KR102057847B1 - 코팅 시스템 - Google Patents

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에이치피 인디고 비.브이.
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Abstract

본원에는 2-성분 코팅 시스템이 기재되어 있다. 2-성분 코팅 시스템은 베이스 성분 및 경화제 성분을 포함할 수 있다. 상기 베이스 성분은, 55 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터; 3 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리실록산; 및 방향족 탄화수소, 케톤, 에스터 및 이들의 조합으로부터 선택되는 용매를 포함하고, 이때, 상기 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터 및 하이드록실 말단 폴리실록산은 상기 용매에 용해된다. 상기 경화제 성분은, 80 중량% 이하의 폴리이소시아네이트; 및 방향족 탄화수소, 케톤, 에스터 및 이들의 조합으로부터 선택되는 용매를 포함하고, 이때, 상기 폴리이소시아네이트는 상기 용매에 용해된다.

Description

코팅 시스템
정전 인쇄 공정은 전형적으로 광 전도성 표면 상에 이미지를 생성하는 단계, 대전된 입자를 갖는 잉크를 광전도성 표면에 적용하여 상기 이미지에 선택적으로 결합시키는 단계, 및 이어서 상기 대전된 입자를 상기 이미지의 형태로 인쇄 기판으로 전사하는 단계를 포함한다.
광전도성 표면은 전형적으로 실린더 상에 있으며 종종 광 이미징 플레이트(PIP)라고 한다. 광전도성 표면은 상이한 전위를 갖는 이미지 및 배경 영역을 갖는 정전 이미지로 선택적으로 대전된다. 예를 들어, 캐리어 액체 중에 대전된 토너 입자를 포함하는 정전 잉크 조성물은 선택적으로 대전된 광전도성 표면과 접촉될 수 있다. 대전된 토너 입자는 배경 영역이 청결하게 유지되는 동안 이미지 영역에 접착된다. 이어서, 이미지는 직접 인쇄 기판(예를 들어, 종이)에 전사되거나, 또는 보다 일반적으로는 중간 전사 부재에 먼저 전사됨으로써 전사된다.
이미지의 정전 인쇄 중에, 잉크가 프린터의 다양한 부품에 접촉하고/하거나 반발될 수 있다. 일부 경우에는, 잉크가 프린터 부품에 쌓일 수 있다.
도 1은 액체 전자사진(LEP) 프린터의 개략도이다.
도 2는 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅이 배치될 수 있는 BID 트레이의 일례를 포함하는 2진 잉크 현상기(BID) 유닛의 개략도이다.
도 3은 상이한 중합체 코팅을 갖는 상이한 기판 상의 잉크 도포율(coverage)을 도시한 그래프이다.
코팅 시스템 및 관련 양태를 개시하고 기술하기 전에, 본 발명은 본원에 개시된 공정 특징 및 물질이 다소 다양할 수 있기 때문에 본 발명은 본원에 개시된 특정 공정 특징 및 물질에 한정되지 않음을 이해해야 한다. 본원에 사용된 용어는 특정 실시예만을 설명하기 위해 사용된 것으로 이해해야 한다. 용어들은 본 발명의 범위가 첨부된 청구범위 및 이의 균등물에 의해서만 제한되도록 의도되기 때문에 한정적인 것은 아니다.
본원 명세서 및 첨부된 청구범위에서 사용된 단수 형태는 문맥상 명확하게 달리 지시하지 않는 한 복수 형태를 포함한다.
본원에 사용된 "정전 잉크(electrostatic ink)"는 일반적으로 때때로 전자사진 인쇄 공정이라고도 하는 전형적으로 정전 인쇄 공정에서의 사용에 적합한 잉크 조성물을 지칭한다. 정전 잉크는 액체 캐리어에 분산된 수지 및 안료의 대전가능한 입자를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 정전 잉크는 휴렛-팩커드 컴퍼니(Hewlett-Packard Company)에 의해 개발된 일렉트로잉크(ElectroInk®) 또는 임의의 다른 액체 전자사진(LEP) 잉크와 같은 액체 정전 잉크일 수 있다.
본원에 사용된 "정전 인쇄" 또는 "전자사진 인쇄"는 일반적으로 직접적으로 또는 간접적으로 중간 전사 부재를 통해 광 이미징 기판으로부터 인쇄 기판으로 전사되는 이미지를 제공하는 공정을 지칭한다. 이와 같이, 이미지는 적용되는 광 이미징 기판에 실질적으로 흡수되지 않는다. 또한, "전자사진 프린터" 또는 "정전 프린터"는 일반적으로 전술한 바와 같이 전자사진 인쇄 또는 정전 인쇄를 수행할 수 있는 프린터를 지칭한다. "액체 전자사진 인쇄"는 액체 잉크가 분말 토너가 아닌 전자사진 공정에서 사용되는 특정 유형의 전자사진 인쇄이다. 정전 인쇄 공정은 정전 잉크 조성물을 전기장 예를 들어 1000 V/cm 이상 또는 일부 실시예에서는 1500 V/cm 이상의 전기장 구배를 갖는 전기장에 가하는 단계를 포함할 수 있다.
본원에서 표준 시험 방법이 언급되는 경우, 달리 기재하지 않는 한, 언급될 시험 버전은 본 특허 출원 시점에서 가장 최근의 것이다.
본원에 사용된 "약"이라는 용어는 주어진 값이 종점의 "약간 위" 또는 "약간 아래"일 수 있다는 것을 제공함으로써 수치 범위 종점에 유연성을 제공하기 위해 사용된다. 이러한 용어의 유연성 정도는 특정 변수에 의해 지시될 수 있고, 경험 및 여기에 관련된 설명에 기초하여 결정되는 당업자의 지식 범위 내에 있을 수 있다.
본원에 사용된 복수의 항목, 구조 요소, 구성 요소 및/또는 물질이 편의상 공통 목록으로 제공될 수 있다. 그러나, 이러한 목록은 목록의 각 구성원이 독립적이고 고유한 구성원으로 개별적으로 식별되는 것처럼 해석되어야 한다. 따라서, 이러한 목록의 개별 구성원은 달리 지시되지 않는 한 통상적인 그룹에 있는 진술만을 근거로 동일한 목록의 임의의 다른 구성원과 실질적으로 균등한 것으로 해석되어서는 안 된다.
크기, 양 및 기타 수치 데이터는 본원에서 범위 형식으로 표현되거나 제시될 수 있다. 이러한 범위 형식은 단지 편의상 및 간결성을 위해 사용된 것으로서, 범위의 한계로서 명시적으로 언급된 수치뿐만 아니라 각각의 수치 및 하위 범위가 명시적으로 인용된 것처럼 모든 개별 수치 또는 그 범위 내에 포함된 하위 범위를 포함하도록 유연하게 해석되어야 함을 이해해야 한다. 예시로서, "약 1 중량% 내지 약 5 중량%"의 수치 범위는 약 1 중량% 내지 약 5 중량%의 명시적으로 인용된 값을 포함할 뿐만 아니라 개별 값 및 그 범위 내에 있는 하위 범위를 포함하는 것으로 해석해야 한다. 따라서, 이 수치 범위에는 2, 3.5 및 4와 같은 개별 값과 1 내지 3, 2 내지 4 및 3 내지 5 등과 같은 하위 범위가 포함된다. 이 같은 원리는 하나의 수치만을 나타내는 범위에도 적용된다. 또한, 범위의 폭이나 기술된 특징에 관계 없이 이러한 해석이 적용되어야 한다.
달리 언급되지 않는 한, 본원에 기재된 모든 특징은 본원에 기재된 임의의 양태 또는 임의의 다른 특징과 조합될 수 있다.
일 양태에서, 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅을 형성하기 위한 코팅 시스템이 제공된다. 코팅 시스템은 용매-계 코팅 시스템으로 설명될 수 있다. 코팅 시스템은 베이스 성분 및 경화제 성분을 포함할 수 있고, 이때, 베이스 성분은 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터 및 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함하는 폴리올 조성물을 포함할 수 있으며, 경화제 성분은 폴리이소시아네이트를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스 성분 및 경화제 성분은 모두 방향족 탄화수소, 케톤, 에스터 및 이들의 조합으로부터 선택된 용매를 포함한다.
베이스 성분 및 경화제 성분을 포함하는 코팅 시스템은 본원에서 2-성분 코팅 시스템으로 지칭된다.
일부 실시예에서, 코팅 시스템은 별도의 베이스 및 경화제 성분을 포함하며, 예를 들어, 베이스 성분 및 경화제 성분은 별도의 용기에 함유될 수 있다. 일부 실시예에서, 2-성분 시스템은 베이스 성분을 포함하는 제1 저장소 및 경화제 성분을 포함하는 제2 저장소를 포함한다.
일부 실시예에서, 코팅 시스템은 베이스 성분을 포함하는 제1 저장소 및 경화제 성분을 포함하는 제2 저장소를 포함하는 키트일 수 있다.
일 양태에서, 2-성분 코팅 시스템이 제공된다. 2-성분 코팅 시스템은 베이스 성분 및 경화제 성분을 포함할 수 있으며, 이때, 상기 베이스 성분은, 55 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터; 3 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리실록산; 및 방향족 탄화수소, 케톤, 에스터 및 이들의 조합으로부터 선택된 용매를 포함하고, 이때, 상기 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터 및 하이드록실 말단 폴리실록산이 상기 용매에 용해되고, 상기 경화제 성분은, 80 중량% 이하의 폴리이소시아네이트; 및 방향족 탄화수소, 케톤, 에스터 및 이들의 조합으로부터 선택된 용매를 포함하고, 이때, 상기 폴리이소시아네이트가 상기 용매에 용해된다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 55 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리에스터를 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 45 내지 55 중량%의 하이드록실 말단 폴리에스터를 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 45 내지 55 중량%의 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터를 포함한다.
베이스 성분 중에 존재할 수 있는 임의의 하이드록실 말단 폴리에스터, 하이드록실 말단 폴리에터 또는 하이드록실 말단 폴리실록산은 베이스 성분의 용매에 용해될 수 있다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 1 중량% 초과의 하이드록실 함량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 3 중량% 초과의 하이드록실 함량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 5 중량% 초과의 하이드록실 함량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 7 중량% 초과의 하이드록실 함량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 9 중량% 초과의 하이드록실 함량을 갖는다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 10 중량% 이하의 하이드록실 함량을 갖는다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터의 총 중량에 대하여 약 1 중량% 내지 약 10 중량% 함량의 하이드록실 함량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 5 중량% 내지 약 10 중량%의 하이드록실 함량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 7 중량% 내지 약 10 중량%의 하이드록실 함량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터는 하이드록실 말단 폴리에스터/폴리에터의 총 중량에 대하여 약 9 중량% 내지 약 10 중량%의 하이드록실 함량을 갖는다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터는 분지형 하이드록실 말단 폴리에스터를 포함한다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에스터는 상이한 분지형 하이드록실 말단 폴리에스터의 혼합물을 포함한다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에터는 분지형 하이드록실 말단 폴리에터를 포함한다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리에터는 상이한 분지형 하이드록실 말단 폴리에터의 혼합물을 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 하이드록실 말단 폴리에스터 및 하이드록실 말단 폴리에터를 포함하며, 이때, 상기 베이스 성분은 총 55 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리에스터 및 하이드록실 말단 폴리에터를 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 선형 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다. 선형 하이드록실 말단 폴리실록산은 분자 당 2개의 하이드록실 기를 포함한다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리실록산은 카비놀 말단 폴리실록산이다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리실록산은, 다우 코닝(Dow Corning)으로부터 입수가능한 다우 코닝 5562 카비놀 유체(비스-하이드록시에톡시프로필 다이메티콘, 25℃에서 점도 50 cSt)와 같은 하이드록실 말단 폴리다이메틸실록산(폴리다이메틸실록산은 또한 다이메티콘으로 공지되어 있음), 겔레스트(Gelest)로부터 입수가능한 DMS-C21(비스-하이드록시에톡시프로필 폴리다이메틸실록산, 점도 110 내지 140 cSt), 겔레스트로부터 입수가능한 DMS-C15(비스-하이드록시에톡시프로필 폴리다이메틸실록산, 점도 30 내지 50 cSt) 또는 모멘티브(Momentive)로부터 입수가능한 베이실론(Baysilone) OF-OH702 E이다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리실록산은 하기 화학식 (I)을 가질 수 있다:
Figure 112017072887431-pct00001
(I)　
상기 식에서, m은 1이고; n은 정수이다.
일부 실시예에서, n은 5 이상, 일부 실시예에서는 10 이상, 일부 실시예에서는 50 이상, 일부 실시예에서는 70 이상일 수 있다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리실록산은 비스-하이드록시에톡시프로필 폴리다이메틸실록산이다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리실록산은 500 내지 15000 달톤의 분자량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리실록산은 500 내지 10000 달톤의 분자량을 갖는다. 일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리실록산은 600 내지 10000 달톤의 분자량을 갖는다.
일부 실시예에서, 하이드록실 말단 폴리실록산은 약 10 내지 약 1000 cSt, 일부 실시예에서는 약 20 내지 약 500 cSt의 점도를 갖는다.
본원에 기재된 점도는 달리 명시하지 않는 한 23℃에서 측정할 수 있다. 본원에 기재된 점도는 ASTM D 445-46T에 따라 측정할 수 있다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 3 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 2.5 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 2 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.05 중량% 이상의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.1 중량% 이상의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.2 중량% 이상의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.1 내지 3 중량%의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.1 내지 2.5 중량%의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.2 내지 2 중량%의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 촉매를 추가로 포함한다. 일부 실시예에서, 촉매는 유기금속성 촉매이다. 일부 실시예에서, 유기금속성 촉매는 주석-함유 촉매이다. 일부 실시예에서, 주석-함유 촉매는 다이부틸주석 다이라우레이트일 수 있다.
일부 실시예에서, 촉매는 존재할 수 있는 임의의 물과 이소시아네이트의 반응보다 경화제 성분의 이소시아네이트와 베이스 성분의 하이드록실 기의 반응을 촉진시키는 촉매이다.
일부 실시예에서, 촉매는 열 경화 촉매이다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 촉매를 약 2 중량% 이하로 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 촉매를 약 1 중량% 이하로 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.1 중량% 이상의 촉매를 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.5 중량% 이상의 촉매를 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.5 중량% 내지 약 1 중량%의 촉매를 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 40 중량% 이상의 용매를 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 45 중량% 이상의 용매를 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 50 중량% 이상의 용매를 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 55 중량% 이하의 용매를 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분의 용매는 에틸 아세테이트, 글리콜 아세테이트, 메틸 에틸 케톤, 이소프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트 및 톨루엔 또는 이들의 조합으로부터 선택된다. 일부 실시예에서, 베이스 성분의 용매는 에틸 아세테이트, 글리콜 아세테이트 및 메틸 에틸 케톤 또는 이들의 조합으로부터 선택된다. 일부 실시예에서, 베이스 성분의 용매는 이소프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트 및 톨루엔 또는 이들의 조합으로부터 선택된다.
일부 실시예에서, 베이스 성분의 용매는 약 18 중량% 내지 약 23 중량%의 에틸 아세테이트; 약 22 중량% 내지 약 27 중량%의 글리콜 아세테이트; 및 약 2 중량% 내지 약 4 중량%의 메틸 에틸 케톤을 포함한다.
일부 실시예에서, 베이스 성분의 용매는 폴리우레탄 등급 용매이다. 폴리우레탄 등급 용매는 수분 함량이 0.05 중량% 이하인 용매로서 정의될 수 있다.
일부 실시예에서, 베이스 성분은 수분 제거제(scavenger)를 추가로 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 5 중량% 이하의 수분 제거제를 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분은 약 0.5 중량% 내지 약 3 중량%의 수분 제거제를 포함한다. 일부 실시예에서, 수분 제거제는 트라이에틸 오르토포메이트와 같은 가수분해성 에스터이다.
폴리이소시아네이트는 적어도 2개의 이소시아네이트 작용기를 포함하는 분자이다.
일부 실시예에서, 경화제 성분은 지방족 폴리이소시아네이트를 포함한다. 일부 실시예에서, 지방족 폴리이소시아네이트는 C2-C12 지방족 폴리이소시아네이트, 일부 실시예에서는 C2-C8일 수 있다.
일부 실시예에서, 지방족 폴리이소시아네이트는 분자 당 2개 이상의 이소시아네이트 기를 포함한다. 일부 실시예에서, 지방족 폴리이소시아네이트는 분자 당 2 또는 3개의 이소시아네이트 기를 포함한다.
일부 실시예에서, 지방족 폴리이소시아네이트는 다이이소시아네이트이거나 또는 다이이소시아네이트로부터 유도된다. 일부 실시예에서 "다이이소시아네이트로부터 유도된 지방족 폴리이소시아네이트"는 다이이소시아네이트 단량체로부터 형성된 예비-중합체 예를 들어 다이이소시아네이트 작용기를 포함하는 예비-중합체를 의미한다. 일부 실시예에서, 지방족 폴리이소시아네이트는 헥사메틸렌 다이이소시아네이트이거나 헥사메틸렌 다이이소시아네이트 예를 들어 헥사메틸렌 다이이소시아네이트 작용기를 포함하는 예비-중합체를 기제로 한다. 일부 실시예에서, 지방족 폴리이소시아네이트는 HDI-뷰렛 폴리이소시아네이트, 즉 분자 당 3개의 이소시아네이트 기를 갖는 폴리이소시아네이트, 또는 HDI-뷰렛 폴리이소시아네이트 예를 들어 HDI-뷰렛 폴리이소시아네이트 작용기를 포함하는 예비-중합체를 기제로 한다.
본원에 사용된 '예비 중합체'라는 용어는 경화제 성분의 폴리이소시아네이트를 기술하는 데 사용될 수 있다.
일부 실시예에서, 경화제 성분은 약 74 중량% 내지 약 80 중량%의 폴리이소시아네이트를 포함한다.
일부 실시예에서, 경화제 성분은 수분 제거제를 추가로 포함한다. 일부 실시예에서, 경화제 성분은 5 중량% 이하의 수분 제거제를 포함한다. 일부 실시예에서, 경화제 성분은 약 0.5 중량% 내지 약 3 중량%의 수분 제거제를 포함한다. 일부 실시예에서, 수분 제거제는 트라이에틸 오르토포메이트와 같은 가수분해성 에스터이다.
일부 실시예에서, 베이스 성분 또는 경화제 성분 중 하나는 수분 제거제를 포함한다. 일부 실시예에서, 베이스 성분 및 경화제 성분은 수분 제거제를 포함한다.
일부 실시예에서, 경화제 성분은 약 5 중량% 이상의 용매를 포함한다. 일부 실시예에서, 경화제 성분은 약 10 중량% 이상의 용매를 포함한다. 일부 실시예에서, 경화제 성분은 약 15 중량% 이상의 용매를 포함한다. 일부 실시예에서, 경화제 성분은 약 18 중량% 이상의 용매를 포함한다. 일부 실시예에서, 경화제 성분은 약 20 중량% 이상의 용매를 포함한다.
일부 실시예에서, 경화제 성분은 약 25 중량% 이하의 용매를 포함한다.
일부 실시예에서, 경화제 성분의 용매는 에틸 아세테이트, 글리콜 아세테이트 또는 이들의 조합으로부터 선택된다.
일부 실시예에서, 경화제 성분의 용매는 약 5 중량% 내지 약 7 중량%의 에틸 아세테이트; 및 약 13 중량% 내지 약 18 중량%의 글리콜 아세테이트를 포함한다.
일부 실시예에서, 경화제 성분의 용매는 폴리우레탄 등급 용매이다. 폴리우레탄 등급 용매는 수분 함량이 0.05 중량% 이하인 용매로서 정의될 수 있다.
일부 실시예에서, 경화제 성분의 용매는 베이스 성분의 용매와 동일하다.
일부 실시예에서, 베이스 성분 및/또는 경화제 성분은 5 중량% 미만의 물, 일부 실시예에서는 3 중량% 미만의 물, 일부 실시예에서는 4 중량% 미만의 물, 일부 실시예에서는 0.5 중량% 미만의 물, 일부 실시예에서는 0.1 중량% 미만의 물, 및 일부 실시예에서는 0.05 중량% 미만의 물을 포함한다.
일 양태에서, 전술한 베이스 성분 및 경화제 성분을 갖는 2-성분 시스템의 경화 생성물인 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅이 제공된다.
일 양태에서, 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅이 배치된 기판이 제공된다. 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅은 상술한 바와 같은 베이스 성분 및 경화제 성분을 갖는 2-성분 시스템의 경화 생성물을 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 상기 코팅은, 베이스 성분의 하이드록실 기의 총 개수에 대한 경화제 성분의 이소시아네이트 작용기의 개수의 비(NCO/OH 지수라고도 함)가 약 0.8 이상, 일부 실시예에서는 약 0.88 이상, 일부 실시예에서는 약 0.9 이상이 되도록 조합된 상기 2-성분 시스템의 베이스 성분과 경화제 성분의 경화 생성물이다.
일부 실시예에서, 베이스 성분의 하이드록실 기의 총 개수에 대한 경화제 성분의 이소시아네이트 작용기의 개수의 비(NCO/OH 지수라고도 함)가 0.8 내지 1.5의 범위가 되도록 조합된 상기 코팅이 상기 2-성분 시스템의 베이스 성분과 경화제 성분의 경화 생성물이다. 일부 실시예에서, NCO/OH 지수는 0.8 내지 1.3의 범위이고, 일부 실시예에서 NCO/OH 지수는 0.8 내지 1.2의 범위이고, 일부 실시예에서 NCO/OH 지수는 0.88 내지 1.2의 범위이고, 일부 실시예에서 NCO/OH 지수는 0.9 내지 1.1의 범위이고, 일부 실시예에서 NCO/OH 지수는 0.9 내지 1.0의 범위이다.
일부 실시예에서, 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅이 배치되는 기판은 프린터 부품이다. 일부 실시예에서, 프린터 부품은 LEP 프린터의 부품이다. 일부 실시예에서, LEP 프린터의 부품은 BID 유닛 트레이와 같은 2진 잉크 현상기(BID) 유닛의 부품이다.
일부 실시예에서, 본원에 기술된 코팅 시스템으로부터 형성된 코팅을 갖는 부품을 포함하는 LEP 프린터가 제공된다.
일부 실시예에서, 기판은 폴리카보네이트 또는 유리 충전된 폴리카보네이트와 같은 플라스틱 기판이다. 일부 실시예에서, 기판은 니켈 기판과 같은 금속 기판이다.
일 양태에서, 기판을 코팅하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 기판 상에 전술한 2-성분 코팅 시스템의 베이스 성분과 경화제 성분을 접촉시키는 단계를 포함할 수 있다.
일부 실시예에서, 베이스 성분 및 경화제 성분은 NCO/OH 지수가 약 0.8 이상, 일부 실시예에서는 약 0.88 이상, 일부 실시예에서는 약 0.9 이상이 되도록 하는 양으로 접촉된다.
일부 실시예에서, 베이스 성분 및 경화제 성분은 NCO/OH 지수가 0.8 내지 1.5의 범위가 되도록 하는 양으로 접촉된다. 일부 실시예에서, NCO/OH 지수는 0.8 내지 1.3의 범위이고, 일부 실시예에서는 0.8 내지 1.2의 범위이고, 일부 실시예에서는 0.88 내지 1.2의 범위이고, 일부 실시예에서는 0.9 내지 1.1의 범위이고, 일부 실시예에서 NCO/OH 지수는 0.9 내지 1.0의 범위이다.
일부 실시예에서, 2-성분 코팅 시스템의 베이스 및 경화제 성분은 기판에 적용되기 전에 혼합된다.
일부 실시예에서, 2-성분 코팅 시스템의 베이스 및 경화제 성분은 기판의 표면 상에 혼합되어 기판 상에 코팅을 형성한다.
일부 실시예에서, 상기 방법은 베이스 및 경화제 성분을 포함하는 코팅을 경화시켜 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅을 형성하는 단계를 더 포함한다.
일부 실시예에서, 상기 코팅은 베이스 및 경화제 성분이 접촉됨에 따라 화학적으로 경화될 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스 및 경화제 성분을 포함하는 코팅 조성물은 실온, 즉 약 25℃의 온도에서 경화될 수 있다. 일부 실시예에서, 코팅 조성물은 실온에서 7일 이상, 일부 실시예에서는 약 10일 동안 경화될 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스 및 경화제 성분을 포함하는 코팅은 가열에 의해 경화될 수 있다. 일부 실시예에서, 상기 코팅은 코팅을 경화시키기 위해 약 50℃ 초과로 가열될 수 있다. 일부 실시예에서는 약 70℃ 초과이고, 일부 실시예에서는 약 80℃ 초과이다. 일부 실시예에서, 베이스 성분 및 경화제 성분을 포함하는 코팅은 80℃ 내지 150℃로, 일부 실시예에서는 80℃ 내지 125℃로 가열되어 베이스 성분과 경화제 성분을 포함하는 코팅을 경화시켜 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅을 형성할 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스 성분 및 경화제 성분을 포함하는 코팅은 1시간 이상, 일부 실시예에서는 2시간 이상, 일부 실시예에서는 3시간 이상, 일부 실시예에서는 4시간 이상 동안 가열될 수 있다. 일부 실시예에서, 베이스 및 경화제 성분을 포함하는 코팅은 4시간 이하 동안 가열될 수 있다.
LEP 프린터 및 부품
도 1은 액체 전자사진(LEP) 프린터(1)의 개략도를 도시한다. 그래픽, 텍스트 및 화상의 임의의 조합을 포함하는 이미지가 LEP 인쇄 장치(1)에 전달된다. LEP는 광 충전 유닛(2) 및 광-이미징 실린더(4)를 포함한다. 이미지는 먼저 이 실시예에서는 중간 전사 부재(ITM)(8)를 통해 인쇄 기판(10)으로 전사되기 전에 광-이미징 실린더(4) 형태의 광-전도성 부재 상에 형성된다.
예시적인 실시예에 따르면, 초기 이미지는 광 충전 유닛(2)에 의해 회전식 광-이미징 실린더(4) 상에 형성된다. 우선, 광 충전 유닛(2)은 광-이미징 실린더(4) 상에 균일한 정전하를 침착시킨 후, 광 충전 유닛(2)의 레이저 이미징부(3)는 광-이미징 실린더(4) 상의 이미지 영역의 선택된 부분에서 정전하를 방출하여 광-이미징 실린더(4)의 표면 상에 잠상 정전 이미지를 남긴다. 상기 잠상 정전 이미지는 인쇄될 이미지를 나타내는 정전기적 충전 패턴이다. 잉크(예를 들어, 일렉트로잉크(ElectroInk®) 또는 휴렛-팩커드 컴퍼니에서 개발한 다른 LEP 잉크와 같은 액체 정전 잉크)는 이어서 2진 잉크 현상기(BID) 유닛(6)에 의해 광-이미징 실린더(4)로 전사될 수 있다. BID 유닛(6)은 광-이미징 실린더(4)에 균일한 잉크 막을 제공한다. 잉크는 광-이미징 실린더(4) 상의 잠상 정전 이미지에 흡착되는 전기적으로 대전된 안료 입자를 함유한다. 상기 잉크는 대전되지 않은 비-이미지 영역을 떠나, 잠상 정전 이미지의 표면 상에 현상된 토너 이미지를 형성한다. 현상된 토너 이미지는 이어서 프린터 기판(10)에 전사된다.
본 발명자들은, BID 유닛(6)으로부터 광-이미징 실린더(4)로 그리고 광-이미징 실린더(4)로부터 ITM(8)으로, 그리고 이어서 ITM(8)으로부터 프린트 기판(10)으로 정전 잉크를 전사시키는 동안, BID 유닛의 트레이, LEP 프린터(1)를 감싸는 하우징 또는 LEP 프린터의 임의의 다른 부품과 같은 프린터 부품에 잉크가 쌓일 수 있음을 발견하였다.
예를 들어, 도 2는 정전 잉크가 LEP 프린터(1)의 광-이미징 실린더(4)에 공급될 수 있는 BID 유닛(6)의 개략도를 도시한다. BID 유닛(6)은 잉크 공급 장치(도시되지 않음)로부터 현상기 롤러(22)로 잉크를 전사하기 위한 잉크 입구(24) 및 전극(26)을 포함하는 잉크 전사 장치를 포함할 수 있다. 현상기 롤러(22)는 도 1에 도시된 LEP 프린터의 광-이미징 실린더(4)로 잉크를 전사하도록 배열될 수 있다. 정전 잉크는 잉크 입구(24)를 통해 BID 유닛으로 들어가고, 잉크 공급 전극(26)과 현상기 롤러(22)의 표면(28) 간에 생성된 전위차는 대전된 정전 잉크가 화살표(30)로 표시된 방향으로 잉크 입구(24)로부터 현상기 롤러 표면(28)으로 정전기적으로 전사되게 한다.
이 예시적인 실시예에 따르면, BID 유닛(6)은 잉크를 제거함으로써 현상기 롤러 표면(28)을 세정하는 데 사용될 수 있는 스퀴저(squeezer) 롤러(34) 및 스크레이퍼(scraper)(36)를 포함한다. 이러한 제거된 잉크는 수집 및 재사용 또는 폐기를 위해 잉크 출구(38)를 향해 흐를 수 있다. BID 유닛(6)은 트레이 예를 들어 유리 충전 폴리카보네이트와 같은 플라스틱 트레이로 형성된 하우징(40)을 포함한다. 본 발명자들은 전술한 2-성분 코팅 시스템으로 형성된 코팅(42)을 제공하는 것이 트레이 내 또는 트레이 상에 잉크가 축적되는 것을 감소시키거나 방지하는 것을 발견했다. BID 유닛 내의 잉크 축적으로 인해 BID 유닛에서 잉크가 누출되는 것을 발견했다.
실시예
하기 실시예는 코팅 시스템 및 관련 양태의 원리의 적용을 예시하기 위한 것으로 이해해야 한다. 다수의 변형 및 대안적인 코팅 시스템이 본 발명의 코팅 시스템 및 관련 양태의 취지 및 범주를 벗어나지 않고 당업자에 의해 고안될 수 있다. 첨부된 청구범위는 이러한 변형 및 구성을 포함하도록 의도된다. 이와 같이, 본 발명의 코팅 시스템 및 관련 양태가 구체적으로 상술되었지만, 하기 실시예는 현재 받아들여질 수 있는 것으로 간주되는 것과 관련하여 더 상세한 설명을 제공한다.
실시예 1
하기 표 1에 기재된 바와 같은 베이스 성분 및 하기 표 2에 기재된 바와 같은 경화제 성분을 포함하는 2-성분 코팅 시스템을 제공하였다. 베이스 성분 물질들을 표 1에 표시된 양으로 혼합하여 베이스 성분을 형성했다. 경화제 성분 물질들을 표 2에 표시된 양으로 혼합하여 경화제 성분을 형성했다.
베이스 성분 물질 베이스 성분 중의 중량% 공급처
데스모펜(Desmophen®) 670 BA(하이드록실-함유 폴리에스터, 점도 3000 mPa·s @ 23℃) 9 바이엘 머티리얼 사이언스(Bayer Material Science)
데스모펜 651 MPA(하이드록실-함유 폴리에스터, 점도 14500 mPa·s @ 23℃) 46 바이엘 머티리얼 사이언스
다우 코닝(Dow Corning®) 5562 카비놀 유체(비스-하이드록시에톡시프로필 다이메티콘, 점도 50 cSt @ 25℃) 1 다우 코닝
에틸 아세테이트 19
글리콜 아세테이트 22
메틸 에틸 케톤 2
다이부틸주석 다이라우레이트 1
경화제 성분 물질 경화제 성분 중의 중량% 공급처
데스모듀어(Desmodur®) N 3200(헥사메틸렌 다이이소시아네이트(HDI)-계 무용매 지방족 폴리이소시아네이트 수지, 점도 2500 mPa·s(23℃)) 74 바이엘 머티리얼 사이언스
에틸 아세테이트 8
글리콜 아세테이트 17
트라이에틸 오르토포메이트 1
　이어서, 베이스 성분 및 경화제 성분을 2:1의 비율로 혼합하여 베이스 성분 및 경화제 성분을 포함하는 2-성분 코팅 조성물을 형성하였다. 생성된 2-성분 코팅 조성물의 NCO/OH 지수는 0.9로 계산되었다.
실시예 2
유리 충전 폴리카보네이트 기판을 상기 실시예 1에서 형성된 2-성분 코팅 조성물로 침지-코팅시켰다. 이어서, 침지-코팅된 기판을 125℃에서 4시간 동안 경화시켜 그 표면 상에 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅이 배치된 유리 충전 폴리카보네이트 기판을 형성하였다.
실시예 3
니켈 기판을 상기 실시예 1에서 형성된 2-성분 코팅 조성물로 침지-코팅하였다. 이어서, 침지-코팅된 기판을 125℃에서 4시간 동안 경화시켜 그 표면 상에 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅이 배치된 니켈 기판을 형성하였다.
비교 실시예 4
유리 충전 폴리카보네이트 기판을 비교용 플루오르화된 폴리우레탄 코팅으로 코팅하였다.
실시예 5
마젠타 일렉트로잉크(Magenta ElectroInk®) 4.5(휴렛-팩커드 컴퍼니)를 실시예 2 및 3 및 비교 실시예 4의 코팅된 기판 각각에 침착시켰다. 각각의 코팅된 기판을 수평에 대해 30도 각도로 위치시키고, 정전 잉크를 1.5분 동안 0.2 gpm 내지 1 gpm 범위의 유속으로 코팅된 기판 상에 흘렸다(습식 사이클). 각각의 코팅된 기판을 실온에서 15분 동안 건조시켰다(건식 사이클). 이어서, 습식 및 건식 사이클을 각각 6회 반복하여 총 7회의 습식 사이클 및 7회의 건식 사이클을 제공하였다. 코팅된 기판 상의 잉크 도포율은 전산화된 시각적 분석을 사용하여 결정되었다. 전산화된 시각적 분석의 결과가 도 3에 도시되어 있으며, 도 3은 각각의 코팅된 기판 상에 축적된 잉크의 양을 도시한다. 도 3은 전술한 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅이 비교용 플루오르화된 폴리 우레탄 중합체 코팅보다 표면 상에 잉크의 축적을 방지하는 데 훨씬 더 효과적임을 보여준다.
또한, 본 발명자들은 실시예 1의 경화제 성분 및 베이스 성분을 혼합하여, 생성되는 2-성분 코팅 조성물의 NCO/OH 지수가 1.3이 되도록 하였다. 이러한 2-성분 코팅 조성물을 실시예 5에서 기술된 바와 같이 실시예 1에서 형성된 2-성분 코팅 조성물과 동일한 방법으로 시험하였고, 동일하게 양호한 성능을 나타내는 것으로 밝혀졌다.
또한, 실시예 1에서 형성된 2-성분 코팅 조성물은 실시예 1에서 사용된 폴리실록산 대신에 베이스 성분 중의 상이한 폴리실록산을 사용하여 시험하였다. 베이스 성분이 겔레스트로부터 폴리실록산으로서 입수가능한 DMS-C21(비스-하이드록시에톡시프로필 폴리다이메틸실록산, 점도 110 내지 140 cSt)을 함유하는 코팅 조성물 및 베이스 성분이 겔레스트로부터 폴리실록산으로서 입수가능한 DMS-C15(비스-하이드록시에톡시프로필 폴리다이메틸실록산, 점도 30 내지 50 cSt)을 함유한 코팅 조성물을 실시예 1에 기재된 방법으로 형성하고 실시예 5에 따라 시험한 결과, 이들 코팅 조성물은 모두 실시예 1의 코팅 조성물과 동일하게 양호한 성능을 나타내는 것으로 밝혀졌다.
코팅 시스템, 기판 및 관련 양태가 특정 실시예를 참조하여 기술되었지만, 당업자는 본 발명의 취지를 벗어나지 않고 다양한 변형, 변화, 생략 및 대체가 이루어질 수 있음을 이해할 것이다. 따라서, 코팅 시스템, 기판 및 관련 양태는 하기 청구범위의 범주에 의해서만 제한되는 것으로 의도된다. 달리 언급되지 않는 한, 임의의 종속항의 특징은 임의의 다른 종속항의 특징 및 임의의 다른 독립항과 결합될 수 있다.

Claims (15)

  1. 베이스 성분 및 경화제 성분을 포함하는, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템으로서,
    상기 베이스 성분이,
    55 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 하이드록실 말단 폴리에터;
    3 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리실록산; 및
    방향족 탄화수소, 케톤, 에스터 및 이들의 조합으로부터 선택된 용매
    를 포함하고, 이때, 상기 하이드록실 말단 폴리에스터 및/또는 상기 하이드록실 말단 폴리에터 및 상기 하이드록실 말단 폴리실록산이 상기 용매에 용해되며,
    상기 경화제 성분이,
    80 중량% 이하의 폴리이소시아네이트; 및
    방향족 탄화수소, 케톤, 에스터 및 이들의 조합으로부터 선택된 용매
    를 포함하고, 이때, 상기 폴리이소시아네이트가 상기 용매에 용해되는, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 하이드록실 말단 폴리실록산이 선형 하이드록실 말단 폴리실록산인, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 성분이 0.2 내지 2 중량%의 하이드록실 말단 폴리실록산을 포함하는, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 성분이 유기금속성 촉매를 추가로 포함하는, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 유기금속성 촉매가 주석-함유 촉매인, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 성분이 55 중량% 이하의 하이드록실 말단 폴리에스터를 포함하는, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 베이스 성분의 용매 및 상기 경화제 성분의 용매가 폴리우레탄 등급(polyurethane grade) 용매인, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 경화제 성분이 수분 제거제를 추가로 포함하는, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 폴리이소시아네이트가 지방족 폴리이소시아네이트인, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 폴리이소시아네이트가 헥사메틸렌 다이이소시아네이트로부터 유도된 것인, 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템.
  11. 제1항의 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템의 경화 생성물을 포함하는 실리콘 폴리우레탄 중합체 코팅이 상부에 배치된 기판으로서, 상기 기판이 프린터 부품인, 기판.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 경화 생성물이, 상기 베이스 성분의 하이드록실 기의 총 개수에 대한 상기 경화제 성분의 이소시아네이트 작용기의 개수의 비가 0.8 내지 1.5의 범위에 있도록 조합된 제1항에 따른 베이스 성분 및 경화제 성분의 경화 생성물인, 기판.
  13. 삭제
  14. 제1항에 따른 프린터 부품을 코팅하기 위한 2-성분 코팅 시스템의 베이스 성분 및 경화제 성분을 기판 상에서 접촉시키는 단계를 포함하는 기판의 코팅 방법으로서, 상기 기판이 프린터 부품인, 코팅 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 베이스 성분의 하이드록실 기의 총 개수에 대한 상기 경화제 성분의 이소시아네이트 작용기의 개수의 비가 0.8 내지 1.5의 범위에 있도록 상기 베이스 성분 및 상기 경화제 성분이 접촉되는, 코팅 방법.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110651230A (zh) * 2017-06-28 2020-01-03 惠普印迪戈股份公司 液体静电墨水显影器组装件
RU2686200C1 (ru) * 2018-06-01 2019-04-24 Общество с ограниченной ответственностью "ГУД ЛАК" (ООО "ГУД ЛАК") Композиция для покрытия
CN110204952B (zh) * 2019-05-31 2022-03-15 深圳市崯涛油墨科技有限公司 用于聚碳酸酯复合板的抗冲击丝网印刷油墨及其制备方法
US11385573B1 (en) 2021-05-17 2022-07-12 Hewlett-Packard Development Company, L.P. End caps and films

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070054134A1 (en) * 2005-09-03 2007-03-08 Bayer Materialscience Ag Two-component polyurethane compositions containing OH-functional polydimethylsiloxanes

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3931387A (en) * 1973-04-17 1976-01-06 Inter-Polymer Research Corporation Catalyst system for injection molding polyurethanes
US4130708A (en) 1977-12-09 1978-12-19 Ppg Industries, Inc. Siloxane urethane acrylate radiation curable compounds for use in coating compositions
JPS60250069A (ja) 1984-05-28 1985-12-10 Toyobo Co Ltd コ−テイング剤
DE3685132D1 (de) 1985-02-08 1992-06-11 Levasseur S A G Beschichtung fuer baumaterialien und verfahren zur herstellung der bestandteile dieser beschichtung.
JPH0680527B2 (ja) 1985-05-14 1994-10-12 東洋紡績株式会社 磁気記録媒体
JPH02165412A (ja) 1988-12-19 1990-06-26 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 磁気記録媒体
DE3929165A1 (de) 1989-09-02 1991-03-07 Basf Ag Magnetische aufzeichnungstraeger
US5138006A (en) 1991-02-11 1992-08-11 Eastman Kodak Company Radiation polymerizable starch ester-urethanes
US5910369A (en) * 1992-05-01 1999-06-08 American Polymer, Inc. Methods for protecting substrates with urethane protective coatings
JPH05345871A (ja) 1992-06-16 1993-12-27 Kansai Paint Co Ltd 硬化剤組成物
ZA937635B (en) 1992-10-23 1994-05-05 Basf Corp Curable carbamate-functional polymer composition
JP3178774B2 (ja) 1995-03-30 2001-06-25 光博 中山 樹脂組成物
US5646227A (en) 1996-02-01 1997-07-08 Bayer Corporation Low surface energy polyisocyanates and their use in one- or two-component coating compositions
US5744549A (en) 1996-06-03 1998-04-28 Acushnet Company Flourinated polyurethane coated golf balls
CA2254838C (en) * 1997-12-26 2007-06-19 Nitto Kogyo Co., Ltd. Developing roller and method of producing the same
JP3703966B2 (ja) 1998-05-29 2005-10-05 株式会社カネカ 塗料調製方法
US6905772B2 (en) 2000-05-23 2005-06-14 Triton Systems, Inc. Abrasion and impact resistant coating compositions, and articles coated therewith
JP2003025512A (ja) 2001-07-23 2003-01-29 Dainippon Ink & Chem Inc 柔軟性物品
JP2003192988A (ja) 2001-12-25 2003-07-09 Akurosu Kk 撥記録材料性塗料組成物
DE10224128A1 (de) 2002-05-29 2003-12-18 Schmid Rhyner Ag Adliswil Verfahren zum Auftrag von Beschichtungen auf Oberflächen
JP4381742B2 (ja) * 2002-08-01 2009-12-09 セントラル硝子株式会社 防曇性膜及びその形成方法並びに防曇性膜形成用塗布剤
US7906199B2 (en) 2004-12-23 2011-03-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Color harmonization coatings for articles of manufacture comprising different substrate materials
JP2005046686A (ja) 2003-07-31 2005-02-24 Canon Inc ポリウレア塗膜の形成方法
EP1526150A1 (en) 2003-10-23 2005-04-27 SigmaKalon Services B.V. Anti-skid coating compositions
JP4555181B2 (ja) 2005-07-14 2010-09-29 株式会社リコー 画像形成装置
JP5001033B2 (ja) * 2007-03-09 2012-08-15 オート化学工業株式会社 ポリウレタン系硬化性樹脂組成物及びこれからなる被覆材
SG10201500083WA (en) 2008-07-18 2015-03-30 Ideapaint Inc Ambient cure solvent-based coatings for writable-erasable surfaces
US8428495B2 (en) * 2008-10-28 2013-04-23 Hewlett-Packard Developent Company, L.P. Coatings for LEP printers, LEP printer structures, LEP printers, and methods of inhibiting sludge formation
JP2010191213A (ja) 2009-02-18 2010-09-02 Ricoh Co Ltd 画像形成装置、保護層形成装置およびプロセスカートリッジ
CN102712733A (zh) 2010-01-06 2012-10-03 阿克佐诺贝尔国际涂料股份有限公司 溶剂基双组分聚氨酯涂料组合物
US10585371B2 (en) 2011-05-27 2020-03-10 Xerox Corporation Protective coatings for bias charge rollers
EP2773711B1 (en) * 2011-08-24 2019-10-02 HP Indigo B.V. Roller coating
CN103910853B (zh) * 2012-12-31 2016-05-18 陶氏环球技术有限公司 硅氧烷-氨基甲酸酯基污损脱附涂料

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070054134A1 (en) * 2005-09-03 2007-03-08 Bayer Materialscience Ag Two-component polyurethane compositions containing OH-functional polydimethylsiloxanes

Also Published As

Publication number Publication date
EP3240836B1 (en) 2018-08-29
EP3240836A1 (en) 2017-11-08
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US10294363B2 (en) 2019-05-21
KR20180004098A (ko) 2018-01-10
WO2016175760A1 (en) 2016-11-03
EP3240836A4 (en) 2017-12-13
CN107532018B (zh) 2020-10-09
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