KR102155759B1 - 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 3-아미노티올의 제조방법 - Google Patents

비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 3-아미노티올의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102155759B1
KR102155759B1 KR1020157017019A KR20157017019A KR102155759B1 KR 102155759 B1 KR102155759 B1 KR 102155759B1 KR 1020157017019 A KR1020157017019 A KR 1020157017019A KR 20157017019 A KR20157017019 A KR 20157017019A KR 102155759 B1 KR102155759 B1 KR 102155759B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
fluoro
formula
methyl
disulfanediylbis
nitrobenzene
Prior art date
Application number
KR1020157017019A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150092197A (ko
Inventor
토마스 히믈러
한 율리아 요한나
Original Assignee
바이엘 크롭사이언스 악티엔게젤샤프트
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 바이엘 크롭사이언스 악티엔게젤샤프트 filed Critical 바이엘 크롭사이언스 악티엔게젤샤프트
Publication of KR20150092197A publication Critical patent/KR20150092197A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102155759B1 publication Critical patent/KR102155759B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/02—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols
    • C07C319/06—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols from sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/22—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of hydropolysulfides or polysulfides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/22—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/24—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of hydropolysulfides or polysulfides by reactions involving the formation of sulfur-to-sulfur bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/01—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/09—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/31—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C323/33—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C07C323/34—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring the thio group being a mercapto group
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/31—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C323/33—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C07C323/35—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring the thio group being a sulfide group
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/23—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/31—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
    • C07C323/33—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring
    • C07C323/35—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring the thio group being a sulfide group
    • C07C323/37—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton having at least one of the nitrogen atoms bound to a carbon atom of the same non-condensed six-membered aromatic ring the thio group being a sulfide group the sulfur atom of the sulfide group being further bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/141—Feedstock

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

본 발명은 살충, 살비 및 살선충 활성을 지니는 페닐 설폭사이드의 제조를 위한 중간체로서 제공되는 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올의 신규 제조방법에 관한 것이다:
Figure 112015061732548-pct00019

상기 식에서, X, Y는 명세서에 언급된 의미를 가진다.

Description

비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 3-아미노티올의 제조방법{METHOD FOR PRODUCING BIS(3-AMINOPHENYL)DISULFIDES AND 3-AMINOTHIOLS}
본 발명은 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올의 신규 제조방법에 관한 것이다:
Figure 112015061732548-pct00001
상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 선형 또는 분지형 (C1-C4)-알킬, 선형 또는 분지형 (C1-C4)-알콕시, 할로겐 또는 아미노이다.
바람직하게, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 선형 또는 분지형 (C1-C4)-알킬, 할로겐 또는 아미노이다.
특히 바람직하게, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸 및 에틸, 불소 및 염소이다.
화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올은 농약 활성 성분 및 약학적 활성 성분의 제조를 위한 중요한 중간체이다.
화학식 (II)의 3-아미노티올의 제조방법은 이미 공지되었다. 예를 들면, 화학식 (III)의 3-니트로페닐설포닐 클로라이드를 염산 및 유기 용매의 존재하에 많은 다량의 금속, 예컨대 아연 (EP 2 226 312) 또는 주석 (J. Org. Chem. 21 (1956), 265-70) 또는 염화주석(II) (Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters 20 (2010) 1749-1751)과 반응시켜 화학식 (II)의 3-아미노티올로 전환시키는 것이 가능하다:
Figure 112015061732548-pct00002
상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 상술된 의미를 가진다,
니트로 및 클로로설포닐 그룹 둘 다 한 단계에서 환원되는 이들 반응에서는, 힘들게 제거하여야 하는 다량의 무기 염이 발생한다. 이는 특히 환경을 오염시키는 금속 염, 예컨대 염화아연 및 염화주석인 경우 해당된다. 게다가, 이러한 환원의 화학적 수율이 언제나 만족스러운 것은 아니다.
방향족 디설파이드의 다단계 제조방법이 또한 공지되었는데, 여기서는 방향족 설포닐 클로라이드가 먼저 소듐 하이드로겐 설파이트에 의해 상응하는 설핀산의 소듐 염으로 전환되고, 이어 이산화황에 의해 디페닐 디설파이드로 환원된다 (EP 687 671; WO 2007/066844). 이 방법은 첫째로 독성 가스인 이산화황을 필요로 하고, 둘째로는 항상 만족할만한 수율을 제공하지는 못한다. 방향족 설포닐 클로라이드로부터 출발하여 트리페닐포스핀으로 환원시킴으로써 디페닐 디설파이드를 수득할 수 있다는 것이 또한 공지되었다 (Tetrahedron Letters 50 (2009) 7340-2). 이러한 환원은 또한 아세트산 및 페놀의 혼합물중에서 브롬화수소에 의해 수행될 수 있다 (J. Fluor. Chem. 112 (2001) 287-95). 그러나, 이 방법은 그저 만족스럽지 않은 수율과 상당량의 폐기물만을 제공할 뿐이다. 화학량론적 양의 요오드화수소를 사용한 환원 방법이 가장 널리 이용된다 (J. Amer. Chem. Soc. 60 (1938) 2729-30; Organic Syntheses, Coll. Vol. 5 (1973) 843; Vol. 40 (1960) 80; Synthesis 2003 , 112-6). 이 방법은 보통 고수율로 이어지지만, 필요한 요오드화수소의 양이 많고 형성된 요오드를 처분하거나 재활용할 필요성 때문에, 비용이 매우 많이 들고 기술적으로 복잡하다.
따라서, 화학식 (III)의 3-니트로페닐설포닐 클로라이드를 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올로 환원시키기 위한 간단하고 경제적으로 유리하면서 생태학적으로 무해한 방법에 대한 수요는 계속해서 남아 있다.
놀랍게도, 이러한 목적이 화학식 (III)의 3-니트로페닐설포닐 클로라이드를 먼저 제1 단계에서 환원시켜 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드를 제공하는 것을 특징으로 하는 본 발명에 의해서 달성되었다:
Figure 112015061732548-pct00003
상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 상술된 의미를 가진다.
이어 상기 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드는 본 발명에 따른 방법의 제2 단계에서 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올로 훤원된다.
즉, 본 발명에 따른 방법은 다음 반응식 A에 따라 수행된다:
반응식 A
Figure 112015061732548-pct00004
본 발명에 따른 방법은 2 단계로 수행되는데도, 놀랍게, 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올을 공지된 1 단계 방법에 비해 생태학적 및 그 결과 또한 경제적으로 유리한 조건하에서 더 좋은 수율 또는 더 높은 순도로 제공한다.
본 발명에 따른 방법의 제1 단계는 반응이 화학량론적 양의 하이포아인산(H3PO2) 또는 그의 염의 존재하에 행해짐으로써, 화학식 (III)의 3-니트로페닐설포닐 클로라이드의 환원이 촉매량의 요오드화물을 사용하여 수행됨을 특징으로 한다.
하이포아인산 또는 소듐 하이포포스파이트(NaH2PO2)를 사용하는 것이 바람직하다.
사용되는 하이포아인산, 또는 그의 염중 하나의 양은 화학식 (III)의 3-니트로페닐설포닐 클로라이드에 기초해 1 내지 2 몰 당량이다. 1.1 내지 1.8 몰 당량을 사용하는 것이 바람직하다.
사용되는 촉매는 요오드화수소, 금속 요오드화물 또는 요오드 원소일 수 있다. 금속 요오드화물 및 요오드 원소를 사용하는 것이 바람직하고; 요오드화나트륨 또는 요오드화칼륨이 특히 바람직하다.
촉매의 양은 넓은 범위에 걸쳐 변할 수 있다. 충분한 반응 속도가 일어나도록 최소량이 보통 선택된다. 이 경우, 촉매의 양은 화학식 (III)의 3-니트로페닐설포닐 클로라이드에 기초해 0.1 내지 20 몰%이다. 1 내지 20 몰%를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 방법의 제1 단계에 적합한 용매는, 원칙상, 물 및 반응물이 충분한 용해도를 가지는 모든 유기 용매를 포함한다. 이러한 유기 용매의 예로는 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올, 삼차 부탄올, 에틸렌 글리콜; 케톤, 예컨대 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤; 에스테르, 예컨대 메틸 아세테이트 및 에틸 아세테이트; 에테르, 예컨대 테트라하이드로푸란, 2-메틸테트라하이드로푸란, 디옥산, 메틸 tert-부틸 에테르; 아미드, 예컨대 N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드; 니트릴, 예컨대 아세토니트릴 및 부티로니트릴; 카복실산, 예컨대 포름산, 아세트산 및 프로피온산을 들 수 있다. 이들 유기 용매의 상호 혼합물 또는 물과의 혼합물을 사용하는 것 또한 가능하다.
물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 에틸렌 글리콜, 아세톤, 테트라하이드로푸란, N,N-디메틸포름아미드, 아세토니트릴, 부티로니트릴, 아세트산, 프로피온산 및 이들 용매의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다.
물, 메탄올, 에탄올, 아세톤, 아세트산 및 이들 용매의 혼합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 아세트산이 특히 바람직하다.
본 발명에 따른 방법의 제1 단계에서의 온도는 0 내지 150℃, 바람직하게는 20 내지 120℃이다.
본 발명에 따른 방법의 제1 단계는 또한 원칙상 감압 또는 승압하에 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 특히 바람직한 일 구체예는 방법 단계 (A)에서 잔기 X 및 Y가 상술된 의미를 가지는 화학식 (III)의 니트로페닐설포닐 클로라이드를 물의 존재하에서 유기 용매중 화학량론적 양의 하이포아인산(H3PO2) 또는 그의 염의 존재하에 촉매량의 요오다이드로 환원시켜 화학식 (IV)의 비스(니트로페닐)디설파이드를 제공하는 것을 특징으로 한다. 따라서 이 구체예에서, 본 발명에 따른 방법의 제1 단계는 물의 존재하에 유기 용매중에서 수행된다.
화학식 (III)의 니트로페닐설포닐 클로라이드를 화학식 (IV)의 비스(니트로페닐)디설파이드로 환원시키는 경우, 화학식 (V)의 니트로페닐티올로 과환원될 가능성이 있다.
Figure 112015061732548-pct00005
그에 따라, 이 경우에는, 화학식 (IV)의 비스(니트로페닐)디설파이드 및 화학식 (V)의 니트로페닐티올로 구성된 혼합물이 수득된다. 이는 이들 혼합물의 분석 정량 면에서 뿐만 아니라, 또한 특히 할로겐화수소의 제거로, 잔기 X 및 Y 중 적어도 하나가 할로겐인 화학식 (V)의 니트로페닐티올이 자기축합 반응을 하거나, 또는 잔기 X 및 Y 중 적어도 하나가 할로겐인 화학식 (IV)의 비스(니트로페닐)디설파이드와 축합 반응을 일으키고, 형성된 이차 성분들이 화학식 (III)의 니트로페닐설포닐 클로라이드의 화학식 (IV)의 비스(니트로페닐)디설파이드로의 환원 생성물을 오염시켜 달성가능한 수율을 감소시킬 있다는 점에서 불리하다. 이는 특히 가능한 최고의 시공 수율을 위해 경제적 및 생태학적 견지에서 매우 바람직한, 화학식 (III)의 니트로페닐설포닐 클로라이드의 환원이 상대적으로 높은 농도의 니트로페닐설포닐 클로라이드로 수행되는 경우 그러하다. 바람직하지 않은 화학식 (VI) 및 (VII)의 축합 생성물의 형성은 다음 반응식으로 예시될 수 있다:
Figure 112015061732548-pct00006
상기 반응식에서, 잔기 X 및 Y는 상술된 의미를 가진다.
이와 관련하여, 물의 존재는 화학식 (V)의 니트로페닐티올 형성없이 및 그에 따라 또한 바람직하지 않은 화학식 (VI) 및 (VII)의 축합 생성물의 형성없이, 화학식 (III)의 니트로페닐설포닐 클로라이드의 화학식 (IV)의 비스(니트로페닐)디설파이드로의 선택적인 환원을 일으킨다.
물의 존재하에 하이포아인산 또는 소듐 하이포포스파이트(NaH2PO2)를 사용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 하이포아인산은, 예를 들어, 수중 50% 세기의 용액으로서 그의 상업적으로 구입할 수 있는 형태로 사용될 수 있다. 물이 사용된 용매에 첨가되는 경우, 소듐 하이포포스파이트(NaH2PO2)는 무수 염으로서 사용될 수 있다. 다른 한편으로, 무수 용매를 사용하고 소듐 하이포포스파이트를 그의 수화물(NaH2PO2×H2O) 형태로 사용하는 것도 가능하다.
본 발명에 따른 방법의 특히 바람직한 구체예에서 물의 양은 넓은 범위에 걸쳐 변할 수 있으며, 원칙상 상한은 없으며, 이는 최대 용매와 물의 혼합물 중 반응물의 용해도로 결정된다. 하한은 바람직하게는 유기 용매 및 물의 합한 양을 기초로 15 중량%이다.
이러한 본 발명에 따른 방법의 특히 바람직한 구체예에서, 화학식 (III)의 화합물의 농도는 바람직하게는 적어도 0.6 mol/l이고, 바람직하게는 0.7 mol/l, 더 바람직하게는 0.8 mol/l, 그보다 더 바람직하게는 0.9 mol/l, 그보다 더 바람직하게는 1.0 mol/l 및 그보다 더 바람직하게는 1.1 mol/l이다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계에서, 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드는 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올로 환원된다.
상기 본 발명에 따른 방법의 제2 단계는 바람직하게는 환원이 금속 촉매의 존재하에 수소로 행해지는 방식으로 수행된다.
유용한 촉매는 첫째로, 금속 루테늄, 로듐, 이리듐, 팔라듐 또는 백금을 가지는 귀금속 촉매; 둘째로, 니켈, 코발트, 망간, 크롬 또는 구리와 같은 수소화-활성 비귀금속을 포함한다. 금속은 원소 형태 또는 금속 염의 형태일 수 있다. 금속이 그대로 사용되는 경우, 이들은 순수한 형태로 사용될 수 있거나, 불활성 지지체에 적용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계에서 팔라듐, 백금, 니켈 및 코발트의 금속을 사용하는 것이 바람직하다. 이때 팔라듐 및 백금은, 예를 들어, 활성탄 상에 담지되어 사용된다. 니켈 및 코발트는 바람직하게는 소위 라니 금속의 형태로 사용된다.
촉매의 양은 넓은 범위에 걸쳐 변할 수 있다. 전형적으로, 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드에 기초해 0.01 내지 50 중량%가 사용된다. 0.01 내지 5 중량%의 담지된 팔라듐 또는 백금 촉매, 및 1 내지 30 중량%의 라니 니켈 또는 라니 코발트를 사용하는 것이 바람직하다.
불균일 촉매는, 원칙상, 또한 반응 후 회수되고 재사용될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계에서의 용매는 일반적으로 불활성 유기 용매이다. 이들의 예로는 알콜, 예컨대 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올, 삼차 부탄올, 에틸렌 글리콜; 에스테르, 예컨대 메틸 아세테이트 및 에틸 아세테이트; 에테르, 예컨대 테트라하이드로푸란, 2-메틸테트라하이드로푸란, 디옥산, 메틸 tert-부틸 에테르; 아미드, 예컨대 N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드; 니트릴, 예컨대 아세토니트릴 및 부티로니트릴; 카복실산, 예컨대 포름산, 아세트산 및 프로피온산을 들 수 있다. 이들 유기 용매의 상호 혼합물을 사용하는 것 또한 가능하다.
메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 테트라하이드로푸란, 2-메틸테트라하이드로푸란, 디옥산, 메틸 tert-부틸 에테르를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계에서 수소압은 1 내지 150 바(bar), 바람직하게는 5 내지 100 바이다.
본 발명에 따른 방법의 제2 단계에서 온도는 20 내지 200℃, 바람직하게는 20 내지 150℃이다.
이러한 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드의 촉매적 환원에서는, 일반적으로 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올의 혼합물이 수득된다. 화학식 (II)의 3-아미노티올은 유기 화학에서 공지된 방법에 의해 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드로 전환될 수 있다. 그러나 다양한 용도상, 예를 들면 알킬설파닐벤젠의 제조를 위해, 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올 모두 성공적으로 사용될 수 있다 (JCS Chem. Commun. 1991 , 993-4; J. Fluor. Chem. 105 (2000) 41-44; Synthesis 2007 , 85-91). 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올의 혼합물 정제는 따라서 이 경우 필요치 않다.
화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 화학식 (II)의 3-아미노티올은 예를 들어, EP 1 803 712호 및 WO 2011/006605호로부터 공지된 살충, 살비 및 살선충 활성을 지니는 페닐 설폭사이드의 제조를 위한 중간체로서 제공된다.
본 발명은 또한 신규 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드에 관한 것이다:
Figure 112015061732548-pct00007
상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 불소 및 염소이다.
바람직하게, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 불소 및 염소이다.
아래의 화합물이 특히 바람직하다:
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠),
1,1'-디설판디일비스(2,4-디클로로-5-니트로벤젠),
1,1'-디설판디일비스(2-플루오로-4-메틸-5-니트로벤젠),
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-3-니트로벤젠),
1-플루오로-4-[(4-플루오로-2-메틸-5-니트로페닐)디설파닐]-3-메틸-2-니트로벤젠,
1-플루오로-4-[(2-플루오로-4-메틸-5-니트로페닐)디설파닐]-5-메틸-2-니트로벤젠,
1-플루오로-4-[(2-플루오로-4-메틸-5-니트로페닐)디설파닐]-3-메틸-2-니트로벤젠.
본 발명은 또한 신규 화학식 (V)의 3-니트로페닐티올에 관한 것이다:
Figure 112015061732548-pct00008
상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 불소 및 염소이다.
바람직하게, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 불소 및 염소이다.
아래의 화합물이 특히 바람직하다:
4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠티올,
2,4-디메틸-5-니트로벤젠티올,
2,4-디플루오로-5-니트로벤젠티올,
4-클로로-2-메틸-5-니트로벤젠티올,
2-클로로-4-메틸-5-니트로벤젠티올,
2-플루오로-4-메틸-5-니트로벤젠티올.
본 발명은 또한 신규 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드에 관한 것이다:
Figure 112015061732548-pct00009
상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 불소 및 염소이다.
바람직하게, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 불소 및 염소이다.
아래의 화합물이 특히 바람직하다:
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린),
3,3'-디설판디일비스(4,6-디클로로아닐린),
3,3'-디설판디일비스(4-플루오로-6-메틸아닐린),
3,3'-디설판디일비스(2-플루오로-6-메틸아닐린),
3-[(5-아미노-4-플루오로-2-메틸페닐)디설파닐]-6-플루오로-2-메틸아닐린,
5-[(5-아미노-2-플루오로-4-메틸페닐)디설파닐]-2-플루오로-4-메틸아닐린,
3-[(5-아미노-2-플루오로-4-메틸페닐)디설파닐]-6-플루오로-2-메틸아닐린.
본 발명은 또한 신규 화학식 (II)의 3-아미노티올에 관한 것이다:
Figure 112015061732548-pct00010
상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 불소 및 염소이다.
바람직하게, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 불소 및 염소이다.
아래의 화합물이 특히 바람직하다:
5-아미노-2,4-디클로로벤젠티올,
5-아미노-2-플루오로-4-메틸벤젠티올,
3-아미노-2-플루오로-4-메틸벤젠티올.
본 발명에 따른 방법이 하기 실시예로 설명되지만, 이로 한정되지 않는다.
실시예 1
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
3.32 g [20 mmol]의 요오드화칼륨을 350 ml 아세트산중 50.7 g [200 mmol]의 4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠설포닐 클로라이드의 용액에 첨가하고, 혼합물을 40-45℃로 가열하였다. 이 온도에서, 30.39 g [345 mmol]의 소듐 하이포포스파이트를 약 50 분에 걸쳐 나누어 첨가하였다. 혼합물을 40-45℃에서 8 시간동안 교반한 후, 실온으로 냉각하고, 대부분의 아세트산을 증류시켰다. 잔사를 150 ml의 물과 함께 교반하였다. 침전된 고체를 흡인하여 수집하고, 물로 세척한 다음, 건조시켰다. 36.75 g의 고체를 97.4%(w/w)의 순도로 수득하였다(이론치의 96.1%).
1H-NMR (600 MHz, CD3CN): δ = 2.50 (s, 6H), 7.34 (d, J = 12.0 Hz, 2H), 8.13 (d, J = 7.5 Hz, 2H) ppm.
19F-NMR (566 MHz, CDCl3): δ = -118.6 ppm.
실시예 2
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
1.66 g [10 mmol]의 요오드화칼륨 및 10 g [75.8 mmol]의 50% 수성 하이포아인산을 100 ml 아세트산중 12.7 g [50 mmol]의 4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠설포닐 클로라이드의 용액에 첨가하였다. 혼합물을 6 시간동안 60-95℃로 가열한 뒤, 실온으로 냉각하고, 회전증발기 상에서 증발시켰다. 잔사를 100 ml의 물에 취하고, 100　ml의 에틸 아세테이트로 추출하였다. 유기상을 20 ml의 반농축 소듐 바이설파이트 용액, 50 ml의 물 및 100 ml의 중탄산나트륨 용액으로 세척한 후, 건조하고, 농축하였다. 8.8 g의 고체를 92.1%의 순도로 수득하였다 (이론치의 87%).
실시예 3
1,1'-디설판디일비스(2-플루오로-4-메틸-5-니트로벤젠)
실시예 1의 절차와 유사.
19F-NMR (566 MHz, CDCl3): δ = -101.6 ppm.
실시예 4
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-3-니트로벤젠)
실시예 1의 절차와 유사.
19F-NMR (566 MHz, CDCl3): δ = -122 ppm.
실시예 5
1,1'-디설판디일비스(2,4-디클로로-5-니트로벤젠)
실시예 1의 절차와 유사.
logP(HCOOH): 5.69; logP(중성): 5.64
1H-NMR (d-DMSO, 400MHz) δ = 8.33 (s,　2H), 8.21　(s, 2H) ppm.
실시예 6
1-플루오로-4-[(2-플루오로-4-메틸-5-니트로페닐)디설파닐]-5-메틸-2-니트로벤젠
실시예 1의 절차와 유사.
19F-NMR (566 MHz, CDCl3): δ = -101.6 및 -118.4 ppm.
실시예 7
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린)
50 ml 테트라하이드로푸란중 1.96 g [5.27 mmol]의 1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)을 0.4 g의 라니 코발트 (Actimet) 위에서 19 시간동안 65℃ 및 30 바의 수소압하에 수소화하였다. 촉매를 여과한 후, 용매를 회전증발기 상에서 제거하였다. HPLC 분석에 의한 바 81.3% 3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린) 및 13.3% 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올을 포함하는 1.7 g의 고체를 수득하였다 (이론치의 97.5%).
LC/MS: 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올: m/e = 158 (MH+)
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린): m/e = 313 (MH+)
GC/MS (실릴화): 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올: m/e = 301 (M+, 2 x 실릴, 50%), 286 (< 5%), 181 (60%), 73 (100%).
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린): m/e = 456 (M+, 2 x 실릴, 100%), 441 (5%), 228 (100%), 73 (100%).
1H-NMR (600 MHz, d-DMSO): δ = 2.16 (s, 6H), 2.5 (m, 4H), 6.9-7 (m, 4H) ppm.
19F-NMR (566 MHz, CDCl3): δ = -134.5 ppm.
실시예 8
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린)
810 ml 테트라하이드로푸란중 152 g [408 mmol]의 1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)을 16 g의 라니 코발트 (Actimet) 위에서 19 시간동안 65℃ 및 30 바의 수소압하에 수소화하였다. 촉매를 여과한 후, 용매를 회전증발기 상에서 제거하였다. HPLC 분석에 의한 바 19.8% 3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린) 및 75.1% 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올을 포함하는 134.5 g의 고체를 수득하였다 (이론치의 99.6%).
실시예 9
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린)
35 ml 테트라하이드로푸란중 2.91 g [7.8 mmol]의 1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)을 0.3 g의 라니 니켈 (A 4000) 위에서 19 시간동안 65℃ 및 30 바의 수소압하에 수소화하였다. 촉매를 여과한 후, 용매를 회전증발기 상에서 제거하였다. HPLC 분석에 의한 바 67.3% 3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린) 및 12.6% 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올티올을 포함하는 2.6 g의 고체를 수득하였다 (이론치의 85%).
실시예 10
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린)
180 ml 메틸 tert-부틸 에테르중 34.2 g [91.8 mmol]의 1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)을 1.8 g의 라니 코발트 (Actimet) 위에서 19 시간동안 65℃ 및 30 바의 수소압하에 수소화하였다. 촉매를 여과한 후, 용매를 회전증발기 상에서 제거하였다. HPLC 분석에 의한 바 8.3% 3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린) 및 89.5% 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올티올을 포함하는 29.7 g의 고체를 수득하였다 (이론치의 92%).
실시예 11
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린)
180 ml 아세트산중 34.2 g [91.8 mmol]의 1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)을 1.8 g의 라니 코발트 (Actimet) 위에서 19 시간동안 65℃ 및 30 바의 수소압하에 수소화하였다. 촉매를 여과한 후, 용매를 회전증발기 상에서 제거하였다. HPLC 분석에 의한 바 8.9% 3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린) 및 89.3% 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올을 포함하는 30.1 g의 고체를 수득하였다.
실시예 12
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린)
180 ml 이소부틸 알콜중 34.2 g [91.8 mmol]의 1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)을 1.8 g의 라니 코발트 (Actimet) 위에서 19 시간동안 65℃ 및 30 바의 수소압하에 수소화하였다. 촉매를 여과한 후, 용매를 회전증발기 상에서 제거하였다. HPLC 분석에 의한 바 16% 3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린) 및 80.7% 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올을 포함하는 30 g의 고체를 수득하였다.
실시예 13
3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린)
9 ml 테트라하이드로푸란중 0.97 g [2.6 mmol]의 1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)을 44 mg의 5% Pt/C (Evonik F 105 NC/W) 위에서 19 시간동안 65℃ 및 60 바의 수소압하에 수소화하였다. 촉매를 여과한 후, 용매를 회전증발기 상에서 제거하였다. HPLC 분석에 의한 바 8% 3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린) 및 88.3% 5-아미노-4-플루오로-2-메틸벤젠티올을 포함하는 0.87 g의 고체를 수득하였다.
실시예 14
3,3'-디설판디일비스(4,6-디클로로아닐린)
실시예 9의 절차와 유사.
logP (HCOOH): 5.14; logP (중성): 4.95
1H-NMR (d-DMSO, 400MHz) δ = 7.41(s, 2H), 6.95　(s, 2H), 5.78 (broad, 4H) ppm.
GC-MS: EI-Mass (m/z): 386 (4 Cl) [M]+
하기 실시예 및 비교예는 본 발명에 따른 방법중 방법 단계 (A)의 구성에 관한 것이다. 따라서 수득된 생성물은 바람직하게는 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드이다.
실시예 15
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
1.66 g [10 mmol]의 요오드화칼륨을 50 g (47.7 ml) 아세트산중 25.4 g [100 mmol]의 4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠설포닐 클로라이드의 용액에 첨가하고, 혼합물을 60℃로 가열하였다. 이 온도에서, 15.9 g [150 mmol]의 소듐 하이포포스파이트 일수화물(2.7 g의 물 또는 5.1 중량%에 해당)을 약 100 분에 걸쳐 나누어 첨가하였다. 혼합물을 60-62℃에서 6 시간동안 교반한 후, 40℃로 냉각하고, 50 ml의 물을 여기에 첨가한 뒤, 혼합물을 40℃에서 30 분동안 교반하였다. 혼합물을 이어 10℃로 냉각하고, 침전된 고체를 여과한 뒤, 60 ml의 빙수로 세척하고, 건조시켰다. 16.99 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 92.9 면적% (IV), < 0.1 면적% (V); < 0.1 면적% (VI), < 0.1 면적% (VII)
수율: 이론치의 85%.
1H-NMR (600 MHz, CD3CN): δ = 2.50 (s, 6H), 7.34 (d, J = 12.0 Hz, 2H), 8.13 (d, J = 7.5 Hz, 2H) ppm.
19F-NMR (566 MHz, CDCl3): δ = -118.6 ppm.
실시예 16
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
1.66 g [10 mmol]의 요오드화칼륨을 50 g (47.7 ml) 아세트산 및 0.54 g 물(1.07 중량%에 해당) 중 25.4 g [100 mmol]의 4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠설포닐 클로라이드의 용액에 첨가하고, 혼합물을 60℃로 가열하였다. 이 온도에서, 수분 함량이 약 0.4%인 13.2 g [150　mmol]의 소듐 하이포포스파이트를 약 100 분에 걸쳐 나누어 첨가하였다. 혼합물을 60-62℃에서 6 시간동안 교반한 후, 40℃로 냉각하고, 50 ml의 물을 여기에 첨가한 뒤, 혼합물을 40℃에서 30 분동안 교반하였다. 혼합물을 이어 10℃로 냉각하고, 침전된 고체를 여과한 뒤, 60 ml의 빙수로 세척하고, 건조시켰다. 17.34 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 91.6 면적% (IV), < 0.1 면적% (V); < 0.1 면적% (VI), < 0.1 면적% (VII)
수율: 이론치의 85%.
비교예 1
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
1.66 g [10 mmol]의 요오드화칼륨을 50 g (47.7 ml) 아세트산중 25.4 g [100 mmol]의 4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠설포닐 클로라이드의 용액에 첨가하고, 혼합물을 60℃로 가열하였다. 이 온도에서, 수분 함량이 약 0.4%인 13.2 g [150 mmol]의 무수 소듐 하이포포스파이트를 약 100 분에 걸쳐 나누어 첨가하였다. 혼합물을 60-62℃에서 6 시간동안 교반한 후, 40℃로 냉각하고, 50 ml의 물을 여기에 첨가한 뒤, 혼합물을 40℃에서 30 분동안 교반하였다. 혼합물을 이어 10℃로 냉각하고, 침전된 고체를 여과한 뒤, 60 ml의 빙수로 세척하고, 건조시켰다. 17.14 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 8.7 면적% (IV), 83.7 면적% (V); 2.2 면적% (VI), 0.3 면적% (VII)
수율: (IV)의 이론치의 8%, (V)의 이론치의 74.6%.
실시예 17
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
1.66 g [10 mmol]의 요오드화칼륨을 96.5 g (92 ml) 아세트산 및 3 g 물(3.0 중량%에 해당) 중 25.4 g [100 mmol]의 4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠설포닐 클로라이드의 용액에 첨가하고, 혼합물을 60℃로 가열하였다. 이 온도에서, 13.2 g [150 mmol]의 무수 소듐 하이포포스파이트를 약 100 분에 걸쳐 나누어 첨가하였다. 혼합물을 58-62℃에서 5 시간동안 교반한 후, 40℃로 냉각하고, 50 ml의 물을 여기에 첨가한 뒤, 혼합물을 40℃에서 30 분동안 교반하였다. 혼합물을 이어 10℃로 냉각하고, 침전된 고체를 여과한 뒤, 60 ml의 빙수로 세척하고, 건조시켰다. 16.54 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 92.9 면적% (IV), < 0.1 면적% (V); < 0.1 면적% (VI), < 0.1 면적% (VII)
수율: 이론치의 83%.
실시예 18
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
98.1 g (93.5 ml)의 아세트산 및 1.5 g의 물(1.5 중량%에 해당)을 사용하고 실시예 17의 절차를 수행하여 16.91 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 92.1 면적% (IV), < 0.1 면적% (V); < 0.1 면적% (VI), < 0.1 면적% (VII)
수율: 이론치의 84%.
실시예 19
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
98.85 g (94.2 ml)의 아세트산 및 0.75 g의 물(0.38 중량%에 해당)을 사용하고 실시예 17의 절차를 수행하여 17.31 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 90.9 면적% (IV), < 0.1 면적% (V); < 0.1 면적% (VI), < 0.1 면적% (VII)
수율: 이론치의 84%.
실시예 20
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
99.2 g (94.6 ml)의 아세트산 및 0.375 g의 물(0.38 중량%에 해당)을 사용하고 실시예 17의 절차를 수행하여 17.20 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 92 면적% (IV), < 0.1 면적% (V); < 0.1 면적% (VI), < 0.1 면적% (VII)
수율: 이론치의 86%.
실시예 21
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
99.4 g (94.8 ml)의 아세트산 및 0.188 g의 물(0.19 중량%에 해당)을 사용하고 실시예 17의 절차를 수행하여 16.97 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 94.6 면적% (IV), < 0.1 면적% (V); < 0.1 면적% (VI), < 0.1 면적% (VII)
수율: 이론치의 86%.
비교예 2
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
99.5 g (94.9 ml)의 아세트산 및 0.094 g의 물(0.09 중량%에 해당)을 사용하고 실시예 17의 절차를 수행하여 16.37 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 37.8 면적% (IV), 49.5 면적% (V); 8.7 면적% (VI), 0.9 면적% (VII)
수율: (IV)의 이론치의 33.2%, (V)의 이론치의 43.3%.
비교예 3
1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠)
물의 첨가없이 100 g (95.3 ml)의 아세트산을 사용하고 실시예 17의 절차를 수행하여 15.96 g의 고체를 수득하였다.
HPLC 분석: 5.0 면적% (IV), 89.3 면적% (V); 2.2 면적% (VI), 0.4 면적% (VII)
수율: (IV)의 이론치의 4.3%, (V)의 이론치의 75.8%.

Claims (19)

  1. (A) 화학식 (III)의 3-니트로페닐설포닐 클로라이드를 하이포아인산(H3PO2) 또는 그의 염의 존재하에 촉매량의 요오다이드로 환원시켜 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드를 제공하고,
    (B) 상기 수득한 화학식 (IV)의 화합물을, 금속 촉매의 존재하에 수소를 사용하여 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및/또는 화학식 (II)의 3-아미노티올로 환원시키고, 상기 금속 촉매의 금속은 니켈 또는 코발트인 것을 특징으로 하는,
    화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및/또는 화학식 (II)의 3-아미노티올의 제조방법:
    Figure 112020019392943-pct00011

    Figure 112020019392943-pct00012

    Figure 112020019392943-pct00013

    Figure 112020019392943-pct00014

    상기 식에서,
    잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 선형 또는 분지형 (C1-C4)-알킬, 선형 또는 분지형 (C1-C4)-알콕시, 할로겐 또는 아미노이다.
  2. 제1항에 있어서, 촉매량의 금속 요오다이드가 단계 (A)에서 사용되고, 여기서 촉매의 양은 화학식 (III)의 화합물에 기초해 0.1 내지 20 몰%임을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 화학식 (III)의 화합물에 기초해 1 내지 2 몰 당량의 하이포아인산 또는 소듐 하이포포스파이트가 단계 (A)에서 사용됨을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 단계 (B)에 사용된 촉매가 금속 니켈 또는 코발트이고, 상기 촉매의 양이 화학식 (IV)의 화합물에 기초해 0.01 내지 50 중량%임을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 단계 (B)에서 온도가 20℃ 내지 150℃임을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 단계 (A)에서 온도가 0℃ 내지 150℃임을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 단계 (A)가 물의 존재하에 유기 용매중에서 수행됨을 특징으로 하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 하이포아인산 또는 소듐 하이포포스파이트(NaH2PO2)가 물의 존재하에 사용됨을 특징으로 하는 방법.
  9. 제7항에 있어서, 물의 양이 유기 용매 및 물의 합한 양을 기초로 적어도 0.15 중량%임을 특징으로 하는 방법.
  10. 제7항에 있어서, 물이 수화물 형태의 소듐 하이포포스파이트(NaH2PO2×H2O)에 의해 제공됨을 특징으로 하는 방법.
  11. 제7항에 있어서, 화학식 (III)의 화합물의 농도가 적어도 0.6 mol/l임을 특징으로 하는 방법.
  12. 화학식 (IV)의 비스(3-니트로페닐)디설파이드:
    Figure 112020019392943-pct00015

    상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시 또는 불소이다.
  13. 제12항에 있어서,
    1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-5-니트로벤젠),
    1,1'-디설판디일비스(2-플루오로-4-메틸-5-니트로벤젠),
    1,1'-디설판디일비스(4-플루오로-2-메틸-3-니트로벤젠),
    1-플루오로-4-[(4-플루오로-2-메틸-5-니트로페닐)디설파닐]-3-메틸-2-니트로벤젠,
    1-플루오로-4-[(2-플루오로-4-메틸-5-니트로페닐)디설파닐]-5-메틸-2-니트로벤젠,
    1-플루오로-4-[(2-플루오로-4-메틸-5-니트로페닐)디설파닐]-3-메틸-2-니트로벤젠으로부터 선택되는 화학식 (IV)의 화합물.
  14. 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드:
    Figure 112020019392943-pct00016

    상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시 또는 불소이다.
  15. 제14항에 있어서,
    3,3'-디설판디일비스(6-플루오로-4-메틸아닐린),
    3,3'-디설판디일비스(4-플루오로-6-메틸아닐린),
    3,3'-디설판디일비스(2-플루오로-6-메틸아닐린),
    3-[(5-아미노-4-플루오로-2-메틸페닐)디설파닐]-6-플루오로-2-메틸아닐린,
    5-[(5-아미노-2-플루오로-4-메틸페닐)디설파닐]-2-플루오로-4-메틸아닐린,
    3-[(5-아미노-2-플루오로-4-메틸페닐)디설파닐]-6-플루오로-2-메틸아닐린으로부터 선택되는 화학식 (I)의 화합물.
  16. 화학식 (I)의 비스(3-아미노페닐)디설파이드:
    Figure 112020019392943-pct00020

    여기서, 상기 화합물은 3,3'-디설판디일비스(4,6-디클로로아닐린)이다.
  17. 화학식 (II)의 3-아미노티올:
    Figure 112020019392943-pct00021

    상기 식에서, 잔기 X 및 Y는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 불소 또는 염소이고,
    여기서, 상기 화합물은,
    5-아미노-2,4-디클로로벤젠티올 및
    3-아미노-2-플루오로-4-메틸벤젠티올로부터 선택된다.
  18. 삭제
  19. 삭제
KR1020157017019A 2012-12-12 2013-12-12 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 3-아미노티올의 제조방법 KR102155759B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP12196615 2012-12-12
EP12196615.4 2012-12-12
PCT/EP2013/076301 WO2014090913A1 (de) 2012-12-12 2013-12-12 Verfahren zur herstellung von bis(3-aminophenyl)-disulfiden und 3-aminothiolen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150092197A KR20150092197A (ko) 2015-08-12
KR102155759B1 true KR102155759B1 (ko) 2020-09-14

Family

ID=47325943

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157017019A KR102155759B1 (ko) 2012-12-12 2013-12-12 비스(3-아미노페닐)디설파이드 및 3-아미노티올의 제조방법

Country Status (12)

Country Link
US (2) US10053421B2 (ko)
EP (1) EP2931703B1 (ko)
JP (1) JP6309966B2 (ko)
KR (1) KR102155759B1 (ko)
CN (2) CN108640863A (ko)
BR (1) BR112015013603B1 (ko)
DK (1) DK2931703T3 (ko)
ES (1) ES2706755T3 (ko)
IL (1) IL239137B (ko)
MX (1) MX364905B (ko)
TW (1) TWI623520B (ko)
WO (1) WO2014090913A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4045482A1 (de) * 2019-10-16 2022-08-24 Bayer Aktiengesellschaft Verfahren zur herstellung von 1,1'-disulfandiylbis(4-fluor-2-methyl-5-nitrobenzol)
IL310365A (en) 2021-07-27 2024-03-01 Bayer Ag A process for preparing derivatives of (2,2,2-trifluoroethyl)sulfanylaniline
CN115521234B (zh) * 2022-11-28 2023-03-24 苏州开元民生科技股份有限公司 一种邻氨基苯硫酚的合成方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2986581A (en) * 1959-11-05 1961-05-30 Trubek Lab Production of aromatic disulfides
DD149363A1 (de) * 1980-02-27 1981-07-08 Guenter Domschke Verfahren zur herstellung von diazidodiphenyldisulfiden
DE3216126A1 (de) * 1982-04-30 1983-11-03 Cassella Ag, 6000 Frankfurt Verfahren zur herstellung von disulfiden
DE3820948A1 (de) * 1988-06-16 1989-12-21 Schering Ag 10ss, 11ss-ueberbrueckte steroide
JP2684749B2 (ja) * 1989-02-23 1997-12-03 日産化学工業株式会社 ビス―（４―フルオロ―２―クロルフェニル）ジスルフィド誘導体
DE3929170A1 (de) * 1989-09-02 1991-03-07 Bayer Ag N- (5-alkylthiophenyl)-stickstoffheterocyclen
JP2920557B2 (ja) * 1990-08-27 1999-07-19 イハラケミカル工業株式会社 ２−（５−アミノ−２−クロロ−４−フルオロフエニルチオ）酢酸メチルエステルの製造法およびその中間体
JP3172878B2 (ja) * 1990-12-27 2001-06-04 イハラケミカル工業株式会社 新規なジスルフィド化合物
US6141051A (en) 1993-11-26 2000-10-31 Sinar Ag Still photographic camera and image generation process
AU1108395A (en) 1993-12-07 1995-06-27 Smithkline Beecham Plc Heterocyclic biphenylylamides useful as 5ht1d antagonists
JP3332561B2 (ja) * 1994-03-17 2002-10-07 イハラケミカル工業株式会社 チオアリール化合物の製造方法
DE4420777A1 (de) 1994-06-15 1995-12-21 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von 4-Fluorthiophenol
JPH08198842A (ja) * 1995-01-25 1996-08-06 Nissan Chem Ind Ltd ジフェニルジスルフィド誘導体
US7101676B2 (en) * 2002-01-11 2006-09-05 Douglas Buechter Methods for identifying compounds which inhibit binding of nucleocapsid 7 protein to HIV-1 RNA
KR101310073B1 (ko) * 2004-10-20 2013-09-24 이하라케미칼 고교가부시키가이샤 3-트리아졸릴페닐설파이드 유도체 및 그것을유효성분으로서 함유하는 살충·살진드기·살선충제
KR100654208B1 (ko) 2005-12-05 2006-12-06 주식회사 제이엠씨 방향족 디설파이드의 제조방법
KR101524817B1 (ko) * 2007-04-18 2015-06-01 깃세이 야쿠힌 고교 가부시키가이샤 질소 함유 축합환 유도체, 그것을 함유하는 의약 조성물 및 그 의약 용도
JP2008308493A (ja) * 2007-05-17 2008-12-25 Kissei Pharmaceut Co Ltd 新規なカテコール誘導体、それを含有する医薬組成物およびそれらの用途
KR101587438B1 (ko) * 2007-11-30 2016-01-21 이하라케미칼 고교가부시키가이샤 3-메르캅토아닐린 화합물의 제조법
CA2737830A1 (en) * 2008-09-19 2010-03-25 Novartis Ag Glycoside derivatives and uses thereof
EP2274982A1 (de) 2009-07-16 2011-01-19 Bayer CropScience AG Verwendung von Phenyltriazolen zur Bekämpfung von Insekten und Spinnmilben durch Angiessen, Tröpfchen- oder Tauchapplikation oder durch Behandlung von Saatgut
JP5628937B2 (ja) * 2010-01-05 2014-11-19 スベン ライフ サイエンシズ リミティド ５−ｈｔ６受容体リガンドとしてのスルホン化合物
JP2011219419A (ja) * 2010-04-09 2011-11-04 Kumiai Chemical Industry Co Ltd 光学活性（＋）−１−［２，４−ジメチル−５−（２，２，２−トリフルオロエチルスルフィニル）フェニル］−３−（トリフルオロメチル）−１ｈ−１，２，４−トリアゾール及び有害生物防除剤
GB201008047D0 (en) * 2010-05-14 2010-06-30 Ge Healthcare Ltd Method of synthesis

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Synthesis, Vol.19, pp.3211-3213, 2009*

Also Published As

Publication number Publication date
JP6309966B2 (ja) 2018-04-11
CN104854085B (zh) 2018-06-01
ES2706755T3 (es) 2019-04-01
IL239137B (en) 2019-03-31
US20150329485A1 (en) 2015-11-19
US20180258036A1 (en) 2018-09-13
US10053421B2 (en) 2018-08-21
CN108640863A (zh) 2018-10-12
DK2931703T3 (en) 2019-01-07
CN104854085A (zh) 2015-08-19
IL239137A0 (en) 2015-07-30
US10239831B2 (en) 2019-03-26
MX364905B (es) 2019-05-13
TW201439045A (zh) 2014-10-16
EP2931703A1 (de) 2015-10-21
JP2015537053A (ja) 2015-12-24
MX2015007277A (es) 2015-08-12
KR20150092197A (ko) 2015-08-12
TWI623520B (zh) 2018-05-11
WO2014090913A1 (de) 2014-06-19
BR112015013603B1 (pt) 2020-12-15
EP2931703B1 (de) 2018-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK2734493T3 (en) METHOD OF PREPARING 2,2-DIFLUORETHANOL
US10239831B2 (en) Method for producing bis(3-aminophenyl)disulfides and 3-aminothiols
KR101653025B1 (ko) 2-아미노-4-트리플루오로메틸피리딘류의 제조 방법
US20080033154A1 (en) Process for Producing 3-Aminomethyltetrahydrofuran Derivative
JPH11343287A (ja) イソクロマン―３―オンの製造方法
US7288678B2 (en) Process for preparing terbinafine by using platinum as catalyst
JP4032861B2 (ja) β−オキソニトリル誘導体又はそのアルカリ金属塩の製法
EP2858966A1 (fr) Procede de creation de liaisons carbone-carbone a partir de composes carbonyles
JP5507147B2 (ja) ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体
JPH0361664B2 (ko)
US6664425B2 (en) Process for producing 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene
KR100848977B1 (ko) 3－아미노메틸테트라히드로푸란 유도체의 제조방법
JPH0159266B2 (ko)
JP2003146921A (ja) パーフルオロアルキル化合物の製造方法
JP2000007659A (ja) ハロゲノ−２（１ｈ）−ピリドンの製造方法
JPWO2012073635A1 (ja) α−メチル−β−ケトエステルの新規製造法
WO2010055884A1 (ja) ピラジン誘導体類の製造方法及びその中間体類

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant