KR102014892B1 - 수처리장치 등에 사용되는 플라즈마 발생장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 유전체관의 내부를 통과하는 공기가 방전영역에서 충분히 플라즈마처리되어 다량의 오존, 활성라디컬을 발생시킬 수 있는 구조의 플라즈마 발생장치를 제공하는 것이다. 본 발명은, 중공관 형상의 유전체관과, 상기 유전체관의 내부의 중심부에 설치되는 봉체로서 외주면에 길이방향을 따라 돌기가 형성된 체적방전극과, 상기 체적방전극에 그 길이방향을 따라 나선형상으로 감기고 유전체관의 내주면에 밀착하는 연면방전극과, 냉각수유입구와 냉각수배출구를 구비하고 상기 유전체관을 감싸는 냉각자켓과, 상기 유전체관에 접하는 냉각수에 접속된 대향전극과, 상기 체적방전극과 대향전극에 연결된 전원을 포함한다.

Description

수처리장치 등에 사용되는 플라즈마 발생장치{PLASMA GENERATING DEVICE USED FOR WATER TREATMENT APPARATUS OR THE LIKE}
본 발명은 수처리장치 등에 사용되는 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 오폐수 등을 정화처리하기 위해 오폐수 등에 공급하는 공기가 플라즈마처리될 수 있도록 유전체관 내부에서 플라즈마가 발생되는 구조를 가진 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.
오폐수를 플라즈마에너지에 의해 정화처리하기 위한 플라즈마 수처리장치가 활발히 개발되고 있다.
도 1은 등록특허공보 제10-1236202호에 기재된 것으로서, 플라즈마 수처리장치의 구성을 도시하고 있다.
도 1을 참조하면, 유전체관인 석영관(2)이 수조(8) 내에 설치되고 대향전극(4)이 수중에 설치된다.
헤드(6)의 공기주입구(6a)를 통해 공기를 석영관(2) 내로 공급하면, 석영관(2) 내의 방전극(3)에서 발생되는 플라즈마에 의해 공기가 플라즈마처리되어 오존, 활성라디컬 등이 다량 발생한다.
이러한 공기가 버블발생기(7)를 통과하면서 미세기포형태로 수중에 분산되고 수중의 오염물질은 미세기포 중의 오존, 활성라디컬과 반응하여 분해, 산화됨으로써 정화작용이 이루어진다.
상기 석영관(2) 내에 플라즈마를 발생시키기 위해 설치되는 방전극(3)은, 코일형상(3a)으로 이루어져 석영관(2)의 내주면에 밀착되어 있다.
석영관(2)의 내주면에 밀착된 코일형상(3a)의 방전극(3)은 석영관(2)의 내주면을 따라 연면방전을 발생시킴으로써 공기를 플라즈마처리한다.
석영관(2) 내부를 유동하는 공기는 연면방전영역을 따라 플라즈마와 반응하고 그 연면방전영역이 석영관(2)의 길이방향을 따라 연속됨으로써 공기가 석영관(2)을 통과하는 동안 폭넓은 플라즈마 반응이 발생할 수 있다.
그러나, 전술한 종래의 플라즈마 발생장치는 석영관(2)의 내주면에서 연면방전이 발생하므로, 석영관(2)의 내부로 공급되는 공기 중, 석영관(2)의 중심부를 따라 이동하는 공기는 연면방전영역에 접하지 못하여 플라즈마처리되지 못하는 문제가 있다.
더욱이 공기의 공급속도가 빠른 경우, 공기가 연면방전영역에서 충분히 플라즈마처리되지 못하고 통과함으로써 발생되는 오존, 활성라이컬 등의 물질양이 충분하지 않은 상황이 발생할 수 있다.
또한, 방전극(3)의 코일형상(3a)이 정밀하게 제작되지 않으면, 석영관(2)의 내주면에 전체적으로 밀착시키기 어렵고, 제작시에 코일형상(3a)의 방전극(3)을 석영관(2)의 내주면에 밀착된 상태로 진입시키는 조립과정에도 어려움이 있으며, 석영관(2)의 내주면에 코일형상(3a)의 방전극(3)을 밀착된 상태로 유지시키는 것도 어려움이 있다.
본 발명은 상기와 같은 관점에서 도출된 것으로서, 본 발명의 목적은 유전체관의 내부를 통과하는 공기가 방전영역에서 충분히 플라즈마처리되어 다량의 오존, 활성라디컬을 발생시킬 수 있는 구조의 플라즈마 발생장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 내부에서 연면방전과 체적방전을 다양하게 발생시킬 수 있는 구조를 포함하고 연면방전을 발생시키는 코일형상 방전극을 유전체관 내부에 용이하게 조립할 수 있는 구조의 플라즈마 발생장치를 제공하는 것이다.
전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 중공관 형상의 유전체관과, 상기 유전체관의 내부의 중심부에서 상기 유전체관의 길이방향을 따라 설치되는 봉체로서 외주면에 길이방향을 따라 돌기가 형성되되 상기 돌기는 길이방향으로 절단된 단면에서 산형의 요철이 다수 형성된 형상을 이루는 체적방전극과, 상기 체적방전극에 그 길이방향을 따라 나선형상으로 감겨 전기적으로 연결된 도전성 와이어로서 상기 유전체관의 내주면에 밀착하여 상기 체적방전극과 상기 유전체관의 간격을 유지하는 연면방전극과, 냉각수유입구와 냉각수배출구를 구비하고 상기 유전체관을 감싸는 것으로서 상기 유전체관의 외주면을 따라 냉각수를 유동시키는 냉각자켓과, 상기 유전체관에 접하는 냉각수에 접속된 대향전극과, 상기 체적방전극과 상기 대향전극에 연결되어 상기 체적방전극과 상기 유전체관의 내주면 사이에 플라즈마를 발생시키는 전원을 포함하여, 상기 유전체관의 내주면과 상기 체적방전극의 요철 사이에 체적방전이 발생하고, 상기 연면방전극이 접촉한 상기 유전체관의 내주면에 연면방전이 발생하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 상기 체적방전극에서 상기 돌기가 상기 체적방전극의 외주면에 형성된 산형나선인 것을 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 상기 체적방전극과 상기 유전체관의 내주면 사이에 공기를 공급하는 공기공급로가 설치되고, 상기 공기공급로를 통해 공급되는 공기는 상기 연면방전극의 안내를 받아 나선궤적으로 유동하는 것을 또 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 상기 냉각자켓이, 상기 냉각수와 접촉하고 상기 유전체관을 둘러싸는 원통형의 도전성 커버를 포함하고, 상기 대향전극은 상기 도전성 커버이며, 상기 도전성 커버의 중심선과 상기 유전체관의 중심선이 일치하도록 설치되어, 상기 도전성 커버의 내주면과 상기 유전체관의 외주면의 거리가 둘레를 따라 일정한 것을 또 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 플라즈마 발생장치는, 상기 유전체관의 일단부가 끼워져 파지되는 헤드와, 상기 유전체관의 타단부의 둘레를 감싸 파지하는 지지부재를 포함하고, 상기 헤드와 상기 지지부재는 상기 냉각자켓의 일단의 중심공과 타단의 중심공에 각각 끼워져 고정됨으로써, 상기 유전체관이 상기 냉각자켓의 중심부를 관통한 상태로 배치되는 것을 또 다른 특징으로 한다.
본 발명에 따른 플라즈마 발생장치는, 상기 유전체관의 내부의 중심부에 설치되고 외주면에 돌기가 형성된 체적방전극과, 그 체적방전극에 나선형상으로 감기고 유전체관의 내주면에 밀착하여 체적방전극과 유전체관의 간격을 유지하는 연면방전극을 포함함으로써, 유전체관의 내부를 통과하는 공기가 연면방전극을 따라 나선궤적을 따라 통과하므로 방전영역을 매우 긴 길이로 통과할 수 있다. 이에, 방전영역에서 충분히 플라즈마처리되어 다량의 오존, 활성라디컬을 발생시킬 수 있고 수처리장치 등에서 효율적이고 효과적인 정화처리가 가능하게 한다.
본 발명에 따른 플라즈마 발생장치는, 연면방전극이 돌기가 형성된 체적방전극에 나선형상으로 감긴 상태에서 유전체관의 내부로 삽입할 수 있는 구조이므로, 연면방전과 체적방전을 다양하게 발생시킬 수 있고, 봉체인 체적방전극을 회전시키면서 유전체관 내부로 밀어 넣어 설치할 수 있어, 연면방전을 발생시키는 코일형상 방전극을 유전체관 내부에 비교적 용이하게 조립할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 플라즈마 발생장치는, 봉체인 체적방전극이 연면방전극을 받쳐 연면방전극이 유전체관의 내주면에 밀착한 상태를 유지하도록 지지하는 구조이다.
이에 따라, 코일형상의 연면방전극이 유전체관의 내주면에 안정적으로 밀착한 상태를 유지하고 연면방전에 의한 플라즈마발생도 안정적으로 이루어질 수 있다.
또한, 상기와 같이 나선궤적으로 통과하는 공기가 연면방전과 체적방전이 함께 발생하는 영역을 통과함으로써, 에너지밀도가 높은 아크성 연면방전과 에너지밀도가 상대적으로 낮은 스트리머성 체적방전에 의한 플라즈마처리가 동시에 이루어져, 다양한 활성종이 풍부하게 생성될 수 있어 수중에 미세기포형태로 공급시 오염물질의 분해, 산화효율을 보다 높일 수 있다.
도 1는 종래 플라즈마 수처리장치의 전체적 구성을 도시하는 구성설명도
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치를 분해한 구성을 도시하는 분해사시도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치가 조립된 상태의 단면구조를 도시하는 단면구성도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치에서 체적방전극과 연면방전극의 방전작용을 설명하는 작용설명도
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치가 설치된 수처리장치의 구성 및 작용설명도
이하, 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치(10)는, 중공관 형상의 유전체관(20)과, 상기 유전체관(20)의 내부의 중심부에서 유전체관(20)의 길이방향을 따라 설치되는 봉체로서 외주면에 길이방향을 따라 돌기(31)가 형성되되 돌기(31)는 길이방향으로 절단된 단면(도 4에서 도시하는 단면)에서 산형의 요철이 다수 형성된 형상을 이루는 체적방전극(30)과, 상기 체적방전극(30)에 그 길이방향을 따라 나선형상으로 감겨 전기적으로 연결된 도전성 와이어로서 유전체관(20)의 내주면에 밀착하여 체적방전극(30)과 유전체관(20)의 간격을 유지하는 연면방전극(40)과, 냉각수유입구(52)와 냉각수배출구(53)를 구비하고 유전체관(20)을 감싸는 것으로서 유전체관(20)의 외주면을 따라 냉각수를 유동시키는 냉각자켓(50)과, 상기 유전체관(20)에 접하는 냉각수에 접속된 대향전극과, 상기 체적방전극(30)과 대향전극에 연결되어 체적방전극(30)과 유전체관(20)의 내주면 사이에 플라즈마를 발생시키는 전원(60)을 포함한다.
상기 유전체관(20)은 중공관 형상으로 내부공간(21)을 가지되, 양단이 개방되어 내부를 공기가 통과하고 있다.
유전체관(20)의 내부에서는 체적방전극(30)과 연면방전극(40)으로부터 플라즈마가 발생함으로써 통과하는 공기가 플라즈마처리되어 공기중에 오존, 활성활성라디컬 물질이 발생한다.
상기 유전체관(20)은 석영관이 가장 바람직하고, 세라믹관 또는 유리관도 가능하다.
상기 유전체관(20)의 일단부는 헤드(55)에 끼워져 파지되고, 유전체관(20)의 타단부는 지지부재(56)가 둘레를 감싸 파지된다.
상기 헤드(55)와 상기 지지부재(56)는 원통형상인 냉각자켓(50)의 일단의 중심공(54)과 타단의 중심공(58)에 각각 끼워져 고정됨으로써, 유전체관(20)이 냉각자켓(50)의 중심부를 관통한 상태로 배치된다.
유전체관(20)의 일단부는 공기공급로(61)와 연통됨으로써, 유전체관(20)의 내부공간(21)에 공기가 유입된다.
상기 체적방전극(30)은 유전체관(20)의 내부공간(21)의 중심부에서 유전체관(20)의 길이방향을 따라 설치되는 봉체로서 유전체관(20)의 내주면과의 사이에 체적방전이 발생한다.
체적방전극(30)의 외주면에 길이방향을 따라 돌기(31)가 연속적으로 형성되되 돌기(31)는 길이방향으로 절단된 단면에서 산형의 요철이 다수 형성된 형상을 이룬다.
체적방전극(30)은 길이방향을 따라 절단된 단면에서 산형의 요철이 다수 형성될 수 있는 구성으로서는, 체적방전극(30)이 원형봉의 형상으로 형성되되 그 외주면에 산형나선이 형성되어 돌기(31)을 이루는 것이 가장 바람직하다.
체적방전극(30)의 플라즈마 방전은 산형나선의 첨단부에서 발생하고 유전체관(20)의 내주면과의 사이에 스파크의 형태로 발생된다.
상기 연면방전극(40)은 유전체관(20)의 내주면에 접하도록 설치되어 유전체관(20)의 내주면을 따라 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시킨다.
연면방전극(40)은 체적방전극(30)에 그 길이방향을 따라 나선형상으로 감겨 전기적으로 연결된 도전성 와이어로서, 유전체관(20)의 내주면에 밀착한 상태로서 연면방전에 의한 플라즈마를 발생시킨다.
상기 연면방전은 이종의 유전체가 서로 상접하고 있는 경우 그 경계면을 따라 생기는 방전현상을 말하는 것으로서, 유동하는 공기와 연면방전극(40)이 유전체관(20)의 내부 표면에 상접하고, 유전체관(20)의 바깥표면에 물(대전체)이 접하고 있는 본 실시예와 같은 복합 유전체 영역에서 발생할 수 있다.
상기 연면방전극(40)은 봉체인 체적방전극(30)에 체적방전극(30)의 길이방향을 따라 나선형상으로 감겨 유전체관(20)의 내부에 삽입되고 유전체관(20)의 내주면에 접함으로써, 체적방전극(30)과 유전체관(20) 사이의 간격을 유지하는 역할도 한다.
이에 따라, 체적방전극(30)이 유전체관(20)의 중심부에 배치되어 와이어인 연면방전극(40)의 두께만큼의 간격이 체적방전극(30)과 유전체관(20) 사이에 둘레를 따라 균일하게 형성될 수 있고, 체적방전극(30)에 의한 체적방전도 둘레를 따라 균일하게 발생할 수 있다.
도한, 봉체인 체적방전극(30)은 코일형상인 연면방전극(40)을 유전체관(20)의 내주면에 밀어붙여 지지하는 역할을 하므로, 연면방전극(40)이 유전체관(20)의 내주면에 안정적으로 밀착하면서 안정적인 연면방전을 발생시킬 수 있다.
한편, 상기 체적방전극(30)과 유전체관(20)의 내주면 사이에 공기가 유입될 수 있도록 외기와 통되는 공기공급로(61)가 설치된다.
상기 공기공급로(61)는 유전체관(20)의 단부가 끼워져 유전체관(20)을 지지하는 헤드(55)에 형성되고 공기가 유전체관(20)으로 공급되는 통로가 된다.
상기 공기공급로(61)를 통해 공급되는 공기는, 체적방전극(30)과 연면방전극(40)이 유전체관(20)의 내부에 끼워진 구성에 의해 연면방전극(40)의 안내를 받아 나선궤적으로 유동한다.
즉, 체적방전극(30)과 유전체관(20) 사이의 공간을 와이어형상인 연면방전극(40)이 막고 있으므로, 그 사이를 통과하는 공기는 연면방전극(40)의 안내를 받아 나선궤적으로 유동하면서 플라즈마 영역을 통과한다.
상기 냉각자켓(50)은 유전체관(20)의 냉각을 위해 냉각수를 유동시키는 부분으로서, 유전체관(20)을 감싸고 유전체관(20)의 외주면을 따라 냉각수를 유동시킨다.
즉, 냉각자켓(50)은, 원통형의 커버(51)가 유전체관(20)의 둘레를 감싸도록 설치되고 원통형의 커버(51)의 양단은 폐쇄되며, 원통형의 커버(51)의 일측과 타측에 냉각수유입구(52)와 냉각수배출구(53)가 설치된다.
이에 따라, 냉각수유입구(52)를 통해 유입된 냉각수가 냉각수배출구(53)를 향해 유전체관(20)의 외주면을 따라 유동하면서, 플라즈마발생에 따라 열이 발생하는 유전체관(20)의 냉각작용이 이루어진다.
상기 유전체관(20)은 냉각작용없이 내부에서 플라즈마가 지속적으로 발생되면, 체적방전 및 연면방전에 의한 열에 의해 피로가 누적되어 파손된다.
상기 원통형의 커버(51)는 내부에서 유동하는 냉각수와 접촉하고 도전성 금속으로 제작됨으로써 대향전극으로 사용될 수 있다.
상기 유전체관(20)의 외주면에 접촉하는 냉각수 중에 대향전극을 배치하여야 유전체관(20)의 내부에서 플라즈마 방전이 발생할 수 있으므로, 원통형이고 도전성인 상기 커버(51)를 전원(60)과 연결하여 대향전극으로 사용한다.
이 경우, 도전성 커버(51)의 중심선과 유전체관(20)의 중심선이 일치하도록 설치되어, 도전성 커버(51)의 내주면과 유전체관(20)의 외주면의 거리가 둘레를 따라 일정한 것이 바람직하다.
이는 유전체관(20)의 내부에서 발생하는 플라즈마가 전체 방사방향에서 비교적 균일하도록 유도할 수 있다.
상기 전원(60)은 체적방전극(30)과 대향전극에 연결되어 체적방전극(30)과 유전체관(20)의 내주면 사이에 플라즈마를 발생시킨다.
전원(60)은 고전압 펄스교류전원을 가지는 상용 전자식 네온트랜스를 사용할 수도 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 따라 유전체관(20)의 내부에 플라즈마가 발생하고 공기가 플라즈마 처리되는 과정을 설명한다.
먼저, 전원(60)에서 체적방전극(30)과 대향전극에 전압을 인가하여 유전체관(20)의 내부에 플라즈마를 발생시킨다.
체적방전극(30)에서는 둘레에 형성된 돌기(31)의 끝단에서 유전체관(20)의 내주면과의 사이에 체적방전이 도 4의 P1(체적방전영역)과 같이 발생한다.
이에 따라, 산형나선으로 형성된 돌기(31)는 체적방전극(30)의 둘레에서 유전체관(20)의 내주면 사이에 방전이 발생하여 플라즈마영역을 형성하고 통과하는 공기를 플라즈마처리한다.
연면방전극(40)에서는 유전체관(20)의 내주면에 도 4의 P2(연면방전영역)와 같이, 연면방전극(40)이 접촉한 상태에서 유전체관(20)의 내주면에 표면상에서 퍼지는 연면방전이 발생한다.
따라서, 유전체관(20)의 내주면에서 연면방전에 의한 플라즈마영역을 형성하여 유전체관(20)의 내주면 근방을 유동하는 공기를 플라즈마처리한다.
상기 체적방전은 상대적으로 에너지밀도가 낮은 스트리머성 플라즈마영역을 형성하므로 공기를 플라즈마처리하여 상대적으로 낮은 에너지밀도에서 발생하는 활성라디컬라디컬성종 들을 풍부하게 생성시킨다. 또한, 연면방전은 상대적으로 높은 에너지밀도를 가진 플라즈마영역을 형성하므로 높은 플라즈마 에너지에서 발생하는 활성종들을 생성시킨다.
이는 플라즈마처리된 공기 중에 다양한 활성종이 풍부하게 생성될 수 있도록 함으로써, 수처리를 효율을 보다 높일 수 있다.
유전체관(20)을 통과하는 공기는 연면방전극(40)을 따라 나선궤적으로 유동하면서 플라즈마 처리되므로, 플라즈마영역을 통과하는 경로가 직선인 것에 비해 매우 긴 길이를 가질 수 있고, 효과적인 플라즈마처리가 이루어질 수 있다.
플라즈마처리된 공기는 오존, 활성라디컬 물질이 풍부하게 포함되어 처리대상수의 내부에 기포의 형태로 공급된다.
즉, 도 5와 같이, 유동관(70)을 유동하는 처리대상수의 유동단면적이 좁아지는 넥부(72)를 통과하는 과정에서, 처리대상수의 속도가 빨라지고 압력이 낮아지면서 연결되어 있는 플라즈마 발생장치(10)의 공기를 자연흡입함으로써, 플라즈마처리된 공기가 처리대상수 내에 기포형태로 분산된다.
상기 유동관(70)은 냉각자켓(50)의 냉각수유입구(52)로 유입되도록 하고, 냉가수배출구(53)에서 수조(80)으로 공급되도록 구성된다.
상기 공기에는 플라즈마영역을 통과하는 동안 생성된 다량의 오존, 활성라디컬이 포함되어 있다.
이에 따라, 처리대상수에 기포의 형태로 공기가 흡입되고, 기포를 포함하는 처리대상수는 유동관(70)을 유동하는 과정과, 냉각자켓(50) 내를 유동하는 과정, 및 수조(80)에 진입한 상태에서 기포와 함께 계속적으로 접촉유동하면서 오존, 활성라디컬물질이 오염물질을 분해, 산화시키는 정화작용이 이루어진다.
정화된 처리대상수는 배출구(81)를 통해 배출된다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 상기의 실시예는 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에 있는 일 실시예에 불과하며, 동업계의 통상의 기술자에 있어서는, 본 발명의 기술적인 사상 내에서 다른 변형된 실시가 가능함은 물론이다.
10; 플라즈마 발생장치 20; 유전체관
21; 내부공간 30; 체적방전극
31; 돌기 40; 연면방전극
50; 냉각자켓 51; 커버
52; 냉각수유입구 53; 냉각수배출구
60; 전원 61; 공기공급로
70; 유동관 72; 넥부
80; 수조 81; 배출구
P1; 체적방전영역 P2; 연면방전영역

Claims (5)

  1. 중공관 형상의 유전체관(20)과,
    상기 유전체관(20)의 내부의 중심부에서 상기 유전체관(20)의 길이방향을 따라 설치되는 봉체로서 외주면에 길이방향을 따라 돌기(31)가 형성되되 상기 돌기(31)는 길이방향으로 절단된 단면에서 요철이 다수 형성된 형상을 이루는 체적방전극(30)과,
    상기 체적방전극(30)에 그 길이방향을 따라 나선형상으로 감겨 전기적으로 연결된 도전성 와이어로서 상기 유전체관(20)의 내주면에 밀착하여 상기 체적방전극(30)과 상기 유전체관(20)의 간격을 유지하는 연면방전극(40)과,
    냉각수유입구(52)와 냉각수배출구(53)를 구비하고, 상기 유전체관(20)을 감싸는 것으로서 상기 유전체관(20)의 외주면을 따라 냉각수를 유동시키는 냉각자켓(50)과,
    상기 유전체관(20)에 접하는 냉각수에 접속된 대향전극과,
    상기 체적방전극(30)과 상기 대향전극에 연결되어 상기 체적방전극(30)과 상기 유전체관(20)의 내주면 사이에 플라즈마를 발생시키는 전원(60)을 포함하여,
    상기 유전체관(20)의 내주면과 상기 체적방전극(30)의 요철 사이에 체적방전이 발생하고, 상기 연면방전극(40)이 접촉한 상기 유전체관(20)의 내주면에 연면방전이 발생하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
  2. 제1항에 있어서,
    상기 체적방전극(30)에서 상기 돌기(31)는 상기 체적방전극(30)의 외주면에 형성된 산형나선인 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
  3. 제1항에 있어서,
    상기 체적방전극(30)과 상기 유전체관(20)의 내주면 사이의 공간에 연결되어 공기를 공급하는 공기공급로(61)가 설치되고, 상기 공기공급로(61)를 통해 공급되는 공기는 상기 연면방전극(40)의 안내를 받아 나선궤적으로 유동하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
  4. 제1항에 있어서,
    상기 냉각자켓(50)은, 상기 냉각수와 접촉하고 상기 유전체관(20)을 둘러싸는 원통형의 도전성 커버(51)를 포함하고,
    상기 대향전극은 상기 도전성 커버(51)이며,
    상기 도전성 커버(51)의 중심선과 상기 유전체관(20)의 중심선이 일치하도록 설치되어, 상기 도전성 커버(51)의 내주면과 상기 유전체관(20)의 외주면의 거리가 둘레를 따라 일정한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
  5. 제4항에 있어서,
    상기 유전체관(20)의 일단부가 끼워져 파지되는 헤드(55)와,
    상기 유전체관(20)의 타단부의 둘레를 감싸 파지하는 지지부재(56)를 포함하고,
    상기 헤드(55)와 상기 지지부재(56)는 상기 냉각자켓(50)의 일단의 중심공(54)과 타단의 중심공(58)에 각각 끼워져 고정됨으로써,
    상기 유전체관(20)이 상기 냉각자켓(50)의 중심부를 관통한 상태로 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치
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