KR20160103792A - Self emission type photosensitive resin composition, color filter manufactured using thereof and image display device having the same - Google Patents

Abstract

The present invention relates to a self-emitting type photosensitive resin composition and, more specifically, to a self-emitting type photosensitive resin composition which can provide a high quality color filter having excellent luminance properties without problems such as the reduction of light efficiency and a defect of photosensitive properties in a hard bake process by including an alkali-soluble resin having acrylic equivalent weight of 300 to 2000 g/eq.

Description

자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치{SELF EMISSION TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER MANUFACTURED USING THEREOF AND IMAGE DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a self-luminescent photosensitive resin composition, a color filter manufactured using the same, and an image display device using the self-luminescent photosensitive resin composition. BACKGROUND ART < RTI ID =

본 발명은 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a self-luminescent photosensitive resin composition, a color filter manufactured using the same, and an image display device.

컬러필터는 백색광에서 적색, 녹색, 청색, 3가지 색을 추출하여 미세한 화소단위로 가능하게 하는 박막 필름형 광학부품으로서 한 화소의 크기가 수십에서 수백 마이크로미터 정도이다. 이러한 컬러필터는 각각의 화소 사이의 경계부분을 차광하기 위해서 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스 층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B))의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다. 일반적으로 컬러필터는 염색법, 전착법, 인쇄법, 안료분산법 등에 의하여 3종 이상의 색상을 투명 기판상에 코팅하여 제조할 수 있으며, 최근에는 안료 분산형의 감광성 수지를 이용한 안료 분산법이 주류를 이룬다.A color filter is a thin film type optical component that extracts three colors of red, green, and blue in white light to enable it to be formed in fine pixel units. The size of one pixel is several tens to several hundreds of micrometers. The color filter includes a black matrix layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate so as to shield a boundary portion between each pixel, and a plurality of colors (typically, red (R), green (G) And blue (B)) are arranged in a predetermined order. In general, a color filter can be produced by coating three or more colors on a transparent substrate by a dyeing method, an electrodeposition method, a printing method, a pigment dispersion method, etc. Recently, a pigment dispersion method using a pigment- It accomplishes.

컬러 필터를 구현하는 방법 중의 하나인 안료분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 비롯하여 알칼리 가용성 수지, 광중합 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 용제, 기타 첨가제를 포함하는 감광성 수지 조성물을 코팅하고 형성하고자 하는 형태의 패턴을 노광한 후, 비노광 부위를 용제로 제거하여 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색 박막을 형성하는 방법으로, 휴대폰, 노트북, 모니터, TV 등의 LCD를 제조하는 데 활발하게 응용되고 있다. 근래에는 여러 가지 장점을 가지는 안료분산법을 이용한 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 있어서도 우수한 패턴 특성뿐만 아니라 높은 색재현율과 함께 고휘도 및 고명암비 등 더욱 향상된 성능이 요구되고 있는 실정이다. The pigment dispersion method, which is one of the methods of implementing a color filter, is a method in which a photosensitive resin composition including an alkali-soluble resin, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, an epoxy resin, a solvent, and other additives is coated on a transparent substrate provided with a black matrix, A method of forming a colored thin film by repeating a series of processes of exposing a pattern of a desired pattern and removing the unexposed portion with a solvent and thermally curing the same to actively produce LCDs for mobile phones, Has been applied. In recent years, a photosensitive resin composition for a color filter using a pigment dispersion method having various advantages is required not only excellent pattern characteristics but also high color reproducibility and further improved performance such as high brightness and high contrast ratio.

그러나, 색 재현은 광원에서 조사된 광이 컬러필터를 투과하여 구현되는 것인데, 이 과정에서 광의 일부가 컬러필터에 흡수되므로 광 효율이 저하되고, 또한 색 필터로써의 안료특성으로 인해 완벽한 색 재현에는 못 미치는 근본적인 한계가 있다.However, the color reproduction is realized when the light emitted from the light source is transmitted through the color filter. In this process, a part of the light is absorbed by the color filter, so that the light efficiency is lowered. There is a fundamental limit that can not be satisfied.

대한민국공개특허공보 제2009-0036373호는 액정 표시장치의 컬러필터를 양자점 형광체로 이루어진 발광층으로 대치함으로써 발광 효율을 향상시켜 표시품질을 개선할 수 있다고 개시하고 있다. 그러나, 컬러필터 제조공정 시 수행하는 하드베이크 공정에서 발생하는 라디칼로 인해 양자점의 표면이 산화되어 결과적으로 발광 특성이 저하되는 문제가 발생한다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 2009-0036373 discloses that the display quality can be improved by improving the luminous efficiency by replacing the color filter of the liquid crystal display device with the light emitting layer made of the quantum dot fluorescent material. However, there arises a problem that the surface of the quantum dots is oxidized by the radicals generated in the hard bake process performed in the color filter manufacturing process, and as a result, the luminescence characteristics are deteriorated.

또한, 대한민국공개특허공보 제10-2013-0000506호에는 광원; 및 상기 광원으로부터 출사되는 광이 입사되는 표시패널을 포함하고, 상기 표시패널은 다수 개의 색 변환부들을 포함하고, 상기 색 변환부들은 상기 광의 파장을 변환시키는 다수 개의 파장 변환 입자들; 및 상기 광에서 소정의 파장 대의 광을 흡수하는 다수 개의 컬러 필터 입자들을 포함하는 표시장치를 개시하고 있다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2013-0000506 discloses a light source; And a display panel on which light emitted from the light source is incident, wherein the display panel includes a plurality of color conversion units, the color conversion units include a plurality of wavelength conversion particles for converting a wavelength of the light; And a plurality of color filter particles that absorb light of a predetermined wavelength band in the light.

그러나 상기 종래기술은 양자점이 포함된 점은 유사하나, 감광성 수지 조성물의 함량에 대한 구체적인 설명이 없으며, 높은 색 재현율 및 휘도를 가지는 표시장치에 대하여만 개시하고 있으므로 감광성 수지 조성물에 대한 추가적인 개발이 필요하다. However, the above-mentioned prior art is similar to the point that the quantum dots are included, but there is no specific description about the content of the photosensitive resin composition, and since it is disclosed only for a display device having a high color reproduction rate and luminance, further development of a photosensitive resin composition is required Do.

대한민국공개특허공보 제10-2009-0036373호Korean Patent Publication No. 10-2009-0036373 대한민국공개특허공보 제10-2013-0000506호Korean Patent Publication No. 10-2013-0000506

본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위한 것으로서, 중합 가능한 불포화 결합을 지닌 알칼리 가용성 수지를 포함함으로써, 양자점 입자를 고르게 분산시키고, 컬러필터 제조 공정 중에 광효율 저하 및 감광특성 불량의 문제 없이 우수한 컬러필터를 제조할 수 있는 자발광 감광성 수지 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.Disclosure of Invention Technical Problem [8] The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a color filter which is capable of uniformly dispersing quantum dot particles by including an alkali soluble resin having polymerizable unsaturated bonds, Which is capable of producing a self-luminescent photosensitive resin composition.

또한, 본 발명은 상기와 같은 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터 및 이를 포함하는 화상표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a color filter made of the self-luminous photosensitive resin composition and an image display device including the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 광루미네선스 양자점 입자, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하고, 상기 알칼리 가용성 수지는 구조 내 중합 가능한 불포화 결합을 지니며, 아크릴 당량이 300 내지 2,000g/eq인 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the self-luminescent photosensitive resin composition according to the embodiment of the present invention comprises an alkali-soluble resin, a photoluminescent quantum dot particle, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent, Having an unsaturated bond, and having an acryl equivalent of 300 to 2,000 g / eq.

또한, 본 발명은 상기 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터 및 이를 포함하는 화상표시장치를 특징으로 한다. The present invention also provides a color filter made of the self-luminescent photosensitive resin composition and an image display device including the same.

상기한 바와 같이 본 발명에 따른 자발광 감광성 수지 조성물은 아크릴 당량이 300 내지 2,000g/eq인 알칼리 가용성 수지를 포함함으로써, 하드 베이크 공정 중에서 광효율 저하 및 감광특성 불량의 문제가 없는 휘도 특성이 우수한 고품질의 컬러필터를 제공할 수 있는 효과가 있다.As described above, the self-luminescent photosensitive resin composition according to the present invention includes an alkali-soluble resin having an acryl equivalent of 300 to 2,000 g / eq. Thus, a high-quality The color filter of the present invention can be provided.

본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 광루미네선스 양자점 입자, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함한다.The self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention comprises an alkali-soluble resin, a photoluminescence quantum dot particle, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent.

이하 자발광 감광성 수지 조성물에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
Hereinafter, the self-luminescent photosensitive resin composition will be described in detail.

본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물에 함유되는 알칼리 가용성 수지는 감광성 수지층의 비노광부를 알칼리 가용성으로 만들어 제거될 수 있게 하고, 노광 영역을 잔류시키는 역할을 한다. 또한, 본 발명의 알칼리 가용성 수지는 중합 가능한 불포화 결합을 가짐으로써, 노광 단계에서 양자점 표면 주변에 효과적으로 보호층을 형성하여, POB 공정에서의 고온 및 산소 라디칼 등의 영향을 최대한 배제시켜 높은 휘도를 유지할 수 있다. The alkali-soluble resin contained in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention enables the non-exposed portion of the photosensitive resin layer to be made soluble in alkali and to serve as a remnant of the exposed region. Further, the alkali-soluble resin of the present invention has a polymerizable unsaturated bond, thereby effectively forming a protective layer around the surface of the quantum dots in the exposure step, and maintaining the high luminance by eliminating the influence of the high temperature and the oxygen radical in the POB process as much as possible .

상기 알칼리 가용성 수지는 구조 내에 중합 가능한 불포화 결합을 가지고 있는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 단량체의 구체적인 예로는 3-(아크릴로일옥시)-2-하이드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-메톡시-3-프로피-2-노일옥시-프로필)-2-메틸-2-프로피노에이트, (2-옥시다닐-3-프로피-2-노일옥시-프로필)-2-부티노에이트, 1,3-프로페인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 1,3-부테인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 하이드로퀴논 다이(메타)아크릴레이트, 1,4-페닐린 다이(메타)아크릴레이트, 1,4-사이클로헥세인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 2-프로피노일옥시메틸-2-프로피노에이트, 트리에틸렌글리콜 다이(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌클라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 1,6-헥테인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 1,12-도데케인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 트리메틸로일프로메인 트리(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 다이(메타)아크릴레이트, 다이우레탄 다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글라이콜 다이아크릴레이트 등을 들 수 있다. The alkali-soluble resin is not particularly limited as long as it has a polymerizable unsaturated bond in its structure. Specific examples of the monomer include 3- (acryloyloxy) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (2-oxydanyl-3-propyl-2-nonyloxy-propyl) -2-butynoate, 1,3- (Meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, hydroquinone di (meth) acrylate, 1,4- Propylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1-cyclohexane diol di (meth) acrylate, 2-propynoyloxymethyl- , 6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,12-dodecanediol di (meth) acryl (Meta) acrylate, di (meth) acrylate, diurethane di (meth) acrylate, neopentyl glycol diacrylate, and the like.

상기 알칼리 가용성 수지는 단일 중합체이거나, 다른 불포화 단량체와의 공중합체 또는 다른 불포화 단량체로 중합된 고분자와 블렌딩의 형태로 사용할 수 있다. 이때 공중합체일 경우 교대 공중합체, 랜덤 공중합체 또는 블록 공중합체 형태 일 수 있으며, 본 발명에서 특별히 한정하지 않는다. The alkali-soluble resin may be a homopolymer or may be used in the form of a blend with a polymer polymerized with another unsaturated monomer or with another unsaturated monomer. When the copolymer is a copolymer, it may be in the form of an alternating copolymer, a random copolymer or a block copolymer, and is not particularly limited in the present invention.

상기 공중합 가능한 단량체의 종류는 특별히 한정되지 않으며, 구체적인 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르 화합물; 시클로펜틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸시클로헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헵틸(메타)아크릴레이트, 시클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 시클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 시클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 시클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 및 트리사이클로데실 메타크릴레이트 등의 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 올리고에틸렌클리콜 모노알킬(메타)아크릴레이트 등의 글리콜류의 모노포화 카르복실산 에스테르 화합물; 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시(메타)아크릴레이트 등의 방향환을 갖는 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르 화합물; 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물; 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르, (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로 니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; N-시클로헥실말레이미드, N-페닐말레이미드, N-벤질말레이미드 등의 말레이미드 화합물 등을 들 수 있다. Specific examples of the copolymerizable monomer include, but are not limited to, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) Unsubstituted or substituted alkyl ester compounds of unsaturated carboxylic acids such as ethyl (meth) acrylate; (Meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (Meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, mentadienyl (meth) acrylate, isobornyl (Meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, pinenyl (meth) acrylate, and tricyclodecyl methacrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds; Mono-saturated carboxylic acid ester compounds of glycols such as oligoethylene glycol monoalkyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid ester compounds containing a substituent having an aromatic ring such as benzyl (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate and the like; Aromatic vinyl compounds such as styrene,? -Methylstyrene, and vinyltoluene; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate, vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile and? -Chloroacrylonitrile; Maleimide compounds such as N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide and N-benzylmaleimide.

본 발명에 있어서, 알칼리 가용성 수지는 그의 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000의 범위에 있는 것이 바람직할 수 있고, 5,000 내지 50,000의 범위에 있는 것이 보다 바람직할 수 있다. 알칼리 가용성 수지의 중량평균분자량이 상기 범위 내에 있으면 현상시에 노광부의 막 감소가 생기기 어렵고, 비노광부분의 용해성에 양호한 경향이 있으므로 바람직하다.In the present invention, the alkali-soluble resin preferably has a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 3,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin is within the above range, it is preferable that the film thickness of the exposed portion is not reduced at the time of development and the solubility of the unexposed portion tends to be good.

본 발명의 알칼리 가용성 수지의 산가는 고형분 기준으로 30 내지 150 mgKOH/g의 범위가 바람직할 수 있다. 산가가 30mgKOH/g 미만일 경우 알칼리 현상액에 대한 용해성이 낮아지고 기판에 잔사를 남길 우려가 있으며, 산가가 150mgKOH/g을 초과하는 경우에는 패턴의 뜯김이 일어날 가능성이 높아질 수 있다.The acid value of the alkali-soluble resin of the present invention may preferably be in the range of 30 to 150 mgKOH / g based on the solid content. If the acid value is less than 30 mgKOH / g, the solubility in the alkaline developer may be lowered and the residue may be left on the substrate. If the acid value exceeds 150 mgKOH / g, the possibility of pattern peeling may increase.

알칼리 가용성 수지의 분자량 분포는 1.0 내지 6.0인 것이 바람직하며, 1.5 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 상기 알칼리 가용성 수지의 분자량 분포가 상기 범위 이내이면 현상성이 우수하다.The molecular weight distribution of the alkali-soluble resin is preferably 1.0 to 6.0, more preferably 1.5 to 4.0. When the molecular weight distribution of the alkali-soluble resin is within the above range, the developability is excellent.

본 발명의 알칼리 가용성 수지는 아크릴 당량이 300 내지 2,000g/eq인 것이 바람직하며, 400 내지 1,000g/eq일 때 더욱 바람직하다. 알칼리 가용성 수지 아크릴 당량이 상기 범위 이내일 경우에는 컬러필터 공정 중 소광되는 현상을 방지할 수 있다. 반면에, 알칼리 가용성 수지 아크릴 당량이 2,000g/eq을 초과할 경우에는 효과적으로 양자점을 보호할 수 있는 능력이 부족하므로 부적합하며, 아크릴 당량이 상기 범위 미만일 경우 발광 효율 면에서는 좋으나 현상시 용해되지 않고 박리가 되는 문제점이 있다. The alkali-soluble resin of the present invention preferably has an acrylic equivalent of 300 to 2,000 g / eq, more preferably 400 to 1,000 g / eq. When the acrylic equivalent of the alkali-soluble resin is within the above range, it is possible to prevent the phenomenon of being extinguished during the color filter process. On the other hand, if the acrylic equivalent of the alkali-soluble resin exceeds 2,000 g / eq, the ability to effectively protect the quantum dots is insufficient, and if the acrylic equivalent is less than the above range, There is a problem.

본 발명의 알칼리 가용성 수지는 자발광 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 중량 분율로 5 내지 80중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 10 내지 70 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 알칼리 가용성 수지의 함유량이 상기 범위 이내일 경우에는 양자점의 분산이 용이하면서도, 공정 중에 발광효율을 높게 유지할 수 있다.
The alkali-soluble resin of the present invention is preferably contained in an amount of 5 to 80% by weight, more preferably 10 to 70% by weight based on the solid content in the self-luminescent photosensitive resin composition. When the content of the alkali-soluble resin is within the above range, the quantum dots can be easily dispersed, and the luminescence efficiency can be maintained high during the process.

본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물은 광루미네선스 양자점 입자를 포함한다.The self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention comprises a photoluminescence quantum dot particle.

양자점이란 나노 크기의 반도체 물질이다. 원자가 분자를 이루고, 분자는 클러스터라고 하는 작은 분자들의 집합체를 구성하여 나노 입자를 이루는데, 이러한 나노 입자들이 특히 반도체 특성을 띠고 있을 때 이를 양자점이라고 한다. 양자점은 외부에서 에너지를 받아 들뜬 상태에 이르면, 자체적으로 해당하는 에너지 밴드갭에 따른 에너지를 방출한다.The quantum dot is a nano-sized semiconductor material. The atoms form molecules, and the molecules form a cluster of small molecules called clusters to form nanoparticles. These nanoparticles are called quantum dots, especially when they have semiconductor properties. The quantum dots emit energy according to the corresponding energy bandgap when they reach the excited state from the outside.

본 발명의 감광성 수지 조성물은 이러한 광루미네선스 양자점 입자를 포함하여, 이로부터 제조된 컬러필터는 광 조사에 의해 발광(광루미네선스)할 수 있다. 또한, 색상을 가진 광이 방출되는 것이므로 색 재현성이 보다 우수하고, 광루미네선스에 의해 전 방향으로 광이 방출되므로 시야각도 개선될 수 있다.The photosensitive resin composition of the present invention includes such a luminous luminescence quantum dot particle, and the color filter manufactured from the luminescence resin composition can emit light (optical luminescence) by light irradiation. In addition, since color light is emitted, color reproducibility is better, and light is emitted in all directions due to optical luminescence, so that viewing angle can also be improved.

본 발명에 따른 양자점 입자는 광에 의한 자극으로 발광할 수 있는 양자점 입자라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 II-VI족 반도체 화합물; III-V족 반도체 화합물; IV-VI족 반도체 화합물; IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The quantum dot particle according to the present invention is not particularly limited as long as it is a quantum dot particle capable of emitting light by stimulation with light, for example, a II-VI group semiconductor compound; III-V semiconductor compound; Group IV-VI semiconductor compounds; Group IV elements or compounds containing them; And combinations thereof. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 II-VI족 반도체 화합물은 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있고, 상기 III-V족 반도체 화합물은 GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있고, 상기 IV-VI족 반도체 화합물은 SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있고, 상기 IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물은 Si, Ge 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 원소 화합물; 및 SiC, SiGe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.The II-VI group semiconductor compound is selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, and mixtures thereof; Trivalent compounds selected from the group consisting of CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe and mixtures thereof; And a mesoporous compound selected from the group consisting of CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe, and mixtures thereof, wherein the III- GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb and mixtures thereof; A trivalent compound selected from the group consisting of GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP and mixtures thereof; And a silicate compound selected from the group consisting of GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb and mixtures thereof. The IV-VI group semiconductor compound is selected from the group consisting of SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and mixtures thereof; A triple compound selected from the group consisting of SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe, and mixtures thereof; And a silane compound selected from the group consisting of SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and mixtures thereof. The Group IV element or a compound containing the Group IV element may be selected from the group consisting of Si, Ge, and mixtures thereof An elemental compound; And these elemental compounds selected from the group consisting of SiC, SiGe, and mixtures thereof.

양자점 입자는 균질한(homogeneous) 단일 구조; 코어-쉘(core-shell), 그래디언트(gradient) 구조 등과 같은 이중 구조; 또는 이들의 혼합구조일 수 있다.The quantum dot particles have a homogeneous single structure; A dual structure such as a core-shell, gradient structure or the like; Or a mixed structure thereof.

코어-쉘(core-shell)의 이중 구조에서 각각의 코어(core)와 쉘(shell)을 이루는 물질은 상기 언급된 서로 다른 반도체 화합물로 이루어질 수 있다. 예를 들면, 상기 코어는 CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS 및 ZnO로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 쉘은 CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe 및 HgSe으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the core-shell dual structure, the material forming each of the core and the shell may be made of the above-mentioned different semiconductor compounds. For example, the core may include, but is not limited to, one or more materials selected from the group consisting of CdSe, CdS, ZnS, ZnSe, CdTe, CdSeTe, CdZnS, PbSe, AgInZnS and ZnO. The shell may include, but is not limited to, one or more materials selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, and HgSe.

통상의 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물이 색상 구현을 위해 적, 녹, 청의 착색제를 포함하듯이, 광루미네선스 양자점 입자도 적 양자점 입자, 녹 양자점 입자 및 청 양자점 입자로 분류될 수 있으며, 본 발명에 따른 양자점 입자는 적 양자점 입자, 녹 양자점 입자 또는 청 양자점 입자일 수 있다. As the colored photosensitive resin composition used in the production of a typical color filter contains red, green, and blue colorants for color implementation, the optical luminescence quantum dot particles can be classified as an effective quantum dot particle, a rust quantum dot particle, and a blue quantum dot particle. , And the quantum dot particles according to the present invention may be either red quantum dot particles, rust quantum dot particles or blue quantum dot particles.

양자점 입자는 습식 화학 공정(wet chemical process), 유기금속 화학증착 공정 또는 분자선 에피텍시 공정에 의해 합성될 수 있다. The quantum dot particles can be synthesized by a wet chemical process, an organometallic chemical vapor deposition process, or a molecular beam epitaxy process.

습식 화학 공정은 유기용제에 전구체 물질을 넣어 입자들을 성장시키는 방법이다. 결정이 성장될 때 유기용제가 자연스럽게 양자점 결정의 표면에 배위되어 분산제 역할을 하여 결정의 성장을 조절하게 되므로, 유기금속 화학증착(MOCVD, metal organic chemical vapor deposition)이나 분자선 에피택시(MBE, molecular beam epitaxy)와 같은 기상증착법보다 더 쉽고 저렴한 공정을 통하여 나노 입자의 성장을 제어할 수 있다. The wet chemical process is a method of growing particles by adding a precursor material to an organic solvent. As the crystal grows, the organic solvent is naturally coordinated to the surface of the quantum dot crystal to act as a dispersing agent to control the crystal growth. Therefore, the metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) or molecular beam epitaxy (MBE) epitaxy), it is possible to control the growth of nanoparticles through an easier and less expensive process.

본 발명에 따른 광루미네선스 양자점 입자의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 자발광 감광성 수지 조성물의 고형분 총 중량 중 3 내지 80중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 5 내지 70중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 양자점 입자의 함량이 상기 범위 미만으로 포함되면 발광 효율이 미미할 수 있고, 상기 범위를 초과하여 포함되면 상대적으로 다른 조성의 함량이 부족하여 화소 패턴을 형성하기 어려운 문제가 있다.
The content of the luminous luminescence quantum dot particles according to the present invention is not particularly limited, and is preferably 3 to 80% by weight, preferably 5 to 70% by weight, of the total weight of the solid content of the self- . If the content of the quantum dot particles is less than the above range, the light emitting efficiency may be insufficient. If the content is larger than the above range, the content of the other composition is insufficient.

본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합성 화합물은 광 및 후술하는 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로서, 단관능 단량체, 2관능 단량체, 그 밖의 다관능 단량체 등을 들 수 있다. The photopolymerizable compound contained in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention is a compound capable of polymerizing under the action of light and a photopolymerization initiator described later, and examples thereof include monofunctional monomers, bifunctional monomers and other polyfunctional monomers.

단관능 단량체의 구체예로는 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.Specific examples of monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, N- Money and so on.

2관능 단량체의 구체예로는 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and the like.

그 밖의 다관능 단량체의 구체예로서는 트리메틸올프로판트리(메타) 아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타) 아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타) 아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타 (메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타) 아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2관능 이상의 다관능 단량체가 바람직하게 사용된다. Specific examples of other polyfunctional monomers include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) And pentaerythritol hexa (meth) acrylate. Of these, multifunctional monomers having two or more functional groups are preferably used.

상기 광중합성 화합물은 자발광 감광성 수지 조성물 중의 고형분에 대해서 5 내지 50질량%로 포함되는 것이 바람직하며, 7 내지 45질량%의 범위로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 광중합성 화합물이 상기 범위 이내로 포함될 경우에는 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 될 수 있다.
The photopolymerizable compound is preferably contained in an amount of 5 to 50 mass%, more preferably 7 to 45 mass%, based on the solid content in the self-light-sensitive photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is contained within the above range, the strength and smoothness of the pixel portion can be improved.

본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물에 함유되는 광중합 개시제는 제한되지 않으나 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물 및 옥심 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이다. 상기한 광중합 개시제를 함유하는 자발광 감광성 수지 조성물은 고감도이고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 화소 픽셀은 그 화소부의 강도나 패턴성이 양호해진다. The photopolymerization initiator contained in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention is not limited, but is at least one compound selected from the group consisting of triazine-based compounds, acetophenone-based compounds, nonimidazole-based compounds and oxime compounds. The self-luminescent photosensitive resin composition containing the photopolymerization initiator described above has high sensitivity, and the pixel pixel formed using this composition has good strength and patternability of the pixel portion.

또한, 광중합 개시제에 광중합 개시 보조제를 병용하면, 이들을 함유하는 자발광 감광성 수지 조성물이 더욱 고감도가 되어 이 조성물을 사용하여 컬러필터를 형성할 때의 생산성이 향상되므로 바람직하다.Further, when a photopolymerization initiator is used in combination with a photopolymerization initiator, the self-luminescent photosensitive resin composition containing the photopolymerization initiator becomes more sensitive and productivity is improved when the color filter is formed using the composition.

트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 - (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, (Trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있다. 또한, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 들 수 있다. Examples of the acetophenone compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2- (4-methylthioxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2- 2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1-one, 1-one oligomers and the like. Further, a compound represented by the following general formula (1) can be mentioned.

[화학식 1][Chemical Formula 1]

상기 화학식 1 에서, In Formula 1,

R1 내지 R4는 각각 독립적으로, 서로 같거나 다르며, R 1 to R 4 are each independently the same or different from each other,

수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, C1~C12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 페닐기, C1~C12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 벤질기, 또는 C1~C12의 알킬기로 치환되거나 비치환된 나프틸기를 나타낸다.A phenyl group substituted or unsubstituted with a C1-C12 alkyl group, a benzyl group substituted or unsubstituted with a C1-C12 alkyl group, or a naphthyl group substituted or unsubstituted with a C1-C12 alkyl group, .

상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 종류에는 특별한 제한은 없지만, 구체적으로는 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-프로필-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-부틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)에탄-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-에틸-2-아미노(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-메틸-2-메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디메틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온, 2-메틸-2-디에틸아미노(4-모르폴리노페닐)프로판-1-온 등을 들 수 있다. Although there is no particular limitation on the kind of the compound represented by the formula (1), specifically, 2-methyl-2-amino (4-morpholinophenyl) ethan- (4-morpholinophenyl) ethane-1-one, 2-propyl-2- (4-morpholinophenyl) propane-1-one, 2-methyl-2- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-methyl-2-methylamino 1-one, 2-methyl-2-dimethylamino (4-morpholinophenyl) propane- - on.

상기 비이미다졸 화합물로는, 예를 들면 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸이 바람직하게 사용된다. Examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis -Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4' Imidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, phenyl group at 4,4' An imidazole compound substituted by a haloalkoxy group, and the like. Of these, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3- 5,5'-tetraphenylbiimidazole is preferably used.

상기 옥심 화합물로는 하기의 화학식을 들 수 있다. The oxime compounds include the following chemical formulas.

또한, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 정도이면 이 분야에서 통상 사용되고 있는 그 밖의 광중합 개시제 등을 추가로 포함할 수도 있다. 그 밖의 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 안트라센계 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. In addition, as long as the effect of the present invention is not impaired, other photopolymerization initiators commonly used in this field may be further included. Examples of other photopolymerization initiators include benzoin-based compounds, benzophenone-based compounds, thioxanthone-based compounds, and anthracene-based compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

벤조인계 화합물로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등을 들 수 있다. Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and the like.

벤조페논계 화합물로는, 예를 들면, 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논, 4,4'-디(N,N'-디메틸아미노)-벤조페논 등을 들 수 있다. Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and 4,4'-di (N, N'-dimethylamino) -benzophenone.

티오크산톤계 화합물로는, 예를 들면, 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다. Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4- And the like.

안트라센계 화합물로는, 예를 들면, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10- 디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센 등을 들 수 있다. Examples of the anthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, etc. .

그 밖에 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포퀴논, 페닐클리옥실산 메틸, 티타노센 화합물 등을 그 밖의 광중합 개시제로서 들 수 있다.
Other examples include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, phenylclyoxylic acid Methyl, titanocene compounds and the like can be mentioned as other photopolymerization initiators.

또한, 본 발명에서 광중합 개시제에 조합하여 사용할 수 있는 광중합 개시 보조제로는 아민 화합물, 카르복실산 화합물 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다. As the photopolymerization initiation assistant that can be used in combination with the photopolymerization initiator in the present invention, at least one compound selected from the group consisting of an amine compound and a carboxylic acid compound is preferably used.

광중합 개시 보조제 중 아민 화합물의 구체예로는 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산 메틸, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산 2-에틸헥실, 벤조산 2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 : 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 들 수 있다. 아민 화합물로서는 방향족 아민 화합물이 바람직하게 사용된다. Specific examples of the amine compound in the photopolymerization initiation auxiliary include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine and triisopropanolamine; aliphatic amine compounds such as methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethyl para-toluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'- And aromatic amine compounds such as bis (diethylamino) benzophenone. As the amine compound, an aromatic amine compound is preferably used.

카르복실산 화합물은 예를 들면, 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등의 방향족 헤테로아세트산류를 들 수 있다. The carboxylic acid compound is, for example, selected from the group consisting of phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid, And aromatic heteroacetic acids such as dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

본 발명의 자발광 감광성 감광성 수지 조성물에서 광중합 개시제의 함량은 전체 고형성분을 기준으로 0.1 내지 20질량%로 포함되는 것이 바람직하고, 1 내지 10질량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 광중합 개시제의 사용량이 상기의 범위 내로 포함될 경우에는 자발광 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 화소부의 강도나, 이 화소부 표면에서의 평활성 우수하다. The content of the photopolymerization initiator in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention is preferably 0.1 to 20 mass%, more preferably 1 to 10 mass%, based on the total solid component. When the amount of the photopolymerization initiator used is within the above range, the self-light-sensitive photosensitive resin composition is highly sensitized, and the strength of the pixel portion and the smoothness of the surface of the pixel portion are excellent.

또한, 광중합 개시 보조제의 사용량은 상기의 기준으로, 0.1 내지 20질량%로 포함되는 것이 바람직하며, 1 내지 10질량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 광중합 개시 보조제의 사용량이 상기 범위 내로 포함되면 자발광 감광성 수지 조성물의 감도 효율성이 더욱 높아지고, 이 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상될 수 있다.The amount of the photopolymerization initiator to be used is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 1 to 10% by mass based on the above-mentioned criteria. When the use amount of the photopolymerization initiator is within the above range, the sensitivity efficiency of the self-luminescent photosensitive resin composition is further increased, and the productivity of the color filter formed using the composition can be improved.

본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물에 함유되는 용제는 특별히 한정되지 않으며 당 분야에서 통상적으로 사용되는 유기 용제일 수 있다.The solvent contained in the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention is not particularly limited and may be an organic solvent conventionally used in the art.

구체적인 예로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 프로필렌글리콜디알킬에테르류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥사놀, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류; 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등의 에스테르류; γ-부티로락톤 등의 환상 에스테르류; 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Specific examples thereof include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; Diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate; Propylene glycol dialkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether; Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate, and methoxypentyl acetate; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and mesitylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol and glycerin; Esters such as ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate; cyclic esters such as? -butyrolactone; And the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 용제는 코팅 방법이나 장치에 따라 점도가 달라질 수 있으므로 상기 언급한 조성을 갖는 자발광 감광성 수지 조성물의 농도가 10 내지 50중량%, 바람직하기로는 10 내지 30중량%가 될 수 있도록 용제의 함량을 적절히 조절한다.Since the viscosity of the solvent may vary depending on the coating method or the apparatus, the content of the solvent is properly adjusted so that the concentration of the self-luminescent photosensitive resin composition having the above-mentioned composition may be 10 to 50% by weight, preferably 10 to 30% .

본 발명에 따른 용제의 함량은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 자발광 감광성 수지 조성물 총 중량 중 60 내지 90중량%로 포함될 수 있고, 바람직하게는 70 내지 85중량%로 포함될 수 있다. 용제가 상기 범위 내로 포함될 도포성이 양호할 수 있다.
The content of the solvent according to the present invention is not particularly limited and may be, for example, 60 to 90% by weight, and preferably 70 to 85% by weight, of the total weight of the self-luminescent photosensitive resin composition. The applicability in which the solvent is contained within the above range may be good.

또한, 본 발명은 상기 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 제공한다.The present invention also provides a color filter made of the self-luminescent photosensitive resin composition.

본 발명의 컬러필터는 화상표시장치에 적용되는 경우에, 화상표시장치 광원의 광에 의해 발광하므로, 보다 뛰어난 광 효율을 구현할 수 있다. 또한, 색상을 가진 광이 방출되는 것이므로 색 재현성이 보다 우수하고, 광루미네선스에 의해 전 방향으로 광이 방출되므로 시야각도 개선될 수 있다.When the color filter of the present invention is applied to an image display apparatus, since it emits light by the light source of the image display apparatus, it is possible to realize more excellent light efficiency. In addition, since color light is emitted, color reproducibility is better, and light is emitted in all directions due to optical luminescence, so that viewing angle can also be improved.

보다 상세하게, 컬러필터를 포함하는 통상의 화상표시장치에서는 백색광이 컬러필터를 투과하여 컬러가 구현되는데, 이 과정에서 광의 일부가 컬러필터에 흡수되므로 광 효율이 저하될 수 있다. 그러나, 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터를 포함하는 경우에는 컬러필터가 광원의 광에 의해 자체 발광하므로 보다 뛰어난 광 효율을 구현할 수 있다.More specifically, in a typical image display device including a color filter, white light is transmitted through the color filter to realize color, in which part of the light is absorbed by the color filter, so that the light efficiency may be lowered. However, in the case of including the color filter made of the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention, the color filter can emit light by the light of the light source, so that the excellent light efficiency can be realized.

컬러필터는 기판 및 상기 기판의 상부에 형성된 패턴층을 포함한다.The color filter includes a substrate and a pattern layer formed on the substrate.

기판은 컬러필터 자체 기판일 수 있으며, 또는 디스플레이 장치 등에 컬러필터가 위치되는 부위일 수도 있는 것으로, 특별히 제한되지 않는다. 상기 기판은 유리, 실리콘(Si), 실리콘 산화물(SiO_x) 또는 고분자 기판일 수 있으며, 상기 고분자 기판은 폴리에테르설폰(polyethersulfone, PES) 또는 폴리카보네이트(polycarbonate, PC) 등일 수 있다. The substrate may be a substrate of the color filter itself, or may be a portion where the color filter is placed on a display device or the like, and is not particularly limited. The substrate may be glass, silicon (Si), silicon oxide (SiO _x ), or a polymer substrate. The polymer substrate may be polyethersulfone (PES) or polycarbonate (PC).

패턴층은 본 발명의 자발광 감광성 수지 조성물을 포함하는 층으로, 상기 자발광 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광, 현상 및 열경화하여 형성된 층일 수 있다.The pattern layer may be a layer containing the self-luminescent photosensitive resin composition of the present invention, and may be a layer formed by applying the self-luminescent photosensitive resin composition and exposing, developing and thermally curing the self-luminescent photosensitive resin composition in a predetermined pattern.

상기 자발광 감광성 수지 조성물로 형성된 패턴층은 적 양자점 입자를 함유한 적색 패턴층, 녹 양자점 입자를 함유한 녹색 패턴층, 및 청 양자점 입자를 함유한 청색 패턴층을 구비할 수 있다. 광 조사시 적색 패턴층은 적색광을, 녹색 패턴층은 녹색광을, 청색 패턴층은 청색광을 방출한다.The pattern layer formed of the self-luminescent photosensitive resin composition may have a red pattern layer containing the red quantum dot particles, a green pattern layer containing the green quantum dot particles, and a blue pattern layer containing the blue quantum dot particles. During the light irradiation, the red pattern layer emits red light, the green pattern layer emits green light, and the blue pattern layer emits blue light.

그러한 경우에 화상표시장치에 적용시 광원의 방출광이 특별히 한정되지 않으나, 보다 우수한 색 재현성의 측면에서 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있다.In such a case, the emitted light of the light source is not particularly limited when applied to an image display apparatus, but a light source that emits blue light in terms of better color reproducibility can be used.

본 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 상기 패턴층은 적색 패턴층, 녹색 패턴층 및 청색 패턴층 중 2종 색상의 패턴층만을 구비할 수도 있다. 그러한 경우에는 상기 패턴층은 양자점 입자를 함유하지 않는 투명 패턴층을 더 구비한다.According to another embodiment of the present invention, the pattern layer may include only a pattern layer of two colors, that is, a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. In such a case, the pattern layer further includes a transparent pattern layer not containing quantum dot particles.

2종 색상의 패턴층만을 구비하는 경우에는 포함하지 않은 나머지 색상을 나타내는 파장의 빛을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 예를 들면, 적색 패턴층 및 녹색 패턴층을 포함하는 경우에는, 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 그러한 경우에 적 양자점 입자는 적색광을, 녹 양자점 입자는 녹색광을 방출하고, 투명 패턴층은 청색광이 그대로 투과하여 청색을 나타낸다.In the case where only the pattern layer of two colors is provided, a light source that emits light having a wavelength that represents the remaining color that is not included can be used. For example, when a red pattern layer and a green pattern layer are included, a light source that emits blue light can be used. In such a case, red quantum dot particles emit red light and rust quantum dot particles emit green light, and the transparent pattern layer transmits blue light as it is and exhibits blue color.

상기와 같은 기판 및 패턴층을 포함하는 컬러필터는, 각 패턴 사이에 형성된 격벽을 더 포함할 수 있으며, 블랙 매트릭스를 더 포함할 수도 있다. 또한, 컬러필터의 패턴층 상부에 형성된 보호막을 더 포함할 수도 있다.
The color filter including the substrate and the pattern layer as described above may further include a partition wall formed between the respective patterns, and may further include a black matrix. Further, it may further comprise a protective film formed on the pattern layer of the color filter.

또한, 본 발명은 상기 컬러필터를 포함하는 화상표시장치를 제공한다.The present invention also provides an image display device including the color filter.

본 발명의 컬러필터는 통상의 액정 표시 장치뿐만 아니라, 전계 발광 표시 장치, 플라스마 표시 장치, 전계 방출 표시 장치 등 각종 화상 표시 장치에 적용이 가능하다.The color filter of the present invention is applicable not only to a general liquid crystal display device but also to various image display devices such as an electroluminescence display device, a plasma display device, and a field emission display device.

본 발명의 화상표시장치는 적 양자점 입자를 함유한 적색 패턴층, 녹 양자점 입자를 함유한 녹색 패턴층, 및 청 양자점 입자를 함유한 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터를 구비할 수 있다. 그러한 경우에 화상표시장치에 적용시 광원의 방출광이 특별히 한정되지 않으나, 보다 우수한 색 재현성의 측면에서 바람직하게는 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있다The image display apparatus of the present invention may include a color filter including a red pattern layer containing red QD particles, a green pattern layer containing green quantum dot particles, and a blue pattern layer containing blue QDs. In such a case, the emitted light of the light source is not particularly limited when applied to an image display apparatus, but a light source that emits blue light is preferable from the viewpoint of better color reproducibility

본 발명의 다른 일 구현예에 따르면, 본 발명의 화상표시장치는 적색 패턴층, 녹색 패턴층 및 청색 패턴층 중 2종 색상의 패턴층만을 포함하는 컬러필터를 구비할 수도 있다. 그러한 경우에는 상기 컬러필터는 양자점 입자를 함유하지 않는 투명 패턴층을 더 구비한다.According to another embodiment of the present invention, the image display apparatus of the present invention may include a color filter including only a pattern layer of two colors of a red pattern layer, a green pattern layer, and a blue pattern layer. In such a case, the color filter further includes a transparent pattern layer not containing quantum dot particles.

2종 색상의 패턴층만을 구비하는 경우에는 포함하지 않은 나머지 색상을 나타내는 파장의 빛을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 예를 들면, 적색 패턴층 및 녹색 패턴층을 포함하는 경우에는, 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 그러한 경우에 적 양자점 입자는 적색광을, 녹 양자점 입자는 녹색광을 방출하고, 투명 패턴층은 청색광이 그대로 투과하여 청색을 나타낸다.In the case where only the pattern layer of two colors is provided, a light source that emits light having a wavelength that represents the remaining color that is not included can be used. For example, when a red pattern layer and a green pattern layer are included, a light source that emits blue light can be used. In such a case, red quantum dot particles emit red light and rust quantum dot particles emit green light, and the transparent pattern layer transmits blue light as it is and exhibits blue color.

본 발명의 화상표시장치는 광 효율이 우수하여 높은 휘도를 나타내고, 색 재현성이 우수하며, 넓은 시야각을 갖을 수 있다.
The image display apparatus of the present invention has excellent light efficiency, exhibits high luminance, excellent color reproducibility, and can have a wide viewing angle.

이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 하기의 실시예는 본 발명의 범위 내에서 당업자에 의해 적절히 수정, 변경될 수 있다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the following examples are intended to further illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the following examples. The following examples can be appropriately modified and changed by those skilled in the art within the scope of the present invention.

제조예 1. CdSe(코어)/ZnS(쉘) 구조의 광루미네선스 녹 양자점 입자 A의 합성Production Example 1. Synthesis of a photo-luminescent rust quantum dot particle A having a CdSe (core) / ZnS (shell) structure

CdO(0.4 mmol)과 아연 아세테이트(Zinc acetate)(4 mmol), 올레산(Oleic acid)(5.5 mL)를 1-옥타데센(1-Octadecene) (20 mL)과 함께 반응기에 넣고 150℃로 가열하여 반응시켰다. 이후에 아연에 올레산이 치환됨으로써 생성된 아세트산(acetic acid)을 제거하기 위해 상기 반응물을 100 mTorr 의 진공 하에 20분간 방치하였다. 그리고 나서, 310℃의 열을 가하여 투명한 혼합물을 얻은 다음, 이를 20분간 310℃를 유지한 후, 0.4 mmol의 Se분말과 2.3 mmol의 S 분말을 3mL의 트리옥틸포스핀(trioctylphosphine)에 용해시킨 Se 및 S 용액을 Cd(OA)2 및Zn(OA)2 용액이 들어 있는 반응기에 빠르게 주입하였다. 이로부터 얻은 혼합물을 310℃에서 5분간 성장시킨후 얼음물 배쓰(ice bath)를 이용하여 성장을 중단시켰다. 그리고 나서, 에탄올로 침전시켜 원심분리기를 이용하여 양자점을 분리하고 여분의 불순물은 클로로포름(chloroform)과 에탄올을 이용하여 씻어냄으로써, 올레인산으로 안정화된, 코어 입경과 쉘 두께의 합이 3 내지 5nm인 입자들이 분포된 CdSe(코어)/ZnS(쉘) 구조의 양자점 입자 A를 수득하였다.
CdO (0.4 mmol), zinc acetate (4 mmol) and oleic acid (5.5 mL) were added to the reactor together with 1-Octadecene (20 mL) and heated to 150 ° C. Lt; / RTI > The reaction was then left under vacuum at 100 mTorr for 20 minutes to remove the acetic acid formed by the displacement of oleic acid into zinc. Then, a transparent mixture was obtained by applying heat at 310 DEG C, and after maintaining the temperature at 310 DEG C for 20 minutes, 0.4 mmol of Se powder and 2.3 mmol of S powder were dissolved in 3 mL of trioctylphosphine, and Se And S solution were rapidly injected into a reactor containing Cd (OA) 2 and Zn (OA) 2 solutions. The resulting mixture was grown at 310 ° C for 5 minutes, and growth was stopped using an ice bath. Then, the precipitate was precipitated with ethanol, and the quantum dots were separated using a centrifugal separator. The excess impurities were washed with chloroform and ethanol to obtain particles having a core particle size and shell thickness summed to 3 to 5 nm (Core) / ZnS (shell) structure in which the CdSe (core) structure is distributed.

제조예 2-1. 알칼리 가용성 수지(D1) 의 합성Production Example 2-1. Synthesis of alkali-soluble resin (D1)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, N-벤질말레이미드 40 중량부, 트리사이클로데실 메타크릴레이트 10 중량부, 아크릴산 50 중량부, 메타t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, "PGMEA"라 함) 20 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 20 중량부 를 투입 후, 교반 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고, n-도데칸티올 6 중량부, PGMEA 24 중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄 이동제 적하 로트를 준비했다. A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and 40 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of butyl peroxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA") and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, A lot was prepared, 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred to prepare a chain transfer agent drop-lot.

이후 플라스크에 PGMEA 395 중량부를 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃로 승온하여 3h 유지한 뒤, 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 29.1중량%, 중량평균분자량 10,000 산가가 140㎎KOH/g인 수지 D1를 얻었다.
Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The mixture was heated to 110 ° C for 1 h and held at this temperature for 3 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature to obtain a resin having a solid content of 29.1% by weight and a weight average molecular weight of 10,000 and an acid value of 140 mgKOH / g D1 was obtained.

제조예 2-2: 알칼리 가용성 수지(D2)의 합성Production Example 2-2: Synthesis of alkali-soluble resin (D2)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, N-벤질말레이미드 40 중량부, 트리사이클로데실 메타크릴레이트 10 중량부, 아크릴산 50 중량부, 메타t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, "PGMEA"라 함) 20 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 20 중량부 를 투입 후, 교반 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고, n-도데칸티올 6 중량부, PGMEA 24 중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄 이동제 적하 로트를 준비했다. A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and 40 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of butyl peroxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA") and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, A lot was prepared, 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred to prepare a chain transfer agent drop-lot.

이후 플라스크에 PGMEA 395 중량부를 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃로 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 5 중량부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4 중량부, 트리에틸아민 0.8 중량부를 플라스크 내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 29.1 중량%, 중량평균분자량 10,000, 산가가 130㎎KOH/g, 아크릴 당량이 4300g/eq인 수지 D2를 얻었다.
Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The temperature was raised to 110 DEG C for 1 hour and maintained at 90 DEG C for 2 hours while maintaining the temperature at 90 DEG C. The temperature was raised to 110 DEG C for 3 hours and then a gas introduction tube was introduced to perform bubbling of an oxygen / nitrogen gas mixture of 5/95 (v / v) . Subsequently, 5 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 part by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.8 part by weight of triethylamine were charged into a flask, The reaction was continued and then cooled to room temperature to obtain a resin D2 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 130 mgKOH / g, and an acrylic equivalent of 4300 g / eq.

제조예 2-3: 알칼리 가용성 수지(D3)의 합성Production Example 2-3: Synthesis of alkali-soluble resin (D3)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, N-벤질말레이미드 40 중량부, 트리사이클로데실 메타크릴레이트 10 중량부, 아크릴산 50 중량부, 메타t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, "PGMEA"라 함) 20 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 20 중량부를 투입 후, 교반 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고, n-도데칸티올 6 중량부, PGMEA 24 중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄 이동제 적하 로트를 준비했다. A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and 40 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA") and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether were put into a reactor, stirred and mixed to prepare a monomer drop- , 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred to prepare a chain transfer agent dropping solution.

이후 플라스크에 PGMEA 395 중량부를 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃로 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 15 중량부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4 중량부, 트리에틸아민 0.8 중량부를 플라스크 내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 29.1 중량%, 중량평균분자량 10,000, 산가가 110㎎KOH/g, 아크릴 당량이 1450g/eq인 수지 D3를 얻었다.
Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The temperature was raised to 110 DEG C for 1 hour and maintained at 90 DEG C for 2 hours while maintaining the temperature at 90 DEG C. The temperature was raised to 110 DEG C for 3 hours and then a gas introduction tube was introduced to perform bubbling of an oxygen / nitrogen gas mixture of 5/95 (v / v) . Subsequently, 15 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 part by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.8 part by weight of triethylamine were charged into a flask, The reaction was continued and then cooled to room temperature to obtain a resin D3 having a solid content of 29.1 wt%, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 110 mgKOH / g, and an acrylic equivalent of 1450 g / eq.

제조예 2-4: 알칼리 가용성 수지(D4)의 합성Production Example 2-4: Synthesis of alkali-soluble resin (D4)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, N-벤질말레이미드 40 중량부, 트리사이클로데실 메타크릴레이트 10 중량부, 아크릴산 50 중량부, 메타t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, "PGMEA"라 함) 20 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 20 중량부 를 투입 후, 교반 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고, n-도데칸티올 6 중량부, PGMEA 24 중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄 이동제 적하 로트를 준비했다. A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and 40 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 50 parts by weight of acrylic acid, 4 parts by weight of butyl peroxy-2-ethylhexanoate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA") and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, A lot was prepared, 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred to prepare a chain transfer agent drop-lot.

이후 플라스크에 PGMEA 395 중량부를 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃로 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 30 중량부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4 중량부, 트리에틸아민 0.8 중량부를 플라스크 내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 29.1 중량%, 중량평균분자량 10,000, 산가가 85㎎KOH/g, 아크릴 당량이 725g/eq인 수지 D4를 얻었다.
Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The temperature was raised to 110 DEG C for 1 hour and maintained at 90 DEG C for 2 hours while maintaining the temperature at 90 DEG C. The temperature was raised to 110 DEG C for 3 hours and then a gas introduction tube was introduced to perform bubbling of an oxygen / nitrogen gas mixture of 5/95 (v / v) . Subsequently, 30 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 part by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.8 part by weight of triethylamine were charged into a flask, The reaction was continued and then cooled to room temperature to obtain a resin D4 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 85 mgKOH / g and an acrylic equivalent of 725 g / eq.

제조예 2-5: 알칼리 가용성 수지(D5)의 합성Production Example 2-5: Synthesis of alkali-soluble resin (D5)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, N-벤질말레이미드 35 중량부, 트리사이클로데실 메타크릴레이트 10 중량부, 아크릴산 55 중량부, 메타t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, "PGMEA"라 함) 20 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 20 중량부를 투입 후, 교반 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고, n-도데칸티올 6 중량부, PGMEA 24 중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄 이동제 적하 로트를 준비했다. 35 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 55 parts by weight of acrylic acid, 50 parts by weight of meta-t-butoxycarbonylmethacrylate, 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA") and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether were put into a reactor, stirred and mixed to prepare a monomer drop- , 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added and stirred to prepare a chain transfer agent dropping solution.

이후 플라스크에 PGMEA 395 중량부를 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃로 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 50 중량부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4 중량부, 트리에틸아민 0.8 중량부를 플라스크 내에 투입하여 110℃에서 8시간 반응을 계속하고, 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 29.1 중량%, 중량평균분자량 10,000, 산가가 60㎎KOH/g, 아크릴 당량이 435g/eq인 수지 D5를 얻었다.
Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The temperature was raised to 110 DEG C for 1 hour and maintained at 90 DEG C for 2 hours while maintaining the temperature at 90 DEG C. The temperature was raised to 110 DEG C for 3 hours and then a gas introduction tube was introduced to perform bubbling of an oxygen / nitrogen gas mixture of 5/95 (v / v) . Subsequently, 50 parts by weight of glycidyl methacrylate, 0.4 part by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.8 part by weight of triethylamine were charged into a flask, The reaction was continued and then cooled to room temperature to obtain a resin D5 having a solid content of 29.1 wt%, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 60 mgKOH / g and an acrylic equivalent of 435 g / eq.

제조예 2-6: 알칼리 가용성 수지(D6)의 합성Production Example 2-6: Synthesis of alkali-soluble resin (D6)

교반기, 온도계 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, N-벤질말레이미드 10 중량부, 트리사이클로데실 메타크릴레이트 10 중량부, 글리시딜메타크릴레이트 80 중량부, 메타t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, "PGMEA"라 함) 20 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 20 중량부를 투입 후, 교반 혼합하여 모노머 적하 로트를 준비하고, n-도데칸티올 6 중량부, PGMEA 24 중량부를 넣고 교반 혼합하여 연쇄 이동제 적하 로트를 준비했다. A flask equipped with a stirrer, a thermometer reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube was prepared, and 10 parts by weight of N-benzylmaleimide, 10 parts by weight of tricyclodecyl methacrylate, 80 parts by weight of glycidyl methacrylate , 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA") and 20 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, And 6 parts by weight of n-dodecanethiol and 24 parts by weight of PGMEA were added to the mixture, followed by stirring and mixing to prepare a chain transfer agent dropwise.

이후 플라스크에 PGMEA 395 중량부를 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 치환한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2h 동안 진행하고 1h 후에 110℃로 승온하여 3h 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 아크릴산 85 중량부, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4 중량부, 트리에틸아민 0.8 중량부를 플라스크 내에 투입하여 110?에서 8시간 반응을 계속하고, 그 후 실온까지 냉각하면서 고형분 29.1 중량%, 중량평균분자량 10,000, 산가가 60㎎KOH/g, 아크릴 당량이 270g/eq인 수지 D6를 얻었다.
Thereafter, 395 parts by weight of PGMEA was introduced into the flask, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen in air, and the temperature of the flask was raised to 90 DEG C with stirring. Then, the monomer and the chain transfer agent were added dropwise from the dropping funnel. The temperature was raised to 110 DEG C for 1 hour and maintained at 90 DEG C for 2 hours while maintaining the temperature at 90 DEG C. The temperature was raised to 110 DEG C for 3 hours and then a gas introduction tube was introduced to perform bubbling of an oxygen / nitrogen gas mixture of 5/95 (v / v) . Subsequently, 85 parts by weight of acrylic acid, 0.4 part by weight of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 0.8 part by weight of triethylamine were added to the flask and the reaction was continued at 110? Thereafter, a resin D6 having a solid content of 29.1% by weight, a weight average molecular weight of 10,000, an acid value of 60 mgKOH / g and an acrylic equivalent of 270 g / eq was obtained.

실시예 1 내지 3 비교예 1 내지 3: 자발광 감광성 수지 조성물의 제조Examples 1 to 3 Comparative Examples 1 to 3: Preparation of self-luminescent photosensitive resin composition

하기 표 1 에 기재된 바와 같이 각각 성분을 혼합한 후, 전체 고형분이 20중량%가 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트로 희석한 뒤, 충분히 교반하여 자발광 감광성 수지 조성물을 얻었다.The components were mixed as shown in Table 1, diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the total solid content became 20% by weight, and sufficiently stirred to obtain a self-luminescent photosensitive resin composition.

(중량%)(weight%) 실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 양자점Qdot AA 3030 3030 3030 3030 3030 3030 광중합
화합물Light curing
compound B-1B-1 99 99 99 99 99 99 B-2B-2 2424 2424 2424 2424 2424 2424 광중합 개시제Photopolymerization initiator CC 55 55 55 55 55 55
알칼리
가용성
수지

alkali
Availability
Suzy
D1D1 3232 D2D2 3232 D3D3 3232 D4D4 3232 D5D5 3232 D6D6 3232 A : 제조예 1의 CdSe(코어)/ZnS(쉘) 구조 양자점 A
B-1 : 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트호박산모노에스테르 (카르복시산함유 5관능 광중합성 화합물)(TO-1382, 동아합성 제조)
B-2 : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA; 닛본 카야꾸 ㈜ 제조)
C: Irgaqure-907 (BASF사 제)
D1: 제조예 2-1의 알칼리 가용성 수지
D2: 제조예 2-2의 알칼리 가용성 수지
D3: 제조예 2-3의 알칼리 가용성 수지
D4: 제조예 2-4의 알칼리 가용성 수지
D5: 제조예 2-5의 알칼리 가용성 수지A: CdSe (core) / ZnS (shell) structure of Production Example 1 Quantum dots A
B-1: dipentaerythritol pentaacrylate succinic acid monoester (TO-1382, manufactured by Donga Chemical Co., Ltd.) (5-functional photochemically synthesized compound containing carboxylic acid)
B-2: dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
C: Irgaquer-907 (manufactured by BASF)
D1: The alkali-soluble resin of Production Example 2-1
D2: An alkali-soluble resin of Production Example 2-2
D3: The alkali-soluble resin of Production Example 2-3
D4: The alkali-soluble resin of Production Example 2-4
D5: The alkali-soluble resin of Production Example 2-5

컬러필터(Glass기판) 제조예Color filter (glass substrate) production example

상기 실시예 1 내지 3 비교예 1 내지 3 에서 제조된 자발광 감광성 수지 조성물을 이용하여 컬러필터를 제조하였다. 즉, 상기 각각의 자발광 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분간 유지하여 박막을 형성시켰다. 이어서 상기 박막 위에 가로 x 세로 20mm x 20mm 정사각형의 투과 패턴과 1㎛ 내지 100㎛의 라인/스페이스 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토마스크와의 간격을 100㎛로 하여 자외선을 조사하였다. The color filters were prepared using the self-luminescent photosensitive resin compositions prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. That is, each of the self-luminescent photosensitive resin compositions was coated on a glass substrate by spin coating, and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C for 3 minutes to form a thin film. Then, a test photomask having a transmittance of 20 mm × 20 mm square and a line / space pattern of 1 μm to 100 μm was placed on the thin film and irradiated with ultraviolet rays at a distance of 100 μm from the test photomask.

이때, 자외선 광원은 우시오 덴끼㈜제의 초고압 수은 램프(상품명 USH-250D)를 이용하여 대기 분위기하에 200mJ/㎠의 노광량(365㎚)으로 광조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. 상기에서 자외선이 조사된 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 80초 동안 담궈 현상하였다. 이 박막이 입혀진 유리판을 증류수를 사용하여 세척한 다음, 질소 가스를 불어서 건조하고, 150℃의 가열 오븐에서 10분 동안 가열하여 컬러필터 패턴을 제조하였다. 상기에서 제조된 자발광 컬러 패턴의 필름 두께는 3.0㎛이었다.
At this time, the ultraviolet light source was irradiated with light (365 nm) at an exposure dose of 200 mJ / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp (trade name: USH-250D) manufactured by Ushio DENKI CO., LTD. The thin film irradiated with ultraviolet rays was immersed in a KOH aqueous solution of pH 10.5 for 80 seconds to develop. The glass plate coated with the thin film was washed with distilled water, dried by blowing nitrogen gas, and heated in a heating oven at 150 캜 for 10 minutes to prepare a color filter pattern. The film thickness of the self-emission color pattern prepared above was 3.0 mu m.

발광 강도(Intensity) 측정Intensity measurement

상기 자발광 화소가 형성된 컬러필터 중 20mm x 20mm 정사각형의 패턴으로 형성된 Pattern부에 365nm Tube형 4W UV조사기(VL-4LC, VILBER LOURMAT)를 통하여 광 변환된 영역을 측정하였으며, 실시예 1내지 3 및 비교예 1내지 2는 550nm 영역에서의 광 강도(Intensity)를 Spectrum meter(Ocean Optics사)를 이용하여 측정하였다. 측정된 광 강도(Intensity)가 높을수록 우수한 자발광 특성을 발휘하는 것으로 판단할 수 있으며, 발광 강도(Intensity) 측정결과를 하기 표 2 에 나타내었다. In the pattern portion formed with the pattern of 20 mm x 20 mm square among the color filters in which the self-luminescent pixels were formed, the photo-converted regions were measured through a 365 nm tube type 4 W UV irradiator (VL-4LC, VILBER LOURMAT) In Comparative Examples 1 and 2, the intensity of light in an area of 550 nm was measured using a spectrum meter (Ocean Optics). The higher the measured light intensity, the better the self-luminescence characteristics can be determined. The luminescence intensity measurement results are shown in Table 2 below.

또한, Hard bake를 230도 60분을 진행하여, hard bake 전의 발광 강도(Intensity)와 후의 강도(Intensity)를 측정하고 발광효율이 유지되는 수준을 확인하여 표 2에 발광 강도 유지율로 나타내었다.
In addition, the hard bake was conducted at 230 ° C. for 60 minutes, and the intensity and the intensity after the hard bake were measured. The level at which the luminous efficiency was maintained was confirmed.

자발광 감광성 수지 조성물의 현상타입 측정Measurement of development type of self-luminescent photosensitive resin composition

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3의 자발광 감광성 수지 조성물을 스핀 코팅법으로 유리 기판 위에 도포한 다음, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분간 유지하여 박막을 형성시킨 후 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 침지시켜, 코팅된 자발광 감광성 수지 조성물층이 현상될 때의 형태가 용해형태인지, 박리형태인지 확인하여 하기 표 2에 기재하였다.The self-luminescent photosensitive resin compositions of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were coated on a glass substrate by spin coating and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C for 3 minutes to form a thin film. KOH aqueous solution developing solution to confirm that the form of the coated self-luminous photosensitive resin composition layer when it was developed was a dissolved form or a peeled form, and is shown in Table 2 below.

용해형태의 경우엔 화소패턴의 형성이 양호해지나, 박리형태의 경우에는 화소패턴의 형성이 어려워 사용할 수 없는 특징이 있다.
In the case of the dissolving type, the formation of the pixel pattern is good, but in the case of the peeling form, it is difficult to form the pixel pattern, and therefore, the pixel pattern can not be used.

강도(Intensity)Intensity 발광 강도 유지율Luminescence intensity maintenance rate 현상 타입Developing type 비교예 1Comparative Example 1 21526572152657 31.2%31.2% 용해Dissolution 비교예 2Comparative Example 2 24210352421035 33.2%33.2% 용해Dissolution 비교예 3Comparative Example 3 54352165435216 65.5%65.5% 박리Exfoliation 실시예 1Example 1 41498524149852 50.1%50.1% 용해Dissolution 실시예 2Example 2 48312854831285 56.8%56.8% 용해Dissolution 실시예 3Example 3 50984655098465 63.6%63.6% 용해Dissolution

상기 표 2를 통해서 알 수 있는 바와 같이, 아크릴 당량이 2,000g/eq 이하의 수지를 사용한 실시예 1 내지 3 및 비교예 3의 경우, 비교예 1 내지 2에 비해 발광 강도(Intensity)가 우수하며, 230도 Bake 공정 후에도 발광 광도가 높게 유지 됨을 확인할 수 있다. As can be seen from the above Table 2, in Examples 1 to 3 and Comparative Example 3 using a resin having an acrylic equivalent of 2,000 g / eq or less, the intensity of light emission was superior to that of Comparative Examples 1 and 2 , And the luminescence intensity is maintained high even after the 230-degree bake process.

특히, 실시예 1 내지 실시예 3, 그리고 비교예 3으로 아크릴 당량이 증가할수록 발광 Intesity 및 유지율이 함께 증가 되는 것을 통해서, 구조 내의 아크릴기가 양자점의 보호층 역할을 하여 공정 중에 소광되는 현상을 억제하는 효과가 있음을 확인할 수 있다. 하지만 300g/eq이하 아크릴 당량을 가지는 수지를 사용한 비교예 3의 경우, 발광 강도 및 유지율이 높은 반면에, 현상시에 박리가 되므로 패턴 형성에 부적합 함을 확인할 수 있다. Particularly, in Examples 1 to 3 and Comparative Example 3, the luminous intensities and the retention ratios are increased together with the increase of the acrylic equivalent, so that the acrylic group in the structure serves as a protective layer of the quantum dot, It can be confirmed that there is an effect. However, in the case of Comparative Example 3 using a resin having an acrylic equivalent of 300 g / eq or less, it is confirmed that the light emission intensity and the retention ratio are high, but are inadequate for pattern formation because peeling occurs at the time of development.

Claims (9)

알칼리 가용성 수지, 광루미네선스 양자점 입자, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하고,
상기 알칼리 가용성 수지는 구조 내 중합 가능한 불포화 결합을 지니며, 아크릴 당량이 300 내지 2,000g/eq인 것을 특징으로 하는 자발광 감광성 수지 조성물.An alkali-soluble resin, a photo-luminescent quantum dot particle, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent,
Wherein the alkali-soluble resin has an unsaturated bond polymerizable in the structure and has an acryl equivalent of 300 to 2,000 g / eq. 제1항에 있어서,
상기 자발광 감광성 수지 조성물 중 고형분의 총 중량에 대하여, 광루미네선스 양자점 입자 3 내지 80중량%, 광중합성 화합물 5 내지 50중량%, 광중합 개시제 0.1 내지 20중량%, 알칼리 가용성 수지 5 내지 80중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
The photopolymerizable compound is contained in an amount of 3 to 80% by weight, the photopolymerizable compound is contained in an amount of 5 to 50% by weight, the photopolymerization initiator is contained in an amount of 0.1 to 20% by weight, the alkali soluble resin is contained in an amount of 5 to 80% by weight based on the total solid content of the self- % Of the self-luminescent photosensitive resin composition. 제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는
3-(아크릴로일옥시)-2-하이드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 2-메톡시-3-프로피-2-노일옥시-프로필)-2-메틸-2-프로피노에이트, (2-옥시다닐-3-프로피-2-노일옥시-프로필)-2-부티노에이트, 1,3-프로페인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 1,3-부테인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 하이드로퀴논 다이(메타)아크릴레이트, 1,4-페닐린 다이(메타)아크릴레이트, 1,4-사이클로헥세인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 2-프로피노일옥시메틸-2-프로피노에이트, 트리에틸렌글리콜 다이(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌클라이콜 다이(메타)아크릴레이트, 1,6-헥테인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 1,12-도데케인다이올 다이(메타)아크릴레이트, 트리메틸로일프로메인 트리(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 다이(메타)아크릴레이트, 다이우레탄 다이(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글라이콜 다이아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
The alkali-soluble resin
Propyl) -2-methyl-2-propynoate, (2- (2-methoxy- Propanediol di (meth) acrylate, 1,3-butenediol di (meth) acrylate, 1,3-propanediol di (Meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol di (meth) acrylate, 2-propynoyloxymethyl-2-prop Tetraethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,12-dodecane diol di (meth) acrylate, ) Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, diurethane di (meth) Glycol di chair, characterized in that at least one member selected from the group consisting of acrylate emission photosensitive resin composition. 제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량이 3,000 내지 100,000인 것을 특징으로 하는 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the alkali-soluble resin has a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 3,000 to 100,000. 제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는 산가가 30 내지 150mgKOH/g인 것을 특징으로 하는 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the alkali-soluble resin has an acid value of 30 to 150 mgKOH / g. 제1항에 있어서,
상기 광루미네선스 양자점 입자는 적 양자점 입자, 녹 양자점 입자 또는 청 양자점 입자인 것을 특징으로 하는 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
Wherein the photoluminescent quantum dot particle is an atomic lattice point particle, a rust quantized point particle, or a blue quantum dot particle. 제1항에 있어서,
상기 광루미네선스 양자점 입자는 II-VI족 반도체 화합물; III-V족 반도체 화합물; IV-VI족 반도체 화합물; IV족 원소 또는 이를 포함하는 화합물; 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 자발광 감광성 수지 조성물.The method according to claim 1,
The photoluminescent quantum dot particle is a II-VI group semiconductor compound; III-V semiconductor compound; Group IV-VI semiconductor compounds; Group IV elements or compounds containing them; And a combination thereof. The self-luminescent photosensitive resin composition according to claim 1, 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 자발광 감광성 수지 조성물로 제조되는 것을 특징으로 하는 컬러필터, A color filter, characterized by being manufactured from the self-luminescent photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 7, 제8항의 컬러필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상표시장치. An image display apparatus comprising the color filter of claim 8.