KR101723931B1 - Surface treated products deposited ceramic covering layer with granule shape - Google Patents

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KR101723931B1
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Abstract

The present invention relates to a surface-treated product with a deposited granule-shaped ceramic covering layer and a ceramic film layer forming method and, more specifically, relates to a surface-treated product with a deposited granule-shaped ceramic covering layer and a ceramic film layer forming method capable of depositing a granule-shaped ceramic film layer on an oxidized or anodically-oxidized film layer. The surface-treated product includes: an aluminum or metal bulk material; a first porous film layer forming a fore or grain boundary by oxidizing or anodically oxidizing the surface of the material; and a second film layer forming a ceramic film layer by being deposited on the surface of the first film layer in a granule shape larger than a fore size.

Description

그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품{Surface treated products deposited ceramic covering layer with granule shape}[0001] The present invention relates to a surface treatment product deposited with a ceramic covering layer,

본 발명은 그래눌 형태의 세라믹 피막층이 증착된 표면처리 제품 및 세라믹 피막층 형성방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 산화처리 또는 양극 산화 처리된 피막층 위에 세라믹 피막층을 그래눌 형태로 증착하는 그래눌 형태의 세라믹 피막층이 증착된 표면처리 제품 및 세라믹 피막층 형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a surface treatment product in which a granular ceramic coating layer is deposited, and a method of forming a ceramic coating layer. More particularly, the present invention relates to a surface treatment product in which a ceramic coating layer is deposited on an oxide layer or an anodized layer, A surface treatment product on which a ceramic coating layer is deposited, and a method of forming a ceramic coating layer.

종래기술은 내식성 강화를 위해 알루미늄 모재나 메탈 모재(100)를 양극 산화처리 또는 산화 처리한다. 이때, 도 3에 도시된 바와 같이 양극 산화처리 또는 산화처리를 한 경우에는 제1 피막층(200)에 포어(210)가 존재하며 도 1과 같이 그래인 바운더리(220)가 형성된다. 따라서 부식성 개스 분위기하에서 클리닝 공정을 진행하는 경우에는 도 4와 같이 그래인 바운더리를 따라 크랙(260)이 발생되거나 포어가 확장, 전이(240,250)되거나 또는 모재 계면(또는 표면)이 손상되며, 또한 포어 내에 플루오린이 잔존하다가 추후 공정 진행시 아웃개싱으로 인한 공정이상을 초래하는 문제점이 있다.In the prior art, the aluminum base material or the metal base material 100 is anodized or oxidized to enhance the corrosion resistance. In this case, when the anodic oxidation process or the oxidation process is performed as shown in FIG. 3, the pores 210 exist in the first coating layer 200 and the grain boundary 220 is formed as shown in FIG. Therefore, when the cleaning process is performed under the corrosive gas atmosphere, cracks 260 are generated along the grain boundaries as shown in FIG. 4, the pores are expanded or transferred (240, 250) or the parent material interface (or surface) is damaged, There is a problem that fluorine is left in the process gas and the process is out of process due to the outgassing process.

또한, 선행기술문헌과 같이 포어를 봉공 처리하는 경우에는 열팽창에 의해 써말 스트레스를 받아 크랙이 발생될 우려가 있다.In addition, as in the prior art document, when a pore is subjected to a sealing process, there is a fear that cracks are generated due to thermal stress due to thermal expansion.

대한민국 공개특허공보 제10-2009-0007081(발명의 명칭 : 전도성 양극산화피막 형성방법)Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2009-0007081 (entitled "Conductive Anodic Oxide Film Forming Method" 대한민국 등록특허공보 제10-1473641(발명의 명칭 : CVD 공정을 통해 알루미늄 등축정 조직을 형성하는 금속 내외장재의 표면처리 방법 및 이를 이용하여 표면 처리된 금속 내외장재)Korean Patent Registration No. 10-1473641 (entitled "METHOD FOR PROCESSING SURFACE OF METAL INTERNAL MATERIAL FOR FORMING ALUMINUM OXIDE TISSUES THROUGH A CVD PROCESS AND METAL INTERNAL & 대한민국등록특허공보 제10-1550439(발명의 명칭 : 반도체 웨이퍼용 세라믹히터 및 그 제조방법)Korean Patent Registration No. 10-1550439 (entitled: Ceramic heater for semiconductor wafer and method for manufacturing the same)

따라서, 본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 세라믹 피막층을 그래눌 형태로 포어의 입구를 커버링하도록 증착함으로써 우수한 내부식성을 제공하고, 아웃개싱으로 인한 공정이상을 초래하지 않도록 하는 발명을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a ceramic coating layer by depositing a ceramic coating layer in a form of a granule so as to cover an inlet of a pore, The present invention has been made in view of the above problems.

그러나, 본 발명의 목적들은 상기에 언급된 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

전술한 본 발명의 목적은, 알루미늄 또는 메탈 계열의 벌크 모재, 모재 표면을 산화 또는 양극산화 처리함으로써 포어 또는 그래인 바운더리가 형성되는 다공성 제1 피막층, 및 제1 피막층 표면에 포어 사이즈보다 크게 그래눌 형태로 증착되어 세라믹 피막층이 형성되는 제2 피막층을 포함하는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 피막층이 증착된 표면처리 제품을 제공함으로써 달성될 수 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide an aluminum or metal-based bulk base material, a porous first coating layer on which a pore or graining boundary is formed by oxidizing or anodizing the surface of the base material, and a porous first coating layer on the surface of the first coating layer, And a second coating layer formed by depositing a ceramic coating layer on the surface of the ceramic coating layer to form a ceramic coating layer.

또한, 모재, 모재 표면에 용사코팅 처리 또는 산화 처리를 실시함으로써 포어 또는 그래인 바운더리가 형성되는 다공성 피막층, 및 포어 또는 그래인 바운더리가 형성된 영역에 포어 또는 그래인 바운더리를 커버링하도록 증착되는 세라믹 커버링층을 포함하며, 커버링층에 증착되는 세라믹 소스의 입자는 포어 또는 그래인 바운더리가 형성된 영역을 커버링하도록 포어 또는 그래인 바운더리의 직경보다 크게 증착되고, 그리고 그래눌 형태로 증착되어 포어를 봉공 처리하는 것이 아닌 포어의 입구만 막아 커버링함으로써 피막층을 보호하도록 한다.
또한, 제2 피막층은, 증착된 세라믹 입자가 포어 사이즈보다 더 크게 형성되어 증착됨으로써 제1 피막층의 포어 또는 그래인 바운더리를 커버링한다.In addition, a ceramic coating layer, which is deposited to cover the pore or grainy boundary in the region where the pore or grainy boundary is formed, and the porous coating layer in which the pore or grainy boundary is formed by performing spray coating or oxidation treatment on the base material, Wherein the particles of the ceramic source deposited on the covering layer are deposited larger than the diameter of the pore or grain boundary to cover the area where the pore or grained boundary is formed and then deposited in a granular form to seal the pore Protect the coating layer by covering only the entrance of the non-pores.
Further, the second coating layer covers the pore or grainy boundary of the first coating layer by depositing and depositing the deposited ceramic particles larger than the pore size.

또한, 제2 피막층이 증착되는 제1 피막층의 표면 조도는, Ra 0.3㎛ ~ 10㎛이다.The surface roughness of the first coating layer on which the second coating layer is deposited is Ra 0.3 to 10 탆.

또한, 그래눌 형태의 세라믹 입자는, 알루미나(Al2O3), 이트리아(Y2O3), 및 ZrO2 중 어느 하나의 소스를 전자빔을 이용하여 증발시켜 제1 피막층 표면에 증착시킴으로써 형성된다.In addition, the granular ceramic particles are formed by vaporizing a source of any one of alumina (Al 2 O 3), yttria (Y 2 O 3), and ZrO 2 using an electron beam to deposit on the surface of the first coating layer.

또한, 진공도 10-6 이하, 피코팅체를 100 ~ 300도씨 예열, 피코팅체를 10 ~ 100rpm/min으로 회전시키는 조건하에서 전자빔을 이용하여 소스를 가열함으로써 제1 피막층 표면에 세라믹 피막층이 진공 증착된다.Further, the source is heated using an electron beam under the condition that the degree of vacuum is 10-6 or less, the coated body is preheated to 100 to 300 degrees and the coated body is rotated at 10 to 100 rpm / min, thereby forming a ceramic coating layer on the surface of the first coating layer Lt; / RTI >

또한, 소스의 입자 크기는, 10㎚ ~ 100㎛ 사이의 입자 크기를 가진다.In addition, the particle size of the source has a particle size between 10 nm and 100 탆.

또한, 포어 지름은, 1 ~ 100㎚ 사이의 지름을 갖는다.The pore diameter has a diameter of between 1 and 100 nm.

또한, 모재가 메탈 모재인 경우에는 제1 피막층은 산화 피막층으로 이루어지고, 모재가 알루미늄 모재인 경우에는 제1 피막층은 양극산화 피막층으로 이루어진다.When the base material is a metal base material, the first coating layer is an anodized layer, and when the base material is an aluminum base material, the first coating layer is an anodized coating layer.

한편, 본 발명의 목적은 피코팅체를 진공 챔버내에 장착하는 단계, 소스를 차지하는 단계, 피코팅체를 예열하는 단계, 피코팅체를 회전시키는 단계. 전자빔을 동작시키는 단계, 및 전자빔에 의해 소스가 가열되어 피코팅체의 일면에 그래눌 형태의 세라믹 피막층이 증착 형성되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 피막층 형성 방법을 제공함으로써 달성될 수 있다.On the other hand, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a semiconductor device, which comprises the steps of mounting a coating material in a vacuum chamber, occupying a source, preheating a coating material, A step of operating the electron beam, and a step of heating the source by the electron beam to deposit a granular ceramic coating layer on one side of the coated body, thereby providing a method of forming a granular ceramic coating layer .

또한, 소스는, 알루미나(Al2O3), 이트리아(Y2O3), 및 ZrO2 중 어느 하나로서, 전자빔에 의해 가열 증발되어 제1 피막층 표면에 증착된다.Further, the source is heated and evaporated by an electron beam as one of alumina (Al 2 O 3), yttria (Y 2 O 3), and ZrO 2 and deposited on the surface of the first coating layer.

또한, 진공도 10-6 이하, 피코팅체를 100 ~ 300도씨 예열, 피코팅체를 10 ~ 100rpm/min으로 회전시키는 조건하에서 전자빔을 이용하여 소스를 가열함으로써 제1 피막층 표면에 세라믹 피막층이 진공 증착된다.Further, the source is heated using an electron beam under the condition that the degree of vacuum is 10-6 or less, the coated body is preheated to 100 to 300 degrees and the coated body is rotated at 10 to 100 rpm / min, thereby forming a ceramic coating layer on the surface of the first coating layer Lt; / RTI >

또한, 소스의 입자 크기는, 10㎚ ~ 100㎛ 사이의 입자 크기를 가진다.In addition, the particle size of the source has a particle size between 10 nm and 100 탆.

전술한 바와 같은 본 발명에 의하면 세라믹 피막층에 의해 크랙이 발생하지 않고, 모재의 계면이 손상되지 않음으로써 제품의 사용주기를 늘릴 수 있는 효과가 있다.According to the present invention as described above, cracks are not generated by the ceramic coating layer and the interface of the base material is not damaged, so that the use period of the product can be increased.

또한, 본 발명에 의하면 내부식성이 종래에 비해 월등한 효과가 있다.Further, according to the present invention, corrosion resistance is superior to conventional ones.

또한, 본 발명에 의하면 플루오린이 포어에 잔존하지 않아 아웃개싱으로 인한 공정이상을 초래하지 않는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, since fluorine does not remain in the pores, there is an effect that the process abnormality due to outgassing does not occur.

또한, 본 발명에 의하면 포어의 입구만 막음으로써 열에 의한 피코팅체의 수축팽창에 따른 써멀 스트레스(thermal stress)에 강한 효과가 있다.Further, according to the present invention, by blocking only the inlet of the pore, there is a strong effect on the thermal stress due to expansion and contraction of the coating material due to heat.

그리고, 본 발명에 의하면 클리닝시 발생되는 부식성 개스가 세라믹 피막층에 결합되지 않아 반응물이 생성되지 않는 효과가 있다.According to the present invention, the corrosive gas generated during cleaning is not bonded to the ceramic coating layer, so that no reactant is produced.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 일실시예를 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석 되어서는 아니 된다.
도 1은 종래의 모재 및 제1 피막층을 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따라 제2 피막층(세라믹 피막층)이 포어의 입구만 막도록 증착됨으로써 플루오린 개스가 침투하지 못하는 것을 도시한 도면이고,
도 3 및 도 4는 종래의 모재 및 제1 피막층에 의해서는 플루오린 개스가 침투되어 크랙 및 포어의 확장, 전이 및 반응물이 형성되는 것을 도시한 도면이고,
도 5는 본 발명의 일실시예에 따라 전자빔 증착 장치의 구성을 개략적으로 나타낸 도면이고,
도 6은 제1 피막층의 표면을 SEM으로 관찰한 도면이고,
도 7은 제2 피막층의 표면을 SEM으로 관찰한 도면이고,
도 8은 제1 피막층만이 존재하는 경우와 제2 피막층이 존재하는 경우의 원소 분석 결과를 나타낸 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The accompanying drawings, which are incorporated in and constitute a part of the specification, illustrate preferred embodiments of the invention and, together with the description, serve to further the understanding of the technical idea of the invention, It should not be construed as limited.
1 is a view showing a conventional base material and a first coating layer,
FIG. 2 is a view showing that the fluorine gas can not penetrate by depositing the second coating layer (ceramic coating layer) only to cover the inlet of the pore according to an embodiment of the present invention,
FIGS. 3 and 4 are views showing that fluorine gas is penetrated by the conventional base material and the first coating layer to expand cracks and pores, form transition and reactants,
FIG. 5 is a view schematically showing a configuration of an electron beam vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention,
6 is a view of the surface of the first coating layer observed by SEM,
7 is a view of the surface of the second coating layer observed by SEM,
8 is a diagram showing the result of elemental analysis in the case where only the first coating layer exists and the case where the second coating layer is present.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예에 대해서 설명한다. 또한, 이하에 설명하는 일실시예는 특허청구범위에 기재된 본 발명의 내용을 부당하게 한정하지 않으며, 본 실시 형태에서 설명되는 구성 전체가 본 발명의 해결 수단으로서 필수적이라고는 할 수 없다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the embodiment described below does not unduly limit the content of the present invention described in the claims, and the entire structure described in this embodiment is not necessarily essential as the solution means of the present invention.

본 발명의 일실시예에 따른 그래눌 형태의 세라믹 피막층이 증착된 표면처리 제품은 메탈(또는 금속) 모재 또는 알루미늄 모재 표면에 1차적으로 산화 또는 양극산화(또는 애노다이징)된 제1 피막층(200)을 형성하고, 제1 피막층(200) 표면에 다시 세라믹 입자를 그래눌 형태로 증착시켜 산화 또는 양극산화에 의해 제1 피막층(200)에 형성된 포어(pore, 210)를 커버링하고, 더욱 바람직하게는 그래인 바운더리(grain boundary, 220)를 커버하여 보호함으로써 플루오린이 포함된 부식성 개스(일예로서 NF3) 분위기하에서 제1 피막층(200)을 보호하도록 한다. 이하에서는 본 발명의 일실시예에 따른 그래눌 형태의 세라믹 피막층이 증착된 표면처리 제품을 첨부된 도면을 참조하여 자세히 설명하기로 한다.A surface treatment product on which a conventional coating layer of a conventional type according to an embodiment of the present invention is deposited includes a first coating layer which is primarily oxidized or anodized (or anodized) on a metal (or metal) 200 are formed on the first coating layer 200 and the ceramic particles are again deposited on the surface of the first coating layer 200 in the form of a coating to cover the pores 210 formed in the first coating layer 200 by oxidation or anodization, Shields the first coating layer 200 in a corrosive gas containing fluorine (e.g., NF 3 ) atmosphere by covering and protecting the grain boundary 220. Hereinafter, a surface treatment product in which a granular ceramic coating layer is deposited according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 일실시예에 따른 모재(100)는 기 설정된 두께를 가지는 것으로서 메탈, 알루미늄 기재, 또는 NI합금으로 이루어지며, 이러한 모재(100)는 벌크 타입으로 가공된다. 메탈 또는 알루미늄 모재(100)를 이용한 표면처리 제품은 일예로서 웨이퍼 또는 평판 유리 기판을 가열하는 메탈 히터 제품이 될 수 있다.The base material 100 according to an embodiment of the present invention has a predetermined thickness and is made of a metal, an aluminum base material, or an NI alloy, and the base material 100 is processed into a bulk type. The surface treatment product using the metal or aluminum base material 100 may be, for example, a metal heater product for heating a wafer or flat glass substrate.

메탈 모재 또는 알루미늄 모재 표면에 부식성 개스로 인한 내식성 강화를 위해 일반적으로 산화처리 또는 양극 산화처리(애노다이징, Anodizing)를 실시한다. 메탈 모재인 경우 산화처리(Oxidation)를 실시하고, 알루미늄 모재인 경우 양극 산화처리를 실시한다. The surface of the metal base material or aluminum base material is generally subjected to an oxidation treatment or anodizing treatment to enhance the corrosion resistance due to the corrosive gas. Oxidation is performed for a metal base material, and anodic oxidation treatment is performed for an aluminum base material.

모재 표면에 세라믹 용사코팅 처리, 산화처리 또는 양극 산화처리를 실시한 경우 도 1에 도시된 바와 같이 모재 표면에 제1 피막층(200)이 형성된다. 용사코팅 처리, 산화처리 또는 양극 산화 처리된 제1 피막층(200)은 일정 깊이를 가지는 포어(210) 및 그래인 바운더리(220)를 가진다. 이때, 제1 피막층(200)은 Al2O3, Y2O3, ZrO2, AlN, CeO2, 및 CyO 중 적어도 어느 하나의 세라믹 소재를 사용하여 용사코팅함으로써 세라믹 용사막으로 이루어진다. 다만, 세라믹 용사코팅시 사용되는 세라믹 소재는 필요에 따라 또는 사용환경에 따라 다른 소재가 채택될 수 있다. 또한, 본 발명의 일실시예에서의 용사코팅 장치 및 용사코팅 방법은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위에서 종래기술이 참조될 수 있다.When the surface of the base material is subjected to the ceramic spray coating treatment, the oxidation treatment, or the anodic oxidation treatment, the first coating layer 200 is formed on the surface of the base material as shown in FIG. The first coat layer 200 having a spray coating process, an oxidation process, or an anodized process has a pore 210 and a grain boundary 220 having a predetermined depth. At this time, the first coating layer 200 is formed of a ceramic thermal sprayed coating by spray coating using at least one ceramic material of Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , ZrO 2 , AlN, CeO 2 , and CyO. However, the ceramic material used in the ceramic spray coating may be selected depending on requirements or depending on the use environment. In addition, the spray coating apparatus and the spray coating method in one embodiment of the present invention can be referred to the prior art without departing from the technical idea of the present invention.

또한, 제1 피막층(200)은 더 세분화하여 필요에 따라 산화처리 또는 양극산화처리 후 피막층을 형성하고, 이 피막층 표면에 용사코팅 층을 더 형성하도록 할 수 있다.Further, the first coating layer 200 may be further subdivided, and if necessary, a coating layer may be formed by an oxidation treatment or an anodization treatment, and a spray coating layer may further be formed on the surface of the coating layer.

모재의 표면은 필요에 따라 표면 전체 또는 일부가 용사코팅 처리, 산화처리 또는 양극 산화처될 수 있다(이하에서는 설명의 편의를 위해 필요에 따라 산화처리 및 양극 산화처리를 통칭하여 산화처리라 하고 산화처리에 의해 본 발명의 일실시예를 설명하기로 한다). 또한, 모재의 표면에 다른 막질(또는 박막)을 대략 0.5nm ~ 100 ㎛의 두께로 형성한 후 박막층 표면에 산화처리를 할 수 있다. 산화 처리된 제1 피막층의 두께는 필요에 따라 적절하게 조절될 수 있으며, 박막 및 제 1 피막층의 두께는 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 채택될 수 있다. 일반적으로 양극 산화처리란 알루미늄 등의 금속 제품을 양극으로 하여 일정한 전해액에서 적정 조건으로 분극시켜 산화 알루미늄(Al2O3) 등의 피막을 형성하는 공정이다. 양극 산화 처리된 피막은 내식성이 크고, 다공층이 형성된다. 여기서 양극 산화는 통상의 황산, 수산, 크롬산 등 또는 이들의 혼합산 중 어느 것이나 사용할 수 있다.The surface of the base material may be subjected to a spray coating treatment, an oxidation treatment or an anodic oxidation treatment (if necessary, oxidation treatment and anodization treatment are hereinafter referred to as oxidation treatment and oxidation treatment One embodiment of the present invention will be described by processing). Further, another film (or thin film) may be formed on the surface of the base material to a thickness of about 0.5 nm to 100 탆, and then the surface of the thin film layer may be oxidized. The thickness of the oxidized first coating layer can be appropriately adjusted as necessary, and the thickness of the thin film and the first coating layer can be adopted within a range not departing from the technical idea of the present invention. In general, the anodizing treatment is a process of forming a film of aluminum oxide (Al 2 O 3 ) or the like by polarizing a metal product such as aluminum as an anode under a suitable condition in a certain electrolytic solution. The anodized film has high corrosion resistance and a porous layer is formed. As the anodic oxidation, any one of sulfuric acid, hydrochloric acid, chromic acid, and mixed acid thereof may be used.

포어(pore, 210) 및 그래인 바운더리(grain boundary, 220)는 도 1에 도시된 바와 같이 정형화된 패턴으로 나타날 수도 있고, 상황에 따라 비정형화된 패턴으로 나타날 수도 있다. 포어 사이즈 및 그래인 바운더리의 형태는 상황에 따라 도 1과 다르게 나타날 수 있다. 히터를 포함한 본 발명의 일예로서 설명되는 표면처리 제품은 플루오린을 포함한 부식성 개스 분위기하에 놓이며, 이에 따라 표면에 침식이나 그래인 바운드리를 따라 크랙이 발생하게 된다. 또한, 포어에 따라서 모재 표면에 산화처리 또는 양극 산화처리를 함으로써 표면을 보호하게 된다. 이때, 산화처리 또는 양극 산화처리를 실시하는 경우에는 도 1과 같이 포어(210) 및 그래인 바운더리(220)가 형성된다. 이러한 포어(210) 및 그래인 바운더리(220)는 상술한 바와 같이 표면 침식이나 크랙을 유발할 뿐만 아니라, 포어에 플루오린 계열의 부식성 개스를 함유하고 있다가 공정시 아웃 개싱(out gasing)을 유발하여 공정 이상을 일으키는 문제점이 있다. 따라서, 산화처리 또는 양극 산화 처리된 제품의 표면을 부식성 개스로부터 보호하고, 아웃 개싱을 유발하지 않는 본 발명의 일실시예에 따른 제2 피막층(300)이 필요하다. 다만, 제1 피막층의 포어 및 그래인 바운더리에 의한 상기한 문제점을 해결하기 위해 또 다른 피막층을 형성하는 경우에는 제1 피막층의 문제점과 동일한 문제가 발생되기 때문에 본 발명의 일실시예에 따른 제2 피막층(300)은 통상의 피막층과는 다른 피막층으로 이루어진다. 이하에서 자세히 설명하기로 한다.The pores 210 and the grain boundaries 220 may appear as a regular pattern as shown in FIG. 1, or as an irregular pattern depending on the situation. The shape of the pore size and the grain boundary may be different from Fig. 1 depending on the situation. The surface treatment product described as an example of the present invention including a heater is placed under a corrosive gas atmosphere containing fluorine, thereby causing cracks on the surface along with erosion or grainy boundaries. In addition, the surface of the base material is protected by an oxidation treatment or an anodic oxidation treatment along the pores. At this time, when the oxidation process or the anodization process is performed, a pore 210 and a grainy boundary 220 are formed as shown in FIG. These pores 210 and grain boundaries 220 cause surface erosion and cracking as well as contain the corrosive gas of the fluorine series in the pores and cause out gasing in the process There is a problem that causes process abnormalities. Accordingly, there is a need for a second coating layer 300 according to an embodiment of the present invention that protects the surface of an oxidized or anodized product from corrosive gases and does not cause outgassing. However, when another coating layer is formed to solve the above-described problems caused by the pore and grainy boundary of the first coating layer, the same problems as those of the first coating layer occur. Therefore, The coating layer (300) is composed of a coating layer different from the usual coating layer. The details will be described below.

본 발명의 일실시예에 따른 제2 피막층(300)은 제1 피막층(200)의 포어(210) 사이즈보다 더 큰 사이즈를 가지도록 세라믹 소스가 가열 증착된다. 따라서 제2 피막층(300)은 종래 선행기술과 같이 제1 피막층(210)의 포어를 봉공하는 것이 아니라 도 2에 도시된 바와 같이 포어를 커버링하게 된다. 또한, 바람직하게는 그래인 바운더리(220)를 커버링하게 된다. 이때, 세라믹 소스가 제1 피막층(200) 표면에 포어(210) 또는 그래인 바운더리(220)를 커버링 하며 가열 증착될 때 포어 사이즈보다 크게 그래눌(granule) 형태로 증착됨으로써 제2 피막층(세라믹 피막층, 300)이 형성된다.A ceramic source is heated and deposited such that the second coating layer 300 according to an embodiment of the present invention has a size larger than the size of the pores 210 of the first coating layer 200. Therefore, the second coating layer 300 does not seal the pores of the first coating layer 210 as in the prior art but covers the pores as shown in FIG. Also, it preferably covers the grainy boundary 220. At this time, when the ceramic source covers the pores 210 or the graining boundary 220 on the surface of the first coating layer 200 and is deposited in a granule form larger than the pore size when heated, the second coating layer And 300 are formed.

여기서, 제1 피막층(200)의 표면 조도는 Ra 0.3㎛ ~ 10㎛인 것이 바람직하며, 제1 피막층(200)의 두께는 필요에 따라 다양하게 적용될 수 있다. 제1 피막층(200)에 증착되는 세라믹 소스는 알루미나(Al2O3), 이트리아(Y2O3), ZrO2, AlN, 및 CeO2 중 어느 하나의 세라믹 소스를 사용하며, 세라믹 소스를 전자빔을 이용하여 증발시켜 제1 피막층 표면에 증착시킨다. 이때, 세라믹 소스의 종류 및 제1 피막층(200)의 표면 조도는 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위에서 다양하게 채택될 수 있다. Here, the surface roughness of the first coating layer 200 is preferably Ra 0.3 탆 to 10 탆, and the thickness of the first coating layer 200 can be variously applied as needed. The ceramic source to be deposited on the first coating layer 200 is a ceramic source of any one of alumina (Al 2 O 3 ), yttria (Y 2 O 3 ), ZrO 2 , AlN, and CeO 2 , Evaporated using an electron beam, and deposited on the surface of the first coating layer. At this time, the type of the ceramic source and the surface roughness of the first coating layer 200 can be variously adopted without departing from the technical idea of the present invention.

일반적으로 제1 피막층의 포어(210) 지름은 1 ~ 100㎚ 사이의 지름을 갖는다. 따라서 제1 피막층(200) 표면에 증착되는 세라믹 입자의 크기는 상기한 포어의 지름보다 큰 것이 바람직하다, 만약에 증착되는 세라믹 입자가 포어의 지름보다 작다면 세라믹 입자가 포어를 메울(봉공) 것이기 때문에 봉공 처리된 피막층은 또 하나의 제1 피막층과 동일한 포어 및 그래인 바운더리를 가질 것이고, 이에 따라 제1 피막층과 동일한 문제가 발생될 것이다. 한편, 세라믹 소스의 입자 크기는 10㎚ ~ 100㎛ 사이의 입자 크기를 가지는 것이 바람직하다. 다만, 세라믹 소스의 입자 크기는 제1 피막층(200)의 포어를 봉공 처리하는 것이 아닌 커버링할 수 있는 입자 크기를 가진다면 모두 본 발명의 기술적 사상의 범위내에 있는 것이며, 따라서 입자 크기를 필요에 따라 적절하게 채택할 수 있다.Generally, the diameter of the pores 210 of the first coating layer has a diameter of between 1 and 100 nm. Therefore, it is preferable that the size of the ceramic particles deposited on the surface of the first coating layer 200 is larger than the diameter of the pores. If the ceramic particles to be deposited are smaller than the diameter of the pores, the ceramic particles will fill the pores Therefore, the coating layer that has been subjected to the sealing treatment will have the same pore and grain boundary as another one of the first coating layers, and accordingly, the same problems as those of the first coating layer will occur. On the other hand, the particle size of the ceramic source preferably has a particle size of between 10 nm and 100 μm. However, the particle size of the ceramic source is not within the scope of the technical idea of the present invention, as long as it has a coverable particle size, not by punching the pores of the first coat layer 200, And can be appropriately adopted.

상기한 모재가 메탈 모재인 경우에는 제1 피막층(200)은 산화 피막층으로 이루어지고, 상기한 모재가 알루미늄 모재인 경우에는 제1 피막층(200)은 양극산화 피막층으로 이루어진다. 또한, 그래눌 형태로 증착되어 포어를 커버링하는 제2 피막층(300)은 산화처리 또는 양극 산화 처리된 제품 표면에 포어의 구멍을 막도록 표면처리가 필요한 제품 모두에 적용될 수 있다.When the base material is a metal base material, the first coating layer 200 is an anodized layer, and when the base material is an aluminum base material, the first coating layer 200 is an anodized coating layer. In addition, the second coating layer 300, which is deposited in the form of a plain coat and covers the pores, can be applied to all products requiring surface treatment to cover the pores of the pores on the oxidized or anodized product surface.

종래기술인 도 3과 같이 제1 피막층(200)만 형성된 경우에는 포어(210) 사이로 플루오린 계열의 부식성 개스가 침투하여 도 4와 같이 모재 표면과 플루오린이 반응하는 반응층(230)이 형성되거나, 포어가 확장 및 전이되거나(240,250), 크랙(260)이 발생되는 문제점이 있다. 따라서 본 발명의 일실시예에 따른 도 2와 같이 제2 피막층(300)을 형성함으로써 플루오린(Fluorine) 계열의 부식성 개스가 제2 피막층(300)에 의해 알루미늄 또는 메탈 모재의 계면이나 포어에 침투하지 못하게 하여 아웃개싱 제거 효과 및 계면 손상이 발생하지 않도록 하고, 제1 피막층(200)의 크랙 등 손상을 최소화시킨다. 또한, 포어를 완전히 막는 종래기술에 비해 포어의 입구만 막음으로써 열에 의한 히터의 수축팽창에 따른 써멀 스트레스에 강하도록 할 수 있다. 3, when the first coating layer 200 is formed, the fluorine-based corrosive gas permeates through the pores 210 to form a reaction layer 230 in which fluorine reacts with the surface of the base material as shown in FIG. 4, There is a problem that the pores are expanded and transferred (240, 250) and cracks 260 are generated. Accordingly, by forming the second coating layer 300 as shown in FIG. 2 according to an embodiment of the present invention, the corrosive gas of the fluorine series is penetrated into the interface or pores of the aluminum or metal base material by the second coating layer 300 Thereby preventing the outgassing removal effect and interface damage from occurring, and minimizing damage such as cracks in the first coating layer 200. [ In addition, compared with the prior art in which the pores are completely blocked, only the inlet of the pore is blocked, so that the thermal stress due to thermal expansion and contraction of the heater can be made strong.

<전자빔 증착 장치의 구성>&Lt; Configuration of Electron Beam Deposition Apparatus >

제2 피막층(300)을 형성하기 위해 도 5에 도시된 바와 같이 전자빔 증착 장치(400)를 이용하여 세라믹 소스를 가열 증발시켜 제1 피막층(200) 표면에 그래눌 형태로 증착한다. 도 5에 도시된 바와 같이 전자빔 증착 장치(400)는 대략적으로 진공챔버(410), 도가니(420), 필라멘트(430), 쿨링루프(450), 및 펌프(460)로 이루어질 수 있다. 진공챔버(410)는 후술되는 범위내로 고진공 상태가 유지되며, 진공챔버(410)내에 도가니(420), 필라멘트(430), 피코팅체(440), 쿨링루프(450)가 위치하며, 펌프(460)는 고진공을 유지하도록 펌핑한다.5, the ceramic source is heated and evaporated using the electron beam evaporator 400 to form a second coating layer 300 on the surface of the first coating layer 200 in the form of a film. As shown in FIG. 5, the electron beam deposition apparatus 400 may roughly comprise a vacuum chamber 410, a crucible 420, a filament 430, a cooling loop 450, and a pump 460. The vacuum chamber 410 is kept in a high vacuum state within a range described below and the crucible 420, the filament 430, the coating body 440 and the cooling loop 450 are located in the vacuum chamber 410, 460) are pumped to maintain a high vacuum.

도가니(420)에는 세라믹 소스가 차지되며, 텅스텐 필라멘트(430)의 가열에 의해 열전자가 발생되고, 자기장이 형성되어 자기장에 의해 전자가 270도 회전하고, 도가니(420)의 세라믹 소스로 유도되어 충돌함으로써 세라믹 소스를 가열을 시킨다. 세라믹 소스가 열전자에 의해 가열됨으로써 증발되어 피코팅체(440)에 증착된다.A ceramic source is charged in the crucible 420. A hot electron is generated by the heating of the tungsten filament 430 and a magnetic field is generated so that the electrons are rotated 270 degrees by the magnetic field and are guided to the ceramic source of the crucible 420, Thereby heating the ceramic source. The ceramic source is evaporated by being heated by the hot electrons and deposited on the coating material 440.

필라멘트(430)는 도가니(420)의 우측 측면 하단에 배치되며, 피코팅체(440)는 도가니(420)의 상단에 일정 거리 이격되어 배치되며, 후술하는 회전속도로 피코팅체가 증착 공정 중에 회전함으로써 피대상체 표면에 골고루 증착되도록 한다. 쿨링루프(450)는 피코팅체(440) 상단에 마련되어 전체적으로 열을 쿨링하도록 한다.The filament 430 is disposed at the lower side of the right side of the crucible 420 and the coated body 440 is disposed at a predetermined distance from the upper end of the crucible 420. The coated body is rotated Thereby uniformly depositing on the surface of the object. The cooling loop 450 is provided on the upper side of the coating body 440 so as to cool the heat as a whole.

도가니(420)의 상단은 세라믹 소스가 증발되어 피코팅체(440)로 증착되도록 개방되어 있으며, 도가니(420)의 상단을 제외한 나머지 상단 영역은 커버부재(470)에 의해 커버링되어 증발된 세라믹 소스가 피코팅체(440)로만 증착되도록 한다.The upper end of the crucible 420 is opened to evaporate the ceramic source to be deposited on the coating material 440 and the upper end region of the crucible 420 except for the upper end of the crucible 420 is covered with the cover member 470, So that only the coating material 440 is deposited.

<세라믹 <Ceramic 피막층Coating layer 형성 방법> Formation method>

세라믹 피막층(제2 피막층,300)을 피코팅체(일예로서 메탈 히터)에 코팅하는 방법은 고순도 알루미나를 전자빔을 이용하여 가열 증발시킴으로써 피코팅체의 제1 피막층(200)에 증착된다. 도 5를 참조하여 설명하면, 먼저 텅스텐 필라멘트를 가열하면 열 전자가 발생되고 챔버내 자기장이 형성된다. 자기장에 의해 전자들이 270도 회전하여 도가니(crucible)의 세라믹 소스로 열 전자가 유도된다. 유도된 열 전자가 세라믹 소스에 충돌하여 가열됨으로써 세라믹 소스가 고온 상태로 증발하게 되어 피코팅체로 증착된다.A method of coating a ceramic coating layer (second coating layer) 300 on a coating material (for example, a metal heater) is deposited on the first coating layer 200 of the coating material by heating and evaporating high purity alumina using an electron beam. Referring to FIG. 5, when the tungsten filament is heated, thermal electrons are generated and a magnetic field is formed in the chamber. The electrons are rotated 270 degrees by the magnetic field, and the thermal electrons are induced by the crucible ceramic source. The induced thermal electrons collide with the ceramic source and are heated, so that the ceramic source evaporates to a high temperature state and is deposited as a coating material.

이때, 챔버내 환경은 다음과 같다. 진공 챔버를 세정한 후 피코팅체인 히터를 장착하고, 세라믹 소스를 도가니에 차지한다. 세라믹 소스는 Al2O3, Y2O3, ZrO2, AlN, 또는 CeO2 등으로서 Source 입자의 size는 10㎚ ~ 100㎛ 사이의 범위를 가질 수 있으나, 바람직하게는 0.5 ~ 5um가 적당하다. 진공챔버의 진공도는 10- 6torr 이하의 고진공이 바람직하고, 별도의 램프히터를 이용하여 100 ~ 300도씨로 예열하는 것이 바람직하다. 또한, 균일한 증착을 위해 히터를 최소 10rmp/min으로 공정중에 회전시키는 것이 바람직하다. 상술한 공정환경이 마련된 후 N2 가스를 퍼지한 후 전자빔을 턴온하여 진공 증착 공정이 수행되어 제2 피막층(300)이 코팅된다. 다만, 상술한 진공도, 예열 온도, 히터의 회전속도는 필요에 따라 적용환경에 맞게 조절될 수 있다.At this time, the environment in the chamber is as follows. After the vacuum chamber is cleaned, the coated chain heater is mounted, and the ceramic source is occupied in the crucible. The ceramic source may be Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , ZrO 2 , AlN, or CeO 2, and the size of the source particles may be in the range of 10 nm to 100 μm, preferably 0.5 to 5 μm . The degree of vacuum of the vacuum chamber is 10-2 torr vacuum of less than 6 are preferred, and are preferably preheated to 100 to 300 also seeds using a separate lamp heater. It is also desirable to rotate the heater during the process at a minimum of 10 rpm / min for uniform deposition. After the above-described process environment is prepared, the N 2 gas is purged, the electron beam is turned on, and the vacuum deposition process is performed to coat the second coating layer 300. However, the above-described degree of vacuum, preheating temperature, and rotational speed of the heater can be adjusted as needed according to the application environment.

< 실험예> < Experimental Example >

도 6은 제1 피막층(200)만으로 부식성 개스 분위기하에서 클리닝 전과 클리닝 후를 SEM을 이용하여 제1 피막층(200)의 표면을 촬영한 것으로서 클리닝 후에 전반적으로 크랙이 증가하고, 크랙의 길이가 길어지고, 표면의 패인 자국이 많아지고, Al 반응성 물질이 표면에 존재하는 것을 알 수 있다. 이에 비해 도 7은 제2 피막층(300)이 그래눌 형태로 증착된 후 부식성 개스 분위기하에서 클리닝 전과 클리닝 후를 SEM을 이용하여 제2 피막층(300)의 표면을 촬영한 것으로서 클리닝 전과 클리닝 후의 표면 상태 변화가 거의 없는 것을 알 수 있다.FIG. 6 is a photograph of the surface of the first coating layer 200 taken by SEM before and after cleaning under a corrosive gas atmosphere using only the first coating layer 200. As a result, the cracks are generally increased and the length of cracks is increased , It can be seen that the number of depressed marks on the surface is increased and the Al-reactive substance is present on the surface. 7 is a photograph of the surface of the second coating layer 300 taken by SEM before and after cleaning under the corrosive gas atmosphere after the second coating layer 300 is deposited in the form of a plain, It can be seen that there is little change.

또한, 도 8은 알루미늄 모재를 사용하여 표면 EDS(원소 분석) 분석 결과로서, 제1 피막층만 존재하는 경우에는 클리닝 후 플루오린이 검출된 것을 나타내는 반면에 제2 피막층이 존재하는 경우에는 클리닝 후 플루오린이 검출되지 않았다. 따라서 제2 피막층이 존재하는 경우에는 플루오린과 결합된 막이나 반응물도 없고, 또한, 포어에도 플루오린이 존재하지 않아 공정시에 플루오린이 나오는 아웃개싱의 문제도 없다. 이에 따라 제2 피막층은 플루오린이 막에 형성 또는 결합되지 않도록 하고 포어에도 잔존하지 않도록 한다.8 shows the results of surface EDS (elemental analysis) analysis using an aluminum base material. In the case where only the first coating layer exists, fluorine is detected after cleaning. On the other hand, when the second coating layer is present, Was not detected. Therefore, when the second coating layer is present, there is no fluorine-bonded film or reactant, and there is no fluorine in the pore, so there is no problem of outgassing in which fluorine is produced in the process. Accordingly, the second coating layer prevents the fluorine from being formed or bonded to the film and does not remain in the pore.

본 발명을 설명함에 있어 종래 기술 및 당업자에게 자명한 사항은 설명을 생략할 수도 있으며, 이러한 생략된 구성요소(방법) 및 기능의 설명은 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 아니하는 범위내에서 충분히 참조될 수 있을 것이다.It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description of the present invention are exemplary and explanatory and are intended to be exemplary only and are not restrictive of the invention, It will be possible.

상술한 각부의 구성 및 기능에 대한 설명은 설명의 편의를 위하여 서로 분리하여 설명하였을 뿐 필요에 따라 어느 한 구성 및 기능이 다른 구성요소로 통합되어 구현되거나, 또는 더 세분화되어 구현될 수도 있다.The configuration and functions of the above-described components have been described separately from each other for convenience of description, and any of the components and functions may be integrated with other components or may be further subdivided as needed.

이상, 본 발명의 일실시예를 참조하여 설명했지만, 본 발명이 이것에 한정되지는 않으며, 다양한 변형 및 응용이 가능하다. 즉, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 많은 변형이 가능한 것을 당업자는 용이하게 이해할 수 있을 것이다. 또한, 본 발명과 관련된 공지 기능 및 그 구성 또는 본 발명의 각 구성에 대한 결합관계에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는, 그 구체적인 설명을 생략하였음에 유의해야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiment thereof, the present invention is not limited thereto, and various modifications and applications are possible. In other words, those skilled in the art can easily understand that many variations are possible without departing from the gist of the present invention. In the following description, well-known functions or constructions relating to the present invention as well as specific combinations of the components of the present invention with respect to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. something to do.

100 : 모재
200 : 1차 피막층
210 : 포어
220 : 그래인 바운더리
230 : 반응층
240 : 포어 확장
250 : 포어 전이
260 : 크랙
300 : 제2 피막층
310 : 그래눌 형태의 세라믹 입자
400 : 전자빔 증착 장치
410 : 진공챔버
420 : 도가니
430 : 필라멘트
440 : 피코팅체
450 : 쿨링루프
460 : 펌프
470 : 커버부재100: base metal
200: primary coating layer
210: Pore
220: Yeah Boundary
230: reaction layer
240: Fore expand
250: Forward transition
260: crack
300: Second coating layer
310: a granular ceramic particle
400: Electron beam deposition apparatus
410: vacuum chamber
420: Crucible
430: filament
440: Coated body
450: Cooling loop
460: pump
470: cover member

Claims (13)

모재,
상기 모재 표면에 용사코팅 처리 또는 산화 처리를 실시함으로써 포어 또는 그래인 바운더리가 형성되는 다공성 피막층, 및
상기 포어 또는 그래인 바운더리가 형성된 영역에 상기 포어 또는 그래인 바운더리를 커버링하도록 증착되는 세라믹 커버링층을 포함하며,
상기 커버링층에 증착되는 세라믹 소스의 입자는,
상기 포어 또는 그래인 바운더리가 형성된 영역을 커버링하도록 상기 포어 또는 그래인 바운더리의 직경보다 크게 증착되고, 그리고
그래눌 형태로 증착되어 상기 포어의 입구만 막아 커버링함으로써 상기 피막층을 보호하는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.
Base material,
A porous coating layer on which a pore or graining boundary is formed by performing a spray coating treatment or an oxidation treatment on the surface of the base material, and
And a ceramic covering layer deposited to cover the pore or grainy boundary in an area where the pore or grainy boundary is formed,
The particles of the ceramic source deposited on the covering layer,
Is deposited larger than the diameter of the pore or grainy boundary to cover the area where the pore or grainy boundary is formed, and
Wherein the coating layer is deposited in a granular form to cover only the inlet of the pore to cover the coating layer.
제 1 항에 있어서,
상기 모재가 메탈 모재인 경우에는 상기 피막층은 산화 피막층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.
The method according to claim 1,
Wherein when the base material is a metal base material, the coating layer comprises an oxide coating layer.
제 2 항에 있어서,
상기 커버링층이 증착되는 상기 피막층의 표면 조도는,
Ra 0.3㎛ ~ 10㎛인 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.
3. The method of claim 2,
The surface roughness of the coating layer, on which the covering layer is deposited,
Characterized in that Ra is 0.3 탆 to 10 탆.
제 2 항에 있어서,
상기 그래눌 형태의 세라믹 입자는,
알루미나(Al2O3), 이트리아(Y2O3), ZrO2, AlN, 및 CeO2 중 어느 하나의 소스를 전자빔을 이용하여 증발시켜 상기 피막층 표면에 증착시킴으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.
3. The method of claim 2,
In the granular ceramic particles,
Is formed by vaporizing a source of any one of alumina (Al 2 O 3 ), yttria (Y 2 O 3 ), ZrO 2 , AlN, and CeO 2 using an electron beam, A surface treatment product on which a ceramic covering layer of a nip form is deposited.
제 4 항에 있어서,
진공도 10-6 이하, 피코팅체를 100 ~ 300도씨 예열, 피코팅체를 10 ~ 100rpm/min으로 회전시키는 조건하에서 상기 전자빔을 이용하여 상기 소스를 가열함으로써 상기 피막층 표면에 세라믹 커버링층이 진공 증착되는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.
5. The method of claim 4,
The source is heated using the electron beam under the condition that the degree of vacuum is 10 &lt; -6 &gt; or less, the coated body is preheated to 100 to 300 degrees and the coated body is rotated at 10 to 100 rpm / &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 1, &lt; / RTI &gt; wherein the ceramic covering layer is deposited.
제 4 항에 있어서,
상기 소스의 입자 크기는,
10㎚ ~ 100㎛ 사이의 입자 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.
5. The method of claim 4,
The particle size of the source,
Wherein the ceramic covering layer has a particle size of between 10 nm and 100 탆.
제 1 항에 있어서,
상기 포어 지름은,
1 ~ 100㎚ 사이의 지름을 갖는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.
The method according to claim 1,
The pore diameter,
Wherein the ceramic covering layer has a diameter between 1 and 100 nm.
제 1 항에 있어서,
상기 모재가 알루미늄 모재인 경우에는 상기 피막층은 양극산화 피막층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.
The method according to claim 1,
Wherein when the base material is an aluminum base material, the coating layer comprises an anodic oxide coating layer.
제 1 항에 있어서,
상기 피막층은,
상기 모재 표면에 Al2O3, Y2O3, ZrO2, AlN, CeO2, 및 CyO 중 적어도 어느 하나를 사용하여 용사코팅함으로써 세라믹 용사막으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 그래눌 형태의 세라믹 커버링층이 증착된 표면처리 제품.The method according to claim 1,
The coating layer
Wherein the ceramic coating layer is made of a ceramic thermal sprayed coating by spray coating using at least one of Al 2 O 3 , Y 2 O 3 , ZrO 2 , AlN, CeO 2 , and CyO on the surface of the base material. This deposited surface treated product. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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