KR101941573B1 - Self emission type photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 양자점; 및 산란입자;를 포함하고, 상기 산란입자는 평균입경 100nm 내지 500nm인 제1 금속산화물; 및 평균입경 30nm 내지 500nm인 제2 금속산화물;을 포함하며, 상기 제1 금속산화물은 TiO2이고, 상기 제2 금속산화물은 ZnO인 것을 특징으로 한다. The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention includes a quantum dot; And scattering particles, wherein the scattering particles comprise: a first metal oxide having an average particle size of 100 nm to 500 nm; And a second metal oxide having an average particle diameter of 30 nm to 500 nm, wherein the first metal oxide is TiO 2 and the second metal oxide is ZnO.
Description
본 발명은 특정 산란입자를 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a self-emitting photosensitive resin composition containing specific scattering particles, a color filter manufactured using the same, and an image display device.
컬러필터는 백색광에서 적색, 녹색 및 청색의 3가지 색을 추출하여 미세한 화소단위로 가능하게 하는 박막 필름형 광학부품으로서, 한 화소의 크기가 수십에서 수백 마이크로미터 정도이다. 이러한 컬러필터는 각각의 화소 사이의 경계부분을 차광하기 위하여 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스 층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B))의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다.A color filter is a thin film type optical component that extracts three colors of red, green, and blue in white light and makes it possible in fine pixel units. The size of one pixel is several tens to several hundreds of micrometers. Such a color filter has a black matrix layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate so as to shield a boundary portion between each pixel and a plurality of colors (typically red (R), green (G) and Blue (B)) are arranged in a predetermined order in this order.
최근에는 컬러필터를 구현하는 방법 중의 하나로서, 안료 분산형의 감광성 수지를 이용한 안료 분산법이 적용되고 있으나, 광원에서 조사된 광이 컬러필터를 투과하는 과정에서 광의 일부가 컬러필터에 흡수되어 광 효율이 저하되고, 또한 색 필터에 포함되어 있는 안료의 특성으로 인하여 색재현이 저하되는 문제점이 발생하고 있다.In recent years, as a method of implementing a color filter, a pigment dispersion method using a pigment dispersion type photosensitive resin has been applied. However, in a process in which light emitted from a light source passes through a color filter, a part of light is absorbed by a color filter, The efficiency is lowered and the color reproduction is deteriorated due to the characteristics of the pigment contained in the color filter.
특히, 컬러필터가 각종 화상표시장치를 비롯한 다양한 분야에 사용됨에 따라 우수한 패턴 특성뿐만 아니라 높은 색재현율과 함께 우수한 고휘도, 고명암비와 같은 성능이 요구되고 있는 바, 이러한 문제를 해결하기 위하여, 양자점을 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물을 이용한 컬러필터 제조방법이 제안되었다.Particularly, since color filters are used in various fields including various image display devices, they are required not only to have excellent pattern characteristics but also to have high color reproducibility and excellent performance such as high luminance and high contrast ratio. In order to solve such problems, A method of manufacturing a color filter using the self-luminescent photosensitive resin composition has been proposed.
그러나 양자점은 나노 수준의 크기로 인해 본질적으로 비산란 입자이다. 따라서 빛이 양자점이 포함된 컬러필터를 통과할 때 다른 염료나 안료의 경우보다 훨씬 더 짧은 광학 경로를 가지게 되어 컬러필터의 두께가 충분치 않은 이상 대부분의 빛이 양자점에 의해 흡수된다. 이에 산란입자를 도입하는 방법이 제안되고 있으나 산란입자에 의해 광흡수 현상으로 인하여 광효율이 저하되는 문제가 발생하는 실정이다.However, quantum dots are inherently scattering particles due to their nanoscale size. Therefore, when light passes through a color filter containing a quantum dot, most of the light is absorbed by the quantum dot unless the thickness of the color filter is sufficient, because it has a much shorter optical path than that of other dyes or pigments. Although a method of introducing scattering particles has been proposed, there is a problem that light efficiency is lowered due to light absorption due to scattering particles.
대한민국 공개특허 제10-2012-0131071호는 광학 부재 및 이를 포함하는 표시장치에 관한 것으로서, 호스트층; 상기 호스트층 내에 배치되는 다수 개의 파장 변환 입자들; 및 상기 호스트층 내에 배치되는 다수 개의 무기 입자들을 포함하는 광학 부재에 관한 내용을 개시하고 있으나, 발광효율 향상 효과를 기대하기 어려운 문제가 있다.Korean Patent Laid-Open No. 10-2012-0131071 relates to an optical member and a display device including the optical member, including a host layer; A plurality of wavelength conversion particles disposed in the host layer; And an optical member including a plurality of inorganic particles disposed in the host layer. However, there is a problem that it is difficult to expect an effect of improving the luminous efficiency.
대한민국 공개특허 제10-2010-0037283호는 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 복수개의 투명한 비즈를 포함하는 투명 폴리머로 이루어져 있는 투명 광 확산층을 포함하는 액정 표시장치에 관한 내용을 개시하고 있으나, 투명한 비즈의 사이즈가 매우 크기 때문에 도막 품질의 저하를 가지고 올 수 있는 문제점이 있다.Korean Patent Laid-Open No. 10-2010-0037283 discloses a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which discloses a liquid crystal display device including a transparent light diffusion layer formed of a transparent polymer including a plurality of transparent beads , There is a problem that the quality of the coating film may be deteriorated because the size of the transparent beads is very large.
그러므로, 발광효율 및 광유지율을 향상시켜 고신뢰성의 패널에 적용할 수 있는 산란입자의 개발이 요구되고 있다.Therefore, development of scattering particles that can be applied to a highly reliable panel by improving the light emitting efficiency and the light retention ratio is required.
본 발명은 우수한 색재현율을 나타내고, 높은 광유지율 특성을 확보할 수 있는 자발광 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a self-luminescent photosensitive resin composition which exhibits excellent color reproducibility and can secure high light-retention characteristics.
또한, 본 발명은 전술한 자발광 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 발광효율, 광유지율 또는 반사휘도가 우수한 컬러필터 및 화상표시장치를 제공하고자 한다.The present invention also provides a color filter and an image display device using the self-luminous photosensitive resin composition and having excellent luminous efficiency, light retention or reflection brightness.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 양자점; 및 산란입자;를 포함하고, 상기 산란입자는 평균입경 100nm 내지 500nm인 제1 금속산화물; 및 평균입경 30nm 내지 500nm인 제2 금속산화물;을 포함하며, 상기 제1 금속산화물은 TiO2이고, 상기 제2 금속산화물은 ZnO인 것을 특징으로 한다.In order to accomplish the above object, the present invention provides a self-luminescent photosensitive resin composition comprising: a quantum dot; And scattering particles, wherein the scattering particles comprise: a first metal oxide having an average particle size of 100 nm to 500 nm; And a second metal oxide having an average particle diameter of 30 nm to 500 nm, wherein the first metal oxide is TiO 2 and the second metal oxide is ZnO.
또한, 본 발명은 전술한 자발광 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하는 컬러필터를 제공한다.The present invention also provides a color filter comprising a cured product of the above-mentioned self-luminescent photosensitive resin composition.
또한, 본 발명은 전술한 컬러필터를 포함하는 화상표시장치를 제공한다.Further, the present invention provides an image display device including the color filter described above.
본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 특정 산란입자를 포함함으로써 형광 발광효율 및 광유지율의 저하를 억제할 수 있고, 반사휘도가 우수한 컬러필터의 제조가 가능한 이점이 있다.The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention has an advantage that the reduction of the fluorescence emission efficiency and the light holding ratio can be suppressed by including the specific scattering particles, and the production of a color filter excellent in reflection luminance is advantageous.
또한, 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터 및 화상표시장치는 자발광이 가능하기 때문에 우수한 색재현율을 나타낼 뿐만 아니라, 광유지율이 높고, 고품위의 생생한 화질의 구현이 가능한 이점이 있다.Further, since the color filter and the image display device manufactured by the self-luminous photosensitive resin composition according to the present invention can self-emit light, it not only exhibits an excellent color reproduction rate, but also has a high light retention rate and realizes high quality and vivid image quality have.
이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.When a member is referred to as being " on "another member in the present invention, this includes not only when a member is in contact with another member but also when another member exists between the two members.
본 발명에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Whenever a part is referred to as "including " an element in the present invention, it is to be understood that it may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise.
<< 자발광Self-luminous 감광성 수지 조성물> Photosensitive resin composition>
본 발명의 한 양태는, 양자점; 및 산란입자;를 포함하고, 상기 산란입자는 평균입경 100nm 내지 500nm인 제1 금속산화물; 및 평균입경 30nm 내지 500nm인 제2 금속산화물;을 포함하며, 상기 제1 금속산화물은 TiO2이고, 상기 제2 금속산화물은 ZnO인 자발광 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.An aspect of the present invention relates to a quantum dot device comprising: a quantum dot; And scattering particles, wherein the scattering particles comprise: a first metal oxide having an average particle size of 100 nm to 500 nm; And a second metal oxide having an average particle diameter of 30 nm to 500 nm, wherein the first metal oxide is TiO 2 and the second metal oxide is ZnO.
양자점Qdot
본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물에 포함되는 양자점은 나노 크기의 반도체 물질이다. 원자가 분자를 이루고, 분자는 클러스터(cluster)라고 하는 작은 분자들의 집합체를 구성하여 나노 입자를 이루는데, 이러한 나노 입자들이 특히 반도체의 특성을 띠고 있을 때 이를 양자점이라고 한다. 이러한 양자점은 외부에서 에너지를 받아 들뜬 상태에 이르면, 자체적으로 에너지 밴드 갭에 해당하는 에너지를 방출하는 특성을 가지고 있다. 요컨대, 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물은 이러한 양자점을 포함함으로써 자발광 가능하다.The quantum dot included in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention is a nano-sized semiconductor material. The atoms form molecules, and the molecules form aggregates of small molecules called clusters to form nanoparticles. These nanoparticles are called quantum dots, especially when they have the characteristics of semiconductors. These quantum dots emit energy corresponding to the energy bandgap by itself when the quantum dots emit energy from the outside. In short, the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention can self-emit light by including such a quantum dot.
컬러필터를 포함하는 통상의 화상표시장치에서는 백색광이 상기 컬러필터를 투과하여 컬러가 구현되는데, 이 과정에서 광의 일부가 컬러필터에 흡수되므로 광 효율이 저하된다. 그러나, 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 포함하는 경우에는, 컬러필터가 광원의 광에 의해 자체 발광하므로, 보다 뛰어난 광 효율을 구현할 수 있으며, 또한 색상을 가진 광이 방출되는 것이므로 색 재현성이 보다 우수하고, 광루미네선스에 의해 전 방향으로 광이 방출되므로 시야각도 개선될 수 있는 이점이 있다. In a typical image display device including a color filter, white light is transmitted through the color filter to realize color. In this process, a part of light is absorbed by the color filter, so that the light efficiency is lowered. However, in the case of including the color filter made of the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention, since the color filter is self-luminescent by the light of the light source, more excellent light efficiency can be realized, The color reproducibility is better and light is emitted in all directions due to the optical luminescence, so that there is an advantage that the viewing angle can also be improved.
상기 양자점은 광에 의한 자극으로 발광할 수 있는 것이라면 특별히 한정하지 않으며, 예컨대, II-VI족 반도체 화합물, III-V족 반도체 화합물, IV-VI족 반도체 화합물, 및 IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.The quantum dot is not particularly limited as long as it can emit light by stimulation by light. For example, the quantum dot may be a II-VI semiconductor compound, a III-V semiconductor compound, a IV-VI semiconductor compound, and a IV group element or a compound May be used.
상기 II-VI족 반도체 화합물은 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있고, Wherein the II-VI group semiconductor compound is selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and mixtures thereof; Trivalent compounds selected from the group consisting of CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe and mixtures thereof; And at least one element selected from the group consisting of CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe, and mixtures thereof,
상기 III-V족 반도체 화합물은 GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있으며,The III-V semiconductor compound is selected from the group consisting of GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb and mixtures thereof. A trivalent compound selected from the group consisting of GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP and mixtures thereof; And a photoresist selected from the group consisting of GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, Or more,
상기 IV-VI족 반도체 화합물은 SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있고, The IV-VI semiconductor compound may be selected from the group consisting of SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and mixtures thereof. Ternary compounds selected from the group consisting of SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe, and mixtures thereof; And a silicate compound selected from the group consisting of SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and mixtures thereof,
상기 IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물은 Si, Ge, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 원소 화합물; 및 SiC, SiGe, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The Group IV element or a compound containing the Group IV element is an elemental compound selected from the group consisting of Si, Ge, and mixtures thereof; And elemental compounds selected from the group consisting of SiC, SiGe, and mixtures thereof. However, the present invention is not limited thereto.
상기 양자점은 균질한(homogeneous) 단일 구조; 코어-쉘(core-shell) 구조, 그래디언트(gradient) 구조 등과 같은 이중 구조; 또는 이들의 혼합 구조일 수 있다. 예를 들어 상기 코어-쉘(core-shell)의 이중 구조에서, 각각의 코어(core)와 쉘(shell)을 이루는 물질은 상기 언급된 서로 다른 반도체 화합물로 이루어질 수 있다. 보다 구체적으로는, 상기 코어는 CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS 및 ZnO로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 쉘은 CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe 및 HgSe으로부터 선택되는 1종 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The quantum dot has a single homogeneous structure; A dual structure such as a core-shell structure, a gradient structure, or the like; Or a mixed structure thereof. For example, in the dual structure of the core-shell, the material forming each core and the shell may be made of the different semiconductor compounds mentioned above. More specifically, the core may include, but is not limited to, one or more materials selected from CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS and ZnO. The shell may include at least one material selected from CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe, but is not limited thereto.
통상의 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물이 색상 구현을 위해 적, 녹, 청의 착색제를 포함하듯이, 광루미네선스 양자점도 적 양자점, 녹 양자점 및 청 양자점으로 분류될 수 있다. 요컨대, 본 발명에 따른 상기 양자점은 적색 광을 방출하는 적 양자점, 녹색 광을 방출하는 녹 양자점 또는 청색 광을 방출하는 청 양자점일 수 있다.The colored photosensitive resin composition used in the production of a typical color filter may be classified into an optical luminescence quantum dot quantum dot, a rust quantum dot, and a blue quantum dot, as well as including red, green, and blue colorants for color implementation. In short, the quantum dot according to the present invention may be an energetic quantum dot emitting red light, a rust quantum dot emitting green light, or a blue quantum dot emitting blue light.
상기 양자점은 습식 화학 공정(wet chemical process), 유기금속 화학증착 공정(MOCVD, metal organic chemical vapor deposition) 또는 분자선 에피텍시 공정(MBE, molecular beam epitaxy)에 의해 합성될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The quantum dot may be synthesized by, but not limited to, a wet chemical process, a metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) process, or a molecular beam epitaxy process (MBE) process .
상기 습식 화학 공정이란 유기용제에 전구체 물질을 넣어 입자를 성장시키는 방법이다. 결정이 성장될 때 유기용제가 자연스럽게 양자점 결정의 표면에 배위되어 분산제 역할을 하여 결정의 성장을 조절하게 되므로, 유기금속 화학증착 공정이나 분자선 에피텍시와 같은 기상증착법보다 더 쉽고 저렴한 공정을 통하여 나노 입자의 성장을 제어할 수 있으므로, 상기 습식 화학 공정을 사용하여 본 발명에 따른 상기 양자점을 제조하는 것이 바람직하다.In the wet chemical process, a precursor material is added to an organic solvent to grow particles. When the crystal grows, the organic solvent is naturally coordinated on the surface of the quantum dot crystal to act as a dispersing agent to control the crystal growth. Therefore, it is easier and cheaper to process the nano-particles than the vapor deposition method such as the organic metal chemical vapor deposition process or the molecular beam epitaxy It is preferable to produce the quantum dot according to the present invention by using the wet chemical process.
상기 양자점의 함량은 본 발명에서 특별히 한정되지는 않으나, 상기 자발광 감광성 수지 조성물의 고형분 전체 100 중량부에 대하여 3 내지 80 중량부, 바람직하게는 5 내지 70 중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 양자점이 상기 범위 내로 포함될 경우 발광 효율이 우수하고, 화소 패턴의 형성이 용이한 이점이 있다. 상기 양자점이 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 발광 효율이 미비할 수 있고, 상기 범위를 초과하는 경우 상대적으로 다른 성분의 함량이 부족하여 화소 패턴의 형성이 다소 어려울 수 있으므로 상기 범위를 만족하는 것이 바람직하다.The content of the quantum dots is not particularly limited in the present invention, but is preferably 3 to 80 parts by weight, and preferably 5 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the self-light-sensitive photosensitive resin composition. When the quantum dot is included within the above range, the light emitting efficiency is excellent and the pixel pattern can be easily formed. When the quantum dot is included in the range below the above range, the light emitting efficiency may be insufficient. If the quantum dot is beyond the above range, the content of the other components may be insufficient and the formation of the pixel pattern may be somewhat difficult. .
산란입자Scattering particles
본 발명에 따른 산란입자는 컬러필터의 광효율을 증가시키기 위해 사용된다. 이론에 의해 제한되는 것을 바라지는 않으나, 일반적으로 광원으로부터 조사된 빛은 컬러필터에 임계각을 가지면서 입사되는데, 이때 입사된 광이나 양자점에 의해 스스로 방출되는 자발 방출광은 산란입자와 만나면서 광경로 증가로 인해 발광 세기가 강해져 결과적으로는 컬러필터의 광효율을 증가시킬 수 있다.The scattering particles according to the present invention are used to increase the light efficiency of the color filter. Although not wishing to be bound by theory, in general, the light emitted from the light source enters the color filter with a critical angle. At this time, the spontaneous emission light emitted by the incident light or the quantum dot is scattered, The light emission intensity is increased, and consequently the light efficiency of the color filter can be increased.
본 발명에 따른 산란입자는 평균입경 100nm 내지 500nm인 제1 금속산화물; 및 평균입경 30nm 내지 500nm인 제2 금속산화물;을 포함하며, 상기 제1 금속산화물은 TiO2이고, 상기 제2 금속산화물은 ZnO이다.The scattering particles according to the present invention include a first metal oxide having an average particle diameter of 100 nm to 500 nm; And a second metal oxide having an average particle diameter of 30 nm to 500 nm, wherein the first metal oxide is TiO 2 and the second metal oxide is ZnO.
본 발명에서, “평균입경”이란, 수평균 입경일 수 있으며, 예컨대 전계방출 주자전자현미경(FE-SEM) 또는 투과전자 현미경(TEM)에 의해 관찰한 상으로부터 구할 수 있다. 구체적으로, FE-SEM 또는 TEM의 관찰 화상으로부터 몇 개의 샘플을 추출하고 이들 샘플의 직경을 측정하여 산술 평균한 값으로 얻을 수 있다.In the present invention, the " average particle diameter " may be a number average particle diameter and can be obtained from a phase observed by, for example, a field emission electron microscope (FE-SEM) or a transmission electron microscope (TEM). Specifically, several samples can be extracted from observation images of FE-SEM or TEM, and the diameters of these samples can be measured and obtained as arithmetic mean values.
본 발명에 따른 산란입자는 평균 입경이 100 내지 500nm인 제1 금속산화물 및 평균입경이 30 내지 500nm인 제2 금속산화물을 포함하고, 상기 제1 금속산화물로서 TiO2를 포함하고, 상기 제2 금속산화물로서 ZnO를 포함함으로써 발광강도가 우수할 뿐만 아니라 반사 휘도가 우수한 컬러필터의 제조가 가능하다.The scattering particles according to the present invention comprise a first metal oxide having an average particle diameter of 100 to 500 nm and a second metal oxide having an average particle diameter of 30 to 500 nm and containing TiO 2 as the first metal oxide, By including ZnO as an oxide, it is possible to manufacture a color filter having excellent emission intensity as well as excellent reflection luminance.
상기 자발광 감광성 수지 조성물에 상기 제1 금속산화물이 포함되는 경우, 발광 유지율을 높이는 역할을 수행하여 발광을 충분히 지속시킬 수 있는 이점이 있다. 또한, 평균 입경이 30 내지 500nm인 상기 제2 금속산화물이 상기 자발광 감광성 수지 조성물에 포함되는 경우 광의 충분한 산란을 유도하여 광경로를 증가시킬 수 있고, 이를 통해 발광 강도(intensity)를 우수하게 할 수 있으며, 높은 휘도 및 광유지율을 가지는 컬러필터의 제조가 가능하다.When the first metal oxide is included in the self-light-sensitive photosensitive resin composition, the self-emission photosensitive resin composition has an advantage that the light emission retention rate can be increased and the light emission can be sufficiently maintained. In addition, when the second metal oxide having an average particle diameter of 30 to 500 nm is included in the self-emission photosensitive resin composition, it is possible to induce sufficient scattering of light to increase the light path, thereby increasing the light intensity And it is possible to manufacture a color filter having high luminance and light retention.
산란입자의 평균입경이 상기 범위 미만, 예컨대 10nm인 경우 입사광이나 양자점으로부터 방출된 빛의 산란 효과를 기대할 수 없고, 상기 범위를 초과하여 산란입자가 너무 커지게 되면 조성물 내에 가라앉아 균일한 품질의 자발광층 표면을 얻을 수 없는 문제가 있다.When the average particle diameter of the scattering particles is less than the above range, for example, 10 nm, the scattering effect of light emitted from the incident light or the quantum dot can not be expected. When the scattering particles become larger than the above range, There is a problem that the surface of the light emitting layer can not be obtained.
그러므로 본 발명에서는, 산란입자로서 평균입경 100 내지 500nm인 제1 금속산화물 및 평균입경 30 내지 500nm인 제2 금속산화물을 함께 사용하고, 상기 제1 금속산화물이 TiO2를 포함하고, 상기 제2 금속산화물이 ZnO를 포함함으로써, 우수한 발광 특성뿐만 아니라 포스트 베이크(post bake, PB) 공정 중에 발생하는 양자점의 산화를 효과적으로 방지함으로써 공정간에서 발생하는 휘도 감소를 줄일 수 있는 이점이 있다.Therefore, in the present invention, a first metal oxide having an average particle diameter of 100 to 500 nm and a second metal oxide having an average particle diameter of 30 to 500 nm are used together as scattering particles, the first metal oxide contains TiO 2 , By including ZnO in the oxide, there is an advantage that it is possible to effectively prevent the oxidation of quantum dots generated during a post bake (PB) process as well as excellent luminescence characteristics, thereby reducing a luminance reduction occurring between processes.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 제1 금속산화물과 상기 제2 금속산화물의 평균입경의 비는 0.1 내지 0.5배일 수 있다. 구체적으로, 산란입자로서 평균입경이 100 내지 500nm, 바람직하게는 150 내지 400nm인 제1 금속산화물을 사용하는 것이 바람직하며, 이때, 상기 제2 금속산화물의 평균입경은 상기 제1 금속산화물의 평균 입경의 0.1 내지 0.5배인 것을 사용하는 것이 바람직하다. In one embodiment of the present invention, the ratio of the average particle diameter of the first metal oxide and the second metal oxide may be 0.1 to 0.5 times. Specifically, as the scattering particles, it is preferable to use a first metal oxide having an average particle diameter of 100 to 500 nm, preferably 150 to 400 nm, wherein an average particle diameter of the second metal oxide is an average particle diameter of the first metal oxide Is preferably 0.1 to 0.5 times as large as that of the resin.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 제2 금속산화물의 평균입경은 상기 제1 금속산화물의 입경보다 크지 않으며, 이 경우 균일한 혼합이 가능하기 때문에 균일한 품질의 자발광층 표면을 얻을 수 있는 이점이 있다. 구체적으로, 본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 제1 금속산화물과 상기 제2 금속산화물의 평균입경의 차이는 60nm 이상일 수 있다.In still another embodiment of the present invention, the average particle diameter of the second metal oxide is not larger than the particle diameter of the first metal oxide. In this case, uniform mixing is possible, so that the surface of the self- There is an advantage. Specifically, in another embodiment of the present invention, the difference between the average particle diameters of the first metal oxide and the second metal oxide may be 60 nm or more.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 산란입자는 Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Sb, Sn, Zr, Nb, Ce, Ta 및 In으로부터 선택되는 1종 이상의 금속의 산화물을 더 포함할 수 있다.In another embodiment of the present invention, the scattering particles include at least one of Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Sb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Sn, Zr, Nb, Ce, Ta, and In.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 추가로 포함되는 금속산화물은 Al2O3, SiO2, ZrO2, BaTiO3, Ta2O5, Ti3O5, ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb2O3, SnO 및 MgO으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있으며, 필요한 경우에는 아크릴레이트 등의 불포화 결합을 갖는 화합물로 표면 처리된 재질도 사용 가능하다.In still another embodiment of the present invention, the metal oxide further includes Al 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , BaTiO 3 , Ta 2 O 5 , Ti 3 O 5 , ITO, IZO, ATO, ZnO-Al , Nb 2 O 3 , SnO, and MgO, and if necessary, a material surface-treated with a compound having an unsaturated bond such as an acrylate can be used.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 산란입자 고형분 전체 100 중량부에 대하여 상기 제1 금속산화물 50 내지 90 중량부 및 상기 제2 금속산화물 10 내지 50 중량부 미만으로 포함될 수 있다. 상기 제1 금속산화물과 상기 제2 금속산화물이 상기 범위를 만족하는 경우 광유지율 개선 효과가 우수하고 휘도의 감소를 억제할 수 있어 바람직하다. 상기 제1 금속산화물이 상기 범위 미만인 경우 광유지율 개선 효과가 미비할 수 있고, 상기 범위를 초과하는 경우 산란 효과가 감소함에 따라 휘도가 감소할 수 있으므로 상기 범위 내에서 적절히 사용하는 것이 바람직하다. 상기 제2 금속산화물의 함량이 상기 범위 미만인 경우 광 산란이 어려워 휘도 개선 효과가 미비할 수 있고, 상기 범위를 초과하면 광유지율 개선을 방해할 우려가 있으므로 상기 범위 내에서 적절히 사용하는 것이 바람직하다.In another embodiment of the present invention, 50 to 90 parts by weight of the first metal oxide and 10 to 50 parts by weight of the second metal oxide may be included in 100 parts by weight of the total of the scattering particle solids. When the first metal oxide and the second metal oxide satisfy the above ranges, it is preferable that the light retention improving effect is excellent and the decrease in luminance can be suppressed. If the first metal oxide is less than the above range, the light retention efficiency may not be improved. If the first metal oxide is more than the above range, the brightness may decrease as the scattering effect decreases. When the content of the second metal oxide is less than the above range, light scattering is difficult and the luminance improvement effect may be insufficient. When the content exceeds the above range, there is a fear of hindering the improvement of the light retention rate.
상기 산란입자는 컬러필터의 발광 세기를 충분히 향상시킬 수 있도록 전체 조성물 내에서 함량을 한정할 수 있다. 구체적으로, 본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 산란입자는 상기 자발광 감광성 수지 조성물 고형분 전체 100 중량부에 대하여 0.1 내지 50 중량부, 바람직하게는 0.3 내지 30 중량부로 포함될 수 있다. 상기 산란입자가 상기 범위 내로 포함되는 경우 발광 세기가 우수하고 그 성능이 안정적인 컬러필터의 제조가 가능한 이점이 있다. 상기 산란입자가 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 목적하고자 하는 발광 세기의 확보가 어려울 수 있고, 상기 범위를 초과하는 경우 발광 세기 증가 효과가 미비할 뿐 아니라 상기 산란 입자를 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물의 안정성이 저하될 수 있으므로, 상기 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다.The scattering particles can limit the content in the whole composition so as to sufficiently improve the emission intensity of the color filter. Specifically, in another embodiment of the present invention, the scattering particles may be contained in an amount of 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.3 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content of the self-emission photosensitive resin composition. When the scattering particles are contained within the above range, there is an advantage that a color filter having excellent luminescence intensity and stable performance can be produced. If the scattering particles are contained in the range below the range, it may be difficult to obtain the desired luminescence intensity. If the scattering particles are beyond the range, the effect of increasing the luminescence intensity is insufficient, The stability may be deteriorated. Therefore, it is preferable to use it within the above-mentioned range.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 자발광 감광성 수지 조성물은 광중합성 화합물, 알칼리 가용성 수지, 광중합 개시제 및 용제로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 더 포함할 수 있다. In still another embodiment of the present invention, the self-luminescent photosensitive resin composition may further include at least one selected from the group consisting of a photopolymerizable compound, an alkali-soluble resin, a photopolymerization initiator, and a solvent.
광중합성Photopolymerization 화합물 compound
본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 광중합성 화합물을 포함할 수 있다. 상기 광중합성 화합물은 후술하는 광중합 개시제로부터 발생되는 활성 라디칼, 산 등에 의해 중합될 수 있는 화합물로서 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 3관능 이상의 다관능 단량체 등을 들 수 있다.The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention may include a photopolymerizable compound. The photopolymerizable compound is a compound which can be polymerized by an active radical or an acid generated from a photopolymerization initiator, which will be described later, and examples thereof include monofunctional monomers, bifunctional monomers, and multifunctional monomers having three or more functionalities.
상기 단관능 단량체의 구체적인 예로는, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 또는 N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있으며, 시판품으로는 아로닉스 M-101 (도아고세이), KAYARAD TC-110S (닛본가야꾸) 또는 비스코트 158 (오사카 유키 가가쿠 고교) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the monofunctional monomer include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate or N- Examples of commercially available products include Aronix M-101 (Toagosei), KAYARAD TC-110S (Nippon Kayaku), and Viscot 158 (Osaka Yuki Kagaku Kogyo). It is not.
상기 2관능 단량체의 구체적인 예로는 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 시판품으로는 아로닉스 M-210, M-1100, 1200(도아고세이), KAYARAD HDDA (닛본가야꾸), 비스코트 260 (오사카 유키 가가쿠 고교), AH-600, AT-600 또는 UA-306H (교에이샤 가가꾸사) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the bifunctional monomer include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (Acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and commercially available products include Aronix M-210 A-600, AT-600 or UA-306H (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and the like, which are commercially available from Mitsubishi Chemical Industries, Ltd., M-1100, 1200 (Toagosei Co., Ltd.), KAYARAD HDDA (Nippon Kayaku) But the present invention is not limited thereto.
상기 3관능 이상의 다관능 단량체의 구체적인 예로는 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 시판품으로는 아로닉스 M-309, TO-1382 (도아고세이), KAYARAD TMPTA, KAYARAD DPHA 또는 KAYARAD DPHA-40H (닛본가야꾸) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the trifunctional or higher functional polyfunctional monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, penta (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated (Meth) acrylate such as dipropylene glycol dimethacrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Commercially available products include Aronix M-309 , TO-1382 (Toagosei), KAYARAD TMPTA, KAYARAD DPHA or KAYARAD DPHA-40H (Nippon Kayaku), but the present invention is not limited thereto .
또한, 상기 광중합성 화합물은 하기 화학식 1 내지 2와 같이 수산기 또는 카르복시산기를 가진 디펜타에리스리톨(폴리)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The photopolymerizable compound may be dipentaerythritol (poly) acrylate having a hydroxyl group or a carboxylic acid group as shown in the following formulas (1) and (2).
[화학식 1] [Chemical Formula 1]
상기 화학식 1에서, R1은 아크릴레이트기 또는 메타크릴레이트기이고, R2는 수소, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기이다.In Formula 1, R 1 is an acrylate group or a methacrylate group, and R 2 is hydrogen, an acryloyl group or a methacryloyl group.
[화학식 2](2)
상기 화학식 2에서, R3 내지 R5는 서로 같거나 다르며, 각각 OH, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기 또는 -OR7이다. 이때, R3 내지 R5 중 적어도 하나는 아크릴레이트기 또는 메타크릴레이트기이고, R7은 
본 발명의 광중합성 화합물은 이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용될 수 있으며, 보다 바람직하게는 카르복시산기 함유 5관능 광중합성 화합물을 사용할 수 있다. 5관능 이상의 다관능 단량체를 사용하는 경우 화소 패턴의 형성이 더욱 우수하여 바람직하다. 특히, 카르복시산기가 함유된 5관능 이상의 다관능 단량체는 양자점의 입자 응집에 따른 발광 특성의 저하가 없고, 광 반응성이 우수하여 발광성이 우수한 화소 패턴을 형성할 수 있다.The photopolymerizable compound of the present invention may preferably be a bifunctional or higher functional monomer, and more preferably a bifunctional photopolymerizable compound containing a carboxylic acid group. When a polyfunctional monomer having five or more functional groups is used, formation of a pixel pattern is more preferable. Particularly, a polyfunctional monomer having five or more functional groups containing a carboxylic acid group can form a pixel pattern having excellent light-emitting properties without deterioration of luminescence characteristics due to particle aggregation of quantum dots and excellent light reactivity.
상기 광중합성 화합물은 상기 자발광 감광성 수지 조성물의 고형분 전체 100 중량부에 대하여 5 내지 70 중량부, 바람직하게는 7 내지 65 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물이 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 화소(pixel)부의 강도나 평활성이 양호하게 되기 때문에 바람직하다. 상기 광중합성 화합물이 상기 범위 미만으로 포함되는 경우 광에 의한 광경화도가 저하되어 화소패턴의 형성이 다소 어려울 수 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우 패턴의 박리 문제가 발생할 수 있다.The photopolymerizable compound may be contained in an amount of 5 to 70 parts by weight, preferably 7 to 65 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content of the self-emission photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is contained in the range below the above range, it is preferable that the strength and smoothness of the pixel portion become good. When the photopolymerizable compound is contained in the range below the above range, the degree of photo-curing due to light may be lowered and the formation of the pixel pattern may be somewhat difficult.
알칼리 가용성 수지Alkali-soluble resin
본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지를 포함할 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지는 현상 공정에서 이용되는 알칼리 현상액에 대해서 가용성을 부여하는 성분이다. 요컨대, 상기 알칼리 가용성 수지는 상기 자발광 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된 감광성 수지층의 비노광부를 알칼리 가용성으로 만드는 역할을 수행할 수 있으며, 본 발명에서는 알칼리성 현상액에 용해 가능한 수지라면 특별히 제한하지 않고 사용이 가능하다.The self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention may contain an alkali-soluble resin. The alkali-soluble resin is a component which imparts solubility to the alkali developing solution used in the developing process. In other words, the alkali-soluble resin may serve to make the non-exposed portion of the photosensitive resin layer formed using the self-luminescent photosensitive resin composition alkali soluble. In the present invention, the resin is not particularly limited as long as it is soluble in an alkaline developer. This is possible.
구체적으로, 상기 알칼리 가용성 수지는, 카르복실기를 갖는 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 불포화 결합을 갖는 단량체로부터 선택되는 1종 이상을 공중합하여 제조하는 것이 가능하나 이에 한정되는 것은 아니다.Specifically, the alkali-soluble resin can be produced by copolymerizing at least one selected from an unsaturated monomer having a carboxyl group and a monomer having an unsaturated bond copolymerizable therewith, but is not limited thereto.
상기 카르복실기를 갖는 불포화 단량체로는 불포화 모노카르복실산, 불포화 디카르복실산, 불포화 다가카르복실산 등을 사용할 수 있다. 구체적으로,As the unsaturated monomer having a carboxyl group, an unsaturated monocarboxylic acid, an unsaturated dicarboxylic acid, or an unsaturated polycarboxylic acid can be used. Specifically,
구체적으로, 상기 불포화 모노카르복실산으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등을 들 수 있다. 상기 불포화 디카르복실산으로서는, 예를 들면 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 메사콘산 등을 들 수 있다. 상기 불포화 다가카르복실산은 산무수물일 수도 있으며, 구체적으로는 말레산 무수물, 이타콘산 무수물, 시트라콘산 무수물 등을 들 수 있다. 또한, 상기 불포화 다가 카르복실산은 그의 모노(2-메타크릴로일옥시알킬)에스테르일 수도 있으며, 예를 들면 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등을 들 수 있다. 상기 불포화 다가카르복실산은 그 양 말단 디카르복시 중합체의 모노(메타)아크릴레이트일 수도 있으며, 예를 들면 ω-카르복시폴리카프로락톤 모노아크릴레이트, ω-카르복시폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 카르복실기를 갖는 불포화 단량체는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,? -Chloroacrylic acid, cinnamic acid, and the like. Examples of the unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid. The unsaturated polycarboxylic acid may be an acid anhydride, and specific examples thereof include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may also be a mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester thereof, for example, mono (2-acryloyloxyethyl) succinate, mono (2-methacryloyloxy Ethyl), phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may be mono (meth) acrylate of the both terminal dicarboxylic polymer, and examples thereof include ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate, ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate, and the like. have. These unsaturated monomers having carboxyl groups may be used alone or in combination of two or more.
또한, 상기 카르복실기를 갖는 불포화 단량체와 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 단량체는 방향족 비닐 화합물, 불포화 카르복실산 에스테르 화합물, 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르 화합물, 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르 화합물, 카르복실산 비닐에스테르 화합물, 불포화 에테르 화합물, 시안화 비닐 화합물, 불포화 이미드 화합물, 지방족 공액 디엔 화합물, 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체 및 벌키성 단량체 화합물 등으로부터 선택된 1종 이상을 사용할 수 있다.The monomer having an unsaturated bond capable of copolymerizing with the unsaturated monomer having a carboxyl group may be an aromatic vinyl compound, an unsaturated carboxylic acid ester compound, an unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester compound, an unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compound, Selected from the group consisting of an acidic vinyl ester compound, an unsaturated ether compound, a vinyl cyanide compound, an unsaturated imide compound, an aliphatic conjugated diene compound, a macromonomer having a monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the end of a molecular chain, One or more species can be used.
보다 구체적으로, 상기 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, 인덴 등의 방향족 비닐 화합물; More specifically, the monomer having an unsaturated bond capable of copolymerization is selected from the group consisting of styrene,? -Methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o- P-methoxy styrene, o-vinyl benzyl methyl ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, Aromatic vinyl compounds such as vinylbenzyl glycidyl ether and indene;
메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 3-히드록시부틸아크릴레이트, 3-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타디에닐아크릴레이트, 디시클로펜타디에틸메타크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤모노아크릴레이트, 글리세롤모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, Acrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl Methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, methoxy diethylene glycol methacrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol methacrylate Acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxypropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadiene Acrylate, dicyclopentadienyl methacrylate, adamantyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate and the like An unsaturated carboxylic acid ester compound;
2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르 화합물; Aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2- Unsaturated carboxylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, isopropyl acrylate, Acid amino alkyl ester compounds;
글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르 화합물; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate;
아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 벤조산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르 화합물; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;
비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르 화합물; Unsaturated ether compounds such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether;
아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴 등의 시안화 비닐 화합물; Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile,? -Chloroacrylonitrile, and vinylidene cyanide;
아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드, 말레이미드, 벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드 화합물; Acrylamide, methacrylamide,? -Chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide, N-2-hydroxyethyl methacrylamide, maleimide, benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclo Unsaturated imide compounds such as hexyl maleimide;
1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; 및 폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체류;Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; And a monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the end of the polymer molecular chain of polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, Macromonomers;
비유전 상수값을 낮출 수 있는 노르보닐 골격을 갖는 단량체, 아다만탄골격을 갖는 단량체, 로진 골격을 갖는 단량체 등의 벌키성 단량체가 사용 가능하다.A bulky monomer such as a monomer having a norbornyl skeleton, a monomer having an adamantane skeleton, or a monomer having a rosin skeleton which can lower the relative dielectric constant can be used.
상기 알칼리 가용성 수지는 컬러필터로 사용하기 위한 표면 경도 향상을 위해 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이 3,000 내지 200,000의 범위에 있는 것이 바람직하며, 5,000 내지 100,000 의 범위에 있는 것이 보다 바람직하다. 또한, 분자량 분포도(Mw/Mn)는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하며, 1.8 내지 4.0의 범위인 것이 보다 바람직하다. 알칼리 가용성 수지의 중량 평균 분자량 및 분자량 분포도가 상기한 범위 이내인 경우 경도가 향상되고, 높은 잔막율을 가지며, 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하고, 해상도를 향상시킬 수 있다.The alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 3,000 to 200,000, more preferably 5,000 to 100,000 in order to improve surface hardness for use as a color filter. Further, the molecular weight distribution, it is preferable (M w / M n) is from 1.5 to 6.0, more preferably in the range of 1.8 to 4.0. When the weight average molecular weight and the molecular weight distribution of the alkali-soluble resin are within the above-mentioned range, the hardness is improved, the residual film ratio is high, the solubility of the non-exposed portion in the developer is excellent, and the resolution can be improved.
상기 알칼리 가용성 수지의 산가는 고형분 기준 20 내지 200 mgKOH/g인 것이 바람직하다. 산가는 아크릴계 중합체 1g을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 양(mg)으로서 측정되는 값으로 용해성에 관여한다. 수지의 산가가 상기 범위 이내인 경우 현상액 중의 용해성이 향상되어 비-노출부가 쉽게 용해되고 감도가 증가하여 결과적으로 노출부의 패턴이 현상시에 남아서 잔막율(film remaining ratio)이 개선되는 이점이 있다.The acid value of the alkali-soluble resin is preferably 20 to 200 mgKOH / g based on the solid content. The acid value is related to the solubility as a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary for neutralizing 1 g of the acrylic polymer. When the acid value of the resin is within the above range, the solubility in the developer is improved so that the non-exposed portion is easily dissolved and the sensitivity is increased, and consequently the pattern of the exposed portion remains during development, thereby improving the film remaining ratio.
상기 알칼리 가용성 수지는 상기 자발광 감광성 수지 조성물 중의 고형분 전체 100 중량부에 대하여 중량 분율로 바람직하게는 5 내지 80 중량부, 보다 바람직하게는 10 내지 70 중량부로 포함될 수 있다. 알칼리 가용성 수지의 함량이 상기한 범위 이내인 경우 현상액에의 용해성이 충분하여 비화소 부분의 누락성이 양호해지므로 기판상에 잔사가 발생하기 어렵고, 현상시에 노광부의 화소 부분의 막 감소가 방지되어 패턴 형성이 용이해지므로 바람직하다. 상기 알칼리 가용성 수지가 상기 범위 미만으로 포함될 경우 비화소 부분이 다소 누락될 수 있으며, 상기 알칼리 가용성 수지가 상기 범위를 초과하여 포함될 경우 현상액에서의 용해성이 다소 저하되어 패턴형성이 다소 어려울 수 있다.The alkali-soluble resin may be contained in an amount of preferably 5 to 80 parts by weight, more preferably 10 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content in the self-emission photosensitive resin composition. When the content of the alkali-soluble resin is within the above-mentioned range, solubility in a developing solution is sufficient, so that the absence of the non-pixel portion is improved, so that residues are not easily generated on the substrate and the film portion of the pixel portion of the exposed portion is prevented from being reduced So that pattern formation is facilitated. If the alkali-soluble resin is contained in the range below the above-mentioned range, the non-pixel portion may be somewhat missed. If the alkali-soluble resin is contained in the above range, the solubility in the developer may be somewhat lowered and pattern formation may be somewhat difficult.
광중합Light curing 개시제Initiator
본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물에 포함되는 광중합 개시제는 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 방사선에의 노광에 의해 전술한 광중합성 화합물의 중합을 개시할 수 있는 라디칼 등을 발생하는 화합물이다.The photopolymerization initiator contained in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention generates radicals capable of initiating polymerization of the photopolymerizable compound described above by exposure to radiation such as visible light, ultraviolet light, deep ultraviolet light, electron beam, and X- .
상기 광중합 개시제는 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위 내에서 당해 분야에서 통상적으로 사용되는 것을 적용할 수 있으며, 상기 결합제 수지 및 상기 광중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 것이라면 그 종류를 특별히 제한하지 않는다. 대표적인 예로서, 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 및 옥심계 화합물 등을 들 수 있으나 이에 한정하는 것은 아니며, 이로부터 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator may be those conventionally used in the art within the scope of not impairing the object of the present invention, and the type thereof is not particularly limited as long as it can polymerize the binder resin and the photopolymerizable compound. Typical examples include triazine-based compounds, acetophenone-based compounds, nonimidazole-based compounds, and oxime-based compounds. However, the present invention is not limited thereto, and one or more of them may be selected.
상기 광중합 개시제를 포함하는 자발광 감광성 수지 조성물은 고감도화되고, 상기 자발광 감광성 수지 조성물로 형성되는 컬러필터의 화소픽셀의 화소부는 강도나 패턴성이 양호해지므로 상기 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다.The self-luminescent photosensitive resin composition containing the photopolymerization initiator is highly sensitized, and the pixel portion of the pixel pixel of the color filter formed of the self-luminescent photosensitive resin composition preferably includes the photopolymerization initiator since strength and patternability are improved .
구체적으로, 상기 트리아진계 화합물로서는, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.Specific examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) -Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- Azine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- Methyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, but are not limited thereto.
상기 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다. 또한, 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2- (4-methylthioxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2- 2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1-one, 1-one, and 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one. Further, a compound represented by the following formula (3) can be mentioned.
[화학식 3](3)
상기 화학식 3에서, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, OH, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 페닐기, 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 벤질기, 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 나프틸기이다.In Formula 3, R 1 to R 4 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, halogen, OH, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a benzyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, Or a naphthyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
상기 화학식 3으로 표시되는 화합물로서는, 예를들면 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다. Examples of the compound represented by the general formula (3) include 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan- 1-one, 2-propyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan- (4-morpholinophenyl) propane-1-one, 2-amino-2- 2-methyl-2-methylamino (4-morpholinophenyl) propane-1-one, 1-one, 2-methyl-2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propan- have.
상기 비이미다졸계 화합물 화합물로서는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기로 치환된 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 보다 바람직하게는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 또는 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸 등을 사용할 수 있다.Examples of the non-imidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'- 4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4'5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole or an imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4 ', 5,5' position is substituted with a carboalkoxy group. Among them, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis 4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole or 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4'5,5'-tetraphenyl- Etc. may be used.
상기 옥심계 화합물로서는, 예를 들면 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-에타논-1-(O-아세틸옥심), (Z)-2-((벤조일옥시)이미노)-1-(4-(페닐티오)페닐)옥탄-1-온, (E)-1-(((1-(9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일)에틸리딘)아미노)옥시)에탄온 및 (E)-1-(((1-(6-(4-((2,2-디메틸-1,3-디옥솔란-4-일)메톡시)-2-메틸벤조일)-9-에틸-9H-카바졸-3-일)에틸리딘)아미노)옥시)에탄온 등을 들 수 있고, 시판품으로는 바스프사의 OXE-01, OXE-02 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 하기 화학식 4 내지 6 등을 들 수 있다.Examples of the oxime compounds include o-ethoxycarbonyl- alpha -oximimino-1-phenylpropan-1-one, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H- (Z) -2 - ((benzoyloxy) imino) -1- (4- (phenylthio) phenyl) octan-1-one, (E) -1- (((1- (9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol- (((1- (6- (4 - ((2,2-dimethyl-1,3-dioxolan-4- yl) methoxy) -2-methylbenzoyl) -9- -Yl) ethyl) amino) oxy) ethanone, and commercially available products include, but are not limited to, OXE-01 and OXE-02 from BASF. Further, the following formulas (4) to (6) are exemplified.
[화학식 4][Chemical Formula 4]
[화학식 5][Chemical Formula 5]
[화학식 6][Chemical Formula 6]
또한, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위 내에서, 통상 사용되는 다른 광중합 개시제를 추가로 사용하는 것도 가능하다. 상기 다른 광중합 개시제는 구체적으로, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물 및 그 밖의 광중합 개시제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Further, other photopolymerization initiators which are usually used may be further used within the range not impairing the effects of the present invention. Specific examples of the other photopolymerization initiator include benzoin-based compounds, benzophenone-based compounds, thioxanthone-based compounds, anthracene-based compounds, and other photopolymerization initiators. These may be used alone or in combination of two or more.
상기 벤조인계 화합물로서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.
상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4'-디(N,N'-디메틸아미노)-벤조페논 등을 들 수 있다. Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and 4'-di (N, N'-dimethylamino) -benzophenone.
상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4- .
상기 안트라센계 화합물로서는, 예를 들면 예로 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다.Examples of the anthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, etc. .
그 밖의 광중합 개시제로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다.Other photopolymerization initiators include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethyl anthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, Methyl phenylchloroxylate, and titanocene compounds.
상기 광중합 개시제는 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 중량 분율로 바람직하게는 0.1 내지 20 중량부, 보다 바람직하게는 1 내지 10 중량부로 포함되는 것이 좋다. 상기 광중합 개시제의 함량이 상기한 범위 내인 경우, 자발광 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며, 높은 해상도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도와 상기 화소부 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있으므로 바람직하다.The photopolymerization initiator is preferably contained in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on the solid content in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention. When the content of the photopolymerization initiator is within the above-mentioned range, the self-luminescent photosensitive resin composition is highly sensitized and the exposure time is shortened, so that productivity is improved and high resolution can be maintained. And the strength of the pixel portion formed by using the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention and the smoothness of the surface of the pixel portion can be improved.
한편, 상기 광중합 개시제는 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제와 병용할 수 있다. 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물이 광중합 개시 보조제를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아지고, 이 조성물을 사용하여 컬러 필터를 형성할 때의 생산성을 향상시킬 수 있으므로 바람직하다.On the other hand, the photopolymerization initiator may be used in combination with a photopolymerization initiator to enhance the sensitivity of the self-emitting photosensitive resin composition of the present invention. When the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention contains a photopolymerization initiator, the sensitivity is further increased and productivity can be improved when the color filter is formed using the composition.
상기 광중합 개시 보조제는, 예를 들면 아민 화합물 및 카르복실산 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다.As the photopolymerization initiation auxiliary, at least one compound selected from, for example, an amine compound and a carboxylic acid compound can be preferably used.
상기 아민 화합물로서는, 예를 들면 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다. 상기 아민 화합물로서는 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직할 수 있다.Examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine; aliphatic amines such as methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 4- 2-ethylhexyl dimethylbenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis Diethylamino) benzophenone, and the like. As the amine compound, it is preferable to use an aromatic amine compound.
상기 카르복실산 화합물로서는, 예를 들면 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다.Examples of the carboxylic acid compound include phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, chlorophenylthioacetic acid , And aromatic heteroacetic acids such as dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.
상기 광중합 개시 보조제는 자발광 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대하여 중량 분율로 바람직하게는 0.1 내지 20 중량부, 보다 바람직하게는 1 내지 10 중량부로 포함되는 것이 좋다. 광중합 개시 보조제의 함량이 상기한 범위 이내이면, 자발광 감광성 수지 조성물의 감도 효율성이 더욱 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러 필터의 생산성이 향상되는 경향이 있으므로 바람직하다. The photopolymerization initiator is preferably contained in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on the solid content in the self-luminescent photosensitive resin composition. If the content of the photopolymerization initiator is within the above-mentioned range, the sensitivity efficiency of the self-luminescent photosensitive resin composition is further increased and the productivity of the color filter formed using the composition tends to be improved.
용제solvent
본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물에 포함되는 용제는 상기 자발광 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는 데 효과적인 것이면, 당해 분야에서 통상적으로 사용되는 유기 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 상기 용제는 예컨대, 에테르류, 아세테이트류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알코올류, 및 에스테르류 등을 들 수 있으며, 이로부터 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있으나 이에 한정하는 것은 아니다.The solvent to be contained in the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention may be any organic solvent conventionally used in the art, provided that it is effective to dissolve the other components contained in the self-luminescent photosensitive resin composition. Examples of the solvent include ethers, acetates, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, and esters. One or more of these solvents can be selected and used, but the present invention is not limited thereto.
상기 에테르류 용제는 구체적으로, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 등을 들 수 있다.Specific examples of the ether solvents include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether; Propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether; And the like.
상기 아세테이트류 용제는 구체적으로, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알콕시알킬아세테이트류; 등을 들 수 있다.Examples of the acetate solvents include ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate and propylene glycol monopropyl ether acetate; Alkoxyalkyl acetates such as methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate; And the like.
상기 방향족 탄화수소류 용제는 구체적으로, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic hydrocarbon solvent include benzene, toluene, xylene, and mesitylene.
상기 케톤류 용제는 구체적으로, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등을 들 수 있다.Specific examples of the ketone solvent include methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.
상기 알코올류 용제는 구체적으로, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥사놀, 에틸렌글리콜, 글리세린 등을 들 수 있다.Specific examples of the alcohol solvents include ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, and glycerin.
상기 에스테르류 용제는 구체적으로, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류; γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류; 등을 들 수 있다. Specific examples of the ester solvent include esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; cyclic esters such as? -butyrolactone; And the like.
상기 용제들은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.These solvents may be used alone or in combination of two or more.
상기 용제 중, 도포성 및 건조성 측면에서 비점이 100 내지 200℃인 유기 용제가 바람직하며, 보다 바람직하게는 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 케톤류; 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류; 등을 들 수 있다. 이들 용제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. Among these solvents, an organic solvent having a boiling point of 100 to 200 ° C is preferable in terms of coatability and dryness, more preferably alkylene glycol alkyl ether acetates; Ketones; Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; And the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
본 발명에서 상기 용제의 함량은 특별히 한정하지 않으며, 자발광 감광성 수지 조성물의 총 100 중량부에 대하여 상기 용제 60 내지 90 중량부를 포함할 수 있으며, 보다 바람직하게는 60 내지 85 중량부를 포함할 수 있다. 상기 용제의 함량이 상술한 범위 이내인 경우, 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 효과를 제공할 수 있다. 상기 용제의 함량이 상기 범위 미만으로 포함될 경우 도포성이 다소 저하됨에 따라 공정이 다소 어려워질 수 있으며, 상기 범위를 초과하는 경우 상기 자발광 감광성 수지 조성물로 형성된 컬러 필터의 성능이 다소 저하될 수 있는 문제가 발생할 수 있다.In the present invention, the content of the solvent is not particularly limited, and may include 60 to 90 parts by weight, more preferably 60 to 85 parts by weight, of the solvent relative to 100 parts by weight of the total amount of the self-luminescent photosensitive resin composition . When the content of the above-mentioned solvent is within the above-mentioned range, it is possible to improve the coating property when applied with a coating apparatus such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (sometimes referred to as a die coater) Can be provided. When the content of the solvent is less than the above range, the coating property may be somewhat lowered, and the process may be somewhat difficult. When the content is above the range, the performance of the color filter formed of the self-luminescent photosensitive resin composition may be somewhat deteriorated Problems can arise.
첨가제additive
본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 충진제, 다른 고분자 화합물, 안료 분산제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다.The self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention may further contain additives such as fillers, other polymer compounds, pigment dispersants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, and anti-aggregation agents as necessary.
상기 충진제의 구체적인 예는 유리, 실리카, 알루미나 등이 예시된다.Specific examples of the filler include glass, silica, and alumina.
상기 다른 고분자 화합물로서는 구체적으로 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of the other polymer compound include curable resins such as epoxy resins and maleimide resins, and thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and polyurethane. .
상기 안료 분산제로서는 시판되는 계면 활성제를 이용할 수 있고, 예를 들면 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성 등의 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다. As the pigment dispersant, commercially available surfactants can be used, and examples thereof include surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic, and amphoteric surfactants. These may be used alone or in combination of two or more.
상기의 계면 활성제로서, 예를 들면 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페에테르류, 폴리에틸렌글리콜 디에스테르류, 소르비탄 지방상 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3급아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등이 있으며 이외에, 상품명으로 KP(신에쯔 가가꾸 고교㈜ 제조), 폴리플로우(POLYFLOW)(교에이샤 가가꾸㈜ 제조), 에프톱(EFTOP)(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(MEGAFAC)(다이닛본 잉크 가가꾸 고교㈜ 제조), 플로라드(Flourad)(스미또모 쓰리엠㈜ 제조), 아사히가드(Asahi guard), 서플(Surflon)(이상, 아사히 글라스㈜ 제조), 솔스퍼스(SOLSPERSE)(제네까㈜ 제조), EFKA(EFKA 케미칼스사 제조), PB 821(아지노모또㈜ 제조) 등을 들 수 있다. Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylpethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty esters, fatty acid modified polyesters, tertiary amine modified polyurethanes (Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), POLYFLOW (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), EFTOP (manufactured by TOKEM PRODUCTS CO., LTD.), And polyethyleneimine, (Manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), Flourad (manufactured by Sumitomo 3M Limited), Asahi guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Sol SOLSPERSE (manufactured by Genene), EFKA (manufactured by EFKA Chemical), PB 821 (manufactured by Ajinomoto), and the like.
상기 밀착 촉진제로서, 예를 들면 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다. 산화 방지제로서는 구체적으로 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2 (aminoethyl) - (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- Trimethoxysilane, and the like. Specific examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol.
상기 자외선 흡수제로서는 구체적으로 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole and alkoxybenzophenone.
상기 응집 방지제로서는 구체적으로 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.Specific examples of the anti-aggregation agent include sodium polyacrylate and the like.
상기 첨가제는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 당업자가 적절히 추가하여 사용이 가능하다. 예컨대 상기 첨가제는 상기 자발광 감광성 수지 조성물 전체 100 중량부에 대하여 0.05 내지 10 중량부, 바람직하게는 0.1 내지 10 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 중량부로 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The additive can be suitably added and used by those skilled in the art within a range not hindering the effect of the present invention. For example, the additive may be used in an amount of 0.05 to 10 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the entire self-light-sensitive photosensitive resin composition.
<컬러필터><Color filter>
본 발명의 또 다른 양태는 전술한 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에 관한 것이다. Another aspect of the present invention relates to a color filter made of the self-luminous photosensitive resin composition described above.
본 발명에 따른 컬러필터는 화상표시장치에 적용되는 경우, 표시장치 광원의 광에 의해 발광하므로, 보다 뛰어난 광 효율의 구현이 가능하다. 또한, 색상을 가진 광이 방출되는 것이므로 색 재현성이 보다 우수하고, 광루미네선스에 의해 전 방향으로 광이 방출되므로 시야각의 개선이 가능하다. When the color filter according to the present invention is applied to an image display apparatus, it emits light by the light of the display device light source, so that it is possible to realize more excellent light efficiency. In addition, since color light is emitted, color reproducibility is better and light is emitted in all directions due to the optical luminescence, so that it is possible to improve the viewing angle.
구체적으로, 본 발명에 따른 컬러필터는 평균입경 100nm 내지 500nm인 제1 금속산화물 및 평균입경 30nm 내지 500nm인 제2 금속산화물을 포함하고, 상기 제1 금속산화물은 TiO2이고, 상기 제2 금속산화물은 ZnO인 자발광 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함하기 때문에 광유지율이 우수하고 반사휘도가 우수한 이점이 있다.Specifically, the color filter according to the present invention comprises a first metal oxide having an average particle diameter of 100 nm to 500 nm and a second metal oxide having an average particle diameter of 30 nm to 500 nm, wherein the first metal oxide is TiO 2 , Has the advantage of excellent light retention and excellent reflection brightness because it contains a cured product of self-luminescent photosensitive resin composition of ZnO.
상기 컬러필터는 기판 및 상기 기판의 상부에 형성된 패턴층을 포함할 수 있으며, 상기 패턴층은 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물의 경화물을 포함할 수 있다.The color filter may include a substrate and a pattern layer formed on the substrate, and the pattern layer may include a cured product of the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention.
기판은 컬러필터 자체 기판일 수 있으며, 또는 디스플레이 장치 등에 컬러필터가 위치되는 부위일 수도 있는 것으로, 특별히 제한되지 않는다. 상기 기판은 유리, 실리콘(Si), 실리콘 산화물(SiOx) 또는 고분자 기판일 수 있으며, 상기 고분자 기판은 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES) 또는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등일 수 있다. The substrate may be a substrate of the color filter itself, or may be a portion where the color filter is placed on a display device or the like, and is not particularly limited. The substrate may be glass, silicon (Si), silicon oxide (SiOx), or a polymer substrate, and the polymer substrate may be polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC).
패턴층은 본 발명의 감광성 수지 조성물을 포함하는 층으로, 상기 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상 및 열경화하여 형성된 층일 수 있다.The pattern layer may be a layer containing the photosensitive resin composition of the present invention, and may be a layer formed by applying the photosensitive resin composition and exposing, developing, and curing the composition in a predetermined pattern.
상기 자발광 감광성 수지 조성물로 형성된 패턴층은 적 양자점 입자를 함유한 적색 패턴층, 녹 양자점 입자를 함유한 녹색 패턴층 또는 청 양자점 입자를 함유한 청색 패턴층을 구비할 수 있다. 광 조사시 상기 적색 패턴층은 적색광을, 상기 녹색 패턴층은 녹색광을, 상기 청색 패턴층은 청색광을 방출할 수 있다. 그러한 경우 후술할 화상표시장치에 적용 시 광원의 방출광은 특별히 한정되지는 않으나, 보다 우수한 색 재현성의 측면에서 청색광을 방출하는 광원을 사용하는 것이 바람직하다.The pattern layer formed of the self-luminescent photosensitive resin composition may have a red pattern layer containing the red quantum dot particles, a green pattern layer containing the green quantum dot particles, or a blue pattern layer containing the blue quantum dot particles. During the light irradiation, the red pattern layer may emit red light, the green pattern layer may emit green light, and the blue pattern layer may emit blue light. In such a case, the emitted light of the light source is not particularly limited when applied to an image display device to be described later, but it is preferable to use a light source that emits blue light in view of better color reproducibility.
본 발명의 또 다른 실시형태에 있어서, 상기 패턴층은 적색 패턴층, 녹색패턴층 및 청색 패턴층으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함할 수 있다. 상기 패턴층은 적색 패턴층, 녹색 패턴층 및 청색 패턴층 중 2종 색상의 패턴층만을 구비할 수 있으며, 이 경우 상기 패턴층은 양자점 입자를 함유하지 않는 투명 패턴층을 더 구비할 수 있다.In still another embodiment of the present invention, the pattern layer may include at least one selected from the group consisting of a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. The pattern layer may include only a pattern layer of two colors, that is, a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. In this case, the pattern layer may further include a transparent pattern layer containing no quantum dot particles.
상기 2종 색상의 패턴층만을 구비하는 경우에는 포함하지 않은 나머지 색상을 나타내는 파장의 빛을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 예컨대, 적색 패턴층 및 녹색 패턴층을 포함하는 경우에는 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 그러한 경우에 상기 적 양자점 입자는 적색광을, 녹 양자점 입자는 녹색광을 방출하고, 투명 패턴층은 청색광이 그대로 투과하여 청색을 나타낸다.In the case where only the pattern layer of the two colors is provided, a light source that emits light having a wavelength representing the remaining color that is not included can be used. For example, when a red pattern layer and a green pattern layer are included, a light source that emits blue light may be used. In such a case, the above-mentioned quantum dot particles emit red light and the rust-quantum dot particles emit green light, and the transparent pattern layer transmits blue light as it is and exhibits blue color.
상기와 같은 기판 및 패턴층을 포함하는 컬러필터는, 각 패턴 사이에 형성된 격벽을 더 포함할 수 있으며, 블랙 매트릭스를 더 포함할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 컬러필터의 패턴층 상부에 형성된 보호막을 더 포함할 수도 있다.The color filter including the substrate and the pattern layer as described above may further include a partition wall formed between the respective patterns, and may further include a black matrix, but is not limited thereto. Further, the color filter may further include a protective film formed on the pattern layer of the color filter.
<화상표시장치><Image Display Device>
본 발명의 또 다른 양태는 전술한 컬러필터를 포함하는 화상표시장치에 관한 것이다. 본 발명의 컬러필터는 통상의 액정 표시 장치 뿐만 아니라, 전계 발광 표시 장치, 플라즈마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치에 적용이 가능하다.Another aspect of the present invention relates to an image display apparatus including the color filter described above. The color filter of the present invention is applicable not only to a conventional liquid crystal display device but also to various image display devices such as an electroluminescent display device, a plasma display device, and a field emission display device.
본 발명에 따른 화상표시장치는 광 효율이 우수하여 높은 휘도를 나타내고, 색 재현성이 우수하며, 반사 휘도가 우수하고, 넓은 시야각을 갖는 이점이 있다.The image display apparatus according to the present invention has an advantage of being excellent in light efficiency, exhibiting high luminance, excellent in color reproducibility, excellent in reflection luminance, and having a wide viewing angle.
이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세히 설명한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지는 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 또한, 이하에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 중량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples to illustrate the present invention. However, the embodiments according to the present disclosure can be modified in various other forms, and the scope of the present specification is not construed as being limited to the above-described embodiments. Embodiments of the present disclosure are provided to more fully describe the present disclosure to those of ordinary skill in the art. In the following, "%" and "part" representing the content are by weight unless otherwise specified.
제조예Manufacturing example 1. One. CdSeCdSe (코어)/(core)/ ZnSZnS (쉘) 구조의 광루미네선스 녹 양자점 입자 A의 합성(Shell) Structure of Optical Luminescent Sintered Rat Quantum Dot Particle A Synthesis
CdO(0.4 mmol)과 아연 아세테이트(Zinc acetate)(4 mmol), 올레산(Oleic acid)(5.5 mL)를 1-옥타데센(1-Octadecene) (20 mL)과 함께 반응기에 넣고 150℃로 가열하여 반응시켰다. 이후에 아연에 올레산이 치환됨으로써 생성된 아세트산(acetic acid)을 제거하기 위해 상기 반응물을 100 mTorr 의 진공 하에 20분간 방치하였다. 그리고 나서, 310℃의 열을 가하여 투명한 혼합물을 얻은 다음, 이를 20분간 310℃를 유지한 후, 0.4 mmol의 Se분말과 2.3 mmol의 S 분말을 3mL의 트리옥틸포스핀(trioctylphosphine)에 용해시킨 Se 및 S 용액을 Cd(OA)2 및Zn(OA)2 용액이 들어 있는 반응기에 빠르게 주입하였다. 이로부터 얻은 혼합물을 310℃에서 5분간 성장시킨후 얼음물 배쓰(ice bath)를 이용하여 성장을 중단시켰다. 그리고 나서, 에탄올로 침전시켜 원심분리기를 이용하여 양자점을 분리하고 여분의 불순물은 클로로포름(chloroform)과 에탄올을 이용하여 씻어냄으로써, 올레인산으로 안정화된, 코어 입경과 쉘 두께의 합이 3 내지 5nm인 입자들이 분포된 CdSe(코어)/ZnS(쉘) 구조의 양자점 입자 A를 수득하였다.CdO (0.4 mmol), zinc acetate (4 mmol) and oleic acid (5.5 mL) were added to the reactor together with 1-Octadecene (20 mL) and heated to 150 ° C. Lt; / RTI > The reaction was then left under vacuum at 100 mTorr for 20 minutes to remove the acetic acid formed by the displacement of oleic acid into zinc. Then, a transparent mixture was obtained by applying heat at 310 DEG C, and after maintaining the temperature at 310 DEG C for 20 minutes, 0.4 mmol of Se powder and 2.3 mmol of S powder were dissolved in 3 mL of trioctylphosphine, and Se And S solution were rapidly injected into a reactor containing Cd (OA) 2 and Zn (OA) 2 solutions. The resulting mixture was grown at 310 ° C for 5 minutes, and growth was stopped using an ice bath. Then, the precipitate was precipitated with ethanol, and the quantum dots were separated using a centrifugal separator. The excess impurities were washed with chloroform and ethanol to obtain particles having a core particle size and shell thickness summed to 3 to 5 nm (Core) / ZnS (shell) structure in which the CdSe (core) structure is distributed.
제조예Manufacturing example 2. 알칼리 가용성 수지의 합성 2. Synthesis of alkali-soluble resin
교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, N-벤질말레이미드 45 중량부, 메타크릴산 45 중량부, 트리사이클로데실 메타크릴레이트 10 중량부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, PGMEA) 40 중량부를 투입후 교반 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고, n-도데칸디올 6 중량부, PGMEA 24 중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄 이동제 적하 로트를 준비했다. A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was provided with 45 parts by weight of N-benzylmaleimide, 45 parts by weight of methacrylic acid, 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, , 4 parts by weight of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMEA) were charged and stirred to prepare a monomer dropping tank. 6 parts by weight of n-dodecanediol And 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred to prepare a chain transfer agent dropping lot.
이후 플라스크에 PGMEA 395 중량부를 도입하고 플라스크내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90 ℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는 90 ℃를 유지하면서 각각 2 시간 동안 진행하고 1 시간 후에 110 ℃로 승온하여 3 시간 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 10 중량부, 2,2´-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4 중량부, 트리에틸아민 0.8 중량부를 플라스크 내에 투입하여 110 ℃에서 8 시간 반응을 계속하고, 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 29.1 중량%, 중량평균분자량 32,000, 산가가 114 ㎎KOH/g인 알칼리 가용성 수지를 얻었다.Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C while stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The temperature was raised to 110 DEG C for 1 hour and maintained for 3 hours. Thereafter, a gas introduction tube was introduced, and a bubble of oxygen / nitrogen = 5/95 (v / v) I started the ring. Then, 10 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 part by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.8 part by weight of triethylamine were charged into a flask, The reaction was continued and then cooled to room temperature to obtain an alkali-soluble resin having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 32,000 and an acid value of 114 mgKOH / g.
실시예Example 및 And 비교예Comparative Example : : 자발광Self-luminous 감광성 수지 조성물의 제조 Preparation of Photosensitive Resin Composition
하기 표 1 내지 3에 따른 구성 및 함량으로 실시예 및 비교예에 따른 자발광 감광성 수지 조성물을 제조하였다. 다만, 이때 비교예에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 하기 표 1에 따른 산란입자가 본원 발명에 따른 산란입자를 만족하지 않도록 제1 금속산화물 및 제2 금속산화물을 선택하였다.The self-luminescent photosensitive resin compositions according to Examples and Comparative Examples were prepared in the compositions and contents according to Tables 1 to 3 below. In this case, the first metal oxide and the second metal oxide were selected so that the scattering particles according to the following Table 1 did not satisfy the scattering particles according to the present invention.
PowderMicro
Powder
PowderMicro
Powder
2) 광중합성 화합물 : 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트호박산모노에스테르(카르복시산함유 5관능 광중합성 화합물)(TO-1382, 동아합성 제조)
3) 광중합 개시제 : Irgacure-907 (BASF사 제)
4) 알칼리 가용성 수지 : 제조예 2의 알칼리 가용성 수지
5) 산란입자 : 표 1에 따른 산란입자
6) 용제 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트1) Quantum dots A: CdSe (core) / ZnS (shell) structure of Production Example 1 Quantum dots A
2) Photopolymerizable compound: dipentaerythritol pentaacrylate succinic acid monoester (5-functional photopolymerizable compound containing carboxylic acid) (TO-1382, manufactured by Donga Chemical Co., Ltd.)
3) Photopolymerization initiator: Irgacure-907 (manufactured by BASF)
4) Alkali-soluble resin: The alkali-soluble resin of Production Example 2
5) Scattering particles: The scattering particles according to Table 1
6) Solvent: Propylene glycol monomethyl ether acetate
2) 광중합성 화합물 : 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트호박산모노에스테르(카르복시산함유 5관능 광중합성 화합물)(TO-1382, 동아합성 제조)
3) 광중합 개시제 : Irgacure-907 (BASF사 제)
4) 알칼리 가용성 수지 : 제조예 2의 알칼리 가용성 수지
5) 산란입자 : 표 1에 따른 산란입자
6) 용제 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트1) Quantum dots A: CdSe (core) / ZnS (shell) structure of Production Example 1 Quantum dots A
2) Photopolymerizable compound: dipentaerythritol pentaacrylate succinic acid monoester (5-functional photopolymerizable compound containing carboxylic acid) (TO-1382, manufactured by Donga Chemical Co., Ltd.)
3) Photopolymerization initiator: Irgacure-907 (manufactured by BASF)
4) Alkali-soluble resin: The alkali-soluble resin of Production Example 2
5) Scattering particles: The scattering particles according to Table 1
6) Solvent: Propylene glycol monomethyl ether acetate
컬러필터의 제조Manufacture of color filters
상기 실시예 및 비교예에 따라 제조된 자발광 감광성 수지 조성물을 이용하여 컬러필터를 제조하였다. 각각의 자발광 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분간 유지하여 박막을 형성시켰다. A color filter was prepared using the self-luminescent photosensitive resin composition prepared according to the above Examples and Comparative Examples. Each of the self-luminescent photosensitive resin compositions was applied onto a glass substrate by spin coating, and then placed on a heating plate and held at a temperature of 100 캜 for 3 minutes to form a thin film.
이어서 상기 박막 위에 가로×세로 20mm × 20mm 정사각형의 투과 패턴과 1 내지 100 ㎛의 라인/스페이스 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토마스크와의 간격을 100 ㎛로 하여 자외선을 조사하였다. Subsequently, a test photomask having a transmittance of 20 mm × 20 mm square and a line / space pattern of 1 to 100 μm was placed on the thin film, and the distance between the test photomask and the test photomask was set at 100 μm.
이때, 자외선광원은 우시오 덴끼㈜제의 초고압 수은 램프(상품명 USH-250D)를 이용하여 대기 분위기하에 200 mJ/cm2의 노광량(365nm)으로 광조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. At this time, the ultraviolet light source was irradiated with light (365 nm) at an exposure dose of 200 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp (trade name: USH-250D) manufactured by Ushio DENKI Co., Ltd., and no special optical filter was used.
상기에서 자외선이 조사된 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 80 초 동안 담궈 현상하였다. 이 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 세척한 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 150℃의 가열 오븐에서 10 분 동안 가열하여 컬러필터 패턴을 제조하였다. 상기에서 제조된 컬러 패턴의 필름 두께는 5.0㎛이었다.The thin film irradiated with ultraviolet rays was immersed in a KOH aqueous solution of pH 10.5 for 80 seconds to develop. The glass plate coated with the thin film was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 150 캜 for 10 minutes to prepare a color filter pattern. The film thickness of the color pattern prepared above was 5.0 mu m.
실험예Experimental Example 1: 미세 패턴 측정 1: Fine pattern measurement
실시예 및 비교예에 따라 제조된 자발광 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터 중 100㎛로 설계된 라인/스페이스 패턴 마스크를 통해 얻어진 패턴의 크기를 OM장비(ECLIPSE LV100POL 니콘사)를 통해 패턴 크기를 측정하였으며, 라인/스페이스 패턴 마스크의 설계값과의 차이를 하기 표 4에 나타내었다.The size of a pattern obtained through a line / space pattern mask designed to 100 μm in a color filter manufactured by using the self-luminous photosensitive resin composition prepared according to Examples and Comparative Examples was measured using a pattern size And the difference from the design value of the line / space pattern mask is shown in Table 4 below.
라인/스페이스 패턴 마스크의 설계값과 얻어진 미세 패턴의 측정값과의 차이가 20㎛ 이상이면, 미세화소의 구현이 어려워지고, 마이너스 값을 가지면 공정불량을 야기하는 임계 수치를 의미한다. If the difference between the design value of the line / space pattern mask and the measured value of the obtained fine pattern is 20 m or more, the implementation of the fine pixel becomes difficult. If the difference is minus, it means the critical value causing the process failure.
실험예Experimental Example 2: 발광 강도 측정 2: Measurement of luminescence intensity
실시예 및 비교예에 따라 제조된 자발광 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터 중 20 × 20 mm 정사각형의 패턴으로 형성된 부분에 365 nm Tube형 4W UV조사기(VL-4LC, VILBER LOURMAT)를 통하여 광 변환된 영역을 측정하였으며, 450 nm 영역에서의 발광 강도를 Spectrum meter(Ocean Optics사)를 이용하여 측정하였다.A portion of the color filter fabricated using the self-luminous photosensitive resin composition prepared according to Examples and Comparative Examples was formed into a 20 × 20 mm square pattern, and then a 365 nm Tube type 4 W UV irradiator (VL-4LC, VILBER LOURMAT) The light-converted area was measured and the luminescence intensity at 450 nm was measured using a spectrum meter (Ocean Optics).
Emission intensity
측정된 발광 강도가 높을수록 광효율이 높음을 의미한다. 이에 표 5을 보면, 제1 금속산화물로서 평균입경 100nm 내지 500nm 미만인 TiO2와 제2 금속산화물로서 평균입경 30nm 내지 500nm 이하인 ZnO를 포함하는 실시예 1 내지 6이, 이를 만족하지 못하는 비교예 1 내지 10에 비해 발광휘도에서 우수한 것을 알 수 있다. The higher the measured luminescence intensity, the higher the light efficiency. As shown in Table 5, Examples 1 to 6 including TiO 2 having an average particle diameter of less than 100 nm and less than 500 nm as a first metal oxide and ZnO having an average particle diameter of 30 nm to 500 nm or less as a second metal oxide, 10 in terms of light emission luminance.
실험예Experimental Example 3: 반사 휘도 측정 3: Reflection luminance measurement
실시예 및 비교예에 따라 제조된 자발광 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 컬러필터 중 20 × 20 mm 정사각형의 패턴으로 형성된 부분에 외부광에 의한 반사 휘도를 적분구 반사율 측정기(CM-3700D, Konika Minolta)를 사용하여 측정하였다.In the color filter manufactured using the self-luminous photosensitive resin composition prepared according to Examples and Comparative Examples, the reflection brightness by the external light was measured with an integrated spherical reflectance meter (CM-3700D, Konika) Minolta).
측정된 반사 휘도가 낮을수록 외광반사에 의한 시인성이 좋아짐을 의미한다. 이에 표 4 및 6을 보면, 제1 금속산화물로서 평균입경 100nm 내지 500nm 미만인 TiO2와 제2 금속산화물으로서 평균입경 30nm 내지 500nm 이하인 ZnO를 포함하는 실시예 1 내지 6을 만족하지 않은 경우 발광휘도와 미세패턴 특성을 만족하면서 외광반사에 의한 시인성을 만족하는 것이 어려운 것을 알 수 있다.The lower the measured reflection luminance, the better the visibility due to the reflection of external light. Table 4 and Table 6 show that when the first metal oxide does not satisfy the first to sixth embodiments in which TiO 2 having an average particle diameter of 100 nm to less than 500 nm and ZnO having an average particle diameter of 30 nm to 500 nm or less as the second metal oxide are not satisfied, It is difficult to satisfy the visibility due to the external light reflection while satisfying the fine pattern characteristics.
즉, 제1 금속산화물로서 평균입경 100nm 내지 500nm 미만인 TiO2와 제2 금속산화물로서 평균입경 30nm 내지 500nm 이하인 ZnO를 포함하는 실시예 1 내지 6은 미세 패턴 측정, 발광 강도 측정 및 반사 휘도가 모두 우수한 것을 알 수 있다.In other words, in Examples 1 to 6, in which TiO 2 having an average particle diameter of less than 100 nm and less than 500 nm as the first metal oxide and ZnO having an average particle diameter of 30 nm to 500 nm or less as the second metal oxide were both excellent in the measurement of the fine pattern, .
Claims (11)
산란입자;를 포함하고,
상기 산란입자는 평균입경 130nm 내지 500nm인 제1 금속산화물; 및 평균입경 50nm 내지 500nm인 제2 금속산화물;을 포함하며,
상기 제1 금속산화물은 TiO2이고,
상기 제2 금속산화물은 ZnO인 자발광 감광성 수지 조성물.Quantum dot; And
Scattering particles,
Wherein the scattering particles comprise a first metal oxide having an average particle diameter of 130 nm to 500 nm; And a second metal oxide having an average particle diameter of 50 nm to 500 nm,
Wherein the first metal oxide is TiO 2,
Wherein the second metal oxide is ZnO.
상기 제1 금속산화물과 상기 제2 금속산화물의 평균입경의 비는 0.1 내지 0.5배인 것인 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the ratio of the average particle size of the first metal oxide and the second metal oxide is 0.1 to 0.5 times.
상기 제1 금속산화물과 상기 제2 금속산화물의 평균입경의 차이는 60nm 이상인 것인 자발광 감광성 수지 조성물.3. The method of claim 2,
Wherein the difference between the average particle diameters of the first metal oxide and the second metal oxide is 60 nm or more.
상기 산란입자는 Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Ga, Ge, Rb, Sr, Y, Mo, Cs, Ba, La, Hf, W, Tl, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Sb, Sn, Zr, Nb, Ce, Ta 및 In으로부터 선택되는 1종 이상의 금속의 산화물을 더 포함하는 것인 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
The scattering particles are selected from the group consisting of Li, Be, B, Na, Mg, Al, Si, K, Ca, Sc, V, Cr, Mn, Fe, Ni, Cu, Ga, Ge, Rb, Sr, Ba, La, Hf, W, Ti, Pb, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Sb, Sn, Zr, Wherein the metal oxide further comprises an oxide of at least one metal selected from In.
상기 추가로 포함되는 금속산화물은 Al2O3, SiO2, ZrO2, Ta2O5, ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb2O3, SnO 및 MgO으로부터 선택되는 1종 이상인 것인 자발광 감광성 수지 조성물.5. The method of claim 4,
The further included metal oxide is at least one selected from Al 2 O 3 , SiO 2 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , ITO, IZO, ATO, ZnO-Al, Nb 2 O 3 , SnO and MgO Self-luminescent photosensitive resin composition.
상기 산란입자 고형분 전체 100 중량부에 대하여 상기 제1 금속산화물 50 중량부 초과 90 중량부 이하 및 상기 제2 금속산화물 10 중량부 이상 50 중량부 미만으로 포함되는 것인 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the first metal oxide is contained in an amount of more than 90 parts by weight and the second metal oxide is contained in an amount of not less than 10 parts by weight and less than 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the scattering particles.
상기 산란입자는 상기 자발광 감광성 수지 조성물 고형분 전체 100 중량부에 대하여 0.1 내지 50 중량부로 포함되는 것인 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the scattering particles are contained in an amount of 0.1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the self-light-sensitive photosensitive resin composition.
광중합성 화합물, 알칼리 가용성 수지, 광중합 개시제 및 용제로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 더 포함하는 것인 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the photopolymerization initiator further comprises at least one member selected from the group consisting of a photopolymerizable compound, an alkali-soluble resin, a photopolymerization initiator, and a solvent.
상기 컬러필터는 적색 패턴층, 녹색패턴층 및 청색 패턴층으로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상을 포함하는 것인 컬러필터.10. The method of claim 9,
Wherein the color filter includes at least one selected from the group consisting of a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer.
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