KR101823191B1 - Chip electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR101823191B1 KR1020140054423A KR20140054423A KR101823191B1 KR 101823191 B1 KR101823191 B1 KR 101823191B1 KR 1020140054423 A KR1020140054423 A KR 1020140054423A KR 20140054423 A KR20140054423 A KR 20140054423A KR 101823191 B1 KR101823191 B1 KR 101823191B1
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Abstract

본 발명은 칩 전자부품 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 코일 도체 및 상기 코일 도체 내부에 존재하는 내부 코어부를 포함하는 자성체 본체; 적어도 일 면에 상기 코일 도체가 배치되고, 중앙에 관통홀을 구비하며, 상기 내부 코어부의 부피를 조절하는 제 1 용량 결정부; 상기 코일 도체를 피복하며, 상기 내부 코어부의 부피를 조절하는 제 2 용량 결정부; 및 상기 자성체 본체의 적어도 일 면에 배치되며, 상기 코일 도체와 접속하는 외부전극;을 포함하며, 상기 제 1 용량 결정부는 상기 관통홀의 면적을 조절하여 상기 내부 코어부의 부피를 조절하고, 상기 제 2 용량 결정부는 상기 내부 코어부 측의 피복 두께를 조절하여 상기 내부 코어부의 부피를 조절하는 칩 전자부품 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a chip electronic component and a manufacturing method thereof, and more particularly, to a magnetic body including a coil conductor and an internal core portion existing inside the coil conductor; A first capacity determining section having the coil conductor disposed on at least one surface thereof, the through hole at the center thereof, and adjusting the volume of the internal core section; A second capacitance-determining part for covering the coil conductor and adjusting a volume of the internal core part; And an outer electrode disposed on at least one surface of the magnetic body body and connected to the coil conductor, wherein the first capacity determining portion adjusts an area of the through hole to adjust a volume of the inner core portion, And the capacity determining portion adjusts the coating thickness of the inner core portion to adjust the volume of the inner core portion, and a manufacturing method thereof.

Description

칩 전자부품 및 그 제조방법{Chip electronic component and manufacturing method thereof}Technical Field [0001] The present invention relates to a chip electronic component and a manufacturing method thereof,

본 발명은 칩 전자부품 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a chip electronic component and a manufacturing method thereof.

칩 전자부품 중 하나인 인덕터(inductor)의 경우 코일 도체에서 유도된 자속이 지나가는 코일 도체 내부의 자로 면적에 따라 인덕턴스가 달라진다.
In the case of an inductor, one of the chip electronic components, the inductance varies depending on the area of the magnetic field inside the coil conductor passing through the magnetic flux induced from the coil conductor.

종래의 적층형 인덕터는 복수의 자성체 시트 상에 코일 형태의 도체 패턴을 형성하고, 도체 패턴이 형성된 복수의 자성체 시트를 적층한 구조를 가지며, 상기 도체 패턴은 각 자성체 시트에 형성된 비아 전극에 의해 순차적으로 접속되어 적층 방향에 따라 중첩되면서 나선구조를 갖는 코일을 이룬다. 이때, 적층형 인덕터의 경우 도체 패턴을 달리하여 코일 도체 내부의 자로 면적을 조절하였다.
A conventional multilayer inductor has a structure in which a coil-shaped conductor pattern is formed on a plurality of magnetic material sheets, and a plurality of magnetic material sheets on which conductor patterns are formed are laminated. The conductor patterns are sequentially formed by via- And are superimposed along the stacking direction to form a coil having a spiral structure. In this case, the area of the magnetic field inside the coil conductor was adjusted by varying the conductor pattern in the case of the stacked inductor.

또한, 종래의 권선형 인덕터는 자성체 코어(core)에 코일을 감는 구조로, 자성체 코어(core)의 사이즈를 조정하여 내부의 자로 면적을 조절하고, 인덕턴스를 조절하였다.
In addition, the conventional wire wound type inductor has a structure in which a coil is wound around a magnetic core, the size of the magnetic core is adjusted, the area of the magnetic field inside is adjusted, and the inductance is adjusted.

박막형 인덕터는 절연 기판 상에 도금으로 코일 형태의 도체 패턴을 형성하고, 자성체와의 접촉을 방지하기 위하여 코일 도체를 피복하는 절연막을 형성한 후, 절연 기판의 상부 및 하부에 자성체 시트를 적층 및 압착하여 제조한다.The thin-film type inductor is formed by forming a coil-shaped conductor pattern on an insulating substrate by plating, forming an insulating film covering the coil conductor to prevent contact with the magnetic body, stacking and pressing the magnetic substance sheet on the upper and lower sides of the insulating substrate .

종래에는 박막형 인덕터의 경우 목표로 하는 타겟(Target) 인덕턴스를 구현하기 위해서는 코일 도체 등의 전체적인 재설계가 필요하였다. 타겟(Target) 인덕턴스를 구현을 위한 재설계를 할 경우 공수 및 리드 타임(Lead time)이 급격히 증가하게 된다.
Conventionally, in order to realize a target target inductance in the case of a thin film type inductor, a total redesign of a coil conductor and the like is required. When redesigning to implement the target inductance, the airflow and lead time increase rapidly.

일본공개공보 제2005-210010호Japanese Laid-Open Publication No. 2005-210010 일본공개공보 제2008-166455호Japanese Laid-Open Publication No. 2008-166455

본 발명의 일 실시형태는 내부 코어부의 부피를 조절함으로써 동일한 설계의 코일 도체를 가지더라도 목표로 하는 인덕턴스를 미세한 값까지 제어할 수 있는 침 전자부품 및 그 제조방법에 관한 것이다.
One embodiment of the present invention relates to a needle-shaped electronic component capable of controlling a target inductance to a minute value even if the coil conductor has the same design by adjusting the volume of the internal core portion, and a manufacturing method thereof.

본 발명의 일 실시형태는 제 1 용량 결정부의 적어도 일면에 코일 도체를 형성하고, 상기 제 1 용량 결정부의 중앙에 관통홀을 형성하는 단계; 상기 코일 도체를 피복하는 제 2 용량 결정부를 형성하는 단계; 상기 코일 도체의 상부 및 하부에 자성체 층을 적층 및 압착하여, 상기 코일 도체 내부에 내부 코어부가 구비된 자성체 본체를 형성하는 단계; 및 상기 자성체 본체의 적어도 일 면에 상기 코일 도체와 접속되도록 외부전극을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 제 1 용량 결정부의 중앙에 형성하는 상기 관통홀의 면적을 조절하여 상기 내부 코어부의 부피를 조절하고, 상기 제 2 용량 결정부의 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측의 피복 두께를 조절하여 상기 내부 코어부의 부피를 조절하는 칩 전자부품의 제조방법을 제공한다.
According to an embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming a coil conductor on at least one surface of a first capacitance determining portion and forming a through hole at a center of the first capacitance determining portion; Forming a second capacitance determining portion covering the coil conductor; Stacking and pressing a magnetic material layer on upper and lower portions of the coil conductor to form a magnetic material body having an inner core portion inside the coil conductor; And forming an external electrode on at least one surface of the magnetic body body so as to be connected to the coil conductor, wherein the area of the through hole formed at the center of the first capacitance determining portion is adjusted to adjust the volume of the internal core portion And adjusting the thickness of the inner core portion of the coil conductor on the side of the inner core portion of the coil conductor of the second capacitance determining portion to adjust the volume of the inner core portion.

상기 내부 코어부는 자성체로 충진되며, 상기 내부 코어부의 부피를 조절하여 상기 코일 도체 내부에 충진된 자성체의 부피를 조절할 수 있다.
The inner core portion is filled with a magnetic substance, and the volume of the magnetic substance filled in the coil conductor can be controlled by adjusting the volume of the inner core portion.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 상부를 피복하는 상부 피복 두께와 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께가 상이하도록 형성할 수 있다.
The second capacity determining portion may be formed such that the thickness of the upper coating layer covering the upper portion of the coil conductor and the thickness of the coating portion of the inner core portion covering the inner core portion side of the coil conductor are different from each other.

상기 제 2 용량 결정부는, 상기 코일 도체의 상부를 피복하는 상부 피복 두께가 a, 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께가 b일 때, 0.01≤a/b≤50을 만족하도록 형성할 수 있다.
Wherein the second capacity determining portion is configured such that when the upper coating thickness covering the upper portion of the coil conductor is a and the coating thickness on the inner core portion side covering the inner core portion side of the coil conductor is b, Can be formed.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최상부 피복 두께와 최하부 피복 두께가 상이하도록 형성할 수 있다.
The second capacity determining portion may include an inner core portion-covered portion covering the inner core portion side of the coil conductor, and the uppermost coating thickness and the lowermost coating thickness of the inner core portion-covered portion may be different from each other.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부는 하부로부터 상부로 갈수록 피복 두께가 점진적으로 두꺼워지도록 형성할 수 있다.
The second capacity determining portion may include an inner core portion covering portion covering the inner core portion side of the coil conductor. The covering portion on the inner core portion may be formed so that the coating thickness gradually increases from the lower portion to the upper portion.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최하부 피복 두께가 c, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최상부 피복 두께가 d일 때, 0.01≤c/d≤50을 만족하도록 형성할 수 있다.
Wherein the second capacity determining portion includes an inner core portion-covered portion covering the inner core portion side of the coil conductor, the lowest coating thickness of the inner core portion-covered portion is c, the uppermost coating thickness of the inner core portion- d, 0.01? c / d? 50 can be satisfied.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측의 피복 두께가 10㎛ 내지 200㎛을 만족하도록 형성할 수 있다.
And the second capacity determining section may be formed so that the coating thickness on the inner core side of the coil conductor satisfies 10 mu m to 200 mu m.

본 발명의 다른 일 실시형태는 코일 도체 및 상기 코일 도체의 내측에 존재하는 내부 코어부를 포함하는 자성체 본체; 적어도 일 면에 상기 코일 도체가 배치되고, 중앙에 관통홀을 구비하며, 상기 내부 코어부의 부피를 결정하는 제 1 용량 결정부; 상기 코일 도체를 피복하며, 상기 내부 코어부의 부피를 결정하는 제 2 용량 결정부; 및 상기 자성체 본체의 적어도 일 면에 배치되며, 상기 코일 도체와 접속하는 외부전극;을 포함하며, 상기 제 1 용량 결정부는 상기 관통홀의 면적에 따라 상기 내부 코어부의 부피를 결정하고, 상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측의 피복 두께에 따라 상기 내부 코어부의 부피를 결정하는 칩 전자부품을 제공한다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a magnetic body comprising: a magnetic body body including a coil conductor and an inner core portion inside the coil conductor; A first capacity determining portion having the coil conductor disposed on at least one surface thereof, the through hole at the center thereof, and determining the volume of the internal core portion; A second capacitance determining part covering the coil conductor and determining the volume of the internal core part; And an outer electrode disposed on at least one surface of the magnetic body body and connected to the coil conductor, wherein the first capacity determining section determines the volume of the inner core section according to an area of the through hole, And the determining portion determines the volume of the internal core portion according to the coating thickness on the side of the internal core portion covering the internal core portion side of the coil conductor.

상기 내부 코어부는 자성체로 충진되며, 상기 내부 코어부의 부피에 따라 상기 코일 도체 내부에 충진된 자성체의 부피가 결정될 수 있다.
The inner core portion is filled with a magnetic substance, and the volume of the magnetic substance filled in the coil conductor can be determined according to the volume of the inner core portion.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 상부를 피복하는 상부 피복 두께와 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께가 상이하도록 구비될 수 있다.
The second capacity determining portion may be provided such that the thickness of the upper coating layer covering the upper portion of the coil conductor and the thickness of the coating portion of the inner core portion covering the inner core portion side of the coil conductor are different from each other.

상기 제 2 용량 결정부는, 상기 코일 도체의 상부를 피복하는 상부 피복 두께가 a, 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께가 b일 때, 0.01≤a/b≤50을 만족할 수 있다.Wherein the second capacity determining portion is configured such that when the upper coating thickness covering the upper portion of the coil conductor is a and the coating thickness on the inner core portion side covering the inner core portion side of the coil conductor is b, Can be satisfied.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최상부 피복 두께와 최하부 피복 두께가 상이하도록 구비될 수 있다.
The second capacity determining portion may include an inner core portion-covered portion covering the inner core portion side of the coil conductor, and the uppermost coating thickness and the lowermost coating thickness of the inner core portion-covered portion may be different from each other.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부는 하부로부터 상부로 갈수록 피복 두께가 점진적으로 두꺼워질 수 있다.
The second capacity determining portion includes an inner core portion covering portion covering the inner core portion side of the coil conductor, and the coating thickness on the inner core portion covering portion gradually becomes thicker from the lower portion toward the upper portion.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최하부 피복 두께가 c, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최상부 피복 두께가 d일 때, 0.01≤c/d≤50을 만족할 수 있다.
Wherein the second capacity determining portion includes an inner core portion-covered portion covering the inner core portion side of the coil conductor, the lowest coating thickness of the inner core portion-covered portion is c, the uppermost coating thickness of the inner core portion- d, 0.01? c / d? 50 can be satisfied.

상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측의 피복 두께가 10㎛ 내지 200㎛을 만족하도록 구비될 수 있다.
And the second capacity determining portion may be provided such that the coating thickness of the coil conductor on the inner core portion side satisfies 10 mu m to 200 mu m.

본 발명의 일 실시형태의 칩 전자부품 및 그 제조방법에 따르면, 내부 코어부의 부피를 조절함으로써 동일한 설계의 코일 도체를 가지더라도 목표로 하는 인덕턴스를 미세한 값까지 제어할 수 있다.According to the chip electronic component and the manufacturing method thereof according to the embodiment of the present invention, the target inductance can be controlled to a fine value even if the coil conductor has the same design by adjusting the volume of the internal core portion.

이에 따라, 목표 인덕턴스 구현을 위한 재설계 공수가 감소되고, 생산성이 극대화될 수 있다.
Accordingly, the redesignal effort for implementing the target inductance can be reduced and the productivity can be maximized.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 코일 도체가 나타나게 도시한 개략 사시도이다.
도 2a는 도 1의 I-I'선에 의한 단면도이다.
도 2b는 도 2a에 따른 본 발명의 일 실시형태의 칩 전자부품의 개략 평면도이다.
도 3a는 본 발명의 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 LT 방향의 단면도이다.
도 3b는 도 3a에 따른 본 발명의 일 실시형태의 칩 전자부품의 개략 평면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 LT 방향의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 LT 방향의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 제조방법을 나타내는 공정도이다.1 is a schematic perspective view showing a coil conductor of a chip electronic component according to an embodiment of the present invention.
2A is a sectional view taken along a line I-I 'in FIG.
FIG. 2B is a schematic plan view of a chip electronic component according to an embodiment of the present invention according to FIG. 2A.
3A is a sectional view of the chip electronic component in the LT direction according to an embodiment of the present invention.
3B is a schematic plan view of a chip electronic component according to an embodiment of the present invention according to Fig. 3A.
4 is a sectional view in the LT direction of a chip electronic component according to another embodiment of the present invention.
5 is a sectional view in the LT direction of a chip electronic component according to another embodiment of the present invention.
6 is a process diagram showing a method of manufacturing a chip electronic component according to an embodiment of the present invention.

이하, 구체적인 실시형태 및 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태를 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시형태는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명의 실시형태는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to specific embodiments and the accompanying drawings. However, the embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the embodiments described below. Furthermore, embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shapes and sizes of the elements in the drawings may be exaggerated for clarity of description, and the elements denoted by the same reference numerals in the drawings are the same elements.

그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 동일한 사상의 범위 내의 기능이 동일한 구성요소는 동일한 참조부호를 사용하여 설명한다.It is to be understood that, although the present invention has been described with reference to exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Will be described using the symbols.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements as well, without excluding other elements unless specifically stated otherwise.

칩 전자부품Chip electronic components

이하에서는 본 발명의 일 실시형태에 따른 칩 전자부품을 설명하되, 특히 박막형 인덕터로 설명하지만 이에 제한되는 것은 아니다.
Hereinafter, a chip electronic component according to an embodiment of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 코일 도체가 나타나게 도시한 개략 사시도이다.
1 is a schematic perspective view showing a coil conductor of a chip electronic component according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 칩 전자부품의 일 예로써 전원 공급 회로의 전원 라인에 사용되는 박막형 인덕터(100)가 개시된다. 상기 칩 전자부품은 칩 인덕터 이외에도 칩 비드(chip bead), 칩 필터(chip filter) 등으로 적절하게 응용될 수 있다.
Referring to FIG. 1, a thin film type inductor 100 used in a power supply line of a power supply circuit as an example of a chip electronic component is disclosed. The chip electronic component may be suitably applied to chip inductors, chip beads, chip filters, and the like.

상기 박막형 인덕터(100)는 코일 도체(40)가 매설된 자성체 본체(50) 및 상기 코일 도체(40)와 접속하도록 자성체 본체(50)의 양 단면에 배치된 외부전극(80)을 포함할 수 있다.
The thin film type inductor 100 may include a magnetic body 50 in which a coil conductor 40 is embedded and an external electrode 80 disposed on both end faces of the magnetic body 50 so as to be connected to the coil conductor 40 have.

자성체 본체(50)는 박막형 인덕터(100)의 외관을 이루며, 자기 특성을 나타내는 재료라면 제한되지 않고 예를 들어, 페라이트 또는 금속계 연자성 재료가 충진되어 형성될 수 있다. The magnetic substance body 50 forms the appearance of the thin film type inductor 100, and is not limited as long as it is a material exhibiting magnetic characteristics, and may be formed, for example, filled with ferrite or a metal soft magnetic material.

상기 페라이트로, Mn-Zn계 페라이트, Ni-Zn계 페라이트, Ni-Zn-Cu계 페라이트, Mn-Mg계 페라이트, Ba계 페라이트 또는 Li계 페라이트 등의 공지된 페라이트를 포함할 수 있다.The ferrite may include a known ferrite such as Mn-Zn ferrite, Ni-Zn ferrite, Ni-Zn-Cu ferrite, Mn-Mg ferrite, Ba ferrite or Li ferrite.

상기 금속계 연자성 재료로, Fe, Si, Cr, Al 및 Ni로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상을 포함하는 합금일 수 있고 예를 들어, Fe-Si-B-Cr 계 비정질 금속 입자를 포함할 수 있으며, 이에 제한되는 것은 아니다.  The metal-based soft magnetic material may be an alloy including at least one selected from the group consisting of Fe, Si, Cr, Al and Ni, and may include, for example, Fe-Si- But is not limited thereto.

상기 금속계 연자성 재료의 입자 직경은 0.1㎛ 내지 30㎛일 수 있으며, 에폭시(epoxy) 수지 또는 폴리이미드(polyimide) 등의 고분자 상에 분산된 형태로 포함될 수 있다.
The metal-based soft magnetic material may have a particle diameter of 0.1 to 30 μm and may be dispersed on a polymer such as an epoxy resin or polyimide.

자성체 본체(50)는 육면체 형상일 수 있으며, 본 발명의 실시형태를 명확하게 설명하기 위해 육면체의 방향을 정의하면, 도 1에 표시된 L, W 및 T는 각각 길이 방향, 폭 방향, 두께 방향을 나타낸다.
When the direction of the hexahedron is defined to clearly explain the embodiment of the present invention, L, W, and T shown in FIG. 1 indicate the longitudinal direction, the width direction, and the thickness direction, respectively .

코일 도체(40)의 내부에는 페라이트 또는 금속계 연자성 재료 등의 자성체로 충진된 내부 코어부(55)가 존재할 수 있다. 자성체로 충진된 내부 코어부(55)를 구비함에 따라 인덕턴스(Inductance, Ls)를 향상시킬 수 있다.
Inside the coil conductor 40, an inner core portion 55 filled with a magnetic material such as ferrite or a metal soft magnetic material may be present. The inductance (Ls) can be improved by having the internal core portion 55 filled with the magnetic material.

상기 코일 도체(40)는 제 1 용량 결정부(20)의 적어도 일면에 배치될 수 있다. The coil conductor 40 may be disposed on at least one surface of the first capacitance determining portion 20.

제 1 용량 결정부(20)은 서로 대향하는 제 1 면 및 제 2 면을 포함하며, 상기 제 1 면 상에 코일 형상의 패턴을 가지는 제 1 코일 도체(41)가 배치될 수 있고, 상기 제 2 면 상에 코일 형상의 패턴을 가지는 제 2 코일 도체(42)가 배치될 수 있다.The first capacity determining portion 20 may include a first coil conductor 41 having a coil-shaped pattern on the first surface, and a first coil conductor 41 having a first surface and a second surface opposite to each other, A second coil conductor 42 having a coil-shaped pattern on two sides may be disposed.

상기 제 1 및 제 2 코일 도체(41, 42)는 스파이럴(spiral) 형상으로 패턴이 형성될 수 있으며, 제 1 코일 도체(41)와 제 2 코일 도체(42)는 상기 제 1 용량 결정부(20)에 형성되는 비아 전극(미도시)을 통해 전기적으로 연결될 수 있다.
The first and second coil conductors 41 and 42 may be formed in a spiral pattern and the first coil conductor 41 and the second coil conductor 42 may be formed in the first capacity determining portion (Not shown) formed on the substrate 20.

상기 코일 도체(40) 및 비아 전극은 전기 전도성이 뛰어난 금속을 포함하여 형성될 수 있으며 예를 들어, 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 금(Au), 구리(Cu), 백금(Pt) 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다.
The coil conductor 40 and the via electrode may be formed of a metal having excellent electrical conductivity. For example, silver (Ag), palladium (Pd), aluminum (Al), nickel (Ni) , Gold (Au), copper (Cu), platinum (Pt), an alloy thereof, or the like.

상기 제 1 용량 결정부(20)는 제 1 및 제 2 코일 도체(41, 42)를 지지하고, 절연시킬 수 있는 것이라면 특별히 제한이 없으며, 예를 들어, 폴리프로필렌글리콜(PPG) 기판, 페라이트 기판 또는 금속계 연자성 기판 등으로 형성될 수 있다.
The first capacity determining section 20 is not particularly limited as long as it can support and insulate the first and second coil conductors 41 and 42. For example, a polypropylene glycol (PPG) substrate, a ferrite substrate Or a metal-based soft magnetic substrate or the like.

도 2a는 도 1의 I-I'선에 의한 단면도이며, 도 2b는 도 2a에 따른 본 발명의 일 실시형태의 칩 전자부품의 개략 평면도이고, 도 3a는 본 발명의 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 LT 방향의 단면도이며, 도 3b는 도 3a에 따른 본 발명의 일 실시형태의 칩 전자부품의 개략 평면도이다.
FIG. 2A is a cross-sectional view taken along a line I-I 'in FIG. 1, FIG. 2B is a schematic plan view of a chip electronic component according to an embodiment of the present invention according to FIG. FIG. 3B is a schematic plan view of a chip electronic component according to an embodiment of the present invention shown in FIG. 3A.

도 2a, 도 2b, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 제 1 용량 결정부(20)는 중앙에 관통홀(70)을 구비하며, 상기 관통홀(70)의 면적에 따라 상기 내부 코어부(55)의 부피가 결정될 수 있다. Referring to FIGS. 2A, 2B, 3A and 3B, the first capacity determining portion 20 includes a through hole 70 at the center, and the inner core portion 55 can be determined.

상기 내부 코어부(55)는 자성체로 충진되므로, 내부 코어부(55)의 부피를 조절함에 따라 상기 코일 도체(40) 내부에 충진된 자성체의 부피를 조절할 수 있다.Since the inner core part 55 is filled with the magnetic material, the volume of the magnetic material filled in the coil conductor 40 can be adjusted by controlling the volume of the inner core part 55.

따라서, 제 1 용량 결정부(20)의 관통홀(70) 면적을 조절하여 내부 코어부(55)의 부피를 결정함으로써 동일한 설계의 코일 도체(40)를 가지더라도 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
Therefore, even if the coil conductor 40 having the same design is provided by determining the volume of the inner core portion 55 by adjusting the area of the through hole 70 of the first capacitance determining portion 20, the target inductance Ls Fine control can be performed.

도 2a 및 도 2b의 실시형태에 따른 박막형 인덕터(100)는 관통홀(70)의 면적을 크게 형성함으로써 내부 코어부(55)의 부피를 증가시키고, 이에 따라 보다 높은 인덕턴스(Ls)를 구현할 수 있다.
The thin film type inductor 100 according to the embodiment of FIGS. 2A and 2B can increase the volume of the internal core portion 55 by increasing the area of the through hole 70, thereby realizing a higher inductance Ls have.

한편, 도 3a 및 도 3b의 실시형태에 따른 박막형 인덕터(100)는 관통홀(70)의 면적을 작게 형성함으로써 내부 코어부(55)의 부피를 감소시키고, 이에 따라 보다 낮은 인덕턴스(Ls)를 구현할 수 있다.
The thin film type inductor 100 according to the embodiment of FIGS. 3A and 3B reduces the volume of the inner core portion 55 by reducing the area of the through hole 70, thereby lowering the inductance Ls Can be implemented.

상기 관통홀(70)은 드릴, 레이저, 샌드 블래스트, 펀칭 가공 등의 공정을 통해 용이하게 원하는 면적으로 조절하여 형성할 수 있다. 따라서, 코일 도체 등의 재설계 없이도 용이하게 상기 제 1 용량 결정부(20)의 관통홀(70)의 면적을 조절하여 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The through hole 70 can be easily formed to a desired area through a process such as a drill, a laser, a sandblast, or a punching process. Therefore, the target inductance Ls can be finely controlled by easily adjusting the area of the through hole 70 of the first capacitance determining portion 20 without redesigning the coil conductor or the like.

상기 코일 도체(40)는 제 2 용량 결정부(30)에 의해 피복될 수 있다. The coil conductor 40 may be covered by the second capacitance determining portion 30. [

상기 제 2 용량 결정부(30)는, 코일 도체(40) 및 자성체의 접촉으로 인한 누설 전류 발생을 방지할 수 있는 절연 재료라면 특별히 제한이 없으며, 예를 들어, 에폭시계 수지 등으로 형성될 수 있다.
The second capacity determining portion 30 is not particularly limited as long as it is an insulating material capable of preventing leakage current due to contact between the coil conductor 40 and the magnetic material. For example, the second capacity determining portion 30 may be formed of epoxy resin have.

제 2 용량 결정부(30)는 상기 코일 도체(40)의 내부 코어부 측의 피복 두께에 따라 내부 코어부(55)의 부피를 결정할 수 있다.The second capacity determining section 30 can determine the volume of the internal core section 55 according to the thickness of the coating on the inner core side of the coil conductor 40. [

제 2 용량 결정부(30)의 코일 도체(40)의 내부 코어부 측의 피복 두께를 조절하여 내부 코어부(55)의 부피를 결정함으로써 동일한 설계의 코일 도체(40)를 가지더라도 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The thickness of the inner core portion 55 of the coil conductor 40 of the second capacity determining portion 30 is adjusted so as to determine the volume of the inner core portion 55 so that even if the coil conductor 40 has the same design, The inductance Ls can be finely controlled.

도 4는 본 발명의 다른 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 LT 방향의 단면도이다.
4 is a sectional view in the LT direction of a chip electronic component according to another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 제 2 용량 결정부(30)는 코일 도체(40)의 상부를 피복하는 상부 피복 두께(a)와 코일 도체(40)의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께(b)를 상이하게 형성함으로써 내부 코어부(55)의 부피를 결정할 수 있다.
4, the second capacity determining portion 30 includes an upper covering thickness a covering the upper portion of the coil conductor 40 and an inner covering portion covering the inner core portion side of the coil conductor 40, By forming the thicknesses b differently, the volume of the inner core portion 55 can be determined.

코일 도체(40)의 상부 피복 두께(a)는 코일 도체(40)가 충분히 절연될 수 있을 정도로만 형성하고, 코일 도체(40)의 내부 코어부 측 피복 두께(b)를 목표로 하는 인덕턴스(Ls)에 따라 조절하여 형성할 수 있다. The upper covering thickness a of the coil conductor 40 is formed only to such an extent that the coil conductor 40 can be sufficiently insulated and the inductance Ls ). ≪ / RTI >

도 4와 같이, 코일 도체(40)의 상부 피복 두께(a)에 비하여 코일 도체(40)의 내부 코어부 측 피복 두께(b)를 두껍게 형성할수록 내부 코어부(55)의 부피는 감소하고, 보다 낮은 인덕턴스(Ls)를 구현하게 된다.
4, the volume of the inner core portion 55 decreases as the thickness (b) of the inner conductor of the coil conductor 40 is thicker than the upper coating thickness (a) of the coil conductor 40, Resulting in a lower inductance Ls.

상기 제 2 용량 결정부(30)는 코일 도체(40)의 내부 코어부 측 피복 두께(b)가 10㎛ 내지 200㎛을 만족하도록 구비될 수 있다. 내부 코어부 측 피복 두께(b)를 10㎛ 내지 200㎛의 범위 안에서 조절하여 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The second capacity determining portion 30 may be provided such that the coating thickness b of the coil conductor 40 on the inner core side satisfies 10 탆 to 200 탆. It is possible to finely control the target inductance Ls by controlling the coating thickness b on the inner core side within the range of 10 mu m to 200 mu m.

상기 제 2 용량 결정부(30)는 코일 도체(40)의 상부 피복 두께(a)와 코일 도체(40)의 내부 코어부 측 피복 두께(b)가 0.01≤a/b≤50을 만족하도록 구비될 수 있다. a/b를 0.01 내지 50의 범위 안에서 조절하여 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The second capacity determining section 30 is provided such that the upper coating thickness a of the coil conductor 40 and the coating thickness b of the inner core portion of the coil conductor 40 satisfy 0.01? A / b? . the target inductance Ls can be finely controlled by adjusting a / b within the range of 0.01 to 50. [

도 5는 본 발명의 다른 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 LT 방향의 단면도이다.
5 is a sectional view in the LT direction of a chip electronic component according to another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 제 2 용량 결정부(30)는 코일 도체(40)의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부(35)를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부(35)의 최하부의 피복 두께(c)와 최상부의 피복 두께(d)를 상이하게 형성함으로써 내부 코어부(55)의 부피를 결정할 수 있다.
5, the second capacity determining portion 30 includes an inner core portion side covering portion 35 covering the inner core side of the coil conductor 40, and the inner core portion side covering portion 35 The thickness of the inner core portion 55 can be determined by forming the uppermost coating thickness c and the uppermost coating thickness d differently from each other.

상기 내부 코어부 측 피복부(35)는 하부로부터 상부로 갈수록 피복 두께가 점진적으로 두꺼워지는 형상을 가질 수 있으며, 하부로부터 상부로 갈수록 점진적으로 두꺼워지는 정도를 목표로 하는 인덕턴스(Ls)에 따라 조절하여 형성할 수 있다.
The inner core portion-side covering portion 35 may have a shape in which the thickness gradually increases from the lower portion to the upper portion, and gradually increases in thickness from the lower portion to the upper portion, depending on the target inductance Ls .

상기 제 2 용량 결정부(30)의 내부 코어부 측 피복부(35)는 최하부 피복 두께(c)와 최상부 피복 두께(d)가 0.01≤c/d≤50을 만족하도록 구비될 수 있다. c/d를 0.01 내지 50의 범위 안에서 조절하여 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The inner core portion-side covering portion 35 of the second capacity determining portion 30 may be provided so that the lowest coating thickness c and the uppermost coating thickness d satisfy 0.01? C / d? 50. it is possible to finely control the target inductance Ls by adjusting c / d within the range of 0.01 to 50.

상기 제 1 코일 도체(41)의 일 단부와 제 2 코일 도체(42)의 일 단부는 상기 자성체 본체(50)의 대향하는 양 단면으로 각각 노출될 수 있으며, 자성체 본체(50)의 양 단면으로 노출되는 상기 제 1 및 제 2 코일 도체(41, 42)의 인출부와 각각 접속하도록 자성체 본체(50)의 양 단면에 외부전극(80)이 형성될 수 있다.
One end of the first coil conductor 41 and one end of the second coil conductor 42 may be exposed at opposite end faces of the magnetic body 50, External electrodes 80 may be formed on both end faces of the magnetic body 50 so as to be connected to the exposed portions of the exposed first and second coil conductors 41 and 42, respectively.

상기 외부전극(80)은 자성체 본체(50)의 양 단면에 형성되고, 자성체 본체(50)의 두께 방향의 상면 및 하면, 및/또는 폭 방향의 양 측면으로 연장되어 형성될 수 있다.
The external electrodes 80 may be formed on both end faces of the magnetic body 50 and extend to both upper and lower surfaces and / or both sides in the width direction of the magnetic body 50 in the thickness direction.

상기 외부전극(80)은 전기 전도성이 뛰어난 금속을 포함하여 형성될 수 있으며 예를 들어, 니켈(Ni), 구리(Cu), 주석(Sn) 또는 은(Ag) 등의 단독 또는 이들의 합금 등으로 형성될 수 있다.
The outer electrode 80 may be formed of a metal having excellent electrical conductivity. For example, the outer electrode 80 may be formed of a metal such as Ni, Cu, Sn, or Ag, As shown in FIG.

칩 전자부품의 제조방법Method of manufacturing chip electronic components

도 6은 본 발명의 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 제조방법을 나타내는 공정도이다.
6 is a process diagram showing a method of manufacturing a chip electronic component according to an embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 먼저, 제 1 용량 결정부(20)의 적어도 일면에 코일 도체(40)를 형성하고, 제 1 용량 결정부(20)의 중앙에 관통홀(70)을 형성할 수 있다.
6, a coil conductor 40 may be formed on at least one surface of the first capacitance determining portion 20 and a through hole 70 may be formed at the center of the first capacitance determining portion 20 .

상기 제 1 용량 결정부(20)는 제 1 및 제 2 코일 도체(41, 42)를 지지하고, 절연시킬 수 있는 것이라면 특별히 제한이 없으며, 예를 들어, 폴리프로필렌글리콜(PPG) 기판, 페라이트 기판 또는 금속계 연자성 기판 등으로 형성할 수 있다.
The first capacity determining section 20 is not particularly limited as long as it can support and insulate the first and second coil conductors 41 and 42. For example, a polypropylene glycol (PPG) substrate, a ferrite substrate Or a metal-based soft magnetic substrate.

상기 코일 도체(40)의 형성 방법으로는 예를 들면, 전기 도금법을 들 수 있지만 이에 제한되지는 않으며, 코일 도체(40)는 전기 전도성이 뛰어난 금속을 포함하여 형성할 수 있고 예를 들어, 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 금(Au), 구리(Cu), 백금(Pt) 또는 이들의 합금 등을 사용할 수 있다.
The coil conductor 40 may be formed by, for example, electroplating, but not limited thereto. The coil conductor 40 may be formed of a metal having excellent electrical conductivity. For example, (Ag), palladium (Pd), aluminum (Al), nickel (Ni), titanium (Ti), gold (Au), copper (Cu), platinum (Pt)

제 1 용량 결정부(20)의 일부에는 홀을 형성하고 전도성 물질을 충진하여 비아 전극(미도시)을 형성할 수 있으며, 상기 비아 전극을 통해 제 1 용량 결정부(20)의 제 1 면에 형성한 제 1 코일 도체(41)와 제 1 용량 결정부(20)의 제 2 면에 형성한 제 2 코일 도체(42)가 전기적으로 연결될 수 있다.
A hole may be formed in a portion of the first capacitance determining portion 20 to fill a conductive material to form a via electrode (not shown), and the first capacitance determining portion 20 may be formed on the first surface The formed first coil conductor 41 and the second coil conductor 42 formed on the second surface of the first capacitor portion 20 can be electrically connected.

제 1 용량 결정부(20)의 중앙에 형성하는 관통홀(70)의 면적을 조절하여 상기 코일 도체(40)의 내부에 형성되는 내부 코어부(55)의 부피를 조절할 수 있다. The volume of the inner core portion 55 formed inside the coil conductor 40 can be adjusted by adjusting the area of the through hole 70 formed at the center of the first capacitance determining portion 20. [

내부 코어부(55)는 자성체로 충진되므로, 내부 코어부(55)의 부피를 조절함에 따라 코일 도체(40) 내부에 충진되는 자성체의 부피를 조절할 수 있다.Since the inner core portion 55 is filled with the magnetic material, the volume of the magnetic material filled in the coil conductor 40 can be adjusted by adjusting the volume of the inner core portion 55.

따라서, 제 1 용량 결정부(20)의 관통홀(70) 면적을 조절하여 내부 코어부(55)의 부피를 결정함으로써 동일한 설계의 코일 도체(40)를 가지더라도 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
Therefore, even if the coil conductor 40 having the same design is provided by determining the volume of the inner core portion 55 by adjusting the area of the through hole 70 of the first capacitance determining portion 20, the target inductance Ls Fine control can be performed.

관통홀(70)의 면적을 크게 형성하게 되면, 내부 코어부(55)의 부피가 증가되고, 이에 따라 보다 높은 인덕턴스(Ls)를 구현할 수 있다.If the area of the through hole 70 is increased, the volume of the internal core portion 55 is increased, and thus a higher inductance Ls can be realized.

관통홀(70)의 면적을 작게 형성하게 되면, 내부 코어부(55)의 부피가 감소되고, 이에 따라 보다 낮은 인덕턴스(Ls)를 구현할 수 있다.
If the area of the through hole 70 is made small, the volume of the internal core portion 55 is reduced, and thus a lower inductance Ls can be realized.

상기 관통홀(70)은 드릴, 레이저, 샌드 블래스트, 펀칭 가공 등의 공정을 통해 용이하게 원하는 면적으로 조절하여 형성할 수 있다. 따라서, 코일 도체 등의 재설계 없이도 용이하게 상기 제 1 용량 결정부(20)의 관통홀(70)의 면적을 조절하여 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The through hole 70 can be easily formed to a desired area through a process such as a drill, a laser, a sandblast, or a punching process. Therefore, the target inductance Ls can be finely controlled by easily adjusting the area of the through hole 70 of the first capacitance determining portion 20 without redesigning the coil conductor or the like.

다음으로, 상기 코일 도체(40)를 피복하는 제 2 용량 결정부(30)를 형성할 수 있다.Next, a second capacitance determining portion 30 covering the coil conductor 40 can be formed.

상기 제 2 용량 결정부(30)는 스크린 인쇄법, 포토레지스트(photo resist, PR)의 노광, 현상을 통한 공정, 스프레이(spray) 도포 공정 등 공지의 방법으로 형성할 수 있으며, 이에 제한되지는 않는다.
The second capacity determining unit 30 may be formed by a known method such as a screen printing method, a photoresist (PR) exposure process, a developing process, a spray coating process, and the like. Do not.

상기 제 2 용량 결정부(30)는, 코일 도체(40) 및 자성체의 접촉으로 인한 누설 전류 발생을 방지할 수 있는 절연 재료라면 특별히 제한이 없으며, 예를 들어, 에폭시계 수지 등으로 형성될 수 있다.
The second capacity determining portion 30 is not particularly limited as long as it is an insulating material capable of preventing leakage current due to contact between the coil conductor 40 and the magnetic material. For example, the second capacity determining portion 30 may be formed of epoxy resin have.

제 2 용량 결정부(30)는 상기 코일 도체(40)의 내부 코어부 측의 피복 두께를 조절하여 코일 도체(40)의 내부에 형성되는 내부 코어부(55)의 부피를 조절할 수 있다.The second capacity determining unit 30 may control the volume of the inner core portion 55 formed inside the coil conductor 40 by adjusting the coating thickness of the inner core portion of the coil conductor 40.

제 2 용량 결정부(30)의 내부 코어부 측의 피복 두께를 조절하여 내부 코어부(55)의 부피를 조절함으로써 동일한 설계의 코일 도체(40)를 가지더라도 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
Even if the coil conductor 40 having the same design is provided by adjusting the thickness of the inner core portion 55 by adjusting the covering thickness of the inner core portion side of the second capacitance determining portion 30, the target inductance Ls can be finely .

제 2 용량 결정부(30)는 코일 도체(40)의 상부를 피복하는 상부 피복 두께(a)와 코일 도체(40)의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께(b)를 상이하게 형성함으로써 내부 코어부(55)의 부피를 조절할 수 있다.
The second capacity determining section 30 may be configured such that the upper coating thickness a covering the upper portion of the coil conductor 40 and the covering thickness b of the inner core portion covering the inner core portion side of the coil conductor 40 are different from each other The volume of the inner core portion 55 can be adjusted.

코일 도체(40)의 상부 피복 두께(a)는 코일 도체(40)가 충분히 절연될 수 있을 정도로만 형성하고, 코일 도체(40)의 내부 코어부 측 피복 두께(b)를 목표로 하는 인덕턴스(Ls)에 따라 조절하여 형성할 수 있다. The upper covering thickness a of the coil conductor 40 is formed only to such an extent that the coil conductor 40 can be sufficiently insulated and the inductance Ls ). ≪ / RTI >

코일 도체(40)의 상부 피복 두께(a)에 비하여 코일 도체(40)의 내부 코어부 측 피복 두께(b)를 두껍게 형성할수록 내부 코어부(55)의 부피는 감소하고, 보다 낮은 인덕턴스(Ls)를 구현하게 된다.
The volume of the inner core portion 55 decreases as the thickness of the inner core portion coating thickness b of the coil conductor 40 is thicker than the upper coating thickness a of the coil conductor 40 and the lower inductance Ls ).

상기 제 2 용량 결정부(30)는 코일 도체(40)의 내부 코어부 측 피복 두께(b)가 10㎛ 내지 200㎛을 만족하도록 구비될 수 있다. 내부 코어부 측 피복 두께(b)를 10㎛ 내지 200㎛의 범위 안에서 조절하여 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The second capacity determining portion 30 may be provided such that the coating thickness b of the coil conductor 40 on the inner core side satisfies 10 탆 to 200 탆. It is possible to finely control the target inductance Ls by controlling the coating thickness b on the inner core side within the range of 10 mu m to 200 mu m.

상기 제 2 용량 결정부(30)는 코일 도체(40)의 상부 피복 두께(a)와 코일 도체(40)의 내부 코어부 측 피복 두께(b)가 0.01≤a/b≤50을 만족하도록 구비될 수 있다. a/b를 0.01 내지 50의 범위 안에서 조절하여 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The second capacity determining section 30 is provided such that the upper coating thickness a of the coil conductor 40 and the coating thickness b of the inner core portion of the coil conductor 40 satisfy 0.01? A / b? . the target inductance Ls can be finely controlled by adjusting a / b within the range of 0.01 to 50. [

제 2 용량 결정부(30)는 코일 도체(40)의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부(35)를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부(35)의 최하부의 피복 두께(c)와 최상부의 피복 두께(d)를 상이하게 형성함으로써 내부 코어부(55)의 부피를 조절할 수 있다.
The second capacity determining portion 30 includes an inner core portion covering portion 35 covering the inner core portion side of the coil conductor 40. The coating thickness of the lowermost portion of the inner core portion covering portion 35 the volume of the inner core portion 55 can be adjusted by forming the uppermost coating thickness c and the uppermost coating thickness d differently.

상기 내부 코어부 측 피복부(35)는 하부로부터 상부로 갈수록 피복 두께가 점진적으로 두꺼워지는 형상을 가질 수 있으며, 하부로부터 상부로 갈수록 점진적으로 두꺼워지는 정도를 목표로 하는 인덕턴스(Ls)에 따라 조절하여 형성할 수 있다.
The inner core portion-side covering portion 35 may have a shape in which the thickness gradually increases from the lower portion to the upper portion, and gradually increases in thickness from the lower portion to the upper portion, depending on the target inductance Ls .

상기 제 2 용량 결정부(30)의 내부 코어부 측 피복부(35)는 최하부 피복 두께(c)와 최상부 피복 두께(d)가 0.01≤c/d≤50을 만족하도록 구비될 수 있다. c/d를 0.01 내지 50의 범위 안에서 조절하여 목표로 하는 인덕턴스(Ls)를 미세하게 제어할 수 있다.
The inner core portion-side covering portion 35 of the second capacity determining portion 30 may be provided so that the lowest coating thickness c and the uppermost coating thickness d satisfy 0.01? C / d? 50. it is possible to finely control the target inductance Ls by adjusting c / d within the range of 0.01 to 50.

다음으로, 상기 코일 도체(40)가 형성된 제 1 용량 결정부(20)의 상부 및 하부에 자성체 층을 적층 및 압착하여, 상기 코일 도체(40) 내부에 내부 코어부(55)가 구비된 자성체 본체(50)를 형성할 수 있다.A magnetic material layer is laminated and pressed on the upper and lower portions of the first capacity determining portion 20 where the coil conductor 40 is formed to form a magnetic body having the inner core portion 55 inside the coil conductor 40. [ The main body 50 can be formed.

자성체 층을 적층하고 라미네이트법이나 정수압 프레스법을 통해 압착하여 자성체 본체(50)를 형성할 수 있다.
The magnetic substance body layer 50 is laminated and pressed by a laminating method or a hydrostatic pressing method to form the magnetic substance body 50. [

이때, 상기 제 1 용량 결정부(20)의 관통홀(70)의 면적 및/또는 제 2 용량 결정부(30)의 내부 코어부 측 피복 두께에 따라 형성되는 내부 코어부(55)의 부피가 조절될 수 있으며, 이에 따라 인덕턴스(Ls)를 달리 구현할 수 있다.
At this time, the volume of the inner core portion 55 formed in accordance with the area of the through hole 70 of the first capacity determining portion 20 and / or the covering thickness of the inner core portion of the second capacity determining portion 30 So that the inductance Ls can be implemented differently.

다음으로, 자성체 본체(50)의 적어도 일 면에 상기 코일 도체(40)와 접속되도록 외부전극(80)을 형성할 수 있다.
Next, the external electrode 80 may be formed on at least one surface of the magnetic body 50 so as to be connected to the coil conductor 40.

상기 제 1 코일 도체(41)의 일 단부와 제 2 코일 도체(42)의 일 단부는 상기 자성체 본체(50)의 대향하는 양 단면으로 각각 노출될 수 있으며, 자성체 본체(50)의 양 단면으로 노출되는 상기 제 1 및 제 2 코일 도체(41, 42)의 인출부와 각각 접속하도록 자성체 본체(50)의 양 단면에 외부전극(80)을 형성할 수 있다.
One end of the first coil conductor 41 and one end of the second coil conductor 42 may be exposed at opposite end faces of the magnetic body 50, The external electrodes 80 may be formed on both end faces of the magnetic body 50 so as to be connected to the exposed portions of the exposed first and second coil conductors 41 and 42, respectively.

상기 외부전극(80)은 전기 전도성이 뛰어난 금속을 포함하는 페이스트를 사용하여 형성할 수 있으며, 예를 들어, 니켈(Ni), 구리(Cu), 주석(Sn) 또는 은(Ag) 등의 단독 또는 이들의 합금 등을 포함하는 전도성 페이스트일 수 있다. The outer electrode 80 may be formed using a paste containing a metal having excellent electrical conductivity. For example, the outer electrode 80 may be formed of a single material such as nickel (Ni), copper (Cu), tin (Sn) Or an alloy thereof, or the like.

외부전극(80)을 형성하는 방법은 외부전극(80)의 형상에 따라 프린팅 뿐만 아니라 딥핑(dipping)법 등을 수행하여 형성할 수 있다.
The method of forming the external electrode 80 may be performed by not only printing but also dipping according to the shape of the external electrode 80.

그 외 상술한 본 발명의 일 실시형태에 따른 칩 전자부품의 특징과 동일한 부분에 대해서는 여기서 생략하도록 한다.
In addition, the same parts as those of the above-described chip electronic component according to the embodiment of the present invention will be omitted here.

본 발명은 상술한 실시 형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다.The present invention is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, but is intended to be limited by the appended claims.

따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. something to do.

100 : 박막형 인덕터 50 : 자성체 본체
20 : 제 1 용량 결정부 55 : 내부 코어부
30 : 제 2 용량 결정부 70 : 관통홀
35 : 내부 코어부 측 피복부 80 : 외부전극
40 : 코일 도체
41 : 제 1 코일 도체
42 : 제 2 코일 도체100: Thin-film type inductor 50:
20: first capacity determining section 55: inner core section
30: second capacity determining section 70: through hole
35: inner core portion side covering portion 80: outer electrode
40: coil conductor
41: first coil conductor
42: second coil conductor

Claims (16)

제 1 용량 결정부의 적어도 일면에 코일 도체를 형성하고, 상기 제 1 용량 결정부의 중앙에 관통홀을 형성하는 단계;
상기 코일 도체를 피복하는 제 2 용량 결정부를 형성하는 단계;
상기 코일 도체의 상부 및 하부에 자성체 층을 적층 및 압착하여, 상기 코일 도체 내부에 내부 코어부가 구비된 자성체 본체를 형성하는 단계; 및
상기 자성체 본체의 적어도 일 면에 상기 코일 도체와 접속되도록 외부전극을 형성하는 단계;를 포함하며,
상기 제 1 용량 결정부의 중앙에 형성하는 상기 관통홀의 면적을 조절하여 상기 내부 코어부의 부피를 조절하고, 상기 제 2 용량 결정부의 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측의 피복 두께를 조절하여 상기 내부 코어부의 부피를 조절하고,
상기 내부 코어부는 자성체로 충진되며, 상기 내부 코어부 내에 충진된 상기 자성체가 상기 제1 용량 결정부에 대하여 평행한 단면의 단면적은 상기 제1 용량 결정부로부터 멀어질수록 작아지며, 상기 제2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부는 하부로부터 상부로 갈수록 피복 두께가 점진적으로 두꺼워지도록 하는, 칩 전자부품의 제조방법.
Forming a coil conductor on at least one surface of the first capacitance determining portion and forming a through hole at the center of the first capacitance determining portion;
Forming a second capacitance determining portion covering the coil conductor;
Stacking and pressing a magnetic material layer on upper and lower portions of the coil conductor to form a magnetic material body having an inner core portion inside the coil conductor; And
And forming an external electrode on at least one side of the magnetic body body so as to be connected to the coil conductor,
The thickness of the inner core portion which covers the inner core portion side of the coil conductor of the second capacity determining portion is adjusted by adjusting the area of the through hole formed at the center of the first capacity determining portion, To adjust the volume of the inner core portion,
Wherein the inner core portion is filled with a magnetic substance and the sectional area of a cross section of the magnetic substance filled in the inner core portion parallel to the first capacitance determining portion becomes smaller as the distance from the first capacitance determining portion increases, Wherein the crystal portion includes an inner core portion-side covering portion covering the inner core portion side of the coil conductor, and the covering portion on the inner core portion gradually increases in thickness from the lower portion to the upper portion.
제 1항에 있어서,
상기 내부 코어부의 부피를 조절하여 상기 코일 도체 내부에 충진된 자성체의 부피를 조절하는 칩 전자부품의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein a volume of the magnetic body filled in the coil conductor is adjusted by adjusting a volume of the internal core portion.
제 1항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 상부를 피복하는 상부 피복 두께와 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께가 상이하도록 형성하는 칩 전자부품의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the second capacitance determining portion is formed such that an upper coating thickness covering the upper portion of the coil conductor and a coating thickness on the inner core portion covering the inner core portion side of the coil conductor are different from each other.
제 1항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는, 상기 코일 도체의 상부를 피복하는 상부 피복 두께가 a, 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께가 b일 때, 0.01≤a/b≤50을 만족하도록 형성하는 칩 전자부품의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the second capacity determining portion is configured such that when the upper coating thickness covering the upper portion of the coil conductor is a and the coating thickness on the inner core portion side covering the inner core portion side of the coil conductor is b, Is satisfied. ≪ / RTI >
제 1항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최상부 피복 두께와 최하부 피복 두께가 상이하도록 형성하는 칩 전자부품의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the second capacity determining portion includes an inner core portion-covered portion covering the inner core portion side of the coil conductor, and the second capacitor portion is formed so that the uppermost coating thickness and the lowermost coating thickness of the inner core portion- Way.
삭제delete 제 1항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최하부 피복 두께가 c, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최상부 피복 두께가 d일 때, 0.01≤c/d≤50을 만족하도록 형성하는 칩 전자부품의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the second capacity determining portion includes an inner core portion-covered portion covering the inner core portion side of the coil conductor, the lowest coating thickness of the inner core portion-covered portion is c, the uppermost coating thickness of the inner core portion- d " is satisfied, 0.01 ≤ c / d ≤ 50 is satisfied.
제 1항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측의 피복 두께가 10㎛ 내지 200㎛을 만족하도록 형성하는 칩 전자부품의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the second capacitance determining portion forms the coating thickness of the coil conductor on the inner core portion side to be in a range of 10 mu m to 200 mu m.
코일 도체 및 상기 코일 도체의 내측에 존재하는 내부 코어부를 포함하는 자성체 본체;
적어도 일 면에 상기 코일 도체가 배치되고, 중앙에 관통홀을 구비하며, 상기 내부 코어부의 부피를 결정하는 제 1 용량 결정부;
상기 코일 도체를 피복하며, 상기 내부 코어부의 부피를 결정하는 제 2 용량 결정부; 및
상기 자성체 본체의 적어도 일 면에 배치되며, 상기 코일 도체와 접속하는 외부전극;을 포함하며,
상기 제 1 용량 결정부는 상기 관통홀의 면적에 따라 상기 내부 코어부의 부피를 결정하고, 상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측의 피복 두께에 따라 상기 내부 코어부의 부피를 결정하고,
상기 내부 코어부는 자성체로 충진되며, 상기 내부 코어부 내에 충진된 상기 자성체가 상기 제1 용량 결정부에 대하여 평행한 단면의 단면적은 상기 제1 용량 결정부로부터 멀어질수록 작아지며, 상기 제2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부는 하부로부터 상부로 갈수록 피복 두께가 점진적으로 두꺼워지는, 칩 전자부품.
A magnetic body body including a coil conductor and an inner core portion existing inside the coil conductor;
A first capacity determining portion having the coil conductor disposed on at least one surface thereof, the through hole at the center thereof, and determining the volume of the internal core portion;
A second capacitance determining part covering the coil conductor and determining the volume of the internal core part; And
And an external electrode disposed on at least one surface of the magnetic body body and connected to the coil conductor,
Wherein the first capacity determining portion determines the volume of the internal core portion according to the area of the through hole and the second capacity determining portion determines the volume of the internal core portion of the coil conductor, The volume of the part is determined,
Wherein the inner core portion is filled with a magnetic substance and the sectional area of a cross section of the magnetic substance filled in the inner core portion parallel to the first capacitance determining portion becomes smaller as the distance from the first capacitance determining portion increases, Wherein the crystal portion includes an inner core portion side covering portion covering the inner core side portion of the coil conductor and the covering thickness on the inner core side side covering portion becomes gradually thicker from the lower portion toward the upper portion.
제 9항에 있어서,
상기 내부 코어부의 부피에 따라 상기 코일 도체 내부에 충진된 자성체의 부피가 결정되는 칩 전자부품.
10. The method of claim 9,
Wherein the volume of the magnetic substance filled in the coil conductor is determined according to the volume of the internal core portion.
제 9항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 상부를 피복하는 상부 피복 두께와 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께가 상이하도록 구비된 칩 전자부품.
10. The method of claim 9,
Wherein the second capacitance determining portion is provided such that an upper coating thickness covering the upper portion of the coil conductor and a coating thickness on the inner core portion covering the inner core portion side of the coil conductor are different from each other.
제 9항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는, 상기 코일 도체의 상부를 피복하는 상부 피복 두께가 a, 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복 두께가 b일 때, 0.01≤a/b≤50을 만족하는 칩 전자부품.
10. The method of claim 9,
Wherein the second capacity determining portion is configured such that when the upper coating thickness covering the upper portion of the coil conductor is a and the coating thickness on the inner core portion side covering the inner core portion side of the coil conductor is b, Of the chip electronic component.
제 9항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최상부 피복 두께와 최하부 피복 두께가 상이하도록 구비된 칩 전자부품.
10. The method of claim 9,
Wherein the second capacitance determining portion includes an inner core portion-side covering portion covering the inner core portion side of the coil conductor, and the uppermost coating thickness and the lowermost covering thickness of the inner core portion-side covering portion are different from each other.
삭제delete 제 9항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측을 피복하는 내부 코어부 측 피복부를 포함하며, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최하부 피복 두께가 c, 상기 내부 코어부 측 피복부의 최상부 피복 두께가 d일 때, 0.01≤c/d≤50을 만족하는 칩 전자부품.
10. The method of claim 9,
Wherein the second capacity determining portion includes an inner core portion-covered portion covering the inner core portion side of the coil conductor, the lowest coating thickness of the inner core portion-covered portion is c, the uppermost coating thickness of the inner core portion- d, satisfies 0.01? c / d? 50.
제 9항에 있어서,
상기 제 2 용량 결정부는 상기 코일 도체의 내부 코어부 측의 피복 두께가 10㎛ 내지 200㎛을 만족하도록 구비된 칩 전자부품.
10. The method of claim 9,
Wherein the second capacitance determining portion is provided so that the coating thickness on the inner core side of the coil conductor satisfies 10 mu m to 200 mu m.
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