KR102021003B1 - 플라즈마 발생 장치 - Google Patents

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KR102021003B1
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전영환
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신현주
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Abstract

본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 발생 장치는, 절연판, 절연판의 일 면으로부터 이격되어 배치되는 플라즈마 전극판, 플라즈마 전극판에 접하여 배치되고 플라즈마 전극판으로 전압을 인가하는 회로 기판, 및 회로 기판에 접하며 배치되며 플라즈마 전극판으로부터 발생된 오존을 제거하기 위한 오존 제거 필터를 포함한다.

Description

플라즈마 발생 장치{apparatus for generating plasma}
본 발명은 플라즈마 발생 장치에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 피부 치료용 플라즈마 발생 장치에 관한 것이다.
일반적으로 피부 치료용 플라즈마 발생 장치는 고전압 트랜스를 거치면서 형성된 수kV 내지 수십kV의 교류 정현파가 플라스틱이나 유리 등의 유전체를 거쳐서 인체와 충분히 가까운 거리로 근접시킬 때에 피부와 전극 사이에서 플라즈마를 발생시키는 장치이다.
플라즈마는 미량의 오존과 자외선을 동반한 빛과 열에너지를 수반하여 피부 표면에 작용되도록 하고, 이 과정에서 소독 및 정화 작용을 하는 하이드록실 라디칼을 생성시킨다. 플라즈마에 의해 피부 표면에 생성된 하이드록실 라디칼은 소독 및 정화 작용을 하여 피부의 상처를 치유하거나 아토피 등의 피부 질환의 치료 과정을 촉진한다.
한국 등록특허공보(등록번호: 10-1662160)에는 환부와 플라즈마 발생기 간에 유전체 장벽 방전을 유도하여 소프트 플라즈마를 생성함으로써 환부를 플라즈마로 샤워시켜 반응종 생성과 동시에 세포 내와 세포 밖에서 작용하게 함으로써 반응종의 농도를 높이고 환부를 자극하게 하여 살균과 새살 돋음을 촉진하도록 한 플라즈마를 이용한 피부 치료 장치에 관한 내용이 게시되어 있다.
한편, 플라즈마를 발생시키는 동안 오존이 함께 발생되는데, 오존의 특유의 냄새가 있으며, 농도가 높을 경우 인체에 유해하다. 따라서, 플라즈마 발생 장치를 피부 치료용으로 사용하는 경우에 오존을 제거할 필요가 있다. 또한, 사용자가 플라즈마 발생 장치의 동작 상태를 눈으로 쉽게 확인하고 쉽게 사용하도록 할 필요가 있다.
본 발명은 상술한 기술적 과제를 해결하기 위한 것으로써, 본 발명의 목적은 오존 잔존량을 줄이고 사용자가 쉽게 사용할 수 있는 플라즈마 발생 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 발생 장치는, 플라즈마를 피부에 전달하는 절연판; 상기 플라즈마 발생 시에 생성되는 오존을 배출하기 위하여 상기 절연판과 이격 공간을 갖도록 배치되는 플라즈마 전극판; 상기 플라즈마 전극판에 접하여 배치되고, 상기 플라즈마 전극판으로 동작 전압을 제공하기 위한 회로 기판; 상기 회로 기판에 접하며 배치되며 상기 절연판과 상기 플라즈마 전극판 사이의 이격 공간에 있는 오존을 필터링하기 위한 오존 제거 필터; 상기 오존 제거 필터로부터 이격되어 배치되는 배출 팬; 피부와 접촉하는 저면은 곡면을 갖고, 측면에는 표시부가 배치되어 온 또는 오프 상태, 플라즈마 세기, 그리고 동작 모드를 표시하는 하부 하우징; 및 상기 하부 하우징으로부터 소정 거리 이격되나 중앙 부위에 연결된 연결부에 의해 고정되거나 분리 가능하도록 배치되고, 손잡이로 사용될 수 있도록 상기 하부 하우징보다 작은 크기를 갖는 상부 하우징을 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 실시 예에 따른 플라즈마 발생 장치는, 플라즈마를 피부에 전달하는 절연판; 상기 절연판의 일 면으로부터 이격되어 배치되는 플라즈마 전극판; 상기 플라즈마 전극판 사이의 오존이 상기 오존 제거 필터 방향으로 빠져나가도록 상기 플라즈마 전극판을 관통하는 복수의 제 1 배출 홀들; 상기 플라즈마 전극판에 접하여 배치되고, 상기 플라즈마 전극판으로 전압을 인가하는 회로 기판; 상기 회로 기판을 관통하고 상기 오존 배출 홀들과 적어도 일부가 연통되는 제2 배출 홀들; 및 상기 회로 기판에 접하며 배치되며 상기 플라즈마 전극판으로부터 발생되고 상기 제1 및 제2 배출 홀들을 통해 유입된 오존을 제거하기 위한 오존 제거 필터를 포함할 수 있다.
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실시 예로서, 상기 절연판과 상기 플라즈마 전극판 사이의 이격 거리는 0.1 내지 0.5mm일 수 있다. 상기 오존 제거 필터로부터 이격되어 배치되는 배출 팬을 더 포함할 수 있다. 상기 절연판은 상기 플라즈마 전극판에서 형성된 플라즈마 빔이 고르게 분산되도록 하는 분산 수단을 포함할 수 있다. 상기 절연판은 세라믹, 유리, 크리스탈, 게르마늄 및 사파이어 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 플라즈마 전극판 및 절연판 사이가 이격되고, 플라즈마 전극판에 제1 배출 홀들이 형성되고, 회로 기판에 제2 배출 홀들이 형성됨으로써, 플라즈마 전극판 및 절연판 사이 이격 공간과 제1 배출 홀들과 제2 배출 홀들이 플라즈마 발생 시 발생되는 오존을 오존 제거 필터로 유도할 수 있는 배출로로 이용될 수 있다. 따라서, 플라즈마 발생 장치 내 잔존하는 오존의 양을 감소시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 플라즈마 전극판의 구조를 설명하기 위한 평면도들이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치를 설명하기 위한 사시도들이다.
이하에서, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로, 본 발명의 실시 예들이 명확하고 상세하게 기재될 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다. 도 1을 참조하면, 플라즈마 발생 장치(1000)는, 하우징(1100), 절연판(1200), 플라즈마 전극판(1300), 회로 기판(1400), 오존 제거 필터(1500), 및 배출 팬(1600)을 포함할 수 있다.
하우징(1100)은 절연 특성을 가지며, 사용의 편의성을 위해 가벼운 물질을 포함할 수 있다. 예컨대, 하우징(1100)은 고분자 물질, 예컨대, PEC(polyelectrolyte complex) 또는 ABS(acrylonitrile butadiene styrene)를 포함할 수 있다.
절연판(1200)은 하우징(1100)의 일 면을 폐쇄하도록 배치될 수 있다. 절연판(1200)의 일 면이 외부로 노출되어, 절연판(1200)은 피부와 같은 외부와 직접적으로 접촉하는 부분으로, 플라즈마 전극판(1300)으로부터 발생된 플라즈마 에너지를 외부로 효율적으로 전달할 수 있는 물질을 포함할 수 있다. 절연판(1200)은 절연성 및 내열성을 갖는 예컨대, 세라믹 유전체를 포함할 수 있다. 절연판(1200)은 세라믹 이외에도, 유리, 크리스탈, 게르마늄, 사파이어 등과 같이 플라즈마 에너지를 분산하여 피부 측으로 전달할 수 있는 다양한 유전체 재질로 대체할 수 있다.
절연판(1200)은 플라즈마 전극판(1300)에서 1차적으로 형성된 플라즈마를 2차적으로 변화하는 과정을 통해 플라즈마 에너지 빔을 분산시키는 역할을 할 수 있다. 즉, 절연판(1200)은 플라즈마 전극판(1300)에서 1차적으로 형성된 플라즈마 에너지는 절연판(1200)을 통과하면서 플라즈마 빔이 고르게 분산되도록 할 수 있다. 절연판(1200)은 플라즈마 에너지가 피부의 일 부분으로 집중되는 것을 방지하고, 피부에 고르게 플라즈마 에너지가 조사되어 피부를 효과적으로 치료할 수 있는 분산 수단을 포함할 수 있다.
플라즈마 전극판(1300)은 절연판(1200)에 마주하며 이격되어 배치될 수 있다. 플라즈마 전극판(1300)의 일 면은 절연판(1200)의 일 면에 대향하는 타 면과 이격되어 마주할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 플라즈마 발생량은 출력 전압 및 출력 전류가 클수록 증가하며, 플라즈마 발생량은 절연판(1200)의 크기가 클수록 증가할 수 있다.
플라즈마 발생량을 증가시키기 위하여, 출력 전압 및 출력 전류를 상승시키면, 오존 발생량도 함께 증가할 수 있다. 이 경우, 플라즈마 전극판(1300)에서 플라즈마가 발생할 때, 오존이 함께 발생하며, 오존을 외부로 배출시키기 위한 배출로가 필요할 수 있다. 플라즈마 전극판(1300) 및 절연판(1200) 사이를 이격시켜, 이격 공간(GAP)을 확보하여 오존을 외부로 배출할 수 있다. 이때, 플라즈마 전극판(1300) 및 절연판(1200) 사이의 이격거리(DT)는, 오존의 배출로로 기능할 정도이면 족하다. 일 예로, 플라즈마 전극판(1300)은 절연판(1200)의 타 면으로부터 0.1 내지 0.5mm 이격되어 배치될 수 있다.
일 실시예에 따르면, 플라즈마 전극판(1300)은 평면적 관점에서 사각 형상을 가질 수 있다. 이와는 다르게, 플라즈마 전극판(1300)은 평면적 관점에서 원형상을 가질 수도 있다.
일 실시예에 따르면, 플라즈마 전극판(1300)에는 복수의 제1 배출 홀들(1305)을 포함할 수 있다. 제1 배출 홀들(1305) 각각은 플라즈마 전극판(1300)을 관통하며 배치되며, 플라즈마 전극판(1300) 및 절연판(1200) 사이 이격 공간(GAP)과 연통될 수 있다. 제1 배출 홀들(1305) 각각과 플라즈마 전극판(1300) 및 절연판(1200) 사이 이격 공간(GAP)은 오존의 배출로로 기능할 수 있다. 따라서, 플라즈마 전극판(1300) 및 절연판(1200) 사이 이격 공간(GAP)과, 제1 배출 홀들(1305)을 통해, 발생된 오존을 플라즈마 전극판(1300) 상에 배치된 오존 제거 필터(1500)로 유도할 수 있다.
제1 배출 홀들(1305)은 규칙적으로 배열되거나 비규칙적으로 배열될 수 있다. 또한, 제1 배출 홀들(1305) 각각의 크기는 동일하거나 상이할 수 있다. 이하 제1 배출 홀들(1305)을 갖는 플라즈마 전극판(1300)의 구조를 예시적으로 설명하기로 한다. 도 2 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치의 플라즈마 전극판의 구조를 설명하기 위한 평면도들이다.
도 2를 참조하면, 플라즈마 전극판(1300)은 복수의 패턴들(1300P)을 포함할 수 있다. 패턴들(1300P)은 서로 열 및 횡으로 이격되어 배치되되, 패턴들(1300P)은 서로 연결부(1300C)를 통해 물리적으로 전기적으로 연결될 수 있다. 플라즈마 전극판(1300)의 패턴들(1300P)이 서로 이격되고, 연결부(1300C)가 패턴들(1300P)보다 작은 폭을 가짐으로써, 플라즈마 전극판(1300) 패턴들(1300P) 사이에는 복수의 제1 배출 홀들(1305)이 형성될 수 있다.
도 3 내지 도 5를 참조하면, 플라즈마 전극판(1300)을 관통하는 제1 배출 홀들(1305)을 형성할 수 있다. 도 3을 참조하면, 제1 배출 홀들(1305)은 열 및 횡으로 정렬될 수 있다. 일 예로, 제1 열의 이웃한 두 개의 제1 배출 홀들(1305) 사이에 제2 열의 하나의 제1 배출 홀(1305)이 배치되는 구조를 가질 수 있다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 제1 배출 홀들(1305) 각각은 중심으로 방사 구조로 배치될 수 있다. 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 배출 홀들(1305)은 서로 동일한 크기를 가질 수 있다. 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 배출 홀들(1305)은 중심에서 외측으로 갈수록 크기가 점진적으로 커질 수도 있다. 이와는 다르게, 제1 배출 홀들(1305)은 중심에서 외측으로 갈수록 크기가 점진적으로 작을 수도 있다.
다시 도 1을 참조하면, 회로 기판(1400)은 플라즈마 전극판(1300)에 접하며 배치될 수 있다. 회로 기판(1400)의 일 면은 플라즈마 전극판(1300)의 일 면에 대향하는 타 면에 접하며 배치될 수 있다. 회로 기판(1400)은 플라즈마 전극판(1300)으로 고전압을 제공하는 전극으로 기능할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 회로 기판(1400)에는 복수의 제2 배출 홀들(1405)을 포함할 수 있다. 제2 배출 홀들(1405)은 제1 배출 홀들(1305)의 적어도 일부와 겹쳐져 연통되도록, 회로 기판(1400)을 관통하여 형성될 수 있다. 이와 같이, 제2 배출 홀들(1405)의 일부가 제1 배출 홀들(1305)의 적어도 일부와 연통됨으로써, 제1 배출 홀들(1305) 및 제2 배출 홀들(1405)이 오존의 배출로로 기능할 수 있다. 따라서, 발생된 오존이 플라즈마 전극판(1300) 및 절연판(1200) 사이 이격 공간(GAP)과 제1 배출 홀들(1305) 및 제2 배출 홀들(1405)을 통해, 회로 기판(1400) 상에 배치된 오존 제거 필터(1500)로 유도할 수 있다.
일 예로, 제2 배출 홀들(1405) 각각은 제1 배출 홀들(1305) 각각과 동일한 위치에 동일한 구조를 가질 수도 있다. 회로 기판(1400)의 구조는 도 2 내지 도 5에 도시된 구조 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 한편, 도 2 내지 도 5에 도시된 구조들 중 하나의 플라즈마 전극판(1300)과, 도 2 내지 도 5에 도시된 구조들 중 하나의 회로 기판(1400)을 조합하여 배치될 수도 있다.
오존 제거 필터(1500)는 플라즈마 전극판(1300)의 일 면에 대향하는 타 면에 접하며 배치될 수 있다. 오존 제거 필터(1500)는 플라즈마 전극판(1300)으로부터 플라즈마가 발생하는 동안 발생되는 오존을 활성탄 또는 촉매에 의한 화학 반응에 의해 이산화탄소 또는 산소 등과 같은 부산물들을 생성시킬 수 있다.
배출 팬(1600)은 오존 제거 필터(1500)로부터 소정 거리 이격되어 배치되되, 하우징(1100)의 일 면에 대향하는 타 면에 배치될 수 있다. 배출 팬(1600)은 오존 제거 필터(1500)로부터 제거되지 않은 오존 및 부산물들을 외부로 배출시키는 기능을 수행할 수 있다. 또한, 플라즈마 전극판(1300)에서 발생된 오존을 오존 제거 필터(1500) 방향으로 유도하는 기능도 함께 수행될 수 있다.
전술한 바와 같이, 플라즈마 전극판(1300)에서 플라즈마를 발생시키면 오존이 발생되는데, 플라즈마 전극판(1300)과 절연판(1200) 사이를 이격시키고, 플라즈마 전극판(1300) 및 절연판(1200) 사이 이격 공간(GAP)과 연통되는 제1 배출 홀들(1305) 및 제2 배출 홀들(1405)을 플라즈마 전극판(1300) 및 회로 기판(1400)에 각각 형성하여, 오존을 오존 제거 필터(1500) 방향으로 유도하기 위한 배출로를 확보할 수 있다. 따라서, 오존이 플라즈마 발생 장치(1000) 내에 잔류하지 않고, 보다 효율적으로 제거되어 플라즈마 발생 장치(1000) 내 오존의 농도는, 의료기기 오존 발생 허용 기준인 0.05ppm 이하일 수 있다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치를 설명하기 위한 사시도들이다. 도 6은 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치를 위에서 내려다 본 사시도이고, 도 7은 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치를 아래에서 위로 본 사시도이다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)는 하부 하우징(2100), 상부 하우징(2200), 및 제어부(2500)를 포함할 수 있다.
하부 하우징(2100) 내에는 도 1에 도시된 절연판(1200), 플라즈마 전극판(1300), 회로 기판(1400), 오존 제거 필터(1500), 및 배출 팬(1600)이 배치될 수 있다. 도 6에서, 배출 팬(1600)의 일부가 도시되어 있다. 도 7에서, 절연판(1200)이 하부 하우징(2100)의 일 면에 노출되도록 배치될 수 있다. 도 1에서 설명된 바와 같이 플라즈마 전극판(1300)으로부터 발생된 플라즈마 에너지가 절연판(1200)을 통해 외부, 즉 아토피성 피부로 전달될 수 있다.
플라즈마 발생 시 생성되는 이온, 중성종들은 세포막과의 화학적 작용을 통해 세균을 살균할 수 있다. 피부 속 트러블 원인균, 진균, 효모, 수퍼박테리아, 황색포도상구균 등을 살균하여 각종 피부병 및 가려움증을 개선할 수 있다. 플라즈마 이온 및 중성종들은 세포생성 주기를 촉진시켜 콜라겐을 생성하는 섬유아세포를 활성화시켜 피부 재생에 도움을 줄 수 있다. 따라서, 아토피성 피부에 큰 효과를 낼 수 있다.
일 실시예에 따르면, 하부 하우징(2100)은 단지 형상을 가지며, 피부와 맞닿는 부분은 약 5cm의 지름을 가질 수 있다. 또한, 하부 하우징(2100)의 저면이 곡면을 가짐으로써 피부와 접촉할 때 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)의 이동에 대하여 유연성을 가질 수 있다.
일 실시예에 따르면, 하부 하우징(2100)의 측면에 표시부(2300)가 배치될 수 있다. 표시부(2300)에는 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)의 온/오프 상태를 나타내거나, 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)의 플라즈마 세기를 나타내고, 동작 모드를 나타낼 수 있다.
상부 하우징(2200)은 하부 하우징(2100)으로부터 소정 거리 이격되나, 중앙부위에 연결된 연결부에 의해 고정되거나 분리 가능하도록 배치될 수 있다. 상부 하우징(2200)은 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)를 이용할 시, 손잡이로 사용될 수 있도록 하부 하우징(2100)보다 작은 크기를 가질 수 있다. 예컨대, 한 손에 잡힐 크기 정도일 수 있다.
이처럼, 상부 하우징(2200) 및 하부 하우징(2100)이 서로 이격됨으로써, 이격된 공간으로 잔류된 오존 또는 오존 제거 필터(1500)를 통해 화학적으로 생성된 부산물이 배출될 수 있다. 따라서, 플라즈마가 발생되는 동안, 오존을 0.05ppm이하로 유지할 수 있다.
아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)와 연결된 전원부(2400)가 제공될 수 있다. 전원부(2400)는, 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)를 온/오프하도록 전압 인가/차단할 수 있다. 일 예로, 전원부는 충전식이거나 배터리식일 수 있다.
제어부(2500)는 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)와 연결되어, 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)를 제어할 수 있다. 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)의 전원부(2400)를 제어하여, 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)를 온/오프하고, 인가되는 전압을 조절하여 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)의 플라즈마 세기를 조절하여 동작 모드를 변경시킬 수 있다. 또한, 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)의 표시부(2300)와 연결되어 현재의 상태를 표시할 수 있다.
제어부(2500)는 바이오 센서를 포함하고 있어, 피부의 산도 및 유수분 등을 측정하여 피부 정보를 획득할 수 있다. 획득된 피부 정보는 스마트 기기(2600)로 전송될 수 있다.
본 실시예에서는 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)를 일 예로 설명하고 있으나, 플라즈마 발생 장치(1000)는 피부 미용 또는 다른 피부과 치료에 사용될 수 있다. 본 발명에서 플라즈마 발생 장치(1000)를 아토피 치료용 플라즈마 발생 장치(2000)로 한정하는 것은 아니다.
상술한 내용은 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 실시 예들이다. 본 발명은 상술한 실시 예들 이외에도, 단순하게 설계 변경되거나 용이하게 변경할 수 있는 실시 예들도 포함할 것이다. 또한, 본 발명은 실시 예들을 이용하여 용이하게 변형하여 실시할 수 있는 기술들도 포함될 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 상술한 실시 예들에 국한되어 정해져서는 안되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 할 것이다.
1000: 플라즈마 발생 장치
1100: 하우징
1200: 절연판
1300: 플라즈마 전극판
1305: 제1 배출 홀
1400: 회로 기판
1405: 제2 배출 홀
1500: 오존 제거 필터
1600: 배출 팬
GAP: 이격 공간
DT: 이격 거리

Claims (6)

  1. 플라즈마를 피부에 전달하는 절연판;
    상기 플라즈마 발생 시에 생성되는 오존을 배출하기 위하여 상기 절연판과 이격 공간을 갖도록 배치되는 플라즈마 전극판;
    상기 플라즈마 전극판에 접하여 배치되고, 상기 플라즈마 전극판으로 동작 전압을 제공하기 위한 회로 기판;
    상기 회로 기판에 접하며 배치되며 상기 절연판과 상기 플라즈마 전극판 사이의 이격 공간에 있는 오존을 필터링하기 위한 오존 제거 필터;
    상기 오존 제거 필터로부터 이격되어 배치되는 배출 팬;
    피부와 접촉하는 저면은 곡면을 갖고, 측면에는 표시부가 배치되어 온 또는 오프 상태, 플라즈마 세기, 그리고 동작 모드를 표시하는 하부 하우징; 및
    상기 하부 하우징으로부터 소정 거리 이격되나 중앙 부위에 연결된 연결부에 의해 고정되거나 분리 가능하도록 배치되고, 손잡이로 사용될 수 있도록 상기 하부 하우징보다 작은 크기를 갖는 상부 하우징을 포함하되,
    상기 플라즈마 전극판은 상기 절연판과 상기 플라즈마 전극판 사이의 이격 공간에 있는 오존이 상기 오존 제거 필터 방향으로 빠져나가도록 상기 플라즈마 전극판을 관통하는 제 1 배출 홀을 포함하고,
    상기 회로 기판은 상기 제 1 배출 홀을 통과한 오존이 상기 오존 제거 필터로 빠져나가도록 상기 회로 기판을 관통하는 제2 배출 홀을 포함하고,
    상기 절연판과 상기 플라즈마 전극판 사이의 이격거리는 0.1 내지 0.5mm이고, 상기 절연판은 상기 플라즈마 전극판에서 형성된 플라즈마 빔이 고르게 분산되도록 하는 분산 수단을 포함하는 플라즈마 발생 장치.
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