지에 기재된 TN 모드, STN 모드, DSM 모드, ECB 모드, VA 모드, π 셀, OCB 모드, HAN 모드, 상 전이-콜레스테릭 액정 모드, ECE 모드, 강유전성 액정 모드, 반강유전성 액정 모드, 게스트-호스트 액정 모드, IPS 모드, 고분자 복합형 모드, 고분자 액정 모드, 포토 루미네선스 모드 등의 각종 액정 모드를 사용한 액정 소자를 들 수 있지만, 본 실시양태의 액정 소자는 이들 중 어느 것에 대해서도 적용 가능하다.
액정 소자로서의 기능을 저해하지 않는 한, 그 용도에 따라 각 구성 요소의 배치·형상·적층 순서 등을 변경하거나, 일부의 구성 요소를 생략하거나, 복수의 구성 요소를 일체로 구성하거나, 다른 구성 요소를 추가하거나 하는 등, 적절히 변형을 가하여 실시하는 것이 가능하다.
예를 들어, 백라이트 등의 보조 광원을 갖지 않는 반사형 액정 소자나, 프론트 라이트나 사이드 에지 라이트를 구비한 투과형·반투과형 액정 소자, 마이크로 컬러 필터를 구비하지 않는 모노크로 액정 소자나, 필드 시퀀셜 방식의 액정 소자로 하여 액정 소자를 구성하는 것도 가능하다.
실시예
이하 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명의 범위가 실시예에만 한정되지 않는 것은 말할 것도 없다. 또한, 이하에 기재하는「부」는「중량부」를 나타낸다.
[점도의 측정 방법]
점도의 측정은, 레오 미터 VAR-50 (REOLOGICA 사 제조) 을 사용하여, 패러렐 플레이트 (직경 40 ㎜, 갭 0.8 ㎜) 에서 실시하였다. 측정 온도를 25 ℃ 로 하고, 전단 속도 1000 s-1 로 5 초간 프리쉐어를 실시한 후, 전단 속도를 1000 s-1 에서 100 s-1 까지 180 초 동안 변화시켜, 전단 속도 소인 측정을 실시하였다.
일반적으로 액정성 물질의 점도는 전단 속도에 따라 변화하므로, 대표값으로서 전단 속도 1000 s-1 에 있어서의 점도를 각 시료의 점도로 하였다.
[이방성 색소막의 흡수축 방향의 편광에 대한 투과율, 이색비 및 편광도의 측정 방법]
실시예 및 비교예에 있어서, 이방성 색소막의 흡수축 방향의 편광에 대한 투과율, 이색비 및 편광도는, 글랜 톰슨 편광자를 구비하는 분광 광도계 (오오츠카 전자 (주) 제조, 제품명「MCPD-2000」) 를 사용하여 측정하였다. 먼저, 이방성 색소막에 직선 편광의 측정광을 입사하고, 이방성 색소막의 흡수축 방향의 편광에 대한 투과율 및 편광축 방향의 편광에 대한 투과율을 측정한 후, 다음 식에 의해 이색비를 계산하였다.
이색비 (D) ＝ Az/Ay
Az ＝ -log(Tz)
Ay ＝ -log(Ty)
Tz : 이방성 색소막의 흡수축 방향의 편광에 대한 투과율
Ty : 이방성 색소막의 편광축 방향의 편광에 대한 투과율
또한, JIS Z 8701 에 의해 Tz 및 Ty 의 D65 광원 2 °시야에 있어서의 자극값 Y 로부터 이방성 색소막의 흡수축 방향의 편광에 대한 시감도 보정 투과율 및 이방성 색소막의 편광축 방향의 편광에 대한 시감도 보정 투과율을 산출하고, 하기 식에 의해 편광도를 산출하였다.
편광도 (P) (％) ＝ {(Yy － Yz)/(Yy ＋ Yz)}1/2 × 100
Yz : 이방성 색소막의 흡수축 방향의 편광에 대한 시감도 보정 투과율
Yy : 이방성 색소막의 편광축 방향의 편광에 대한 시감도 보정 투과율
[막 두께 불균일 및 도포 줄무늬의 발생 유무]
얻어진 이방성 색소막을 육안에 의해 막 두께 불균일 및 도포 줄무늬 발생의 유무를 확인하고, 이하와 같이 평가하였다.
◎ : 막 두께 불균일 및 도포 줄무늬가 전혀 없어, 매우 균일한 막이었다.
○ : 막 두께 불균일 및 도포 줄무늬가 조금 보였지만, 허용할 수 있는 정도의 균일막이었다.
△ : 막 두께 불균일 및 도포 줄무늬가 약간 많이 보여, 부분적으로 불균일한 막이었다.
× : 막 두께 불균일 및 도포 줄무늬가 전체면에 보여, 전체적으로 불균일한 막이었다.
＜이방성 색소막 형성용 조성물의 조제＞
＜이방성 색소막 형성용 조성물 1 의 조제＞
물 81 부에 식 (Ⅰ) 로 나타내는 아조 화합물 18 부와, 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물 1 부를 첨가하고, 교반하여 용해시킨 후, 여과하여 불용분을 제거함으로써 이방성 색소막 형성용 조성물 1 을 얻었다. 이방성 색소막 형성용 조성물 1 의 점도는 16.0 cP 였다.
[화학식 3]
Figure 112016009470179-pct00003
[화학식 4]
Figure 112016009470179-pct00004
＜이방성 색소막 형성용 조성물 2 의 조제＞
물 79 부에 식 (Ⅰ) 로 나타내는 아조 화합물 20 부와, 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물 1 부를 첨가하고, 교반하여 용해시킨 후, 여과하여 불용분을 제거함으로써 이방성 색소막 형성용 조성물 2 를 얻었다. 이방성 색소막 형성용 조성물 2 의 점도는 40.0 cP 였다.
＜이방성 색소막 형성용 조성물 3 의 조제＞
물 74 부에 식 (Ⅰ) 로 나타내는 아조 화합물 25 부와, 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물 1 부를 첨가하고, 교반하여 용해시킨 후, 여과하여 불용분을 제거함으로써 이방성 색소막 형성용 조성물 3 을 얻었다. 이방성 색소막 형성용 조성물 3 의 점도는 82.5 cP 였다.
＜도포 기판의 조제＞
유리제 기재 (100 ㎜ × 100 ㎜, 두께 0.7 ㎜) 상에 폴리이미드의 배향막이 형성된 기재 (폴리이미드막 두께 약 800 Å) 를, 미리 천으로 러빙 처리를 실시한 것을 준비하였다.
[실시예 1]
상기 도포 기판에, 프론트 립 중 이방성 색소막의 도포면과 평행을 이루는 부분의 길이 A 를 0.5 ㎜, 리어 립 중 이방성 색소막의 도포면과 평행을 이루는 부분의 길이 B 를 0.1 ㎜, 다이의 슬롯 폭 50 ㎛ 로 한 다이를 사용하여, 이방성 색소막 형성용 조성물 1 을 기재의 러빙 방향과 도포 방향을 평행으로 하고, 도포시의 막 두께가 3 ㎛ 가 되도록 도포하였다.
기재 전체면에 결함 없이 도포할 수 있는 상한의 도포 속도를 구한 결과, 15 ㎜/s 로 도포를 할 수 있었고, 그 후, 막 두께 약 0.3 ㎛ 의 이방성 색소막 1 을 얻었다.
또한, 도포 조건은 24 ∼ 26 ℃, 40 ％RH ∼ 60 ％RH 에서 제조하였다. 얻어진 이방성 색소막 1 은, 막 두께 불균일이나 도포 줄무늬가 발생하지 않았고, 이방성 색소막 전체가 균일하였다. 또, 이방성 색소막 1 의 투과율, 이색비 및 편광도를 측정하였다. 표 1 에 측정 결과를 나타낸다.
[실시예 2 ∼ 6]
A 및 B 의 길이, 도포시의 막 두께 그리고 사용하는 이방성 색소막 형성용 조성물을 표 1 의 값으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 색소막 2 ∼ 6 을 얻었다.
이방성 색소막 형성용 조성물의 도포 스피드, 얻어진 이방성 색소막의 막 두께, 막 두께 불균일이나 도포 줄무늬의 발생 유무, 이방성 색소막의 투과율, 이색비 및 편광도의 측정 결과를 표 1 에 나타낸다.
[비교예 1 ∼ 8]
A 및 B 의 길이, 도포시의 막 두께 그리고 사용하는 이방성 색소막 형성용 조성물을 표 1 의 값으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 색소막 7 ∼ 14 를 얻었다.
이방성 색소막 형성용 조성물의 도포 스피드, 얻어진 이방성 색소막의 막 두께, 막 두께 불균일이나 도포 줄무늬의 발생 유무, 이방성 색소막의 투과율, 이색비 및 편광도의 측정 결과를 표 1 에 나타낸다.
실시예 1 ∼ 3 에 나타내는 바와 같이, 동일한 다이 립의 길이이고, 점도가 상이한 이방성 색소막 형성용 조성물을 사용한 경우, 본 발명의 제 1 실시양태에 관련된 제조 방법을 이용함으로써, 이색비 및 편광도가 우수하고, 막 두께 불균일이나 도포 줄무늬의 발생이 없는 이방성 색소막이 얻어지는 것이 나타났다.
또, 실시예 1, 4 및 비교예 1 ∼ 4 에 나타내는 바와 같이, 동일한 이방성 색소막 형성용 조성물을 사용하고, 상이한 다이 립의 길이를 사용한 경우에도, 본 발명의 제 1 실시양태에 관련된 제조 방법을 이용한 경우에는, 이색비 및 편광도가 우수하고, 막 두께 불균일이나 도포 줄무늬의 발생이 없는 이방성 색소막이 얻어지는 것이 나타났다.
Figure 112016009470179-pct00005
100 : 다이 코터
101 : 다이
101a : 프론트측 다이
101b : 리어측 다이
102a : 프론트 립
102b : 리어 립
103 : 이방성 색소막 형성용 조성물
104 : 토출구
105 : 도포 테이블
106 : 슬롯
108a : 다이 구동 기구의 유지부
108b : 다이 구동 기구의 구동부
S : 기판

Claims (7)

  1. 기판 상에 다이 코터를 사용하여 이방성 색소막 형성용 조성물을 도포하는 공정을 포함하는 이방성 색소막을 제조하는 방법으로서,
    상기 다이 코터는, 다이 코터의 진행 방향측에 위치하는 프론트 립과, 상기 진행 방향과는 반대측에 위치하는 리어 립을 갖고, 양 립은 각각 기판과 대향하는 립 하단면을 갖고, 상기 프론트 립의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 A, 상기 리어 립의 하단면의 상기 진행 방향을 따른 길이를 B 라고 하면, A ＞ B 이고, 이방성 색소막 형성용 조성물의 점도가 10 cP 이상 100 cP 이하인 것을 특징으로 하는 이방성 색소막의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 B 가 0.03 ㎜ 이상, 2 ㎜ 이하인, 이방성 색소막의 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    이방성 색소막 형성용 조성물이 아조 화합물 및 용매를 함유하는 것인, 이방성 색소막의 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 다이 코터는, A/B 가 5 이상 30 이하인, 이방성 색소막의 제조 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법에 의해 얻어진, 이방성 색소막.
  6. 제 5 항에 기재된 이방성 색소막을 포함하는, 광학 소자.
  7. 제 6 항에 기재된 광학 소자를 포함하는, 액정 소자.
KR1020167002515A 2013-09-30 2014-09-05 이방성 색소막의 제조 방법, 그 제조 방법에 의해 제조된 이방성 색소막, 그 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자, 및 그 광학 소자를 포함하는 액정 소자 KR102182155B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013205747 2013-09-30
JPJP-P-2013-205747 2013-09-30
PCT/JP2014/073520 WO2015045804A1 (ja) 2013-09-30 2014-09-05 異方性色素膜の製造方法、該製造方法により製造された異方性色素膜、該異方性色素膜を含む光学素子、および該光学素子を含む液晶素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160065072A KR20160065072A (ko) 2016-06-08
KR102182155B1 true KR102182155B1 (ko) 2020-11-24

Family

ID=52742951

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167002515A KR102182155B1 (ko) 2013-09-30 2014-09-05 이방성 색소막의 제조 방법, 그 제조 방법에 의해 제조된 이방성 색소막, 그 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자, 및 그 광학 소자를 포함하는 액정 소자

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6406262B2 (ko)
KR (1) KR102182155B1 (ko)
CN (1) CN105531037B (ko)
WO (1) WO2015045804A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7273242B2 (ja) * 2020-03-05 2023-05-12 富士フイルム株式会社 ダイヘッド
KR20220126298A (ko) * 2020-03-11 2022-09-15 후지필름 가부시키가이샤 다이 헤드
WO2022059287A1 (ja) * 2020-09-17 2022-03-24 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶層の製造方法及び塗布装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000153205A (ja) 1998-11-24 2000-06-06 Toray Ind Inc 塗布装置および塗布部材の製造方法、ならびに、カラーフィルタの製造装置および製造方法
JP2010152351A (ja) * 2008-11-28 2010-07-08 Fujifilm Corp 偏光素子とその製造方法
JP2011215337A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Fujifilm Corp 光吸収異方性膜、偏光フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた表示装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MX9701941A (es) * 1994-09-16 1997-06-28 Avery Dennison Corp Metodo y aparato para revestimiento a troquel de capas multiples.
JP3134742B2 (ja) 1995-11-09 2001-02-13 東レ株式会社 塗布装置および塗布方法並びにカラーフィルタの製造装置および製造方法
JP4163876B2 (ja) * 2002-02-14 2008-10-08 富士フイルム株式会社 塗布方法
JP2005309362A (ja) * 2004-03-23 2005-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd 光学補償シート、その製造方法、偏光板、及び液晶表示装置
JP2006122889A (ja) * 2004-06-17 2006-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布膜の製造方法、反射防止フィルム及びその製造方法、該フィルムを用いた偏光板、及びこれらを用いた画像表示装置
JP4839037B2 (ja) * 2004-08-04 2011-12-14 富士フイルム株式会社 光学フィルムの製造方法
JP2006091613A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd 光学補償シート、その製造方法、偏光板、及び液晶表示装置
JP2006119605A (ja) * 2004-09-27 2006-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 光学補償シート、その製造方法、偏光板、及び液晶表示装置
JP2007061755A (ja) 2005-08-31 2007-03-15 Mitsubishi Chemicals Corp 光学素子の製造方法
JP4828191B2 (ja) * 2005-09-16 2011-11-30 富士フイルム株式会社 塗布方法、装置、光学フィルムの製造方法、及び反射防止フィルムの製造方法
JP2007093938A (ja) 2005-09-28 2007-04-12 Mitsubishi Chemicals Corp 異方性色素膜用液晶性塗布液材料、並びに異方性色素膜および光学素子の製造方法
JP2007133162A (ja) * 2005-11-10 2007-05-31 Fujifilm Corp 防眩性フィルム、その製造方法、これを用いた偏光板および画像表示装置
JP4922675B2 (ja) 2006-06-23 2012-04-25 日東電工株式会社 被膜シートの製造方法
KR20090022494A (ko) 2007-08-30 2009-03-04 콘티넨탈 오토모티브 일렉트로닉스 주식회사 통화 메시지 저장 및 출력장치
JP2011507700A (ja) * 2007-12-31 2011-03-10 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー コーティング材料の塗布方法
KR101841772B1 (ko) * 2010-12-14 2018-05-04 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광 필름의 제조 방법
JP6171276B2 (ja) * 2011-07-12 2017-08-02 住友化学株式会社 偏光子及びその製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000153205A (ja) 1998-11-24 2000-06-06 Toray Ind Inc 塗布装置および塗布部材の製造方法、ならびに、カラーフィルタの製造装置および製造方法
JP2010152351A (ja) * 2008-11-28 2010-07-08 Fujifilm Corp 偏光素子とその製造方法
JP2011215337A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Fujifilm Corp 光吸収異方性膜、偏光フィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN105531037A (zh) 2016-04-27
JPWO2015045804A1 (ja) 2017-03-09
WO2015045804A1 (ja) 2015-04-02
CN105531037B (zh) 2017-09-05
KR20160065072A (ko) 2016-06-08
JP6406262B2 (ja) 2018-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9366793B2 (en) Circularly polarizing plate, retardation plate for circularly polarizing plate, and organic electroluminescence display apparatus
KR20160019946A (ko) 위상차 필름, 편광판 및 액정 표시 장치
TWI396719B (zh) 異向性色素膜用組成物，異向性色素膜及偏光元件
WO2014073616A1 (ja) 位相差板、円偏光板、有機ｅｌ表示装置
WO2006064852A1 (ja) アゾ色素、これを用いた異方性色素膜用組成物、異方性色素膜および偏光素子
KR20040074939A (ko) 염료계 편광 필름 및 염료계 편광자
JP5223695B2 (ja) 不溶化異方性膜並びに不溶化処理液及びそれを用いた不溶化異方性膜の製造方法並びにそれを用いた光学素子
KR102182155B1 (ko) 이방성 색소막의 제조 방법, 그 제조 방법에 의해 제조된 이방성 색소막, 그 이방성 색소막을 포함하는 광학 소자, 및 그 광학 소자를 포함하는 액정 소자
JP5168878B2 (ja) 異方性色素膜用組成物、異方性色素膜および偏光素子
JP2015066537A (ja) ダイ、該ダイを含むダイコーター、該ダイコーターを用いた光学素子の製造方法、該製造方法により製造された光学素子、および該光学素子を含む液晶素子
JP4736823B2 (ja) 異方性色素膜用組成物、異方性色素膜、偏光素子及び異方性色素膜用色素
JP2007178993A (ja) 異方性色素膜用組成物、異方性色素膜及び偏光素子
KR102170099B1 (ko) 이방성 색소막용 조성물, 이방성 색소막 및 광학 소자
JP2007272211A (ja) 光学素子、及び光学素子の製造方法
JP2007226212A (ja) 塗布液材料、異方性膜、異方性膜の製造方法および光学素子
JP6922381B2 (ja) 異方性膜用アゾ化合物、該化合物を含む異方性膜用組成物及び異方性膜
JP6160198B2 (ja) 偏光子の製造方法
JP4654882B2 (ja) 異方性光学膜の製造方法、異方性光学膜、および光学素子
JP2008020908A (ja) 異方性色素膜用色素
KR102126682B1 (ko) 편광 소자 및 이의 용도
JP5973911B2 (ja) 光学素子、並びに、該光学素子を有する位相差フィルム、光学フィルムおよび画像表示装置
JP2007093938A (ja) 異方性色素膜用液晶性塗布液材料、並びに異方性色素膜および光学素子の製造方法
WO2013157348A1 (ja) 偏光フィルム、画像表示装置、及び偏光フィルムの製造方法
KR20070102964A (ko) 광학 보상 시트, 그리고 이것을 사용한 편광판 및 액정표시 장치
JP4360101B2 (ja) 染料系偏光板

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant